JPWO2014041980A1 - 排ガス処理システム及び排ガス処理方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明の排ガス処理システムでは、多量の排水が系外に放出されないため、排水処理コストを低減することができる。また、水に対して易溶性のハロゲン化カルシウムが硫安及び炭安との反応により溶解度の低いCaSO4やCaCO3となり、固体として回収されるので、処理が容易となる。
そこで本発明の排ガス処理システム及び排ガス処理方法では、脱硫部からの排水から生成したNH4Xを煙道に噴霧するとともに、NH4X生成に必要な量よりも過剰の硫安及び/または炭安を添加する。
湿式脱硫装置16には、過飽和度計測器17が接続される。
循環部18は、第1分離部19、排水貯留部20、アンモニア成分添加部21、及び、供給部26を備える。
供給部26は、水槽27、バルブ36及びポンプ40を備える。供給部26の水槽27は、バルブ36及びポンプ40を介して噴霧部12のハロゲン化アンモニウム水溶液供給管に接続される。
ボイラ1で発生した排ガスには、窒素酸化物(NOx)、硫黄酸化物(SOx)、及び金属水銀(Hg0)が含まれる。ボイラ1から排ガス処理システム10に搬送される排ガスの温度は320〜420℃であり、上記水銀は気体状態で存在する。
噴霧部12は、ボイラ1と脱硝装置13との間の煙道11に、ハロゲン化アンモニウム(NH4X)を含む水溶液を噴霧する。本実施形態で使用可能なハロゲン化アンモニウムは、フッ化アンモニウム(NH4F),塩化アンモニウム(NH4Cl)、臭化アンモニウム(NH4Br)、ヨウ化アンモニウム(NH4I)とされる。煙道11に噴霧されたハロゲン化アンモニウム水溶液は高温の排ガスにより蒸発して、微細なNH4Xの固体粒子が一時的に生成され、式(1)のようにハロゲン化水素とアンモニアとに分解する。
NH4X → NH3+HX …(1)
(X:F,Cl,Br,I)
噴霧部12の二流体ノズルから噴霧される液滴径は、平均1nm〜100μm程度であることが、短時間で液滴の蒸発及び分解を発生させるために好ましい。
生成したNH3及びHXは、排ガスに伴って脱硝装置13に搬送される。脱硝装置13内部の脱硝触媒において、窒素酸化物がNH3により還元される。NOの場合、式(2)の反応式により還元され、N2が生成する。
4NO+4NH3+O2 → 4N2+6H2O …(2)
NO2も同様にして還元されN2が生成する。
Hg+1/2O2+2HX → HgX2+H2O …(3)
湿式脱硫装置16内部にCaCO3あるいはCa(OH)2(CaOが水和して生成)を含む吸収液が噴霧されると、式(4)〜(6)のように硫黄酸化物が反応し、CaSO4が生成する。
Ca(OH)2+SO2+1/2H2O→CaSO3・1/2H2O+H2O…(4)
CaCO3+SO2+1/2H2O → CaSO3・1/2H2O+CO2 …(5)
CaSO3・1/2H2O+1/2O2+3/2H2O
→CaSO4・2H2O …(6)
排ガス中のHgX2は、湿式脱硫装置16内に噴霧される吸収液に吸収されて、排ガス中から除去される。
CaCO3+2HX → CaX2+H2O+CO2 …(7)
(X:F,Cl,Br,I)
第1分離部19は、排水から難溶成分であるCaSO4を固体として分離する。CaSO4は排ガス処理システム10の系外に排出される。可溶成分を含む排水は、排水貯留部20に貯留される。
排水貯留部20に貯留された排水の一部は、ポンプ37により湿式脱硫装置16に戻される。排水の別の一部は、ポンプ38によりアンモニア成分添加部21の水槽23に送給される。
アンモニア成分添加部21において、サイロ22からアンモニウム塩として硫安及び炭安の少なくとも一方が水槽23内の排水に投入される。本実施形態では、硫安及び炭安のいずれか一方を排水に添加しても良いし、両方を添加しても良い。CaSO4分離後の排水に含まれるCaX2は、硫安及び炭安とそれぞれ式(8),(9)のように反応する。MgCl2も式(8),(9)と同様に硫安及び炭安と反応する。
CaX2+(NH4)2SO4 → CaSO4+2NH4X …(8)
CaX2+(NH4)2CO3 → CaCO3+2NH4X …(9)
なお、硫安及び炭安を両方添加する場合、混合比率は適宜設定することが可能である。
制御部32は、上記ハロゲン量に基づいて、バルブ36の開度を制御して水槽23中の排水へのアンモニウム塩の添加量を制御する。このとき、アンモニウム塩が、NH4X生成に必要な量以上に添加される場合がある。具体的な制御工程は後述する。
NH4X,CaSO4,CaCO3、アンモニウム塩を含む排水は、ポンプ39を介してアンモニア成分添加部21から供給部26の第2分離部25に送給される。第2分離部25は、排水からCaSO4及びCaCO3を固体として分離する。CaSO4及びCaCO3は、排ガス処理システム10の系外に排出される。
NH4Xとアンモニウム塩とを含む排水は、水槽27に貯留される。水槽27から所定量のNH4Xとアンモニウム塩とを含む排水が、ポンプ40により上述した噴霧工程のハロゲン化アンモニウム(NH4X)を含む水溶液として噴霧部12に送給される。
(NH4)2SO4 → 2NH3+SO3+H2O …(10)
(NH4)2CO3 → 2NH3+CO2+H2O …(11)
上記反応で発生したNH3は、式(2)のNOx還元反応に供される。なお、発生したSO3は、エアヒータ14と集塵部15との間に熱回収器を設置して凝縮させたり、エアヒータ14または集塵部15上流側にアルカリ薬剤を噴霧したりして、排ガスから除去可能である。
次いで、制御部32は、計測された窒素酸化物濃度とNH4 +濃度とから、式(2)に基づいて窒素酸化物に必要なアンモニア量を取得する。制御部32は、取得したアンモニア量と、式(8)及び式(9)の反応で生成するNH4X量とから、過剰に添加するアンモニウム塩量(添加量B)を取得する。
次いで、制御部32は、添加量A及び添加量Bの和を、サイロ22から投入されるアンモニウム塩の添加量(添加量C)として取得する。制御部32は、添加量Cのアンモニウム塩がサイロ22から水槽23に投入されるように、バルブ35の開度を調整する。
制御部32は、計測された窒素酸化物濃度、ハロゲン濃度、NH4 +濃度及び式(1)〜(3),(8)〜(11)に基づいて、供給部26から噴霧部12に送給されるべきNH4X量、アンモニウム塩量を取得する。NH4X量、アンモニウム塩量の取得工程は、上記と同じである。制御部32は、取得したサイロ22から投入されるアンモニウム塩の添加量(添加量C)に基づいてバルブ35の開度を調整する。
制御部32は、取得した水銀濃度が設定値から変動し窒素酸化物濃度が変動しない場合、バルブ33,34の開度を制御する。
水銀濃度計測部29で計測された水銀濃度が増大した場合、制御部32はバルブ33の開度を低下させ、バルブ34の開度を増大させる。バルブ33及びバルブ34の開度は、計測されたハロゲン濃度及び水銀濃度により設定される。この動作により、アンモニア成分添加部21に供給されるハロゲン量が増大する。
制御部32は、取得した窒素酸化物濃度が設定値より増大し水銀濃度が変動しない場合、バルブ35の開度を増大させる。これにより、水槽23に投入される過剰のアンモニウム塩量が増加する。この場合のアンモニウム塩の添加量(添加量C)は、計測された窒素酸化物濃度、ハロゲン濃度、NH4 +濃度及び式(1)〜(3),(8)〜(11)に基づいて、上記と同様の工程で取得される。制御部32は、添加量Cに基づいて、バルブ35の開度を調整する。
制御部32は、取得した窒素酸化物濃度が設定値より低く水銀濃度が変動しない場合、上述のように、添加量A、添加量B、及び添加量Cを取得する。
2 煙突
10 排ガス処理システム
11 煙道
12 噴霧部
13 脱硝装置
14 エアヒータ
15 集塵部
16 湿式脱硫装置
17 過飽和度計測器
18 循環部
19 第1分離部
20 排水貯留部
21 アンモニア成分添加部
22 サイロ
23,27 水槽
24 pH計
25 第2分離部
26 供給部
28 NOx濃度計測部
29 水銀濃度計測部
30 NH4X濃度計測部
31 ハロゲン濃度計測部
32 制御部
33,34,35,36 バルブ
Claims (9)
- ボイラからの排ガス中に含まれる窒素酸化物及び水銀を除去する排ガス処理システムであって、
前記ボイラから排出された前記排ガスが流通する煙道内に、ハロゲン化アンモニウムを含む水溶液を噴霧する噴霧部と、
前記煙道のガス下流側に設置され、前記窒素酸化物を前記ハロゲン化アンモニウムから生成するアンモニアで還元させるとともに、前記水銀を前記ハロゲン化アンモニウムから生成するハロゲン化水素で酸化させる脱硝触媒を有する脱硝部と、
前記脱硝部のガス下流側に設置され、石灰を含む吸収液を用いて、前記排ガス中に含まれる硫黄酸化物を除去するとともに前記酸化された水銀を前記排ガスから除去する脱硫部と、
前記脱硫部から硫酸カルシウム及びハロゲン化カルシウムを含む排水を受け入れ、前記排水から前記硫酸カルシウムを分離する分離部と、
前記分離部から排出された前記ハロゲン化カルシウムを含む前記排水に、硫安及び炭安の少なくとも一方とされるアンモニウム塩を添加し、前記ハロゲン化アンモニウムを生成させるアンモニア成分添加部と、
前記アンモニア成分添加部から排出された前記ハロゲン化アンモニウムを含む前記排水を、前記水溶液として前記噴霧部に送給する供給部とを備える排ガス処理システム。 - 前記水溶液が、前記アンモニウム塩を含む請求項1に記載の排ガス処理システム。
- 前記噴霧部のガス上流側で前記排ガス中の前記窒素酸化物の濃度を計測する第1濃度計測部と、
前記脱硫部のガス下流側で前記排ガス中の前記水銀の濃度を計測する第2濃度計測部と、
前記供給部から前記噴霧部に送給される前記排水中のハロゲンの濃度である第1ハロゲン濃度及びアンモニウムの濃度を計測する第3濃度計測部と、
前記分離部と前記アンモニア成分添加部との間に設置されるとともに、前記脱硫部に接続され、前記分離部から排出された前記排水を貯留する排水貯留部と、
前記排水貯留部に貯留されている前記排水中のハロゲンの濃度である第2ハロゲン濃度を計測する第4濃度計測部と、
前記第1濃度計測部、前記第2濃度計測部、前記第3濃度計測部、及び、前記第4濃度計測部に接続され、計測された前記窒素酸化物の濃度、前記水銀の濃度、前記アンモニウムの濃度、第1ハロゲン濃度及び、前記第2ハロゲン濃度に基づいて、前記アンモニウムの生成量及び前記ハロゲン化水素の生成量を調整する制御部とを備える請求項1に記載の排ガス処理システム。 - ボイラからの排ガス中に含まれる窒素酸化物及び水銀を除去する排ガス処理方法であって、
前記ボイラから排出された前記排ガスが流通する煙道内に、ハロゲン化アンモニウムを含む水溶液が噴霧される噴霧工程と、
前記ハロゲン化アンモニウムから生成するアンモニアにより前記窒素酸化物が還元されるとともに、前記ハロゲン化アンモニウムから生成するハロゲン化水素により前記水銀が酸化される酸化還元工程と、
石灰を含む吸収液と前記排ガス中に含まれる硫黄酸化物と前記ハロゲン化水素とを反応させて硫酸カルシウム及びハロゲン化カルシウムを生成させるとともに、前記吸収液により前記酸化された水銀が前記排ガスから除去される脱硫工程と、
前記脱硫工程で生成した前記硫酸カルシウム及び前記ハロゲン化カルシウムを含む排水から前記硫酸カルシウムが分離される分離工程と、
前記分離工程で前記硫酸カルシウムが分離された前記排水に硫安及び炭安の少なくとも一方とされるアンモニウム塩が添加され、前記ハロゲン化アンモニウムが生成されるハロゲン化アンモニウム生成工程と、
前記ハロゲン化アンモニウムを含む前記排水が前記水溶液として送給される供給工程とを含む排ガス処理方法。 - 前記水溶液が、前記アンモニウム塩を含む請求項4に記載の排ガス処理方法。
- 前記水溶液が噴霧される前の前記排ガス中の前記窒素酸化物の濃度が計測される第1濃度計測工程と、
前記脱硫工程後の前記排ガス中の前記水銀の濃度が計測される第2濃度計測工程と、
前記供給工程で送給される前記排水中のハロゲンの濃度である第1ハロゲン濃度及びアンモニウムの濃度が計測される第3濃度計測工程と、
前記分離工程で前記硫酸カルシウムが分離された前記排水中のハロゲンの濃度である第2ハロゲン濃度が計測される第4濃度計測工程とを更に備え、
計測された前記窒素酸化物の濃度、前記水銀の濃度、前記アンモニウムの濃度、前記第1ハロゲン濃度、及び、前記第2ハロゲン濃度に基づいて、前記アンモニウムの生成量及び前記ハロゲン化水素の生成量が調整される請求項4に記載の排ガス処理方法。 - 前記窒素酸化物の濃度及び前記水銀の濃度の変化に応じて、前記第1ハロゲン濃度及び前記アンモニウムの濃度に基づいて、前記供給工程における前記水溶液の供給量が増加または減少される請求項6に記載の排ガス処理方法。
- 前記窒素酸化物の濃度及び前記水銀の濃度の変化に応じて、前記アンモニウム塩の添加量が増加または減少される請求項6に記載の排ガス処理方法。
- 前記窒素酸化物の濃度及び前記水銀の濃度の変化に応じて、前記第2ハロゲンの濃度に基づいて、前記分離工程から前記ハロゲン化アンモニウム生成工程への前記排水の供給量が変動される請求項6に記載の排ガス処理方法。
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