JPWO2012120951A1 - 半導体装置の製造方法、及び、半導体装置 - Google Patents
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Abstract
Description
この画素構造においては、半導体基板上に固体撮像装置の信号線として機能するN+型シリコン層51が形成されている。また、N+型シリコン層51に柱状半導体110が接続されている。その柱状半導体110には、P型シリコン層52、絶縁膜53a、53b、ゲート導体層54a、54bからなる、蓄積電荷を除去するためのMOSトランジスタが形成されている。さらに、柱状半導体110には、このMOSトランジスタに接続され、光(電磁エネルギー波)の照射によって発生する電荷を蓄積するフォトダイオードが形成されている。このフォトダイオードは、P型シリコン層52とN型シリコン層58a、58bとから構成される。また、このフォトダイオードで囲まれたP型半導体52をチャネル、フォトダイオードをゲート、フォトダイオード上に形成され、画素選択線57a、57bに接続されたP+型シリコン層56、N+型シリコン層51近傍のP型シリコン層52を、それぞれ、ソース、ドレインとした接合電界効果トランジスタ(接合トランジスタ)が形成されている。
半導体基板上の所定領域に第1の絶縁層を形成し、前記所定領域上の第1の絶縁層を除去することで、絶縁層除去領域を形成する第1絶縁層形成・除去工程、または、前記所定領域の周辺において、前記半導体基板を厚さ方向に一部除去し、当該半導体基板を除去した半導体基板除去領域に第1の絶縁層を形成する第2絶縁層形成・除去工程と、
少なくとも前記所定の領域を覆うように、前記半導体基板上にドナー不純物又はアクセプタ不純物を含む第1の半導体層を形成する第1半導体層形成工程と、
前記第1の半導体層上に導体層を形成する導体層形成工程と、
前記導体層及び前記第1の半導体層を所定の形状に成形する成形工程と、
前記所定の形状に成形した導体層及び第1の半導体層を覆うように、第2の絶縁層を形成する第1絶縁層形成工程と、
前記第2の絶縁層の表面を平坦化する平坦化工程と、
前記平坦化された前記第2の絶縁層の表面に、基板を接着する接着工程と、
前記半導体基板を所定の厚さまで薄くする薄膜化工程と、
前記第1の半導体層上に、前記半導体基板から柱状構造を有する柱状半導体を形成する柱状半導体形成工程と、
前記柱状半導体に回路素子を形成する回路素子形成工程と、を備え、
少なくとも前記第1半導体層形成工程以後に、前記ドナー不純物又はアクセプタ不純物を含む前記第1の半導体層から当該不純物を拡散させることで前記柱状半導体に第1の半導体領域を形成する第1半導体領域形成工程をさらに備える、
ことを特徴とする。
前記柱状半導体の外周部に第3の絶縁層を形成するとともに、前記第3の絶縁層の外周部にゲート導体層を形成する工程と、
前記ゲート導体層の上方部位かつ前記柱状半導体の表層部に、前記第1の半導体領域と同一導電型である第4の半導体領域を形成する工程と、
前記柱状半導体において、前記第3の絶縁層の上方部位に、前記第1の半導体領域と反対導電型の第3の半導体領域を形成する工程と、を含む、ことが好ましい。
前記柱状半導体の外周部に第3の絶縁層を形成するとともに、前記第3の絶縁層の外周部にゲート導体層を形成する工程と、
前記柱状半導体における前記第3の絶縁層の上方部位に、前記第1の半導体領域と同一導電型の第5の半導体領域を形成する工程と、を含む、ことが好ましい。
前記柱状半導体の上方部位に、前記第1の半導体領域と反対導電型の第6の半導体領域を形成する工程を含む、ことが好ましい。
前記導体層形成工程は、前記絶縁膜上に、前記第1の半導体層と共に容量電極として機能する導体層を形成する工程を含む、ことが好ましい。
前記導体層形成工程は、前記第5の絶縁層上に、容量電極として機能する導体層を形成する工程を含み、
前記第1及び第2絶縁層形成・除去工程は、前記容量形成領域に、ドナー不純物又はアクセプタ不純物を有し、容量電極として機能する不純物層を形成する容量形成工程を含む、ことが好ましい。
前記マスク合わせマーク形成領域に、マスク合わせ孔を形成し、前記絶縁層除去領域、前記第1の絶縁層及び前記導体層の少なくとも一つを露出させる工程と、
前記マスク合わせ孔を通して、前記絶縁層除去領域、前記第1の絶縁層及び前記導体層の内の少なくとも一つからなるマスク合わせマークを形成するマスク合わせマーク形成工程と、
前記マスク合わせマークを基準として、フォトマスクのマスク合わせを行うマスク合わせ工程と、をさらに備える、ことが好ましい。
前記マスク合わせマーク形成工程では、前記透明絶縁体を通して、前記絶縁層除去領域、前記第1の絶縁層及び前記導体層の内の少なくとも一つからなるマスク合わせマークを形成し、
前記マスク合わせ工程では、前記マスク合わせマークを基準として、フォトマスクのマスク合わせを行う、ことが好ましい。
前記エッチングされた領域の前記半導体基板上に、前記第1の絶縁層を形成する工程と、
前記エッチングにより露出した前記半導体基板と、当該露出した半導体基板の周辺に位置する前記第1の絶縁層上に、前記第1の半導体層を形成する工程と、を含む、
ことが好ましい。
ことが好ましい。
前記互いに分離された領域における前記第1の絶縁層で囲まれ、かつ、露出した前記半導体基板の表面上に、互いに分離され、ドナーまたはアクセプタがドープされた複数の前記第1の半導体層と、前記第1の半導体層に接続された前記導体層と、を形成する工程を含む、
ことが好ましい。
前記柱状半導体は、
前記第1の半導体領域上に形成された当該第1の半導体領域と反対導電型の半導体又は真性半導体からなる第2の半導体領域を備え、
前記第2の半導体領域と前記第4の半導体領域とから電磁エネルギー波の照射により発生する信号電荷を蓄積するダイオードが形成され、
前記ダイオードがゲートとして機能し、前記第1の半導体領域と前記第3の半導体領域のいずれか一方がソース、他方がドレインとしてそれぞれ機能し、かつ、前記第2の半導体領域に形成されたチャネルを流れるとともに前記ダイオードに蓄積された信号電荷量に応じて変化する電流を信号取り出し手段によって取り出し可能とされた接合電界効果トランジスタが形成され、
前記ゲート導体層がゲートとして機能するとともに、前記第1の半導体領域及び前記第4の半導体領域の一方がソースとして機能し、他方がドレインとして機能するMOSトランジスタによって、前記ゲート導体層に電圧が印加されることで、前記ダイオードに蓄積された信号電荷を前記第1の半導体領域に除去する信号電荷除去手段が形成されている、ことを特徴とする。
前記柱状半導体は、
前記第1の半導体領域上に形成された当該第1の半導体領域と反対導電型又は真性半導体からなる第2の半導体領域を備え、
前記ゲート導体層がゲートとして機能するとともに、前記第1の半導体領域及び前記第5の半導体領域の一方がソースとして機能し、他方がドレインとして機能するMOSトランジスタが形成されている、ことを特徴とする。
前記柱状半導体は、
前記第1の半導体領域と第6の半導体領域との間に、前記第1の半導体領域と反対導電型又は真性半導体からなる第2の半導体領域を備え、
前記第2の半導体領域と、前記第6の半導体領域と、からダイオードが形成されている、ことを特徴とする。
前記第1の半導体層上に複数の前記柱状半導体が形成されており、
前記複数の柱状半導体は、前記第1の半導体領域にアクセプタ不純物がドープされている複数の第1の柱状半導体と、前記第1の半導体領域にドナー不純物がドープされている複数の第2の柱状半導体とからなる、ことを特徴とする。
前記第1の半導体層上に複数の前記柱状半導体が形成されており、
前記複数の柱状半導体における、複数の前記第1の半導体領域、及び、複数の前記導体層の内の両方、又は、一方が互いに接続されている、ことを特徴とする。
前記第1の半導体層上に複数の前記柱状半導体が形成されており、
前記各柱状半導体は、
前記第1の半導体領域上に形成された当該第1の半導体領域と反対導電型の半導体又は真性半導体からなる第2の半導体領域と、
前記第2の半導体領域上に形成された第5の半導体領域と、
前記第2の半導体領域の外周部に形成された第3の絶縁層と、
前記第3の絶縁層の外周部に形成されたゲート導体層と、を備え、
前記ゲート導体層がゲートとして機能するとともに、前記第1の半導体領域及び前記第5の半導体領域の一方がソースとして機能し、他方がドレインとして機能するMOSトランジスタが形成され、
前記第1の半導体層は、前記複数の柱状半導体に亘って連続して繋がるように形成されているとともに、前記繋がるように形成された前記第1の半導体層は、絶縁層に形成されたコンタクトホールを介して、外部回路に接続するための配線層に接続されている、ことを特徴とする。
前記第1の半導体層上に複数の前記柱状半導体が形成されており、
前記各柱状半導体は、
前記第1の半導体領域上に形成された当該第1の半導体領域と反対導電型の半導体又は真性半導体からなる第2の半導体領域と、
前記第2の半導体領域上に形成された第5の半導体領域と、
前記第2の半導体領域の外周部に形成された第3の絶縁層と、
前記第3の絶縁層の外周部に形成されたゲート導体層と、を備え、
前記ゲート導体層がゲートとして機能するとともに、前記第1の半導体領域及び前記第5の半導体領域の一方がソースとして機能し、他方がドレインとして機能するMOSトランジスタが形成され、
前記第1の半導体層は、前記複数の柱状半導体に亘って連続して繋がるように形成されているとともに、前記第1の半導体層は、絶縁層に形成されたコンタクトホールを介して、所定のトランジスタのゲートに接続するための配線層に接続されていることを特徴とする。
図1A〜図1Lに、本発明の第1実施形態に係る、固体撮像装置の製造方法を示す。
本実施形態に係る固体撮像装置の製造方法においては、図1Aに示されるように、P型シリコンからなる第1の半導体基板1の所定の深さに、高濃度水素イオン(H+)をイオンドープすることによって、第1の半導体基板1を上下の2つの部分に分離するための分離層2を形成する(非特許文献2参照)。また、第1の半導体基板1上に、熱酸化又はCVD(Chemical Vapor Deposition)法によって、絶縁膜である第1酸化シリコン層3を形成する。なお、第1の半導体基板1は、P型シリコンの代わりに、実質的に不純物を含まない真性半導体(i型シリコン)であってもよい。
そして、このP+型シリコン層13a、13bを画素選択金属配線14c、14dに電気的に接続する。以上の工程により、固体撮像装置における複数の画素が形成される。
以下、図2を参照して、本発明の第2実施形態に係る、SGT(Surrounding Gate Transistor)を有する半導体装置の製造方法を説明する。
本実施形態では、第1実施形態の図1A〜図1Lで示される工程において、図1A〜図1Jで示される工程までは、図1Jにおいて信号線を構成するN+多結晶シリコン層5aを、SGTにおいてドレインとして機能するN+多結晶シリコン層55aに置き換えるものとする。第1実施形態(図1J参照)と同様に、N+多結晶シリコン層55aには金属層7が接合されており、N+多結晶シリコン層55aからのドナー不純物の熱拡散によってシリコン柱1a内にN+拡散層6aが形成されている。
以上により、第2半導体基板9上にNチャネル型SGTが形成される。ここで、N+拡散層6a、N+多結晶シリコン層55aは、Nチャネル型SGTにおいてソースまたはドレインとして機能する。
以下、図3A、図3Bを参照して、本発明の第3実施形態に係る、SGTを有する半導体装置の製造方法を説明する。本実施形態では、Nチャネル型SGTとPチャネル型SGTとを同一の半導体基板上に形成する。本実施形態及びその変形例における半導体装置の製造工程は、以下に特に説明する場合を除いて、第1実施形態と同様である。
Nチャネル型SGT形成領域1nにおけるNチャネル型SGTは、第1実施形態の図1A〜図1J、第2実施形態の図2に示される工程と同様にして形成する。
以上により、第2半導体基板9上にNチャネル型SGT及びPチャネル型SGTが形成される。
本実施形態によれば、第2半導体基板9上に、Nチャネル型SGTとPチャネル型SGTとを容易に形成することができる。
以下、図4を参照して、本発明の第4実施形態に係る、複数のSGTを有する半導体装置の製造方法を説明する。
本実施形態では、第3実施形態と同様にして、Nチャネル型SGT形成領域1nにはNチャネル型SGT、Pチャネル型SGT形成領域1pにはPチャネル型SGTをそれぞれ形成する(図3A、図3B参照)。
以下、図5A〜図5Cを参照して、本発明の第5実施形態に係る、半導体装置に電気抵抗を形成する方法を説明する。本実施形態及びその変形例における半導体装置の製造工程は、以下に特に説明する場合を除いて、第1実施形態と同様である。
本実施形態では、図1Bに示される、第1の半導体基板1上に形成された多結晶シリコン層5を用いることで、半導体装置の回路素子である電気抵抗を形成する。
さらに、図5Cに示される変形例では、電気抵抗を構成する多結晶シリコン層23は、絶縁体である第1酸化シリコン層3の下方に形成されている。
以下、図6A〜図6Cを参照して、本発明の第6実施形態に係る、半導体装置に容量を形成する方法を説明する。本実施形態における半導体装置の製造工程は、以下に特に説明する場合を除いて、第1実施形態と同様である。
本実施形態では、図1Bに示される、第1の半導体基板1上に形成された多結晶シリコン層5を用いることで、半導体装置の回路素子である容量を形成する。
そして、図1Dに示される工程では、所定形状に成形された容量酸化シリコン層27上に、蒸着法又はCVD法によって、容量電極として機能する金属層28を形成する。この金属層28は、第1実施形態の金属層7と同層に形成する。
以下、図7A、図7Bを参照して、本発明の第7実施形態に係る、半導体装置に容量を形成する方法を説明する。本実施形態における半導体装置の製造工程は、以下に特に説明する場合を除いて、第1実施形態と同様である。
本実施形態では、図1Bに示される、第1の半導体基板1上に形成された多結晶シリコン層5を用いることで、半導体装置の回路素子である容量を形成する。
以下、図8A〜図8Cを参照して、本発明の第8実施形態に係る、半導体装置にダイオードを形成する方法を説明する。本実施形態及びその変形例における半導体装置の製造工程は、以下に特に説明する場合を除いて、第1実施形態と同様である。
本実施形態では、図1Bに示される、第1の半導体基板1上に形成された多結晶シリコン層5を用いることで、半導体装置の回路素子であるダイオードを形成する。
以下、図9A〜図9Cを参照して、本発明の第9実施形態に係る、SGTを用いたCMOSインバータ回路について説明する。
図9Aに、本実施形態によるSGTを用いたCMOSインバータ回路を示す。図9Aに示されるように、Pチャネル型MOSトランジスタ37aとNチャネル型MOSトランジスタ37bとが直列に接続されている。Pチャネル型MOSトランジスタ37aとNチャネル型MOSトランジスタ37bのゲート同士がゲート接続配線38を介して接続され、ゲート接続配線38は入力端子配線Viに接続されている。Pチャネル型MOSトランジスタ37aのソースは、電源端子配線Vddに接続されている。Pチャネル型MOSトランジスタ37aのドレインとNチャネル型トランジスタ37bのドレインとはドレイン接続配線39を介して出力端子配線Voに接続されるとともに、Nチャネル型MOSトランジスタ37bのソースはグランド電位となっているグランド端子配線Vssに接続されている。
図9Bに示されるように、コンタクトホール41c、シリコン柱40a、コンタクトホール41a、コンタクトホール41b、及びコンタクトホール41d、が直線状に並んで配置されている。
以下、図10A〜図10Cを参照して、本発明の第10実施形態に係る2段構造のCMOSインバータ回路について説明する。以下、上記第9実施形態と共通又は対応する符号で示される部分及び構造の説明は省略する。
図10Aに、本実施形態で用いる2段構造のCMOSインバータ回路を示す。
図10Aに示されるように、Pチャネル型MOSトランジスタ37a、37cと、Nチャネル型MOSトランジスタ37b、37dとが、それぞれ、1段目、2段目において直列に接続されている。1段目のPチャネル型MOSトランジスタ37aとNチャネル型MOSトランジスタ37bの各ゲートは、ゲート接続配線38aを介して入力端子配線Viに接続されている。2段目のPチャネル型MOSトランジスタ37cとNチャネル型MOSトランジスタ37dの各ゲートは、ゲート接続配線38bを介して1段目の出力端子配線Voに接続されている。1段目及び2段目のPチャネル型MOSトランジスタ37a、37cの各ドレインは、電源端子配線Vddに接続されている。1段目及び2段目のPチャネル型MOSトランジスタ37b、37dの各ソースは、グランド端子配線Vssに接続されている。
2段目において、Pチャネル型トランジスタ37cのドレインとNチャネル型トランジスタ37dのドレインとは、ドレイン接続配線39bを介して出力端子配線Voutに接続されている。
図10Bに示されるように、1段目のPチャネル型MOSトランジスタ37aを構成するシリコン柱40a及びNチャネル型MOSトランジスタ37bを構成するシリコン柱40bに形成されたゲート接続配線38a上にコンタクトホール41cが形成され、コンタクトホール41cは、入力端子配線Viと接続されている。ゲート接続配線38aは、Pチャネル型MOSトランジスタ37a及びNチャネル型MOSトランジスタ37bのゲート同士を接続する。
また、入力端子配線層Vi、電源端子配線層Vdd、グランド端子配線層Vss、出力端子配線層Voutは、互いに平行に配線されている。
また、入力端子配線層Vi、電源端子配線層Vdd、グランド端子配線層Vss、出力端子配線層Voutは互いに平行に配線されている(図10B参照)。
以下、図11A、図11Bを参照して、本発明の第11実施形態に係る、半導体基板にマスク合わせマークを形成する方法を説明する。
図11Aで示される工程は、第1実施形態における図1Hで示される工程に対応するものである。その他の工程は、以下に特に説明する場合を除いて、第1実施形態と同様である。
続いて、マスク合わせ孔50内における、マーク金属層49a、マーク多結晶シリコン層49b及び酸化シリコン層除去領域48の内のいずれか1つを基準となるマスク合わせマークとして、フォトマスクのマスク合わせを行う。
続いて、フォトレジストが形成された領域にフォトマスクを重ねて光を照射し、回路を転写する。
その後、CMPによって、そのSiO2膜及び第1の半導体基板1の表面を平坦化する。このマスク合わせ孔50のSiO2膜による埋め込み工程は、図1Iを参照して、接合電界効果トランジスタが形成されるシリコン柱1aが形成される前に行われる。
以下、図13A、図13Bを参照して、本発明の第12実施形態に係る半導体装置の製造方法を説明する。
図13Aは、第1実施形態における図1Bに示される工程に対応するものである。その他の工程は、以下に特に説明する場合を除いて、第1実施形態と同様である。
以下、図14A、図14B、図15A、図15Bを参照して、本発明の第13実施形態に係る半導体装置の製造方法を説明する。
(1)図14Bでは、N+多結晶シリコン層5aa、金属層7aaが平坦に形成されているのに対し、図1Kでは、N+多結晶シリコン層5a、金属層7が上に凸状に形成されていること。
(2)図14Bでは、第1酸化シリコン層3aが囲むN+拡散層6aaが逆台形状に形成されているのに対し、図1Kでは、N+拡散層5aは第1酸シリコン層3の側面に沿って台形状に形成されていること。
(3)図14Bでは、ゲート導体層11aa、11bbが第1酸化シリコン層3aに接しているのに対し、図1Kでは、ゲート導体層11a、11bは第1酸化シリコン層3と離間していること。
(1)N+拡散層6aaは、N+多結晶シリコン層5aaからの熱拡散により形成され、熱拡散の熱処理の前は、ドナー不純物が存在しない層であり、第12実施形態の図13Bにおける多結晶シリコン層111と同様な機能を有するようにできる。このため、多結晶シリコン層111を用いないでも、ゲート導体層11aa、11bbの下部位置に拡散層端が位置するN+拡散層6aaを形成することができる。
(2)N+拡散層6aaに位置合わせしてシリコン柱1aをエッチングで形成する場合、シリコン柱1aの側面がN+拡散層6aaの内側に位置ずれしても、第1酸化シリコン層3aは、厚みのあるN+拡散層であるか、または内側に萎んで形成されているため、シリコンエッチングが金属層7aaまで到達し難くなる(図1Kでは、シリコン柱1aがN+多結晶シリコン層5aから位置ずれすると、N+多結晶シリコン層5aが直接に露出するため、N+多結晶シリコン層5aと、その下方に存在する金属層7まで容易にエッチングされる)。
(3)ゲート導体層11aa、11bbと第1酸化シリコン層3aとの間に隙間を形成する必要がないため、ゲート導体層11aa、11bbと、第1酸化シリコン3a上でのゲート導体層配線の形成が容易となる。即ち、図1Kでは、リーク電流低減のため、N+拡散層6aとP層シリコン層30とのPN接合の界面の位置を、シリコン柱1aの内部に形成する必要があるので、第1酸化シリコン層3とゲート導体層11a,11bとは離間させねばならない。
(1)図15Bでは、第1酸化シリコン層3aが囲むN+拡散層6aaが、図14Bと同様に逆台形状に形成されているのに対し、図1Kでは、N+拡散層5aは第1酸シリコン層3の側面に沿って台形状に形成されていること。
(2)図15Bでは、ゲート導体層11aa,11bbが第1酸化シリコン層3bに接しているのに対し、図1Kでは、ゲート導体層11a,11bは第1酸化シリコン層3と離間していること。
(1)図14Bと同様に、N+拡散層6bbはN+多結晶シリコン層5bbからの熱拡散により形成され、熱拡散で熱処理する以前は、ドナー不純物がない層であり、第12実施形態を説明する図13Bにおける多結晶シリコン層111と同様な機能を有するようにできる。このため、多結晶シリコン層111を用いないでも、ゲート導体層11aa,11bbの下方に拡散層の端部が位置するN+拡散層6bbを形成することができる。
(2)図14Bと同様に、N+拡散層6bbに位置合わせしてシリコン柱1aをエッチング形成する場合、シリコン柱1aの側面がN+拡散層6bbの内側に位置ずれしても、第1酸化シリコン層3bは、厚みのあるN+拡散層6bbであるか、または内側に萎んで形成されているため、シリコンエッチングが金属層7aaまで到達し難くなっている。
(3)図14Bと同様に、ゲート導体層11aa,11bbと第1酸化シリコン層3bとの間に隙間を形成する必要がないため、ゲート導体層11aa,11bbと、第1酸化シリコン3bの上方でのゲート導体層配線の形成が容易化される。
以下、図16A〜図16Cを参照して、本発明の第14実施形態に係る半導体装置の製造方法を説明する。本実施形態では、シリコン柱1aの底部に2箇所以上の不純物領域を形成する点に特徴がある。
上記実施形態では、第1の半導体基板1はP型の導電型とした。これに限られず、第1の半導体基板1は、真性半導体であるi型(イントリンシック型)でもよい。また、第1の半導体基板1に形成する回路素子に応じて、N型の導電型とすることもできる。
1a、1b、40a、40b、40c、40d シリコン柱
1n Nチャネル型SGT形成領域
1p Pチャネル型SGT形成領域
2 分離層
3、3a、3b、29、101a、101b 第1酸化シリコン層
4 孔
5、23 多結晶シリコン層
5a、5b、5aa、5b2、5bb2、23a、23b、51、55a、104 N+多結晶シリコン層
5b1、5bb1、55b P+多結晶シリコン層
6a、6aa、6ab、6b2 N+拡散層
6b、102、6b1 P+拡散層
7、7a、7b、7b1,7b2、7aa、7bb、26a、26b、28、32、59、105 金属層
7a、7b、7aa、7bb 第1接続用金属層
8 第2酸化シリコン層
9 第2半導体基板
10a、10b 第3酸化シリコン層
11a、11b、11c、11d、16a、16b、16c、16d、16aa、16ab、16ba、16bb、54a、54b ゲート導体層
12a、12b、12c、12d N型シリコン層
13a、13b、17b、31、56 P+型シリコン層
14a、14b、14c、14d 画素選択金属配線層
15a、15b、15c、15d、71 ゲート絶縁層
17a、51 N+型シリコン層
18a、18b、22a、22b、22c、24a、24b、26a、26b、35、42、109 金属配線層
20、29、33、43、45、62、101a、101b、103、107 酸化シリコン層
21c、34、41a、41b、41c、41d、41e、41f、75、108 コンタクトホール
27 容量酸化シリコン層
30、52 P型シリコン層
30a、58a、58b N型シリコン層
30b i型シリコン層
37a、37c Pチャネル型MOSトランジスタ
37b、37d Nチャネル型MOSトランジスタ
38、38a、38b ゲート接続配線
39、39a、39b ドレイン接続配線
47a マスク合わせマーク形成領域
47b 回路形成領域
48 酸化シリコン層除去領域
49a マーク金属層
49b マーク多結晶シリコン層
50 マスク合わせ孔
50a 透明絶縁層
53a、53b 絶縁膜
57a、57b 画素選択線
60 シリコン基板
61、64 半導体基板
66 埋め込み酸化膜基板
67 平面状シリコン膜
68 PMOS柱状シリコン層
69、70 P+型シリコン拡散層
71 ゲート絶縁層
72 ゲート電極
73 窒化シリコン(SiN)膜
74 酸化シリコン(SiO2)膜
76 ソース金属配線
100 容量形成領域
106 (ドナー不純物がドープされた)N+多結晶シリコン層
110 柱状半導体
111 (ドナー不純物又はアクセプタ不純物がドープされていない)多結晶シリコン層
Vi 入力端子配線(層)
Vdd 電源端子配線(層)
Vss グランド端子配線(層)
Vo、Vout 出力端子配線(層)
半導体基板上に第1の絶縁層を形成し、所定領域上の第1の絶縁層を除去することで、絶縁層除去領域を形成する第1絶縁層形成・除去工程、または、前記所定領域の周辺において、前記半導体基板を厚さ方向に一部除去し、当該半導体基板を除去した半導体基板除去領域に第1の絶縁層を形成する第2絶縁層形成・除去工程と、
少なくとも前記所定領域を覆うように、前記半導体基板上にドナー不純物又はアクセプタ不純物を含む第1の半導体層を形成する第1半導体層形成工程と、
前記第1の半導体層上に導体層を形成する導体層形成工程と、
前記導体層及び前記第1の半導体層を所定の形状に成形する成形工程と、
前記所定の形状に成形した導体層及び第1の半導体層を覆うように、第2の絶縁層を形成する第1絶縁層形成工程と、
前記第2の絶縁層の表面を平坦化する平坦化工程と、
前記平坦化された前記第2の絶縁層の表面に、基板を接着する接着工程と、
前記半導体基板を所定の厚さまで薄くする薄膜化工程と、
前記第1の半導体層上に、前記半導体基板から柱状構造を有する柱状半導体を形成する柱状半導体形成工程と、
前記柱状半導体に回路素子を形成する回路素子形成工程と、を備え、
少なくとも前記第1半導体層形成工程以後に、前記ドナー不純物又はアクセプタ不純物を含む前記第1の半導体層から当該不純物を拡散させることで前記柱状半導体に第1の半導体領域を形成する第1半導体領域形成工程をさらに備える、
ことを特徴とする。
前記柱状半導体の外周部に第3の絶縁層を形成するとともに、前記第3の絶縁層の外周部にゲート導体層を形成する工程と、
前記柱状半導体の表層部であって、前記ゲート導体層よりも上方の部分に、前記第1の半導体領域と同一導電型である第4の半導体領域を形成する工程と、
前記柱状半導体の、前記第3の絶縁層よりも上方の部分に、前記第1の半導体領域と反対導電型の第3の半導体領域を形成する工程と、を含む、ことが好ましい。
前記柱状半導体の外周部にゲート導体層を形成する工程と、
前記柱状半導体の前記ゲート導体層よりも上方の部分に、前記第1の半導体領域と同一導電型である第5の半導体領域を形成する工程と、を含む、ことが好ましい。
前記柱状半導体の上方の端部に、前記第1の半導体領域と反対導電型の第6の半導体領域を形成する工程を含む、ことが好ましい。
前記導体層形成工程は、前記第4の絶縁層上に、容量電極として機能する導体層を形成する工程を含み、
前記第1絶縁層形成・除去工程の後に、前記容量形成領域に、ドナー不純物又はアクセプタ不純物を有し、容量電極として機能する不純物層を形成する容量形成工程を含む、ことが好ましい。
前記絶縁層除去領域、前記第1の絶縁層及び前記導体層の内の少なくとも一つからなるマスク合わせマークを形成するマスク合わせマーク形成工程と、
前記マスク合わせマーク形成領域に、マスク合わせ孔を形成し、前記絶縁層除去領域、前記第1の絶縁層及び前記導体層の少なくとも一つを露出させる工程と、
前記マスク合わせマークを基準として、フォトマスクのマスク合わせを行うマスク合わせ工程と、
をさらに備える、ことが好ましい。
前記エッチングされた領域の前記半導体基板上に、前記第1の絶縁層を形成する工程と、
前記所定領域の前記半導体基板と、当該所定領域の周辺に位置する前記第1の絶縁層上に、前記第1の半導体層を形成する工程と、を含む、
ことが好ましい。
ことが好ましい。
前記絶縁層除去領域において、露出した前記半導体基板の表面上に、互いに分離され、ドナーまたはアクセプタがドープされた複数の前記第1の半導体層と、前記第1の半導体層に接続された前記導体層と、を形成する工程を含む、
ことが好ましい。
Claims (20)
- 半導体基板上の所定領域に第1の絶縁層を形成し、前記所定領域上の第1の絶縁層を除去することで、絶縁層除去領域を形成する第1絶縁層形成・除去工程、または、前記所定領域の周辺において、前記半導体基板を厚さ方向に一部除去し、当該半導体基板を除去した半導体基板除去領域に第1の絶縁層を形成する第2絶縁層形成・除去工程と、
少なくとも前記所定の領域を覆うように、前記半導体基板上にドナー不純物又はアクセプタ不純物を含む第1の半導体層を形成する第1半導体層形成工程と、
前記第1の半導体層上に導体層を形成する導体層形成工程と、
前記導体層及び前記第1の半導体層を所定の形状に成形する成形工程と、
前記所定の形状に成形した導体層及び第1の半導体層を覆うように、第2の絶縁層を形成する第1絶縁層形成工程と、
前記第2の絶縁層の表面を平坦化する平坦化工程と、
前記平坦化された前記第2の絶縁層の表面に、基板を接着する接着工程と、
前記半導体基板を所定の厚さまで薄くする薄膜化工程と、
前記第1の半導体層上に、前記半導体基板から柱状構造を有する柱状半導体を形成する柱状半導体形成工程と、
前記柱状半導体に回路素子を形成する回路素子形成工程と、を備え、
少なくとも前記第1半導体層形成工程以後に、前記ドナー不純物又はアクセプタ不純物を含む前記第1の半導体層から当該不純物を拡散させることで前記柱状半導体に第1の半導体領域を形成する第1半導体領域形成工程をさらに備える、
ことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記回路素子形成工程は、
前記柱状半導体の外周部に第3の絶縁層を形成するとともに、前記第3の絶縁層の外周部にゲート導体層を形成する工程と、
前記ゲート導体層の上方部位かつ前記柱状半導体の表層部に、前記第1の半導体領域と同一導電型である第4の半導体領域を形成する工程と、
前記柱状半導体において、前記第3の絶縁層の上方部位に、前記第1の半導体領域と反対導電型の第3の半導体領域を形成する工程と、を含む、ことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記回路素子形成工程は、
前記柱状半導体の外周部に第3の絶縁層を形成するとともに、前記第3の絶縁層の外周部にゲート導体層を形成する工程と、
前記柱状半導体における前記第3の絶縁層の上方部位に、前記第1の半導体領域と同一導電型の第5の半導体領域を形成する工程と、を含む、ことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記回路素子形成工程は、
前記柱状半導体の上方部位に、前記第1の半導体領域と反対導電型の第6の半導体領域を形成する工程を含む、ことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記第1半導体層形成工程は、前記第1の半導体層と同層に、電気抵抗として機能する第2の半導体層を形成する工程を含む、ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1半導体層形成工程は、容量電極として機能する前記第1の半導体層上の所定の領域に容量絶縁膜として機能する絶縁膜を形成する工程を含み、
前記導体層形成工程は、前記絶縁膜上に、前記第1の半導体層と共に容量電極として機能する導体層を形成する工程を含む、ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記第1絶縁層形成・除去工程は、前記半導体基板上に、第1の絶縁層と共に第4の絶縁層を形成するとともに、予め設定した容量形成領域に、前記第4の絶縁層よりも厚さが薄く、容量絶縁膜として機能する第5の絶縁層を形成する工程を含み、
前記導体層形成工程は、前記第5の絶縁層上に、容量電極として機能する導体層を形成する工程を含み、
前記第1及び第2絶縁層形成・除去工程は、前記容量形成領域に、ドナー不純物又はアクセプタ不純物を有し、容量電極として機能する不純物層を形成する容量形成工程を含む、ことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記半導体基板上にマスク合わせマーク形成領域を設定するマスク合わせマーク形成領域設定工程と、
前記マスク合わせマーク形成領域に、マスク合わせ孔を形成し、前記絶縁層除去領域、前記第1の絶縁層及び前記導体層の少なくとも一つを露出させる工程と、
前記マスク合わせ孔を通して、前記絶縁層除去領域、前記第1の絶縁層及び前記導体層の内の少なくとも一つからなるマスク合わせマークを形成するマスク合わせマーク形成工程と、
前記マスク合わせマークを基準として、フォトマスクのマスク合わせを行うマスク合わせ工程と、をさらに備える、ことを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記マスク合わせ孔に透明絶縁体を埋め込む工程をさらに備え、
前記マスク合わせマーク形成工程では、前記透明絶縁体を通して、前記絶縁層除去領域、前記第1の絶縁層及び前記導体層の内の少なくとも一つからなるマスク合わせマークを形成し、
前記マスク合わせ工程では、前記マスク合わせマークを基準として、フォトマスクのマスク合わせを行う、ことを特徴とする請求項8に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記第1または第2絶縁層形成・除去工程と、前記第1半導体層形成工程との間に、前記絶縁層除去領域を覆うように、ドナー不純物及びアクセプタ不純物がドープされていない第2の半導体層を形成する工程をさらに備える、ことを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
- 請求項2に記載の半導体装置の製造方法によって製造される半導体装置であって、
前記柱状半導体は、
前記第1の半導体領域上に形成された当該第1の半導体領域と反対導電型の半導体又は真性半導体からなる第2の半導体領域を備え、
前記第2の半導体領域と前記第4の半導体領域とから電磁エネルギー波の照射により発生する信号電荷を蓄積するダイオードが形成され、
前記ダイオードがゲートとして機能し、前記第1の半導体領域と前記第3の半導体領域のいずれか一方がソース、他方がドレインとしてそれぞれ機能し、かつ、前記第2の半導体領域に形成されたチャネルを流れるとともに前記ダイオードに蓄積された信号電荷量に応じて変化する電流を信号取り出し手段によって取り出し可能とされた接合電界効果トランジスタが形成され、
前記ゲート導体層がゲートとして機能するとともに、前記第1の半導体領域及び前記第4の半導体領域の一方がソースとして機能し、他方がドレインとして機能するMOSトランジスタによって、前記ゲート導体層に電圧が印加されることで、前記ダイオードに蓄積された信号電荷を前記第1の半導体領域に除去する信号電荷除去手段が形成されている、ことを特徴とする半導体装置。 - 請求項3に記載の半導体装置の製造方法によって製造される半導体装置であって、
前記柱状半導体は、
前記第1の半導体領域上に形成された当該第1の半導体領域と反対導電型又は真性半導体からなる第2の半導体領域を備え、
前記ゲート導体層がゲートとして機能するとともに、前記第1の半導体領域及び前記第5の半導体領域の一方がソースとして機能し、他方がドレインとして機能するMOSトランジスタが形成されている、ことを特徴とする半導体装置。 - 請求項4に記載の半導体装置の製造方法によって製造される半導体装置であって、
前記柱状半導体は、
前記第1の半導体領域と第6の半導体領域との間に、前記第1の半導体領域と反対導電型又は真性半導体からなる第2の半導体領域を備え、
前記第2の半導体領域と、前記第6の半導体領域と、からダイオードが形成されている、ことを特徴とする半導体装置。 - 請求項1又は3に記載の半導体装置の製造方法によって製造される半導体装置であって、
前記第1の半導体層上に複数の前記柱状半導体が形成されており、
前記複数の柱状半導体は、前記第1の半導体領域にアクセプタ不純物がドープされている複数の第1の柱状半導体と、前記第1の半導体領域にドナー不純物がドープされている複数の第2の柱状半導体とからなる、ことを特徴とする半導体装置。 - 請求項1乃至3のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法によって製造される半導体装置であって、
前記第1の半導体層上に複数の前記柱状半導体が形成されており、
前記複数の柱状半導体における、複数の前記第1の半導体領域、及び、複数の前記導体層の内の両方、又は、一方が互いに接続されている、ことを特徴とする半導体装置。 - 請求項3に記載の半導体装置の製造方法によって製造される半導体装置であって、
前記第1の半導体層上に複数の前記柱状半導体が形成されており、
前記各柱状半導体は、
前記第1の半導体領域上に形成された当該第1の半導体領域と反対導電型の半導体又は真性半導体からなる第2の半導体領域と、
前記第2の半導体領域上に形成された第5の半導体領域と、
前記第2の半導体領域の外周部に形成された第3の絶縁層と、
前記第3の絶縁層の外周部に形成されたゲート導体層と、を備え、
前記ゲート導体層がゲートとして機能するとともに、前記第1の半導体領域及び前記第5の半導体領域の一方がソースとして機能し、他方がドレインとして機能するMOSトランジスタが形成され、
前記第1の半導体層は、前記複数の柱状半導体に亘って連続して繋がるように形成されているとともに、前記繋がるように形成された前記第1の半導体層は、絶縁層に形成されたコンタクトホールを介して、外部回路に接続するための配線層に接続されている、ことを特徴とする半導体装置。 - 請求項3に記載の半導体装置の製造方法によって製造される半導体装置であって、
前記第1の半導体層上に複数の前記柱状半導体が形成されており、
前記各柱状半導体は、
前記第1の半導体領域上に形成された当該第1の半導体領域と反対導電型の半導体又は真性半導体からなる第2の半導体領域と、
前記第2の半導体領域上に形成された第5の半導体領域と、
前記第2の半導体領域の外周部に形成された第3の絶縁層と、
前記第3の絶縁層の外周部に形成されたゲート導体層と、を備え、
前記ゲート導体層がゲートとして機能するとともに、前記第1の半導体領域及び前記第5の半導体領域の一方がソースとして機能し、他方がドレインとして機能するMOSトランジスタが形成され、
前記第1の半導体層は、前記複数の柱状半導体に亘って連続して繋がるように形成されているとともに、前記第1の半導体層は、絶縁層に形成されたコンタクトホールを介して、所定のトランジスタのゲートに接続するための配線層に接続されている、ことを特徴とする半導体装置。 - 前記第2絶縁層形成・除去工程は、前記柱状半導体を形成する領域の周辺の前記半導体基板をエッチングする半導体基板エッチング工程と、
前記エッチングされた領域の前記半導体基板上に、前記第1の絶縁層を形成する工程と、
前記エッチングにより露出した前記半導体基板と、当該露出した半導体基板の周辺に位置する前記第1の絶縁層上に、前記第1の半導体層を形成する工程と、を含む、
ことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記第2絶縁層形成・除去工程は、前記柱状半導体を形成する領域の前記半導体基板の周辺の領域を選択的に酸化して前記第1の絶縁層としての選択酸化層を形成する工程を含む、
ことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記柱状半導体を形成する領域における前記半導体基板上に、少なくとも2つ以上の、互いに分離された前記第1の絶縁層を形成する領域を形成する工程と、
前記互いに分離された領域における前記第1の絶縁層で囲まれ、かつ、露出した前記半導体基板の表面上に、互いに分離され、ドナーまたはアクセプタがドープされた複数の前記第1の半導体層と、前記第1の半導体層に接続された前記導体層と、を形成する工程を含む、
ことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012521405A JP5114608B2 (ja) | 2011-03-08 | 2012-02-07 | 半導体装置の製造方法、及び、半導体装置 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPPCT/JP2011/055408 | 2011-03-08 | ||
PCT/JP2011/055408 WO2012120653A1 (ja) | 2011-03-08 | 2011-03-08 | 半導体装置の製造方法、及び、半導体装置 |
PCT/JP2012/052777 WO2012120951A1 (ja) | 2011-03-08 | 2012-02-07 | 半導体装置の製造方法、及び、半導体装置 |
JP2012521405A JP5114608B2 (ja) | 2011-03-08 | 2012-02-07 | 半導体装置の製造方法、及び、半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP5114608B2 JP5114608B2 (ja) | 2013-01-09 |
JPWO2012120951A1 true JPWO2012120951A1 (ja) | 2014-07-17 |
Family
ID=47676520
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012521405A Active JP5114608B2 (ja) | 2011-03-08 | 2012-02-07 | 半導体装置の製造方法、及び、半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5114608B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5815447B2 (ja) | 2012-03-21 | 2015-11-17 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3933608B2 (ja) * | 2003-06-30 | 2007-06-20 | 株式会社東芝 | 半導体記憶装置及び半導体集積回路 |
JP4793493B2 (ja) * | 2007-09-12 | 2011-10-12 | 日本ユニサンティスエレクトロニクス株式会社 | 固体撮像素子及びその駆動方法並びに固体撮像素子行列 |
JP2009164589A (ja) * | 2007-12-12 | 2009-07-23 | Elpida Memory Inc | 半導体装置及びその製造方法 |
-
2012
- 2012-02-07 JP JP2012521405A patent/JP5114608B2/ja active Active
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP5114608B2 (ja) | 2013-01-09 |
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