JP2008070678A - Method and apparatus for manufacturing flexible display element - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To efficiently join plastic substrates of flexible display elements together by using laser while suppressing degradation of both the substrates and a display medium to the minimum. <P>SOLUTION: The plastic substrates 10 are joined by mounting the plastic substrates 10 with a photo-curing resin in-between for sealing the display medium such as a liquid crystal on a mounting base 8, by irradiating the photo-curing resin part with laser light 13 of 370nm or more and 450nm or less wavelength through at least one plastic substrate 10 by a moving mechanism 12 moving parallel to the mounting base 8 from a laser head 9 arranged above the mounting base 8. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、フレキシブルディスプレイまたは電子ペーパー等の可撓性表示素子を製造する方法およびその装置に関し、詳細にはプラスチック基板を貼り合わせて製造されるフレキシブルディスプレイまたは電子ペーパー等の可撓性表示素子の製造方法およびその装置に関するものである。   The present invention relates to a method and an apparatus for manufacturing a flexible display element such as a flexible display or electronic paper, and more particularly to a flexible display element such as a flexible display or electronic paper manufactured by laminating a plastic substrate. The present invention relates to a manufacturing method and an apparatus therefor.

近年、フレキシブルディスプレイや電子ペーパーなど、紙の長所を取り入れた、新たな電子表示媒体の開発が進められている。これらの電子表示媒体は、視認性がよく目が疲れにくいことや曲げることができ携帯性に優れるという、従来の紙ベース媒体のメリットに加え、書換え可能性、動画可能性、デジタル情報との結合などの電子ディスプレイのメリットを合わせ持つ理想的な電子表示媒体として期待されている。   In recent years, development of new electronic display media incorporating the advantages of paper, such as flexible displays and electronic paper, has been promoted. In addition to the advantages of traditional paper-based media, these electronic display media are highly visible, less tiring, and can be bent for superior portability, and can be rewritten, animated, and combined with digital information. It is expected as an ideal electronic display medium that combines the advantages of electronic displays.

特に、電子ペーパーはハードコピーのもつ見やすさ、持ち運びやすさというメリットに加え、ソフトコピーのもつデジタル情報との結合、書換え性可能性や省紙資源を実現するものと期待されている。また、フレキシブルディスプレイは動画表示が可能で、屋外などのいつでもどこでも見ることができるモバイル・ディスプレイを実現するものとして、あるいは軽量かつ可撓性のある大型表示媒体として期待されている次世代型ディスプレイである。   In particular, electronic paper is expected to realize the advantages of easy viewing and portability of hard copy, as well as combining with digital information of soft copy, rewritability and paper saving resources. The flexible display is a next-generation display that can display moving images and is expected to be a mobile display that can be viewed anywhere, anytime, such as outdoors, or as a lightweight and flexible large display medium. is there.

フレキシブルディスプレイや電子ペーパーには、種々の動作機構とそれに対応した構造ならびに製造方法があるが、例えばフレキシブル液晶ディスプレイでは、透明電極をパターニングし、配向処理を施した一対の基板を配向処理側が内側になるように、スペーサによりギャップを残した状態で対面させ、基板の周辺部に光硬化型樹脂を介装して互いに貼り合わせ、光硬化型樹脂に光を照射して硬化した後に、基板間に液晶を充填することにより、あるいは、基板の周辺部に光硬化型樹脂を介装し、基板に所定量の液晶を滴下した後に基板を対面させ、光硬化型樹脂に光を照射して硬化することにより製造される。   There are various operating mechanisms and structures and manufacturing methods corresponding to flexible displays and electronic paper. For example, in flexible liquid crystal displays, a transparent electrode is patterned, and a pair of substrates that have undergone an alignment process are placed inside with an alignment process side. So that the gap is left behind by the spacer, and the periphery of the substrate is bonded to each other with a photocurable resin interposed between them, and the photocurable resin is irradiated with light and cured, and then between the substrates. By filling the liquid crystal, or by interposing a photocurable resin around the substrate, dropping a predetermined amount of liquid crystal onto the substrate, facing the substrate, and irradiating the photocurable resin with light to cure It is manufactured by.

また、フレキシブル有機ELディスプレイは、透明電極を形成した一方の基板の上に多層の有機膜からなる発光層とそれを覆う背面電極を形成し、これともう一方の基板とを前記有機膜及び背面電極を覆うように塗布された光硬化型樹脂を介装し、双方の基板を有機膜などの素子構造が内側になるように対面させ、光硬化樹脂に光を照射して硬化することにより製造される。   In addition, the flexible organic EL display has a light emitting layer composed of a multilayer organic film and a back electrode that covers the light emitting layer formed on one substrate on which a transparent electrode is formed, and the other substrate is connected to the organic film and the back surface. Manufactured by interposing a photo-curing resin applied so as to cover the electrodes, facing both substrates so that the element structure such as an organic film is inside, and irradiating the photo-curing resin with light and curing Is done.

液晶ディスプレイ(LCD)のガラス基板間をシール剤で封止する方法として、例えば特許文献1にはレーザとして352nmのXeFエキシマレーザを照射する方法が記載されている。また、特許文献2には、プラスチック基板とガラス基板との間に光硬化型樹脂を介装し、紫外レーザと発振波長600nm以上、0.1mm以下のレーザとを同時照射する方法が記載されている。   As a method of sealing between glass substrates of a liquid crystal display (LCD) with a sealant, for example, Patent Document 1 describes a method of irradiating a 352 nm XeF excimer laser as a laser. Patent Document 2 describes a method in which a photocurable resin is interposed between a plastic substrate and a glass substrate, and an ultraviolet laser and a laser having an oscillation wavelength of 600 nm or more and 0.1 mm or less are simultaneously irradiated. Yes.

また、特許文献3には、出射されたレーザを空間変調してレーザを封止材部分に選択的に照射するように掃引する空間変調器を備えた封止材硬化用露光装置が記載されている。
特開2003−114442号公報 特開平8−6039号公報 特開平11−121166号公報
Further, Patent Document 3 describes an exposure apparatus for curing an encapsulant that includes a spatial modulator that spatially modulates an emitted laser and sweeps the laser to selectively irradiate the encapsulant part. Yes.
JP 2003-114442 A JP-A-8-6039 JP-A-11-121166

しかし、特許文献1に記載されている波長の光はフレキシブルディスプレイや電子ペーパーに典型的に用いられる樹脂基板であるポリエチレンナフタレート(PEN)や、酸化インジウムスズ(ITO)電極を形成したポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンスルホン(PES)等に対する透過率が低く、これらの基板のシーリングには適さない。また、特許文献2に記載されている紫外レーザも同様に透過率が問題となり、樹脂基板には適用することができない。   However, light of the wavelength described in Patent Document 1 is polyethylene naphthalate (PEN), which is a resin substrate typically used for flexible displays and electronic paper, and polyethylene terephthalate (indium tin oxide (ITO) electrode) ( The transmittance for PET, polyethylene sulfone (PES), etc. is low, and it is not suitable for sealing these substrates. Similarly, the ultraviolet laser described in Patent Document 2 has a problem of transmittance, and cannot be applied to a resin substrate.

一方、特許文献3に記載されている封止材硬化用露光装置は、封止材部分を選択的に照射することができるものの、記載されているような反射光学系による空間変調器は高価である上に基板上方に大きな空間を必要とするため装置全体のコスト高となる。この問題は用いられる基板サイズが大きくなると、いっそう顕著になる。さらに、空間変調器は光軸調整が僅かでもずれると封止材部分を正確に照射できず、装置の振動や温度変化による光軸のずれを頻繁に修正しなければならず、実用的な装置とは言えない。   On the other hand, although the encapsulating material curing exposure apparatus described in Patent Document 3 can selectively irradiate the encapsulating material portion, a spatial modulator using a reflective optical system as described is expensive. In addition, since a large space is required above the substrate, the cost of the entire apparatus increases. This problem becomes more pronounced as the substrate size used increases. In addition, the spatial modulator cannot accurately irradiate the sealing material portion even if the optical axis adjustment is slightly shifted, and the optical axis shift due to the vibration of the device or temperature change must be corrected frequently. It can not be said.

本発明は上記事情に鑑みなされたものであり、基板の劣化を引き起こしにくく、表示媒体の劣化などの悪影響を最小限に抑えることができ、レーザのエネルギーロスが少ないプラスチック基板同士を接合することが可能な可撓性表示素子の製造方法およびその製造装置を提供することを目的とするものである。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is possible to bond plastic substrates that are less likely to cause deterioration of substrates, can minimize adverse effects such as deterioration of a display medium, and have low laser energy loss. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a flexible display element and a manufacturing apparatus therefor.

本発明はプラスチック基板間に液晶等の表示媒体を封止するための光硬化型樹脂を介装して前記プラスチック基板同士を接合する可撓性表示素子の製造方法において、少なくとも一方の前記プラスチック基板を通して波長370nm以上450nm以下のレーザを前記光硬化型樹脂部分に照射して、前記プラスチック基板同士を接合することを特徴とするものである。   The present invention relates to a method for manufacturing a flexible display element in which a light-curing resin for sealing a display medium such as a liquid crystal is interposed between plastic substrates, and the plastic substrates are bonded to each other. At least one of the plastic substrates is provided. The laser beam having a wavelength of 370 nm or more and 450 nm or less is irradiated to the photo-curing resin portion, and the plastic substrates are bonded to each other.

別の態様として本発明は、プラスチック基板間に液晶等の表示媒体を封止するための光硬化型樹脂を介装して前記プラスチック基板同士を接合する可撓性表示素子の製造方法において、少なくとも一方のプラスチック基板を通して波長370nm以上400nm未満のレーザと、波長400nm以上450nm以下のレーザであって、波長差が20nm以上であるレーザを同時に又は前後して、前記光硬化型樹脂部分に照射して、前記プラスチック基板同士を接合することを特徴とするものである。   As another aspect, the present invention provides a flexible display element manufacturing method in which a plastic curable resin for sealing a display medium such as a liquid crystal is interposed between plastic substrates and the plastic substrates are bonded to each other. A laser having a wavelength of 370 nm to less than 400 nm and a laser having a wavelength of 400 nm to 450 nm and having a wavelength difference of 20 nm or more are irradiated to the photocurable resin portion simultaneously or before and after through one plastic substrate. The plastic substrates are bonded to each other.

ここで、光硬化樹脂部分とは、フレキシブル液晶ディスプレイのように、プラスチック基板間に液晶が封入され、その辺縁部に光硬化型樹脂が介装されている場合には、その辺縁部の線状の光硬化型樹脂付近を指し、フレキシブル有機ELディスプレイに代表されるような、一方の基板上に有機膜などの素子構造が形成され、それを覆うように広い範囲で光硬化型樹脂が介装されている場合には、その光硬化型樹脂の覆う面積の全体を指す。   Here, the photo-curing resin part means that, when a liquid crystal is sealed between plastic substrates and a photo-curing resin is interposed at the edge part, as in a flexible liquid crystal display, An element structure such as an organic film is formed on one substrate as represented by a flexible organic EL display, and the photocurable resin is covered in a wide range so as to cover it. When it is interposed, it indicates the entire area covered by the photocurable resin.

また、可撓性表示素子とは、フレキシブルディスプレイや電子ペーパーなどの可撓性を有する電子表示素子を意味し、液晶等の表示媒体とは、表示媒体は液晶に限られるものではなく、例えば、書換え方式が電気泳動であればマイクロカプセル、粒子回転であればツイストボール、光学異方性であれば液晶、光吸収であればフォトクロミック、自発光であれば有機ELなど、フレキシブルディスプレイや電子ペーパーなどに用いられる表示媒体を広く意味するものである。   In addition, the flexible display element means a flexible electronic display element such as a flexible display or electronic paper, and the display medium such as liquid crystal is not limited to the liquid crystal. For example, Microcapsules if the rewriting method is electrophoresis, twist balls if the particles are rotated, liquid crystal if the optical anisotropy, photochromic if the light is absorbed, organic EL if it is self-luminous, flexible display, electronic paper, etc. A display medium widely used in the field.

レーザを前記光硬化型樹脂部分に照射とは、レーザを光硬化型樹脂が存在している部分に照射することを意味するが、レーザ照射の際に生じる光硬化型樹脂部分からのレーザの多少のズレや誤差等によるはみ出しまでをも排除する趣旨ではない。
前記プラスチック基板としては、ポリエチレンナフタレートが一例としてあげられる。
Irradiation of the laser to the photocurable resin portion means to irradiate the laser to the portion where the photocurable resin exists, but some of the laser from the photocurable resin portion generated at the time of laser irradiation. It is not intended to exclude even protrusions due to deviations or errors.
An example of the plastic substrate is polyethylene naphthalate.

本発明のプラスチック基板同士を接合する可撓性表示素子の製造装置は、液晶等の表示媒体を封止するための光硬化型樹脂が間に介装された2枚のプラスチック基板を載置する載置台と、該載置台の上方に設けられた、波長370nm以上450nm以下のレーザを出射するレーザヘッドと、該レーザヘッドを、前記レーザが前記光硬化型樹脂を照射するように前記載置台と平行に移動させる移動機構とからなるものである。   An apparatus for manufacturing a flexible display element for joining plastic substrates of the present invention places two plastic substrates on which a photocurable resin for sealing a display medium such as a liquid crystal is interposed. A mounting table; a laser head that is provided above the mounting table and emits a laser having a wavelength of 370 nm to 450 nm; and the laser head is mounted on the mounting table as described above so that the laser irradiates the photocurable resin. It comprises a moving mechanism that moves in parallel.

前記レーザヘッドは、波長370nm以上400nm未満のレーザと、波長400nm以上450nm以下のレーザであって、波長差が20nm以上であるレーザを選択的に出射するものであることが好ましい。   The laser head preferably emits a laser having a wavelength of 370 nm or more and less than 400 nm and a laser having a wavelength of 400 nm or more and 450 nm or less and having a wavelength difference of 20 nm or more.

本発明の可撓性表示素子の製造方法は、プラスチック基板間に液晶等の表示媒体を封止するための光硬化型樹脂を介装してプラスチック基板同士を接合する可撓性表示素子の製造方法において、少なくとも一方のプラスチック基板を通して、プラスチック基板による吸収の小さい波長370nm以上450nm以下のレーザを光硬化型樹脂部分に照射するので、プラスチック基板同士を効果的かつレーザ利用効率よく(エネルギーのロスを少なく)、またプラスチック基板の劣化を最小限に抑えながら接合することができる。   The method for producing a flexible display element of the present invention is a production of a flexible display element in which a plastic substrate is bonded to each other by interposing a photocurable resin for sealing a display medium such as a liquid crystal between plastic substrates. In the method, a laser having a wavelength of 370 nm or more and 450 nm or less having a small absorption by the plastic substrate is irradiated through at least one plastic substrate, so that the plastic substrates can be effectively and efficiently used with laser (energy loss is reduced). Can be bonded while minimizing the deterioration of the plastic substrate.

本発明の可撓性表示素子の製造方法は、少なくとも一方のプラスチック基板を通して波長370nm以上450nm以下のレーザを光硬化型樹脂部分に照射することにより行う。可撓性表示素子の一例であるフレキシブルディスプレイや電子ペーパーに汎用される樹脂基板としては、例えばポリエチレンナフタレート(PEN)がある。このPENの厚さ100ミクロンの可視光及び紫外光透過特性を図1の1に示す。光硬化型樹脂を用いた樹脂基板の封止では、ほとんどの場合、一方の基板を通して光が照射されるが、PENを基板に用いた場合には波長370nm以下の紫外線を照射しても、その光強度は樹脂基板内で著しく減少するため、硬化させるべき光硬化型樹脂には到達しない。   The method for producing a flexible display element of the present invention is performed by irradiating a photocurable resin portion with a laser having a wavelength of 370 nm to 450 nm through at least one plastic substrate. As a resin substrate widely used for a flexible display or electronic paper which is an example of a flexible display element, for example, there is polyethylene naphthalate (PEN). The visible light and ultraviolet light transmission characteristics of PEN having a thickness of 100 microns are shown in FIG. In the sealing of a resin substrate using a photocurable resin, in most cases, light is irradiated through one substrate, but when PEN is used for a substrate, even when irradiated with ultraviolet light having a wavelength of 370 nm or less, Since the light intensity is significantly reduced in the resin substrate, it does not reach the photo-curing resin to be cured.

また、フレキシブルディスプレイや電子ペーパーに用いられる樹脂基板には、ポリエチレンスルホン(PES)やポリエチレンテレフタレート(PET)などのように波長320nm程度までの紫外線を透過させるものもあるが、このような材料が単独でフレキシブルディスプレイや電子ペーパー等に用いられることはなく、一般に透明導電膜やバリア膜がコーティングされた状態で封止される。透明導電膜やバリア膜をコーティングされたこの種の樹脂基板の光透過特性は、典型的には上記PENの特性と同等のものとなるため、波長370nm程度よりも短波長の紫外線は透過しない。加えて、波長370nm以下の紫外線は、樹脂基板によって全て吸収されてしまうため可視光硬化型樹脂(可視光硬化型接着剤)の硬化に寄与しないばかりか、樹脂基板の黄変を引き起こすなどするため好ましくない。従って、本発明の可撓性表示素子の製造における波長の下限値は370nmである。   Some resin substrates used for flexible displays and electronic paper transmit ultraviolet rays up to a wavelength of about 320 nm, such as polyethylene sulfone (PES) and polyethylene terephthalate (PET). It is not used for flexible displays or electronic paper, and is generally sealed in a state where a transparent conductive film or barrier film is coated. The light transmission characteristics of this type of resin substrate coated with a transparent conductive film or a barrier film are typically equivalent to the characteristics of the PEN, and therefore do not transmit ultraviolet light having a wavelength shorter than about 370 nm. In addition, since all ultraviolet rays having a wavelength of 370 nm or less are absorbed by the resin substrate, they do not contribute to the curing of the visible light curable resin (visible light curable adhesive), but also cause yellowing of the resin substrate. It is not preferable. Therefore, the lower limit of the wavelength in the production of the flexible display element of the present invention is 370 nm.

一方、通常の紫外線硬化型樹脂(紫外線硬化型接着剤)に含まれる光開始剤の吸収波長は350nm以下の短波長域に限られており、PENのように、この波長域の光を通さない基板の封止には適さない。また、フレキシブルディスプレイや電子ペーパーに用いられる樹脂基板は一般に耐熱性に乏しいため、熱硬化型樹脂による封止は適切ではない。吸収波長を可視光域にまで延長した可視光硬化型樹脂には可視光を吸収して可視光硬化型樹脂の重合反応を開始させる光開始剤が含まれている。図1の2に厚さ30ミクロンの可視光硬化型樹脂の吸収スペクトルを示す。   On the other hand, the absorption wavelength of a photoinitiator contained in a normal ultraviolet curable resin (ultraviolet curable adhesive) is limited to a short wavelength region of 350 nm or less, and does not transmit light in this wavelength region like PEN. Not suitable for sealing substrates. Moreover, since the resin substrate used for a flexible display or electronic paper generally has poor heat resistance, sealing with a thermosetting resin is not appropriate. The visible light curable resin whose absorption wavelength is extended to the visible light region contains a photoinitiator that absorbs visible light and initiates the polymerization reaction of the visible light curable resin. 2 of FIG. 1 shows an absorption spectrum of a visible light curable resin having a thickness of 30 microns.

上記PENのような分光透過特性を持つ樹脂基板を可視光硬化型樹脂を用いて封止しようとする場合には、これら両者の吸収バンドと透過バンドとの重なり合った波長域の光を照射しなければならない。この範囲を両者のスペクトルの積として図1の3に示す。この図1の3に示されるカーブは樹脂基板を持つフレキシブルディスプレイや電子ペーパーを可視光硬化型樹脂を用いて封止する時の光源波長の有効性を示すものであり、その範囲は370−450nmである。なお、波長450nm以上の可視光線及び赤外線は、可視光硬化型樹脂の硬化に貢献しないばかりか、フレキシブルディスプレイや電子ペーパーの素子に吸収されて素子を加熱し特性の劣化を招くおそれがある。従って、本発明の可撓性表示素子の製造における波長の上限値は450nmである。   When a resin substrate having spectral transmission characteristics such as the above PEN is to be sealed with a visible light curable resin, light in a wavelength region where both of the absorption band and the transmission band overlap with each other must be irradiated. I must. This range is shown as 3 in FIG. 1 as the product of both spectra. The curve shown by 3 in FIG. 1 indicates the effectiveness of the light source wavelength when a flexible display or electronic paper having a resin substrate is sealed with a visible light curable resin, and its range is 370-450 nm. It is. Note that visible light and infrared light having a wavelength of 450 nm or more do not contribute to the curing of the visible light curable resin, but may be absorbed by the element of a flexible display or electronic paper to heat the element and cause deterioration of characteristics. Therefore, the upper limit of the wavelength in the production of the flexible display element of the present invention is 450 nm.

上記より、樹脂基板を持つフレキシブルディスプレイや電子ペーパーを可視光硬化型樹脂を用いて封止する時の硬化光源は、少なくとも370−450nmの波長範囲のスペクトルを含んでいなければならず、さらにこの波長域を外れる波長の光は含まれていないほうが好ましい。このような観点から、例えば高圧水銀ランプの発光スペクトルは370−450nmの範囲の光を含んでいるが、それ以外の波長域の光も含んでいるため最適とは言えない。また、例えば光学フィルターや多層膜ミラーを用いれば、高圧水銀ランプの発光スペクトルから370−450nmの範囲の光だけを取り出して可視光硬化型樹脂に照射することも可能であるが、このような光学素子は高価であり、また光の一部を吸収するために加熱しやすく、さらに熱によって特性が劣化しやすいという問題があり、本発明の応用においては実用的ではない。従って、最適な光源は波長370−450nmの範囲に発光ピークを持つレーザ光源あるいはLED光源である。   From the above, the curing light source when sealing a flexible display or electronic paper having a resin substrate with a visible light curable resin must include a spectrum in the wavelength range of at least 370-450 nm. It is preferable that light having a wavelength outside the wavelength range is not included. From such a viewpoint, for example, the emission spectrum of a high-pressure mercury lamp includes light in the range of 370 to 450 nm, but it is not optimal because it also includes light in other wavelength regions. For example, if an optical filter or a multilayer mirror is used, it is possible to extract only light in the range of 370 to 450 nm from the emission spectrum of the high-pressure mercury lamp and irradiate the visible light curable resin. The element is expensive and has a problem that it is easily heated to absorb a part of light, and further its characteristics are easily deteriorated by heat, which is not practical in the application of the present invention. Therefore, the optimum light source is a laser light source or an LED light source having an emission peak in the wavelength range of 370 to 450 nm.

図1の3に示した有効波長曲線によれば、最も効率的に可視光硬化型樹脂の硬化を起こさせる波長は405nm付近であるが、この波長での可視光硬化型樹脂の吸収率は約60%であり、残りの40%程度の光は可撓性表示素子に到達し、その温度を上昇させ、あるいは特性を劣化させる可能性がある。プロセスにおいて硬化速度を上げるためにレーザのパワー密度を上げると、そのパワーの40%は表示媒体に到達するため、照射パワー密度には表示媒体依存の上限が存在することになる。仮に、表示媒体に悪影響を与えない上限の照射パワー密度で405nmの光を照射しても所望の硬化速度が得られない場合には、より短波長の光を同時に照射することによって可視光硬化型樹脂に吸収されるパワー密度の総和を大きくすることができる。   According to the effective wavelength curve indicated by 3 in FIG. 1, the wavelength at which the visible light curable resin is most efficiently cured is around 405 nm, but the absorption rate of the visible light curable resin at this wavelength is about 405 nm. The remaining 40% of the light reaches the flexible display element and may increase its temperature or deteriorate the characteristics. When the power density of the laser is increased in order to increase the curing speed in the process, 40% of the power reaches the display medium, so that there is an upper limit dependent on the display medium in the irradiation power density. If a desired curing rate cannot be obtained even when 405 nm light is irradiated with an upper limit irradiation power density that does not adversely affect the display medium, a visible light curable type is obtained by simultaneously irradiating light with a shorter wavelength. The total power density absorbed by the resin can be increased.

この詳細を、より短波長の波長として375nmのレーザを、より長波長の波長として405nmのレーザを使用する場合を例にとり、図2を用いて説明する。図2は2枚のプラスチック基板22、22′に挟まれたフレキシブルディスプレイの部分概略断面図である。素子部分への水分及び酸素の浸透を防止する目的で、2枚のプラスチック基板22、22′の内側にはそれぞれバリア層23、23′が設けられている。封止工程では、表示媒体24を作製し、その上をパッシベーション膜25で覆った下側のプラスチック基板22と、バリア層23′上に光硬化型樹脂層26を塗布した上側プラスチック基板22′とを貼り合わせ、上側プラスチック基板22′側から硬化のための光を照射する。   The details will be described with reference to FIG. 2 using an example in which a 375 nm laser is used as a shorter wavelength and a 405 nm laser is used as a longer wavelength. FIG. 2 is a partial schematic cross-sectional view of a flexible display sandwiched between two plastic substrates 22 and 22 '. In order to prevent moisture and oxygen from penetrating into the element portion, barrier layers 23 and 23 'are provided inside the two plastic substrates 22 and 22', respectively. In the sealing step, a display medium 24 is manufactured, and a lower plastic substrate 22 covered with a passivation film 25, and an upper plastic substrate 22 ′ in which a photocurable resin layer 26 is applied on the barrier layer 23 ′. And the light for curing is irradiated from the upper plastic substrate 22 'side.

光硬化型樹脂層26の厚さは典型的には30ミクロンである。照射波長に405nmを選択した場合、光硬化型樹脂層26上面に到達する光強度のうち、光硬化型樹脂層26で吸収される光強度は約60%であり、40%はパッシベーション膜25及び表示媒体24で吸収される。一方、光硬化型樹脂層26での吸収がより強い波長375nmの光を照射すると、光硬化型樹脂層26上面に到達した光はその全てが光硬化型樹脂層26の上面に近い部分27で吸収され、パッシベーション膜25や表示媒体24には到達しない。ただし、このような短波長の光は上側のプラスチック基板22′で比較的強く吸収されるため、その強度はプラスチック基板に特性劣化を起こさせない程度に抑えられなければならない。   The thickness of the photocurable resin layer 26 is typically 30 microns. When 405 nm is selected as the irradiation wavelength, the light intensity absorbed by the photocurable resin layer 26 out of the light intensity reaching the upper surface of the photocurable resin layer 26 is about 60%, and 40% is the passivation film 25 and It is absorbed by the display medium 24. On the other hand, when light having a wavelength of 375 nm, which is more strongly absorbed by the photocurable resin layer 26, is irradiated, all of the light that has reached the upper surface of the photocurable resin layer 26 is a portion 27 close to the upper surface of the photocurable resin layer 26. It is absorbed and does not reach the passivation film 25 or the display medium 24. However, since such short-wavelength light is relatively strongly absorbed by the upper plastic substrate 22 ′, the intensity thereof must be suppressed to such an extent that the plastic substrate does not deteriorate in characteristics.

すなわち、波長370nm以上450nm以下の範囲において、より長波長の光はプラスチック基板にあまり吸収されず、光硬化型樹脂層の厚み全体に亘って硬化に寄与するが、表示媒体に悪影響を与える可能性があるため、その強度は表示媒体の特性劣化を引き起こさない程度に抑えられなければならない。一方、より短波長の光は、表示媒体には到達せず、光硬化型樹脂層の上面付近の硬化に寄与するが、プラスチック基板の特性劣化を引き起こす恐れがあるため、その強度はプラスチック基板の許容範囲に抑えられなければならない。   That is, in the wavelength range of 370 nm to 450 nm, longer wavelength light is not absorbed much by the plastic substrate and contributes to curing over the entire thickness of the photocurable resin layer, but may adversely affect the display medium. Therefore, its strength must be suppressed to such an extent that it does not cause deterioration of the characteristics of the display medium. On the other hand, light having a shorter wavelength does not reach the display medium and contributes to curing near the upper surface of the photocurable resin layer, but may cause deterioration of the characteristics of the plastic substrate. Must be within acceptable limits.

従って、フレキシブルディスプレイや電子ペーパーの封止プロセスにおいて、光硬化型接着剤の硬化速度を最大にしようとする場合には、波長370nm以上450nm以下の波長域において、より波長の短いレーザとより波長の長いレーザを組み合わせて照射すること、すなわち波長370nm以上400nm未満のレーザと、波長400nm以上450nm以下のレーザであって、波長差が20nm以上であるレーザを同時にあるいは前後して照射することが有効である。なお、この2つの波長のレーザを前後して照射する場合はどちらが先であってもよい。   Therefore, in the sealing process of flexible displays and electronic paper, when trying to maximize the curing rate of the photocurable adhesive, in the wavelength range of 370 nm to 450 nm, the shorter wavelength laser and the more wavelength It is effective to irradiate a combination of long lasers, that is, to irradiate a laser having a wavelength of 370 nm or more and less than 400 nm and a laser having a wavelength of 400 nm or more and 450 nm or less at the same time or before and after. is there. In addition, when irradiating laser of these two wavelengths before and after, whichever may be first.

なお、硬化速度を高めるためには、この他にプラスチック基板を加熱する方法などもあるが、フレキシブルディスプレイや電子ペーパー等の可撓性表示素子の製造プロセスでは表示媒体やプラスチック基板の熱損傷を避けるため、高温でのプロセスは好ましくない。   In order to increase the curing rate, there are other methods such as heating a plastic substrate, but in the manufacturing process of flexible display elements such as flexible displays and electronic paper, avoid thermal damage to the display medium and plastic substrate. Therefore, a process at a high temperature is not preferable.

本発明の可撓性表示素子の製造方法に用いられる光硬化型樹脂としては、波長370nm以上450nm以下の波長域によって重合硬化するものであれば特に制限はないが、一般には、(メタ)アクリレート系化合物及びエポキシ系化合物が適している。このような光硬化樹脂の例としては例えばアクリレートを主成分とする一液性、無溶剤の可視光硬化型樹脂であるスリーボンド社製の3170B接着剤を挙げることができる。   The photocurable resin used in the method for producing a flexible display element of the present invention is not particularly limited as long as it is polymerized and cured in a wavelength range of 370 nm to 450 nm, but in general, (meth) acrylate Compounds and epoxy compounds are suitable. As an example of such a photo-curing resin, for example, 3170B adhesive manufactured by ThreeBond Co., Ltd., which is a one-component, solvent-free visible-light curable resin mainly composed of acrylate can be given.

続いて、本発明の可撓性表示素子の製造に用いられる製造装置について説明する。図3はプラスチック基板の周縁部に光硬化型樹脂を介装した状態を示す概略断面図、図4は本発明の可撓性表示素子の製造に用いられる製造装置の概略斜視図である。図4に示す製造装置は、光硬化型樹脂が間に介装されたプラスチック基板を載置する載置台8と、この載置台8の上方に設けられる、波長370nm以上390nm以下のレーザ13を出射するレーザヘッド9と、光硬化型樹脂を照射するようにレーザヘッド9を載置台8と平行に移動させるX−Y移動機構12とからなる。X−Y移動機構12は、載置台8上をレーザヘッド9を保持してX軸方向、Y軸方向に平行移動できるように構成されてなる。   Then, the manufacturing apparatus used for manufacture of the flexible display element of this invention is demonstrated. FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing a state in which a photocurable resin is interposed on the peripheral edge of a plastic substrate, and FIG. 4 is a schematic perspective view of a manufacturing apparatus used for manufacturing the flexible display element of the present invention. The manufacturing apparatus shown in FIG. 4 emits a mounting table 8 on which a plastic substrate with a photo-curing resin interposed therebetween, and a laser 13 having a wavelength of 370 nm or more and 390 nm or less provided above the mounting table 8. And an XY moving mechanism 12 that moves the laser head 9 in parallel with the mounting table 8 so as to irradiate the photo-curable resin. The XY moving mechanism 12 is configured to hold the laser head 9 on the mounting table 8 and to move in parallel in the X-axis direction and the Y-axis direction.

図3に示すように、プラスチック基板10の間には光硬化型樹脂が介装され、プラスチック基板の周縁部には光硬化型樹脂のライン、いわゆるグルーライン11が形成される。これをお互いの位置がずれないように固定した状態で図4に示す照射装置の載置台8上に置き、レーザヘッド9から出射されるレーザを、上側のプラスチック基板10を通してグルーライン11に対して、これをトレースするように照射する。   As shown in FIG. 3, a photocurable resin is interposed between the plastic substrates 10, and a photocurable resin line, a so-called glue line 11, is formed on the peripheral portion of the plastic substrate. This is fixed on the mounting table 8 of the irradiation apparatus shown in FIG. 4 in a state where the positions are not shifted from each other, and the laser emitted from the laser head 9 is directed to the glue line 11 through the upper plastic substrate 10. Irradiate to trace this.

なお、光硬化型樹脂が一方のプラスチック基板上に形成された表示媒体全面を覆うように介装される構造の可撓性表示素子の製造に当たっては、上記X−Y移動機構12は、光硬化型樹脂が介装されている範囲の全てにレーザが照射されるようにレーザヘッド9を逐次走査する。   In manufacturing a flexible display element having a structure in which a photocurable resin is interposed so as to cover the entire surface of a display medium formed on one plastic substrate, the XY moving mechanism 12 is a photocurable resin. The laser head 9 is sequentially scanned so that the laser is irradiated to the entire range where the mold resin is interposed.

続いて、レーザモジュールについて説明する。図5は、レーザヘッドとこれに接続されるレーザモジュールの一の態様を示す概略斜視図である。レーザヘッド9は光ファイバ14によってレーザモジュール15に接続されてなる。レーザモジュール15は、中心波長405nmのGaN系レーザダイオードがキャンパッケージ17の中に実装されており、その出射光はレンズ16によって直径60ミクロンの石英コアを持つマルチモードの光ファイバ14にカップリングされている。この光ファイバ14はレーザヘッド9に導入され、コリメータレンズ18によってビーム径約2mmの平行ビームにコリメートされる。   Next, the laser module will be described. FIG. 5 is a schematic perspective view showing one embodiment of a laser head and a laser module connected to the laser head. The laser head 9 is connected to a laser module 15 by an optical fiber 14. In the laser module 15, a GaN laser diode having a central wavelength of 405 nm is mounted in a can package 17, and the emitted light is coupled by a lens 16 to a multimode optical fiber 14 having a quartz core having a diameter of 60 microns. ing. The optical fiber 14 is introduced into the laser head 9 and collimated by a collimator lens 18 into a parallel beam having a beam diameter of about 2 mm.

図6は、レーザヘッドとこれに接続されるレーザモジュールの別の態様を示す概略斜視図である。図6に示すレーザモジュールは、二波長を選択的に出射することができる二波長レーザモジュールで、第1のレーザモジュール19は405nmを中心波長として発振するGaN系レーザダイオードを含んだメタルキャンパッケージと、それからの光をコア径33ミクロンのマルチモードファイバ21にカップリングする光学系からなり、第2のレーザモジュール20は375nmを中心波長として発振するGaN系レーザダイオードを含んだメタルキャンパッケージと、それからの光をコア径33ミクロンのマルチモードファイバ21にカップリングする光学系からなる。   FIG. 6 is a schematic perspective view showing another aspect of the laser head and the laser module connected to the laser head. The laser module shown in FIG. 6 is a two-wavelength laser module that can selectively emit two wavelengths, and the first laser module 19 includes a metal can package including a GaN-based laser diode that oscillates with a center wavelength of 405 nm. The second laser module 20 includes a metal can package including a GaN-based laser diode that oscillates with a central wavelength of 375 nm, and an optical system that couples light from the multimode fiber 21 with a core diameter of 33 microns. Is coupled to a multimode fiber 21 having a core diameter of 33 microns.

2本のマルチモードファイバ21はファイバ合波器22に導入され、コア径60ミクロンの1本のマルチモードファイバ23にまとめられる。図中A、B及びCは、それぞれ合波前のマルチモードファイバ21の断面、直径70%にまでテーパ加工されたマルチモードファイバ21の端面、及びコア径60ミクロンのマルチモードファイバ23の端面を示す。コア径33ミクロンのマルチモードファイバ21は熱間で延伸されることによってお互いに側部で融着されると共に細径化されている。その端面Bをコア径60ミクロンのマルチモードファイバ23の端面Cに融着することによって、2本のコア径33ミクロンのマルチモードファイバ21からの2波長のレーザはコア径60ミクロンのマルチモードファイバ23内に導入され、レーザヘッド9に至る。レーザヘッド9の出射端からは直径約4mmの平行ビームで405nmと375nmのレーザが出射され、これら二波長のレーザを同時に又は前後して出射することができる。   The two multimode fibers 21 are introduced into the fiber multiplexer 22 and are combined into one multimode fiber 23 having a core diameter of 60 microns. In the figure, A, B and C respectively represent the cross section of the multimode fiber 21 before multiplexing, the end face of the multimode fiber 21 tapered to a diameter of 70%, and the end face of the multimode fiber 23 having a core diameter of 60 microns. Show. The multi-mode fibers 21 having a core diameter of 33 microns are fused with each other at the sides by being drawn hot, and are reduced in diameter. By fusing the end face B to the end face C of the multi-mode fiber 23 having a core diameter of 60 microns, the two-wavelength laser from the multi-mode fiber 21 having two core diameters of 33 microns becomes a multi-mode fiber having a core diameter of 60 microns. 23 is introduced into the laser head 9. From the emitting end of the laser head 9, lasers of 405 nm and 375 nm are emitted as parallel beams having a diameter of about 4 mm, and these two-wavelength lasers can be emitted simultaneously or before and after.

以下、本発明の可撓性表示素子の製造方法を実施例を用いて詳細に説明する。   Hereinafter, the manufacturing method of the flexible display element of this invention is demonstrated in detail using an Example.

(実施例1)
アクリレートを主成分とする一液性、無溶剤の可視光硬化型樹脂であるスリーボンド社製の3170B接着剤に直径30ミクロンのビーズスペーサを加えよくかき混ぜたものを、厚さ100ミクロンのPEN基板の周縁部にディスペンサーを用いて塗布した。塗布後の接着剤幅は約0.5mmとした。もう一枚のPEN基板を、接着剤を挟む形で重ね合わせた。この時、接着剤の幅は約2mmに拡大した。これをお互いの位置がずれないように固定した状態で図4に示す照射装置の載置台8上に置き、レーザヘッド9のレーザ出射部を上側基板から約10mmの高さに保持しながら、6mm/sの速度で、レーザヘッド9から出射される中心波長405nmの光を、上側のPEN10基板を通してグルーライン11をトレースするように照射した。この時、基板上でのレーザ13のスポット径は約2mm、レーザヘッド9からのレーザ出力は約400mW、上面基板上でのレーザの照射エネルギー密度は約3J/cmであった。封止された一対のPEN基板は7N/mm以上の剥離強度を示した。
(Example 1)
A PEN substrate with a thickness of 100 microns is prepared by adding a 30-micron diameter bead spacer to a 3170B adhesive manufactured by ThreeBond, which is a one-component, solvent-free, visible-light curable resin based on acrylate. It applied to the peripheral part using the dispenser. The adhesive width after application was about 0.5 mm. Another PEN substrate was overlaid with the adhesive in between. At this time, the width of the adhesive expanded to about 2 mm. This is fixed on the mounting table 8 of the irradiation apparatus shown in FIG. 4 in a state where the positions are not shifted from each other, and the laser emitting portion of the laser head 9 is held at a height of about 10 mm from the upper substrate, while being 6 mm. The light with a central wavelength of 405 nm emitted from the laser head 9 was irradiated at a speed of / s so as to trace the glue line 11 through the upper PEN 10 substrate. At this time, the spot diameter of the laser 13 on the substrate was about 2 mm, the laser output from the laser head 9 was about 400 mW, and the irradiation energy density of the laser on the upper substrate was about 3 J / cm 2 . The pair of sealed PEN substrates showed a peel strength of 7 N / mm or more.

(実施例2)
表示媒体とフォトレジストによる高さ30ミクロンのスペーサを作製した厚さ100ミクロンのPEN基板の上に、アクリレートを主成分とする一液性、無溶剤の可視光硬化型樹脂であるスリーボンド社製の3170B接着剤を塗布した厚さ100ミクロンのPEN基板を、接着剤と表示媒体が対面する形で重ね合わせた。これをお互いの位置がずれないように固定した状態で、図6に示す二波長レーザモジュールが接続された図4に示す製造装置の載置台8上に置き、レーザヘッド9からの光を、X−Y移動機構を用いてレーザヘッドを逐次走査しながら、上側のPEN基板10を通して、上記接着剤の全面に照射した。この時、レーザヘッド9の出射部を上側基板から約10mmの高さに保持しながら、第一のレーザモジュール19(405nm)の出力を400mW、第二のレーザモジュール(375nm)の出力を200mWとして同時に照射し、4.5mm/sでスキャンした。基板上でのレーザのスポット径は約4mm、上側PEN基板上でのレーザの照射エネルギー密度は二波長合わせて約3.3J/cmであった。封止された一対のPEN基板は7N/mm以上の剥離強度を示した。
(Example 2)
A three-component, solvent-free, visible-light-curable resin made by ThreeBond Co., Ltd. on a PEN substrate having a thickness of 100 microns on which a spacer having a height of 30 microns is formed by a display medium and a photoresist. A PEN substrate having a thickness of 100 microns coated with 3170B adhesive was overlaid with the adhesive facing the display medium. In a state where they are fixed so as not to be displaced from each other, they are placed on the mounting table 8 of the manufacturing apparatus shown in FIG. 4 to which the two-wavelength laser module shown in FIG. 6 is connected. The entire surface of the adhesive was irradiated through the upper PEN substrate 10 while sequentially scanning the laser head using the -Y moving mechanism. At this time, the output of the first laser module 19 (405 nm) is set to 400 mW and the output of the second laser module (375 nm) is set to 200 mW while holding the emitting portion of the laser head 9 at a height of about 10 mm from the upper substrate. Irradiated simultaneously and scanned at 4.5 mm / s. The spot diameter of the laser on the substrate was about 4 mm, and the irradiation energy density of the laser on the upper PEN substrate was about 3.3 J / cm 2 for the two wavelengths. The pair of sealed PEN substrates showed a peel strength of 7 N / mm or more.

以上のように、本発明の可撓性表示素子の製造方法においては、波長370nm以上450nm以下のレーザを光硬化型樹脂部分に照射するので、プラスチック基板と表示媒体双方の劣化を最小限に抑えながら、レーザのエネルギー利用効率を最大限に上げることが可能である。   As described above, in the method for manufacturing a flexible display element of the present invention, a laser having a wavelength of 370 nm or more and 450 nm or less is irradiated to the photocurable resin portion, so that deterioration of both the plastic substrate and the display medium is minimized. However, it is possible to maximize the energy utilization efficiency of the laser.

PENおよび光硬化型樹脂の吸収スペクトル並びに有効波長曲線を示すグラフGraph showing absorption spectrum and effective wavelength curve of PEN and photocurable resin プラスチック基板に挟まれた可撓性表示素子の部分概略断面図Partial schematic sectional view of a flexible display element sandwiched between plastic substrates プラスチック基板の周縁部に光硬化型樹脂を介装した状態を示す概略断面図Schematic sectional view showing a state in which a photo-curing resin is interposed on the peripheral edge of a plastic substrate 本発明の可撓性表示素子の製造に用いられる製造装置の概略斜視図The schematic perspective view of the manufacturing apparatus used for manufacture of the flexible display element of this invention. レーザヘッドとこれに接続されるレーザモジュールの一の態様を示す概略斜視図Schematic perspective view showing one aspect of a laser head and a laser module connected thereto レーザヘッドとこれに接続されるレーザモジュールの別の態様を示す概略斜視図Schematic perspective view showing another embodiment of a laser head and a laser module connected to the laser head

符号の説明Explanation of symbols

1 PENの吸収スペクトル
2 光硬化型樹脂の吸収スペクトル
3 有効波長曲線
8 載置台
9 レーザヘッド
10 プラスチック基板
11 グルーライン
12 X−Y移動機構
13 レーザ
14 光ファイバ
15 レーザーモジュール
18 コリメータレンズ
22(22′) プラスチック基板
23(23′) バリア層
24 表示媒体
25 パッシベーション膜
26 光硬化型樹脂層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Absorption spectrum of PEN 2 Absorption spectrum of photocurable resin 3 Effective wavelength curve 8 Mounting base 9 Laser head 10 Plastic substrate 11 Glue line 12 XY movement mechanism 13 Laser 14 Optical fiber 15 Laser module 18 Collimator lens 22 (22 ' ) Plastic substrate 23 (23 ') Barrier layer 24 Display medium 25 Passivation film 26 Photocurable resin layer

Claims (5)

プラスチック基板間に液晶等の表示媒体を封止するための光硬化型樹脂を介装して前記プラスチック基板同士を接合する可撓性表示素子の製造方法において、
少なくとも一方の前記プラスチック基板を通して波長370nm以上450nm以下のレーザを前記光硬化型樹脂部分に照射して、前記プラスチック基板同士を接合することを特徴とする可撓性表示素子の製造方法。
In the method of manufacturing a flexible display element in which the plastic substrates are bonded to each other by interposing a photocurable resin for sealing a display medium such as a liquid crystal between the plastic substrates,
A method for manufacturing a flexible display element, wherein the plastic substrate is bonded to each other by irradiating the photocurable resin portion with a laser having a wavelength of 370 nm to 450 nm through at least one of the plastic substrates.
プラスチック基板間に液晶等の表示媒体を封止するための光硬化型樹脂を介装して前記プラスチック基板同士を接合する可撓性表示素子の製造方法において、
少なくとも一方のプラスチック基板を通して波長370nm以上400nm未満のレーザと、波長400nm以上450nm以下のレーザであって、波長差が20nm以上であるレーザを同時に又は前後して、前記光硬化型樹脂部分に照射して、前記プラスチック基板同士を接合することを特徴とする可撓性表示素子の製造方法。
In the method of manufacturing a flexible display element in which the plastic substrates are bonded to each other by interposing a photocurable resin for sealing a display medium such as a liquid crystal between the plastic substrates,
Irradiating the light-curing resin portion with a laser having a wavelength of not less than 370 nm and less than 400 nm and a laser having a wavelength of not less than 400 nm and not more than 450 nm at the same time or before and after through at least one plastic substrate. A method for manufacturing a flexible display element, comprising bonding the plastic substrates together.
前記プラスチック基板がポリエチレンナフタレートであることを特徴とする請求項1または2記載の可撓性表示素子の製造方法。   3. The method of manufacturing a flexible display element according to claim 1, wherein the plastic substrate is polyethylene naphthalate. 液晶等の表示媒体を封止するための光硬化型樹脂が間に介装された2枚のプラスチック基板を載置する載置台と、該載置台の上方に設けられた、波長370nm以上450nm以下のレーザを出射するレーザヘッドと、該レーザヘッドを、前記レーザが前記光硬化型樹脂を照射するように前記載置台と平行に移動させる移動機構とからなることを特徴とする可撓性表示素子の製造装置。   A mounting table on which two plastic substrates with a photo-curable resin interposed between them for sealing a display medium such as a liquid crystal are interposed, and a wavelength of 370 nm to 450 nm provided above the mounting table A flexible display element comprising: a laser head that emits the laser; and a moving mechanism that moves the laser head in parallel with the mounting table so that the laser irradiates the photocurable resin. Manufacturing equipment. 前記レーザヘッドが波長370nm以上400nm未満のレーザと、波長400nm以上450nm以下のレーザであって、波長差が20nm以上であるレーザを選択的に出射するものであることを特徴とする請求項4記載の可撓性表示素子の製造装置。   5. The laser head is a laser having a wavelength of 370 nm or more and less than 400 nm and a laser having a wavelength of 400 nm or more and 450 nm or less, and selectively emits a laser having a wavelength difference of 20 nm or more. Manufacturing apparatus for flexible display elements.
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