JPWO2013015383A1 - 有機エレクトロルミネッセンス素子 - Google Patents
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Abstract
本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス素子は、発光層を含み厚み方向の第1面および第2面を有する機能層と、前記機能層の前記第1面上に配置される第1電極層と、前記機能層の前記第2面上に配置される第2電極層と、水分を吸着する吸湿部と、を備える。前記第2電極層は、電極パターンを有する。前記電極パターンは、前記機能層の前記第2面を覆う電極部と、前記機能層の前記第2面を露出させるように前記電極部に形成される開口部と、を有する。前記吸湿部は、前記開口部を露出させるように前記電極部上に配置される。
Description
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス素子に関するものである。
従来から、図11に示す構成を有する有機エレクトロルミネッセンス発光装置が提案されている(文献1[日本国公開特許公報第2008−181832号])。
この有機エレクトロルミネッセンス発光装置は、透光性基材401の表面に透明導電層402が積層され、透明導電層402上に有機発光層403が積層され、有機発光層403上に陰極層404が積層されている。また、この有機エレクトロルミネッセンス発光装置は、有機発光層403と陰極層404とからなる積層物406を被覆する保護封止層407と、保護封止層407を被覆する吸湿剤含有封止層408とを備えている。さらに、この有機エレクトロルミネッセンス発光装置は、吸湿剤含有封止層408の外側に防湿層409を配置し、この防湿層409を接着層410で透光性基材401に接着してある。吸湿剤含有封止層408は、ベースレジンに吸湿剤を含有させ、この吸湿剤含有のベースレジンを保護封止層407の外面に塗布することによって形成されている。
文献1には、吸湿剤として、水分を吸着する機能を有し、吸湿しても固体状態を維持する化合物が好ましく、酸化カルシウム、酸化バリウム、シリカゲルなどが特に好ましい旨が記載されている。特許文献1に記載された実施例1において、透明導電層402は、透光性基材401上にスパッタ法で形成したITO膜をパターニングすることで形成してある。また、陰極層404は、Alを蒸着することにより形成されている。
ところで、図11に示した構成の有機エレクトロルミネッセンス発光装置では、有機発光層403で発光された光が透光性基材401を通して取り出される。
これに対して、トップエミッション型の有機エレクトロルミネッセンス素子としては、例えば図12に示す構成のものが提案されている(文献2[日本国公開特許公報第2006−331694号])。
この有機エレクトロルミネッセンス素子は、一方の電極(陰極)101が基板104の表面に積層され、電極101の表面上に電子注入・輸送層105を介して発光層103が積層され、発光層103上に、ホール注入・輸送層106を介して他方の電極(陽極)102が積層されている。また、この有機エレクトロルミネッセンス素子は、基板104の上記表面側に封止部材107を備えている。したがって、この有機エレクトロルミネッセンス素子では、発光層103で発光した光が、光透過性電極として形成される電極102、透明体で形成される封止部材107を通して放射されるようになっている。
反射性の電極101の材料としては、例えば、Al、Zr、Ti、Y、Sc、Ag、Inなどが挙げられている。また、光透過性電極である電極102の材料としては、例えば、インジウム−錫酸化物(ITO)、インジウム−亜鉛酸化物(IZO)などが挙げられている。
なお、文献2には、非発光点の発生および成長を防ぐために何らかの乾燥剤を封止部材107の内部に設けることがあるが、乾燥剤については光透過性のものが好ましく、その大きさ或いは配置場所によっては非透過性のものであってもよい旨が記載されている。
本発明の目的は、輝度むらの低減および信頼性の向上を図ることが可能な有機エレクトロルミネッセンス素子を提供することにある。
本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス素子は、機能層と、第1電極層と、第2電極層と、吸湿部と、を備える。前記機能層は、発光層を含み、厚み方向の第1面および第2面を有する。前記第1電極層は、前記機能層の前記第1面上に配置される。前記第2電極層は、前記機能層の前記第2面上に配置される。前記吸湿部は、水分を吸着するように構成される。前記第2電極層は、電極パターンを有する。前記電極パターンは、前記機能層の前記第2面を覆う電極部と、前記機能層の前記第2面を露出させるように前記電極部に形成される開口部と、を有する。前記吸湿部は、前記開口部を露出させるように前記電極部上に配置される。
一般に、有機エレクトロルミネッセンス素子を高輝度で点灯させるためには、より大きな電流を流す必要がある。しかしながら、有機エレクトロルミネッセンス素子は、一般的に、ITO膜からなる陽極のシート抵抗が、金属膜、合金膜、金属化合物膜などからなる陰極のシート抵抗に比べて高いため、陽極での電位勾配が大きくなって、輝度の面内ばらつきが大きくなってしまう。
これと同様、図12に示した構成の有機エレクトロルミネッセンス素子では、電極102のシート抵抗が高いことに起因して輝度むらを生じてしまうことがある。
また、本願発明者らは、例えば図12に示す有機エレクトロルミネッセンス素子の構成において、図11で説明した吸湿剤含有封止層408を設けることについて検討した。しかしながら、文献1で吸湿剤として特に好ましいとされている、酸化カルシウム、酸化バリウム、シリカゲルなどを用いた場合、吸湿剤の透明性が低いので、光取り出し効率が低下してしまう懸念がある。
また、図12に示す有機エレクトロルミネッセンス素子の構成において、図11で説明した吸湿剤含有封止層408を設けた場合には、吸湿剤含有封止層408の面積が、発光層103の面積よりも大きくなるので、発光層103と基板104の外周線との間の非発光部の幅が広くなってしまう。
また、図12の有機エレクトロルミネッセンス素子では、乾燥剤として光透過性のものを用いたとしても、散乱損失や吸収損失などに起因して光取り出し効率が低下してしまう懸念がある。また、この場合には、乾燥剤の材料の選択肢が少なくなってしまう。
本発明は上記事由に鑑みて為されたものであり、その目的は、輝度むらの低減および信頼性の向上を図ることが可能な有機エレクトロルミネッセンス素子を提供することにある。
以下、本発明に係る一実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子について、図1〜図10に基づいて説明する。
有機エレクトロルミネッセンス素子は、基板10と、基板10の一表面側(図1における上面側)に設けられた第1電極20と、基板10の上記一表面側で第1電極20に対向した第2電極50と、第1電極20と第2電極50との間にあり発光層32を含む機能層30とを備えている。
すなわち、有機エレクトロルミネッセンス素子は、発光層32を含む機能層30と、第1電極(第1電極層)20と、第2電極(第2電極層)50と、を有する。
機能層30は、厚み方向の第1面(図1における下面)30aおよび第2面(図1における上面)30bを有する。第1電極20と、機能層30の第1面30a上に配置される。第2電極50は、機能層30の第2面30b上に配置される。
第2電極50は、機能層30からの光の取り出し用の開口部41(図3および図4参照)を有する電極パターン40を備えている。要するに、有機エレクトロルミネッセンス素子は、第2電極50が、機能層30からの光の取り出し用の開口部41を有している。ここにおいて、第2電極50は、機能層30に接する導電性高分子層39を備え、導電性高分子層39における機能層30側とは反対側に、上述の電極パターン40を備えていることが好ましい。
すなわち、第2電極50は、電極パターン40と、導電性高分子層(導電性層)39と、を有する。電極パターン40は、機能層30の第2面30bを覆う電極部48と、機能層30の第2面30bを露出させるように電極部48に形成される開口部41と、を有する。導電性層39は、発光層32から放射された光を透過させる材料により形成される。導電性層39は、機能層30の第2面30bを覆うように、機能層30の第2面30bと電極パターン40との間に介在される。本実施形態では、電極パターン40は、複数の開口部41を有する。
有機エレクトロルミネッセンス素子は、第1電極20および第2電極50の電極パターン40それぞれの抵抗率(電気抵抗率)を、透明導電性酸化物(Transparent Conducting Oxide:TCO)の抵抗率(電気抵抗率)よりも低くしてある。透明導電性酸化物としては、例えば、ITO、AZO、GZO、IZOなどがある。
また、有機エレクトロルミネッセンス素子は、電極パターン40における機能層30側とは反対側に設けられた吸湿部100を備えている。吸湿部100は、開口部41を露出させるように電極部48上に配置される。なお、吸湿部100は、開口部41全体を露出させるように電極部48上に配置されている必要はない。つまり、吸湿部100は、開口部41を通じた光の放射を過度に妨げなければ、開口部41を部分的に覆っていても良い。また、吸湿部100は、電極部48の全体を覆うように電極部48上に配置されている必要はなく、電極部48を部分的に覆うように電極部48上に配置されていてもよい。なお、本発明を実施するための形態の説明において、「覆う」とは、「直接接触して覆う」ことだけではなく、「他の層を間に介在させ、直接接触しない状態で覆う」ことも含む。すなわち、第1の層上に、直接または第3の層を介在して第2の層を配置した状態を、第1の層を第2の層で「覆う」と定義する。
また、有機エレクトロルミネッセンス素子は、基板10の上記一表面側に対向配置され透光性を有する封止層(カバー基板)70と、導電性高分子層39の屈折率以上の屈折率を有し第2電極50と封止層(封止部)70との間に介在する透光性の樹脂層90とを備えている。
これにより、有機エレクトロルミネッセンス素子は、第2電極50側から樹脂層90および封止層70を通して光を取り出すことが可能となる。要するに、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子は、トップエミッション型の有機エレクトロルミネッセンス素子として用いることが可能となる。
また、有機エレクトロルミネッセンス素子は、第1電極20において機能層30と第2電極50との積層膜が積層されていない部分(図示せず)を第1端子部としてもよいし、第1電極20に第1引出し配線を介して接続された第1端子部を設けてもよいし、或いは、基板10を金属板や金属箔により形成して、その露出部分を第1端子部としてもよい。
また、有機エレクトロルミネッセンス素子は、第2電極50に第2引出し配線46を介して電気的に接続された第2端子部47を備えている。第2引出し配線46および第2端子部47は、基板10の上記一表面側に設けられているが、これに限らず、基板10が金属箔により形成されている場合、第2端子部47を後述の絶縁層60および基板10それぞれの一部とともに封止層70側とは反対側に折り返してもよい。
また、有機エレクトロルミネッセンス素子は、上述の絶縁層60が、基板10の上記一表面と第1電極20の側面と機能層30の側面と、機能層30における第2電極50側の表面の外周部とに跨って形成されている。これにより、有機エレクトロルミネッセンス素子は、第2引出し配線46と、機能層30および第1電極20とが、絶縁層60によって電気的に絶縁されている。
有機エレクトロルミネッセンス素子は、基板10の周部と封止層70の周部との間に介在する枠状(本実施形態では、矩形枠状)のフレーム部80とを備えていることが好ましい。また、樹脂層90は、基板10と封止層70とフレーム部80とで囲まれる空間において、第1電極20、機能層30、第2電極50などからなる素子部1を覆うように設けることが好ましい。
以下、有機エレクトロルミネッセンス素子の各構成要素について詳細に説明する。
基板10は、平面視形状を矩形状としてある。ここで、基板10の平面視形状は、矩形状に限らず、例えば、矩形状以外の多角形状、円形状などでもよい。
基板10としては、ガラス基板を用いているが、これに限らず、例えば、プラスチック板や、金属板などを用いてもよい。ガラス基板の材料としては、例えば、ソーダライムガラス、無アルカリガラスなどを採用することができる。また、プラスチック板の材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタラート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルサルフォン、ポリカーボネートなどを採用することができる。また、金属板の材料としては、例えば、アルミニウム、銅、ステンレス鋼などを採用することができる。プラスチック板を用いる場合は、プラスチック板の表面にSiON膜、SiN膜などが成膜されたものを用いることで、水分の透過を抑えることが好ましい。なお、基板10は、リジッドなものでもよいし、フレキシブルなものでもよい。
基板10としてガラス基板を用いる場合には、基板10の上記一表面の凹凸が有機エレクトロルミネッセンス素子のリーク電流などの発生原因となることがある(有機エレクトロルミネッセンス素子の劣化原因となることがある)。このため、基板10としてガラス基板を用いる場合には、上記一表面の表面粗さが小さくなるように高精度に研磨された素子形成用のガラス基板を用意することが好ましい。
基板10の上記一表面の表面粗さについては、JIS B 0601−2001(ISO 4287−1997)で規定されている算術平均粗さRaが10nm以下であることが好ましく、数nm以下であることが、より好ましい。これに対して、基板10としてプラスチック板を用いる場合には、特に高精度な研磨を行わなくても、上記一表面の算術平均粗さRaが数nm以下のものを低コストで得ることが可能である。
本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子では、第1電極20が陰極を構成し、第2電極50が陽極を構成している。この場合、第1電極20から機能層30へ注入する第1キャリアは電子であり、第2電極50から機能層30へ注入する第2キャリアは正孔である。
機能層30は、第1電極20側から順に、発光層32、第2キャリア輸送層33、第2キャリア注入層34を備えている。ここにおいて、第2キャリア輸送層33、第2キャリア注入層34は、それぞれ、ホール輸送層、ホール注入層である。なお、第1電極20が陽極を構成し、第2電極50が陰極を構成する場合には、例えば、第2キャリア輸送層33として電子輸送層を、第2キャリア注入層34として電子注入層を採用すればよい。
上述の機能層30の構造は、図1の例に限らず、例えば、第1電極20と発光層32との間に、第1キャリア注入層、第1キャリア輸送層を設けたり、発光層32と第2キャリア輸送層33との間にインターレイヤーを設けたりした構造でもよい。第1電極20が陰極を構成し、第2電極50が陽極を構成している場合、第1キャリア注入層は、電子注入層であり、第1キャリア輸送層は、電子輸送層である。
また、機能層30は、少なくとも発光層32を含んでいればよく(つまり、機能層30は、発光層32のみでもよく)、発光層32以外の、第1キャリア注入層、第1キャリア輸送層、インターレイヤー、第2キャリア輸送層33、第2キャリア注入層34などは適宜設ければよい。すなわち、機能層30は、第1電極層(第1電極)20と第2電極層(第2電極)50との間に所定の電圧が印加されると光を放射するように構成されていればよい。
発光層32は、単層構造でも多層構造でもよい。例えば、所望の発光色が白色の場合には、発光層中に赤色、緑色、青色の3種類のドーパント色素をドーピングするようにしてもよいし、青色正孔輸送性発光層と緑色電子輸送性発光層と赤色電子輸送性発光層との積層構造を採用してもよいし、青色電子輸送性発光層と緑色電子輸送性発光層と赤色電子輸送性発光層との積層構造を採用してもよい。
発光層32の材料としては、例えば、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体など、ポリフルオレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、色素体、金属錯体系発光材料を高分子化したものなどや、アントラセン、ナフタレン、ピレン、テトラセン、コロネン、ペリレン、フタロペリレン、ナフタロペリレン、ジフェニルブタジエン、テトラフェニルブタジエン、クマリン、オキサジアゾール、ビスベンゾキサゾリン、ビススチリル、シクロペンタジエン、クマリン、オキサジアゾール、ビスベンゾキサゾリン、ビススチリル、シクロペンタジエン、キノリン金属錯体、トリス(8−ヒドロキシキノリナート)アルミニウム錯体、トリス(4−メチル−8−キノリナート)アルミニウム錯体、トリス(5−フェニル−8−キノリナート)アルミニウム錯体、アミノキノリン金属錯体、ベンゾキノリン金属錯体、トリ−(p−ターフェニル−4−イル)アミン、ピラン、キナクリドン、ルブレン、およびこれらの誘導体、あるいは、1−アリール−2,5−ジ(2−チエニル)ピロール誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、スチリルアリーレン誘導体、スチリルアミン誘導体、およびこれらの発光性化合物からなる基を分子の一部分に有する化合物などが挙げられる。
また、上記化合物に代表される蛍光色素由来の化合物のみならず、いわゆる燐光発光材料、例えばイリジウム錯体、オスミウム錯体、白金錯体、ユーロピウム錯体などの発光材料、又はそれらを分子内に有する化合物若しくは高分子も好適に用いることができる。
これらの材料は、必要に応じて、適宜選択して用いることができる。発光層32は、塗布法(例えば、スピンコート法、スプレーコート法、ダイコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法など)のような湿式プロセスによって成膜することが好ましい。ただし、発光層32の成膜方法は、塗布法に限らず、例えば、真空蒸着法、転写法などの乾式プロセスによって発光層32を成膜してもよい。
電子注入層の材料は、例えば、フッ化リチウムやフッ化マグネシウムなどの金属フッ化物、塩化ナトリウム、塩化マグネシウムなどに代表される金属塩化物などの金属ハロゲン化物や、チタン、亜鉛、マグネシウム、カルシウム、バリウム、ストロンチウムなどの酸化物、などを用いることができる。これらの材料の場合、電子注入層は、真空蒸着法により形成することができる。
また、電子注入層の材料は、例えば、電子注入を促進させるドーパント(アルカリ金属など)を混合した有機半導体材料を用いることができる。このような材料の場合、電子注入層は、塗布法により形成することができる。
また、電子輸送層の材料は、電子輸送性を有する化合物の群から選定することができる。この種の化合物としては、Alq3等の電子輸送性材料として知られる金属錯体や、フェナントロリン誘導体、ピリジン誘導体、テトラジン誘導体、オキサジアゾール誘導体などのヘテロ環を有する化合物などが挙げられるが、この限りではなく、一般に知られる任意の電子輸送材料を用いることが可能である。
ホール輸送層の材料としては、LUMO(Lowest Unoccupied Molecular Orbital)準位が小さい低分子材料や高分子材料を用いることができる。例えば、ポリビニルカルバゾール(PVCz)や、ポリピリジン、ポリアニリンなどの側鎖や主鎖に芳香族アミンを有するポリアリーレン誘導体などの芳香族アミンを含むポリマーなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。なお、ホール輸送層の材料としては、例えば、4,4’−ビス[N−(ナフチル)−N−フェニル−アミノ]ビフェニル(α−NPD)、N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−(1,1’−ビフェニル)−4,4’−ジアミン(TPD)、2−TNATA、4,4’,4”−トリス(N−(3−メチルフェニル)N−フェニルアミノ)トリフェニルアミン(MTDATA)、4,4’−N,N’−ジカルバゾールビフェニル(CBP)、スピロ−NPD、スピロ−TPD、スピロ−TAD、TNBなどを用いることが可能である。
ホール注入層の材料としては、例えば、チオフェン、トリフェニルメタン、ヒドラゾリン、アミールアミン、ヒドラゾン、スチルベン、トリフェニルアミンなどを含む有機材料が挙げられる。具体的には、例えば、ポリビニルカルバゾール、ポリエチレンジオキシチオフェン:ポリスチレンスルホネート(PEDOT:PSS)、TPDなどの芳香族アミン誘導体などで、これらの材料を単独で用いてもよいし、2種類以上の材料を組み合わせて用いてもよい。このようなホール注入層は、塗布法(スピンコート法、スプレーコート法、ダイコート法、グラビア印刷法など)のような湿式プロセスによって成膜することができる。
インターレイヤーは、発光層32側からの第2電極50側への第1キャリア(ここでは、電子)の漏れを抑制する第1キャリア障壁(ここでは、電子障壁)としてのキャリアブロッキング機能(ここでは、電子ブロッキング機能)を有することが好ましく、更に、第2キャリア(ここでは、正孔)を発光層32へ輸送する機能、発光層32の励起状態の消光を抑制する機能などを有していることが好ましい。なお、本実施形態では、インターレイヤーが、発光層32側からの電子の漏れを抑制する電子ブロッキング層を構成している。
有機エレクトロルミネッセンス素子では、インターレイヤーを設けることにより、発光効率の向上および長寿命化を図ることが可能となる。インターレイヤーの材料としては、例えば、ポリアリールアミン若しくはその誘導体、ポリフルオレン若しくはその誘導体、ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、トリフェニルジアミン誘導体などを用いることができる。このようなインターレイヤーは、塗布法(スピンコート法、スプレーコート法、ダイコート法、グラビア印刷法など)のような湿式プロセスによって成膜することができる。
また、陰極は、機能層30中に第1電荷である電子(第1キャリア)を注入するための電極である。第1電極20が陰極の場合、陰極の材料としては、仕事関数の小さい金属、合金、電気伝導性化合物およびこれらの混合物からなる電極材料を用いることが好ましく、第1電極20のエネルギー準位とLUMO(Lowest Unoccupied Molecular Orbital)準位との差が大きくなりすぎないように仕事関数が1.9eV以上5eV以下のものを用いるのが好ましい。
陰極の電極材料としては、例えば、アルミニウム、銀、マグネシウム、金、銅、クロム、モリブデン、パラジウム、錫など、およびこれらと他の金属との合金、例えばマグネシウム−銀混合物、マグネシウム−インジウム混合物、アルミニウム−リチウム合金を例として挙げることができる。
また、金属、金属酸化物など、およびこれらと他の金属との混合物、例えば、酸化アルミニウムからなる極薄膜(ここでは、トンネル注入により電子を流すことが可能な1nm以下の薄膜)とアルミニウムからなる薄膜との積層膜なども使用可能である。
陰極を反射電極とする場合、陰極の材料としては、発光層32から放射される光に対する反射率が高く、且つ、抵抗率の低い金属が好ましく、アルミニウムや銀が好ましい。
なお、第1電極20が、機能層30中に第2電荷であるホール(第2キャリア)を注入するための電極である陽極を構成する場合、第1電極20の材料としては、仕事関数の大きい金属を用いることが好ましく、第1電極20のエネルギー準位とHOMO(Highest Occupied Molecular Orbital)準位との差が大きくなりすぎないように仕事関数が4eV以上6eV以下のものを用いるのが好ましい。
第2電極50の導電性高分子層39の材料としては、例えば、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリピロール、ポリフェニレン、ポリフェニレンビニレン、ポリアセチレン、ポリカルバゾールなどの導電性高分子材料を用いることができる。
また、導電性高分子層39の導電性高分子材料としては、導電性を高めるために、例えば、スルホン酸、ルイス酸、プロトン酸、アルカリ金属、アルカリ土類金属などのドーパントをドーピングしたものを採用してもよい。
ここで、導電性高分子層39は、抵抗率がより低いほうが好ましく、抵抗率が低いほど、横方向(面内方向)への通電性が向上し、発光層32に流れる電流の面内ばらつきを低減することが可能となり、輝度むらを低減することが可能となる。
導電性高分子層39は、塗布法(例えば、スピンコート法、スプレーコート法、ダイコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法など)のような湿式プロセスによって形成することができる。また、導電性高分子層39は、塗布法に限らず、例えば、真空蒸着法、転写法などの乾式プロセスによっても形成することができる。
第2電極50の電極パターン40は、金属の粉末と有機バインダとを含む電極からなる。この種の金属としては、例えば、銀、金、銅などを採用することができる。これにより、有機エレクトロルミネッセンス素子は、第2電極50が、導電性透明酸化物により形成された薄膜の場合に比べて、第2電極50の電極パターン40の抵抗率およびシート抵抗を小さくすることが可能となり、輝度むらを低減することが可能となる。なお、第2電極50の電極パターン40の導電性材料としては、金属の代わりに、合金や、カーボンブラックなどを用いることも可能である。
電極パターン40は、例えば、金属の粉末に有機バインダおよび有機溶剤を混合させたペースト(印刷インク)を、例えばスクリーン印刷法、グラビア印刷法などにより印刷して形成することができる。
有機バインダとしては、例えば、アクリル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン、ポリアクリルニトリル、ポリビニルアセタール、ポリアミド、ポリイミド、ジアクリルフタレート樹脂、セルロース系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、その他の熱可塑性樹脂や、これらの樹脂を構成する単量体の2種以上の共重合体が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
第2引出し配線46および第2端子部47の材料としては、第2電極50の電極パターン40と同じ材料を採用しているが、特に限定するものではない。第2引出し配線46および第2端子部47の材料と第2電極50の電極パターン40の材料とが同じ場合には、第2引出し配線46および第2端子部47と電極パターン40とを同時に形成することが可能となる。第2端子部47は、単層構造に限らず、2層以上の積層構造としてもよい。
なお、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子では、第1電極20の膜厚を80〜200nm、発光層32の膜厚を60〜200nm、第2キャリア輸送層33の膜厚を5〜30nm、第2キャリア注入層34の膜厚を10〜60nm、導電性高分子層39の膜厚を200〜400nmにそれぞれ設定してあるが、これらの数値は一例であって、特に限定するものではない。
電極パターン40は、図1および図3に示すように、格子状(網状)に形成されており、複数(図3に示した例では、6×6=36)の開口部41を有している。ここで、図3に示した電極パターン40は、各開口部41の各々の平面視形状が正方形状である。要するに、図3に示した電極パターン40は、正方格子状に形成されている。
図3に示される電極パターン40では、電極部48は、第1方向(図3における左右方向)に沿った複数の細線部44(44a)と、第1方向と直交する第2方向(図3における上下方向)に沿った複数の細線部44(44b)とで構成されている。複数(図示例では7つ)の細線部44aは第2方向に沿って等間隔に配置されている。複数(図示例では7つ)の細線部44bは第1方向に沿って等間隔に配置されている。複数の細線部44aは複数の細線部44bと互いに直交している。図3に示される電極パターン40では、隣り合う細線部44a,44aと、隣り合う細線部44b,44bとで囲まれる空間が、開口部41である。
第2電極50は、正方格子状の電極パターン40の寸法に関して、例えば、線幅L1(図4参照)を1μm〜100μm、高さH1(図4参照)を50nm〜100μm、ピッチP1(図4参照)を100μm〜2000μmとすればよい。
ただし、第2電極50の電極パターン40の線幅L1、高さH1およびピッチP1それぞれの数値範囲は、特に限定するものではなく、素子部1の平面サイズに基づいて適宜設定すればよい。
ここにおいて、第2電極50の電極パターン40の線幅L1については、発光層32で発光する光の利用効率の観点からは狭い方が好ましく、第2電極50の低抵抗化によって輝度むらを低減するという観点からは広い方が好ましいので、有機エレクトロルミネッセンス素子の平面サイズなどに基づいて適宜設定することが好ましい。
また、第2電極50の電極パターン40の高さH1については、第2電極50の低抵抗化の観点、電極パターン40をスクリーン印刷法などの塗布法により形成する際の電極パターン40の材料の使用効率(材料使用効率)の観点、機能層30から放射される光の放射角の観点などから、100nm以上10μm以下が、より好ましい。
また、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子では、電極パターン40における各開口部41を、機能層30から離れるにつれて開口面積が徐々に大きくなる開口形状としてもよい。
これにより、有機エレクトロルミネッセンス素子は、機能層30から放射される光の広がり角を大きくすることが可能になり、輝度むらを、より低減することが可能となる。また、有機エレクトロルミネッセンス素子は、第2電極50の電極パターン40での反射損失や吸収損失を低減することが可能となり、外部量子効率のより一層の向上を図ることが可能となる。
電極パターン40を格子状の形状とする場合、各開口部41の各々の平面視形状は正方形状に限らず、例えば、長方形状や正三角形状や正六角形状の形状としてもよい。
電極パターン40は、各開口部41の各々の平面視形状が正三角形状の場合、三角格子状の形状となり、各開口部41の各々の平面視形状が正六角形状の場合、六角格子状の形状となる。なお、電極パターン40は、格子状の形状に限らず、例えば、櫛形状の形状でもよいし、2つの櫛形状の電極パターンにより構成してもよい。すなわち、有機エレクトロルミネッセンス素子は、複数の電極パターン40を備えていてもよい。
また、電極パターン40は、開口部41の数も特に限定するものではなく、複数に限らず、1つでもよい。例えば、電極パターン40を櫛形状の形状としたり、2つの櫛形状の電極パターンにより構成とした場合などは、開口部41の数を1つとすることが可能である。
また、電極パターン40は、例えば、図5に示すような平面形状としてもよい。すなわち、電極パターン40は、平面視において、電極部48における直線状の細線部44の線幅を一定として、電極パターン40における周部から中心部に近づくにつれて隣り合う細線部44間の間隔が狭くなり開口部41の開口面積が小さくなる形状としてもよい。
図5に示される電極パターン40では、複数(図示例では9つ)の細線部44aは第2方向(図5における上下方向)に沿って、電極部48の縁側よりも中心側において間隔が狭くなるように配置されている。複数(図示例では9つ)の細線部44bは第1方向(図5における左右方向)に沿って、電極部48の縁側よりも中心側において間隔が狭くなるように配置されている。
有機エレクトロルミネッセンス素子は、第2電極50の電極パターン40の平面形状を図5のような平面形状とすることにより、図3のような平面形状とした場合に比べて、第2電極50において第2端子部47(図1参照)からの距離が周部よりも遠い中央部での発光効率を向上させることが可能となり、外部量子効率の向上を図ることが可能となる。
また、有機エレクトロルミネッセンス素子は、第2電極50の電極パターン40の平面形状を図5のような形状とすることにより、図3のような平面形状とした場合に比べて、機能層30のうち第2端子部47からの距離が近い周部での電流集中を抑制することが可能となるから、長寿命化を図ることが可能となる。
また、第2電極50の電極パターン40は、例えば、図6に示すような平面形状としてもよい。すなわち、電極パターン40は、平面視において、電極パターン40における最外周にある4つの第1細線部42の線幅と、図6において左右方向の中央にある1つの第2細線部43の線幅とを、第1細線部42と第2細線部43との間にある細線部(第3細線部)44よりも幅広としてある。
有機エレクトロルミネッセンス素子は、第2電極50の電極パターン40を図6のような平面形状とすることにより、図3のような平面形状の場合に比べて、第2電極50において第2端子部47(図1参照)からの距離が周部よりも遠い中央部での発光効率を向上させることが可能となり、外部量子効率の向上を図ることが可能となる。
なお、電極パターン40は、図6のような平面形状とする場合、相対的に線幅の広い第1細線部42および第2細線部43の高さを第3細線部44の高さよりも高くすることにより、第1細線部42および第2細線部43それぞれの、より一層の低抵抗化を図ることが可能となる。
絶縁層60の材料としては、例えば、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂などの光硬化性樹脂を用いることができる。
絶縁層60は、平面視形状が矩形枠状に形成されているが、基板10と第2引出し配線46および第2端子部47との間に介在する部分も設けてある。なお、絶縁層60の平面形状は特に限定するものではない。
カバー基板である封止層70としては、ガラス基板を用いているが、これに限らず、例えば、プラスチック板などを用いてもよい。ガラス基板の材料としては、例えば、ソーダライムガラス、無アルカリガラスなどを採用することができる。また、プラスチック板の材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタラート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルサルフォン、ポリカーボネートなどを採用することができる。なお、基板10が、ガラス基板により構成されている場合には、封止層70を、基板10と同じ材料のガラス基板により構成することが好ましい。
本実施形態では、封止層70として、平板状のものを用いているが、これに限らず、基板10との対向面に、上述の素子部1を収納する収納凹所を形成したものを用い、上記対向面における収納凹所の周部を全周に亘って基板10側と接合するようにしてもよい。
この場合は、別部材のフレーム部80を用いる必要がなくなるという利点がある。一方、平板状の封止層70と枠状のフレーム部80とを別部材により構成している場合には、封止層70に要求される光学的な物性(光透過率、屈折率など)と、フレーム部80に要求される物性(ガスバリア性など)との両方の要求を各別に満たす材料を採用することが可能になるという利点がある。
フレーム部80と基板10の上記一表面側とを接合する第1接合材料としては、エポキシ樹脂を用いているが、これに限らず、例えば、アクリル樹脂などを採用してもよい。第1接合材料として用いるエポキシ樹脂やアクリル樹脂は、例えば、紫外線硬化型のものでもよいし、熱硬化型のものでもよい。また、第1接合材料として、エポキシ樹脂にフィラー(例えば、シリカ、アルミナなど)を含有させたものを用いてもよい。ここで、フレーム部80は、基板10の上記一表面側に対して、フレーム部80における基板10側との対向面を全周に亘って気密的に接合してある。
また、フレーム部80と封止層70とを接合する第2接合材料としては、エポキシ樹脂を用いているが、これに限らず、例えば、アクリル樹脂、フリットガラスなどを採用してもよい。第2接合材料として用いるエポキシ樹脂やアクリル樹脂は、例えば、紫外線硬化型のものでもよいし、熱硬化型のものでもよい。また、第2接合材料として、エポキシ樹脂にフィラー(例えば、シリカ、アルミナなど)を含有させたものを用いてもよい。ここで、フレーム部80は、封止層70に対して、フレーム部80における封止層70との対向面を全周に亘って気密的に接合してある。
ところで、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子では、樹脂層90の材料である透光性樹脂として、第2電極50の導電性高分子層39の材料の屈折率以上の屈折率を有するものを用いるようにしている。このような透光性樹脂としては、例えば、屈折率が高くなるように調整されたイミド系樹脂などを用いることができる。
吸湿部100の材料としては、例えば、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂などの光硬化性樹脂に吸湿剤を含有させたものを用いることができる。
吸湿剤としては、アルカリ土類金属の酸化物や硫酸塩が好ましい。アルカリ土類金属の酸化物としては、例えば、酸化カルシウム、酸化バリウム、酸化マグネシウム、酸化ストロンチウムなどを挙げることができる。また、硫酸塩としては、例えば、硫酸リチウム、硫酸ナトリウム、硫酸ガリウム、硫酸チタン、硫酸ニッケルなどを挙げることができる。また、吸湿剤としては、その他に、例えば、塩化カルシウム、塩化マグネシウム、塩化銅、酸化マグネシウムなどを用いることができる。また、吸湿剤としては、例えば、シリカゲルや、ポリビニルアルコールなどの吸湿性を有する有機化合物を用いることもできる。吸湿剤は、これらに限定されるものではないが、これらの中でも、酸化カルシウム、酸化バリウム、シリカゲルなどが特に好ましい。なお、吸湿部100中の吸湿剤の含有率は、特に限定するものではない。
吸湿部100は、電極パターン40と略同じ平面形状としてあるが、電極パターン40の開口部41を露出するように電極パターン40上に設けてあればよく、必ずしも、電極パターン40と略同じ平面形状とする必要はない。
電極パターン40および吸湿部100の形成方法としては、例えば、図7(a)〜(d)に示すように、スクリーン印刷法を用いることができる。
まず、図7(a)に示すように、機能層30の第2面30bに導電性層39が形成された基材110を用意する。この基材110の上方(機能層30の第2面30bの上方)に、電極パターン40形成用のスクリーン版120を配置する。スクリーン版120には、電極パターン40の電極部48の形状に対応する孔121が形成されている。
次に、電極パターン40の基礎となる印刷インク130をスクリーン版120に塗布する。なお、印刷インク130は、例えば、金属の粉末に有機バインダおよび有機溶剤を混合させたペーストを用いることができる。
その後に、スキージ140を用いて印刷インク130を導電性層39の表面(図7(a)における上面)に転写する。その後、印刷インク130を硬化または乾燥させ、これによって、図7(b)に示すように、導電性層39の表面に電極パターン40が形成される。
この後に、図7(c)に示すように、電極パターン40の上方に、吸湿部100形成用のスクリーン版150を配置する。スクリーン版150には、吸湿部100の形状に対応する孔151が形成されている。
その後に、吸湿部100の基礎となる印刷インク160をスクリーン版150に塗布する。なお、印刷インク160としては、例えば、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂などの光硬化性樹脂に吸湿剤を含有させたものを用いることができる。
次に、スキージ140を用いて印刷インク160を電極パターン40(電極部48)上に転写する。そして、印刷インク160を硬化または乾燥させ、これによって、図7(d)に示すように、電極パターン40の電極部48上に吸湿部100が形成される。
また、電極パターン40および吸湿部100の別の形成方法としては、図8(a),(b)に示すように、グラビア印刷法を用いることができる。
グラビア印刷法では、機能層30の第2面30bに導電性層39が形成された基材110を用意する。また、電極パターン40形成用のシリンダ(版胴)170と、吸湿部100形成用のシリンダ180とを用意する。
シリンダ170には、所望の形状の電極パターン40を形成するためのセル(くぼみ)171が形成されている。シリンダ170のセル171には、図示しないインキ溜めから、印刷インク130が供給される。
シリンダ180には、所望の形状の吸湿部100を形成するためのセル(くぼみ)181が形成されている。シリンダ180のセル181には、図示しないインキ溜めから、印刷インク160が供給される。
グラビア印刷法では、基材110を所定方向(図8(a)における矢印方向)に移動させるとともに、基材110の導電性層39の表面(図8(a)における下面)に、シリンダ170を回転させながら押し付ける。これによって、シリンダ170のセル171内の印刷インク130が基材110の表面(導電性層39の表面)に転写される。その後、印刷インク130を硬化または乾燥させ、これによって、導電性層39の表面に電極パターン40が形成される(図8(a)参照)。
次に、所定方向(図8(b)における矢印方向)に移動している基材110の表面(図8(b)における下面)に、シリンダ180を回転させながら押し付ける。これによって、シリンダ180のセル181内の印刷インク160が基材110の表面(電極部48の表面)に転写される。その後、印刷インク160を硬化または乾燥させ、これによって、電極パターン40の電極部48の表面に吸湿部100が形成される(図8(b)参照)。
以上説明した本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子は、基板10と、基板10の上記一表面側に設けられた第1電極20と、基板10の上記一表面側で第1電極20に対向した第2電極50と、第1電極20と第2電極50との間にあり少なくとも発光層32を含む機能層30とを備えている。さらに、有機エレクトロルミネッセンス素子は、第2電極50が、機能層30からの光の取り出し用の開口部41(図3および図4参照)を有する電極パターン40を備え、電極パターン40における機能層30側とは反対側に吸湿部100が設けられている。ここにおいて、有機エレクトロルミネッセンス素子は、吸湿部100が、電極パターン40の開口部41を露出させるように電極パターン40上に設けられている。
換言すれば、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子は、発光層32を含み厚み方向の第1面30aおよび第2面30bを有する機能層30と、機能層30の第1面30a上に配置される第1電極層20と、機能層30の第2面30b上に配置される第2電極層50と、水分を吸着する吸湿部100と、を備える。第2電極層50は、電極パターン40を有する。電極パターン40は、機能層30の第2面30bを覆う電極部48と、機能層30の第2面30bを露出させるように電極部48に形成される開口部41と、を有する。吸湿部100は、開口部41を露出させるように電極部48上に配置される。
本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子によれば、輝度むらの低減および信頼性の向上を図ることが可能である。また、発光層32と基板10の外周線との間の非発光部の幅を狭くすることも可能となる。なお、有機エレクトロルミネッセンス素子は、機能層30と第1電極20および第2電極50との積層構造部が、発光部となる。
また、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子では、電極部48が吸湿部100で覆われている。吸湿部100の(特に、機能層30から放射される光に対する)反射率は、電極部48よりも低いため、電極部48による光の反射を低減できる。したがって、電極部48に起因するグレアの発生を抑制できる。
また、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子は、上述のように、第2電極50が、機能層30に接する導電性高分子層39を備え、導電性高分子層39における機能層30側とは反対側に上述の電極パターン40を備えている。
換言すれば、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子では、第2電極層50は、発光層32から放射された光を透過させる材料により形成された導電性層39を備える。導電性層39は、機能層30の第2面30bを覆うように、機能層30の第2面30bと電極パターン40との間に介在される。
これにより、有機エレクトロルミネッセンス素子は、導電性高分子層(導電性層)39を備えていない場合に比べて、第2電極(第2電極層)50から機能層30へのキャリア注入性を向上させることが可能となり、外部量子効率の向上を図ることが可能となる。なお、この構成は、必ずしも必要ではない。
また、上述の図12の有機エレクトロルミネッセンス素子では、電極102と封止部材107との空間の媒質について明記されていない。ここで、図12の有機エレクトロルミネッセンス素子では、上記空間に不活性ガスが充填されている場合、発光層103、ホール注入・輸送層106および電極102の屈折率に比べて、電極102と封止部材107との空間に存在する媒質の屈折率が小さいので、電極102と当該媒質との界面での全反射に起因した反射損失が生じてしまう。
これに対して、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子は、基板10の上記一表面側に対向配置され透光性を有する封止層70と、導電性高分子層39の屈折率以上の屈折率を有し第2電極50と封止層70との間に介在する透光性の樹脂層90とを備えている。
換言すれば、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子は、さらに、基板10と、封止部(封止層)70と、を備える。第1電極層20は、基板10上に形成される。封止部70は、発光層32から放射された光を透過させる材料により形成される。封止部70は、基板10との間に、機能層30と第1電極層20と第2電極層50とを収納するスペースが形成されるように、基板10に固定される。
したがって、第2電極層50側から封止部70を通して光を取り出すことが可能となる。要するに、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子は、トップエミッション型の有機エレクトロルミネッセンス素子として用いることが可能となる。なお、この構成は、必ずしも必要ではない。
また、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子は、発光層32から放射された光を透過させる樹脂層90を備える。樹脂層90は、第2電極層50と封止部70との間に介在される。樹脂層90は、導電性層39以上の屈折率を有する。
しかして、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子では、光取り出し効率の向上を図ることが可能となる。なお、この構成は、必ずしも必要ではない。
特に、樹脂層90は、発光層32から放射された光を透過させる透光性材料を、第2電極層50と封止部70との間のスペースに充填することで形成される。
また、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子では、第1電極層20は、発光層32から放射された光を反射するように構成される。
したがって、光取り出し効率の向上を図ることが可能となる。なお、これらの構成は、必ずしも必要ではない。
また、この有機エレクトロルミネッセンス素子においては、第2電極50が陽極であり、機能層30が、発光層32よりも第2電極50側にあるホール注入層34を含んでいることが好ましい。これにより、有機エレクトロルミネッセンス素子では、発光層32へ第2キャリアであるホールを、より効率良く注入することが可能となり、結果的に外部量子効率の向上を図ることが可能となる。
また、封止層70における外面側(基板10側とは反対の面側)には、発光層32から放射された光の上記外面での反射を抑制する光取出し構造部(図示せず)を備えていることが好ましい。
このような光取出し構造部としては、例えば、2次元周期構造を有した凹凸構造部が挙げられる。このような2次元周期構造の周期は、発光層32で発光する光の波長が例えば300〜800nmの範囲内にある場合、媒質内の波長をλ(真空中の波長を媒質の屈折率で除した値)とすれば、波長λの1/4〜10倍の範囲で適宜設定することが望ましい。
このような凹凸構造部は、例えば、封止層70の上記外面側に、例えば、熱インプリント法(熱ナノインプリント法)、光インプリント法(光ナノインプリント法)などのインプリント法により、予め形成することが可能である。また、封止層70の材料によっては、封止層70を射出成形により形成するようにし、射出成形時に適宜の金型を用いて、封止層70に凹凸構造部を直接形成することも可能である。また、凹凸構造部は、封止層70とは別部材により構成することも可能であり、例えば、プリズムシート(例えば、株式会社きもと製のライトアップ(登録商標)GM3のような光拡散フィルムなど)により構成することができる。
本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子では、上述の光取出し構造部を備えることにより、発光層32から放射され封止層70の上記外面側まで到達した光の反射ロスを低減でき、光取り出し効率の向上を図ることが可能となる。
(第1変形例)
図9は、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子の第1変形例を示す。この第1変形例は、図1に示される基本例と同様に、第2電極層50は、発光層32から放射された光を透過させる材料により形成された導電性層39を備える。しかしながら、第1変形例では、導電性層39は、機能層30の第2面30bを覆うように、電極パターン40と吸湿部100との間に介在される。
図9は、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子の第1変形例を示す。この第1変形例は、図1に示される基本例と同様に、第2電極層50は、発光層32から放射された光を透過させる材料により形成された導電性層39を備える。しかしながら、第1変形例では、導電性層39は、機能層30の第2面30bを覆うように、電極パターン40と吸湿部100との間に介在される。
導電性層39は、例えば、機能層30の第2面30bおよび電極パターン40の全体を覆うように形成される。
第1変形例の第2電極層50および吸湿部100は、例えば、次のようにして形成される。まず、機能層30の第2面30bに、スクリーン印刷法やグラビア印刷法を用いて、電極パターン40を形成する。次に、導電性層39を、塗布法や、真空蒸着法、転写法などを用いて形成する。最後に、導電性層39において電極部48と重なる部位に、スクリーン印刷法やグラビア印刷法を用いて吸湿部100を形成する。
以上述べた第1変形例によれば、有機エレクトロルミネッセンス素子は、導電性層(導電性高分子層)39を備えていない場合に比べて、第2電極層(第2電極)50から機能層30へのキャリア注入性を向上させることが可能となり、外部量子効率の向上を図ることが可能となる。
(第2変形例)
図10は、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子の第2変形例を示す。この第2変形例は、図1に示される基本例と同様に、第2電極層50は、発光層32から放射された光を透過させる材料により形成された導電性層39を備える。しかしながら、第2変形例では、導電性層39は、機能層30の第2面30bのうち開口部41から露出する領域30cを覆い、かつ、電極部48と接触するように開口部41内に配置される。
図10は、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子の第2変形例を示す。この第2変形例は、図1に示される基本例と同様に、第2電極層50は、発光層32から放射された光を透過させる材料により形成された導電性層39を備える。しかしながら、第2変形例では、導電性層39は、機能層30の第2面30bのうち開口部41から露出する領域30cを覆い、かつ、電極部48と接触するように開口部41内に配置される。
第2変形例の第2電極層50および吸湿部100は、例えば、次のようにして形成される。まず、機能層30の第2面30bに、電極パターン40をスクリーン印刷法やグラビア印刷法を用いて形成する。次に、電極パターン40の開口部41内に、導電性層39をスクリーン法やグラビア印刷法を用いて形成する。最後に、電極パターン40の電極部48上に、吸湿部100をスクリーン印刷法やグラビア印刷法を用いて形成する。
第2変形例によれば、有機エレクトロルミネッセンス素子は、導電性層(導電性高分子層)39を備えていない場合に比べて、第2電極(第2電極層)50から機能層30へのキャリア注入性を向上させることが可能となり、外部量子効率の向上を図ることが可能となる。
なお、電極パターン40が複数の開口部41を備えている場合、導電性層39は、複数の開口部41のそれぞれの内側に配置されていてもよいし、複数の開口部41のうちの特定の開口部41の内側に配置されていてもよい。また、導電性層39は、開口部41から露出する領域30cの全体を覆っている必要はなく、領域30cを部分的に覆うように形成されていてもよい。
上述の実施形態で説明した有機エレクトロルミネッセンス素子は、例えば、照明用の有機エレクトロルミネッセンス素子として好適に用いることができるが、照明用に限らず、他の用途に用いることも可能である。
なお、上述の実施形態において説明した各図は、模式的なものであり、各構成要素の大きさや厚さそれぞれの比が、必ずしも実際のものの寸法比を反映しているとは限らない。
Claims (8)
- 発光層を含み、厚み方向の第1面および第2面を有する機能層と、
前記機能層の前記第1面上に配置される第1電極層と、
前記機能層の前記第2面上に配置される第2電極層と、
水分を吸着する吸湿部と、
を備え、
前記第2電極層は、電極パターンを有し、
前記電極パターンは、
前記機能層の前記第2面を覆う電極部と、
前記機能層の前記第2面を露出させるように前記電極部に形成される開口部と、
を有し、
前記吸湿部は、前記開口部を露出させるように前記電極部上に配置される
ことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。 - 前記第2電極層は、前記発光層から放射された光を透過させる材料により形成された導電性層を備え、
前記導電性層は、前記機能層の前記第2面を覆うように、前記機能層の前記第2面と前記電極パターンとの間に介在される
ことを特徴とする請求項1記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 - 前記第2電極層は、前記発光層から放射された光を透過させる材料により形成された導電性層を備え、
前記導電性層は、前記機能層の前記第2面を覆うように、前記電極パターンと前記吸湿部との間に介在される
ことを特徴とする請求項1記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 - 前記第2電極層は、前記発光層から放射された光を透過させる材料により形成された導電性層を備え、
前記導電性層は、前記機能層の前記第2面のうち前記開口部から露出する領域を覆い、かつ、前記電極部と接触するように、前記開口部内に配置される
ことを特徴とする請求項1記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 - 基板と、
封止部と、
を備え、
前記第1電極層は、前記基板上に形成され、
前記封止部は、前記発光層から放射された光を透過させる材料により形成され、
前記封止部は、前記基板との間に、前記機能層と前記第1電極層と前記第2電極層とを収納するスペースが形成されるように、前記基板に固定される
ことを特徴とする請求項2〜4のうちいずれか1項記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 - 前記発光層から放射された光を透過させる樹脂層を備え、
前記樹脂層は、前記第2電極層と前記封止部との間に介在され、
前記樹脂層は、前記導電性層の屈折率以上の屈折率を有する
ことを特徴とする請求項5記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 - 前記樹脂層は、前記発光層から放射された光を透過させる透光性材料を、前記第2電極層と前記封止部との間のスペースに充填することで形成される
ことを特徴とする請求項6記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 - 前記第1電極層は、前記発光層から放射された光を反射するように構成される
ことを特徴とする請求項5〜7のうちいずれか1項記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
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