JPWO2013146945A1 - 粒子線の遠隔多門照射装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 オペレータが照射室に入らずに，遠隔操作にて多門照射を行うことができる粒子線の多門照射装置を提供する【解決手段】 本発明の粒子線の遠隔多門照射装置は，照射室１５と制御室２１とを有する。照射室は，粒子線を照射対象１１に出射する照射装置１２と，照射装置１２の位置及び方向を制御する照射制御装置１３と，照射対象１１と，を支持する支持台１４とを含む。一方，制御室２１は，制御装置２２と遠隔操作用コントローラ４１を有する。制御装置２２は，照射制御装置１３を制御することで，照射装置１２の位置及び方向を制御する。【選択図】図１

Description

本発明は，粒子線の遠隔多門照射装置に関するものである。

例えば，特開２００９−８９８５３号公報（特許文献１）には，粒子線照射方法が開示されている。この公報では，正常な臓器を経なければ対象部位に粒子線を照射できない場合は，多門照射を行うことが開示されている（同公報の段落００１７）。

特開２００８−２２９９４号公報（特許文献２）には，粒子線照射部（照射室）と診断支援部（制御室）とを同一フロアに配置した粒子線治療装置が開示されている。しかしながら，この装置は，多門照射を行う場合，その都度照射室にオペレータが入室し，粒子線照射部を調整する必要があった。

多門照射を行う場合，粒子線を照射するたびにオペレータが粒子線放出装置の位置を動かしていた（渡辺令，小野伸雄，永井勝美，日本医学放射線学会雑誌第２３巻第７号３３〜４０頁昭和３８年１０月２５日：非特許文献１）。

特開２００９−８９８５３号公報 特開２００８−２２９９４号公報

渡辺令，小野伸雄，永井勝美，日本医学放射線学会雑誌第２３巻第７号３３〜４０頁昭和３８年１０月２５日

従来の多門照射のように粒子線を照射するたびにオペレータが照射室に入り，粒子線の照射方向を調整すると，粒子線治療に時間がかかるという問題があった。

本発明は，オペレータが照射室に入らずに，遠隔操作にて多門照射を行うことができる粒子線の多門照射装置を提供することを目的とする。

本発明は，粒子線の多門照射を迅速に行うことができる粒子線の多門照射装置を提供することを目的とする。

本発明は，基本的には，粒子線照射装置を照射室とは別の部屋から遠隔操作することで，粒子線の遠隔多門照射を行うことができるという知見に基づくものである。

本発明の粒子線の遠隔多門照射装置は，照射室１５と制御室２１とを有する。照射室は，粒子線を照射対象１１に出射する照射装置１２と，照射装置１２の位置及び方向を制御する照射制御装置１３と，照射対象１１を支持する支持台１４とを含む。照射室１５は，従来の粒子線照射装置と同様に，照射制御装置１３をその近傍にて駆動させる操作コントローラ１７を含んでもよい。本発明の粒子線の遠隔多門照射装置は，患者コリメータ（多葉コリメータ，以下，ＭＬＣと略す）の形を確認するＭＬＣ遠隔監視カメラ１８を含む。一方，制御室２１は，制御装置２２を含む。制御室２１は表示部４２を更に有するものが好ましい。制御装置２２は，好ましくは，照射室１５内の照射制御装置１３のコントローラと同等の機能を有する遠隔操作用コントローラ４１を含む。制御装置２２と遠隔操作用卓上コントローラ４１は，照射制御装置１３を制御することで，照射装置１２の位置及び方向を制御する。

粒子線の遠隔多門照射装置の好ましいものは，制御装置２２が，照射制御装置１３が制御した照射装置１２のそれぞれの位置及び方向から照射対象１１に照射する粒子線の照射野に関する情報を記憶するものである。これによりこの粒子線の遠隔多門照射装置は，照射装置が複数の位置及び方向から照射対象に粒子線を照射した場合であっても適切な線量を照射対象へ照射できる。また，遠隔操作用コントローラ４１を有する場合は，従来の照射制御装置１３の近傍に存在する操作コントローラ１７と同様の操作にて，照射制御装置１３をコントロールできる。

粒子線の遠隔多門照射装置の好ましいものは，照射装置１２から照射される粒子線に伴い照射対象から発生する陽電子を検出して画像化する画像化装置３１をさらに有するものである。

粒子線の遠隔多門照射装置の好ましいものは，照射対象のＸ線撮影を行うＸ線撮影装置３２をさらに有するものである。

従来は，多門照射の際は，粒子線を照射するたびにオペレータが照射室に入って照射装置を制御していた。しかし，本発明によれば，粒子線を遠隔操作することで，治療時間を短縮することができ，患者への負担を著しく軽減できる。

図１は，本発明の粒子線の遠隔多門照射装置を説明するための概念図である。 図２は，ＭＬＣ遠隔監視カメラと照射装置の構成例を示す概念図である。 図３は，画像化装置及びＸ線撮影装置を有する粒子線照射装置を示す概念図である。 図４は，粒子線の遠隔多門照射装置の設計図である。

本発明は，粒子線の遠隔多門照射装置に関する。粒子線照射装置は，炭素イオン線等の重粒子線や陽子線に代表される荷電粒子線（以下「粒子線」という）を，腫瘍や癌などの患部に照射し治療を行う医療装置である。粒子線の多門照射装置は，多方向から強度などを調整した粒子線を照射することにより患部を適切な線量で治療し，周辺組織の被曝を軽減するものである。なお，患部などの照射対象に対して多方向から粒子線を照射することを，粒子線の多門照射という。粒子線の遠隔多門照射装置は，粒子線の多門照射装置において，粒子線の照射方向などを照射室の外から制御する装置を意味する。

図１は，本発明の粒子線の遠隔多門照射装置を説明するための概念図である。図１に示されるように，本発明の粒子線の遠隔多門照射装置は，照射室１５と制御室２１とを有する。照射室１５は，治療室ともよばれ，患者などの照射対象に対して粒子線を照射することで腫瘍などを治療するための部屋である。一方，制御室２１は，照射室１５とは別の空間に存在する部屋であり，照射室１５の照射システムと駆動システムを制御するための制御装置を有する部屋である。

照射室１５は，粒子線を照射対象１１に出射する照射装置１２と，照射装置１２の位置及び方向を制御する照射制御装置１３と，照射対象１１を支持する支持台１４とを含む。

照射装置１２は，粒子線を出射するための装置である。粒子線の例は，炭素イオン線等の重粒子線や陽子線に代表される荷電粒子線である。粒子線の照射装置は，既に知られているため（例えば，特許文献１，２及び非特許文献１を参照），本発明では公知の照射装置を適宜用いることができる。照射装置１２は，例えば，ワブラー電磁石，散乱体，リッジフィルタ，ブロックコリメータ，多葉コリメータ及びボーラスのいずれか又は全てを含む。ワブラー電磁石は，粒子線を回転磁場で回転させ照射野を平たん化させるための電磁石である。このワプラー電磁石の駆動は，後述する制御装置により制御できるようにされるものが好ましい。散乱体は，ワブラー電磁石により広げられた粒子線をさらに散乱させるための要素である。リッジフィルタは癌などの治療厚さに合わせて粒子線のブラッグピークの幅や奥行き方向を変化させるための要素である。ブロックコリメータは，必要な範囲外の粒子線を遮断するための要素である。多葉コリメータは，患者コリメータともよばれ，複数の可動リーフを有し，粒子線を癌などの形状に合わせるための要素である。ボーラスは，粒子線の飛程を癌などの形状に合わせて調整するための要素である。多葉コリメータ及びボーラス部分は，スノートとよばれる照射筒の内部に設けられていてもよい。スノート内部に取り付けられる多葉コリメータ（患者コリメータ）によってビームから見た患部の横方向（断面方向）の形状を形成する。そして，スノート内部に取り付けられるボーラス，即ち部分的に厚さの異なるエネルギー吸収体により粒子線が患部底部形状に応じた深度で止まるように調整する。照射装置１２は，１つであってもよいし，複数（例えば２個以上１０個以下）であってもよい。照射装置１２が複数存在すれば，照射対象に対して少ない頻度で粒子線照射を行えばよくなるため，治療時間を軽減できる。

照射制御装置１３は，照射装置１２の位置及び方向を制御するための装置である。照射制御装置１３の例は，照射装置１２を把持する把持部と，把持部の空間的位置を制御する位置制御部と，把持部の方向を制御する方向制御部とを有するものである。照射装置１２及び照射制御装置１３は，例えば，回転ガントリの中に組み込まれているか，又は回転ガントリの一部とされている。すなわち，本発明の照射装置の好ましい例は，照射方向を任意に設定可能な回転ガントリを有する回転ガントリ照射装置である。照射方向が一定の固定照射装置であってもよい。

支持台１４は，照射対象１１を支持するための要素である。支持台１４の例は，患者を載せるベッドである。支持台１４には，アクチュエータが備えられており，制御装置などからの指令に基づいて上下左右前後に移動することができるものが好ましい。

照射室１５は，照射制御装置１３を操作するための操作コントローラ１７を含んでもよい。この操作コントローラ１７は，従来の粒子線照射装置に存在したものであってもよい。この操作コントローラ１７を用いることで，照射制御装置１３を調整し，照射対象である患者等に対し，適切に粒子線を照射できる。粒子線照射を遠隔操作する場合は，操作コントローラ１７を用いなくてもよい。また，医療スタッフが最初に粒子線を照射するために粒子線照射装置を調整する場合にのみ操作コントローラ１７を用いてもよい。この操作コントローラ１７は，ボタンなどにより情報を入力するものやタッチパネルにより情報を入力できるようにされているものが好ましい。

照射室１５は，ＭＬＣ遠隔監視カメラ１８を有する。この場合，照射装置１２は，多葉コリメータ（ＭＬＣ）を有するものである。この多葉コリメータは，粒子線が患者に照射される形状を調整する機能を有する。照射装置２１の位置や方向（角度）が変化した場合，正常な臓器にできるだけ粒子線が照射されず，対象部位のみを被爆することができるよう，多葉コリメータの形状を調整することが好ましい。本発明の好ましい態様では，ＭＬＣ遠隔監視カメラ１８が，照射装置１２内の多葉コリメータの形状を撮影し，制御室内の表示部４２に多葉コリメータの形状を表示するため，制御室において多葉コリメータの形状を確認しつつ，照射装置を制御できる。なお，制御装置２２は，あらかじめ，照射装置１２の位置と角度に応じた多葉コリメータの形状に関する情報を記憶しておいてもよい。その場合，制御装置２２は，照射対象に粒子線が照射され，照射装置１２の位置及び方向が変化するに応じて，多葉コリメータの形状を調整するように照射制御装置１３又は照射装置１２に対して指令を出せばよい。ＭＬＣ遠隔監視カメラ１８を有するため，照射装置１２内の多葉コリメータの形状を撮影でき，制御室２１内の表示部４２に表示することで，多葉コリメータの形状を確認できる。

図２は，ＭＬＣ遠隔監視カメラと照射装置の構成例を示す概念図である。図２に示されるものは，照射装置に含まれる多葉コリメータ２４の形状がミラー２５を経て，ＭＬＣ遠隔監視カメラ１８により撮影される。このＭＬＣ遠隔監視カメラ１８により撮影された映像は，例えば，制御室２１内の制御装置２２により，表示装置４２に表示できる情報に処理される。

図３は，画像化装置及びＸ線撮影装置を有する粒子線照射装置を示す概念図である。図３に示されるように，照射室１５は，画像化装置３１がさらに設けられていてもよい。画像化装置３１は，照射装置１２から照射される粒子線に伴い照射対象から発生する陽電子を検出して画像化するための装置である（特許文献２を参照）。画像化装置３１は，ＰＥＴ診断支援部やモニタリング装置ともよばれる。ＰＥＴ診断支援部は，粒子線（陽子線）照射部で患者に照射した陽子線によって患者の体内に自己放射化によって陽電子放出核が生成し，その陽電子の対消滅により発生するガンマ線に反応して発生する光子を電気（検出）信号として取り出すシンチレータアレイと，陽子線照射に同期して前記シンチレータアレイから出力される電気信号を取り込むことにより間接的に前記ガンマ線を測定する陽電子消滅ガンマ線測定部を有する。画像化装置３１は，Ｘ線ＣＴ装置やＭＲＩ画像診断装置とあわせて，粒子線照射治療中のリアルタイムのモニタリングを可能とし，診断の精度向上や治療の改善をはかり，医療の確実性と安全性を向上させることができる。

図３に示されるように，粒子線の遠隔多門照射装置は，照射対象のＸ線撮影を行うＸ線撮影装置３２をさらに有してもよい。Ｘ線撮影装置３２は，たとえば，ベッド位置決めに用いられる。ベッド位置決めとは，一般に，治療計画装置から出力されたＤＲＲ（Ｄｉｇｉｔａｌ Ｒｅｃｏｎｓｔｒｕｃｔｅｄ Ｒａｄｉｏｇｒａｐｈ）画像と治療のための粒子線照射の前にＸ線撮像装置を用いて支持台（以下，ベッド）の上に患者を寝かせた状態で撮影するＸ線画像（ＤＲ画像，Ｄｉｇｉｔａｌ Ｒａｄｉｏｇｒａｐｈ画像）とを比較することで，治療計画時に決定した照射標的の位置と現在のベッド上の照射標的の位置とのズレを算出し，ベッドの移動量を求め，ベッド（患者）を位置決めするプロセスである。このようなベッド位置決め時に，現在のベッド上の照射標的をＸ線撮影するのがＸ線撮像装置である。Ｘ線画像撮像装置は，Ｘ線発生装置（Ｘ線源）と，このＸ線発生装置から放射されたＸ線を受信するＸ線受像装置を有する。Ｘ線受像装置はが，Ｘ線発生装置から放射されたＸ線を受信するように，Ｘ線発生装置に対向する位置に配置される。ベッドは，Ｘ線発生装置とＸ線受像装置との間に位置する。

制御室２１は，照射室１５とは別の空間に存在する部屋である。制御室２１と照射室１５とは，別のフロアに存在してもよいし同じフロアに存在してもよい。制御室２１は，制御装置２２（及び遠隔操作用コントローラ４１）を有する。制御装置２２の例は，コンピュータである。コンピュータは，入出力部，演算部，制御部及び記憶部を有し，それぞれの要素が情報の授受を行うことができるようにバス等で接続されている。制御装置２２と遠隔操作用コントローラ４１は，照射制御装置１３を制御することで，照射装置１２の位置及び方向を制御する。制御装置２２と遠隔操作用コントローラ４１は，照射装置１２の粒子線照射量を制御するものであってもよい。制御装置２２は，先に説明した画像化装置３１及びＸ線撮影装置３２を制御するものであってもよい。遠隔操作用コントローラ４１が制御装置２２として機能してもよい。また，表示部がタッチパネルとなっており，このタッチパネルが制御装置２２として機能してもよい。

粒子線の遠隔多門照射装置の好ましいものは，制御装置２２が，照射制御装置１３が制御した照射装置１２のそれぞれの位置及び方向から照射対象１１に照射する粒子線の照射野に関する情報を記憶するものである。これによりこの粒子線の遠隔多門照射装置は，照射装置が複数の位置及び方向から照射対象に粒子線を照射した場合であっても適切な線量を照射対象へ照射できる。また，遠隔操作用コントローラ４１を有する場合は，従来の照射制御装置１３の近傍に存在する操作コントローラ１７と同様の操作にて，照射制御装置１３をコントロールできる。制御室２１は，表示部４２を有してもよい。表示部４２は，例えば，制御装置２２と接続されている。そして，ＭＬＣ遠隔監視カメラ１８により撮影された多葉コントローラの映像は，制御装置２２を介して，表示部４２に適宜表示されるようにしてもよい。

次に，本発明の粒子線の遠隔多門照射装置を用いた治療方法の例を説明する。以下の例では，ひとつの照射装置１２を用いる治療方法を説明する。しかしながら，照射装置１２は，２つ以上存在してもよい。

まず，患者が照射室１５に入室する。すると，医療スタッフが患者を支持台１４に固定する。その後，医療スタッフは，支持台１４を移動させ，患者の粗位置決めを実施する。この患者の粗位置決めを行う。医療スタッフは，Ｘ線撮像装置をセットする。すなわち，Ｘ線発生装置とＸ線受像装置とが対向する位置であって，これらを結ぶ線上に支持台１４上の患者の患部が位置するように，Ｘ線発生装置及びＸ線受像装置を移動する。

医療スタッフは，Ｘ線制御卓からＸ線撮像開始信号を入力する。このＸ線撮像開始信号を受信したＸ線撮像装置は，Ｘ線発生装置からのＸ線の放射を開始する。Ｘ線発生装置から放射されて患者患部を通過したＸ線を，Ｘ線受像装置で受信することによって，患者患部の正面又は側面からのＸ線撮像をする。Ｘ線画像の作成に必要なＸ線画像データが取得されると，Ｘ線発生装置からのＸ線照射が停止される。

上記の工程は，Ｘ線発生装置を有さない場合は省略できる。

医療スタッフは，照射室１５内にいる患者位置を確認する。Ｘ線受像装置は，受信したＸ線画像データを，位置決め支援に出力する。位置決め支援システムは，受信したＸ線画像データから，患者患部の現在画像を作成し，表示装置に表示する。また，位置決め支援システムは，事前に治療計画装置から受信して記憶装置に記憶していた患者の治療計画画像を読み込み，表示装置に表示する。位置決め支援システムは，表示装置に表示された現在画像と治療計画画像とを比較し，支持台１４にある現在の照射標的の位置と治療計画時に決定した照射標的の位置とがずれているか否か（予め定められた許容範囲内にあるか）を判断する。現在の照射標的の位置が，治療計画時の照射標的の位置からずれている（許容範囲外である）と判断した場合，位置決め操作者，もしくは，位置決め支援システムは，照射標的の位置を一致させる（許容範囲内とする）ために，この照射標的の位置のズレ量に基づいて，支持台１４の移動量を求める。支持台制御装置（図示せず）は，位置決め支援システムからの支持台移動量を受信すると，この支持台移動量に基づいて，支持台１４を移動させて患者位置の微調整を行う。支持台１４が停止すると，医療スタッフは，必要に応じて，Ｘ線操作卓からＸ線撮像開始信号を入力し，再度，Ｘ線撮影を実施し，位置確認を行う。位置決め支援システムが，支持台１４にいる現在の照射標的の位置と治療計画時に決定した照射標的の位置とが一致していると判断した場合（予め定められた許容範囲内であり，照射標的の位置が一致していると判断された場合），Ｘ線撮像が終了し，ベッド位置決めが終了する。

医療スタッフは，粒子線照射のための準備を開始する。具体的には，支持台１４に横たわる患者に対応する患者コリメータ（多葉コリメータ）を，照射装置１２内のビーム軌道上に設置する。その後，回転ガントリを１門目の所定の回転角度に回転し，スノートを所定の位置に設置する。その後，医療スタッフが制御室２１に戻り，粒子線照射のための準備が完了し，照射室１５内に支持台１４に横たわる患者以外の人（他の医療スタッフや他の患者等）が居ないことを確認すると，医療スタッフは制御室内の制御装置２２から粒子線照射開始信号を入力する。この粒子線照射開始信号が粒子線照射装置に出力されると，照射装置１２からの粒子線照射が開始され，治療開始となる。この回転ガントリの１門目の設置は，照射室１５を出て，制御室２１から自動化でも行えるものとする。

制御装置２２は，照射制御装置１３が制御する照射装置１２のそれぞれの位置及び方向から照射対象１１に照射する粒子線の照射野に関する情報を記憶する。たとえば，制御装置２２は，記憶部から照射装置１２の第１の位置，角度及び照射装置１２の制御情報を読み出す。照射装置１２の制御情報は，照射装置１２から出力される粒子線の強度に関する情報の他，例えばボーラスの制御情報，コリメータの制御情報を含んでもよい。制御装置２２は，照射制御装置１３に，照射装置１２の位置及び方向を制御するため指令を出力する。すると，制御装置２２からの指令を受けた照射制御装置１３は，照射装置１２を把持する把持部の位置を第１の位置へ変化させるとともに，照射装置１２の角度を第１の角度に調整する。一方，制御装置２２は，照射装置１２に対して，制御指令を出力する。すると，照射装置１２は，制御装置２２からの制御指令に基づいて，照射装置１２内の各要素を適宜調整した後，粒子線を照射対象に向けて所定時間照射する。

画像化装置３１は，照射装置１２から照射される粒子線に伴い照射対象から発生する陽電子を検出して画像化する。画像化装置３１は，制御室内のモニタ（表示装置）へ画像化結果を出力できるようにされている。このため，制御室内の医療スタッフは，リアルタイムで，粒子線照射の様子を観察することができる。

照射装置を第２の位置及び第２の角度，第３の位置及び第３の角度とする場合や，それ以降についても同様にして，制御装置２２と遠隔操作用コントローラ４１からの指令に従って，照射制御装置１３が照射装置の位置及び角度を調整し，照射装置１２が粒子線を照射対象に向けて所定時間照射する。

１門目の照射が終了したら，制御室２１の遠隔操作用コントローラ４１にて，２門目の回転角度を設定し，回転ガントリを動かし，スノートを設置する。その後，患者コリメータ（多葉コリメータ）を２門目の形に設置し，ＭＬＣ遠隔監視カメラ１８にて，多葉コリメータの形を確認する。その後，医療スタッフは制御室内の制御装置から粒子線照射開始信号を入力する。この粒子線照射開始信号が粒子線照射装置に出力されると，照射装置１２からの粒子線照射が開始され，２門目の治療開始となる。多門で，３門以上ある場合は，同様にこの操作を繰り返す。

これによりこの粒子線の遠隔多門照射装置は，照射装置が複数の位置及び方向から照射対象に粒子線を照射した場合であっても適切な線量を照射対象へ照射できる。

先に説明したとおり，粒子線の遠隔多門照射装置が，複数の照射装置１２を有しており，照射対象に対して，一度に多方向から粒子線を照射するものは，本発明の好ましい態様である。この場合も，制御装置２２と遠隔操作用コントローラ４１からの制御指令に基づいて，それぞれの照射装置を制御する照射制御装置１３がそれぞれの照射装置の位置及び角度を調整し，それぞれの照射装置１２が粒子線を照射対象に向けて所定時間照射すればよい。

実際に，粒子線の遠隔多門照射装置を設計した。図４は，粒子線の遠隔多門照射装置の設計図である。この粒子線の遠隔多門照射装置は，照射室が３つ存在し，３つの照射装置の動作をそれぞれの制御室内の制御装置により制御する。それぞれの照射装置及び照射制御装置は，導線によりそれぞれの制御装置と接続されている。医療スタッフは，制御室内の制御装置や遠隔操作用コントローラを用いることで，それぞれの照射装置及び照射制御装置を制御できる。なお，図４に示される例では，それぞれの粒子線照射装置に対応した制御室及び制御装置が存在する。しかしながら，複数の粒子線照射装置をひとつの制御室において制御することもできる。

従来は，治療寝台（ベッド）の近傍に，治療室内の機器操作手持ち操作器があり，これを使用して，照射機器の設定，操作を行っていた。本発明は，従来治療室内にあった手持ち操作器と同様の操作を行うことができる遠隔多門用操作器を操作室に設置した。照射装置を設定する際には，操作器横に設置された患者監視カメラモニタを確認し，照射装置の操作を行った。また，ＭＬＣ遠隔監視カメラにより，制御室から，多葉コリメータの形状を確認できた。このようにして，本実施例では，粒子線の遠隔多門照射を実現できた。

本発明は，医療機器の分野において利用され得る。

１１ 照射対象
１２ 照射装置
１３ 照射制御装置
１４ 支持台
１５ 照射室
１７ 操作用コントローラ
１８ ＭＬＣ遠隔監視カメラ
２１ 制御室
２２ 制御装置
２４ 多葉コリメータ
２５ ミラー
３１ 画像化装置
３２ Ｘ線撮影装置
４１ 遠隔操作用コントローラ
４２ 表示部

Claims (5)

1. 粒子線を照射対象（１１）に出射する照射装置（１２）と，
   前記照射装置（１２）の位置及び方向を制御する照射制御装置（１３）と，
   前記照射対象（１１）を支持する支持台（１４）とを含む照射室（１５）と，
   前記照射室（１５）とは別の制御室（２１）に設けられた制御装置（２２）とを含み，
   前記制御装置（２２）は，前記照射制御装置（１３）を制御することで，前記照射装置（１２）の位置及び方向を制御するものであり，
   前記照射室（１５）は，
   前記照射装置（１２）内の多葉コリメータの形状を撮影でき，前記制御室（２１）内の表示部（４２）に表示することで，前記多葉コリメータの形状を確認できるＭＬＣ遠隔監視カメラ（１８）をさらに有し，
   粒子線の遠隔多門照射を行うことができる粒子線の遠隔多門照射装置。
2. 請求項１に記載の粒子線の遠隔多門照射装置であって，
   前記制御装置（２２）は，
   前記照射制御装置（１３）が制御する照射装置（１２）のそれぞれの位置及び方向から前記照射対象（１１）に照射する粒子線の照射野に関する情報を記憶し，
   前記照射装置が複数の位置及び方向から照射対象に粒子線を照射した場合であっても適切な線量を照射対象へ照射できる，
   粒子線の遠隔多門照射装置。
3. 請求項１に記載の粒子線の遠隔多門照射装置であって，
   前記照射装置（１２）から照射される粒子線に伴い照射対象から発生する陽電子を検出して画像化する画像化装置（３１）をさらに有する，
   粒子線の遠隔多門照射装置。
4. 請求項１に記載の粒子線の遠隔多門照射装置であって，
   前記照射対象のＸ線撮影を行うＸ線撮影装置（３２）をさらに有する，
   粒子線の遠隔多門照射装置。
5. 請求項１に記載の粒子線の遠隔多門照射装置であって，
   前記制御装置（２２）は，前記照射制御装置（１３）を遠隔操作できる遠隔操作用コントローラ（４１）を有する，
   粒子線の遠隔多門照射装置。

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