JPWO2012161151A1 - ORGANIC EL ELEMENT AND METHOD FOR PRODUCING ORGANIC EL ELEMENT - Google Patents

ORGANIC EL ELEMENT AND METHOD FOR PRODUCING ORGANIC EL ELEMENT Download PDF

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充 長崎
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Abstract

有機EL素子1は、上面に有機EL層11を有する第一基板10と、第一基板10の上面に対向するように配置された第二基板20と、有機EL層11を囲むように第一基板10と第二基板20との間に配置され、第一基板10と第二基板20とを接合しつつ、有機EL層11が設けられた空間を封止領域Sとして封止するフリット30と、フリット30との間に隙間G1を介在させつつ有機EL層11を覆うように封止領域Sの内部に形成された保護部材40と、を備える。The organic EL element 1 includes a first substrate 10 having an organic EL layer 11 on the upper surface, a second substrate 20 disposed so as to face the upper surface of the first substrate 10, and a first so as to surround the organic EL layer 11. A frit 30 disposed between the substrate 10 and the second substrate 20 and sealing the space where the organic EL layer 11 is provided as the sealing region S while bonding the first substrate 10 and the second substrate 20; A protective member 40 formed inside the sealing region S so as to cover the organic EL layer 11 with a gap G1 interposed between the frit 30 and the frit 30.

Description

本発明は、有機EL素子、及び有機EL素子の製造方法に関する。   The present invention relates to an organic EL element and a method for manufacturing the organic EL element.

有機EL(Electro-Luminescence)素子においては、有機EL層に用いられる有機発光材料物質等の有機材料が水分や酸素等に弱く、それら水分や酸素等により性能低下や水分による劣化を引き起こしやすい。また、有機EL層に含まれる電極も、酸化により大気中では特性が急激に劣化するため、この有機EL層を酸素や水分等から保護することが一般的である。   In an organic EL (Electro-Luminescence) element, an organic material such as an organic light emitting material used for an organic EL layer is weak against moisture, oxygen, and the like. In addition, since the characteristics of the electrodes included in the organic EL layer are rapidly deteriorated in the atmosphere due to oxidation, it is general to protect the organic EL layer from oxygen, moisture, and the like.

有機EL素子を保護する有機EL層の封止方法としては、これまでに多くの検討がされてきており、例えば、ケーシングタイプの封止方法、密着タイプの封止方法及びフリットタイプの封止方法等がある。
ケーシングタイプの封止方法とは有機EL層をケース内に入れて外界と遮断し、前記のケース内に有機EL層と共に所定の封止用の気体又は流体を充填しておくことにより封止する方法である。
密着タイプの封止方法とは、基板上に形成されている有機EL層の表面に、封止接着剤を介しガラス板等の封止基板を面接着することにより基板と封止基板とで有機EL層を封止する方法である。
フリットタイプの封止方法とは、有機EL層が形成された支持基板に対向するよう封止基板を配置し、当該支持基板と封止基板とを有機EL層を囲むように設けたフリットを介して接合し、封止する方法である。
ケーシングタイプの封止方法は、ケース内に封止用気体又は流体を充填するため薄型とすることが出来ない、工程が複雑である、大量生産には不向き等、種々の課題があるものであった。
密着タイプの封止方法は、薄型対応が可能であり、大量生産が比較的容易であるが、酸素や水分等からの有機EL層の保護の面に課題があるものであった。
これらの課題を踏まえ、フリットタイプの封止方法は、薄型化が可能であり、フリットガラスで封止するため有機EL層の封止の面においても優位であり、現在、数々のフリットタイプの封止方法が考えられている。
例えば、上述のように、従来のフリットタイプの封止方法を用いた有機EL素子では、図4に示すように、上面に有機EL層90が形成された支持基板91と、支持基板91の上面に対向させた封止基板92とを、有機EL層90を囲むように設けたフリット93を介して接合することで、有機EL層90が設けられた空間を封止領域94として封止している。
As a method for sealing an organic EL layer for protecting an organic EL element, many studies have been made so far. For example, a casing type sealing method, a close contact type sealing method, and a frit type sealing method. Etc.
The casing-type sealing method is to seal an organic EL layer by putting it inside the case and blocking the outside, and filling the case with a predetermined sealing gas or fluid together with the organic EL layer. Is the method.
The close-contact type sealing method is a method in which a substrate such as a glass plate is bonded to the surface of an organic EL layer formed on the substrate with a sealing adhesive between the substrate and the sealing substrate. This is a method for sealing an EL layer.
In the frit type sealing method, the sealing substrate is disposed so as to face the supporting substrate on which the organic EL layer is formed, and the supporting substrate and the sealing substrate are interposed through the frit provided so as to surround the organic EL layer. Are joined and sealed.
The casing type sealing method has various problems such as being unable to be made thin because the case is filled with a sealing gas or fluid, the process being complicated, and unsuitable for mass production. It was.
The close-contact type sealing method is capable of being thin and is relatively easy to mass-produce, but has a problem in terms of protecting the organic EL layer from oxygen and moisture.
In light of these problems, the frit type sealing method can be thinned and has an advantage in terms of sealing the organic EL layer because it is sealed with frit glass. A stopping method is considered.
For example, as described above, in the organic EL element using the conventional frit type sealing method, as shown in FIG. 4, the support substrate 91 having the organic EL layer 90 formed on the upper surface, and the upper surface of the support substrate 91. The space in which the organic EL layer 90 is provided is sealed as a sealing region 94 by joining the sealing substrate 92 opposed to the substrate through a frit 93 provided so as to surround the organic EL layer 90. Yes.

フリット93は、一般にガラス製とされ、レーザー溶着により支持基板91及び封止基板92と個別に接合される。このフリット93は、酸素や水分等の浸透に関しては良好な特性を有しているものの、機械的強度に劣るために、封止基板92を強固に支持することができない。そのため、封止基板92に外力が加わったときに、封止基板92が撓んで有機EL層90にダメージを与えてしまう恐れがあった。   The frit 93 is generally made of glass, and is individually bonded to the support substrate 91 and the sealing substrate 92 by laser welding. Although the frit 93 has good characteristics with respect to permeation of oxygen, moisture, and the like, it has poor mechanical strength and cannot firmly support the sealing substrate 92. Therefore, when an external force is applied to the sealing substrate 92, the sealing substrate 92 may bend and damage the organic EL layer 90.

そこで、上記従来のフリットタイプの封止方法の課題を解決するために、例えば特許文献1〜3に記載の技術では、封止領域94内に不活性液体又は樹脂からなる充填材を充填することにより、耐圧特性を向上させつつ、有機EL層90の保護を図っている。   Therefore, in order to solve the problems of the conventional frit type sealing method, for example, in the techniques described in Patent Documents 1 to 3, the sealing region 94 is filled with a filler made of an inert liquid or resin. Thus, the organic EL layer 90 is protected while improving the breakdown voltage characteristics.

特開2010−108905号公報JP 2010-108905 A 特開2010−103112号公報JP 2010-103112 A 特開2010−225569号公報JP 2010-225569 A

しかしながら、上記特許文献1〜3に記載の技術では、支持基板91及び封止基板92とフリット93との各接合部が不活性液体又は樹脂からなる充填材に触れているために、当該接合部をレーザー溶着する際に充填材が溶け込んで溶着不良を起こしてしまい、十分な接合強度を確保できない恐れがある。十分な接合強度が確保できなかった場合は、外界からの酸素や水分等の侵入物に対して十分に有機EL層を封止できなかったり、十分な機械的強度が得られず封止基板等を強固に支持することができなかったりする。   However, in the techniques described in Patent Documents 1 to 3, since each joint between the support substrate 91 and the sealing substrate 92 and the frit 93 is in contact with a filler made of an inert liquid or resin, the joint When the laser is welded, the filler material melts to cause poor welding, and there is a possibility that sufficient bonding strength cannot be ensured. If sufficient bonding strength cannot be ensured, the organic EL layer cannot be sufficiently sealed against intruders such as oxygen and moisture from the outside, or sufficient mechanical strength cannot be obtained, and a sealing substrate, etc. Cannot be firmly supported.

本発明は、上記事情を鑑みてなされたもので、有機EL層を保護しつつ、フリットのレーザー溶着不良を防止することができる有機EL素子及びその製造方法の提供を課題とする。   This invention is made | formed in view of the said situation, and makes it a subject to provide the organic EL element which can prevent the laser welding defect of a frit, and its manufacturing method, protecting an organic EL layer.

上記課題を解決するために、請求項1に記載の発明は、有機EL素子において、
上面に有機EL層を有する第一基板と、
前記第一基板の上面に対向するように配置された第二基板と、
前記有機EL層を囲むように前記第一基板と前記第二基板との間に配置され、前記第一基板と前記第二基板とを接合しつつ、前記有機EL層が設けられた空間を封止領域として封止するフリットと、
前記フリットとの間に隙間を介在させつつ前記有機EL層を覆うように前記封止領域の内部に形成された保護部材と、
を備えることを特徴とする。
In order to solve the above problem, the invention according to claim 1 is an organic EL element,
A first substrate having an organic EL layer on the upper surface;
A second substrate disposed to face the upper surface of the first substrate;
It is disposed between the first substrate and the second substrate so as to surround the organic EL layer, and seals the space in which the organic EL layer is provided while bonding the first substrate and the second substrate. A frit for sealing as a stop region;
A protective member formed inside the sealing region so as to cover the organic EL layer while interposing a gap with the frit;
It is characterized by providing.

請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の有機EL素子において、
前記保護部材と前記フリットとの間の隙間が0.2mm以上であることを特徴とする。
The invention according to claim 2 is the organic EL element according to claim 1,
A gap between the protective member and the frit is 0.2 mm or more.

請求項3に記載の発明は、請求項1又は2に記載の有機EL素子において、
前記保護部材が、前記第二基板との間に隙間を介在させていることを特徴とする。
The invention according to claim 3 is the organic EL element according to claim 1 or 2,
The protective member is characterized in that a gap is interposed between the protective member and the second substrate.

請求項4に記載の発明は、請求項3に記載の有機EL素子において、
前記保護部材の高さが、前記フリットの高さの30〜90%の範囲内であることを特徴とする。
The invention according to claim 4 is the organic EL element according to claim 3,
The height of the protective member is in the range of 30 to 90% of the height of the frit.

請求項5に記載の発明は、請求項1〜4の何れか一項に記載の有機EL素子において、
前記保護部材が、UV硬化型樹脂又は熱硬化型樹脂であることを特徴とする。
The invention according to claim 5 is the organic EL element according to any one of claims 1 to 4,
The protective member is a UV curable resin or a thermosetting resin.

請求項6に記載の発明は、請求項5に記載の有機EL素子において、
前記保護部材が、エポキシ樹脂,アクリレート樹脂又はウレタンアクリレート樹脂であることを特徴とする。
The invention according to claim 6 is the organic EL element according to claim 5,
The protective member is an epoxy resin, an acrylate resin, or a urethane acrylate resin.

請求項7に記載の発明は、請求項1〜6の何れか一項に記載の有機EL素子において、
一端が前記封止領域の内部で前記有機EL層と接続されるとともに、他端が前記封止領域の外部に露出するように、前記第一基板の上面に形成された取出し電極と、
上部で前記第二基板の周縁を覆うとともに下部で前記取出し電極上の周縁を覆いつつ、前記フリットの外周を囲むように前記第一基板と前記第二基板との間に配置された封止部材と、
を備えることを特徴とする。
The invention according to claim 7 is the organic EL element according to any one of claims 1 to 6,
An extraction electrode formed on the upper surface of the first substrate such that one end is connected to the organic EL layer inside the sealing region and the other end is exposed to the outside of the sealing region;
A sealing member disposed between the first substrate and the second substrate so as to surround the outer periphery of the frit while covering the outer periphery of the frit while covering the periphery of the extraction electrode at the lower part and covering the periphery of the second substrate at the upper part When,
It is characterized by providing.

請求項8に記載の発明は、請求項7に記載の有機EL素子において、
前記封止部材が、エポキシ樹脂,アクリレート樹脂又はウレタンアクリレート樹脂であることを特徴とする。
The invention according to claim 8 is the organic EL element according to claim 7,
The sealing member is an epoxy resin, an acrylate resin, or a urethane acrylate resin.

請求項9に記載の発明は、有機EL素子の製造方法において、
第一基板の上面に有機EL層を形成する第一の工程と、
前記有機EL層を保護部材で覆うとともに、当該保護部材との間に隙間を介在させつつ前記有機EL層を囲むように前記第一基板の上面にフリットを配置する第二の工程と、
前記第一基板の上面に対向するように第二基板を配置し、前記第一基板及び前記第二基板と前記フリットとをレーザー溶着して、前記有機EL層が設けられた空間を封止領域として封止する第三の工程と、
を備えることを特徴とする。
Invention of Claim 9 is in the manufacturing method of an organic EL element,
A first step of forming an organic EL layer on the upper surface of the first substrate;
A second step of covering the organic EL layer with a protective member and disposing a frit on the upper surface of the first substrate so as to surround the organic EL layer while interposing a gap between the organic EL layer and the protective member;
A second substrate is disposed so as to face the upper surface of the first substrate, the first substrate, the second substrate, and the frit are laser-welded, and the space provided with the organic EL layer is sealed as a sealing region And a third step of sealing as
It is characterized by providing.

請求項10に記載の発明は、請求項9に記載の有機EL素子の製造方法において、
前記保護部材と前記フリットとの間の隙間が0.2mm以上であることを特徴とする。
Invention of Claim 10 is the manufacturing method of the organic EL element of Claim 9,
A gap between the protective member and the frit is 0.2 mm or more.

請求項11に記載の発明は、請求項9又は10に記載の有機EL素子の製造方法において、
前記第二の工程では、前記第三の工程において前記保護部材と前記第二基板との間に隙間が介在するように、前記フリットを前記保護部材よりも高く形成することを特徴とする。
Invention of Claim 11 is the manufacturing method of the organic EL element of Claim 9 or 10,
In the second step, the frit is formed higher than the protective member so that a gap is interposed between the protective member and the second substrate in the third step.

請求項12に記載の発明は、請求項11に記載の有機EL素子の製造方法において、
前記保護部材の高さが、前記フリットの高さの30〜90%の範囲内であることを特徴とする。
Invention of Claim 12 in the manufacturing method of the organic EL element of Claim 11,
The height of the protective member is in the range of 30 to 90% of the height of the frit.

請求項13に記載の発明は、請求項9〜12の何れか一項に記載の有機EL素子の製造方法において、
前記保護部材が、UV硬化型樹脂又は熱硬化型樹脂であることを特徴とする。
Invention of Claim 13 in the manufacturing method of the organic EL element as described in any one of Claims 9-12,
The protective member is a UV curable resin or a thermosetting resin.

請求項14に記載の発明は、請求項13に記載の有機EL素子の製造方法において、
前記保護部材が、エポキシ樹脂,アクリレート樹脂又はウレタンアクリレート樹脂であることを特徴とする。
Invention of Claim 14 in the manufacturing method of the organic EL element of Claim 13,
The protective member is an epoxy resin, an acrylate resin, or a urethane acrylate resin.

請求項15に記載の発明は、請求項9〜14の何れか一項に記載の有機EL素子の製造方法において、
前記第一の工程では、前記第一基板の上面に取出し電極を配設して、その一端を前記有機EL層と接続し、
前記第二の工程では、前記取出し電極の一端が前記封止領域の内部に位置するとともに前記取出し電極の他端が前記封止領域の外部に露出するように、前記フリットを配置し、
前記第三の工程の後に、上部で前記第二基板の周縁を覆うとともに下部で前記取出し電極上の周縁を覆いつつ、前記フリットの外周を囲むように前記第一基板と前記第二基板との間に封止部材を配置する第四の工程を備えることを特徴とする。
Invention of Claim 15 in the manufacturing method of the organic EL element as described in any one of Claims 9-14,
In the first step, an extraction electrode is disposed on the upper surface of the first substrate, and one end thereof is connected to the organic EL layer,
In the second step, the frit is disposed so that one end of the extraction electrode is located inside the sealing region and the other end of the extraction electrode is exposed to the outside of the sealing region,
After the third step, the first substrate and the second substrate are covered so as to surround the outer periphery of the frit while covering the periphery of the second substrate at the top and the periphery on the extraction electrode at the bottom. A fourth step of disposing a sealing member therebetween is provided.

請求項16に記載の発明は、請求項15に記載の有機EL素子の製造方法において、
前記封止部材が、エポキシ樹脂,アクリレート樹脂又はウレタンアクリレート樹脂であることを特徴とする。
The invention according to claim 16 is the method for producing an organic EL element according to claim 15,
The sealing member is an epoxy resin, an acrylate resin, or a urethane acrylate resin.

本発明によれば、有機EL層を保護部材で覆うとともに、当該保護部材とフリットとの間に隙間を介在させているので、保護部材によって有機EL層を保護しつつ、第一基板及び第二基板とフリットとのレーザー溶着時において、接合部への保護部材の溶け込みを防止することができる。したがって、有機EL層を保護しつつ、フリットのレーザー溶着不良を防止することができる。   According to the present invention, since the organic EL layer is covered with the protective member and the gap is interposed between the protective member and the frit, the first substrate and the second substrate are protected while the organic EL layer is protected by the protective member. At the time of laser welding of the substrate and the frit, it is possible to prevent the protective member from being melted into the joint portion. Therefore, it is possible to prevent frit laser welding defects while protecting the organic EL layer.

実施形態における有機EL素子の側断面図である。It is a sectional side view of the organic EL element in an embodiment. 図1のII−II線での断面図である。It is sectional drawing in the II-II line of FIG. 実施形態における有機EL素子の各製造工程を説明するための図である。It is a figure for demonstrating each manufacturing process of the organic EL element in embodiment. 実施形態における有機EL素子の各製造工程を説明するための図である。It is a figure for demonstrating each manufacturing process of the organic EL element in embodiment. 実施形態における有機EL素子の各製造工程を説明するための図である。It is a figure for demonstrating each manufacturing process of the organic EL element in embodiment. 実施形態における有機EL素子の各製造工程を説明するための図である。It is a figure for demonstrating each manufacturing process of the organic EL element in embodiment. 従来の有機EL素子の側断面図である。It is a sectional side view of the conventional organic EL element.

以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1は、本実施形態における有機EL(Electro-Luminescence)素子1の側断面図であり、図2は、図1のII−II線での断面図である。   FIG. 1 is a side sectional view of an organic EL (Electro-Luminescence) element 1 in the present embodiment, and FIG. 2 is a sectional view taken along line II-II in FIG.

これらの図に示すように、有機EL素子1は、ガラス製の第一基板10を備えており、この第一基板10の上面中央には、有機EL層11が形成されている。有機EL層11は、図示は省略するが、有機機能層(例えば、発光層)を対向電極(陽極及び陰極)で挟むように積層させた積層構造となっている。また、第一基板10の上面には、有機EL層11の両側を挟むように一組の取出し電極12a,12bが形成されている。この一組の取出し電極12a,12bは、陽極取出し電極12a及び陰極取出し電極12bであり、内側の端部が有機EL層11の陽極及び陰極と個別に接続されている。   As shown in these drawings, the organic EL element 1 includes a first substrate 10 made of glass, and an organic EL layer 11 is formed at the center of the upper surface of the first substrate 10. Although not shown, the organic EL layer 11 has a laminated structure in which organic functional layers (for example, light emitting layers) are laminated so as to be sandwiched between counter electrodes (anode and cathode). A pair of extraction electrodes 12 a and 12 b are formed on the upper surface of the first substrate 10 so as to sandwich both sides of the organic EL layer 11. The pair of extraction electrodes 12 a and 12 b are an anode extraction electrode 12 a and a cathode extraction electrode 12 b, and the inner ends are individually connected to the anode and cathode of the organic EL layer 11.

第一基板10の上方には、当該第一基板10の上面に対向するように、ガラス製の第二基板20が配置されている。これら第一基板10及び第二基板20は、ガラスを有するフリット30によって接合されている。フリット30は、有機EL層11の周囲を囲むように第一基板10と第二基板20との間に配置されており、当該第一基板10及び第二基板20を接合しつつ、有機EL層11が設けられた空間を封止領域Sとして封止している。また、フリット30は、取出し電極12a,12bのうち、内側の端部が封止領域Sの内部に位置し、外側の端部が封止領域Sの外部に露出するように、当該取出し電極12a,12b上に設けられている。   A glass-made second substrate 20 is disposed above the first substrate 10 so as to face the upper surface of the first substrate 10. The first substrate 10 and the second substrate 20 are joined by a frit 30 having glass. The frit 30 is disposed between the first substrate 10 and the second substrate 20 so as to surround the periphery of the organic EL layer 11, and the organic EL layer is bonded to the first substrate 10 and the second substrate 20. 11 is sealed as a sealing region S. Further, the frit 30 has the extraction electrode 12a, 12b such that the inner end is located inside the sealing region S and the outer end is exposed outside the sealing region S. , 12b.

封止領域Sの内部には、有機EL層11を保護するための保護部材40が、有機EL層11を覆うように設けられている。この保護部材40は、フリット30との間に全周に亘って隙間G1を介在させているとともに、第二基板20との間に隙間G2を介在させている。保護部材40としては、UV硬化型樹脂又は熱硬化型樹脂を用いることが好ましく、具体的には、例えば、エポキシ樹脂,アクリレート樹脂又はウレタンアクリレート樹脂を用いることができる。   Inside the sealing region S, a protection member 40 for protecting the organic EL layer 11 is provided so as to cover the organic EL layer 11. The protective member 40 has a gap G1 interposed between the frit 30 and the entire circumference and a gap G2 interposed between the protective member 40 and the second substrate 20. As the protective member 40, it is preferable to use a UV curable resin or a thermosetting resin. Specifically, for example, an epoxy resin, an acrylate resin, or a urethane acrylate resin can be used.

封止領域Sの外部には、フリット30よりも外側であって第一基板10と第二基板20との間の空間を封止する封止部材50が設けられている。この封止部材50は、フリット30の外周を囲むように第一基板10と第二基板20との間に配置され、第一基板10及び第二基板20とそれぞれ接合されている。また、封止部材50は、上部で第二基板20の周縁を覆いつつ、下部で取出し電極12a,12b上の周縁の一部を覆うように形成されている。このような封止部材50としては、UV硬化型樹脂又は熱硬化型樹脂を用いることが好ましく、具体的には、例えば、エポキシ樹脂,アクリレート樹脂又はウレタンアクリレート樹脂を用いることができる。   Outside the sealing region S, a sealing member 50 that seals the space between the first substrate 10 and the second substrate 20 outside the frit 30 is provided. The sealing member 50 is disposed between the first substrate 10 and the second substrate 20 so as to surround the outer periphery of the frit 30, and is bonded to the first substrate 10 and the second substrate 20, respectively. Further, the sealing member 50 is formed so as to cover a part of the periphery on the extraction electrodes 12a and 12b in the lower part while covering the periphery of the second substrate 20 in the upper part. As such a sealing member 50, it is preferable to use UV curable resin or thermosetting resin, and specifically, for example, epoxy resin, acrylate resin, or urethane acrylate resin can be used.

続いて、有機EL素子1の製造方法について、図3A〜図3Dを参照して説明する。
図3A〜図3Dは、有機EL素子1の各製造工程を説明するための図である。
Then, the manufacturing method of the organic EL element 1 is demonstrated with reference to FIG. 3A-FIG. 3D.
3A to 3D are diagrams for explaining each manufacturing process of the organic EL element 1.

まず、図3Aに示すように、第一基板10の上面中央に有機EL層11を形成する。そして、第一基板10の上面に、有機EL層11の両側を挟むように一組の取出し電極12a,12bを配設して、その内側の端部を有機EL層11の陽極及び陰極と個別に接続する。   First, as shown in FIG. 3A, the organic EL layer 11 is formed at the center of the upper surface of the first substrate 10. Then, a pair of extraction electrodes 12a and 12b are arranged on the upper surface of the first substrate 10 so as to sandwich both sides of the organic EL layer 11, and the inner ends thereof are individually connected to the anode and the cathode of the organic EL layer 11. Connect to.

次に、図3Bに示すように、未硬化状態の保護部材40で有機EL層11の上面を覆う。それから、保護部材40との間に隙間G1を介在させつつ有機EL層11を囲むように、第一基板10の上面にペースト状のフリット30を塗布する。このとき、フリット30は、保護部材40との高さの差が隙間G2に相当するように、保護部材40よりも高く形成する。なお、保護部材40の高さとは、有機EL層11及び取出し電極12a,12bが形成されていない第一基板10上から測定した値である。またこのとき、取出し電極12a,12bの内側の端部が封止領域Sの内部に位置するとともに、取出し電極12a,12bの外側の端部が封止領域Sの外部に露出するように、フリット30を取出し電極12a,12b上に配置する。   Next, as shown in FIG. 3B, the upper surface of the organic EL layer 11 is covered with an uncured protective member 40. Then, a paste-like frit 30 is applied to the upper surface of the first substrate 10 so as to surround the organic EL layer 11 with a gap G1 interposed between the protective member 40 and the protective member 40. At this time, the frit 30 is formed higher than the protection member 40 so that the height difference from the protection member 40 corresponds to the gap G2. The height of the protective member 40 is a value measured from the first substrate 10 on which the organic EL layer 11 and the extraction electrodes 12a and 12b are not formed. At this time, the frit is so that the inner ends of the extraction electrodes 12a and 12b are located inside the sealing region S and the outer ends of the extraction electrodes 12a and 12b are exposed to the outside of the sealing region S. 30 is taken out and arranged on the electrodes 12a and 12b.

次に、図3Cに示すように、第一基板10の上面に対向するように第二基板20を配置し、第一基板10とフリット30,及び第二基板20とフリット30をそれぞれレーザー溶着により接合する。具体的には、上方又は下方から第一基板10又は第二基板20を介してフリット30へレーザー光を照射して、第一基板10とフリット30,及び第二基板20とフリット30をそれぞれ溶着させる。これにより、有機EL層11が設けられた空間が封止領域Sとして封止される。また、上述の通り、フリット30が保護部材40よりも高く形成されていることにより、保護部材40と第二基板20との間には隙間G2が形成される。   Next, as shown in FIG. 3C, the second substrate 20 is disposed so as to face the upper surface of the first substrate 10, and the first substrate 10 and the frit 30 and the second substrate 20 and the frit 30 are respectively bonded by laser welding. Join. Specifically, the first substrate 10 and the frit 30 and the second substrate 20 and the frit 30 are welded by irradiating the frit 30 with laser light from above or below via the first substrate 10 or the second substrate 20, respectively. Let Thereby, the space in which the organic EL layer 11 is provided is sealed as the sealing region S. Further, as described above, since the frit 30 is formed higher than the protection member 40, a gap G2 is formed between the protection member 40 and the second substrate 20.

それから、第二基板20を介して保護部材40に紫外線を照射させるか又は保護部材40をヒーターで加熱して、当該保護部材40を硬化させる。但し、この保護部材40の硬化は、第一基板10及び第二基板20とフリット30とのレーザー溶着よりも前に行ってもよい。   Then, the protective member 40 is irradiated with ultraviolet rays through the second substrate 20 or the protective member 40 is heated with a heater to cure the protective member 40. However, the protection member 40 may be cured before the laser welding of the first substrate 10 and the second substrate 20 and the frit 30.

次に、図3Dに示すように、フリット30から少し離間した位置で当該フリット30の外周を囲むように、第一基板10と第二基板20との間に未硬化状態の封止部材50を配置する。このとき、封止部材50の上部が第二基板20の周縁を覆うとともに、下部が取出し電極12a,12b上の周縁の一部を覆うように、当該封止部材50を配置する。そして、封止部材50に紫外線を照射させるか、又は封止部材50をヒーターで加熱して、当該封止部材50を硬化させる。   Next, as shown in FIG. 3D, an uncured sealing member 50 is placed between the first substrate 10 and the second substrate 20 so as to surround the outer periphery of the frit 30 at a position slightly separated from the frit 30. Deploy. At this time, the sealing member 50 is arranged so that the upper part of the sealing member 50 covers the periphery of the second substrate 20 and the lower part covers a part of the periphery of the extraction electrodes 12a and 12b. Then, the sealing member 50 is irradiated with ultraviolet rays, or the sealing member 50 is heated with a heater to cure the sealing member 50.

以上のように、本実施形態によれば、有機EL層11を保護部材40で覆うとともに、当該保護部材40とフリット30との間に隙間G1を介在させているので、保護部材40によって有機EL層11を保護しつつ、第一基板10及び第二基板20とフリット30とのレーザー溶着時において、接合部への保護部材40の溶け込みを防止することができる。したがって、有機EL層11を保護しつつ、フリット30のレーザー溶着不良を防止することができる。   As described above, according to the present embodiment, the organic EL layer 11 is covered with the protective member 40, and the gap G <b> 1 is interposed between the protective member 40 and the frit 30. While protecting the layer 11, it is possible to prevent the protective member 40 from being melted into the joint portion at the time of laser welding of the first substrate 10 and the second substrate 20 and the frit 30. Therefore, it is possible to prevent the defective fusing of the frit 30 while protecting the organic EL layer 11.

また、保護部材40と第二基板20との間に隙間G2を介在させているので、封止領域の内部に充填材を充填していた従来と異なり、第二基板20が撓んだときであっても、充填材を介して有機EL層11に荷重が加わることがなく、当該有機EL層11をより好適に保護することができる。   Further, since the gap G2 is interposed between the protective member 40 and the second substrate 20, unlike the conventional case where the filler is filled in the sealing region, the second substrate 20 is bent. Even if it exists, a load is not added to the organic EL layer 11 through the filler, and the organic EL layer 11 can be more suitably protected.

また、第一基板10と第二基板20との間に封止部材50を設け、その上部で第二基板20の周縁を覆うとともに下部で取出し電極12a,12b上の周縁の一部を覆っているので、特に脆く形成されやすい第二基板20の周縁(エッジ)や取出し電極12a,12bを保護するとともに、フリット30を補強することができる。
更に、封止部材50がフリット30の外周を囲むように設けられているので、フリット30が破損した場合であっても、有機EL層11が設けられた空間の封止状態を維持することができる。
Further, a sealing member 50 is provided between the first substrate 10 and the second substrate 20, and the upper portion covers the periphery of the second substrate 20 and the lower portion covers a part of the periphery on the extraction electrodes 12 a and 12 b. Therefore, it is possible to protect the peripheral edge (edge) of the second substrate 20 and the extraction electrodes 12a and 12b that are particularly fragile, and to reinforce the frit 30.
Furthermore, since the sealing member 50 is provided so as to surround the outer periphery of the frit 30, even when the frit 30 is damaged, the sealed state of the space in which the organic EL layer 11 is provided can be maintained. it can.

なお、本発明を適用可能な実施形態は、上述した実施形態に限定されることなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。   The embodiments to which the present invention can be applied are not limited to the above-described embodiments, and can be appropriately changed without departing from the spirit of the present invention.

以下に、実施例を挙げることにより、本発明をさらに具体的に説明する。但し、本発明はこの実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to this example.

実施例1では、保護部材40とフリット30との間の隙間G1をパラメータとして、第二基板20とフリット30をレーザー溶着したときの接合部の接合状態をシミュレーションにより評価した。   In Example 1, using the gap G1 between the protective member 40 and the frit 30 as a parameter, the bonding state of the bonding portion when the second substrate 20 and the frit 30 were laser welded was evaluated by simulation.

<シミュレーション条件>
第二基板20とフリット30との接合部に大気化で窒素ガスを噴霧しつつレーザー光を照射し、当該接合部を約600℃まで加熱して溶着した。照射したレーザー光の各種条件は以下の通りである。ここで、「移動速度」とは、レーザー光をフリット30の長手方向に沿って移動させるときの速度である。
出力 : 5w
スポット径 : 0.5mm
波長 : 980nm
移動速度 : 10mm/sec
<Simulation conditions>
The joint between the second substrate 20 and the frit 30 was irradiated with laser light while spraying nitrogen gas in the atmosphere, and the joint was heated to about 600 ° C. for welding. Various conditions of the irradiated laser light are as follows. Here, the “moving speed” is a speed at which the laser light is moved along the longitudinal direction of the frit 30.
Output: 5w
Spot diameter: 0.5mm
Wavelength: 980nm
Movement speed: 10mm / sec

<他の条件>
上記以外の各部の形状等の条件は以下の通りである。
フリット30の幅 : 0.2mm
第二基板20の厚さ : 0.7mm
保護部材40の材質 : エポキシ樹脂
保護部材40の耐熱温度: 300〜600℃
<Other conditions>
Conditions such as the shape of each part other than the above are as follows.
Width of frit 30: 0.2 mm
The thickness of the second substrate 20: 0.7 mm
Material of protective member 40: Epoxy resin Heat resistant temperature of protective member 40: 300-600 ° C

<結果>
結果を表1に示す。なお、表中の「評価結果」の欄の記号は、それぞれ以下の内容を示している。
<Result>
The results are shown in Table 1. The symbols in the “Evaluation result” column in the table indicate the following contents, respectively.

◎:接合部の強度は極めて良好であり、バラツキも全く無かった。
また、保護部材40及び有機EL層11にダメージは無かった。
○:接合部の強度は良好であり、バラツキも殆ど無かった。
また、保護部材40及び有機EL層11にダメージは無かった。
△:接合部の強度は良好であるものの、バラツキが若干あった。
また、保護部材40に若干のダメージがあったものの、
有機EL層11にはダメージは無かった。
×:接合部の強度は不良であり、バラツキもあった。
また、保護部材40及び有機EL層11にダメージがあった。
なお、「バラツキ」とは、第一基板10上の全接合面における接合強度のバラツキを指す。
A: The strength of the joint was very good and there was no variation.
Further, the protective member 40 and the organic EL layer 11 were not damaged.
○: The strength of the joint was good and there was almost no variation.
Further, the protective member 40 and the organic EL layer 11 were not damaged.
Δ: The joint strength was good, but there was some variation.
Although the protective member 40 was slightly damaged,
The organic EL layer 11 was not damaged.
X: The strength of the joint was poor and there was variation.
Further, the protective member 40 and the organic EL layer 11 were damaged.
“Variation” refers to variation in bonding strength across all bonding surfaces on the first substrate 10.

Figure 2012161151
Figure 2012161151

<まとめ>
表1に示した結果から、保護部材40とフリット30との間の隙間G1は、0.05mm以上が好ましく、0.2mm以上がより好ましく、0.75mm以上が更に好ましいことが分かる。
<Summary>
From the results shown in Table 1, it can be seen that the gap G1 between the protective member 40 and the frit 30 is preferably 0.05 mm or more, more preferably 0.2 mm or more, and even more preferably 0.75 mm or more.

実施例2では、保護部材40の高さをパラメータとして、第二基板20の上面に荷重を加えたときの有機EL層11への影響と、保護部材40を形成するときの難しさを評価した。   In Example 2, the height of the protective member 40 was used as a parameter, and the influence on the organic EL layer 11 when a load was applied to the upper surface of the second substrate 20 and the difficulty in forming the protective member 40 were evaluated. .

<試験条件>
第一基板10から第二基板20までのフリット30の高さは10μmとした。また、第二基板20の厚さは0.7mmとした。
<Test conditions>
The height of the frit 30 from the first substrate 10 to the second substrate 20 was 10 μm. The thickness of the second substrate 20 was 0.7 mm.

<結果>
結果を表2に示す。なお、表中の「有機EL層への圧力の影響」及び「製造上の難しさ」の各欄の記号は、それぞれ以下の内容を示している。
<Result>
The results are shown in Table 2. In the table, the symbols in the respective columns of “Effect of pressure on organic EL layer” and “Difficulty in manufacturing” indicate the following contents, respectively.

「有機EL層への圧力の影響」
◎:有機EL層11に全くダメージが無かった。
○:有機EL層11に殆どダメージが無かった。
△:有機EL層11に若干のダメージがあった。
"Influence of pressure on organic EL layer"
A: The organic EL layer 11 was not damaged at all.
○: The organic EL layer 11 was hardly damaged.
Δ: The organic EL layer 11 was slightly damaged.

「製造上の難しさ」
◎:保護部材40を問題なく形成することができる。
△:保護部材40の形成に若干の困難が伴う。
"Manufacturing difficulties"
(Double-circle): The protection member 40 can be formed without a problem.
(Triangle | delta): Some difficulty accompanies formation of the protection member 40.

Figure 2012161151
Figure 2012161151

<まとめ>
表2に示した結果から、フリット30の高さに対する保護部材40の高さの比率は、製造上の難しさの点からは30%以上が好ましく、有機EL層11を保護する点からは90%以下が好ましいことが分かる。
<Summary>
From the results shown in Table 2, the ratio of the height of the protective member 40 to the height of the frit 30 is preferably 30% or more from the viewpoint of manufacturing difficulty, and 90% from the viewpoint of protecting the organic EL layer 11. % Or less is preferable.

以上のように、本発明に係る有機EL素子及びその製造方法は、有機EL層を保護しつつフリットのレーザー溶着不良を防止するのに有用である。   As described above, the organic EL element and the manufacturing method thereof according to the present invention are useful for preventing the frit laser welding failure while protecting the organic EL layer.

1 有機EL素子
10 第一基板
11 有機EL層
12a,12b 取出し電極
20 第二基板
30 フリット
40 保護部材
50 封止部材
G1 隙間(保護部材とフリットとの間の隙間)
G2 隙間(保護部材と第二基板との間の隙間)
S 封止領域
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Organic EL element 10 1st board | substrate 11 Organic EL layer 12a, 12b Extraction electrode 20 2nd board | substrate 30 Frit 40 Protection member 50 Sealing member G1 Gap (gap between a protection member and a frit)
G2 gap (gap between the protective member and the second substrate)
S Sealing area

Claims (16)

上面に有機EL層を有する第一基板と、
前記第一基板の上面に対向するように配置された第二基板と、
前記有機EL層を囲むように前記第一基板と前記第二基板との間に配置され、前記第一基板と前記第二基板とを接合しつつ、前記有機EL層が設けられた空間を封止領域として封止するフリットと、
前記フリットとの間に隙間を介在させつつ前記有機EL層を覆うように前記封止領域の内部に形成された保護部材と、
を備えることを特徴とする有機EL素子。
A first substrate having an organic EL layer on the upper surface;
A second substrate disposed to face the upper surface of the first substrate;
It is disposed between the first substrate and the second substrate so as to surround the organic EL layer, and seals the space in which the organic EL layer is provided while bonding the first substrate and the second substrate. A frit for sealing as a stop region;
A protective member formed inside the sealing region so as to cover the organic EL layer while interposing a gap with the frit;
An organic EL device comprising:
前記保護部材と前記フリットとの間の隙間が0.2mm以上であることを特徴とする請求項1に記載の有機EL素子。   The organic EL element according to claim 1, wherein a gap between the protective member and the frit is 0.2 mm or more. 前記保護部材が、前記第二基板との間に隙間を介在させていることを特徴とする請求項1又は2に記載の有機EL素子。   The organic EL element according to claim 1, wherein a gap is interposed between the protective member and the second substrate. 前記保護部材の高さが、前記フリットの高さの30〜90%の範囲内であることを特徴とする請求項3に記載の有機EL素子。   4. The organic EL element according to claim 3, wherein the height of the protective member is within a range of 30 to 90% of the height of the frit. 前記保護部材が、UV硬化型樹脂又は熱硬化型樹脂であることを特徴とする請求項1〜4の何れか一項に記載の有機EL素子。   The organic EL device according to claim 1, wherein the protective member is a UV curable resin or a thermosetting resin. 前記保護部材が、エポキシ樹脂,アクリレート樹脂又はウレタンアクリレート樹脂であることを特徴とする請求項5に記載の有機EL素子。   The organic EL element according to claim 5, wherein the protective member is an epoxy resin, an acrylate resin, or a urethane acrylate resin. 一端が前記封止領域の内部で前記有機EL層と接続されるとともに、他端が前記封止領域の外部に露出するように、前記第一基板の上面に形成された取出し電極と、
上部で前記第二基板の周縁を覆うとともに下部で前記取出し電極上の周縁を覆いつつ、前記フリットの外周を囲むように前記第一基板と前記第二基板との間に配置された封止部材と、
を備えることを特徴とする請求項1〜6の何れか一項に記載の有機EL素子。
An extraction electrode formed on the upper surface of the first substrate such that one end is connected to the organic EL layer inside the sealing region and the other end is exposed to the outside of the sealing region;
A sealing member disposed between the first substrate and the second substrate so as to surround the outer periphery of the frit while covering the outer periphery of the frit while covering the periphery of the extraction electrode at the lower part and covering the periphery of the second substrate at the upper part When,
The organic EL element according to any one of claims 1 to 6, further comprising:
前記封止部材が、エポキシ樹脂,アクリレート樹脂又はウレタンアクリレート樹脂であることを特徴とする請求項7に記載の有機EL素子。   The organic EL element according to claim 7, wherein the sealing member is an epoxy resin, an acrylate resin, or a urethane acrylate resin. 第一基板の上面に有機EL層を形成する第一の工程と、
前記有機EL層を保護部材で覆うとともに、当該保護部材との間に隙間を介在させつつ前記有機EL層を囲むように前記第一基板の上面にフリットを配置する第二の工程と、
前記第一基板の上面に対向するように第二基板を配置し、前記第一基板及び前記第二基板と前記フリットとをレーザー溶着して、前記有機EL層が設けられた空間を封止領域として封止する第三の工程と、
を備えることを特徴とする有機EL素子の製造方法。
A first step of forming an organic EL layer on the upper surface of the first substrate;
A second step of covering the organic EL layer with a protective member and disposing a frit on the upper surface of the first substrate so as to surround the organic EL layer while interposing a gap between the organic EL layer and the protective member;
A second substrate is disposed so as to face the upper surface of the first substrate, the first substrate, the second substrate, and the frit are laser-welded, and the space provided with the organic EL layer is sealed as a sealing region And a third step of sealing as
A method for producing an organic EL element, comprising:
前記保護部材と前記フリットとの間の隙間が0.2mm以上であることを特徴とする請求項9に記載の有機EL素子の製造方法。   The method for producing an organic EL element according to claim 9, wherein a gap between the protective member and the frit is 0.2 mm or more. 前記第二の工程では、前記第三の工程において前記保護部材と前記第二基板との間に隙間が介在するように、前記フリットを前記保護部材よりも高く形成することを特徴とする請求項9又は10に記載の有機EL素子の製造方法。   In the second step, the frit is formed higher than the protective member so that a gap is interposed between the protective member and the second substrate in the third step. The manufacturing method of the organic EL element of 9 or 10. 前記保護部材の高さが、前記フリットの高さの30〜90%の範囲内であることを特徴とする請求項11に記載の有機EL素子の製造方法。   12. The method of manufacturing an organic EL element according to claim 11, wherein the height of the protective member is within a range of 30 to 90% of the height of the frit. 前記保護部材が、UV硬化型樹脂又は熱硬化型樹脂であることを特徴とする請求項9〜12の何れか一項に記載の有機EL素子の製造方法。   The method for producing an organic EL element according to claim 9, wherein the protective member is a UV curable resin or a thermosetting resin. 前記保護部材が、エポキシ樹脂,アクリレート樹脂又はウレタンアクリレート樹脂であることを特徴とする請求項13に記載の有機EL素子の製造方法。   The method for producing an organic EL element according to claim 13, wherein the protective member is an epoxy resin, an acrylate resin, or a urethane acrylate resin. 前記第一の工程では、前記第一基板の上面に取出し電極を配設して、その一端を前記有機EL層と接続し、
前記第二の工程では、前記取出し電極の一端が前記封止領域の内部に位置するとともに前記取出し電極の他端が前記封止領域の外部に露出するように、前記フリットを配置し、
前記第三の工程の後に、上部で前記第二基板の周縁を覆うとともに下部で前記取出し電極上の周縁を覆いつつ、前記フリットの外周を囲むように前記第一基板と前記第二基板との間に封止部材を配置する第四の工程を備えることを特徴とする請求項9〜14の何れか一項に記載の有機EL素子の製造方法。
In the first step, an extraction electrode is disposed on the upper surface of the first substrate, and one end thereof is connected to the organic EL layer,
In the second step, the frit is disposed so that one end of the extraction electrode is located inside the sealing region and the other end of the extraction electrode is exposed to the outside of the sealing region,
After the third step, the first substrate and the second substrate are covered so as to surround the outer periphery of the frit while covering the periphery of the second substrate at the top and the periphery on the extraction electrode at the bottom. The method for producing an organic EL element according to any one of claims 9 to 14, further comprising a fourth step of disposing a sealing member therebetween.
前記封止部材が、エポキシ樹脂,アクリレート樹脂又はウレタンアクリレート樹脂であることを特徴とする請求項15に記載の有機EL素子の製造方法。   The method for producing an organic EL element according to claim 15, wherein the sealing member is an epoxy resin, an acrylate resin, or a urethane acrylate resin.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR102483950B1 (en) * 2015-04-28 2023-01-03 삼성디스플레이 주식회사 Material for sealing display apparatus, organic light-emitting display apparatus comprising the same, and method for manufacturing organic light-emitting display apparatus

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002280169A (en) * 2001-03-19 2002-09-27 Futaba Corp Organic el device
TW517356B (en) * 2001-10-09 2003-01-11 Delta Optoelectronics Inc Package structure of display device and its packaging method
JP2006236745A (en) * 2005-02-24 2006-09-07 Seiko Epson Corp Organic electroluminescence apparatus and its manufacturing method, and electronic apparatus and optical write head
JP2007026684A (en) * 2005-07-12 2007-02-01 Toppan Printing Co Ltd Organic electroluminescent display element
JP4227134B2 (en) * 2005-11-17 2009-02-18 三星エスディアイ株式会社 Flat panel display manufacturing method, flat panel display, and flat panel display panel
US7999372B2 (en) * 2006-01-25 2011-08-16 Samsung Mobile Display Co., Ltd. Organic light emitting display device and method of fabricating the same
KR101376319B1 (en) * 2007-07-27 2014-03-20 주식회사 동진쎄미켐 A sealing method for display element
JP2010080087A (en) * 2008-09-24 2010-04-08 Toshiba Corp Method of manufacturing flat panel display device, apparatus for manufacturing flat panel display device, and flat panel display device
JP5305959B2 (en) * 2009-02-10 2013-10-02 キヤノン株式会社 Manufacturing method of organic light emitting device

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