KR20190042065A - Retardation film having water vapor barrier property and manufacturing method thereof - Google Patents

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KR20190042065A
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닛산 가가쿠 가부시키가이샤
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Abstract

감광성 측사슬을 갖는 액정성 폴리머를 포함하고, 막두께가 300 ㎚ 를 초과 50,000 ㎚ 이하인, 수증기 배리어성을 갖는 위상차막을 제공한다.And a liquid crystal polymer having a photosensitive side chain, wherein the film thickness is more than 300 nm but not more than 50,000 nm.

Description

수증기 배리어성을 갖는 위상차막 및 그 제조 방법Retardation film having water vapor barrier property and manufacturing method thereof

본 발명은 수증기 배리어성을 갖는 위상차막 및 그 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a retardation film having water vapor barrier property and a method of manufacturing the same.

유기 일렉트로 루미네선스 (EL) 디스플레이, 액정 디스플레이 등의 표시 장치의 분야에 있어서, 고정밀화에 더하여, 경량화, 플렉시블화 등에 대한 요구가 더욱 더 높아지고 있다. 그러한 사정 아래, 유리 기판 대신에 수지 기판이 주목을 받고 있다.In addition to high definition, there is a growing demand for weight reduction and flexibility in the fields of display devices such as organic electroluminescence (EL) displays and liquid crystal displays. Under such circumstances, a resin substrate has attracted attention in place of a glass substrate.

유기 EL 디스플레이용의 기판에는, 매우 높은 수증기 배리어성이 요구된다. 종래, 수증기 배리어성을 갖는 수지 기판으로는, 수지로 이루어지는 기재의 표면에 수증기 배리어층을 형성한 것이 사용되어 왔다. 예를 들어, 특허문헌 1 에는, 기재인 플라스틱 필름 상에 대향 타겟 스퍼터법에 의해 형성한 무기층, 진공 증착법에 의해 형성한 무기층, 화학 증착법에 의해 형성한 무기층 및 진공 증착법에 의해 형성한 무기층을 이 순서로 갖는 가스 배리어성 필름이 기재되어 있다. 그러나, 이 기술은, 제조 공정이 번잡하고, 생산성의 관점에서 문제가 있었다.A substrate for an organic EL display requires a very high water vapor barrier property. Conventionally, a resin substrate having water vapor barrier property has been used in which a water vapor barrier layer is formed on the surface of a substrate made of a resin. For example, Patent Document 1 discloses a method of forming a multilayer structure by forming an inorganic layer formed by a counter target sputtering method, an inorganic layer formed by a vacuum evaporation method, an inorganic layer formed by a chemical vapor deposition method, A gas barrier film having an inorganic layer in this order is disclosed. However, this technique is complicated in the manufacturing process and has a problem in terms of productivity.

유기 EL 디스플레이에는, 외광 반사를 억제하고, 시인성을 향상시키기 위해서 위상차판이 사용된다. 위상차판에 높은 수증기 배리어성을 부여할 수 있으면, 유기 EL 디스플레이의 기판으로서의 기능과 위상차막으로서의 기능을 동시에 갖는 것이 가능해진다. 그러나, 무기 재료를 사용한 가스 배리어성 필름은, 유연성이 부족하고 무르기 때문에, 플렉시블화 등에 대한 요구를 충족할 수 없다는 문제가 있었다.In the organic EL display, a retarder is used in order to suppress reflection of external light and improve visibility. If a high vapor barrier property can be imparted to the retarder, it is possible to simultaneously have both a function as a substrate and a function as a retardation film of the organic EL display. However, the gas barrier film using an inorganic material has a problem in that it can not satisfy a demand for flexibility and the like because the flexibility is insufficient.

국제 공개 제2013/168739호International Publication No. 2013/168739

본 발명은, 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 종래보다 저비용으로 간단한 방법으로 제조할 수 있고, 유기 재료로 제조 가능한, 수증기 배리어성을 갖는 위상차막, 및 그 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is an object of the present invention to provide a retardation film having a water vapor barrier property which can be manufactured by a simple method at a lower cost than in the prior art and can be produced from an organic material, and a method for producing the same.

본 발명자들은, 상기 목적을 달성하기 위해서 예의 검토를 거듭한 결과, 소정의 감광성 측사슬을 갖는 액정성을 발현하여 얻을 수 있는 폴리머를 포함하는 위상차막이, 수증기 배리어성도 갖고, 보다 간단한 방법으로 제조할 수 있는 것을 알아내어, 본 발명을 완성시켰다.The inventors of the present invention have made intensive investigations in order to achieve the above object. As a result, the inventors have found that a retardation film comprising a polymer capable of exhibiting liquid crystallinity having a predetermined photosensitive side chain has a water vapor barrier property and can be produced by a simpler method The present inventors have completed the present invention.

따라서, 본 발명은, 하기 수증기 배리어성을 갖는 위상차막 및 그 제조 방법을 제공한다.Accordingly, the present invention provides a retardation film having the following water vapor barrier property and a method for producing the same.

1. 감광성 측사슬을 갖는 액정성 폴리머를 포함하고, 막두께가 300 ㎚ 를 초과 50,000 ㎚ 이하인, 수증기 배리어성을 갖는 위상차막.1. A retardation film having a water vapor barrier property, which comprises a liquid crystalline polymer having photosensitive side chains and has a film thickness of more than 300 nm but not more than 50,000 nm.

2. 상기 감광성 측사슬이, 광 가교, 광 이성화 또는 광 프리스 전이를 일으키는 것인 1 의 위상차막.2. A retardation film of 1 wherein said photosensitive side chain causes photo-crosslinking, photoisomerization or light-free transition.

3. 상기 감광성 측사슬이, 하기 식 (1) ∼ (6) 으로 나타내는 기에서 선택되는 적어도 1 종인 2 의 위상차막.3. The retardation film of 2, wherein the photosensitive side chain is at least one selected from the groups represented by the following formulas (1) to (6).

[화학식 1] [Chemical Formula 1]

Figure pct00001
Figure pct00001

(식 중, A1, A2 및 A3 은, 각각 독립적으로, 단결합, -O-, -CH2-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -C(=O)-NH-, -NH-C(=O)-, -CH=CH-C(=O)-O- 또는 -O-C(=O)-CH=CH- 를 나타내고;(Wherein, A 1, A 2 and A 3 are, each independently, a single bond, -O-, -CH 2 -, -C (= O) -O-, -OC (= O) -, -C (= O) -NH-, -NH-C (= O) -, -CH = CH-C (= O) -O- or -OC (= O) -CH = CH-;

T1 은, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬렌기를 나타내고;T 1 represents an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom;

T2 는, 단결합, 또는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬렌기를 나타내고;T 2 represents a single bond or an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom;

Y1 은, 페닐기, 나프틸기, 비페닐릴기, 푸라닐기 및 피롤릴기에서 선택되는 1 가의 방향족기, 탄소수 5 ∼ 8 의 1 가의 고리형 지방족 탄화수소기, 또는 이들의 치환기에서 선택되는 2 ∼ 6 의 기가 연결기 A2 를 개재하여 결합하여 이루어지는 기를 나타내고, 이들에 결합하는 수소 원자의 일부가 -COOR0 (R0 은, 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기를 나타낸다.), -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기로 치환되어도 되고;Y 1 represents a monovalent aromatic group selected from a phenyl group, a naphthyl group, a biphenyl group, a furanyl group and a pyrrolyl group, a monovalent cyclic aliphatic hydrocarbon group having 5 to 8 carbon atoms, group represents a group formed by binding via a linking group a 2, a part of hydrogen atoms bonded to the -COOR 0 these (R 0 represents a hydrogen atom or an alkyl group having a carbon number of 1 ~ 5.), -NO 2 , -CN , -CH = C (CN) 2 , -CH = CH-CN, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms;

Y2 는, 페닐렌기, 나프탈렌디일기, 비페닐릴렌기, 푸란디일기 및 피롤디일기에서 선택되는 2 가의 방향족기, 탄소수 5 ∼ 8 의 2 가의 고리형 지방족 탄화수소기, 또는 이들의 치환기에서 선택되는 2 ∼ 6 의 기가 연결기 A2 를 개재하여 결합하여 이루어지는 기를 나타내고, 이들에 결합하는 수소 원자의 일부가 -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기로 치환되어도 되고;Y 2 is selected from a divalent aromatic group selected from a phenylene group, a naphthalenediyl group, a biphenylene group, a furandiyl group and a pyrrodiyl group, a divalent cyclic aliphatic hydrocarbon group having 5 to 8 carbon atoms, represents a group of 2 to 6 groups formed by binding through a linking group is a 2, a part of hydrogen atoms bonded to these -NO 2, -CN, -CH = C (CN) 2, -CH = CH-CN, A halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms;

R 은, 하이드록시기 혹은 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기, 또는 Y1 과 동일한 정의를 나타내고;R represents a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or the same definition as Y 1 ;

X 는, 단결합, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -N=N-, -CH=CH-, -C≡C-, -CH=CH-C(=O)-O- 또는 -O-C(=O)-CH=CH- 를 나타내고, X 의 수가 2 이상일 때는, 각 X 는 동일해도 되고 상이해도 되고;X is a single bond, -C (= O) -O-, -OC (= O) -, -N = N-, -CH = CH-, -C = C-, O) -O- or -OC (= O) -CH = CH-; when X is 2 or more, each X may be the same or different;

Cou 는, 쿠마린-6-일기 또는 쿠마린-7-일기를 나타내고, 이들에 결합하는 수소 원자의 일부가 -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기로 치환되어도 되고;C ou represents a coumarin-6-yl group or a coumarin-7-yl group, and some of the hydrogen atoms bonding to these groups are -NO 2 , -CN, -CH═C (CN) 2 , A halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms;

Q1 및 Q2 는, 각각 독립적으로, 페닐렌기, 나프탈렌디일기, 비페닐릴렌기, 푸란디일기 및 피롤디일기에서 선택되는 2 가의 방향족기, 탄소수 5 ∼ 8 의 2 가의 고리형 지방족 탄화수소기, 또는 이들의 치환기에서 선택되는 2 ∼ 6 의 기가 연결기 A2 를 개재하여 결합하여 이루어지는 기를 나타내지만, X 가, -CH=CH-CO-O- 또는 -O-CO-CH=CH- 인 경우, -CH=CH- 가 결합하는 측의 Q1 또는 Q2 는 2 가의 방향족기이고, Q1 의 수가 2 이상일 때는, 각 Q1 은 동일해도 되고 상이해도 되고, Q2 의 수가 2 이상일 때는, 각 Q2 는 동일해도 되고 상이해도 되고;Q 1 and Q 2 each independently represent a divalent aromatic group selected from a phenylene group, a naphthalenediyl group, a biphenylylene group, a furandiyl group and a pyrrodiyl group, a divalent cyclic aliphatic hydrocarbon group having 5 to 8 carbon atoms , Or a group formed by bonding 2 to 6 groups selected from these substituents via a linking group A 2 , but when X is -CH = CH-CO-O- or -O-CO-CH = CH- , Q 1 or Q 2 on the side bonded to -CH = CH- is a divalent aromatic group, and when Q 1 is 2 or more, each Q 1 may be the same or different, and when the number of Q 2 is 2 or more, Each Q < 2 > may be the same or different;

E 는, -C(=O)-O- 또는 -O-C(=O)- 를 나타내고;E represents -C (= O) -O- or -O-C (= O) -;

W1 및 W2 는, 각각 독립적으로, 페닐렌기, 나프탈렌디일기, 비페닐릴렌기, 푸란디일기, 피롤디일기, 또는 이들의 치환기에서 선택되는 2 ∼ 6 의 기가 연결기 A2 를 개재하여 결합하여 이루어지는 기를 나타내고;W 1 and W 2 each independently represent a group selected from the group consisting of a phenylene group, a naphthalenediyl group, a biphenylene group, a furandiyl group, a pyrrodiyl group, or a group having 2 to 6 substituents selected therefrom via a linking group A 2 ≪ / RTI >

a1 은, 0 또는 1 을 나타내고;a1 represents 0 or 1;

a2 는, 0 ∼ 2 의 정수를 나타내고;a2 represents an integer of 0 to 2;

a1 과 a2 가 함께 0 이고, T2 가 단결합일 때는, A1 은 단결합을 나타내고;When a1 and a2 are both 0 and T 2 is a single bond, A 1 represents a single bond;

a1 이 1 이고, T2 가 단결합일 때는, A2 는 단결합을 나타내고;and a1 is 1, T 2, when the unity sum, A 2 denotes a single bond;

b 는, 0 또는 1 을 나타내고;b represents 0 or 1;

파선은, 주사슬과의 결합손을 나타낸다.) The dashed line represents the bonding hand with the main chain.)

4. 상기 감광성 측사슬이, 하기 식 (7) ∼ (10) 으로 나타내는 기에서 선택되는 3 의 위상차막.4. The retardation film of 3 wherein the photosensitive side chain is selected from the groups represented by the following formulas (7) to (10).

[화학식 2] (2)

Figure pct00002
Figure pct00002

(식 중, A1, A2, A3, Y1, Y2, R, X 및 파선은, 상기와 동일하지만, n 이 0 일 때, A2 는 단결합이고;(Wherein A 1 , A 2 , A 3 , Y 1 , Y 2 , R, X and the broken line are the same as above, but when n is 0, A 2 is a single bond;

R1 은, -NO2, -CN, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기를 나타내고;R 1 represents -NO 2 , -CN, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms;

c 는, 1 ∼ 12 의 정수를 나타내고;c represents an integer of 1 to 12;

m 은, 0 ∼ 2 의 정수를 나타내고;m represents an integer of 0 to 2;

m1 및 m2 는, 각각 독립적으로, 1 ∼ 3 의 정수를 나타내고;m1 and m2 each independently represent an integer of 1 to 3;

d 는, 0 ∼ 4 의 정수를 나타내고;d represents an integer of 0 to 4;

n 은, 0 ∼ 12 의 정수를 나타낸다.) and n represents an integer of 0 to 12.)

5. 상기 감광성 측사슬이, 하기 식 (11) ∼ (13) 으로 나타내는 기에서 선택되는 3 의 위상차막.5. The retardation film of 3 wherein the photosensitive side chain is selected from the groups represented by the following formulas (11) to (13).

[화학식 3] (3)

Figure pct00003
Figure pct00003

(식 중, A1, R, R1, X, c, d, m1 및 파선은, 상기와 동일하고;e 는, 0 ∼ 6 의 정수를 나타낸다.) (Wherein A 1 , R, R 1 , X, c, d, m 1 and the broken line are the same as above and e represents an integer of 0 to 6)

6. 상기 감광성 측사슬이, 하기 식 (14) 또는 (15) 로 나타내는 기인 3 의 위상차막.6. A retardation film of 3 wherein the photosensitive side chain is a group represented by the following formula (14) or (15).

[화학식 4] [Chemical Formula 4]

Figure pct00004
Figure pct00004

(식 중, A1, R1, Y1, c, d, m1, m2 및 파선은, 상기와 동일하다.) (Wherein A 1 , R 1 , Y 1 , c, d, m 1 , and m 2 and the broken line are the same as above)

7. 상기 감광성 측사슬이, 하기 식 (16) 또는 (17) 로 나타내는 기인 3 의 위상차막.7. A retardation film of 3 wherein the photosensitive side chain is a group represented by the following formula (16) or (17).

[화학식 5] [Chemical Formula 5]

Figure pct00005
Figure pct00005

(식 중, A1, R1, X, c, d, m 및 파선은, 상기와 동일하고;f 는, 0 ∼ 5 의 정수를 나타낸다.) (Wherein A 1 , R 1 , X, c, d, m and the broken line are the same as above and f represents an integer of 0 to 5)

8. 상기 감광성 측사슬이, 하기 식 (18) 또는 (19) 로 나타내는 기인 3 의 위상차막.8. A retardation film of 3 wherein the photosensitive side chain is a group represented by the following formula (18) or (19).

[화학식 6] [Chemical Formula 6]

Figure pct00006
Figure pct00006

(식 중, A1, A2, E, R1, Y1, c, d, m1, m2 및 파선은, 상기와 동일하고;g 는, 0 ∼ 5 의 정수를 나타낸다.) (Wherein A 1 , A 2 , E, R 1 , Y 1 , c, d, m 1 and m 2 are the same as above and g is an integer of 0 to 5)

9. 상기 감광성 측사슬이, 하기 식 (20) 으로 나타내는 기인 3 의 위상차막.9. A retardation film of 3 wherein the photosensitive side chain is a group represented by the following formula (20).

[화학식 7] (7)

Figure pct00007
Figure pct00007

(식 중, A1, R1, X, Y1, c, d, m 및 파선은, 상기와 동일.) (Wherein A 1 , R 1 , X, Y 1 , c, d and m and the broken line are the same as above)

10. 상기 액정성 폴리머가, 추가로, 하기 식 (21) ∼ (35) 로 나타내는 기에서 선택되는 적어도 1 종의 액정성 측사슬을 포함하는 1 ∼ 9 중 어느 하나의 위상차막.10. The retardation film of any one of 1 to 9, wherein the liquid crystalline polymer further comprises at least one liquid crystalline side chain selected from the groups represented by the following formulas (21) to (35).

[화학식 8] [Chemical Formula 8]

Figure pct00008
Figure pct00008

[화학식 9] [Chemical Formula 9]

Figure pct00009
Figure pct00009

(식 중, A1, A2, E, R1, c, d, e, m1, m2 및 파선은, 상기와 동일하고;(Wherein A 1 , A 2 , E, R 1 , c, d, e, m 1 , m 2 and the broken line are the same as above;

R2 는, 수소 원자, -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐 원자, 페닐기, 나프틸기, 비페닐릴기, 푸라닐기, 1 가의 질소 함유 복소 고리 함유기, 탄소수 5 ∼ 8 의 고리형 지방족 탄화수소기, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 12 의 알콕시기를 나타내고;R 2 represents a hydrogen atom, -NO 2 , -CN, -CH═C (CN) 2 , -CH═CH-CN, a halogen atom, a phenyl group, a naphthyl group, a biphenyl group, a furanyl group, A ring-containing group, a cyclic aliphatic hydrocarbon group having 5 to 8 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms;

Y3 은, 페닐기, 나프틸기, 비페닐릴기, 푸라닐기, 1 가의 질소 함유 복소 고리 함유기, 탄소수 5 ∼ 8 의 고리형 지방족 탄화수소기, 또는 이들의 치환기에서 선택되는 2 ∼ 6 의 기가 연결기 A2 를 개재하여 결합하여 이루어지는 기를 나타내고, 이들에 결합하는 수소 원자의 일부가 -NO2, -CN, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기로 치환되어도 되고;Y 3 represents a group selected from the group consisting of a phenyl group, a naphthyl group, a biphenyl group, a furanyl group, a monovalent nitrogen-containing heterocyclic group, a cyclic aliphatic hydrocarbon group having 5 to 8 carbon atoms, 2 , and a part of the hydrogen atoms bonded to these may be replaced by -NO 2 , -CN, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms;

Z1 및 Z2 는, 각각 독립적으로, 단결합, -C(=O)-, -CH2O-, -CH=N- 또는 -CF2- 를 나타내고;Z 1 and Z 2 each independently represent a single bond, -C (= O) -, -CH 2 O-, -CH = N- or -CF 2 -;

h 는, 0 ∼ 5 의 정수를 나타내고;h represents an integer of 0 to 5;

k 는, 각각 독립적으로, 0 ∼ 2 의 정수를 나타내지만, 식 (25) 및 (26) 에 있어서, 모든 k 의 합계는 2 이상이고,k represents an integer of 0 to 2 independently of each other, but in the formulas (25) and (26), the sum of all k is 2 or more,

m3 은, 1 ∼ 3 의 정수를 나타낸다.) and m3 represents an integer of 1 to 3.)

11. 상기 액정성 폴리머가, 하기 식 (A) 로 나타내는 반복 단위 및 하기 식 (B) 로 나타내는 반복 단위를 포함하는 것인 10 의 위상차막.11. The retardation film of 10, wherein the liquid crystalline polymer comprises a repeating unit represented by the following formula (A) and a repeating unit represented by the following formula (B).

[화학식 10]  [Chemical formula 10]

Figure pct00010
Figure pct00010

(식 중, RA 는, 식 (1) ∼ (6) 으로 나타내는 기에서 선택되는 적어도 1 종이고, RB 는, 식 (21) ∼ (31) 로 나타내는 기에서 선택되는 적어도 1 종이고, MA 및 MB 는, 각각 독립적으로, 중합성기에서 유래하는 기를 나타낸다.) (Wherein R A is at least one species selected from the groups represented by the formulas (1) to (6) and R B is at least one species selected from the groups represented by the formulas (21) to (31) M A and M B each independently represent a group derived from a polymerizable group.)

12. 상기 중합성기에서 유래하는 기가, 하기 식으로 나타내는 기에서 선택되는 적어도 1 종인 11 의 위상차막.12. An eleventh retardation film wherein the group derived from the polymerizable group is at least one selected from groups represented by the following formulas.

[화학식 11] (11)

Figure pct00011
Figure pct00011

(식 중, RC 는, 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 3 의 알킬기, 카르복실기 또는 카르복실메틸기를 나타내고, RD 는, 단결합, -C(=O)-O-, -C(=O)-NH- 또는 페닐렌기를 나타내고, RE 는, 하이드록시기, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기 혹은 알콕시기, 또는 페닐기를 나타내고, 파선은, RA 또는 RB 와의 결합손을 나타낸다.) (Wherein, R C is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a carboxyl group or represents a carboxylic group, R D is a single bond, -C (= O) -O-, -C (= O) - NH- or phenylene group, R E represents a hydroxyl group, an alkyl group or an alkoxy group of 1 to 10 carbon atoms, or a phenyl group, and the broken line represents a bond with R A or R B )

13. 상기 액정성 폴리머가 액정성을 발현하는 온도 범위가, 50 ∼ 300 ℃ 인 1 ∼ 12 중 어느 하나의 위상차막.13. The retardation film of any one of 1 to 12, wherein the temperature range in which the liquid crystalline polymer exhibits liquid crystallinity is 50 to 300 占 폚.

14. 1 ∼ 13 중 어느 하나의 위상차막을 구비하는 유기 EL 디스플레이.14. An organic EL display comprising a retardation film of any one of 1 to 13.

15. 감광성 측사슬을 갖는 액정성 폴리머를 포함하는 수지 성분과 유기 용매를 포함하는 위상차막 형성용 조성물을 기재에 도포하여, 막두께가 300 ㎚ 를 초과 50,000 ㎚ 이하인 도막을 형성하는 공정, 15. A process for forming a coating film having a film thickness of more than 300 nm but not more than 50,000 nm by applying a composition for forming a retardation film including a resin component containing a liquid crystalline polymer having photosensitive side chains and an organic solvent to a substrate,

상기 도막에 편광 자외선을 조사하는 공정, 및 A step of irradiating the coating film with polarized ultraviolet light, and

상기 편광 자외선을 조사한 막을 가열하고, 막두께가 300 ㎚ 를 초과 50,000 ㎚ 이하인 막을 얻는 공정A step of heating the film irradiated with the polarized ultraviolet rays to obtain a film having a film thickness of more than 300 nm but not more than 50,000 nm

을 포함하는 수증기 배리어성을 갖는 위상차막의 제조 방법.Wherein the film has a water vapor barrier property.

16. 상기 감광성 측사슬이, 광 가교, 광 이성화 또는 광 프리스 전이를 일으키는 것인 15 의 위상차막의 제조 방법.16. The method for producing a retardation film of 15, wherein the photosensitive side chain causes photo-crosslinking, photoisomerization, or light-free transition.

17. 상기 감광성 측사슬이, 상기 식 (1) ∼ (6) 으로 나타내는 기에서 선택되는 적어도 1 종인 16 의 위상차막의 제조 방법.17. The method for producing a retardation film of 16, wherein the photosensitive side chain is at least one selected from the groups represented by the formulas (1) to (6).

18. 상기 액정성 폴리머가, 추가로, 상기 식 (21) ∼ (35) 로 나타내는 기에서 선택되는 적어도 1 종의 액정성 측사슬을 포함하는 14 ∼ 17 중 어느 하나의 위상차막의 제조 방법.18. The method for producing a retardation film according to any one of 14 to 17, wherein the liquid crystalline polymer further comprises at least one liquid crystalline side chain selected from the groups represented by the formulas (21) to (35).

19. 상기 액정성 폴리머가 액정성을 발현하는 온도 범위가, 50 ∼ 300 ℃ 인 14 ∼ 18 중 어느 하나의 위상차막의 제조 방법.19. A method for producing a retardation film of any one of 14 to 18, wherein the liquid crystalline polymer exhibits liquid crystallinity in a temperature range of 50 to 300 占 폚.

본 발명의 위상차막은, 높은 수증기 배리어성과 위상차막으로서의 기능을 겸비하고, 유기 EL 디스플레이 등의 표시 장치에 적합하게 사용할 수 있다. 또, 본 발명의 위상차막은, 종래보다 저비용으로 간단한 방법으로 제조할 수 있고, 생산성도 양호하다.The retardation film of the present invention has high water vapor barrier properties and functions as a retardation film and can be suitably used for a display device such as an organic EL display. Further, the retardation film of the present invention can be manufactured by a simple method at a lower cost than the conventional method, and the productivity is also good.

[수증기 배리어성을 갖는 위상차막][Retardation film having water vapor barrier property]

본 발명의 수증기 배리어성을 갖는 위상차막은, 감광성 측사슬을 갖는 액정성 폴리머를 포함하고, 막두께가 300 ㎚ 를 초과 50,000 ㎚ 이하이다.The retardation film having water vapor barrier property of the present invention includes a liquid crystalline polymer having photosensitive side chains and has a film thickness of more than 300 nm and 50,000 nm or less.

상기 감광성 측사슬의 구조는, 특별히 한정되지 않지만, 광에 감응하여 가교 반응, 이성화 반응 또는 광 프리스 전위를 일으키는 구조가 바람직하고, 가교 반응 또는 광 프리스 전위를 일으키는 구조가 보다 바람직하고, 가교 반응을 일으키는 것이 보다 한층 바람직하다.The structure of the photosensitive side chain is not particularly limited, but a structure which causes a crosslinking reaction, an isomerization reaction or a light-free potential in response to light is preferable, a structure which causes a crosslinking reaction or a light-free potential is more preferable, It is even more desirable to produce it.

상기 감광성 측사슬로는, 하기 식 (1) ∼ (6) 으로 나타내는 기에서 선택되는 적어도 1 종인 것이 바람직하다.The photosensitive side chain is preferably at least one selected from the groups represented by the following formulas (1) to (6).

[화학식 12] [Chemical Formula 12]

Figure pct00012
Figure pct00012

식 중, A1, A2 및 A3 은, 각각 독립적으로, 단결합, -O-, -CH2-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -C(=O)-NH-, -NH-C(=O)-, -CH=CH-C(=O)-O- 또는 -O-C(=O)-CH=CH- 를 나타낸다.Wherein A 1 , A 2 and A 3 are each independently a single bond, -O-, -CH 2 -, -C (═O) -O-, -OC (═O) -, -C = O) -NH-, -NH-C (= O) -, -CH = CH-C (= O) -O- or -OC (= O) -CH = CH-.

T1 은, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬렌기를 나타낸다. T2 는, 단결합, 또는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬렌기를 나타낸다.T 1 represents an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom. T 2 represents a single bond or an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom.

Y1 은, 페닐기, 나프틸기, 비페닐릴기, 푸라닐기 및 피롤릴기에서 선택되는 1 가의 방향족기, 탄소수 5 ∼ 8 의 1 가의 고리형 지방족 탄화수소기, 또는 이들의 치환기에서 선택되는 2 ∼ 6 의 기가 연결기 A2 를 개재하여 결합하여 이루어지는 기를 나타내고, 이들에 결합하는 수소 원자의 일부가 -COOR0 (R0 은, 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기를 나타낸다.), -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기로 치환되어도 된다.Y 1 represents a monovalent aromatic group selected from a phenyl group, a naphthyl group, a biphenyl group, a furanyl group and a pyrrolyl group, a monovalent cyclic aliphatic hydrocarbon group having 5 to 8 carbon atoms, group represents a group formed by binding via a linking group a 2, a part of hydrogen atoms bonded to the -COOR 0 these (R 0 represents a hydrogen atom or an alkyl group having a carbon number of 1 ~ 5.), -NO 2 , -CN , -CH = C (CN) 2 , -CH = CH-CN, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms.

Y2 는, 페닐렌기, 나프탈렌디일기, 비페닐릴렌기, 푸란디일기 및 피롤디일기에서 선택되는 2 가의 방향족기, 탄소수 5 ∼ 8 의 2 가의 고리형 지방족 탄화수소기, 또는 이들의 치환기에서 선택되는 2 ∼ 6 의 기가 연결기 A2 를 개재하여 결합하여 이루어지는 기를 나타내고, 이들에 결합하는 수소 원자의 일부가 -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기로 치환되어도 된다.Y 2 is selected from a divalent aromatic group selected from a phenylene group, a naphthalenediyl group, a biphenylene group, a furandiyl group and a pyrrodiyl group, a divalent cyclic aliphatic hydrocarbon group having 5 to 8 carbon atoms, represents a group of 2 to 6 groups formed by binding through a linking group is a 2, a part of hydrogen atoms bonded to these -NO 2, -CN, -CH = C (CN) 2, -CH = CH-CN, A halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms.

R 은, 하이드록시기 혹은 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기, 또는 Y1 과 동일한 정의를 나타낸다.R represents a hydroxy group, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or the same definition as Y 1 .

X 는, 단결합, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -N=N-, -CH=CH-, -C≡C-, -CH=CH-C(=O)-O- 또는 -O-C(=O)-CH=CH- 를 나타내고, X 의 수가 2 이상일 때는, 각 X 는 동일해도 되고 상이해도 된다.X is a single bond, -C (= O) -O-, -OC (= O) -, -N = N-, -CH = CH-, -C = C-, O) -O- or -OC (= O) -CH = CH-, and when the number of X's is 2 or more, each X may be the same or different.

Cou 는, 쿠마린-6-일기 또는 쿠마린-7-일기를 나타내고, 이들에 결합하는 수소 원자의 일부가 -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기로 치환되어도 된다.C ou represents a coumarin-6-yl group or a coumarin-7-yl group, and some of the hydrogen atoms bonding to these groups are -NO 2 , -CN, -CH═C (CN) 2 , A halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms.

Q1 및 Q2 는, 각각 독립적으로, 페닐렌기, 나프탈렌디일기, 비페닐릴렌기, 푸란디일기 및 피롤디일기에서 선택되는 2 가의 방향족기, 탄소수 5 ∼ 8 의 2 가의 고리형 지방족 탄화수소기, 또는 이들의 치환기에서 선택되는 2 ∼ 6 의 기가 연결기 A2 를 개재하여 결합하여 이루어지는 기를 나타내지만, X 가, -CH=CH-CO-O- 또는 -O-CO-CH=CH- 인 경우, -CH=CH- 가 결합하는 측의 Q1 또는 Q2 는 2 가의 방향족기이고, Q1 의 수가 2 이상일 때는, 각 Q1 은 동일해도 되고 상이해도 되고, Q2 의 수가 2 이상일 때는, 각 Q2 는 동일해도 되고 상이해도 된다.Q 1 and Q 2 each independently represent a divalent aromatic group selected from a phenylene group, a naphthalenediyl group, a biphenylylene group, a furandiyl group and a pyrrodiyl group, a divalent cyclic aliphatic hydrocarbon group having 5 to 8 carbon atoms , Or a group formed by bonding 2 to 6 groups selected from these substituents via a linking group A 2 , but when X is -CH = CH-CO-O- or -O-CO-CH = CH- , Q 1 or Q 2 on the side bonded to -CH = CH- is a divalent aromatic group, and when Q 1 is 2 or more, each Q 1 may be the same or different, and when the number of Q 2 is 2 or more, Each Q < 2 > may be the same or different.

E 는, -C(=O)-O- 또는 -O-C(=O)- 를 나타낸다. W1 및 W2 는, 각각 독립적으로, 페닐렌기, 나프탈렌디일기, 비페닐릴렌기, 푸란디일기, 피롤디일기, 또는 이들의 치환기에서 선택되는 2 ∼ 6 의 기가 연결기 A2 를 개재하여 결합하여 이루어지는 기를 나타낸다.E represents -C (= O) -O- or -OC (= O) -. W 1 and W 2 each independently represent a group selected from the group consisting of a phenylene group, a naphthalenediyl group, a biphenylene group, a furandiyl group, a pyrrodiyl group, or a group having 2 to 6 substituents selected therefrom via a linking group A 2 ≪ / RTI >

a1 은, 0 또는 1 을 나타낸다. a2 는, 0 ∼ 2 의 정수를 나타낸다. a1 과 a2 가 함께 0 이고, T2 가 단결합일 때는, A1 은 단결합을 나타낸다. a1 이 1 이고, T2 가 단결합일 때는, A2 는 단결합을 나타낸다. b 는, 0 또는 1 을 나타낸다. 파선은, 주사슬과의 결합손을 나타낸다.) a1 represents 0 or 1; a2 represents an integer of 0 to 2; When a1 and a2 are both 0 and T 2 is a single bond, A 1 represents a single bond. and a1 is 1, and when T 2 is unity sum, A 2 represents a single bond. b represents 0 or 1; The dashed line represents the bonding hand with the main chain.)

상기 감광성 측사슬로는, 하기 식 (7) ∼ (10) 으로 나타내는 것이 바람직하다.The photosensitive side chain is preferably represented by the following formulas (7) to (10).

[화학식 13] [Chemical Formula 13]

Figure pct00013
Figure pct00013

식 중, A1, A2, A3, Y1, Y2, R, X 및 파선은, 상기와 동일하지만, n 이 0 일 때, A2 는 단결합이다. R1 은, -NO2, -CN, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기를 나타낸다. c 는, 1 ∼ 12 의 정수를 나타낸다. m 은, 0 ∼ 2 의 정수를 나타낸다. m1 및 m2 는, 각각 독립적으로, 1 ∼ 3 의 정수를 나타낸다. d 는, 0 ∼ 4 의 정수를 나타낸다. n 은, 0 ∼ 12 의 정수를 나타낸다.In the formula, A 1 , A 2 , A 3 , Y 1 , Y 2 , R, X and the broken line are the same as above, but when n is 0, A 2 is a single bond. R 1 represents -NO 2 , -CN, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms. and c represents an integer of 1 to 12. m represents an integer of 0 to 2; m1 and m2 each independently represent an integer of 1 to 3; d represents an integer of 0 to 4; n represents an integer of 0 to 12;

상기 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기 등을 들 수 있다. 상기 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기로는, 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, 이소프로폭시기, n-부톡시기, 이소부톡시기, sec-부톡시기, tert-부톡시기, n-펜틸 옥시기 등을 들 수 있다.Examples of the alkyl group having 1 to 5 carbon atoms include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, have. Examples of the alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms include methoxy, ethoxy, n-propoxy, isopropoxy, n-butoxy, isobutoxy, sec- Time and so on.

상기 감광성 측사슬로는, 하기 식 (11) ∼ (13) 으로 나타내는 것도 바람직하다.The photosensitive side chain is also preferably represented by the following formulas (11) to (13).

[화학식 14] [Chemical Formula 14]

Figure pct00014
Figure pct00014

(식 중, A1, X, R, R1, c, d, m, m1 및 파선은, 상기와 동일. e 는, 0 ∼ 6 의 정수를 나타낸다.) (Wherein A 1 , X, R, R 1 , c, d, m, m 1 and the broken line represent the same as above and e represents an integer of 0 to 6)

상기 감광성 측사슬로는, 하기 식 (14) 또는 (15) 로 나타내는 것도 바람직하다.The photosensitive side chain is also preferably represented by the following formula (14) or (15).

[화학식 15] [Chemical Formula 15]

Figure pct00015
Figure pct00015

(식 중, A1, R1, Y1, c, d, m1, m2 및 파선은, 상기와 동일.) (Wherein A 1 , R 1 , Y 1 , c, d, m 1 , and m2 and the broken line are the same as above)

상기 감광성 측사슬로는, 하기 식 (16) 또는 (17) 로 나타내는 것도 바람직하다.The photosensitive side chain is also preferably represented by the following formula (16) or (17).

[화학식 16] [Chemical Formula 16]

Figure pct00016
Figure pct00016

(식 중, A1, R1, X, c, d, m 및 파선은, 상기와 동일. f 는, 0 ∼ 5 의 정수를 나타낸다.) (Wherein A 1 , R 1 , X, c, d, m and d are the same as above and f is an integer of 0 to 5)

상기 감광성 측사슬로는, 하기 식 (18) 또는 (19) 로 나타내는 것도 바람직하다.The photosensitive side chain is also preferably represented by the following formula (18) or (19).

[화학식 17] [Chemical Formula 17]

Figure pct00017
Figure pct00017

(식 중, A1, A2, E, R1, Y1, c, d, m1, m2 및 파선은, 상기와 동일. g 는, 0 ∼ 5 의 정수를 나타낸다.) (Wherein A 1 , A 2 , E, R 1 , Y 1 , c, d, m 1 and m 2 and the broken line represent the same as above and g represents an integer of 0 to 5)

상기 감광성 측사슬로는, 하기 식 (20) 으로 나타내는 것도 바람직하다.The photosensitive side chain is also preferably represented by the following formula (20).

[화학식 18] [Chemical Formula 18]

Figure pct00018
Figure pct00018

(식 중, A1, R1, X, Y1, c, d, m 및 파선은, 상기와 동일.) (Wherein A 1 , R 1 , X, Y 1 , c, d and m and the broken line are the same as above)

상기 감광성 측사슬은, 파장 250 ∼ 400 ㎚ 범위의 광에 반응하는 것인 것이 바람직하다.It is preferable that the photosensitive side chain reacts with light in a wavelength range of 250 to 400 nm.

상기 감광성 측사슬로는, 특히, 식 (7), (8), (9), (14), (15) 로 나타내는 것이 바람직하다.The photosensitive side chain is preferably represented by formulas (7), (8), (9), (14) and (15).

상기 액정성 폴리머는, 주사슬에 감광성을 갖는 측사슬이 결합하고 있고, 광에 감응하여 가교 반응, 이성화 반응, 또는 광 프리스 전위를 일으킬 수 있다. 감광성을 갖는 측사슬의 구조는, 특별히 한정되지 않지만, 광에 감응하여 가교 반응 또는 광 프리스 전위를 일으키는 구조가 바람직하고, 가교 반응을 일으키는 것이 보다 바람직하다. 액정성을 발현할 수 있는 감광성 측사슬을 갖는 폴리머 막의 구조는, 그러한 특성을 만족하는 것이면 특별히 한정되지 않지만, 측사슬 구조에 강직한 메소겐 성분을 갖는 것이 바람직하다.The liquid crystalline polymer is bonded to a side chain having photosensitivity to the main chain, and can react with light to cause a crosslinking reaction, an isomerization reaction, or a light-free potential. The structure of the side chain having photosensitivity is not particularly limited, but a structure which causes a crosslinking reaction or a light-free potential in response to light is preferable, and it is more preferable to cause a crosslinking reaction. The structure of the polymer film having photosensitive side chains capable of exhibiting liquid crystallinity is not particularly limited as long as it satisfies such properties, but it is preferable that the polymer film has a mesogen component which is rigid in the side chain structure.

상기 액정성 폴리머는, 50 ∼ 300 ℃ 의 온도 범위에서 액정성을 나타내는 것이 바람직하다. 상기 액정성의 발현 온도는, 60 ∼ 280 ℃ 가 보다 바람직하고, 70 ∼ 250 ℃ 가 보다 한층 바람직하고, 80 ∼ 200 ℃ 가 더욱 바람직하다. 액정성의 발현 온도가 상기 범위이면, 열이나 광 등의 외부 스트레스에 노출되었다고 해도, 얻어진 수증기 배리어성 및 위상차를 장시간 안정적으로 유지하는 것이 가능한 필름을 제조할 수 있다.The liquid crystalline polymer preferably exhibits liquid crystallinity in a temperature range of 50 to 300 캜. The liquid crystal display temperature is more preferably 60 to 280 ° C, further preferably 70 to 250 ° C, and even more preferably 80 to 200 ° C. When the liquid crystal property is within the above-mentioned range, it is possible to produce a film capable of stably maintaining the resulting vapor barrier property and retardation for a long time even when exposed to external stress such as heat or light.

상기 액정성 폴리머는, 상기 감광성 측사슬에 더하여, 강직한 메소겐 부위를 갖는 액정성 측사슬을 포함하는 것이 바람직하다. 이와 같은 측사슬로는, 하기 식 (21) ∼ (35) 로 나타내는 기에서 선택되는 적어도 1 종이 바람직하다.In addition to the photosensitive side chain, the liquid crystalline polymer preferably includes a liquid crystalline side chain having a rigid mesogen portion. As such a side chain, at least one species selected from the groups represented by the following formulas (21) to (35) is preferable.

[화학식 19] [Chemical Formula 19]

Figure pct00019
Figure pct00019

[화학식 20] [Chemical Formula 20]

Figure pct00020
Figure pct00020

식 중, A1, A2, E, R1, c, d, e, m1, m2 및 파선은, 상기와 동일하다.In the formula, A 1 , A 2 , E, R 1 , c, d, e, m 1 , m 2 and dashed lines are the same as described above.

R2 는, 수소 원자, -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐 원자, 페닐기, 나프틸기, 비페닐릴기, 푸라닐기, 1 가의 질소 함유 복소 고리 함유기, 탄소수 5 ∼ 8 의 고리형 지방족 탄화수소기, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 12 의 알콕시기를 나타낸다.R 2 represents a hydrogen atom, -NO 2 , -CN, -CH═C (CN) 2 , -CH═CH-CN, a halogen atom, a phenyl group, a naphthyl group, a biphenyl group, a furanyl group, A ring-containing group, a cyclic aliphatic hydrocarbon group having 5 to 8 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms.

Y3 은, 페닐기, 나프틸기, 비페닐릴기, 푸라닐기, 1 가의 질소 함유 복소 고리 함유기, 탄소수 5 ∼ 8 의 고리형 지방족 탄화수소기, 또는 이들의 치환기에서 선택되는 2 ∼ 6 의 기가 연결기 A2 를 개재하여 결합하여 이루어지는 기를 나타내고, 이들에 결합하는 수소 원자의 일부가 -NO2, -CN, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기로 치환되어도 된다.Y 3 represents a group selected from the group consisting of a phenyl group, a naphthyl group, a biphenyl group, a furanyl group, a monovalent nitrogen-containing heterocyclic group, a cyclic aliphatic hydrocarbon group having 5 to 8 carbon atoms, 2 , and a part of the hydrogen atoms bonded to these may be substituted with -NO 2 , -CN, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms.

Z1 및 Z2 는, 각각 독립적으로, 단결합, -C(=O)-, -CH2O-, -CH=N- 또는 -CF2- 를 나타낸다.Z 1 and Z 2 each independently represent a single bond, -C (= O) -, -CH 2 O-, -CH = N- or -CF 2 -.

h 는, 0 ∼ 5 의 정수를 나타낸다. k 는, 각각 독립적으로, 0 ∼ 2 의 정수를 나타내지만, 식 (25) 및 (26) 에 있어서, 모든 k 의 합계는 2 이상이다. m3 은, 1 ∼ 3 의 정수를 나타낸다.h represents an integer of 0 to 5; k represents an integer of 0 to 2 independently of each other, but in the formulas (25) and (26), the sum of all k is 2 or more. m3 represents an integer of 1 to 3;

상기 액정성 측사슬로는, 특히, 식 (21), (22), (23), (24), (27), (29), (30), (31) 로 나타내는 것이 바람직하다.The liquid crystalline side chain is preferably represented by the formulas (21), (22), (23), (24), (27), (29), (30) and (31).

상기 액정성 폴리머는, 주사슬과 거기에 결합하는 측사슬을 갖는 것으로서, 측사슬로서 상기 감광성 측사슬이나 액정성 측사슬을 포함하는 것이다. 상기 폴리머로는, 상기 측사슬을 포함하는 폴리이미드, 폴리에스테르, 폴리우레아, 또는 하기 식 (A) 로 나타내는 반복 단위 및 하기 식 (B) 로 나타내는 반복 단위를 포함하는 것이 바람직하다.The liquid crystalline polymer has a main chain and side chains bonded thereto, and includes the photosensitive side chain or the liquid crystal side chain as a side chain. The polymer preferably includes polyimide, polyester, polyurea, or a repeating unit represented by the following formula (A) and a repeating unit represented by the following formula (B), including the side chain.

[화학식 21] [Chemical Formula 21]

Figure pct00021
Figure pct00021

식 중, RA 는, 식 (1) ∼ (6) 으로 나타내는 기에서 선택되는 적어도 1 종이고, RB 는, 식 (21) ∼ (35) 로 나타내는 기에서 선택되는 적어도 1 종이고, MA 및 MB 는, 각각 독립적으로, 중합성기에서 유래하는 기를 나타낸다.Wherein R A is at least one species selected from the groups represented by formulas (1) to (6), R B is at least one species selected from the groups represented by formulas (21) to (35) A and M B each independently represent a group derived from a polymerizable group.

상기 주사슬은, (메트)아크릴산, 이타콘산, 푸마르산, 말레산, α-메틸렌-γ-부티로락톤, 에틸렌, 스티렌, 말레이미드, 노르보르넨 등의 라디칼 중합성 모노머에서 유래하는 것이나, 폴리실록산 구조가 바람직하다.The main chain may be one derived from a radical polymerizable monomer such as (meth) acrylic acid, itaconic acid, fumaric acid, maleic acid,? -Methylene-? -Butyrolactone, ethylene, styrene, maleimide or norbornene, Structure is preferable.

구체적으로는, 상기 중합성기에서 유래하는 기가, 하기 식으로 나타내는 기에서 선택되는 적어도 1 종인 것이 바람직하다.Specifically, it is preferable that the group derived from the polymerizable group is at least one selected from groups represented by the following formulas.

[화학식 22] [Chemical Formula 22]

Figure pct00022
Figure pct00022

식 중, RC 는, 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 3 의 알킬기, 카르복실기 또는 카르복실메틸기를 나타내고, RD 는, 단결합, -C(=O)-O-, -C(=O)-NH- 또는 페닐렌기를 나타내고, RE 는, 하이드록시기, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기 혹은 알콕시기, 또는 페닐기를 나타내고, 파선은, RA 또는 RB 와의 결합손을 나타낸다.Wherein R C represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a carboxyl group or a carboxylmethyl group, R D is a single bond, -C (= O) -O-, -C (= O) -NH - or a phenylene group, R E represents a hydroxyl group, an alkyl group or an alkoxy group of 1 to 10 carbon atoms, or a phenyl group, and the broken line represents a bond with R A or R B.

이들 중, 상기 중합성기로는, (메트)아크릴산, α-메틸렌-γ-부티로락톤, 스티렌, 말레이미드에서 유래하는 것이 바람직하고, (메트)아크릴산, α-메틸렌-γ-부티로락톤, 스티렌에서 유래하는 것이 보다 바람직하고, (메트)아크릴산, α-메틸렌-γ-부티로락톤에서 유래하는 것이 보다 한층 바람직하다.Among them, the polymerizable group is preferably derived from (meth) acrylic acid,? -Methylene-? -Butyrolactone, styrene or maleimide, and is preferably derived from (meth) acrylic acid,? -Methylene-? -Butyrolactone, Styrene, and more preferably those derived from (meth) acrylic acid and? -Methylene-? -Butyrolactone.

상기 액정성 폴리머에 있어서, 상기 감광성 측사슬의 함유량은, 전체 측사슬 중 5 ㏖% 이상이 바람직하고, 10 ㏖% 이상이 보다 바람직하다. 또, 상기 액정성 측사슬의 함유량은, 전체 측사슬 중 95 ㏖% 이하가 바람직하고, 90 ㏖% 이하가 보다 바람직하다. 상기 감광성 측사슬 및 액정성 측사슬의 함유량은, 합계로, 전체 측사슬 중 70 ㏖% 이상이 바람직하고, 80 ㏖% 이상이 보다 바람직하다.In the liquid crystalline polymer, the content of the photosensitive side chain is preferably 5 mol% or more, more preferably 10 mol% or more, of all the side chains. The content of the liquid crystalline side chain is preferably 95 mol% or less, more preferably 90 mol% or less, of all the side chains. The total content of the photosensitive side chain and the liquid crystalline side chain is preferably 70 mol% or more, more preferably 80 mol% or more, of the total side chains.

상기 액정성 폴리머는, 상기 감광성 측사슬 및 액정성 측사슬 중 적어도 어느 일방에 극성기를 포함하는 것이 바람직하다. 상기 극성기로는, 하이드록시기, 카르복실기, 아미드기, 아미노기가 바람직하고, 카르복실기가 보다 바람직하다. 또, 상기 액정성 폴리머는, 액정성을 저해하지 않을 정도로 가교 구조를 포함하고 있어도 된다. 상기 가교 구조로는, 글리시딜기 등의 옥시란 고리 함유기, 옥세탄 고리 함유기 등에서 유래하는 것을 들 수 있다.It is preferable that the liquid crystalline polymer includes a polar group in at least one of the photosensitive side chain and the liquid crystalline side chain. The polar group is preferably a hydroxyl group, a carboxyl group, an amide group or an amino group, and more preferably a carboxyl group. The liquid crystalline polymer may contain a crosslinking structure to such an extent that it does not inhibit liquid crystallinity. Examples of the cross-linking structure include those derived from an oxirane ring-containing group such as glycidyl group, an oxetane ring-containing group, and the like.

상기 액정성 폴리머는, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에서, 상기 감광성 측사슬 및 액정성 측사슬 이외의 그 밖의 측사슬을 포함하고 있어도 된다. 이와 같은 측사슬로는, 탄소수 1 ∼ 15 의 직사슬형 또는 분기형의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 15 의 직사슬형 또는 분기형의 할로겐화 알킬기, 탄소수 6 ∼ 20 의 아릴기, 탄소수 2 ∼ 20 의 헤테로아릴기, 탄소수 7 ∼ 20 의 아르알킬기, 탄소수 3 ∼ 20 의 헤테로아르알킬기, 글리시딜기 등의 옥시란 고리 함유기, 옥세탄 고리 함유기 등을 들 수 있다. 상기 액정성 폴리머에 있어서, 그 밖의 측사슬의 함유량은, 전체 측사슬 중 30 몰% 이하가 바람직하다.The liquid crystalline polymer may contain other side chains other than the photosensitive side chain and the liquid crystalline side chain within a range that does not impair the effect of the present invention. Examples of such a side chain include a linear or branched alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, a linear or branched halogenated alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, a hetero An aryl group, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, a heteroaralkyl group having 3 to 20 carbon atoms, an oxirane ring-containing group such as a glycidyl group, and an oxetane ring-containing group. In the liquid crystalline polymer, the content of the other side chain is preferably 30 mol% or less in the total side chain.

상기 알킬기로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, n-노닐기, n-데실기, n-운데실기, n-도데실기, n-트리데실기, n-테트라데실기, n-펜타데실기 등을 들 수 있다. 상기 할로겐화 알킬기로는, 이들 알킬기의 수소 원자의 일부 또는 전부가, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자 등의 할로겐 원자로 치환된 기를 들 수 있다. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec- An n-decyl group, an n-dodecyl group, an n-tridecyl group, a n-tetradecyl group, and an n-pentadecyl group. Examples of the halogenated alkyl groups include groups in which some or all of the hydrogen atoms of these alkyl groups are substituted with halogen atoms such as a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

상기 아릴기로는, 페닐기, 1-나프틸기, 2-나프틸기, 1-안트릴기, 2-안트릴기, 9-안트릴기, 1-페난트릴기, 2-페난트릴기, 3-페난트릴기, 4-페난트릴기, 9-페난트릴기 등을 들 수 있다.Examples of the aryl group include a phenyl group, a 1-naphthyl group, a 2-naphthyl group, a 1-anthryl group, a 2-anthryl group, a 9-anthryl group, a 1-phenanthryl group, A 4-phenanthryl group, and a 9-phenanthryl group.

상기 헤테로아릴기로는, 산소 원자, 질소 원자, 황 원자, 셀렌 원자 등을 포함하는 것이 바람직하고, 구체적으로는, 2-티에닐기, 3-티에닐기, 2-푸라닐기, 3-푸라닐기, 2-옥사졸릴기, 4-옥사졸릴기, 5-옥사졸릴기, 3-이소옥사졸릴기, 4-이소옥사졸릴기, 5-이소옥사졸릴기, 2-티아졸릴기, 4-티아졸릴기, 5-티아졸릴기, 3-이소티아졸릴기, 4-이소티아졸릴기, 5-이소티아졸릴기, 2-이미다졸릴기, 4-이미다졸릴기, 2-피리딜기, 3-피리딜기, 4-피리딜기 등을 들 수 있다.Examples of the heteroaryl group include an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, a selenium atom and the like. Specific examples of the heteroaryl group include a 2-thienyl group, a 3-thienyl group, a 2-furanyl group, Thiazolyl group, 4-thiazolyl group, 4-thiazolyl group, 4-thiazolyl group, 4-thiazolyl group, 4-thiazolyl group, Thiazolyl group, 3-isothiazolyl group, 4-isothiazolyl group, 5-isothiazolyl group, 2-imidazolyl group, 4-imidazolyl group, 2-pyridyl group, , 4-pyridyl group, and the like.

상기 아르알킬기로는, 벤질기, 페네틸기, 나프틸메틸기, 나프틸에틸기 등을 들 수 있다.Examples of the aralkyl group include a benzyl group, a phenethyl group, a naphthylmethyl group, and a naphthylethyl group.

상기 헤테로아르알킬기로는, 산소 원자, 질소 원자, 황 원자, 셀렌 원자 등을 포함하는 것이 바람직하고, 구체적으로는, 티에닐메틸기, 푸라닐메틸기, 옥사졸릴메틸기, 3-이소옥사졸릴메틸기, 티아졸릴메틸기, 이소티아졸릴메틸기, 이미다졸릴메틸기, 피리딜메틸기 등을 들 수 있다.The heteroaralkyl group preferably includes an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, a selenium atom and the like. Specific examples thereof include a thienylmethyl group, a furanylmethyl group, an oxazolylmethyl group, a 3-isoxazolylmethyl group, An isothiazolylmethyl group, an imidazolylmethyl group, and a pyridylmethyl group.

이와 같은 측사슬을 갖는 반복 단위로는, 하기 식 (C) 로 나타내는 것이 바람직하다.The repeating unit having such a side chain is preferably represented by the following formula (C).

[화학식 23] (23)

Figure pct00023
Figure pct00023

식 중, RC 는, 탄소수 1 ∼ 15 의 직사슬형 또는 분기형의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 15 의 직사슬형 또는 분기형의 할로겐화 알킬기, 탄소수 6 ∼ 20 의 아릴기, 탄소수 2 ∼ 20 의 헤테로아릴기, 탄소수 7 ∼ 20 의 아르알킬기, 탄소수 3 ∼ 20 의 헤테로아르알킬기, 글리시딜기 등의 옥시란 고리 함유기, 옥세탄 고리 함유기 등을 나타낸다. MC 는, 중합성기에서 유래하는 기를 나타낸다. 상기 중합성기로는, MA 및 MB 의 설명에 있어서 예시한 것과 동일한 것을 들 수 있다.In the formula, R C represents a linear or branched alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, a linear or branched halogenated alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, a hetero An arylene group, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, a heteroaralkyl group having 3 to 20 carbon atoms, an oxirane ring-containing group such as a glycidyl group, an oxetane ring-containing group, and the like. M C represents a group derived from a polymerizable group. Examples of the polymerizable group include those exemplified for the explanation of M A and M B.

상기 폴리머의 중량 평균 분자량 (Mw) 은, 얻어지는 도막의 강도, 도막 형성시의 작업성 및 도막의 균일성을 고려하면, 2,000 ∼ 1,000,000 이 바람직하고, 5,000 ∼ 100,000 이 보다 바람직하다. 또한, 본 발명에 있어서 Mw 는, 겔 퍼미에이션 크로마토그래피 (GPC) 에 의한 폴리스티렌 환산 측정값이다.The weight average molecular weight (Mw) of the polymer is preferably from 2,000 to 1,000,000, more preferably from 5,000 to 100,000, in view of the strength of the obtained coating film, the workability at the time of forming the coating film, and the uniformity of the coating film. In the present invention, Mw is measured value by polystyrene conversion by gel permeation chromatography (GPC).

상기 폴리머는, 예를 들어, 국제 공개 제2014/054785호에 기재된 방법에 따라서 합성할 수 있다.The polymer can be synthesized, for example, according to the method described in WO 2014/054785.

[수증기 배리어성을 갖는 위상차막의 제조 방법][Manufacturing method of phase difference film having water vapor barrier property]

본 발명의 위상차막의 제조 방법은,In the method for producing a retardation film of the present invention,

[I] 상기 액정성 폴리머를 포함하는 수지 성분과 유기 용매를 포함하는 위상차막 형성용 조성물을 기재에 도포하여, 막두께가 300 ㎚ 를 초과 50,000 ㎚ 이하인 도막을 형성하는 공정,[I] a step of applying a composition for forming a retardation film including a resin component containing the liquid crystalline polymer and an organic solvent to a substrate to form a coating film having a film thickness of more than 300 nm but not more than 50,000 nm,

[II] 상기 도막에 편광 자외선을 조사하는 공정, 및[II] a step of irradiating the coating film with polarized ultraviolet light, and

[III] 상기 편광 자외선을 조사한 막을 가열하고, 막두께가 300 ㎚ 를 초과 50,000 ㎚ 이하인 막을 얻는 공정[III] The step of heating the film irradiated with the polarized ultraviolet rays to obtain a film having a film thickness of more than 300 nm but not more than 50,000 nm

을 포함하는 것이다..

공정 [I] 에 있어서, 상기 기재로는, 특별히 한정되지 않지만, 유리 기판이나, 아세테이트 기판, 아크릴 기판, 폴리카보네이트 기판, 폴리에틸렌테레프탈레이트 기판, 폴리에틸렌나프탈레이트 기판, 시클로올레핀 폴리머 기판, 폴리이미드 기판 등의 플라스틱 기판 등을 사용할 수 있다.In the step [I], the substrate is not particularly limited, but a glass substrate, an acetate substrate, an acrylic substrate, a polycarbonate substrate, a polyethylene terephthalate substrate, a polyethylene naphthalate substrate, a cycloolefin polymer substrate, a polyimide substrate A plastic substrate of the above-mentioned substrate can be used.

상기 위상차막 형성용 조성물은, 상기 액정성 폴리머를 포함하는 수지 성분과, 유기 용매를 포함한다. 상기 위상차막 형성용 조성물은, 위상차막의 형성에 적합하다는 관점에서, 상기 폴리머가 유기 용매에 용해된 용액인 것이 바람직하다.The composition for forming a retardation film includes a resin component containing the liquid crystalline polymer and an organic solvent. It is preferable that the composition for forming a retardation film is a solution in which the polymer is dissolved in an organic solvent from the viewpoint of being suitable for forming a retardation film.

상기 수지 성분은, 모두가 상기 액정성 폴리머여도 되지만, 액정 발현능 및 감광성능을 저해하지 않는 범위에서, 이것 이외의 폴리머 (이하, 기타 폴리머라고 한다.) 를 포함해도 된다. 기타 폴리머로는, 폴리(메트)아크릴레이트, 폴리아믹산, 폴리이미드 등을 들 수 있다. 상기 수지 성분이 기타 폴리머를 포함하는 경우, 수지 성분 중의 기타 폴리머의 함유량은, 0.5 ∼ 80 질량% 가 바람직하고, 1 ∼ 50 질량% 가 보다 바람직하다.All of the resin components may be the liquid crystalline polymer, but may include other polymers (hereinafter referred to as other polymers) within a range that does not impair the liquid crystal developing ability and photosensitive performance. Examples of other polymers include poly (meth) acrylate, polyamic acid, polyimide and the like. When the resin component contains other polymer, the content of other polymer in the resin component is preferably 0.5 to 80 mass%, more preferably 1 to 50 mass%.

상기 위상차막 형성용 조성물 중, 상기 수지 성분의 함유량은, 1 ∼ 20 질량% 가 바람직하고, 3 ∼ 15 질량% 가 보다 바람직하고, 3 ∼ 10 질량% 가 보다 한층 바람직하다.The content of the resin component in the retardation film-forming composition is preferably from 1 to 20 mass%, more preferably from 3 to 15 mass%, still more preferably from 3 to 10 mass%.

상기 유기 용매로는, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸-2-피롤리돈, N-메틸카프로락탐, 2-피롤리돈, N-에틸피롤리돈, N-비닐피롤리돈, 디메틸술폭시드, 테트라메틸우레아, 피리딘, 디메틸술폰, 헥사메틸술폭시드, γ-부티로락톤, 3-메톡시-N,N-디메틸프로판아미드, 3-에톡시-N,N-디메틸프로판아미드, 3-부톡시-N,N-디메틸프로판아미드, 1,3-디메틸-이미다졸리디논, 에틸아밀케톤, 메틸노닐케톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소아밀케톤, 메틸이소프로필케톤, 시클로헥사논, 에틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트, 디글라임, 4-하이드록시-4-메틸-2-펜타논, 프로필렌글리콜모노아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜-tert-부틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜모노아세테이트, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노아세테이트모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노아세테이트모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노프로필에테르, 디프로필렌글리콜모노아세테이트모노프로필에테르, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트, 트리프로필렌글리콜메틸에테르 등을 들 수 있다. 이들은, 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.Examples of the organic solvent include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, N-methylcaprolactam, 2- , N-vinylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, tetramethylurea, pyridine, dimethylsulfone, hexamethylsulfoxide,? -Butyrolactone, 3-methoxy-N, N-dimethylpropanamide, 3-ethoxy- N, N-dimethylpropanamide, 3-butoxy-N, N-dimethylpropanamide, 1,3-dimethyl- imidazolidinone, ethyl amyl ketone, methyl nonyl ketone, methyl ethyl ketone, methyl isoamyl ketone, Methylene-2-pentanone, propylene glycol monoacetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol-tert-butyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, , Dipropylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol, diethylene glycol monoacetate, diethylene Recol dimethyl ether, dipropylene glycol monoacetate monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monoacetate monoethyl ether, dipropylene glycol monopropyl ether, dipropylene glycol monoacetate monopropyl ether, Ether, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, tripropylene glycol methyl ether, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

또, 막두께의 균일성이나 표면 평활성을 향상시키기 위해서, 빈용매를 첨가해도 된다. 상기 빈용매로는, 이소프로필알코올, 메톡시메틸펜탄올, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 디이소부틸카르비놀, 부틸카르비톨, 에틸카르비톨, 에틸카르비톨아세테이트, 에틸렌글리콜, 에틸렌글리콜모노아세테이트, 에틸렌글리콜모노이소프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜, 프로필렌글리콜모노아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜-tert-부틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜모노아세테이트, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노아세테이트모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노아세테이트모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노프로필에테르, 디프로필렌글리콜모노아세테이트모노프로필에테르, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트, 트리프로필렌글리콜메틸에테르, 3-메틸-3-메톡시부탄올, 디이소프로필에테르, 에틸이소부틸에테르, 디이소부틸렌, 아밀아세테이트, 부틸부티레이트, 부틸에테르, 디이소부틸케톤, 메틸시클로헥센, 프로필에테르, 디헥실에테르, 1-헥산올, n-헥산, n-펜탄, n-옥탄, 디에틸에테르, 락트산메틸, 락트산에틸, 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산n-부틸, 아세트산프로필렌글리콜모노에틸에테르, 피루브산메틸, 피루브산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산메틸에틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산, 3-메톡시프로피온산, 3-메톡시프로피온산프로필, 3-메톡시프로피온산부틸, 1-메톡시-2-프로판올, 1-에톡시-2-프로판올, 1-부톡시-2-프로판올, 1-페녹시-2-프로판올, 프로필렌글리콜모노아세테이트, 프로필렌글리콜디아세테이트, 프로필렌글리콜-1-모노메틸에테르-2-아세테이트, 프로필렌글리콜-1-모노에틸에테르-2-아세테이트, 디프로필렌글리콜, 2-(2-에톡시프로폭시)프로판올, 락트산메틸, 락트산에틸, 락트산n-프로필, 락트산n-부틸, 락트산이소아밀 등의 저표면 장력을 갖는 용매 등을 들 수 있다.In addition, a poor solvent may be added in order to improve the uniformity of the film thickness and the surface smoothness. Examples of the poor solvent include isopropyl alcohol, methoxymethyl pentanol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, diisobutyl carbinol, butyl And examples thereof include carbitol, ethylcarbitol, ethylcarbitol acetate, ethylene glycol, ethylene glycol monoacetate, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol, propylene glycol monoacetate, propylene glycol monomethyl ether, Butyl ether, propylene glycol-tert-butyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol, diethylene glycol monoacetate, diethylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol monoacetate monomethyl ether, di Propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol Propyleneglycol monopropyl ether, dipropylene glycol monoacetate monopropyl ether, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, tripropylene glycol methyl ether, 3-methyl- But are not limited to, 3-methoxybutanol, diisopropyl ether, ethyl isobutyl ether, diisobutylene, amyl acetate, butyl butyrate, butyl ether, diisobutyl ketone, methylcyclohexene, propyl ether, , n-pentane, n-octane, diethyl ether, methyl lactate, methyl lactate, methyl acetate, ethyl acetate, n-butyl acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, Methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, 3-ethoxypropionic acid, 3-methoxypropionic acid, 3- 1-butoxy-2-propanol, 1-phenoxy-2-propanol, propylene glycol monoacetate, propylene glycol monoacetate, Propylene glycol monoethyl ether-2-acetate, propylene glycol di-acetate, propylene glycol-1-monomethyl ether-2-acetate, propylene glycol- And a solvent having a low surface tension such as ethyl lactate, n-propyl lactate, n-butyl lactate, and lactic acid-isoamyl.

상기 빈용매의 함유량은, 용매 전체의 용해성을 현저하게 저하시키지 않기 위해서, 전체 용매 중 5 ∼ 80 질량% 가 바람직하고, 20 ∼ 60 질량% 가 보다 바람직하다. 상기 빈용매는, 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.The content of the poor solvent is preferably 5 to 80% by mass, and more preferably 20 to 60% by mass in the total solvent, so as not to significantly lower the solubility of the solvent as a whole. The poor solvent may be used alone or in combination of two or more.

상기 위상차막 형성용 조성물은, 막두께의 균일성이나 표면 평활성을 향상시키는 관점에서, 불소계 계면 활성제, 실리콘계 계면 활성제, 논이온계 계면 활성제 등의 계면 활성제를 포함해도 된다. 상기 계면 활성제로는, 에프탑 (등록상표) 301, EF303, EF352 (미츠비시 머테리얼 전자 화성 (주) 제조), 메가팍 (등록상표) F171, F173, R-30 (DIC (주) 제조), Fluorad (등록상표) FC430, FC431 (쓰리엠사 제조), 아사히가드 (등록상표) AG710 (아사히 가라스 (주) 제조), 서플론 (등록상표) S-382, SC101, SC102, SC103, SC104, SC105, SC106 (AGC 세이미 케미컬 (주) 제조) 등을 들 수 있다. 계면 활성제의 함유량은, 상기 수지 성분 100 질량부에 대하여, 0.01 ∼ 2 질량부가 바람직하고, 0.01 ∼ 1 질량부가 보다 바람직하다.The retardation film-forming composition may contain a surfactant such as a fluorine-based surfactant, a silicon-based surfactant, or a nonionic-based surfactant from the viewpoint of improving film thickness uniformity and surface smoothness. Examples of the surfactant include FEPTOR (registered trademark) 301, EF303, EF352 (manufactured by Mitsubishi Materials Engineering Co., Ltd.), Megapack (registered trademark) F171, F173, R-30 SC101, SC102, SC103, SC104, SC105 (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), Fluorad (registered trademark) FC430, FC431 , SC106 (manufactured by AGC Seiyaku Chemical Co., Ltd.), and the like. The content of the surfactant is preferably 0.01 to 2 parts by mass, more preferably 0.01 to 1 part by mass, per 100 parts by mass of the resin component.

상기 위상차막 형성용 조성물은, 관능성 실란 함유 화합물을 포함해도 된다. 상기 관능성 실란 함유 화합물로는, 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 2-아미노프로필트리메톡시실란, 2-아미노프로필트리에톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, 3-우레이드프로필트리메톡시실란, 3-우레이드프로필트리에톡시실란, N-에톡시카르보닐-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-에톡시카르보닐-3-아미노프로필트리에톡시실란, N-트리에톡시실릴프로필트리에틸렌트리아민, N-트리메톡시실릴프로필트리에틸렌트리아민, 10-트리메톡시실릴-1,4,7-트리아자데칸, 10-트리에톡시실릴-1,4,7-트리아자데칸, 9-트리메톡시실릴-3,6-디아자노닐아세테이트, 9-트리에톡시실릴-3,6-디아자노닐아세테이트, N-벤질-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-벤질-3-아미노프로필트리에톡시실란, N-페닐-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-페닐-3-아미노프로필트리에톡시실란, N-비스(옥시에틸렌)-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-비스(옥시에틸렌)-3-아미노프로필트리에톡시실란 등을 들 수 있다. 이들은, 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.The composition for forming a retardation film may contain a functional silane-containing compound. Examples of the functional silane-containing compound include 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 2-aminopropyltrimethoxysilane, 2-aminopropyltriethoxysilane, N- (2- Aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, 3-ureidopropyltrimethoxysilane, 3- , N-ethoxycarbonyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-ethoxycarbonyl-3-aminopropyltriethoxysilane, N-triethoxysilylpropyltriethylenetriamine, N-trimethoxy Silane triethylenetriamine, 10-trimethoxysilyl-1,4,7-triazadecane, 10-triethoxysilyl-1,4,7-triazadecane, 9-trimethoxysilyl- Diazanonyl acetate, 9-triethoxysilyl-3,6-diazanonyl acetate, N-benzyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-benzyl- Aminopropyltrimethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltriethoxysilane, N-bis (oxyethylene) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N -Bis (oxyethylene) -3-aminopropyltriethoxysilane, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

상기 관능성 실란 함유 화합물의 함유량은, 상기 수지 성분 100 질량부에 대하여, 0.1 ∼ 30 질량부가 바람직하고, 1 ∼ 20 질량부가 보다 바람직하다. 상기 범위이면, 밀착성 향상 효과가 얻어진다.The content of the functional silane-containing compound is preferably 0.1 to 30 parts by mass, more preferably 1 to 20 parts by mass, per 100 parts by mass of the resin component. Within this range, an effect of improving the adhesion can be obtained.

상기 위상차막 형성용 조성물은, 추가로, 신뢰성의 향상, 배리어성 및 위상차의 저하를 억제하는 등의 목적으로, 페노플라스트계 화합물이나 에폭시기 함유 화합물, 옥세탄 고리 함유 화합물 등의 첨가제를 포함해도 된다.The retardation film-forming composition may further contain an additive such as a phenoplast compound, an epoxy group-containing compound, or an oxetane ring-containing compound for the purpose of improving reliability, lowering the barrier property and retardation do.

상기 페노플라스트계 화합물로는, 이하에 나타내는 것을 들 수 있지만, 이들에 한정되지 않는다.Examples of the phenoplast compound include, but are not limited to, the following compounds.

[화학식 24] ≪ EMI ID =

Figure pct00024
Figure pct00024

상기 에폭시기 함유 화합물로는, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 트리프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 글리세린디글리시딜에테르, 2,2-디브로모네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, 1,3,5,6-테트라글리시딜-2,4-헥산디올, N,N,N',N'-테트라글리시딜-m-자일렌디아민, 1,3-비스(N,N-디글리시딜아미노메틸) 시클로헥산, N,N,N',N'-테트라글리시딜-4,4'-디아미노디페닐메탄 등을 들 수 있다.Examples of the epoxy group-containing compound include ethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, tripropylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, neo Pentyl glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, glycerin diglycidyl ether, 2,2-dibromoneopentyl glycol diglycidyl ether, 1,3,5,6 -Tetraglycidyl-2,4-hexanediol, N, N, N ', N'-tetraglycidyl-m-xylylenediamine, 1,3-bis (N, N-diglycidylaminomethyl ) Cyclohexane, N, N, N ', N'-tetraglycidyl-4,4'-diaminodiphenylmethane and the like.

상기 위상차막 형성용 조성물은, 추가로, 광 증감제를 포함해도 된다. 광 증감제로는, 무색 증감제 및 삼중항 증감제가 바람직하다. 상기 광 증감제로는, 방향족 니트로 화합물, 쿠마린(7-디에틸아미노-4-메틸쿠마린, 7-하이드록시-4-메틸쿠마린), 케토쿠마린, 카르보닐비스쿠마린, 방향족 2-하이드록시케톤(2-하이드록시벤조페논), 아미노 치환된 방향족 2-하이드록시케톤 (모노- 또는 디-p-(디메틸아미노)-2-하이드록시벤조페논), 아세토페논, 안트라퀴논, 잔톤, 티오잔톤, 벤즈안트론, 티아졸린 유도체 (2-벤조일메틸렌-3-메틸-β-나프토티아졸린, 2-(β-나프토일메틸렌)-3-메틸벤조티아졸린, 2-(α-나프토일메틸렌)-3-메틸벤조티아졸린, 2-(4-비페노일메틸렌)-3-메틸벤조티아졸린, 2-(β-나프토일메틸렌)-3-메틸-β-나프토티아졸린, 2-(4-비페노일메틸렌)-3-메틸-β-나프토티아졸린, 2-(p-플루오로벤조일메틸렌)-3-메틸-β-나프토티아졸린), 옥사졸린 유도체 (2-벤조일메틸렌-3-메틸-β-나프토옥사졸린, 2-(β-나프토일메틸렌)-3-메틸벤조옥사졸린, 2-(α-나프토일메틸렌)-3-메틸벤조옥사졸린, 2-(4-비페노일메틸렌)-3-메틸벤조옥사졸린, 2-(β-나프토일메틸렌)-3-메틸-β-나프토옥사졸린, 2-(4-비페노일메틸렌)-3-메틸-β-나프토옥사졸린, 2-(p-플루오로벤조일메틸렌)-3-메틸-β-나프토옥사졸린), 벤조티아졸, 니트로아닐린 (m- 또는 p-니트로아닐린, 2,4,6-트리니트로아닐린), 니트로아세나프텐(5-니트로아세나프텐), 2-[(m-하이드록시-p-메톡시)스티릴]벤조티아졸, 벤조인알킬에테르, N-알킬화프탈론, 아세토페논케탈(2,2-디메톡시페닐에타논), 나프탈렌 유도체 (2-나프탈렌메탄올, 2-나프탈렌카르복실산), 안트라센 유도체 (9-안트라센메탄올, 9-안트라센카르복실산), 벤조피란, 아조인돌리진, 메로쿠마린 등을 들 수 있다. 이들 중, 방향족 2-하이드록시케톤 (벤조페논), 쿠마린, 케토쿠마린, 카르보닐비스쿠마린, 아세토페논, 안트라퀴논, 잔톤, 티오잔톤, 및 아세토페논케탈이 바람직하다.The composition for forming a retardation film may further contain a photosensitizer. As the photosensitizer, a colorless sensitizer and a triplet sensitizer are preferable. Examples of the photosensitizer include an aromatic nitro compound, coumarin (7-diethylamino-4-methylcoumarin, 7-hydroxy-4-methylcoumarin), ketocoumarin, carbonylbiscumarin, aromatic 2-hydroxy ketone 2-hydroxybenzophenone), an amino substituted aromatic 2-hydroxy ketone (mono- or di- p- (dimethylamino) -2-hydroxybenzophenone), acetophenone, anthraquinone, xanthone, thiosantone, benz (2-benzoylmethylene-3-methyl-? -Naphthothiazoline, 2- (? -Naphthoylmethylene) -3-methylbenzothiazoline, 2- -Methyl-β-naphthothiazoline, 2- (4-biphenoylmethylene) -3-methylbenzothiazoline, 2- Methyl-β-naphthothiazoline, 2- (p-fluorobenzoylmethylene) -3-methyl-β-naphthothiazoline), an oxazoline derivative (2-benzoylmethylene- Naphthooxazoline, 2- (? - 2- (4-biphenoylmethylene) -3-methylbenzooxazoline, 2- (? - naphthoylmethylene) -Naphthoylmethylene) -3-methyl- beta -naphthoxazoline, 2- (4-biphenoylmethylene) -3-methyl- beta -naphthoxazoline, 2- (p- fluorobenzoylmethylene) -3 (Methyl- beta -naphthoxazoline), benzothiazole, nitroaniline (m- or p-nitroaniline, 2,4,6-trinitroaniline), nitroascenaphthene Alkylated phthalone, acetophenone ketal (2,2-dimethoxyphenylethanone), naphthalene derivatives (2-naphthalene methanol, 2-naphthalene-2- 2-naphthalenecarboxylic acid), anthracene derivatives (9-anthracene methanol, 9-anthracenecarboxylic acid), benzopyran, azoindolizine and merocoumarin. Of these, aromatic 2-hydroxy ketone (benzophenone), coumarin, ketocoumarin, carbonylbiscumarin, acetophenone, anthraquinone, xanthone, thioxanthone, and acetophenone ketal are preferred.

상기 첨가제나 광 증감제의 함유량은, 상기 수지 성분 100 질량부에 대하여, 0.1 ∼ 30 질량부가 바람직하고, 0.5 ∼ 20 질량부가 보다 바람직하다. 상기 범위이면, 충분한 효과가 얻어지고, 액정성도 손상되지 않는다.The content of the additive and photosensitizer is preferably 0.1 to 30 parts by mass, more preferably 0.5 to 20 parts by mass, per 100 parts by mass of the resin component. Within this range, a sufficient effect is obtained and the liquid crystal property is not impaired.

상기 위상차막 형성용 조성물에는, 전술한 것 외에, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에서, 유전체나 도전 물질, 나아가서는, 가교성 화합물을 첨가해도 된다. In addition to the above-mentioned composition, a dielectric substance or a conductive substance, and further, a crosslinking compound may be added to the retardation film forming composition within the range that does not impair the effect of the present invention.

상기 위상차막 형성용 조성물을 기재에 도포하는 방법은, 특별히 한정되지 않는다. 도포 방법으로는, 공업적으로는, 스크린 인쇄, 그라비아 인쇄, 오프셋 인쇄, 플렉소 인쇄, 잉크젯법 등이 일반적이다. 그 밖의 도포 방법으로는, 딥법, 다이 코트법, 롤 코트법, 슬릿 코트법, 스핀 코트법, 스프레이 코트법 등이 있으며, 목적에 따라 이들을 이용해도 된다.The method of applying the composition for forming a retardation film to a substrate is not particularly limited. As a coating method, screen printing, gravure printing, offset printing, flexographic printing, inkjet printing, and the like are generally used industrially. As other coating methods, there are dip coating, die coating, roll coating, slit coating, spin coating, spray coating and the like, depending on the purpose.

상기 위상차막 형성용 조성물을 기재 상에 도포한 후에는, 핫 플레이트, 열 순환형 오븐, 적외선형 오븐 등의 가열 수단에 의해, 바람직하게는 50 ∼ 200 ℃, 보다 바람직하게는 50 ∼ 150 ℃ 에서 용매를 증발시켜, 도막을 얻을 수 있다. 이 때의 온도는, 상기 폴리머의 액정상 발현 온도보다 낮은 것이 바람직하다.After the composition for forming a retardation film is coated on a substrate, it is preferably baked at a temperature of 50 to 200 캜, more preferably 50 to 150 캜, by heating means such as a hot plate, a heat circulation type oven, The solvent is evaporated to obtain a coating film. The temperature at this time is preferably lower than the liquid crystal phase expression temperature of the polymer.

도막의 막두께는, 300 ㎚ 를 초과 50,000 ㎚ 이하이지만, 그 하한은, 바람직하게는 350 ㎚ 이고, 보다 바람직하게는 400 ㎚ 이고, 보다 한층 바람직하게는 1,000 ㎚ 이고, 가장 바람직하게는 1,500 ㎚ 이다. 한편, 그 상한은, 바람직하게는 20,000 ㎚ 이고, 보다 바람직하게는 10,000 ㎚ 이고, 보다 한층 바람직하게는 6,000 ㎚ 이고, 가장 바람직하게는 5,000 ㎚ 이다.The film thickness of the coating film is more than 300 nm but not more than 50,000 nm, but the lower limit thereof is preferably 350 nm, more preferably 400 nm, still more preferably 1,000 nm, and most preferably 1,500 nm . On the other hand, the upper limit is preferably 20,000 nm, more preferably 10,000 nm, still more preferably 6,000 nm, and most preferably 5,000 nm.

또한, 공정 [I] 후, 공정 [II] 전에, 도막이 형성된 기판을 실온으로까지 냉각시키는 공정을 마련해도 된다.After the step [I] and before the step [II], a step of cooling the substrate having the coated film to room temperature may be provided.

공정 [II] 에 있어서, 도막의 막면에 편광 자외선을 조사하는 경우, 기판에 대하여 일정한 방향으로부터 편광판을 통해서 편광된 자외선을 조사한다. 사용하는 자외선으로는, 파장 100 ∼ 400 ㎚ 범위의 것이 적합하다. 파장은, 사용하는 도막의 종류에 따라 필터 등을 개재하여 최적인 것을 선택한다. 예를 들어, 선택적으로 광 가교 반응을 야기할 수 있도록, 파장 290 ∼ 400 ㎚ 범위의 자외선을 선택하여 사용할 수 있다. 자외선으로는, 예를 들어, 고압 수은등으로부터 방사되는 광을 사용할 수 있다.In the step [II], when polarizing ultraviolet rays are irradiated on the film surface of the coated film, polarized ultraviolet rays are irradiated to the substrate from a certain direction through the polarizing plate. As the ultraviolet ray to be used, those having a wavelength of 100 to 400 nm are suitable. The optimum wavelength is selected through a filter or the like depending on the type of the coating film to be used. For example, ultraviolet rays having a wavelength in the range of 290 to 400 nm can be selectively used so as to cause photo-crosslinking reaction selectively. As ultraviolet rays, for example, light emitted from a high-pressure mercury lamp can be used.

편광 자외선의 조사량은, 사용하는 도막에 의존한다. 조사량은, 그 도막에 있어서의, 편광 자외선의 편광 방향과 평행한 방향의 자외선 흡광도와 수직인 방향의 자외선 흡광도의 차인 ΔA 의 최대값 (이하, ΔAmax 라고도 칭한다) 을 실현하는 편광 자외선의 양의 1 ∼ 70 % 의 범위 내로 하는 것이 바람직하고, 1 ∼ 50 % 의 범위 내로 하는 것이 보다 바람직하다.The irradiation amount of the polarized ultraviolet ray depends on the coating film to be used. The amount of irradiation is set such that the amount of the polarized ultraviolet light (1) realizing the maximum value of? A (hereinafter also referred to as? Amma), which is the difference between the ultraviolet absorbance in the direction parallel to the polarization direction of the polarized ultraviolet light and the ultraviolet absorbance in the direction perpendicular to that direction To 70%, and more preferably in the range of 1 to 50%.

공정 [III] 에 있어서, 상기 편광 자외선을 조사한 도막을 가열함으로써, 도막에 큰 이방성 (위상차) 을 부여할 수 있다.In the step [III], a large anisotropy (phase difference) can be given to the coating film by heating the coating film irradiated with the polarized ultraviolet rays.

가열은, 핫 플레이트, 열 순환형 오븐, 적외선형 오븐 등의 가열 수단을 사용할 수 있다. 가열 온도는, 사용하는 도막의 액정성을 발현시키는 온도를 고려하여 결정할 수 있다.As the heating, a heating means such as a hot plate, a heat circulation type oven, and an infrared type oven may be used. The heating temperature can be determined in consideration of the temperature at which the liquid crystal property of the coating film to be used is expressed.

가열 온도는, 상기 액정성 폴리머가 액정성을 발현하는 온도 (이하, 액정 발현 온도라고 한다.) 의 범위 내인 것이 바람직하다. 도막과 같은 박막 표면의 경우, 도막 표면의 액정 발현 온도는, 액정성을 발현할 수 있는 감광성의 측사슬형 고분자를 벌크로 관찰했을 경우의 액정 발현 온도보다 낮은 것이 예상된다. 이 때문에, 가열 온도는, 도막 표면의 액정 발현 온도의 온도 범위 내인 것이 보다 바람직하다. 즉, 편광 자외선 조사 후의 가열 온도의 온도 범위는, 사용하는 사슬형 고분자의 액정 발현 온도의 온도 범위의 하한보다 10 ℃ 높은 온도를 하한으로 하고, 그 액정 온도 범위의 상한보다 10 ℃ 낮은 온도를 상한으로 하는 범위의 온도인 것이 바람직하다. 가열 온도가, 상기 온도 범위보다 낮으면, 도막에 있어서의 열에 의한 이방성의 증폭 효과가 불충분해지는 경향이 있고, 또 가열 온도가, 상기 온도 범위보다 지나치게 높으면, 도막 상태가 등방성의 액체 상태 (등방상) 에 가까워지는 경향이 있고, 이 경우, 자기 조직화에 의해 일방향으로 재배향하는 것이 곤란해지는 경우가 있다.The heating temperature is preferably within the range of the temperature at which the liquid crystalline polymer exhibits liquid crystallinity (hereinafter referred to as liquid crystal temperature). In the case of a thin film surface such as a coating film, it is expected that the liquid crystal development temperature at the surface of the coating film is lower than the liquid crystal expression temperature when the photosensitive side chain polymer capable of exhibiting liquid crystallinity is observed in bulk. For this reason, it is more preferable that the heating temperature is within the temperature range of the liquid crystal forming temperature on the surface of the coating film. That is, the temperature range of the heating temperature after irradiation with the polarized ultraviolet light is set to a temperature lower by 10 占 폚 than the lower limit of the temperature range of the liquid crystal display temperature of the chain polymer to be used as the lower limit and a temperature 10 占 폚 lower than the upper limit of the liquid crystal temperature range, The temperature is preferably in the range of < RTI ID = 0.0 > If the heating temperature is lower than the above temperature range, the effect of amplifying the anisotropy due to heat in the coating film tends to become insufficient. If the heating temperature is too high than the above temperature range, the coating film state becomes isotropic liquid state ). In this case, it may become difficult to reorient in one direction by self-organization.

또한, 액정 발현 온도란, 상기 액정성 폴리머가 고체상으로부터 액정상으로 상전이가 일어나는 유리 전이 온도 이상으로서, 액정상으로부터 아이소트로픽상 (등방상) 으로 상전이를 일으키는 아이소트로픽 상전이 온도 이하의 온도를 말한다.The liquid crystal display temperature refers to a temperature equal to or higher than the glass transition temperature at which the liquid crystalline polymer undergoes phase transition from the solid phase to the liquid crystal phase and below the isotropic phase transition temperature at which phase transition occurs from the liquid crystal phase to the isotropic phase (isotropic phase).

가열 후에 형성되는 도막의 막두께는, 300 ㎚ 를 초과 50,000 ㎚ 이하이지만, 그 하한은, 바람직하게는 350 ㎚ 이고, 보다 바람직하게는 400 ㎚ 이고, 보다 한층 바람직하게는 1,000 ㎚ 이고, 가장 바람직하게는 1,500 ㎚ 이다. 한편, 그 상한은, 바람직하게는 20,000 ㎚ 이고, 보다 바람직하게는 10,000 ㎚ 이고, 보다 한층 바람직하게는 6,000 ㎚ 이고, 가장 바람직하게는 5,000 ㎚ 이다.The film thickness of the coating film formed after heating is more than 300 nm but not more than 50,000 nm, but the lower limit thereof is preferably 350 nm, more preferably 400 nm, still more preferably 1,000 nm, Is 1,500 nm. On the other hand, the upper limit is preferably 20,000 nm, more preferably 10,000 nm, still more preferably 6,000 nm, and most preferably 5,000 nm.

상기 제조 방법에 의해, 도막에 대한 이방성의 도입을 고효율로 실현할 수 있다. 요컨대, 위상차가 발현한다. 그리고, 위상차막이 부착된 기재를 고효율로 제조할 수 있다.With this manufacturing method, introduction of anisotropy into the coating film can be realized with high efficiency. In short, a phase difference is expressed. In addition, a base material having a retardation film can be produced with high efficiency.

이와 같이 하여 얻어진 본 발명의 위상차막은, 수증기 배리어성도 갖는 것이 된다. 메소겐 골격이 깔끔하게 배향함으로써, π 공액, π-π 스택킹 효과가 얻어지기 때문에, 배리어성이 향상되는 것으로 생각된다. 구체적으로는, 상기 위상차막의 막두께가 1,000 ㎚ 일 때의 수증기 투과율이, 500 g/㎡·day 이하인 것이 바람직하다. 또한, 본 발명에 있어서 수증기 투과율이란, JIS Z 0208 「방습 포장 재료의 투습도 시험 방법 (컵법)」 에 따라서, 온도 40 ℃, 상대 습도 90 % 의 조건으로 측정된 값이다.The retardation film of the present invention thus obtained also has a water vapor barrier property. It is believed that since the mesogen skeleton is neatly oriented, the π conjugation and the π-π stacking effect can be obtained, thereby improving the barrier property. Specifically, it is preferable that the water vapor transmission rate when the film thickness of the retardation film is 1,000 nm is 500 g / m < 2 > day or less. In the present invention, the water vapor transmission rate is a value measured under conditions of a temperature of 40 DEG C and a relative humidity of 90% according to JIS Z 0208 " moisture permeability test method (cup method) of moisture-proof wrapping material ".

본 발명의 수증기 배리어성을 갖는 위상차막은, 특히, 유기 EL 디스플레이용 위상차막으로서 유용하다. 본 발명의 위상차막을 구비하는 유기 EL 디스플레이는, 수증기 배리어성이 높기 때문에, 신뢰성이 우수한 것이 되고, 대화면이고 고정밀의 디스플레이를 제조하는 것이 가능해진다.The retardation film having water vapor barrier property of the present invention is particularly useful as a retardation film for an organic EL display. The organic EL display provided with the retardation film of the present invention has high reliability of water vapor barrier property, and thus it is possible to manufacture a large-sized, high-precision display.

실시예Example

이하, 실시예 및 비교예를 들어 본 발명을 보다 구체적으로 설명하는데, 본 발명은 하기의 실시예에 한정되지 않는다. 또한, 수 평균 분자량 (Mn) 및 중량 평균 분자량 (Mw) 은, 쇼와 전공 (주) 제조 Shodex GPC-101 (용매:테트라하이드로푸란, 검량선:표준 폴리스티렌) 을 사용하여 측정하였다.Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to the following Examples. The number average molecular weight (Mn) and the weight average molecular weight (Mw) were measured using Shodex GPC-101 (solvent: tetrahydrofuran, calibration curve: standard polystyrene) manufactured by Showa Denko K.K.

[1] 모노머의 합성[1] Synthesis of monomers

[합성예 1-1] 모노머 MA1 의 합성[Synthesis Example 1-1] Synthesis of monomer MA1

국제 공개 제2011/084546호에 기재된 방법에 따라서, 하기 식으로 나타내는 모노머 MA1 을 합성하였다.According to the method described in International Publication No. 2011/084546, a monomer MA1 represented by the following formula was synthesized.

[화학식 25] (25)

Figure pct00025
Figure pct00025

[합성예 1-2] 모노머 MA2 의 합성[Synthesis Example 1-2] Synthesis of monomer MA2

일본 공개특허공보 평9-118717호에 기재된 방법에 따라서, 하기 식으로 나타내는 모노머 MA2 를 합성하였다.A monomer MA2 represented by the following formula was synthesized according to the method described in JP-A-9-118717.

[화학식 26] (26)

Figure pct00026
Figure pct00026

[합성예 1-3] 모노머 MA3 의 합성[Synthesis Example 1-3] Synthesis of monomer MA3

Macromolecules (2012), 45 (21), pp. 8547-8554 에 기재된 방법에 따라서, 하기 식으로 나타내는 모노머 MA3 을 합성하였다.Macromolecules (2012), 45 (21), pp. The monomer MA3 represented by the following formula was synthesized according to the method described in EP-A-8547-8554.

[화학식 27] (27)

Figure pct00027
Figure pct00027

[합성예 1-4] 모노머 MA4 의 합성[Synthesis Example 1-4] Synthesis of monomer MA4

국제 공개 제2013/133078호에 기재된 방법에 따라서, 하기 식으로 나타내는 모노머 MA4 를 합성하였다.According to the method described in International Publication No. 2013/133078, a monomer MA4 represented by the following formula was synthesized.

[화학식 28] (28)

Figure pct00028
Figure pct00028

[합성예 1-4] 모노머 MA5 의 합성[Synthesis Example 1-4] Synthesis of monomer MA5

국제 공개 제2013/133078호에 기재된 방법에 따라서, 하기 식으로 나타내는 모노머 MA5 를 합성하였다.According to the method described in International Publication No. 2013/133078, a monomer MA5 represented by the following formula was synthesized.

[화학식 29] [Chemical Formula 29]

Figure pct00029
Figure pct00029

[2] 폴리머의 합성[2] Synthesis of polymer

[합성예 2-1] 폴리머 P1 의 합성[Synthesis Example 2-1] Synthesis of polymer P1

모노머 MA1 6.64 g 및 모노머 MA2 9.19 g 을 테트라하이드로푸란 (THF) 146.42 g 에 용해하고, 다이아프램 펌프로 탈기를 실시한 후, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 (AIBN) 0.82 g 을 첨가하고, 다시 탈기를 실시하였다. 이 후, 60 ℃ 에서 8 시간 반응시켰다. 얻어진 반응 용액을 메탄올 300 ㎖ 에 적하하고, 얻어진 침전물을 여과, 메탄올 세정, 및 감압 건조시키고, 분말상의 폴리머 P1 을 얻었다 (수량 12.67 g, 수율 80 %). 폴리머 P1 의 조성비는, 모노머 MA1:모노머 MA2 = 40:60 이었다. 또, 폴리머 P1 의 Mn 은 16,000, Mw/Mn 은 1.75 였다.6.64 g of the monomer MA1 and 9.19 g of the monomer MA2 were dissolved in 146.42 g of tetrahydrofuran (THF) and deaerated by a diaphragm pump, and then 0.82 g of 2,2'-azobisisobutyronitrile (AIBN) was added , And then degassed again. Thereafter, the reaction was carried out at 60 DEG C for 8 hours. The resulting reaction solution was added dropwise to 300 ml of methanol, and the resulting precipitate was filtered, washed with methanol, and dried under reduced pressure to obtain polymer P1 in the form of powder (yield: 12.67 g, yield: 80%). The composition ratio of the polymer P1 was monomer MA1: monomer MA2 = 40: 60. The polymer P1 had Mn of 16,000 and Mw / Mn of 1.75.

[합성예 2-2] 폴리머 P2 의 합성[Synthesis Example 2-2] Synthesis of polymer P2

원료로서, 모노머 MA1 1.66 g 및 모노머 MA3 2.06 g 을 사용한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일한 방법으로 분말상의 폴리머 P2 를 얻었다. 폴리머 P2 의 조성비는, 모노머 MA1:모노머 MA3 = 50:50 이었다. 또, 폴리머 P2 의 Mn 은 27,000, Mw/Mn 는 2.25 였다.A powdered polymer P2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that 1.66 g of the monomer MA1 and 2.06 g of the monomer MA3 were used as the raw materials. The composition ratio of the polymer P2 was monomer MA1: monomer MA3 = 50:50. The Mn of the polymer P2 was 27,000 and the Mw / Mn was 2.25.

[합성예 2-3] 폴리머 P3 의 합성[Synthesis Example 2-3] Synthesis of polymer P3

냉각관을 구비한 플라스크에, 모노머 MA4 2.16 g (4.8 m㏖), 모노머 MA5 1.80 g (3.6 m㏖), n-도데실아크릴레이트 0.84 g (3.6 m㏖), N-메틸-2-피롤리돈 (NMP) 48.0 g, 및 AIBN 0.10 g 을 투입하고, 플라스크 내를 질소 치환한 후, 60 ℃ 에서 20 시간 교반하여 반응시켰다. 얻어진 반응 용액을 400 ㎖ 의 메탄올에 투입하고, 백색 분말을 침전시켰다. 이 백색 분말을 여과한 후, 실온에서 진공 건조를 실시하고, 하기 식으로 나타내는 폴리머 P3 을 얻었다 (수량 3.60 g, 수율 75 %). 폴리머 P3 의 Mn 은 13,258, Mw/Mn 은 2.0 이었다.To a flask equipped with a condenser tube were added 2.16 g (4.8 mmol) of monomer MA4, 1.80 g (3.6 mmol) of monomer MA5, 0.84 g (3.6 mmol) of n-dodecyl acrylate, 48.0 g of N-methylpyrrolidone (NMP), and 0.10 g of AIBN were charged, the inside of the flask was purged with nitrogen, and the mixture was reacted at 60 ° C for 20 hours with stirring. The resulting reaction solution was poured into 400 ml of methanol, and a white powder was precipitated. The white powder was filtered and vacuum-dried at room temperature to obtain a polymer P3 represented by the following formula (yield: 3.60 g, yield: 75%). The polymer P3 had an Mn of 13,258 and an Mw / Mn of 2.0.

[화학식 30] (30)

Figure pct00030
Figure pct00030

[합성예 2-4] 폴리머 P4 의 합성[Synthesis Example 2-4] Synthesis of polymer P4

냉각관을 구비한 플라스크에, 모노머 MA4 1.80 g (4 m㏖), 모노머 MA5 1.50 g (3 m㏖), n-도데실아크릴레이트 0.48 g (2 m㏖), 푸르푸릴메타크릴레이트 (토쿄 화성 공업 (주)) 0.17 g (1 m㏖), NMP 40.0 g, 및 AIBN 0.085 g 을 투입하고, 플라스크 내를 질소 치환한 후, 60 ℃ 에서 20 시간 교반하여 반응시켰다. 얻어진 반응 용액을 400 ㎖ 의 메탄올에 투입하고, 백색 분말을 침전시켰다. 이 백색 분말을 여과한 후, 실온에서 진공 건조를 실시하고, 하기 식으로 나타내는 폴리머 P4 를 얻었다 (수량 2.80 g, 수율 71 %). 폴리머 P4 의 Mn 은 12,000, Mw/Mn 는 2.00 이었다.To a flask equipped with a cooling tube were added 1.80 g (4 mmol) of monomer MA4, 1.50 g (3 mmol) of monomer MA5, 0.48 g (2 mmol) of n-dodecyl acrylate, (1 mmol), NMP (40.0 g) and AIBN (0.085 g) were charged, and the inside of the flask was purged with nitrogen. The mixture was reacted at 60 ° C for 20 hours with stirring. The resulting reaction solution was poured into 400 ml of methanol, and a white powder was precipitated. This white powder was filtered and vacuum-dried at room temperature to obtain polymer P4 represented by the following formula (yield: 2.80 g, yield: 71%). The polymer P4 had Mn of 12,000 and Mw / Mn of 2.00.

[화학식 31] (31)

Figure pct00031
Figure pct00031

[3] 위상차막 형성용 조성물의 조제[3] Preparation of composition for forming retardation film

[조제예 1] 위상차막 형성용 조성물 C1 의 조제[Preparation Example 1] Preparation of composition C1 for forming retardation film

NMP 7.5 g 에, 폴리머 P1 1.5 g 을 첨가하고, 실온에서 1 시간 교반하여 용해시켰다. 이 용액에, 부틸셀로솔브(BC) 1.0 g 을 첨가하고, 교반하고, 위상차막 형성용 조성물 C1 을 얻었다.To 7.5 g of NMP, 1.5 g of polymer P1 was added and dissolved by stirring at room temperature for 1 hour. To this solution, 1.0 g of butyl cellosolve (BC) was added and stirred to obtain a retardation film-forming composition C1.

[조제예 2] 위상차막 형성용 조성물 C2 의 조제[Preparation Example 2] Preparation of Composition C2 for forming retardation film

프로필렌글리콜모노메틸에테르 (PGME) 3.2 g 에, 폴리머 P2 1.0 g 을 첨가하고, 실온에서 1 시간 교반하여 용해시켰다. 이 용액에, 시클로헥사논 (CHN) 1.4 g 을 첨가하고, 교반하고, 위상차막 형성용 조성물 C2 를 얻었다.To 3.2 g of propylene glycol monomethyl ether (PGME), 1.0 g of polymer P2 was added and dissolved by stirring at room temperature for 1 hour. To this solution, 1.4 g of cyclohexanone (CHN) was added and stirred to obtain a retardation film-forming composition C2.

[조제예 3] 위상차막 형성용 조성물 C3 의 조제[Preparation Example 3] Preparation of composition C3 for retardation film formation

톨루엔 5.0 g 에, 폴리머 P3 1.0 g 을 첨가하고, 실온에서 1 시간 교반하여 용해시켰다. 이 용액에, CHN 2.3 g 을 첨가하고, 교반하고, 위상차막 형성용 조성물 C3 을 얻었다.To 5.0 g of toluene, 1.0 g of polymer P3 was added and dissolved by stirring at room temperature for 1 hour. To this solution, 2.3 g of CHN was added and stirred to obtain a composition C3 for retardation film formation.

[조제예 4] 위상차막 형성용 조성물 C4 의 조제[Preparation Example 4] Preparation of composition C4 for retardation film formation

톨루엔 5.0 g 에, 폴리머 P4 1.0 g 을 첨가하고, 실온에서 1 시간 교반하여 용해시켰다. 이 용액에, CHN 2.3 g 을 첨가하고, 교반하고, 위상차막 형성용 조성물 C4 를 얻었다.To 5.0 g of toluene, 1.0 g of polymer P4 was added and dissolved by stirring at room temperature for 1 hour. To this solution, 2.3 g of CHN was added and stirred to obtain a retardation film-forming composition C4.

[4] 수증기 배리어성의 평가[4] Evaluation of water vapor barrier property

[실시예 1-1][Example 1-1]

위상차막 형성용 조성물 C1 을, 기재인 두께 80 ㎛ 의 아세테이트 필름 (HOLBEIN ART MATERIALS 사 제조) 에 스핀 코트하고, 70 ℃ 의 핫 플레이트로 3 분간 건조시키고, 막두께 1,000 ㎚ 의 폴리머 층을 형성하였다. 이어서, 도막면에 편광판을 통해서 313 ㎚ 의 자외선을 10 mJ/㎠ 조사한 후에, 140 ℃ 의 핫 플레이트로 10 분간 가열하고, 막두께 1,000 ㎚ 의 수증기 배리어성 위상차막이 부착된 필름 F1 을 제조하였다.The composition C1 for forming a retardation film was spin-coated on an acetate film (manufactured by HOLBEIN ART MATERIALS) having a thickness of 80 mu m as a substrate and dried with a hot plate at 70 DEG C for 3 minutes to form a polymer layer having a thickness of 1,000 nm. Subsequently, the coating film surface was irradiated with ultraviolet rays of 313 nm through a polarizing plate at 10 mJ / cm 2, and then heated on a hot plate at 140 캜 for 10 minutes to produce a film F1 having a water vapor-barrier retardation film with a film thickness of 1,000 nm.

얻어진 수증기 배리어성 위상차막이 부착된 필름을 사용하여, JIS Z 0208 「방습 포장 재료의 투습도 시험 방법 (컵법)」 의 여러 조건에 준하여, 다음의 수법으로 수증기 배리어성을 평가하였다.Using the resulting film having the vapor-barrier retardation film, the water vapor barrier property was evaluated by the following technique in accordance with various conditions of JIS Z 0208 " Water vapor permeability test method (cup method) of moisture-proof packaging material ".

투습 면적 28.27 ㎠ 인 정육각형형의 도막 필름을 사용하고, 나사 조임 타입의 투습 컵에 흡습제로서 염화칼슘 약 20 g 을 봉입하고, 1 시간 이상 간격의 칭량 조작을 반복하고, 컵의 질량 증가로부터 수증기 투과율을 산출하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.Using a square film having a wetting area of 28.27 cm 2, about 20 g of calcium chloride was sealed as a moisture absorbent in a screw-tight type moisture-permeable cup, and the weighing operation was repeated at intervals of 1 hour or more. Respectively. The results are shown in Table 1.

수증기 투과율 [g/㎡·day] = (m/s)/tWater vapor permeability [g / m 2 · day] = (m / s) / t

m:일정 칭량 간격에 있어서의 증가 질량 (g) m: increasing mass in constant weighing interval (g)

s:투습 면적 (㎡)s: permeable area (㎡)

t:일정량 간격 시간 (h)/24 (h) t: constant interval time (h) / 24 (h)

[실시예 1-2][Example 1-2]

위상차막 형성용 조성물 C1 대신에 위상차막 형성용 조성물 C2 를 사용하고, 313 ㎚ 의 자외선 조사를 4 mJ/㎠ 로 한 것 이외에는, 실시예 1-1 과 동일한 방법으로, 수증기 배리어성 위상차막이 부착된 필름 F2-1 을 제조하고, 수증기 배리어성을 평가하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.Except that the retardation film-forming composition C2 was used in place of the retardation film-forming composition C1 and the ultraviolet ray irradiation at 313 nm was changed to 4 mJ / cm2, a retardation film having a vapor- Film F2-1 was prepared and evaluated for water vapor barrier properties. The results are shown in Table 1.

[실시예 1-3][Example 1-3]

위상차막 형성용 조성물 C1 대신에 위상차막 형성용 조성물 C2 를 사용하고, 313 ㎚ 의 자외선 조사를 7 mJ/㎠ 로 한 것 이외에는, 실시예 1-1 과 동일한 방법으로, 수증기 배리어성 위상차막이 부착된 필름 F2-2 를 제조하고, 수증기 배리어성을 평가하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.Except that the retardation film-forming composition C2 was used in place of the retardation film-forming composition C1 and the ultraviolet ray irradiation at 313 nm was changed to 7 mJ / cm2, a retardation film having a vapor- Film F2-2 was prepared and evaluated for water vapor barrier properties. The results are shown in Table 1.

[실시예 1-4][Example 1-4]

위상차막 형성용 조성물 C1 대신에 위상차막 형성용 조성물 C2 를 사용한 것 이외에는, 실시예 1-1 과 동일한 방법으로, 수증기 배리어성 위상차막이 부착된 필름 F2-3 을 제조하고, 수증기 배리어성을 평가하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.A film F2-3 having a water vapor-barrier retardation film adhered was produced in the same manner as in Example 1-1 except that the retardation film-forming composition C2 was used in place of the retardation film-forming composition C1 to evaluate the water vapor barrier property . The results are shown in Table 1.

[실시예 1-5][Example 1-5]

위상차막 형성용 조성물 C1 대신에 위상차막 형성용 조성물 C3 을 사용하고, 313 ㎚ 의 자외선 조사를 100 mJ/㎠ 로 한 것 이외에는, 실시예 1-1 과 동일한 방법으로, 수증기 배리어성 위상차막이 부착된 필름 F3 을 제조하고, 수증기 배리어성을 평가하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.Except that the retardation film forming composition C3 was used in place of the retardation film forming composition C1 and the ultraviolet ray irradiation at 313 nm was changed to 100 mJ / cm2, a retardation film having a vapor- Film F3 was prepared and evaluated for water vapor barrier properties. The results are shown in Table 1.

[실시예 1-6][Example 1-6]

위상차막 형성용 조성물 C1 대신에 위상차막 형성용 조성물 C4 를 사용하고, 313 ㎚ 의 자외선 조사를 100 mJ/㎠ 로 한 것 이외에는, 실시예 1-1 과 동일한 방법으로, 수증기 배리어성 위상차막이 부착된 필름 F4 를 제조하고, 수증기 배리어성을 평가하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.Except that the retardation film-forming composition C4 was used in place of the retardation film-forming composition C1 and the ultraviolet ray irradiation at 313 nm was changed to 100 mJ / cm2, the retardation film having the vapor- Film F4 was prepared and evaluated for water vapor barrier properties. The results are shown in Table 1.

[비교예 1-1][Comparative Example 1-1]

자외선의 조사를 실시하지 않았던 것 이외에는, 실시예 1-1 과 동일한 방법으로, 필름 F1' 를 제조하고, 수증기 배리어성을 평가하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.A film F1 'was produced in the same manner as in Example 1-1 except that irradiation with ultraviolet light was not performed, and the vapor barrier property was evaluated. The results are shown in Table 1.

[비교예 1-2][Comparative Example 1-2]

자외선의 조사를 실시하지 않았던 것 이외에는, 실시예 1-4 와 동일한 방법으로, 필름 F2' 를 제조하고, 수증기 배리어성을 평가하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.A film F2 'was produced in the same manner as in Example 1-4 except that the ultraviolet ray irradiation was not performed, and the vapor barrier property was evaluated. The results are shown in Table 1.

[비교예 1-3][Comparative Example 1-3]

자외선의 조사를 실시하지 않았던 것 이외에는, 실시예 1-5 와 동일한 방법으로, 필름 F3' 를 제조하고, 수증기 배리어성을 평가하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.A film F3 'was produced in the same manner as in Example 1-5 except that irradiation with ultraviolet light was not performed, and the vapor barrier property was evaluated. The results are shown in Table 1.

[비교예 1-4][Comparative Example 1-4]

자외선의 조사를 실시하지 않았던 것 이외에는, 실시예 1-6 과 동일한 방법으로, 필름 F4' 를 제조하고, 수증기 배리어성을 평가하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.A film F4 'was produced in the same manner as in Example 1-6 except that the ultraviolet ray irradiation was not performed, and the vapor barrier property was evaluated. The results are shown in Table 1.

결과를 표 1 에 나타낸다. 또, 위상차막을 형성하지 않았을 때의 수증기 투과율을 참고로서 표 1 에 아울러 나타낸다.The results are shown in Table 1. The vapor transmissivity when the retardation film is not formed is also shown in Table 1 as a reference.

Figure pct00032
Figure pct00032

[5] 위상차 값의 평가[5] Evaluation of phase difference value

[실시예 2-1][Example 2-1]

위상차막 형성용 조성물 C1 을, 세로 40 ㎜ × 가로 30 ㎜ × 두께 0.7 ㎜ 로 ITO 막이 형성된 유리 기판에 스핀 코트하고, 70 ℃ 의 핫 플레이트로 3 분간 건조시키고, 막두께 1,000 ㎚ 의 폴리머 층을 형성하였다. 이어서, 도막면에 편광판을 통해서 313 ㎚ 의 자외선을 10 mJ/㎠ 조사한 후에, 140 ℃ 의 핫 플레이트로 10 분간 가열하고, 막두께 1,000 ㎚ 의 위상차막이 부착된 유리 기판 G1 을 얻었다.The retardation film-forming composition C1 was spin-coated on a glass substrate having an ITO film of 40 mm length x 30 mm width x 0.7 mm thickness and dried for 3 minutes on a hot plate at 70 DEG C to form a polymer layer having a thickness of 1,000 nm Respectively. Subsequently, the coated film surface was irradiated with ultraviolet rays of 313 nm through a polarizing plate at 10 mJ / cm 2, and then heated on a hot plate at 140 캜 for 10 minutes to obtain a glass substrate G 1 having a retardation film with a thickness of 1,000 nm.

얻어진 위상차막이 부착된 유리 기판에 대해서, 뮐러 매트릭스·폴라리미터 (Axometrics 사 제조, 제품명 Axoscan) 를 사용하여 위상차 값을 평가하였다. 또한, 측정 파장은 550 ㎚, 측정 온도는 23 ℃ 였다. 결과를 표 2 에 나타낸다.For the glass substrate having the retardation film thus obtained, the retardation value was evaluated using a Muller matrix-polar limiter (Axoscans, product name: Axoscan). The measurement wavelength was 550 nm and the measurement temperature was 23 占 폚. The results are shown in Table 2.

[실시예 2-2][Example 2-2]

위상차막 형성용 조성물 C1 대신에 위상차막 형성용 조성물 C2 를 사용하고, 313 ㎚ 의 자외선 조사를 4 mJ/㎠ 로 한 것 이외에는, 실시예 2-1 과 동일한 방법으로, 위상차막이 부착된 유리 기판 G2-1 을 제조하고, 위상차 값을 평가하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다.A glass substrate G2 having a retardation film attached thereto was obtained in the same manner as in Example 2-1 except that the retardation film forming composition C2 was used in place of the retardation film forming composition C1 and the ultraviolet ray irradiation at 313 nm was set to 4 mJ / -1 was prepared, and the retardation value was evaluated. The results are shown in Table 2.

[실시예 2-3][Example 2-3]

위상차막 형성용 조성물 C1 대신에 위상차막 형성용 조성물 C2 를 사용하고, 313 ㎚ 의 자외선 조사를 7 mJ/㎠ 로 한 것 이외에는, 실시예 2-1 과 동일한 방법으로, 위상차막이 부착된 유리 기판 G2-2 를 제조하고, 위상차 값을 평가하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다.A glass substrate G2 having a retardation film attached thereto was obtained in the same manner as in Example 2-1 except that the retardation film forming composition C2 was used in place of the retardation film forming composition C1 and the ultraviolet ray irradiation at 313 nm was changed to 7 mJ / -2 was prepared, and the retardation value was evaluated. The results are shown in Table 2.

[실시예 2-4][Example 2-4]

위상차막 형성용 조성물 C1 대신에 위상차막 형성용 조성물 C2 를 사용한 것 이외에는, 실시예 2-1 과 동일한 방법으로, 위상차막이 부착된 유리 기판 G2-3 을 제조하고, 위상차 값을 평가하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다.A glass substrate G2-3 having a retardation film attached thereto was produced in the same manner as in Example 2-1 except that the retardation film forming composition C2 was used in place of the retardation film forming composition C1 to evaluate the retardation value. The results are shown in Table 2.

[실시예 2-5][Example 2-5]

위상차막 형성용 조성물 C1 대신에 위상차막 형성용 조성물 C3 을 사용하고, 313 ㎚ 의 자외선 조사를 100 mJ/㎠ 로 한 것 이외에는, 실시예 2-1 과 동일한 방법으로, 위상차막이 부착된 유리 기판 G3 을 제조하고, 위상차 값을 평가하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다.A glass substrate G3 having a retardation film attached thereto was obtained in the same manner as in Example 2-1 except that the retardation film forming composition C3 was used in place of the retardation film forming composition C1 and the ultraviolet ray irradiation at 313 nm was changed to 100 mJ / Was prepared, and the retardation value was evaluated. The results are shown in Table 2.

[실시예 2-6][Example 2-6]

위상차막 형성용 조성물 C1 대신에 위상차막 형성용 조성물 C4 를 사용하고, 313 ㎚ 의 자외선 조사를 100 mJ/㎠ 로 한 것 이외에는, 실시예 1-1 과 동일한 방법으로, 위상차막이 부착된 유리 기판 G4 를 제조하고, 위상차 값을 평가하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다.Except that the retardation film forming composition C4 was used in place of the retardation film forming composition C 1 and the ultraviolet ray irradiation at 313 nm was changed to 100 mJ / cm 2. And the retardation value was evaluated. The results are shown in Table 2.

[비교예 2-1][Comparative Example 2-1]

자외선의 조사를 실시하지 않았던 것 이외에는, 실시예 2-1 과 동일한 방법으로, 위상차막이 부착된 유리 기판 G1' 를 제조하고, 위상차 값을 평가하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다.A glass substrate G1 'with a retardation film attached thereto was produced in the same manner as in Example 2-1 except that the irradiation with ultraviolet light was not performed, and the retardation value was evaluated. The results are shown in Table 2.

[비교예 2-2][Comparative Example 2-2]

자외선의 조사를 실시하지 않았던 것 이외에는, 실시예 2-4 와 동일한 방법으로, 위상차막이 부착된 유리 기판 G2' 를 제조하고, 위상차 값을 평가하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다.A glass substrate G2 'having a retardation film attached thereto was produced in the same manner as in Example 2-4, except that the irradiation with ultraviolet light was not performed, and the retardation value was evaluated. The results are shown in Table 2.

[비교예 2-3][Comparative Example 2-3]

자외선의 조사를 실시하지 않았던 것 이외에는, 실시예 2-5 와 동일한 방법으로, 위상차막이 부착된 유리 기판 G3' 를 제조하고, 위상차 값을 평가하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다.A glass substrate G3 'having a retardation film attached thereto was produced in the same manner as in Example 2-5, except that the irradiation with ultraviolet light was not performed, and the retardation value was evaluated. The results are shown in Table 2.

[비교예 2-4][Comparative Example 2-4]

자외선의 조사를 실시하지 않았던 것 이외에는, 실시예 2-6 과 동일한 방법으로, 위상차막이 부착된 유리 기판 G4' 를 제조하고, 위상차 값을 평가하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다.A glass substrate G4 'with a retardation film attached thereto was produced in the same manner as in Example 2-6 except that the irradiation with ultraviolet light was not performed, and the retardation value was evaluated. The results are shown in Table 2.

Figure pct00033
Figure pct00033

표 1 및 표 2 에 나타낸 결과로부터, 본 발명의 위상차막은, 수증기 배리어성이 우수하고, 또한 위상차막으로서 기능할 수 있는 것을 알 수 있었다.From the results shown in Tables 1 and 2, it was found that the retardation film of the present invention is excellent in water vapor barrier property and can also function as a retardation film.

Claims (19)

감광성 측사슬을 갖는 액정성 폴리머를 포함하고, 막두께가 300 ㎚ 를 초과 50,000 ㎚ 이하인, 수증기 배리어성을 갖는 위상차막.A retardation film having a water vapor barrier property, which comprises a liquid crystalline polymer having photosensitive side chains and has a film thickness of more than 300 nm but not more than 50,000 nm. 제 1 항에 있어서,
상기 감광성 측사슬이, 광 가교, 광 이성화 또는 광 프리스 전이를 일으키는 것인, 수증기 배리어성을 갖는 위상차막.
The method according to claim 1,
Wherein the photosensitive side chain causes photo-crosslinking, photoisomerization, or light-free transition.
제 2 항에 있어서,
상기 감광성 측사슬이, 하기 식 (1) ∼ (6) 으로 나타내는 기에서 선택되는 적어도 1 종인, 수증기 배리어성을 갖는 위상차막.
Figure pct00034

(식 중, A1, A2 및 A3 은, 각각 독립적으로, 단결합, -O-, -CH2-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -C(=O)-NH-, -NH-C(=O)-, -CH=CH-C(=O)-O- 또는 -O-C(=O)-CH=CH- 를 나타내고;
T1 은, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬렌기를 나타내고;
T2 는, 단결합, 또는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬렌기를 나타내고;
Y1 은, 페닐기, 나프틸기, 비페닐릴기, 푸라닐기 및 피롤릴기에서 선택되는 1 가의 방향족기, 탄소수 5 ∼ 8 의 1 가의 고리형 지방족 탄화수소기, 또는 이들의 치환기에서 선택되는 2 ∼ 6 의 기가 연결기 A2 를 개재하여 결합하여 이루어지는 기를 나타내고, 이들에 결합하는 수소 원자의 일부가 -COOR0 (R0 은, 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기를 나타낸다.), -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기로 치환되어도 되고;
Y2 는, 페닐렌기, 나프탈렌디일기, 비페닐릴렌기, 푸란디일기 및 피롤디일기에서 선택되는 2 가의 방향족기, 탄소수 5 ∼ 8 의 2 가의 고리형 지방족 탄화수소기, 또는 이들의 치환기에서 선택되는 2 ∼ 6 의 기가 연결기 A2 를 개재하여 결합하여 이루어지는 기를 나타내고, 이들에 결합하는 수소 원자의 일부가 -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기로 치환되어도 되고;
R 은, 하이드록시기 혹은 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기, 또는 Y1 과 동일한 정의를 나타내고;
X 는, 단결합, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -N=N-, -CH=CH-, -C≡C-, -CH=CH-C(=O)-O- 또는 -O-C(=O)-CH=CH- 를 나타내고, X 의 수가 2 이상일 때는, 각 X 는 동일해도 되고 상이해도 되고;
Cou 는, 쿠마린-6-일기 또는 쿠마린-7-일기를 나타내고, 이들에 결합하는 수소 원자의 일부가 -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기로 치환되어도 되고;
Q1 및 Q2 는, 각각 독립적으로, 페닐렌기, 나프탈렌디일기, 비페닐릴렌기, 푸란디일기 및 피롤디일기에서 선택되는 2 가의 방향족기, 탄소수 5 ∼ 8 의 2 가의 고리형 지방족 탄화수소기, 또는 이들의 치환기에서 선택되는 2 ∼ 6 의 기가 연결기 A2 를 개재하여 결합하여 이루어지는 기를 나타내지만, X 가, -CH=CH-CO-O- 또는 -O-CO-CH=CH- 인 경우, -CH=CH- 가 결합하는 측의 Q1 또는 Q2 는 2 가의 방향족기이고, Q1 의 수가 2 이상일 때는, 각 Q1 은 동일해도 되고 상이해도 되고, Q2 의 수가 2 이상일 때는, 각 Q2 는 동일해도 되고 상이해도 되고;
E 는, -C(=O)-O- 또는 -O-C(=O)- 를 나타내고;
W1 및 W2 는, 각각 독립적으로, 페닐렌기, 나프탈렌디일기, 비페닐릴렌기, 푸란디일기, 피롤디일기, 또는 이들의 치환기에서 선택되는 2 ∼ 6 의 기가 연결기 A2 를 개재하여 결합하여 이루어지는 기를 나타내고;
a1 은, 0 또는 1 을 나타내고;
a2 는, 0 ∼ 2 의 정수를 나타내고;
a1 과 a2 가 함께 0 이고, T2 가 단결합일 때는, A1 은 단결합을 나타내고;
a1 이 1 이고, T2 가 단결합일 때는, A2 는 단결합을 나타내고;
b 는, 0 또는 1 을 나타내고;
파선은, 주사슬과의 결합손을 나타낸다.)
3. The method of claim 2,
Wherein the photosensitive side chain is at least one selected from the groups represented by the following formulas (1) to (6).
Figure pct00034

(Wherein, A 1, A 2 and A 3 are, each independently, a single bond, -O-, -CH 2 -, -C (= O) -O-, -OC (= O) -, -C (= O) -NH-, -NH-C (= O) -, -CH = CH-C (= O) -O- or -OC (= O) -CH = CH-;
T 1 represents an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom;
T 2 represents a single bond or an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom;
Y 1 represents a monovalent aromatic group selected from a phenyl group, a naphthyl group, a biphenyl group, a furanyl group and a pyrrolyl group, a monovalent cyclic aliphatic hydrocarbon group having 5 to 8 carbon atoms, group represents a group formed by binding via a linking group a 2, a part of hydrogen atoms bonded to the -COOR 0 these (R 0 represents a hydrogen atom or an alkyl group having a carbon number of 1 ~ 5.), -NO 2 , -CN , -CH = C (CN) 2 , -CH = CH-CN, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms;
Y 2 is selected from a divalent aromatic group selected from a phenylene group, a naphthalenediyl group, a biphenylene group, a furandiyl group and a pyrrodiyl group, a divalent cyclic aliphatic hydrocarbon group having 5 to 8 carbon atoms, represents a group of 2 to 6 groups formed by binding through a linking group is a 2, a part of hydrogen atoms bonded to these -NO 2, -CN, -CH = C (CN) 2, -CH = CH-CN, A halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms;
R represents a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or the same definition as Y 1 ;
X is a single bond, -C (= O) -O-, -OC (= O) -, -N = N-, -CH = CH-, -C = C-, O) -O- or -OC (= O) -CH = CH-; when X is 2 or more, each X may be the same or different;
C ou represents a coumarin-6-yl group or a coumarin-7-yl group, and some of the hydrogen atoms bonding to these groups are -NO 2 , -CN, -CH═C (CN) 2 , A halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms;
Q 1 and Q 2 each independently represent a divalent aromatic group selected from a phenylene group, a naphthalenediyl group, a biphenylylene group, a furandiyl group and a pyrrodiyl group, a divalent cyclic aliphatic hydrocarbon group having 5 to 8 carbon atoms , Or a group formed by bonding 2 to 6 groups selected from these substituents via a linking group A 2 , but when X is -CH = CH-CO-O- or -O-CO-CH = CH- , Q 1 or Q 2 on the side bonded to -CH = CH- is a divalent aromatic group, and when Q 1 is 2 or more, each Q 1 may be the same or different, and when the number of Q 2 is 2 or more, Each Q < 2 > may be the same or different;
E represents -C (= O) -O- or -OC (= O) -;
W 1 and W 2 each independently represent a group selected from the group consisting of a phenylene group, a naphthalenediyl group, a biphenylene group, a furandiyl group, a pyrrodiyl group, or a group having 2 to 6 substituents selected therefrom via a linking group A 2 ≪ / RTI >
a1 represents 0 or 1;
a2 represents an integer of 0 to 2;
When a1 and a2 are both 0 and T 2 is a single bond, A 1 represents a single bond;
and a1 is 1, T 2, when the unity sum, A 2 denotes a single bond;
b represents 0 or 1;
The dashed line represents the bonding hand with the main chain.)
제 3 항에 있어서,
상기 감광성 측사슬이, 하기 식 (7) ∼ (10) 으로 나타내는 기에서 선택되는, 수증기 배리어성을 갖는 위상차막.
Figure pct00035

(식 중, A1, A2, A3, Y1, Y2, R, X 및 파선은, 상기와 동일하지만, n 이 0 일 때, A2 는 단결합이고;
R1 은, -NO2, -CN, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기를 나타내고;
c 는, 1 ∼ 12 의 정수를 나타내고;
m 은, 0 ∼ 2 의 정수를 나타내고;
m1 및 m2 는, 각각 독립적으로, 1 ∼ 3 의 정수를 나타내고;
d 는, 0 ∼ 4 의 정수를 나타내고;
n 은, 0 ∼ 12 의 정수를 나타낸다.)
The method of claim 3,
Wherein the photosensitive side chain is selected from groups represented by the following formulas (7) to (10).
Figure pct00035

(Wherein A 1 , A 2 , A 3 , Y 1 , Y 2 , R, X and the broken line are the same as above, but when n is 0, A 2 is a single bond;
R 1 represents -NO 2, -CN, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms;
c represents an integer of 1 to 12;
m represents an integer of 0 to 2;
m1 and m2 each independently represent an integer of 1 to 3;
d represents an integer of 0 to 4;
and n represents an integer of 0 to 12.)
제 3 항에 있어서,
상기 감광성 측사슬이, 하기 식 (11) ∼ (13) 으로 나타내는 기에서 선택되는, 수증기 배리어성을 갖는 위상차막.
Figure pct00036

(식 중, A1, X, R 및 파선은, 상기와 동일하고;
R1 은, -NO2, -CN, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기를 나타내고;
c 는, 1 ∼ 12 의 정수를 나타내고;
d 는, 0 ∼ 4 의 정수를 나타내고;
e 는, 0 ∼ 6 의 정수를 나타내고;
m 은, 0 ∼ 2 의 정수를 나타내고;
m1 은, 1 ∼ 3 의 정수를 나타낸다.)
The method of claim 3,
Wherein the photosensitive side chain is selected from groups represented by the following formulas (11) to (13).
Figure pct00036

(Wherein A 1 , X, R and the broken line are the same as above;
R 1 represents -NO 2 , -CN, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms;
c represents an integer of 1 to 12;
d represents an integer of 0 to 4;
e represents an integer of 0 to 6;
m represents an integer of 0 to 2;
and m1 represents an integer of 1 to 3.)
제 3 항에 있어서,
상기 감광성 측사슬이, 하기 식 (14) 또는 (15) 로 나타내는 기인, 수증기 배리어성을 갖는 위상차막.
Figure pct00037

(식 중, A1, Y1 및 파선은, 상기와 동일하고;
R1 은, -NO2, -CN, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기를 나타내고;
c 는, 1 ∼ 12 의 정수를 나타내고,
d 는, 0 ∼ 4 의 정수를 나타내고;
m1 및 m2 는, 각각 독립적으로, 1 ∼ 3 의 정수를 나타낸다.)
The method of claim 3,
The retardation film having water vapor barrier property, wherein the photosensitive side chain is a group represented by the following formula (14) or (15).
Figure pct00037

(Wherein A 1 , Y 1 and the broken line are the same as above;
R 1 represents -NO 2 , -CN, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms;
c represents an integer of 1 to 12,
d represents an integer of 0 to 4;
m1 and m2 each independently represent an integer of 1 to 3.)
제 3 항에 있어서,
상기 감광성 측사슬이, 하기 식 (16) 또는 (17) 로 나타내는 기인, 수증기 배리어성을 갖는 위상차막.
Figure pct00038

(식 중, A1, X 및 파선은, 상기와 동일하고;
R1 은, -NO2, -CN, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기를 나타내고;
d 는, 0 ∼ 4 의 정수를 나타내고;
f 는, 0 ∼ 5 의 정수를 나타내고;
c 는, 1 ∼ 12 의 정수를 나타내고;
m 은, 0 ∼ 2 의 정수를 나타낸다.)
The method of claim 3,
The retardation film having water vapor barrier property, wherein the photosensitive side chain is a group represented by the following formula (16) or (17).
Figure pct00038

(Wherein A 1 , X and the broken line are the same as above;
R 1 represents -NO 2 , -CN, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms;
d represents an integer of 0 to 4;
f represents an integer of 0 to 5;
c represents an integer of 1 to 12;
and m represents an integer of 0 to 2.)
제 3 항에 있어서,
상기 감광성 측사슬이, 하기 식 (18) 또는 (19) 로 나타내는 기인, 수증기 배리어성을 갖는 위상차막.
Figure pct00039

(식 중, A1, A2, E, Y1 및 파선은, 상기와 동일하고;
R1 은, -NO2, -CN, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기를 나타내고;
c 는, 1 ∼ 12 의 정수를 나타내고;
d 는, 0 ∼ 4 의 정수를 나타내고;
g 는, 0 ∼ 5 의 정수를 나타내고;
m1 및 m2 는, 각각 독립적으로, 1 ∼ 3 의 정수를 나타낸다.)
The method of claim 3,
The retardation film having water vapor barrier property, wherein the photosensitive side chain is a group represented by the following formula (18) or (19).
Figure pct00039

(Wherein A 1 , A 2 , E, Y 1 and the broken line are the same as above;
R 1 represents -NO 2 , -CN, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms;
c represents an integer of 1 to 12;
d represents an integer of 0 to 4;
g represents an integer of 0 to 5;
m1 and m2 each independently represent an integer of 1 to 3.)
제 3 항에 있어서,
상기 감광성 측사슬이, 하기 식 (20) 으로 나타내는 기인, 수증기 배리어성을 갖는 위상차막.
Figure pct00040

(식 중, A1, X, Y1 및 파선은, 상기와 동일하고;
R1 은, -NO2, -CN, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기를 나타내고;
c 는 1 ∼ 12 의 정수를 나타내고;d 는, 0 ∼ 4 의 정수를 나타내고;
m 은, 0 ∼ 2 의 정수를 나타낸다.)
The method of claim 3,
The retardation film having water vapor barrier property, wherein the photosensitive side chain is a group represented by the following formula (20).
Figure pct00040

(Wherein A 1 , X, Y 1 and the broken line are the same as above;
R 1 represents -NO 2 , -CN, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms;
c represents an integer of 1 to 12; d represents an integer of 0 to 4;
and m represents an integer of 0 to 2.)
제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 액정성 폴리머가, 추가로, 하기 식 (21) ∼ (35) 로 나타내는 기에서 선택되는 적어도 1 종의 액정성 측사슬을 포함하는, 수증기 배리어성을 갖는 위상차막.
Figure pct00041

Figure pct00042

(식 중, A1 및 A2 는, 각각 독립적으로, 단결합, -O-, -CH2-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -C(=O)-NH-, -NH-C(=O)-, -CH=CH-C(=O)-O- 또는 -O-C(=O)-CH=CH- 를 나타내고;
E 는, -C(=O)-O- 또는 -O-C(=O)- 를 나타내고;
R1 은, -NO2, -CN, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기를 나타내고;
R2 는, 수소 원자, -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐 원자, 페닐기, 나프틸기, 비페닐릴기, 푸라닐기, 1 가의 질소 함유 복소 고리 함유기, 탄소수 5 ∼ 8 의 고리형 지방족 탄화수소기, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 12 의 알콕시기를 나타내고;
Y3 은, 페닐기, 나프틸기, 비페닐릴기, 푸라닐기, 1 가의 질소 함유 복소 고리 함유기, 탄소수 5 ∼ 8 의 고리형 지방족 탄화수소기, 또는 이들의 치환기에서 선택되는 2 ∼ 6 의 기가 연결기 A2 를 개재하여 결합하여 이루어지는 기를 나타내고, 이들에 결합하는 수소 원자의 일부가 -NO2, -CN, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기로 치환되어도 되고;
Z1 및 Z2 는, 각각 독립적으로, 단결합, -C(=O)-, -CH2O-, -CH=N- 또는 -CF2- 를 나타내고;
c 는, 1 ∼ 12 의 정수를 나타내고;
d 는, 0 ∼ 4 의 정수를 나타내고;
e 는, 0 ∼ 6 의 정수를 나타내고;
h 는, 0 ∼ 5 의 정수를 나타내고;
k 는, 각각 독립적으로, 0 ∼ 2 의 정수를 나타내지만, 식 (25) 및 (26) 에 있어서, 모든 k 의 합계는 2 이상이고;
m1 및 m2 는, 각각 독립적으로, 1 ∼ 3 의 정수를 나타내고;
m3 은, 1 ∼ 3 의 정수를 나타낸다.)
10. The method according to any one of claims 1 to 9,
Wherein the liquid crystalline polymer further comprises at least one liquid crystalline side chain selected from the groups represented by the following formulas (21) to (35).
Figure pct00041

Figure pct00042

(Wherein, A 1 and A 2 are, each independently, a single bond, -O-, -CH 2 -, -C (= O) -O-, -OC (= O) -, -C (= O ) -NH-, -NH-C (= O) -, -CH = CH-C (= O) -O- or -OC (= O) -CH = CH-;
E represents -C (= O) -O- or -OC (= O) -;
R 1 represents -NO 2 , -CN, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms;
R 2 represents a hydrogen atom, -NO 2 , -CN, -CH═C (CN) 2 , -CH═CH-CN, a halogen atom, a phenyl group, a naphthyl group, a biphenyl group, a furanyl group, A ring-containing group, a cyclic aliphatic hydrocarbon group having 5 to 8 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms;
Y 3 represents a group selected from the group consisting of a phenyl group, a naphthyl group, a biphenyl group, a furanyl group, a monovalent nitrogen-containing heterocyclic group, a cyclic aliphatic hydrocarbon group having 5 to 8 carbon atoms, 2 , and a part of the hydrogen atoms bonded to these may be replaced by -NO 2 , -CN, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms;
Z 1 and Z 2 each independently represent a single bond, -C (= O) -, -CH 2 O-, -CH = N- or -CF 2 -;
c represents an integer of 1 to 12;
d represents an integer of 0 to 4;
e represents an integer of 0 to 6;
h represents an integer of 0 to 5;
k represents, independently of each other, an integer of 0 to 2, in the formulas (25) and (26), the sum of all k is 2 or more;
m1 and m2 each independently represent an integer of 1 to 3;
and m3 represents an integer of 1 to 3.)
제 10 항에 있어서,
상기 액정성 폴리머가, 하기 식 (A) 로 나타내는 반복 단위 및 하기 식 (B) 로 나타내는 반복 단위를 포함하는 것인, 수증기 배리어성을 갖는 위상차막.
Figure pct00043

(식 중, RA 는, 식 (1) ∼ (6) 으로 나타내는 기에서 선택되는 적어도 1 종이고, RB 는, 식 (21) ∼ (31) 로 나타내는 기에서 선택되는 적어도 1 종이고, MA 및 MB 는, 각각 독립적으로, 중합성기에서 유래하는 기를 나타낸다.)
11. The method of claim 10,
Wherein the liquid crystalline polymer comprises a repeating unit represented by the following formula (A) and a repeating unit represented by the following formula (B).
Figure pct00043

(Wherein R A is at least one species selected from the groups represented by the formulas (1) to (6) and R B is at least one species selected from the groups represented by the formulas (21) to (31) M A and M B each independently represent a group derived from a polymerizable group.)
제 11 항에 있어서,
상기 중합성기에서 유래하는 기가, 하기 식으로 나타내는 기에서 선택되는 적어도 1 종인, 수증기 배리어성을 갖는 위상차막.
Figure pct00044

(식 중, RC 는, 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 3 의 알킬기, 카르복실기 또는 카르복실메틸기를 나타내고, RD 는, 단결합, -C(=O)-O-, -C(=O)-NH- 또는 페닐렌기를 나타내고, RE 는, 하이드록시기, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기 혹은 알콕시기, 또는 페닐기를 나타내고, 파선은, RA 또는 RB 와의 결합손을 나타낸다.)
12. The method of claim 11,
Wherein the group derived from the polymerizable group is at least one selected from groups represented by the following formulas.
Figure pct00044

(Wherein, R C is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a carboxyl group or represents a carboxylic group, R D is a single bond, -C (= O) -O-, -C (= O) - NH- or phenylene group, R E represents a hydroxyl group, an alkyl group or an alkoxy group of 1 to 10 carbon atoms, or a phenyl group, and the broken line represents a bond with R A or R B )
제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 액정성 폴리머가 액정성을 발현하는 온도 범위가, 50 ∼ 300 ℃ 인, 수증기 배리어성을 갖는 위상차막.
13. The method according to any one of claims 1 to 12,
Wherein the liquid crystalline polymer exhibits liquid crystallinity at a temperature in the range of 50 to 300 占 폚.
제 1 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 기재된 위상차막을 구비하는 유기 일렉트로 루미네선스 디스플레이.An organic electroluminescence display comprising the retardation film according to any one of claims 1 to 13. 감광성 측사슬을 갖는 액정성 폴리머를 포함하는 수지 성분과 유기 용매를 포함하는 위상차막 형성용 조성물을 기재에 도포하여, 막두께가 300 ㎚ 를 초과 50,000 ㎚ 이하인 도막을 형성하는 공정,
상기 도막에 편광 자외선을 조사하는 공정, 및
상기 편광 자외선을 조사한 막을 가열하고, 막두께가 300 ㎚ 를 초과 50,000 ㎚ 이하인 막을 얻는 공정
을 포함하는 수증기 배리어성을 갖는 위상차막의 제조 방법.
A step of applying a composition for forming a retardation film including a resin component containing a liquid crystalline polymer having photosensitive side chains and an organic solvent to a substrate to form a coating film having a film thickness of more than 300 nm but not more than 50,000 nm,
A step of irradiating the coating film with polarized ultraviolet light, and
A step of heating the film irradiated with the polarized ultraviolet rays to obtain a film having a film thickness of more than 300 nm but not more than 50,000 nm
Wherein the film has a water vapor barrier property.
제 15 항에 있어서,
상기 감광성 측사슬이, 광 가교, 광 이성화 또는 광 프리스 전이를 일으키는 것인, 수증기 배리어성을 갖는 위상차막의 제조 방법.
16. The method of claim 15,
Wherein the photosensitive side chain causes photo-crosslinking, photoisomerization, or light-free transition.
제 16 항에 있어서,
상기 감광성 측사슬이, 하기 식 (1) ∼ (6) 으로 나타내는 기에서 선택되는 적어도 1 종인, 수증기 배리어성을 갖는 위상차막의 제조 방법.
Figure pct00045

(식 중, A1, A2 및 A3 은, 각각 독립적으로, 단결합, -O-, -CH2-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -C(=O)-NH-, -NH-C(=O)-, -CH=CH-C(=O)-O- 또는 -O-C(=O)-CH=CH- 를 나타내고;
T1 은, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬렌기를 나타내고;
T2 는, 단결합, 또는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬렌기를 나타내고;
Y1 은, 페닐기, 나프틸기, 비페닐릴기, 푸라닐기 및 피롤릴기에서 선택되는 1 가의 방향족기, 탄소수 5 ∼ 8 의 1 가의 고리형 지방족 탄화수소기, 또는 이들의 치환기에서 선택되는 2 ∼ 6 의 기가 연결기 A2 를 개재하여 결합하여 이루어지는 기를 나타내고, 이들에 결합하는 수소 원자의 일부가 -COOR0 (R0 은, 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기를 나타낸다.), -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기로 치환되어도 되고;
Y2 는, 페닐렌기, 나프탈렌디일기, 비페닐릴렌기, 푸란디일기 및 피롤디일기에서 선택되는 2 가의 방향족기, 탄소수 5 ∼ 8 의 2 가의 고리형 지방족 탄화수소기, 또는 이들의 치환기에서 선택되는 2 ∼ 6 의 기가 연결기 A2 를 개재하여 결합하여 이루어지는 기를 나타내고, 이들에 결합하는 수소 원자의 일부가 -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기로 치환되어도 되고;
R 은, 하이드록시기 혹은 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기, 또는 Y1 과 동일한 정의를 나타내고;
X 는, 단결합, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -N=N-, -CH=CH-, -C≡C-, -CH=CH-C(=O)-O- 또는 -O-C(=O)-CH=CH- 를 나타내고, X 의 수가 2 이상일 때는, 각 X 는 동일해도 되고 상이해도 되고;
Cou 는, 쿠마린-6-일기 또는 쿠마린-7-일기를 나타내고, 이들에 결합하는 수소 원자의 일부가 -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기로 치환되어도 되고;
Q1 및 Q2 는, 각각 독립적으로, 페닐렌기, 나프탈렌디일기, 비페닐릴렌기, 푸란디일기 및 피롤디일기에서 선택되는 2 가의 방향족기, 탄소수 5 ∼ 8 의 2 가의 고리형 지방족 탄화수소기, 또는 이들의 치환기에서 선택되는 2 ∼ 6 의 기가 연결기 A2 를 개재하여 결합하여 이루어지는 기를 나타내지만, X 가, -CH=CH-CO-O- 또는 -O-CO-CH=CH- 인 경우, -CH=CH- 가 결합하는 측의 Q1 또는 Q2 는 2 가의 방향족기이고, Q1 의 수가 2 이상일 때는, 각 Q1 은 동일해도 되고 상이해도 되고, Q2 의 수가 2 이상일 때는, 각 Q2 는 동일해도 되고 상이해도 되고;
E 는, -C(=O)-O- 또는 -O-C(=O)- 를 나타내고;
W1 및 W2 는, 각각 독립적으로, 페닐렌기, 나프탈렌디일기, 비페닐릴렌기, 푸란디일기, 피롤디일기, 또는 이들의 치환기에서 선택되는 2 ∼ 6 의 기가 연결기 A2 를 개재하여 결합하여 이루어지는 기를 나타내고;
a1 은, 0 또는 1 을 나타내고;
a2 는, 0 ∼ 2 의 정수를 나타내고;
a1 과 a2 가 함께 0 이고, T2 가 단결합일 때는, A1 은 단결합을 나타내고;
a1 이 1 이고, T2 가 단결합일 때는, A2 는 단결합을 나타내고;
b 는, 0 또는 1 을 나타내고;
파선은, 주사슬과의 결합손을 나타낸다.)
17. The method of claim 16,
Wherein the photosensitive side chain is at least one selected from the groups represented by the following formulas (1) to (6).
Figure pct00045

(Wherein, A 1, A 2 and A 3 are, each independently, a single bond, -O-, -CH 2 -, -C (= O) -O-, -OC (= O) -, -C (= O) -NH-, -NH-C (= O) -, -CH = CH-C (= O) -O- or -OC (= O) -CH = CH-;
T 1 represents an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom;
T 2 represents a single bond or an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom;
Y 1 represents a monovalent aromatic group selected from a phenyl group, a naphthyl group, a biphenyl group, a furanyl group and a pyrrolyl group, a monovalent cyclic aliphatic hydrocarbon group having 5 to 8 carbon atoms, group represents a group formed by binding via a linking group a 2, a part of hydrogen atoms bonded to the -COOR 0 these (R 0 represents a hydrogen atom or an alkyl group having a carbon number of 1 ~ 5.), -NO 2 , -CN , -CH = C (CN) 2 , -CH = CH-CN, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms;
Y 2 is selected from a divalent aromatic group selected from a phenylene group, a naphthalenediyl group, a biphenylene group, a furandiyl group and a pyrrodiyl group, a divalent cyclic aliphatic hydrocarbon group having 5 to 8 carbon atoms, represents a group of 2 to 6 groups formed by binding through a linking group is a 2, a part of hydrogen atoms bonded to these -NO 2, -CN, -CH = C (CN) 2, -CH = CH-CN, A halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms;
R represents a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or the same definition as Y 1 ;
X is a single bond, -C (= O) -O-, -OC (= O) -, -N = N-, -CH = CH-, -C = C-, O) -O- or -OC (= O) -CH = CH-; when X is 2 or more, each X may be the same or different;
C ou represents a coumarin-6-yl group or a coumarin-7-yl group, and some of the hydrogen atoms bonding to these groups are -NO 2 , -CN, -CH═C (CN) 2 , A halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms;
Q 1 and Q 2 each independently represent a divalent aromatic group selected from a phenylene group, a naphthalenediyl group, a biphenylylene group, a furandiyl group and a pyrrodiyl group, a divalent cyclic aliphatic hydrocarbon group having 5 to 8 carbon atoms , Or a group formed by bonding 2 to 6 groups selected from these substituents via a linking group A 2 , but when X is -CH = CH-CO-O- or -O-CO-CH = CH- , Q 1 or Q 2 on the side bonded to -CH = CH- is a divalent aromatic group, and when Q 1 is 2 or more, each Q 1 may be the same or different, and when the number of Q 2 is 2 or more, Each Q < 2 > may be the same or different;
E represents -C (= O) -O- or -OC (= O) -;
W 1 and W 2 each independently represent a group selected from the group consisting of a phenylene group, a naphthalenediyl group, a biphenylene group, a furandiyl group, a pyrrodiyl group, or a group having 2 to 6 substituents selected therefrom via a linking group A 2 ≪ / RTI >
a1 represents 0 or 1;
a2 represents an integer of 0 to 2;
When a1 and a2 are both 0 and T 2 is a single bond, A 1 represents a single bond;
and a1 is 1, T 2, when the unity sum, A 2 denotes a single bond;
b represents 0 or 1;
The dashed line represents the bonding hand with the main chain.)
제 14 항 내지 제 17 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 액정성 폴리머가, 추가로, 하기 식 (21) ∼ (35) 로 나타내는 기에서 선택되는 적어도 1 종의 액정성 측사슬을 포함하는, 수증기 배리어성을 갖는 위상차막의 제조 방법.
Figure pct00046

Figure pct00047

(식 중, A1 및 A2 는, 각각 독립적으로, 단결합, -O-, -CH2-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -C(=O)-NH-, -NH-C(=O)-, -CH=CH-C(=O)-O- 또는 -O-C(=O)-CH=CH- 를 나타내고;
E 는, -C(=O)-O- 또는 -O-C(=O)- 를 나타내고;
R1 은, -NO2, -CN, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기를 나타내고;
R2 는, 수소 원자, -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐 원자, 페닐기, 나프틸기, 비페닐릴기, 푸라닐기, 1 가의 질소 함유 복소 고리 함유기, 탄소수 5 ∼ 8 의 고리형 지방족 탄화수소기, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 12 의 알콕시기를 나타내고;
Y3 은, 페닐기, 나프틸기, 비페닐릴기, 푸라닐기, 1 가의 질소 함유 복소 고리 함유기, 탄소수 5 ∼ 8 의 고리형 지방족 탄화수소기, 또는 이들의 치환기에서 선택되는 2 ∼ 6 의 기가 연결기 A2 를 개재하여 결합하여 이루어지는 기를 나타내고, 이들에 결합하는 수소 원자의 일부가 -NO2, -CN, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기로 치환되어도 되고;
Z1 및 Z2 는, 각각 독립적으로, 단결합, -C(=O)-, -CH2O-, -CH=N- 또는 -CF2- 를 나타내고;
c 는, 1 ∼ 12 의 정수를 나타내고;
d 는, 0 ∼ 4 의 정수를 나타내고;
e 는, 0 ∼ 6 의 정수를 나타내고;
h 는, 0 ∼ 5 의 정수를 나타내고;
k 는, 각각 독립적으로, 0 ∼ 2 의 정수를 나타내지만, 식 (25) 및 (26) 에 있어서, 모든 k 의 합계는 2 이상이고;
m1 및 m2 는, 각각 독립적으로, 1 ∼ 3 의 정수를 나타내고;
m3 은, 1 ∼ 3 의 정수를 나타낸다.)
18. The method according to any one of claims 14 to 17,
Wherein the liquid crystalline polymer further comprises at least one liquid crystalline side chain selected from the groups represented by the following formulas (21) to (35).
Figure pct00046

Figure pct00047

(Wherein, A 1 and A 2 are, each independently, a single bond, -O-, -CH 2 -, -C (= O) -O-, -OC (= O) -, -C (= O ) -NH-, -NH-C (= O) -, -CH = CH-C (= O) -O- or -OC (= O) -CH = CH-;
E represents -C (= O) -O- or -OC (= O) -;
R 1 represents -NO 2 , -CN, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms;
R 2 represents a hydrogen atom, -NO 2 , -CN, -CH═C (CN) 2 , -CH═CH-CN, a halogen atom, a phenyl group, a naphthyl group, a biphenyl group, a furanyl group, A ring-containing group, a cyclic aliphatic hydrocarbon group having 5 to 8 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms;
Y 3 represents a group selected from the group consisting of a phenyl group, a naphthyl group, a biphenyl group, a furanyl group, a monovalent nitrogen-containing heterocyclic group, a cyclic aliphatic hydrocarbon group having 5 to 8 carbon atoms, 2 , and a part of the hydrogen atoms bonded to these may be replaced by -NO 2 , -CN, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms;
Z 1 and Z 2 each independently represent a single bond, -C (= O) -, -CH 2 O-, -CH = N- or -CF 2 -;
c represents an integer of 1 to 12;
d represents an integer of 0 to 4;
e represents an integer of 0 to 6;
h represents an integer of 0 to 5;
k represents, independently of each other, an integer of 0 to 2, in the formulas (25) and (26), the sum of all k is 2 or more;
m1 and m2 each independently represent an integer of 1 to 3;
and m3 represents an integer of 1 to 3.)
제 14 항 내지 제 18 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 액정성 폴리머가 액정성을 발현하는 온도 범위가, 50 ∼ 300 ℃ 인, 수증기 배리어성을 갖는 위상차막의 제조 방법.
19. The method according to any one of claims 14 to 18,
Wherein the temperature range in which the liquid crystalline polymer exhibits liquid crystallinity is 50 to 300 占 폚.
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