JPWO2013157267A1 - アシルグルクロン酸抱合体の製造方法 - Google Patents

アシルグルクロン酸抱合体の製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】 カルボキシ基を有する化合物とグルクロン酸とのエステル化合物であるアシルグルクロン酸抱合体の新規な製造方法を提供する。【解決手段】例えば、カルボン酸に1−クロロ−N,N,2−トリメチルプロペニルアミン(テトラメチルクロロエナミン:TMCE)を反応させた後、得られた化合物と2,3,4−トリ−O−アリルオキシカルボニル−D−グルクロン酸アリルを反応させ、更に脱保護処理を行うことにより、アシルグルクロン酸抱合体を得る。更に、2,3,4−トリ−O−アリルオキシカルボニル−D−グルクロン酸アリルは、1,2,3,4−テトラ−O−アリルオキシカルボニル−D−グルクロン酸アリルをアンモニアもしくはピロリジンなどのアミンと反応させることにより、安価かつ安全に製造できる。【選択図】 なし

Description

カルボキシ基を有する化合物とグルクロン酸とのエステル化合物であるアシルグルクロン酸抱合体を製造する方法に関する。
グルクロン酸抱合体は、薬物の肝臓における主代謝物のひとつである。カルボン酸を有する薬物は、そのカルボキシ基が抱合され、アシルグルクロン酸抱合体が生成される。近年、反応性の高いアシルグルクロン酸抱合体に肝毒性が確認されたことから、カルボキシ基を有する化合物については、そのグルクロン酸抱合体を化学的に製造し、毒性試験等に付す必要性が増している。
しかしながら、一般にアシルグルクロン酸抱合体は、反応の立体制御や位置制御が難しい上に、酸性又は塩基性条件下で不安定であるため、その合成および精製には限られた条件しか使用できず、その製造は困難であるとされていた。実際、アシルグルクロン酸の製造方法として、水酸基無保護のグルクロン酸にカルボン酸誘導体を反応させる方法(特許文献1〜4、非特許文献1、2)や光延反応を利用した方法(特許文献5〜7、非特許文献3〜6)、ハロゲン化糖などの糖の誘導体にカルボン酸誘導体を反応させる方法(特許文献8および9、非特許文献7および8)などが知られているが、その報告例は限られている。
一方、アシルグルクロン酸抱合体の合成前駆体として、グルクロン酸の2位、3位及び4位に結合する水酸基をアリルオキシカルボニル基(Alloc基)で、カルボキシ基をアリル基でそれぞれ保護したD−グルクロン酸誘導体が知られている(非特許文献3)。非特許文献3においては、本化合物は1,2,3,4−テトラ−O−アリルオキシカルボニル−D−グルクロン酸アリルの1位の水酸基を保護するAlloc基をビス(トリブチルスズ)オキシドを用いて除去することにより得られることが報告されている。しかしながら、この非特許文献3の製造方法においては毒性の高いスズ化合物を使用する必要があった。
国際公開第2010/003120号 国際公開第2010/003127号 国際公開第2006/076529号 国際公開第90/14093号 パンフレット 国際公開第2007/120655号 米国特許出願公開第2007/0043057号明細書 米国特許出願公開第2007/0015771号明細書 米国特許第5292899号明細書 国際公開第2009/017777号
Tetrahedron 2007, 63, 7596 Org. Lett. 2005, 7, 2591-2594 J. Org. Chem. 2006, 71, 9628-9636 Tetrahedron Lett. 1989, 30, 3773-3776 J. Med. Chem. 2004, 47, 2816-2825 Tetrahedron Lett. 1997, 38, 1481 Synth. Commun. 2005, 35, 1649-1661 Biochem. J. 1989, 263, 403-409
本発明は、アシルグルクロン酸抱合体を製造する新規な方法を提供することを目的とする。
本発明の発明者は、上記課題を克服すべく、鋭意研究を重ねた。その結果、カルボキシ基を有する化合物に1−クロロ−N,N,2−トリメチルプロペニルアミン(テトラメチルクロロエナミン:TMCE)を反応させた後、得られた化合物に2,3,4−トリ−O−アリルオキシカルボニル−D−グルクロン酸アリルを反応させることにより、アシルグルクロン酸抱合体を、極めて効率的に製造できることを見出した。
また、本発明の発明者は、1,2,3,4−テトラ−O−アリルオキシカルボニル−D−グルクロン酸アリルをアンモニアもしくはピロリジンなどのアミンと反応させることにより,上述の2,3,4−トリ−O−アリルオキシカルボニル−D−グルクロン酸アリルを安価かつ安全に製造できることを見出した。
すなわち、本発明の要旨は以下のとおりである。
[1] 式(3)で表される化合物を用いる工程を含む、アシルグルクロン酸抱合体の製造方法。
Figure 2013157267
[2] 前記式(3)で表される化合物とカルボン酸とを反応させる工程1と、
前記工程1により得られた化合物と式(4)で表される化合物とを反応させる工程2と、
前記工程2により得られた化合物について水酸基及びカルボキシ基の脱保護を行う工程3とを含む[1]に記載のアシルグルクロン酸抱合体の製造方法。
Figure 2013157267
式(4)中、Allocは、アリルオキシカルボニル基を表す。
[3] 前記カルボン酸が式(2)で表される化合物であり、前記アシルグルクロン酸抱合体が式(1)で表される化合物である[2]に記載のアシルグルクロン酸抱合体の製造方法。
Figure 2013157267
式(1)中、Rは水素原子、置換基を有しても良いC1−C6アルキル基、置換基を有しても良いC2−C6アルケニル基、置換基を有しても良いC2−C6アルキニル基、置換基を有しても良いC3−C10シクロアルキル基、置換基を有しても良い4−10員環のヘテロシクロアルキル基、置換基を有しても良い芳香族炭化水素環基、または置換基を有しても良い芳香族へテロ環基を表す。
Figure 2013157267
式(2)中、Rは上記定義と同じ。
[4] 前記式(2)で表される化合物が、式(2−1)で表される化合物または式(2−2)で表される化合物である[3]に記載のアシルグルクロン酸抱合体の製造方法。
Figure 2013157267
式(2−1)中、Rは、置換基を有しても良いC2−C6アルケニル基、置換基を有しても良いC3−C10シクロアルキル基、置換基を有しても良い芳香族炭化水素環基、または置換基を有しても良い芳香族へテロ環基を表す。
Figure 2013157267
式(2−2)中、R、RおよびRは、水素原子、置換基を有しても良いC1−C6アルキル基、置換基を有しても良いC2−C6アルケニル基、置換基を有しても良いC2−C6アルキニル基、置換基を有しても良いC3−C10シクロアルキル基、置換基を有しても良い4−10員環のヘテロシクロアルキル基、置換基を有しても良い芳香族炭化水素環基、または置換基を有しても良い芳香族へテロ環基を表す。R、RおよびRのうち少なくとも2つは水素原子以外の官能基である。R、RおよびRが水素原子以外の官能基であるとき、R、RおよびRは同一でも異なっていてもよい。R、RおよびRのうちいずれか1つが水素原子であるとき、他の2つの官能基は同一でも異なっていてもよい。
[5] 前記式(2)で表される化合物が、式(2−3)で表される化合物、または式(2−4)で表される化合物である[3]に記載のアシルグルクロン酸抱合体の製造方法。
Figure 2013157267
式(2−3)中、Rは、置換基を有しても良い芳香族炭化水素環基、または置換基を有しても良い芳香族へテロ環基を表す。
Figure 2013157267
式(2−4)中、R、RおよびRは、それぞれ独立して、置換基を有しても良いC1−C6アルキル基、置換基を有しても良いC2−C6アルケニル基、置換基を有しても良いC2−C6アルキニル基、置換基を有しても良いC3−C10シクロアルキル基、置換基を有しても良い4−10員環のヘテロシクロアルキル基、置換基を有しても良い芳香族炭化水素環基、または置換基を有しても良い芳香族へテロ環基を表す。
[6] 前記式(2)で表される化合物が、式(2−5)で表される化合物である[3]に記載のアシルグルクロン酸抱合体の製造方法。
Figure 2013157267
式(2−5)中、Rは、カルボン酸のオルト位の少なくとも1つが水素原子である置換基を有しても良い芳香族炭化水素環基、またはカルボン酸のオルト位の少なくとも1つが水素原子またはヘテロ原子である置換基を有しても良い芳香族へテロ環基を表す。
[7] Alloc基によって保護されている、式(5)で表される化合物が有するグルクロン酸の1位に結合する水酸基(以下、1位水酸基という)を、アンモニア、ヒドラジン、メチルアミン、炭素原子上に1つのC1−C5アルキル基である置換基を有するメチルアミン、芳香環上に置換基を有しても良いベンジルアミン、またはヘテロ原子を有しても良いC3−C6環状アルキルアミンを用いて脱保護する工程を含む、式(4)で表される化合物の製造方法。
Figure 2013157267
式(4)中、Allocは、アリルオキシカルボニル基を表す。
Figure 2013157267
式(5)中、Allocは、上記定義と同じ。
[8] アンモニア、ヒドラジン、n−ブチルアミン、ピロリジン、モルホリン、またはベンジルアミンを用いて前記1位水酸基を脱保護する[7]に記載の前記式(4)で表される化合物の製造方法。
[9] アンモニアを用いて前記1位水酸基を脱保護する[7]に記載の前記式(4)で表される化合物の製造方法。
[10] Alloc基によって保護されている、式(5)で表される化合物が有するグルクロン酸の1位に結合する水酸基(以下、1位水酸基という)を、アンモニア、ヒドラジン、メチルアミン、炭素原子上に1つのC1−C5アルキル基である置換基を有するメチルアミン、芳香環上に置換基を有しても良いベンジルアミン、またはヘテロ原子を有しても良いC3−C6環状アルキルアミンを用いて脱保護する工程4をさらに含み、前記工程2において用いられる前記式(4)で表される化合物を前記式(5)で表される化合物から得る、[2]から[6]のいずれか1つに記載のアシルグルクロン酸抱合体の製造方法。
Figure 2013157267
式(5)中、Allocは、上記定義と同じ。
[11] アンモニア、ヒドラジン、n−ブチルアミン、ピロリジン、モルホリン、またはベンジルアミンを用いて前記1位水酸基を脱保護する、[10]に記載のアシルグルクロン酸抱合体の製造方法。
[12] アンモニアを用いて前記1位水酸基を脱保護する、[10]または[11]に記載のアシルグルクロン酸抱合体の製造方法。
本発明によれば、アシルグルクロン酸抱合体を製造する新規な方法を提供することができる。
以下、本実施形態を詳細に説明する。
本実施形態においては、式(3)で表される化合物を用いてアシルグルクロン酸抱合体を製造する。具体的には本実施形態のアシルグルクロン酸抱合体の製造方法は、式(3)で表される化合物とカルボン酸とを反応させる工程を含む。
より具体的には、本実施形態のアシルグルクロン酸抱合体の製造方法は、例えば、式(3)で表される化合物とカルボン酸とを反応させる工程1と、
工程1により得られた化合物と式(4)で表される化合物とを反応させる工程2と、
工程2により得られた化合物について水酸基及びカルボキシ基の脱保護を行う工程3とを含む。
また、後述する工程4により得られた式(4)で表される化合物を、工程2において使用することができる。
Figure 2013157267
Figure 2013157267
式(4)中、Allocは、アリルオキシカルボニル基を表す。
本明細書中に示される「アシルグルクロン酸抱合体」とは、有機化合物のカルボン酸とグルクロン酸とがエステル結合した化合物をいう。当該エステル結合は、カルボン酸が有するCOOH基とグルクロン酸の1位における水酸基との間の脱水縮合により形成される。
カルボン酸は、COOH基を有する有機化合物であれば特に制限はない。本実施形態に係るアシルグルクロン酸抱合体の製造方法は、例えば医薬品に由来するアシルグルクロン酸抱合体を製造するために実施することができる。そのため、該カルボン酸は、分子量が1000以下であることが好ましく、600以下であることが更に好ましい。
本明細書中に示される「C1−C6アルキル基」とは、炭素数1〜6の直鎖の又は分枝鎖のアルキル基を意味する。C1−C6アルキル基として、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、2−メチルブチル基、1,2−ジメチルプロピル基、ヘキシル基、イソヘキシル基等が挙げられる。
本明細書中に示される「C3−C10シクロアルキル基」とは、炭素数3〜10個の単環性飽和脂環式炭化水素基を意味する。C3−C10シクロアルキル基として、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル等が挙げられる。
本明細書中に示される「4−10員環のヘテロシクロアルキル基」とは、環状構造中に窒素原子、酸素原子、または硫黄原子を有し、環式基の環を構成する原子が4〜10であり、単環式、二環式または三環式の非芳香族性のヘテロシクロアルキル基を意味する。4−10員環のヘテロシクロアルキル基として、例えば、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジル基、ピペラジル基、モルホリル基、オキセタニル基、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロピラニル基、チオキセタニル基、テトラヒドロチエニル基、テトラヒドロチオピラニル基等が挙げられる。
本明細書中に示される「C2−C6アルケニル基」とは、少なくとも1個の二重結合を有する、直鎖または分岐鎖の炭素数2〜6個の不飽和炭化水素基を意味する。C2−C6アルケニル基として、例えば、ビニル基、2−プロペニル基、1−プロペニル基、1−ブテン−1−イル基、1−ブテン−2−イル基、1−ブテン−3−イル基、1−ブテン−4−イル基、2−ブテン−1−イル基、2−ブテン−2−イル基、1−ペンテン−1−イル基、1−ペンテン−2−イル基、1−ペンテン−3−イル基、2−ペンテン−1−イル基、2−ペンテン−2−イル基、2−ペンテン−3−イル基、1−ヘキセン−1−イル基、1−ヘキセン−2−イル基、1−ヘキセン−3−イル基等が挙げられる。
本明細書中に示される「C2−C6アルキニル基」とは、少なくとも1個の三重結合を有する、直鎖または分岐鎖の炭素数2〜6個の不飽和炭化水素基を意味する。C2−C6アルキニル基として、例えば、エチニル基、1−プロピニル基、2−プロピニル基、1−ブチニル基、2−ブチニル基、3−ブチニル基、3−メチル−1−プロピニル基、1−エチニル−2−プロピニル基、2−メチル−3−プロピニル基、1−ペンチニル基、1−ヘキシニル基、1,3−ヘキサンジインイル基、1,5−ヘキサンジインイル基等が挙げられる。
本明細書中に示される「芳香族炭化水素環基」としては、例えば、フェニル基、インデニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、アズレニル基、ヘプタレニル基、ビフェニル基、インダセニル基、アセナフチル基、フルオレニル基、フェナレニル基、フェナントレニル基、アントラセニル基、ベンゾシクロオクテニル基等が挙げられる。
本明細書中に示される「芳香族へテロ環基」とは、環状構造中に窒素原子、酸素原子、または硫黄原子を有し芳香族性を有する官能基である。当該芳香族へテロ環基は、単環式または縮合環式のいずれでもよく、また、縮合環式である場合、単環式または縮合環式の芳香族へテロ環基と芳香族ヘテロ環以外の他の環式基とが縮環していてもよい。
芳香族へテロ環基としては、例えば、フリル基、チエニル基、ピロリル基、アゼピニル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、イソキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、1,2,3−オキサジアゾリル基、トリアゾリル基、テトラゾリル基、チアジアゾリル基、ピラニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、イソベンゾフラニル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾイソオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾイソチアゾリル基、クロメニル基、クロマノニル基、キサンテニル基、フェノキサチイニル基、インドリジニル基、イソインドリジニル基、インドリル基、インダゾリル基、プリニル基、キノリジニル基、イソキノリル基、キノリル基、フタラジニル基、ナフチリジニル基、キノキサリニル基、キナゾリニル基、カルバゾリル基、カルボリニル基、アクリジニル基、イソインドリニル基等を挙げることができる。
本明細書中に示される「置換基を有しても良いC1−C6アルキル基」、「置換基を有しても良いC3−C10シクロアルキル基」、「置換基を有しても良い4−10員環のヘテロシクロアルキル基」、「置換基を有しても良いC2−C6アルケニル基」および「置換基を有しても良いC2−C6アルキニル基」における「置換基」として許容される基は、通常知られている置換基であれば特に制限はない。当該置換基として、例えばハロゲン原子、アミノ基、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、C1−C6アルコキシカルボニル基(炭素数1〜6のアルコキシカルボニル基)、ホルミル基、C1−C6カルボニル基(炭素数1〜6のカルボニル基)、C1−C6アルキル基、C1−C6アルキルアミノ基(炭素数1〜6のアルキルアミノ基)、C1−C6アルコキシ基(炭素数1〜6のアルコキシ基)、C1−C6アルキルチオ基(炭素数1〜6のアルキルチオ基)、C3−C10シクロアルキル基、4−10員環のヘテロシクロアルキル基、芳香族炭化水素環基、芳香族へテロ環基、C1−C6アルキルカルボニルアミノ基、C3−C10シクロアルキルカルボニルアミノ基、4−10員環のヘテロシクロアルキルカルボニルアミノ基、芳香族炭化水素環カルボニルアミノ基および芳香族へテロ環カルボニルアミノ基などが挙げられる。
「置換基を有しても良い芳香族へテロ環基」における「置換基」として許容される基は、通常知られている置換基であれば特に制限はない。当該置換基として、例えばハロゲン原子、アミノ基、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、C1−C6アルコキシカルボニル基、ホルミル基、C1−C6カルボニル基、C1-C6アルキル基、C1−C6アルキルアミノ基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C3−C10シクロアルキル基、4−10員環のヘテロシクロアルキル基、ハロゲン原子を有しても良い芳香族炭化水素環基、芳香族へテロ環基、C1−C6アルキルカルボニルアミノ基、C3−C10シクロアルキルカルボニルアミノ基、4−10員環のヘテロシクロアルキルカルボニルアミノ基、芳香族炭化水素環カルボニルアミノ基および芳香族へテロ環カルボニルアミノ基などが挙げられる。
「置換基を有しても良い芳香族炭化水素環基」における「置換基」として許容される基は、通常知られている置換基であれば特に制限はない。当該置換基として、例えばハロゲン原子、アミノ基、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、C1−C6アルコキシカルボニル基、ホルミル基、C1−C6カルボニル基、C1−C6アルキル基、C1−C6アルキルアミノ基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C3−C10シクロアルキル基、置換基を有しても良い芳香族へテロ環カルボニルアミノ基を有しても良い4−10員環のヘテロシクロアルキル基、芳香族炭化水素環基、芳香族へテロ環基、C1−C6アルキルカルボニルアミノ基、C3−C10シクロアルキルカルボニルアミノ基、4−10員環のヘテロシクロアルキルカルボニルアミノ基、芳香族炭化水素環カルボニルアミノ基および芳香族へテロ環カルボニルアミノ基などが挙げられる。
なお、本明細書中に示される「ハロゲン原子」とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表す。
本明細書中に示される「C1−C6アルキルカルボニルアミノ基」とは、炭素数1〜6のアルキル基がカルボニル基に結合した基がアミノ基に1個置換した基を意味する。C1−C6アルキルカルボニルアミノ基としては、メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、プロピルカルボニルアミノ基、イソプロピルカルボニルアミノ基、ブチルカルボニルアミノ基、イソブチルカルボニルアミノ基、sec−ブチルカルボニルアミノ基、tert−ブチルカルボニルアミノ基、ペンチルカルボニルアミノ基、ヘキシルカルボニルアミノ基等が挙げられる。
本明細書中に示される「C3−C10シクロアルキルカルボニルアミノ基」とは、炭素数3〜10個の単環性飽和脂環式炭化水素基がカルボニル基に結合した基がアミノ基に1個置換した基を意味する。C3−C10シクロアルキルカルボニルアミノ基として、例えば、シクロプロピルカルボニルアミノ基、シクロブチルカルボニルアミノ基、シクロペンチルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基、シクロヘプチルカルボニルアミノ基、シクロオクチルカルボニルアミノ基、シクロノニルカルボニルアミノ基、シクロデシルカルボニルアミノ等が挙げられる。
本明細書中に示される「4−10員環のヘテロシクロアルキルカルボニルアミノ基」とは、前記「4−10員環のヘテロシクロアルキル基」がカルボニル基に結合した基がアミノ基に1個置換した基を意味する。4−10員環のヘテロシクロアルキルカルボニルアミノ基として、例えば、アゼチジニルカルボニルアミノ基、ピロリジニルカルボニルアミノ基、ピペリジルカルボニルアミノ基、ピペラジルカルボニルアミノ基、モルホリルカルボニルアミノ基、オキセタニルカルボニルアミノ基、テトラヒドロフリルカルボニルアミノ基、テトラヒドロピラニルカルボニルアミノ基、チオキセタニルカルボニルアミノ基、テトラヒドロチエニルカルボニルアミノ基、テトラヒドロチオピラニルカルボニルアミノ基等が挙げられる。
本明細書中に示される「芳香族炭化水素環カルボニルアミノ基」とは、芳香族炭化水素環基がカルボニル基に結合した基がアミノ基に1個置換した基を意味する。芳香族炭化水素環カルボニルアミノ基として、例えば、フェニルカルボニルアミノ基、インデニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基、アズレニルカルボニルアミノ基、ヘプタレニルカルボニルアミノ基、ビフェニルカルボニルアミノ基、インダセニルカルボニルアミノ基、アセナフチルカルボニルアミノ基、フルオレニルカルボニルアミノ基、フェナレニルカルボニルアミノ基、フェナントレニルカルボニルアミノ基、アントラセニルカルボニルアミノ基、ベンゾシクロオクテニルカルボニルアミノ基等が挙げられる。
本明細書中に示される「芳香族へテロ環カルボニルアミノ基」とは、前記「芳香族へテロ環基」がカルボニル基に結合した基がアミノ基に1個置換した基を意味する。芳香族へテロ環カルボニルアミノ基として、例えば、フリルカルボニルアミノ基、チエニルカルボニルアミノ基、ピロリルカルボニルアミノ基、アゼピニルカルボニルアミノ基、ピラゾリルカルボニルアミノ基、イミダゾリルカルボニルアミノ基、オキサゾリルカルボニルアミノ基、イソキサゾリルカルボニルアミノ基、チアゾリルカルボニルアミノ基、イソチアゾリルカルボニルアミノ基、1,2,3−オキサジアゾリルカルボニルアミノ基、トリアゾリルカルボニルアミノ基、テトラゾリルカルボニルアミノ基、チアジアゾリルカルボニルアミノ基、ピラニルカルボニルアミノ基、ピリジルカルボニルアミノ基、ピリダジニルカルボニルアミノ基、ピリミジニルカルボニルアミノ基、ピラジニルカルボニルアミノ基、イソベンゾフラニルカルボニルアミノ基、ベンゾオキサゾリルカルボニルアミノ基、ベンゾイソオキサゾリルカルボニルアミノ基、ベンゾチアゾリルカルボニルアミノ基、ベンゾイソチアゾリルカルボニルアミノ基等を挙げることができる。
また、「置換基を有しても良い芳香族へテロ環カルボニルアミノ基」は、置換基を有しても良い芳香族へテロ環基がカルボニル基に結合した基がアミノ基に1個置換した基を意味する。
本明細書中に示される「炭素原子上に1つのC1−C5アルキル基である置換基を有するメチルアミン」とは、炭素原子に結合する1つの水素が1つの炭素数1〜5の直鎖のアルキル基により置換されたメチルアミンを意味する。炭素原子上に1つのC1−C5アルキル基である置換基を有するメチルアミンとして、例えば、エチルアミン、n−プロピルアミン、n−ブチルアミン,n−ペンチルアミン、n−ヘキシルアミン等が挙げられる。
本明細書中に示される「芳香環上に置換基を有しても良いベンジルアミン」とは,芳香環上に水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数3〜10のシクロアルキル基、炭素数4〜10のヘテロシクロアルキル基、および芳香族ヘテロ環基からなる群から選択される少なくとも1つの置換基を有してもよいベンジルアミンを意味する。芳香環上に置換基を有しても良いベンジルアミンとして、例えば、ベンジルアミン、4−フルオロベンジルアミン、4−アミノベンジルアミン、4−ニトロベンジルアミン、4−メチルベンジルアミン、4−メトキシベンジルアミン、4−シクロペンチルベンジルアミン、4−(4−モルホリニル)ベンジルアミン、4−(ピリジン−3−イル)ベンジルアミン等が挙げられる。
本明細書中に示される「ヘテロ原子を有しても良いC3−C6環状アルキルアミン」とは、酸素原子もしくは硫黄原子を有してもよい炭素数3〜6の環状アルキルアミンを意味する。ヘテロ原子を有しても良いC3−C6環状アルキルアミンとして、例えば、アゼチジン、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、N−メチルピペラジン、ホモピペリジン、モルホリン、チオモルホリン等が挙げられる。
本明細書中に示される「脱保護」とは、保護基を除去する操作をいい、より具体的には、水酸基の保護基であるAlloc基およびカルボキシ基の保護基であるアリル基を、水素原子に置き換える化学変換操作を表す。
続いて、好ましい本実施形態の製造方法をスキーム1から3に示す。
Figure 2013157267
スキーム1中、式(1)、式(2)及び式(6)におけるRは水素原子、置換基を有しても良いC1−C6アルキル基、置換基を有しても良いC2−C6アルケニル基、置換基を有しても良いC2−C6アルキニル基、置換基を有しても良いC3−C10シクロアルキル基、置換基を有しても良い4−10員環のヘテロシクロアルキル基、置換基を有しても良い芳香族炭化水素環基、または置換基を有しても良い芳香族へテロ環基を表す。
工程1
工程1は、カルボン酸と式(3)で表される化合物(1−クロロ−N,N,2−トリメチルプロペニルアミン(テトラメチルクロロエナミン:TMCE))を反応させる工程である。
カルボン酸として、例えば式(2)で表される化合物が挙げられる。なお、上述のスキーム1においては、理解を容易とするために、カルボン酸として、当該式(2)で表される化合物を例示している。
Figure 2013157267
式(2)中、Rは前述した定義と同じである。
特定の立体配置を有するアシルグルクロン酸抱合体をより選択的に生成できるようにする観点から、式(2)で表される好ましい化合物として、式(2−1)で表される化合物または式(2−2)で表される化合物が挙げられる。より好ましくは、式(2−3)で表される化合物または式(2−4)で表される化合物が挙げられる。
より一層好ましくは、式(2)で表される好ましい化合物として、式(2−5)で表される化合物が挙げられる。
さらにより一層好ましくは、式(2)で表される化合物として、安息香酸、4−メチル安息香酸、2−メチル安息香酸、3−ジメチルアミノ安息香酸、4−メトキシ安息香酸、4−アセチル安息香酸、4−クロロ安息香酸、4−ピリジンカルボン酸、3−チオフェンカルボン酸、2−メチル−2−フェニルプロパン酸、3−{(3S)−3−[2−(4−クロロフェニル)−4−メチルチアゾール−5−カルボキサミド]ピペリジノ}安息香酸が挙げられる。
Figure 2013157267
式(2−1)中、Rは、置換基を有しても良いC2−C6アルケニル基、置換基を有しても良いC3−C10シクロアルキル基、置換基を有しても良い芳香族炭化水素環基、または置換基を有しても良い芳香族へテロ環基を表す。
Figure 2013157267
式(2−2)中、R、RおよびRは、水素原子、置換基を有しても良いC1−C6アルキル基、置換基を有しても良いC2−C6アルケニル基、置換基を有しても良いC2−C6アルキニル基、置換基を有しても良いC3−C10シクロアルキル基、置換基を有しても良い4−10員環のヘテロシクロアルキル基、置換基を有しても良い芳香族炭化水素環基、または置換基を有しても良い芳香族へテロ環基を表す。R、RおよびRのうち少なくとも2つは水素原子以外の官能基である。R、RおよびRが水素原子以外の官能基であるとき、R、RおよびRは同一でも異なっていてもよい。R、RおよびRのうちいずれか1つが水素原子であるとき、他の2つの官能基は同一でも異なっていてもよい。
Figure 2013157267
式(2−3)中、Rは、置換基を有しても良い芳香族炭化水素環基、または置換基を有しても良い芳香族へテロ環基を表す。
Figure 2013157267
式(2−4)中、R、RおよびRは、それぞれ独立して、置換基を有しても良いC1−C6アルキル基、置換基を有しても良いC2−C6アルケニル基、置換基を有しても良いC2−C6アルキニル基、置換基を有しても良いC3−C10シクロアルキル基、置換基を有しても良い4−10員環のヘテロシクロアルキル基、置換基を有しても良い芳香族炭化水素環基、または置換基を有しても良い芳香族へテロ環基を表す。
Figure 2013157267
式(2−5)中、Rは、カルボン酸のオルト位の少なくとも1つが水素原子である置換基を有しても良い芳香族炭化水素環基、またはカルボン酸のオルト位の少なくとも1つが水素原子またはヘテロ原子である置換基を有しても良い芳香族へテロ環基を表す。
工程1において、試薬量に関しては、特に限定されないが、式(2)で示される化合物に対し、式(3)で表される化合物の当量(モル当量、以下同じ)は、1〜5当量とすることが好ましく、1〜2当量とすることがより好ましい。
工程1において用いる反応溶媒は、当該反応条件下において安定であり、かつ不活性で反応を妨げない反応溶媒であれば特に制限されない。かかる溶媒としては、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタンなどの炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、1,2−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジイソプロピルエーテル、2−メチルテトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジグライム、シクロペンチルメチルエーテルなどのエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチルなどのエステル類、アセトニトリル、プロピオニトリルなどのニトリル類、もしくはジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、1,1,1,3,3−ペンタフルオロブタンなどのハロゲン化炭化水素類、またはN,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドンなどのアミド類が挙げられる。
これらの溶媒は反応の起こりやすさに従って適宜選択され、単一又は混合して用いることができる。また場合によっては適当な脱水剤や乾燥剤を用いて非水溶媒として用いられる。工程1の溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、アセトニトリルもしくはそれらの混合溶媒が好ましく、ジクロロメタン、ジクロロメタンとテトラヒドロフランの混合溶媒、またはテトラヒドロフランなどがより好ましい。
工程1において、使用する溶媒の量は、反応開始時の式(2)で表される化合物の濃度が0.03〜1.0mol/Lとなる溶媒量が好ましく、0.05〜1.0mol/Lとなる溶媒量がより好ましい。
工程1において、各試薬を加える順番に関しては、特に限定されないが、式(2)で表される化合物に反応溶媒を加え、次いで得られた式(2)で表される化合物の溶液に式(3)で表される化合物を添加することが好ましい。
工程1において、反応温度は−78℃〜反応溶媒の沸点の範囲とすることが挙げられるが、0℃〜40℃とすることが好ましく、20℃〜40℃とすることがより好ましい。反応時間は、反応温度および試薬量により、適宜調整することができる。
工程2
工程2は、工程1で得られた化合物に、式(4)で表されるグルクロン酸誘導体を反応させる工程である。
工程2において、試薬量に関しては、特に限定されないが、式(4)で表されるグルクロン酸誘導体に対し、工程1で得られた化合物の当量は、1〜5当量とすることが好ましく、1.5〜2.5当量とすることがより好ましい。
工程2において用いる反応溶媒は、当該反応条件下において安定であり、かつ不活性で反応を妨げない反応溶媒であれば特に制限されない。かかる溶媒としては、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタンなどの炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、1,2−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジイソプロピルエーテル、2−メチルテトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジグライム、シクロペンチルメチルエーテルなどのエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチルなどのエステル類、アセトニトリル、プロピオニトリルなどのニトリル類、もしくはジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、1,1,1,3,3−ペンタフルオロブタンなどのハロゲン化炭化水素類、またはN,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドンなどのアミド類が挙げられる。
これらの溶媒は反応の起こりやすさに従って適宜選択され、単一又は混合して用いる。また場合によっては適当な脱水剤や乾燥剤を用いて非水溶媒として用いられる。工程2においては、ジクロロメタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、酢酸エチルもしくはそれらの混合溶媒が好ましく、ジクロロメタン、ジクロロメタンとテトラヒドロフランの混合溶媒、またはテトラヒドロフランなどがより好ましい。
工程2において、使用する溶媒の量は、反応開始時の式(2)で表される化合物の濃度が0.03〜1.0mol/Lとなるような溶媒量が好ましく、0.05〜1.0mol/Lとなる溶媒量がより好ましい。
工程2は、塩基の存在下で反応させるようにしてもよい。塩基を使用する場合、反応を阻害しないものであれば良く、トリエチルアミン、トリメチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、テトラメチルエチレンジアミン、N−メチルモルホリン、N−メチルピロリジン、ピリジン、2,6−ルチジン、2,4,6−コリジン、ジメチルアニリン、ジエチルアニリン、4−ジメチルアミノピリジンのような有機塩基が挙げられる。好ましくは、N−メチルモルホリン、またはトリエチルアミンが挙げられ、より好ましくはトリエチルアミンが挙げられる。塩基の量としては、特に限定しないが、式(4)で表されるグルクロン酸誘導体に対し、通常0〜5当量が好ましく、1〜2当量がより好ましい。
工程2において、各試薬を加える順番に関しては、特に限定されないが、工程1で得られた化合物に、式(4)で表されるグルクロン酸誘導体及び使用されてもよい塩基を反応溶媒に溶解させたものを添加することが好ましい。
工程2において、反応温度は−78℃〜反応溶媒の沸点の範囲とすることが挙げられるが、0℃〜40℃とすることが好ましく、20℃〜40℃とすることがより好ましい。反応時間は、反応温度および試薬量により、適宜調整することができる。
工程2の反応終了後、所望により通常の分離手段(例えば、抽出、再結晶またはクロマトグラフィー等)を用いることにより、式(6)で表される化合物を精製し、単離することができる。
工程2においては、工程1で得られた化合物の反応性を向上させて収率を向上させる観点から、反応液にトリメチルアミン塩酸塩を添加することが好ましい。また、トリメチルアミン塩酸塩を添加した場合、反応終了後の後処理で、水を添加することにより工程1で得られた化合物が容易に分解され、式(6)で表される化合物の精製・単離が容易となることが多い。その観点からもトリメチルアミン塩酸塩を添加することが好ましい。
工程3
工程3は、工程2で得られた式(6)で表される化合物を脱保護し、式(1)で表されるアシルグルクロン酸誘導体を得る工程である。本工程で用いる脱保護剤は特に限定されないが、例えば、パラジウム錯体、水素供与性化合物及び有機ホスフィン誘導体を組み合わせて用いることができる。
工程3において使用できるパラジウム錯体としては、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)ジクロライド、ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム(0)、酢酸パラジウムなどが挙げられる。使用するパラジウム錯体の使用量は、式(6)で表される化合物に対し、0.01〜1当量とすることが好ましく、0.1〜0.5当量とすることがより好ましい。
工程3において使用できる水素供与性化合物としては、5,5−ジメチルシクロヘキサン−1,3−ジオン(ジメドン)、ギ酸アンモニウム、ギ酸トリエチルアミン塩、トリブチルスズヒドリド、水素化ホウ素ナトリウムなどが挙げられる。使用する水素供与性化合物の使用量は、式(6)で表される化合物に対し、1〜20当量とすることが好ましく、3〜10当量とすることがより好ましい。
工程3において使用できる有機ホスフィン誘導体としては、トリフェニルホスフィン、トリ−tert−ブチルホスフィン、トリ−n−ブチルホスフィン、1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン、1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン、1,4−ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタンなどが挙げられる。使用する有機ホスフィン誘導体の使用量は、式(6)で表される化合物に対し、0.01〜2当量とすることが好ましく、0.2〜1当量とすることがより好ましい。
これらの、脱保護剤として用いられるパラジウム錯体、水素供与性化合物及び有機ホスフィン誘導体の組み合わせとして、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)/ジメドン、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)/ギ酸トリエチルアミン塩、酢酸パラジウム/トリ−n−ブチルホスフィン/ジメドン、または酢酸パラジウム/トリ−n−ブチルホスフィン/ギ酸トリエチルアミン塩が好ましい。
工程3において用いる反応溶媒は、当該反応条件下において安定であり、かつ不活性で反応を妨げない反応溶媒であれば特に制限されない。かかる溶媒としては、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン若しくはヘプタンなどの炭化水素類、ベンゼン、トルエン若しくはキシレン等の芳香族炭化水素類、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、イソブタノール若しくはtert−ブタノールなどのアルコール類、ジエチルエーテル、1,2−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジイソプロピルエーテル、2−メチルテトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジグライム若しくはシクロペンチルメチルエーテルなどのエーテル類、アセトニトリル若しくはプロピオニトリルなどのニトリル類、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン若しくは1,1,1,3,3−ペンタフルオロブタンなどのハロゲン化炭化水素類または水が挙げられる。
これらの溶媒を反応の起こりやすさに従って適宜選択し、単一または混合して用いる。工程3において用いられる反応溶媒としては、1,2−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、アセトニトリルが好ましく、テトラヒドロフランがより好ましい。
また、使用する溶媒の量は、式(6)で表される化合物に対し、溶媒を3〜100倍量とすることが好ましく、5〜50倍量とすることがより好ましい。
なお、本明細書中に示される「倍量」とは、反応に用いる化合物の重量(g)に対して用いた溶媒の容積(mL)を意味し、以下の式(i)より算出している。

M=SV/CW (i)

式(i)中、Mは倍量(v/w)を、SVは溶媒の容積(mL)を、CWは、反応に用いる化合物の重量(g)を示す。
工程3において、各試薬を加える順番に関しては、特に限定されないが、式(6)で表される化合物を反応溶媒に溶解させた後に、脱保護試薬を添加することが好ましい。
工程3において、反応温度は−78℃〜反応溶媒の沸点の範囲とすることが挙げられる。好ましくは、反応温度は0℃〜60℃であり、10℃〜60℃とすることがより好ましい。反応時間は反応温度および試薬量により、適宜調整することができる。
工程3の反応終了後、所望により通常の分離手段(例えば、抽出、再結晶またはクロマトグラフィー等)を用いることにより、式(1)で表される化合物を精製し、単離することができる。
工程4
スキーム1で示される式(4)で表される化合物は、例えば以下に説明する工程4によって得ることができる。
工程4は、保護基であるAlloc基を水素原子に置き換えることにより式(5)で表される化合物のグルクロン酸の1位に結合する水酸基(以下、1位水酸基という)を脱保護し、式(4)で表される化合物を得る工程である(スキーム2)。
Figure 2013157267
工程4では、脱保護試薬としてアンモニア、ヒドラジン、メチルアミン、炭素原子上に1つのC1−C5アルキル基である置換基を有するメチルアミン、芳香環上に置換基を有しても良いベンジルアミン、またはヘテロ原子を有しても良いC3−C6環状アルキルアミンを用いることができる。
炭素原子上に1つのC1−C5アルキル基である置換基を有するメチルアミンとしては、例えば、エチルアミン、n−プロピルアミン、n−ブチルアミン,n−ペンチルアミン、n−ヘキシルアミン等を用いることができる。
芳香環上に置換基を有しても良いベンジルアミンとしては、例えば、ベンジルアミン、4−フルオロベンジルアミン、4−アミノベンジルアミン、4−ニトロベンジルアミン、4−メチルベンジルアミン、4−メトキシベンジルアミン、4−シクロペンチルベンジルアミン、4−(4−モルホリニル)ベンジルアミン、4−(ピリジン−3−イル)ベンジルアミン等を用いることができる。
ヘテロ原子を有しても良いC3−C6環状アルキルアミンとしては、例えば、アゼチジン、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、N−メチルピペラジン 、ホモピペリジン、モルホリン、チオモルホリン等を用いることができる。
これらの中でも、収率の観点から、工程4において用いられる脱保護試薬として、アンモニア、ヒドラジン、n−ブチルアミン、ピロリジン、モルホリン、ベンジルアミンが好ましく、アンモニア、ピロリジン、ベンジルアミンが更に好ましく、アンモニアが特に好ましい。
工程4において、使用する脱保護試薬の量は特に限定されないが、式(5)で表される化合物に対し、0.5〜10当量とすることが好ましく、1〜5当量とすることがより好ましく、1〜3当量とすることが更に好ましい。
工程4において用いる反応溶媒は、当該反応条件下において安定であり、かつ不活性で反応を妨げない反応溶媒であれば特に制限されない。かかる溶媒としては、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン若しくはヘプタンなどの炭化水素類、ベンゼン、トルエン若しくはキシレン等の芳香族炭化水素類、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、イソブタノール若しくはtert−ブタノールなどのアルコール類、1,2−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジイソプロピルエーテル、2−メチルテトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジグライム若しくはシクロペンチルメチルエーテルなどのエーテル類、アセトニトリル若しくはプロピオニトリルなどのニトリル類、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン若しくは1,1,1,3,3−ペンタフルオロブタンなどのハロゲン化炭化水素類または水が挙げられる。
これらの溶媒を反応の起こりやすさに従って適宜選択し、単一または混合して用いる。工程4における反応溶媒としては、1,2−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジイソプロピルエーテル、2−メチルテトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジグライム、シクロペンチルメチルエーテル、水が好ましく、テトラヒドロフラン,水がより好ましい。
なお,脱保護試薬としてアンモニアを選択するとともに、当該アンモニアをアンモニア水として用いる場合、反応溶媒は、水と混和する溶媒であるテトラヒドロフランが好ましい。
工程4において、使用する溶媒の量は、式(5)で表される化合物に対し、溶媒を3〜30倍量とすることが好ましく、5〜30倍量とすることがより好ましく、5〜10倍量とすることが特に好ましい。ここで「倍量」とは、上述の通りである。
工程4において、各試薬を加える順番に関しては、特に限定されないが、式(5)で表される化合物を反応溶媒に溶解させた後に、脱保護試薬を添加することが好ましい。
工程4において、反応温度は−78℃〜反応溶媒の沸点の範囲とすることが挙げられるが、0℃〜25℃とすることが好ましく、0℃〜10℃とすることがより好ましい。反応時間は反応温度および試薬量により、適宜調整することができる。
工程4の反応終了後、所望により通常の分離手段(例えば、抽出、再結晶またはクロマトグラフィー等)を用いることにより、式(4)で表される化合物を精製し、単離することができる。
また、本実施形態の製造方法においては、上記工程4の手法を用いて式(4)で表される化合物を製造するとともに、得られた式(4)で表される化合物を用いて工程2を行うことが好ましい。その場合、本実施形態の製造方法は、スキーム3に示すような製造手順となる。
Figure 2013157267

スキーム3の式(1)、(2)および(6)におけるRは、前記定義と同じ。
各製造工程の詳細な条件等については、上述の通りである。
本実施形態の製造方法によれば、カルボキシ基を有する化合物のグルクロン酸抱合体を効率的に製造でき、且つ、量産することが可能となる。そのため、薬物の毒性試験が可能な程度のアシルグルクロン酸抱合体をより容易に製造することができる。また、副反応や分解物の生成を抑制することができ、且つ、反応終了後の精製も容易であり、極めて効率的である。
更に、体内での代謝により医薬品に由来して生成されるアシルグルクロン酸抱合体は主にβ体である。本実施形態の製造方法によれば、カルボキシ基を有する化合物が、芳香族カルボン酸誘導体やカルボキシ基が4級炭素に結合したカルボン酸誘導体などである場合には特に、β体であるアシルグルクロン酸抱合体をより選択的に製造することができる。すなわち、医薬品の代謝物と同一の立体配置を有するアシルグルクロン酸抱合体を高選択的に製造することができるため、医薬品の代謝物であるアシルグルクロン酸抱合体の製造に好適である。
また、本実施形態の製造方法によれば、アシルグルクロン酸抱合体の合成ユニットとして有用な2,3,4−トリ−O−アリルオキシカルボニル−D−グルクロン酸アリルを、安価かつ安全に製造でき、且つ、量産することが可能となる。
次に、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
また、実施例12〜16、および比較例1、2において使用した、3−{(3S)−3−[2−(4−クロロフェニル)−4−メチルチアゾール−5−カルボキサミド]ピペリジノ}安息香酸は、国際公開第2006/016637号または国際公開第2010/074110号に記載の方法で製造することができる。
(実施例1)
1−O−ベンゾイル−2,3,4−トリ−O−アリルオキシカルボニル−D−グルクロン酸アリル
安息香酸(カルボン酸,244mg,2.00mmol)にテトラヒドロフラン(10.0mL)を加え、次いで1−クロロ−N,N,2−トリメチルプロペニルアミン(TMCE,331μL, 2.50mmol)を加えて反応液とした。当該反応液を、外温設定40℃で2時間撹拌した。室温放冷後、反応液に2,3,4−トリ−O−アリルオキシカルボニル−D−グルクロン酸アリル(486mg, 1.00mmol)及びトリエチルアミン(378μL, 2.00mmol)のテトラヒドロフラン(2.00mL)溶液を加え、室温で3時間撹拌した。さらに反応液に、トリメチルアミン塩酸塩(191mg, 2.00mmol)及びトリエチルアミン(139μL, 1.00mmol)を加え、室温で1時間撹拌した。この反応液のHPLC測定(測定条件A)を行った後、酢酸エチル(10.0mL)及び10%食塩水(10.0mL)を加えて抽出し、有機層を分取した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した後、ろ液を減圧濃縮した。得られた濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することで黄色油状物の1−O−ベンゾイル−2,3,4−トリ−O−アリルオキシカルボニル−D−グルクロン酸アリルをα体,β体及び4,5−ene体の混合物として454mg(収率73%)得た。
単離した化合物のH NMR及びHPLCを測定し、目的物(β体)、ジアステレオ異性体(α体)及び副生成物(4,5−ene体)の保持時間を確定した。
(実施例2〜実施例11)
実施例1と同様の方法で、表1に記載のカルボン酸(2.00mmol)を使用して反応を行い、反応液のHPLC測定を行った。その結果を表1に示す。
なお、表1の実施例1〜11のそれぞれについて反応選択性を理解するために、生成された各成分の割合を明らかにした。
具体的には、生成した各成分の割合を面積百分率(%)として得た。面積百分率(%)は、以下の測定条件Aもしくは測定条件Bを用いてHPLC測定を行うとともに、生成した各成分の面積百分率(%)を得た。面積百分率(%)は、得られた、目的物(β体)、ジアステレオ異性体(α体)及び副生成物(4,5−ene体)の面積百分率(%)を合計100%として、以下の式(ii)を用いて計算した。

AN=EA/TA×100 (ii)

式(ii)中、ANは各成分の面積百分率(%)を、EAは各成分の面積値を、TAは各成分の合計面積値を表す。
ここで、目的物(β体)とは1−O−アシル−2,3,4−トリ−O−アリルオキシカルボニル−β−D−グルクロン酸アリルを、ジアステレオ異性体(α体)とは1−O−アシル−2,3,4−トリ−O−アリルオキシカルボニル−α−D−グルクロン酸アリルを、副生成物(4,5−ene体)とは(3R,4S)−2−アシルオキシ−3,4−ビス(アリルオキシカルボニルオキシ)−3,4−ジヒドロ−2H−ピラン−6−カルボン酸アリルをそれぞれ表す。
測定条件A
カラム;ジーエルサイエンス Inertsil(登録商標) ODS−3 (4.6φ×150mm)、
プレカラム;ジーエルサイエンス Inertsil(登録商標) ODS−3 (4.0φ×10mm)、
移動相;A液 メタノール、B液 薄めたリン酸(1→1000)溶液、0〜20分; A:B=80:20(アイソクラティック)、
測定波長:220 nm、
カラム温度:40℃、
流量:1.0 mL/min。
ここで、薄めたリン酸(1 → 1000)とは、リン酸1mLを水に溶解し1000mLとした意味である。
測定条件B
カラム;ジーエルサイエンス Inertsil(登録商標) ODS−3 (4.6φ×150mm)、
プレカラム;ジーエルサイエンス Inertsil(登録商標) ODS−3 (4.0φ×10mm)、
移動相;A液 メタノール、B液 薄めたリン酸(1→1000)溶液、0〜20分; A:B=75:25(アイソクラティック)、
測定波長:220 nm、
カラム温度:40℃、
流量:1.0 mL/min。
Figure 2013157267
反応の基質となるカルボン酸として、芳香族カルボン酸を用いた場合、ほとんどの場合で良好なβ選択性及び収率で反応は進行した(実施例1〜9)。電子供与基を持ち、pKaが大きなカルボン酸(実施例2〜4)の方が、電子吸引基を持ち、pKaが小さなカルボン酸(実施例6〜8)より、良好なβ選択性を与えるという傾向があった。
反応の基質となるカルボン酸として、脂肪族カルボン酸を用いた場合、2級炭素にカルボン酸が結合した4−メチル−フェニル酢酸(実施例11)では、α体を主生成物として与えたものの、反応は良好に進行した。一方、4級炭素にカルボン酸が結合した2−メチル−2−フェニルプロパン酸(実施例10)では、目的のβ体を主生成物として与えた。このことから、β体を選択的に得ようとする場合は、嵩高いカルボン酸が有利であることが示唆された。

以下に実施例1〜10に記載した化合物の物性値を示す。
1−O−(ベンゾイル)−2,3,4−トリ−O−アリルオキシカルボニル−β−D−グルクロン酸アリル(実施例1)
MS(ESI+) m/z:608[M+NH
H−NMR(400 MHz,CDCl)δ:4.40(1H,d,J = 9.6 Hz), 4.57−4.67(8H,m), 5.12−5.38(11H,m), 5.75−5.95(4H,m), 6.04(1H,d,J = 7.6 Hz), 7.44−7.48(2H,m), 7.59−7.63(1H,m), 8.04−8.07(2H,m).
1−O−(4−メチルベンゾイル)−2,3,4−トリ−O−アリルオキシカルボニル−β−D−グルクロン酸アリル(実施例2)
MS(ESI+) m/z:622[M+NH
H−NMR(400 MHz,CDCl)δ:2.42(3H,s),4.39(1H,d,J = 9.6 Hz), 4.57−4.67(8H,m), 5.13−5.16(1H,m),5.19−5.38(10H,m), 5.76−5.94(4H,m), 6.02(1H,d,J = 7.6 Hz), 7.23−7.26(2H,m), 7.92−7.95(2H,m).
1−O−(2−メチルベンゾイル)−2,3,4−トリ−O−アリルオキシカルボニル−β−D−グルクロン酸アリル(実施例3)
MS(ESI+) m/z:622[M+NH
H−NMR(400 MHz,CDCl)δ:2.62(3H,s),4.39(1H,d,J = 9.6 Hz), 4.55−4.67(8H,m), 5.15−5.38(11H,m), 5.77−5.95(4H,m), 6.03(1H,d,J = 7.6 Hz), 7.25(1H,d,J = 6.5 Hz), 7.45(1H,dd,J = 7.5 Hz,1.4 Hz), 7.97−8.00(1H,m).
1−O−(3−ジメチルアミノベンゾイル)−2,3,4−トリ−O−アリルオキシカルボニル−β−D−グルクロン酸アリル(実施例4)
MS(ESI+) m/z:634[M+H]
H−NMR(400 MHz,CDCl)δ:2.98−3.00(6H,m),4.40(1H,d,J = 9.4 Hz), 4.57−4.66(8H,m), 5.13−5.17(1H,m),5.20−5.37(10H,m), 5.77−5.94(4H,m), 6.02(1H,d,J = 7.6 Hz), 6.91−6.95(1H,m), 7.28−7.31(1H,m), 7.37−7.41(2H,
m).
1−O−(4−メトキシベンゾイル)−2,3,4−トリ−O−アリルオキシカルボニル−β−D−グルクロン酸アリル(実施例5)
MS(ESI+) m/z:638[M+NH
H−NMR(400 MHz,CDCl)δ:3.87(3H,s),4.39(1H,d,J = 9.6 Hz), 4.57−4.67(8H,m), 5.13−5.38(11H,m), 5.81−5.90(4H,m), 6.01(1H,d,J = 7.3 Hz), 6.90−6.94(2H,m), 7.99−8.02(2H,m).
1−O−(4−アセチルベンゾイル)−2,3,4−トリ−O−アリルオキシカルボニル−β−D−グルクロン酸アリル(実施例6)
MS(ESI+) m/z:650[M+NH
H−NMR(400 MHz,CDCl)δ:2.66(3H,s),4.42(1H,d,J = 9.2 Hz), 4.57−4.67(8H,m), 5.13−5.16(1H,m),5.21−5.38(10H,m), 5.77−5.95(4H,m), 6.06(1H,d,J = 7.3 Hz), 8.00−8.03(2H,m), 8.13−8.15(2H,m).
1−O−(4−クロロベンゾイル)−2,3,4−トリ−O−アリルオキシカルボニル−β−D−グルクロン酸アリル(実施例7)
MS(ESI+) m/z:642[M+NH
H−NMR(400 MHz,CDCl)δ:4.40(1H,d,J = 9.6 Hz), 4.56−4.67(8H,m), 5.14−5.38(11H,m), 5.76−5.95(4H,m), 6.02(1H,d,J = 7.3 Hz), 7.42−7.44(2H,m), 7.97−8.00(2H,m).
1−O−(4−ピリジンカルボニル)−2,3,4−トリ−O−アリルオキシカルボニル−β−D−グルクロン酸アリル(実施例8)
MS(ESI+) m/z:592[M+NH
H−NMR(400 MHz,CDCl)δ:4.43(1H,d,J = 9.2 Hz), 4.56−4.67(8H,m), 5.11−5.38(11H,m), 5.78−5.96(4H,m), 6.06(1H,d,J = 7.3 Hz), 7.85−7.87(2H,m), 8.82−8.80(2H,m).
1−O−(3−チエノカルボニル)−2,3,4−トリ−O−アリルオキシカルボニル−β−D−グルクロン酸アリル(実施例9)
MS(ESI+) m/z:614[M+NH
H−NMR(400 MHz,CDCl)δ:4.38(1H,d,J = 9.6 Hz), 4.57−4.66(8H,m), 5.15−5.37(11H,m), 5.77−5.95(4H,m), 5.98(1H,d,J = 7.3 Hz), 7.32(1H,dd,J = 5.0, 3.1 Hz), 7.54(1H,dd,J = 5.0, 1.1 Hz), 8.21(1H,dd,J = 3.1, 1.1 Hz).
1−O−(2−メチル−2−フェニル−プロパノイル)−2,3,4−トリ−O−アリルオキシカルボニル−β−D−グルクロン酸アリル(実施例10)
MS(ESI+) m/z:650[M+NH
H−NMR(400 MHz,CDCl)δ:1.55(3H,s),1.60(3H,s),4.27(1H,d,J = 9.9 Hz), 4.38−4.44(1H,m),4.48−4.53(1H,m),4.56−4.67(6H,m), 4.93−4.98(1H,m),5.07−5.35(10H,m), 5.76(1H,d,J = 8.0 Hz), 5.79−5.92(4H,m), 7.21−7.41(5H,m).

(実施例12)
1−O−(3−{(3S)−3−[2−(4−クロロフェニル)−4−メチルチアゾール−5−カルボキサミド]ピペリジノ}ベンゾイル)−2,3,4−トリ−O−アリルオキシカルボニル−β−D−グルクロン酸アリル
3−{(3S)−3−[2−(4−クロロフェニル)−4−メチルチアゾール−5−カルボキサミド]ピペリジノ}安息香酸(化合物A, 182mg, 400μmol)にテトラヒドロフラン(THF, 2.0mL)を加え、次いで1−クロロ−N,N,2−トリメチルプロペニルアミン(TMCE, 66.1μL, 500μmol、2.5当量)を加えて反応液とした。当該反応液を、外温設定35℃で1時間撹拌した。室温放冷後、反応液に2,3,4−トリ−O−アリルオキシカルボニル−D−グルクロン酸アリル(97.3mg, 200μmol、1当量)及びトリエチルアミン(EtN, 55.8μL, 400μmol)のテトラヒドロフラン(0.5mL)溶液を加え、室温で2時間撹拌した。さらに反応液に、トリメチルアミン塩酸塩(MeN・HCl, 38.2mg, 400μmol)を加えて、1時間撹拌した。さらに、反応液にトリエチルアミン(27.9μL, 200μmol)を加え、室温で30分間撹拌した。この反応液のHPLC測定を行った後、酢酸エチル(10mL)を加えてセライトろ過し、酢酸エチル(10mL)で洗浄した。これに飽和食塩水(10mL)及び1mol/L HCl水溶液(2mL)を加えて抽出し、有機層を分取した。有機層を無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥した。硫酸ナトリウムをろ別した後、ろ液を減圧濃縮した。得られた濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することで黄色油状物の1−O−(3−{(3S)−3−[2−(4−クロロフェニル)−4−メチルチアゾール−5−カルボキサミド]ピペリジノ}ベンゾイル)−2,3,4−トリ−O−アリルオキシカルボニル−D−グルクロン酸アリルをα体,β体及び4,5−ene体の混合物として166mg(収率73%)得た。
単離した化合物のH NMR及びHPLCを測定し、目的物(β体)、ジアステレオ異性体(α体)及び副生成物(4,5−ene体)の保持時間を確定した。
(実施例13〜実施例16)
実施例12と同様の方法で、表2に記載の反応条件で3−{(3S)−3−[2−(4−クロロフェニル)−4−メチルチアゾール−5−カルボキサミド]ピペリジノ}安息香酸とTMCEとの反応、および当該反応により得られた化合物と2,3,4−トリ−O−アリルオキシカルボニル−D−グルクロン酸アリルとの反応を行うとともに、反応液のHPLC測定を行った。その結果を表2に示す。
表2中、TMCEを用いた反応における反応条件には1)を付した。また、2,3,4−トリ−O−アリルオキシカルボニル−D−グルクロン酸アリルを用いた反応における反応条件には2)を付した。
また、表2において、反応に使用した「3−{(3S)−3−[2−(4−クロロフェニル)−4−メチルチアゾール−5−カルボキサミド]ピペリジノ}安息香酸」は、「化合物A」と表す。実施例16において用いた添加物であるDMAPはN,N−ジメチルアミノピリジンを表す。なお、表2中において、2,3,4−トリ−O−アリルオキシカルボニル−D−グルクロン酸アリルについてはその記載を省略している。各物質のモル当量は、2,3,4−トリ−O−アリルオキシカルボニル−D−グルクロン酸アリルを基準としている。
(比較例1)
2,3,4−トリ−O−アリルオキシカルボニル−D−グルクロン酸アリル(125mg, 0.24mmol)、3−{(3S)−3−[2−(4−クロロフェニル)−4−メチルチアゾール−5−カルボキサミド]ピペリジノ}安息香酸(142mg, 0.31mmol)、1−ヒドロキシ−7−アザベンゾトリアゾール(HOAt,42mg, 0.31mmol)、N−メチルモルホリン(68μL, 0.62mmol)、1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−3−エチルカルボジイミド塩酸塩(EDCI・HCl,59mg, 0.31mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド(1.42mL)溶液(反応液)を室温で20時間撹拌した。反応液に4−(ジメチルアミノ)ピリジン(DMAP,8mg, 8.2μmol)を加え、室温で58時間撹拌した。反応液に酢酸エチル(5mL)及び10%食塩水(3mL)を加えて抽出し、有機層を分取した。有機層を0.5mol/L塩酸(2mL)及び10%食塩水(3mL)で洗浄し、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥した。硫酸ナトリウムをろ別した後、ろ液を減圧濃縮した。得られた濃縮残渣のHPLC測定を行った後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することで黄色油状物の1−O−(3−{(3S)−3−[2−(4−クロロフェニル)−4−メチルチアゾール−5−カルボキサミド]ピペリジノ}ベンゾイル)−2,3,4−トリ−O−アリルオキシカルボニル−D−グルクロン酸アリルをα体,β体及び4,5−ene体の混合物として108mg(収率55%)得た。
(比較例2)
2,3,4−トリ−O−アリルオキシカルボニル−D−グルクロン酸アリル(128mg, 0.26mmol)、3−{(3S)−3−[2−(4−クロロフェニル)−4−メチルチアゾール−5−カルボキサミド]ピペリジノ}安息香酸(178mg, 0.39mmol)、アゾジカルボン酸ジイソプロピル(DIAD,77μL, 0.31mmol)、トリフェニルホスフィン(102mg, 0.39mmol)のテトラヒドロフラン(14.1mL)溶液(反応液)を室温で49時間撹拌した。反応液を減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することで黄色油状物の1−O−(3−{(3S)−3−[2−(4−クロロフェニル)−4−メチルチアゾール−5−カルボキサミド]ピペリジノ}ベンゾイル)−2,3,4−トリ−O−アリルオキシカルボニル−D−グルクロン酸アリルをα体,β体及び4,5−ene体の混合物として234mg(収率36%)得た。単離した化合物のH NMR及びHPLCを測定し、目的物(β体)、ジアステレオ異性体(α体)及び副生成物(4,5−ene体)の保持時間を確定した。
表2の実施例12〜16及び比較例1、2のそれぞれについて、反応選択性を理解するために、生成された各成分の割合を明らかにした。
具体的には、以下の測定条件Cを用いてHPLC測定を行うとともに、生成した各成分の面積百分率(%)を得た。面積百分率(%)は、得られた、目的物(β体)、ジアステレオ異性体(α体)及び副生成物(4,5−ene体)の面積百分率(%)を、合計100%として、以下の式(ii)を用いて計算した。

AN=EA/TA×100 (ii)

式(ii)中、ANは各成分の面積百分率(%)を、EAは各成分の面積値を、TAは各成分の合計面積値を表す。
ここで、目的物(β体)とは1−O−(3−{(3S)−3−[2−(4−クロロフェニル)−4−メチルチアゾール−5−カルボキサミド]ピペリジノ}ベンゾイル)−2,3,4−トリ−O−アリルオキシカルボニル−β−D−グルクロン酸アリルを、ジアステレオ異性体(α体)とは1−O−(3−{(3S)−3−[2−(4−クロロフェニル)−4−メチルチアゾール−5−カルボキサミド]ピペリジノ}ベンゾイル)−2,3,4−トリ−O−アリルオキシカルボニル−α−D−グルクロン酸アリルを、副生成物(4,5−ene体)とは(3R,4S)−2−(3−{(3S)−3−[2−(4−クロロフェニル)−4−メチルチアゾール−5−カルボキサミド]ピペリジノ}ベンゾイルオキシ)−3,4−ビス(アリルオキシカルボニルオキシ)−3,4−ジヒドロ−2H−ピラン−6−カルボン酸アリルをそれぞれ表す。
測定条件C
カラム;ジーエルサイエンス Inertsil(登録商標) ODS−3 (4.6φ×150mm)、
プレカラム;ジーエルサイエンス Inertsil(登録商標) ODS−3 (4.0φ×10mm)、
移動相;A液 メタノール、B液 薄めたリン酸(1→1000)溶液、0〜20分; A:B=85:15(アイソクラティック)、
測定波長:220 nm、
カラム温度:30℃、
流量:1.0 mL/min。
Figure 2013157267
反応条件として、TMCEを用いる場合は、いずれの条件においても、反応は収率良く進行し、良好なβ選択性で目的物を与えた(実施例12〜16)。
一方で、EDCIのような縮合剤を用いた場合(比較例1)や、PPh/DIADを用いた光延反応条件を利用した場合(比較例2)では、効率よく反応は進行せず、また選択性も充分ではなかった。
次に、Alloc基及びアリル基の除去方法を実施例により説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
(実施例17)
1−O−(3−{(3S)−3−[2−(4−クロロフェニル)−4−メチルチアゾール−5−カルボキサミド]ピペリジノ}ベンゾイル)−β−D−グルクロン酸
1−O−(3−{(3S)−3−[2−(4−クロロフェニル)−4−メチルチアゾール−5−カルボキサミド]ピペリジノ}ベンゾイル)−2,3,4−トリ−O−アリルオキシカルボニル−β−D−グルクロン酸アリル(7.00g, 7.57mmol)と5,5−ジメチルシクロヘキサン−1,3−ジオン(6.36g, 45.4mmol)をテトラヒドロフラン(350mL)に溶解し、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(874mg, 0.757mmol)を加え、反応液とした。反応液を室温で2時間30分撹拌した。反応液にQuadraPureTMMPA(シグマアルドリッチ社、4.37g)とテトラヒドロフラン(30mL)の混合物を加え、室温で15時間撹拌した。反応液をろ過し、不溶物をテトラヒドロフラン(200mL)で洗浄後、ろ液と洗浄液を合一し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することで淡黄白色固体4.10gを得た.
この淡黄白色固体(2.00g)及びアセトニトリル(126mL)の懸濁液を加熱撹拌し、内温50.0℃で精製水(54.0mL)を投入した。更に加熱し、内温66.1℃で不溶物をろ去し、アセトニトリル(14.0mL)及び精製水(6.00mL)の混液で洗浄し、ろ液と洗浄液を合一した。得られた溶液を冷却後、内温44.5℃で種晶を加えた。晶析確認後、懸濁液を内温43.8℃〜44.0℃で15分間撹拌し、続いて37.4℃〜40.0℃で1時間撹拌した。懸濁液を徐々に冷却し、内温15.0℃〜9.9℃で45分間撹拌した。析出した結晶をろ取し、アセトニトリル(22.0mL)で洗浄後、室温で5時間減圧乾燥し、アセトニトリル−水再結晶品を1.66g得た。
精製水(150mL)に内温26.3℃でアセトニトリル-水再結晶品(1.50g)を投入後、加熱し、内温35.0℃〜39.8℃で1時間撹拌した。徐々に冷却し、内温12.3℃で結晶をろ取し,精製水(22.5mL)で洗浄後、湿潤結晶を2.83g得た。室温で3時間30分間減圧乾燥し、水懸濁一回目品を1.44g得た。
精製水(123mL)に内温25.5℃で水懸濁一回目品(1.23g)を投入後、加熱し、内温35.0℃〜39.2℃で1時間撹拌した。徐々に冷却し、内温13.0℃で結晶をろ取し、精製水(18.5mL)で洗浄後、湿潤結晶を1.91g得た。室温で1時間30分間減圧乾燥後、設定温度30℃で24時間送風乾燥し、淡黄白色固体の1−O−(3−{(3S)−3−[2−(4−クロロフェニル)−4−メチルチアゾール−5−カルボキサミド]ピペリジノ}ベンゾイル)−β−D−グルクロン酸を1.20g得た(収率:67%)。
MS(ESI+) m/z:632[M+H]
HRMS(ESI+) m/z:632.14686(Calcd C2931ClNS: 632.14695)
IR(KBr):3244cm−1,1724cm−1,1625cm−1,1259cm−1
H−NMR(400 MHz,DMSO−d)δ:1.54−1.70(2H,m), 1.77−1.90(1H,m), 1.89−2.00(1H,m), 2.61(3H,s), 2.77−2.90(2H,m), 3.36−3.50(3H,m), 3.64(1H,d,J = 12.2 Hz), 3.73−3.80(1H,m), 3.83(1H,d,J = 8.8 Hz), 3.93−4.00(1H,m), 5.29(1H,d,J = 3.9 Hz), 5.52(1H,d,J = 4.9 Hz), 5.60(1H,d,J = 7.3 Hz), 7.30(1H,d,J = 8.3 Hz), 7.39(1H,t,J = 7.8 Hz), 7.43(1H,d,J = 7.3 Hz), 7.54(1H,brs), 7.59(2H,d,J = 8.3 Hz), 7.96(2H,d,J = 8.3 Hz),
8.29(1H,d,J = 7.3 Hz).
mp(熱板法):168〜170℃
HPLC相対純度:99.9%、カラム:Waters Sun FireTMC18,4.6 mm × 250 mm(5μm)、移動相:薄めたリン酸(1→1000) (A液)、アセトニトリル(B液)、0〜5分;A:B=90:10(アイソクラティック)、5〜45分;A:B=90:10 → 10:90(リニアグラジエント)、45〜55分;A:B=10:90(アイソクラティック)、測定波長:228 nm、カラム温度:20℃、流量:1.0 mL/min.
(実施例18〜実施例20)
実施例17と同様の方法で、表3に記載の反応条件で反応を行い、1−O−(3−{(3S)−3−[2−(4−クロロフェニル)−4−メチルチアゾール−5−カルボキサミド]ピペリジノ}ベンゾイル)−β−D−グルクロン酸を得た。その結果を表3に示す。表3中、モル当量は、1−O−(3−{(3S)−3−[2−(4−クロロフェニル)−4−メチルチアゾール−5−カルボキサミド]ピペリジノ}ベンゾイル)−2,3,4−トリ−O−アリルオキシカルボニル−β−D−グルクロン酸アリルを基準としている。
Figure 2013157267
次に、2,3,4−トリ−O−アリルオキシカルボニル−D−グルクロン酸アリルの製造方法を実施例により説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
なお,実施例21〜22で原料として使用されている1,2,3,4−テトラ−O−アリルオキシカルボニル−D−グルクロン酸アリルは、非特許文献3「J. Org. Chem. 2006, 71, 9628−9636」に記載の方法に従って製造できる。

(実施例21)
2,3,4−トリ−O−アリルオキシカルボニル−D−グルクロン酸アリル
1,2,3,4−テトラ−O−アリルオキシカルボニル−D−グルクロン酸アリル(100g,175mmol)をテトラヒドロフラン(860mL)に溶解し、氷冷下で28%アンモニア水(35.5mL,526mmol)を滴下した。得られた溶液を氷冷下で5時間撹拌した後、1mol/L塩酸(600mL)を加え、有機層を分離した。水層を酢酸エチル(100mL×2)で抽出し、有機層を合一し、10%食塩水(800mL)で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウム用いて乾燥した。硫酸ナトリウムをろ別した後、ろ液を減圧濃縮した。得られた濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することで黄色油状物の2,3,4−トリ−O−アリルオキシカルボニル−D−グルクロン酸アリルを49.3g(収率58%)得た。
H−NMR(400 MHz,CDCl)δ:3.89(1H,d,J=3.9Hz),4.58−4.71(9H,m),4.81(1H,dd,J=3.4Hz,6.8Hz),5.08(1H,t,J=10.3Hz),5.24−5.38(8H,m),5.47(1H,t,J=10.3Hz),5.64−5.66(1H,m),5.84−5.95(8H,m).
(実施例22)
2,3,4−トリ−O−アリルオキシカルボニル−D−グルクロン酸アリル
1,2,3,4−テトラ−O−アリルオキシカルボニル−D−グルクロン酸アリル(4.30g,7.54mmol)をテトラヒドロフラン(25mL)に溶解し、氷冷下でピロリジン(0.94mL,11.4mmol)のテトラヒドロフラン(11mL)溶液を滴下した。得られた溶液を氷冷下で1時間20分撹拌した後、冷蔵庫内で一晩静置した。酢酸エチル(100mL)と0.5mol/L塩酸(60mL)を加え、有機層を分離した。有機層を10%食塩水(60mL)で洗浄し、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥した。硫酸ナトリウムをろ別した後、ろ液を減圧濃縮した。得られた濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することで黄色油状物の2,3,4−トリ−O−アリルオキシカルボニル−D−グルクロン酸アリルを1.66g(収率45%)得た。
(実施例23〜30)
1,2,3,4−テトラ−O−アリルオキシカルボニル−D−グルクロン酸アリルのテトラヒドロフラン溶液に,表4に示す脱保護剤を加えて混和した。反応液のTLC(シリカゲル60,酢酸エチル:n−ヘキサン=1:1)によるモニタリングを行い,反応の進行が確認されたものについては以下の操作を行った。
具体的には、反応液を酢酸エチルで希釈し,0.5mol/L塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し,有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し,減圧濃縮した。得られた残渣を重クロロホルムに溶解し,1H NMRを測定した。
TLCによる反応モニタリング及び1H NMR測定結果を表4に示す。
表4において,「基質」とは1,2,3,4−テトラ−O−アリルオキシカルボニル−D−グルクロン酸アリルであり,「目的物」とは2,3,4−トリ−O−アリルオキシカルボニル−D−グルクロン酸アリルであり,「ジオール」とは2,3,4−トリ−O−アリルオキシカルボニル−D−グルクロン酸アリルからさらに1つのアリルオキシカルボニル基が脱保護された化合物である。
なお、表4において、脱保護剤のモル当量は、基質である1,2,3,4−テトラ−O−アリルオキシカルボニル−D−グルクロン酸アリルを基準としている。
(比較例3〜7)
表4に記載された脱保護試薬および反応条件を用いて、実施例23〜30と同様の操作で、反応を行った。
Figure 2013157267
脱保護試薬としてアンモニア、ピロリジン、ベンジルアミンを用いた場合に、目的物である2,3,4−トリ−O−アリルオキシカルボニル−D−グルクロン酸アリルが優先的に得られた(実施例23〜27)。特にアンモニアを用いると、副生成物の生成が抑制できた(実施例26,27)。モルホリン、ヒドラジン、n−ブチルアミンを用いた場合でも,目的物の生成が確認できた。一方,ジアルキルアミンや,窒素原子に隣接する炭素原子が2級もしくは3級炭素であるアミンを用いた場合は,脱保護反応が進行しなかった(比較例3〜7)。
(比較例8)
1−O−(3−{(3S)−3−[2−(4−クロロフェニル)−4−メチルチアゾール−5−カルボキサミド]ピペリジノ}ベンゾイル)−β−D−グルクロン酸アリル
D−グルクロン酸アリル(5.14g, 21.9mmol)、3−{(3S)−3−[2−(4−クロロフェニル)−4−メチルチアゾール−5−カルボキサミド]ピペリジノ}安息香酸(10.0g, 21.9mmol)およびN−メチルモルホリン(7.22mL, 65.7mmol)のアセトニトリル(220mL)懸濁液に、O−(7−アザベンゾトリアゾール−1−イル)−N,N,N’,N’−テトラメチルウロニウム ヘキサフルオロホスフェート(8.33g, 21.9mmol)を加え、反応液とした。反応液を25℃で13時間撹拌した。反応液をテトラヒドロフラン(750mL)中に加え、均一溶液とした後、減圧濃縮した。得られた残渣をカラムクロマトグラフィーで精製し、目的物を含む混合物を9.58g得た。この混合物をカラムクロマトグラフィーで精製し、目的物を含む混合物を5.51g得た。この混合物をテトラヒドロフラン(100mL)に溶解し、減圧濃縮した。得られた残渣に酢酸エチル(100mL)を加え、50℃で45分間、25℃で30分間攪拌した。析出晶を濾取し、酢酸エチル(20mL)で洗浄後、減圧乾燥することにより、淡黄色粉末の目的物を2.87g得た。濾液を濃縮し、得られた残渣をカラムクロマトグラフィーで精製し、淡黄色粉末の表題化合物を515mg得た。両者を合一し,酢酸エチル(30mL)に懸濁させ、50℃で1時間、室温で75分間攪拌した。析出晶を濾取し、酢酸エチル(20mL)で洗浄後、減圧乾燥することにより、淡黄色粉末の1−O−(3−{(3S)−3−[2−(4−クロロフェニル)−4−メチルチアゾール−5−カルボキサミド]ピペリジノ}ベンゾイル)−β−D−グルクロン酸アリルを2.86g(収率19%)得た。
1−O−(3−{(3S)−3−[2−(4−クロロフェニル)−4−メチルチアゾール−5−カルボキサミド]ピペリジノ}ベンゾイル)−β−D−グルクロン酸
1−O−(3−{(3S)−3−[2−(4−クロロフェニル)−4−メチルチアゾール−5−カルボキサミド]ピペリジノ}ベンゾイル)−β−D−グルクロン酸アリル(600mg,894μmol)およびジメドン(500mg,3.57mmol)のテトラヒドロフラン(18mL)溶液に、氷冷下、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(207mg,179μmol)を加え、反応液とした。反応液を氷冷下で2時間撹拌した。反応液を濃縮して得られた残渣をカラムクロマトグラフィーで精製することで黄色粉末398mgを得た。これを水(20mL)に懸濁後、2mol/L塩酸(1mL)とアセトン(20mL)を順次添加し、室温で1時間撹拌した。不溶物を濾去し、溶媒を留去して得られた残渣に水(10mL)を加え、結晶を濾取し、水(10mL)で洗浄後、減圧乾燥し、黄色粉末312mgを得た。これをアセトン(10mL×2)で洗浄後、減圧乾燥し、微黄色粉末221mgを得た。これに水をはったデシケーター中、4℃で3日間吸湿させた後、室温で1日間放置することにより、微黄色粉末の1−O−(3−{(3S)−3−[2−(4−クロロフェニル)−4−メチルチアゾール−5−カルボキサミド]ピペリジノ}ベンゾイル)−β−D−グルクロン酸を224mg(収率39%)得た。
比較例8は非特許文献6に記載の方法により、アシルグルクロン酸抱合体の製造を試みた例である。全工程の収率は7.4%であり、医薬品試験用の化合物を提供するには不十分な収率であった。
本実施形態によれば、カルボキシ基を有する薬物の主代謝物であるアシルグルクロン酸誘導体を効率的に製造することができる。アシルグルクロン酸誘導体は、カルボキシ基を有する化合物の毒性試験を行うために必要な化合物であり、これらの製造方法を提供することは、医薬品開発において重要である。したがって、本発明は産業上利用可能である。

Claims (12)

  1. 式(3)で表される化合物を用いる工程を含む、アシルグルクロン酸抱合体の製造方法。
    Figure 2013157267
  2. 前記式(3)で表される化合物とカルボン酸とを反応させる工程1と、
    前記工程1により得られた化合物と式(4)で表される化合物とを反応させる工程2と、
    前記工程2により得られた化合物について水酸基及びカルボキシ基の脱保護を行う工程3とを含む請求項1に記載のアシルグルクロン酸抱合体の製造方法。
    Figure 2013157267
    式(4)中、Allocは、アリルオキシカルボニル基を表す。
  3. 前記カルボン酸が式(2)で表される化合物であり、前記アシルグルクロン酸抱合体が式(1)で表される化合物である請求項2に記載のアシルグルクロン酸抱合体の製造方法。
    Figure 2013157267
    式(1)中、Rは水素原子、置換基を有しても良いC1−C6アルキル基、置換基を有しても良いC2−C6アルケニル基、置換基を有しても良いC2−C6アルキニル基、置換基を有しても良いC3−C10シクロアルキル基、置換基を有しても良い4−10員環のヘテロシクロアルキル基、置換基を有しても良い芳香族炭化水素基、または置換基を有しても良い芳香族へテロ環基を表す。
    Figure 2013157267
    式(2)中、Rは上記定義と同じ。
  4. 前記式(2)で表される化合物が、式(2−1)で表される化合物または式(2−2)で表される化合物である請求項3に記載のアシルグルクロン酸抱合体の製造方法。
    Figure 2013157267
    式(2−1)中、Rは、置換基を有しても良いC2−C6アルケニル基、置換基を有しても良いC3−C10シクロアルキル基、置換基を有しても良い芳香族炭化水素環基、または置換基を有しても良い芳香族へテロ環基を表す。
    Figure 2013157267
    式(2−2)中、R、RおよびRは、水素原子、置換基を有しても良いC1−C6アルキル基、置換基を有しても良いC2−C6アルケニル基、置換基を有しても良いC2−C6アルキニル基、置換基を有しても良いC3−C10シクロアルキル基、置換基を有しても良い4−10員環のヘテロシクロアルキル基、置換基を有しても良い芳香族炭化水素環基、または置換基を有しても良い芳香族へテロ環基を表す。R、RおよびRのうち少なくとも2つは水素原子以外の官能基である。R、RおよびRが水素原子以外の官能基であるとき、R、RおよびRは同一でも異なっていてもよい。R、RおよびRのうちいずれか1つが水素原子であるとき、他の2つの官能基は同一でも異なっていてもよい。
  5. 前記式(2)で表される化合物が、式(2−3)で表される化合物、または式(2−4)で表される化合物である請求項3に記載のアシルグルクロン酸抱合体の製造方法。
    Figure 2013157267
    式(2−3)中、Rは、置換基を有しても良い芳香族炭化水素環基、または置換基を有しても良い芳香族へテロ環基を表す。
    Figure 2013157267
    式(2−4)中、R、RおよびRは、それぞれ独立して、置換基を有しても良いC1−C6アルキル基、置換基を有しても良いC2−C6アルケニル基、置換基を有しても良いC2−C6アルキニル基、置換基を有しても良いC3−C10シクロアルキル基、置換基を有しても良い4−10員環のヘテロシクロアルキル基、置換基を有しても良い芳香族炭化水素環基、または置換基を有しても良い芳香族へテロ環基を表す。
  6. 前記式(2)で表される化合物が、式(2−5)で表される化合物である請求項3に記載のアシルグルクロン酸抱合体の製造方法。
    Figure 2013157267
    式(2−5)中、Rは、カルボン酸のオルト位の少なくとも1つが水素原子である置換基を有しても良い芳香族炭化水素環基、またはカルボン酸のオルト位の少なくとも1つが水素原子またはヘテロ原子である置換基を有しても良い芳香族へテロ環基を表す。
  7. Alloc基によって保護されている、式(5)で表される化合物が有するグルクロン酸の1位に結合する水酸基(以下、1位水酸基という)を、アンモニア、ヒドラジン、メチルアミン、炭素原子上に1つのC1−C5アルキル基である置換基を有するメチルアミン、芳香環上に置換基を有しても良いベンジルアミン、またはヘテロ原子を有しても良いC3−C6環状アルキルアミンを用いて脱保護する工程を含む、式(4)で表される化合物の製造方法。
    Figure 2013157267
    式(4)中、Allocは、アリルオキシカルボニル基を表す。

    Figure 2013157267
    式(5)中、Allocは、上記定義と同じ。
  8. アンモニア、ヒドラジン、n−ブチルアミン、ピロリジン、モルホリン、またはベンジルアミンを用いて前記1位水酸基を脱保護する請求項7に記載の前記式(4)で表される化合物の製造方法。
  9. アンモニアを用いて前記1位水酸基を脱保護する請求項7に記載の前記式(4)で表される化合物の製造方法。
  10. Alloc基によって保護されている、式(5)で表される化合物が有するグルクロン酸の1位に結合する水酸基(以下、1位水酸基という)を、アンモニア、ヒドラジン、メチルアミン、炭素原子上に1つのC1−C5アルキル基である置換基を有するメチルアミン、芳香環上に置換基を有しても良いベンジルアミン、またはヘテロ原子を有しても良いC3−C6環状アルキルアミンを用いて脱保護する工程4をさらに含み、前記工程2において用いられる前記式(4)で表される化合物を前記式(5)で表される化合物から得る、請求項2から6のいずれか1つに記載のアシルグルクロン酸抱合体の製造方法。
    Figure 2013157267
    式(5)中、Allocは、上記定義と同じ。
  11. アンモニア、ヒドラジン、n−ブチルアミン、ピロリジン、モルホリン、またはベンジルアミンを用いて前記1位水酸基を脱保護する、請求項10に記載のアシルグルクロン酸抱合体の製造方法。
  12. アンモニアを用いて前記1位水酸基を脱保護する、請求項10または11に記載のアシルグルクロン酸抱合体の製造方法。
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