JPWO2010125782A1 - 含窒素複素環化合物及び農園芸用殺菌剤 - Google Patents
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Abstract
本発明は、式（Ｉ）（式中、Ｒ1は、Ｃ６〜１０アリール基等、Ｒ2は、水素原子、Ｃ１〜２０アルキル基等を示す。Ｒ3〜Ｒ6は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜２０アルキル基等を示す。Ｒ4とＲ5及びＲ5とＲ6は、一緒になって、それぞれが結合する炭素原子と共に、無置換若しくは置換基を有する５〜８員環を形成してもよい。Ｘは、ハロゲン原子等を示す。ｎは、０〜４のいずれかの整数を示す。Ｚは酸素原子または硫黄原子を示す。）で表される含窒素複素環化合物またはその塩、並びにそれらの少なくとも１種を有効成分として含有する農園芸用殺菌剤を提供する。
Description
本発明は、新規な含窒素複素環化合物またはその塩、及びこれらの化合物の少なくとも１種を有効成分として含有する農園芸用殺菌剤に関する。
本願は、２００９年４月２８日に、日本に出願された特願２００９−１０８７７２号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
本願は、２００９年４月２８日に、日本に出願された特願２００９−１０８７７２号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
農園芸作物の栽培に当り、作物の病害に対して多数の防除薬剤が使用されているが、その防除効力が不十分であったり、薬剤耐性の病原菌の出現によりその使用が制限されたり、また植物体に薬害や汚染を生じたり、若しくは人畜魚類に対する毒性や環境への影響があったりなどして、必ずしも満足すべき防除薬剤とは言い難いものが少なくない。従って、かかる欠点の少ない安全に使用できる薬剤の出現が強く要望されている。
本発明に関連して、特許文献１及び２には、本発明化合物と類似の化学構造を有するキノリン誘導体、及びそれを有効成分として含有する農園芸用殺菌剤が開示されている。しかしながら、本発明化合物は記載されていない。
本発明は、効果が確実で安全に使用できる農園芸用殺菌剤の有効成分となりうる、新規な含窒素複素環化合物またはその塩、及びこれらの化合物の少なくとも１種を有効成分として含有する農園芸用殺菌剤を提供することを課題とする。
上記課題を解決すべく、本発明は式（Ｉ）で表される含窒素複素環化合物またはその塩を提供する。
式（Ｉ）中、Ｒ1は、無置換若しくは置換基を有するＣ６〜１０アリール基、無置換若しくは置換基を有するヘテロアリール基、無置換若しくは置換基を有するアラルキル基、または無置換若しくは置換基を有するヘテロアラルキル基を示す。
Ｒ2は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜２０アルキル基、Ｃ１〜２０ハロアルキル基、Ｃ２〜２０アルケニル基、Ｃ２〜２０ハロアルケニル基、Ｃ２〜２０アルキニル基、Ｃ２〜２０ハロアルキニル基、Ｃ１〜２０アルコキシ基、Ｃ１〜２０ハロアルコキシ基、Ｃ３〜２０シクロアルキル基、Ｃ４〜２０シクロアルケニル基、Ｃ８〜２０シクロアルキニル基、Ｃ１〜２０アシル基、Ｃ１〜２０アルコキシカルボニル基、無置換若しくは置換基を有するＣ６〜１０アリール基、無置換若しくは置換基を有するヘテロアリール基、無置換若しくは置換基を有するアラルキル基、または無置換若しくは置換基を有するヘテロアラルキル基を示す。
Ｒ2は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜２０アルキル基、Ｃ１〜２０ハロアルキル基、Ｃ２〜２０アルケニル基、Ｃ２〜２０ハロアルケニル基、Ｃ２〜２０アルキニル基、Ｃ２〜２０ハロアルキニル基、Ｃ１〜２０アルコキシ基、Ｃ１〜２０ハロアルコキシ基、Ｃ３〜２０シクロアルキル基、Ｃ４〜２０シクロアルケニル基、Ｃ８〜２０シクロアルキニル基、Ｃ１〜２０アシル基、Ｃ１〜２０アルコキシカルボニル基、無置換若しくは置換基を有するＣ６〜１０アリール基、無置換若しくは置換基を有するヘテロアリール基、無置換若しくは置換基を有するアラルキル基、または無置換若しくは置換基を有するヘテロアラルキル基を示す。
Ｒ3〜Ｒ6は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜２０アルキル基、Ｃ１〜２０ハロアルキル基、Ｃ２〜２０アルケニル基、Ｃ２〜２０ハロアルケニル基、Ｃ２〜２０アルキニル基、Ｃ２〜２０ハロアルキニル基、Ｃ１〜２０アルコキシ基、Ｃ１〜２０ハロアルコキシ基、Ｃ３〜２０シクロアルキル基、Ｃ３〜２０シクロアルコキシ基、Ｃ２〜２０アルケニルオキシ基、Ｃ２〜２０アルキニルオキシ基、Ｃ１〜２０アルキルチオ基、シアノ基、ニトロ基、無置換若しくは置換基を有するアミノ基、水酸基、チオール基、無置換若しくは置換基を有するフェニル基、無置換若しくは置換基を有するアラルキル基、無置換若しくは置換基を有するアリールオキシ基、または無置換若しくは置換基を有するヘテロ環基を示す。
Ｒ4とＲ5、及びＲ5とＲ6は、一緒になってそれぞれが結合する炭素原子と共に、無置換若しくは置換基を有する５〜８員環を形成してもよい。
Ｒ5とＲ6が同時に水素原子であることはない。
Ｒ4とＲ5、及びＲ5とＲ6は、一緒になってそれぞれが結合する炭素原子と共に、無置換若しくは置換基を有する５〜８員環を形成してもよい。
Ｒ5とＲ6が同時に水素原子であることはない。
Ｘは、ハロゲン原子、ニトロ基、無置換若しくは置換基を有するアミノ基、水酸基、または有機基を示す。
ｎは、０〜４のいずれかの整数を示す。
Ｚは、酸素原子または硫黄原子を示す。
本発明の含窒素複素環化合物またはその塩においては、Ｒ4とＲ5、及びＲ5とＲ6が一緒になってそれぞれが結合する炭素原子と共に形成する無置換若しくは置換基を有する５〜８員環が、無置換若しくは置換基を有するシクロアルケン環、無置換若しくは置換基を有する芳香族炭化水素環、または無置換若しくは置換基を有するヘテロ環であることが好ましい。
また、本発明は、本発明の含窒素複素環化合物またはその塩の少なくとも１種を有効成分として含有する農園芸用殺菌剤を提供する。
ｎは、０〜４のいずれかの整数を示す。
Ｚは、酸素原子または硫黄原子を示す。
本発明の含窒素複素環化合物またはその塩においては、Ｒ4とＲ5、及びＲ5とＲ6が一緒になってそれぞれが結合する炭素原子と共に形成する無置換若しくは置換基を有する５〜８員環が、無置換若しくは置換基を有するシクロアルケン環、無置換若しくは置換基を有する芳香族炭化水素環、または無置換若しくは置換基を有するヘテロ環であることが好ましい。
また、本発明は、本発明の含窒素複素環化合物またはその塩の少なくとも１種を有効成分として含有する農園芸用殺菌剤を提供する。
本発明の含窒素複素環化合物またはその塩は新規化合物であり、効果が確実で安全に使用できる農園芸用殺菌剤の有効成分として有用である。
本発明の農園芸用殺菌剤は優れた防除効果を有し、植物体に薬害を生じることがなく、人畜魚類に対する毒性や環境への影響が少ない薬剤である。
本発明の農園芸用殺菌剤は優れた防除効果を有し、植物体に薬害を生じることがなく、人畜魚類に対する毒性や環境への影響が少ない薬剤である。
以下、本発明を、１）式（Ｉ）で表される含窒素複素環化合物またはその塩、及び、２）農園芸用殺菌剤に項分けして詳細に説明する。
１）式（Ｉ）で表される含窒素複素環化合物またはその塩
本発明の含窒素複素環化合物またはその塩は、前記式（Ｉ）で表される化合物またはその塩である。本発明の含窒素複素環化合物またはその塩には、水和物、各種溶媒和物や結晶多形等も含まれる。
本発明の含窒素複素環化合物またはその塩は、前記式（Ｉ）で表される化合物またはその塩である。本発明の含窒素複素環化合物またはその塩には、水和物、各種溶媒和物や結晶多形等も含まれる。
式（Ｉ）中、Ｒ1は、無置換若しくは置換基を有するＣ６〜１０アリール基、無置換若しくは置換基を有するヘテロアリール基、無置換若しくは置換基を有するアラルキル基、または無置換若しくは置換基を有するヘテロアラルキル基を示す。
Ｒ1の「Ｃ６〜１０アリール基」は、炭素数６〜１０の単環または多環のアリール基を意味する。ここで、多環アリール基は、少なくとも一つの環が芳香環であれば、残りの環が飽和脂環、部分不飽和脂環または芳香環のいずれであってもよい。
「Ｃ６〜１０アリール基」としては、フェニル基、ナフチル基、アズレニル基、インデニル基、インダニル基、テトラリニル基等が挙げられる。これらのうち、フェニル基が好ましい。
「Ｃ６〜１０アリール基」としては、フェニル基、ナフチル基、アズレニル基、インデニル基、インダニル基、テトラリニル基等が挙げられる。これらのうち、フェニル基が好ましい。
Ｒ1の「アラルキル基」は、Ｃ６〜１０アリール基で置換されたＣ１〜２０アルキル基である。
ここで、「Ｃ１〜２０アルキル基」は、直鎖または分岐鎖の炭素数１〜２０の飽和炭化水素基を意味する。
「Ｃ１〜２０アルキル基」としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、２−メチルブチル基、２，２−ジメチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ノニル基、イソノニル基、ｎ−デシル基、２−エチルオクチル基、３−エチルオクチル基、２，３−ジメチルオクチル基、４−プロピルオクチル基、ドデシル基、４−エチルデシル基、６−エチルドデシル基、３，５−ジメチルデシル基、２，５−ジメチルデシル基、６−プロピルノニル基、４−ブチルオクチル基、トリデシル基、テトラデシル基、２，４，６，８−テトラメチルデシル基、２，２−ジエチルデシル基、２，５−ジエチルデシル基、４−ブチルデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、２，４，６，８−テトラエチルデシル基、ノナデシル基、イコシル基等が挙げられる。これらのうち、Ｃ１〜６アルキル基、すなわち、直鎖または分岐鎖の炭素数１〜６の飽和炭化水素基が好ましい。
「アラルキル基」としては、ベンジル基、フェネチル基、３−フェニルプロピル基、１−ナフチルメチル基、２−ナフチルメチル基等が挙げられる。これらのうち、Ｃ６〜１０アリールＣ１〜６アルキル基が好ましい。
ここで、「Ｃ１〜２０アルキル基」は、直鎖または分岐鎖の炭素数１〜２０の飽和炭化水素基を意味する。
「Ｃ１〜２０アルキル基」としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、２−メチルブチル基、２，２−ジメチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ノニル基、イソノニル基、ｎ−デシル基、２−エチルオクチル基、３−エチルオクチル基、２，３−ジメチルオクチル基、４−プロピルオクチル基、ドデシル基、４−エチルデシル基、６−エチルドデシル基、３，５−ジメチルデシル基、２，５−ジメチルデシル基、６−プロピルノニル基、４−ブチルオクチル基、トリデシル基、テトラデシル基、２，４，６，８−テトラメチルデシル基、２，２−ジエチルデシル基、２，５−ジエチルデシル基、４−ブチルデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、２，４，６，８−テトラエチルデシル基、ノナデシル基、イコシル基等が挙げられる。これらのうち、Ｃ１〜６アルキル基、すなわち、直鎖または分岐鎖の炭素数１〜６の飽和炭化水素基が好ましい。
「アラルキル基」としては、ベンジル基、フェネチル基、３−フェニルプロピル基、１−ナフチルメチル基、２−ナフチルメチル基等が挙げられる。これらのうち、Ｃ６〜１０アリールＣ１〜６アルキル基が好ましい。
Ｒ1の「ヘテロアリール基」は、環を構成する原子として炭素原子以外に窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選ばれる１〜４個の複素原子を含む５〜１０員のアリール基である。この場合、単環、または環同士が縮合した多環であってもよい。
「ヘテロアリール基」としては、以下の基を挙げることができる。
（１）５員環のヘテロアリール基
ピロ−ル−１−イル基、ピロ−ル−２−イル基、ピロ−ル−３−イル基等のピロリル基；
フラン−２−イル基、フラン−３−イル基等のフリル基；
チオフェン−２−イル基、チオフェン−３−イル基等のチエニル基；
イミダゾール−１−イル基、イミダゾール−２−イル基、イミダゾール−４−イル基、イミダゾール−５−イル基等のイミダゾリル基；
ピラゾール−１−イル基、ピラゾール−３−イル基、ピラゾール−４−イル基、ピラゾール−５−イル基等のピラゾリル基；
オキサゾール−２−イル基、オキサゾール−４−イル基、オキサゾール−５−イル基等のオキサゾリル基；
イソオキサゾール−３−イル基、イソオキサゾール−４−イル基、イソオキサゾール−５−イル基等のイソオキサゾリル基；
チアゾール−２−イル基、チアゾール−４−イル基、チアゾール−５−イル基等のチアゾリル基；
イソチアゾール−３−イル基、イソチアゾール−４−イル基、イソチアゾール−５−イル基等のイソチアゾリル基；
１，２，３−トリアゾール−１−イル基、１，２，３−トリアゾール−４−イル基、１，２，３−トリアゾール−５−イル基、１，２，４−トリアゾール−１−イル基、１，２，４−トリアゾール−３−イル基、１，２，４−トリアゾール−５−イル基等のトリアゾリル基；
１，２，４−オキサジアゾール−３−イル基、１，２，４−オキサジアゾール−５−イル基、１，３，４−オキサジアゾール−２−イル基等のオキサジアゾリル基；
１，２，４−チアジアゾール−３−イル基、１，２，４−チアジアゾール−５−イル基、１，３，４−チアジアゾール−２−イル基等のチアジアゾリル基；
テトラゾール−１−イル基、テトラゾール−２−イル基等のテトラゾリル基；
（２）６員環のヘテロアリール基
ピリジン−２−イル基、ピリジン−３−イル基、ピリジン−４−イル基等のピリジル基；
ピラジン−２−イル基、ピラジン−３−イル基等のピラジニル基；
ピリミジン−２−イル基、ピリミジン−４−イル基、ピリミジン−５−イル基等のピリミジル基；
ピリダジン−３−イル基、ピリダジン−４−イル基等のピリダジニル基；
トリアジニル基；
（３）縮合環のヘテロアリール基
インドール−１−イル基、インドール−２−イル基、インドール−３−イル基、インドール−４−イル基、インドール−５−イル基、インドール−６−イル基、インドール−７−イル基；
ベンゾフラン−２−イル基、ベンゾフラン−３−イル基、ベンゾフラン−４−イル基、ベンゾフラン−５−イル基、ベンゾフラン−６−イル基、ベンゾフラン−７−イル基；
ベンゾチオフェン−２−イル基、ベンゾチオフェン−３−イル基、ベンゾチオフェン−４−イル基、ベンゾチオフェン−５−イル基、ベンゾチオフェン−６−イル基、ベンゾチオフェン−７−イル基；
ベンゾイミダゾール−１−イル基、ベンゾイミダゾール−２−イル基、ベンゾイミダゾール−４−イル基、ベンゾイミダゾール−５−イル基、ベンゾオキサゾール−２−イル基、ベンゾオキサゾール−４−イル基、ベンゾオキサゾール−５−イル基、ベンゾチアゾール−２−イル基、ベンゾチアゾール−４−イル基、ベンゾチアゾール−５−イル基；
キノリン−２−イル基、キノリン−３−イル基、キノリン−４−イル基、キノリン−５−イル基、キノリン−６−イル基、キノリン−７−イル基、キノリン−８−イル基；
これらのうち、硫黄原子を含む５員環のヘテロアリール基、窒素原子を含む５員環のへテロアリール基、または窒素原子を含む６員環のへテロアリール基が好ましい。
「ヘテロアリール基」としては、以下の基を挙げることができる。
（１）５員環のヘテロアリール基
ピロ−ル−１−イル基、ピロ−ル−２−イル基、ピロ−ル−３−イル基等のピロリル基；
フラン−２−イル基、フラン−３−イル基等のフリル基；
チオフェン−２−イル基、チオフェン−３−イル基等のチエニル基；
イミダゾール−１−イル基、イミダゾール−２−イル基、イミダゾール−４−イル基、イミダゾール−５−イル基等のイミダゾリル基；
ピラゾール−１−イル基、ピラゾール−３−イル基、ピラゾール−４−イル基、ピラゾール−５−イル基等のピラゾリル基；
オキサゾール−２−イル基、オキサゾール−４−イル基、オキサゾール−５−イル基等のオキサゾリル基；
イソオキサゾール−３−イル基、イソオキサゾール−４−イル基、イソオキサゾール−５−イル基等のイソオキサゾリル基；
チアゾール−２−イル基、チアゾール−４−イル基、チアゾール−５−イル基等のチアゾリル基；
イソチアゾール−３−イル基、イソチアゾール−４−イル基、イソチアゾール−５−イル基等のイソチアゾリル基；
１，２，３−トリアゾール−１−イル基、１，２，３−トリアゾール−４−イル基、１，２，３−トリアゾール−５−イル基、１，２，４−トリアゾール−１−イル基、１，２，４−トリアゾール−３−イル基、１，２，４−トリアゾール−５−イル基等のトリアゾリル基；
１，２，４−オキサジアゾール−３−イル基、１，２，４−オキサジアゾール−５−イル基、１，３，４−オキサジアゾール−２−イル基等のオキサジアゾリル基；
１，２，４−チアジアゾール−３−イル基、１，２，４−チアジアゾール−５−イル基、１，３，４−チアジアゾール−２−イル基等のチアジアゾリル基；
テトラゾール−１−イル基、テトラゾール−２−イル基等のテトラゾリル基；
（２）６員環のヘテロアリール基
ピリジン−２−イル基、ピリジン−３−イル基、ピリジン−４−イル基等のピリジル基；
ピラジン−２−イル基、ピラジン−３−イル基等のピラジニル基；
ピリミジン−２−イル基、ピリミジン−４−イル基、ピリミジン−５−イル基等のピリミジル基；
ピリダジン−３−イル基、ピリダジン−４−イル基等のピリダジニル基；
トリアジニル基；
（３）縮合環のヘテロアリール基
インドール−１−イル基、インドール−２−イル基、インドール−３−イル基、インドール−４−イル基、インドール−５−イル基、インドール−６−イル基、インドール−７−イル基；
ベンゾフラン−２−イル基、ベンゾフラン−３−イル基、ベンゾフラン−４−イル基、ベンゾフラン−５−イル基、ベンゾフラン−６−イル基、ベンゾフラン−７−イル基；
ベンゾチオフェン−２−イル基、ベンゾチオフェン−３−イル基、ベンゾチオフェン−４−イル基、ベンゾチオフェン−５−イル基、ベンゾチオフェン−６−イル基、ベンゾチオフェン−７−イル基；
ベンゾイミダゾール−１−イル基、ベンゾイミダゾール−２−イル基、ベンゾイミダゾール−４−イル基、ベンゾイミダゾール−５−イル基、ベンゾオキサゾール−２−イル基、ベンゾオキサゾール−４−イル基、ベンゾオキサゾール−５−イル基、ベンゾチアゾール−２−イル基、ベンゾチアゾール−４−イル基、ベンゾチアゾール−５−イル基；
キノリン−２−イル基、キノリン−３−イル基、キノリン−４−イル基、キノリン−５−イル基、キノリン−６−イル基、キノリン−７−イル基、キノリン−８−イル基；
これらのうち、硫黄原子を含む５員環のヘテロアリール基、窒素原子を含む５員環のへテロアリール基、または窒素原子を含む６員環のへテロアリール基が好ましい。
Ｒ1の「ヘテロアラルキル基」は、ヘテロアリール基で置換されたＣ１〜２０アルキル基である。Ｃ１〜２０アルキル基を置換するヘテロアリール基としては前記のヘテロアリール基が挙げられる。
「ヘテロアラルキル基」としては、以下の基を挙げることができる。
ピロール−１−イルメチル基、ピロール−２−イルメチル基、ピロール−３−イルメチル基、ピラゾール−１−イルメチル基、ピラゾール−３−イルメチル基、ピラゾール−３−イルメチル基、フラン−２−イルメチル基、フラン−３−イルメチル基、チオフェン−２−イルメチル基、チオフェン−３−イルメチル基；
ピリジン−２−イルメチル基、ピリジン−３−イルメチル基、ピリジン−４−イルメチル基、１−ピリジン−２−イルエチル基、２−ピリジン−２−イルエチル基、１−ピリジン−２−イルプロピル基、３−ピリジン−２−イルプロピル基等のピリジルＣ１〜６アルキル基；
ピラジン−２−イルメチル基、ピラジン−３−イルメチル基、ピラジン−４−イルメチル基、１−ピラジン−２−イルエチル基、２−ピラジン−２−イルエチル基、１−ピラジン−２−イルプロピル基、３−ピラジン−２−イルプロピル基；
ピリミジン−２−イルメチル基、ピリミジン−３−イルメチル基、ピリミジン−４−イルメチル基、１−ピリミジン−２−イルエチル基、２−ピリミジン−２−イルエチル基、
１−ピリミジン−２−イルプロピル基、３−ピリミジン−２−イルプロピル基；
これらのうち、ヘテロアラルキル基としては、硫黄原子を含む５員環のヘテロアリール基、窒素原子を含む５員環のへテロアリール基、または窒素原子を含む６員環のへテロアリール基で置換されたＣ１〜６アルキル基が好ましい。
「ヘテロアラルキル基」としては、以下の基を挙げることができる。
ピロール−１−イルメチル基、ピロール−２−イルメチル基、ピロール−３−イルメチル基、ピラゾール−１−イルメチル基、ピラゾール−３−イルメチル基、ピラゾール−３−イルメチル基、フラン−２−イルメチル基、フラン−３−イルメチル基、チオフェン−２−イルメチル基、チオフェン−３−イルメチル基；
ピリジン−２−イルメチル基、ピリジン−３−イルメチル基、ピリジン−４−イルメチル基、１−ピリジン−２−イルエチル基、２−ピリジン−２−イルエチル基、１−ピリジン−２−イルプロピル基、３−ピリジン−２−イルプロピル基等のピリジルＣ１〜６アルキル基；
ピラジン−２−イルメチル基、ピラジン−３−イルメチル基、ピラジン−４−イルメチル基、１−ピラジン−２−イルエチル基、２−ピラジン−２−イルエチル基、１−ピラジン−２−イルプロピル基、３−ピラジン−２−イルプロピル基；
ピリミジン−２−イルメチル基、ピリミジン−３−イルメチル基、ピリミジン−４−イルメチル基、１−ピリミジン−２−イルエチル基、２−ピリミジン−２−イルエチル基、
１−ピリミジン−２−イルプロピル基、３−ピリミジン−２−イルプロピル基；
これらのうち、ヘテロアラルキル基としては、硫黄原子を含む５員環のヘテロアリール基、窒素原子を含む５員環のへテロアリール基、または窒素原子を含む６員環のへテロアリール基で置換されたＣ１〜６アルキル基が好ましい。
式（Ｉ）中、Ｒ2は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜２０アルキル基、Ｃ１〜２０ハロアルキル基、Ｃ２〜２０アルケニル基、Ｃ２〜２０ハロアルケニル基、Ｃ２〜２０アルキニル基、Ｃ２〜２０ハロアルキニル基、Ｃ１〜２０アルコキシ基、Ｃ１〜２０ハロアルコキシ基、Ｃ３〜２０シクロアルキル基、Ｃ４〜２０シクロアルケニル基、Ｃ８〜２０シクロアルキニル基、Ｃ１〜２０アシル基、Ｃ１〜２０アルコキシカルボニル基、無置換若しくは置換基を有するＣ６〜１０アリール基、無置換若しくは置換基を有するヘテロアリール基、無置換若しくは置換基を有するアラルキル基、または無置換若しくは置換基を有するヘテロアラルキル基を示す。
Ｒ2の「ハロゲン原子」としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
Ｒ2の「Ｃ１〜２０アルキル基」は、直鎖または分岐鎖の炭素数１〜２０の飽和炭化水素基を意味する。
「Ｃ１〜２０アルキル基」としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、２−メチルブチル基、２，２−ジメチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ノニル基、イソノニル基、ｎ−デシル基、２−エチルオクチル基、３−エチルオクチル基、２，３−ジメチルオクチル基、４−プロピルオクチル基、ドデシル基、４−エチルデシル基、６−エチルドデシル基、３，５−ジメチルデシル基、２，５−ジメチルデシル基、６−プロピルノニル基、４−ブチルオクチル基、トリデシル基、テトラデシル基、２，４，６，８−テトラメチルデシル基、２，２−ジエチルデシル基、２，５−ジエチルデシル基、４−ブチルデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、２，４，６，８−テトラエチルデシル基、ノナデシル基、イコシル基等が挙げられる。これらのうち、Ｃ１〜６アルキル基、すなわち、直鎖または分岐鎖の炭素数１〜６の飽和炭化水素基が好ましい。
Ｒ2の「Ｃ１〜２０アルキル基」は、直鎖または分岐鎖の炭素数１〜２０の飽和炭化水素基を意味する。
「Ｃ１〜２０アルキル基」としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、２−メチルブチル基、２，２−ジメチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ノニル基、イソノニル基、ｎ−デシル基、２−エチルオクチル基、３−エチルオクチル基、２，３−ジメチルオクチル基、４−プロピルオクチル基、ドデシル基、４−エチルデシル基、６−エチルドデシル基、３，５−ジメチルデシル基、２，５−ジメチルデシル基、６−プロピルノニル基、４−ブチルオクチル基、トリデシル基、テトラデシル基、２，４，６，８−テトラメチルデシル基、２，２−ジエチルデシル基、２，５−ジエチルデシル基、４−ブチルデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、２，４，６，８−テトラエチルデシル基、ノナデシル基、イコシル基等が挙げられる。これらのうち、Ｃ１〜６アルキル基、すなわち、直鎖または分岐鎖の炭素数１〜６の飽和炭化水素基が好ましい。
Ｒ2の「Ｃ１〜２０ハロアルキル基」は、Ｃ１〜２０アルキル基中の少なくとも一つの水素原子がハロゲン原子で置換されてなる基を意味する。
「Ｃ１〜２０ハロアルキル基」としては、フルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ジフルオロメチル基、ジクロロメチル基、ジブロモメチル基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、トリブロモメチル基、２，２，２−トルフルオロエチル基、２，２，２−トリクロロエチル基、ペンタフルオロエチル基、４−フルオロブチル基、４−クロロブチル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、２，２，２−トリフルオロ−１−トリフルオロメチルエチル基、パーフロロヘキシル基、パークロロヘキシル基、パーフロロオクチル基、パークロロオクチル基、２，４，６−トリクロロヘキシル基、パーフロロデシル基、２，２，４，４，６，６−へキサクロロオクチル基、２，２，４，４，６，６−ヘキサクロロ−３−プロピル−オクチル基等が挙げられる。これらのうち、Ｃ１〜６ハロアルキル基、すなわち、Ｃ１〜６アルキル基中の少なくとも一つの水素原子がハロゲン原子で置換されてなる基が好ましい。
「Ｃ１〜２０ハロアルキル基」としては、フルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ジフルオロメチル基、ジクロロメチル基、ジブロモメチル基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、トリブロモメチル基、２，２，２−トルフルオロエチル基、２，２，２−トリクロロエチル基、ペンタフルオロエチル基、４−フルオロブチル基、４−クロロブチル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、２，２，２−トリフルオロ−１−トリフルオロメチルエチル基、パーフロロヘキシル基、パークロロヘキシル基、パーフロロオクチル基、パークロロオクチル基、２，４，６−トリクロロヘキシル基、パーフロロデシル基、２，２，４，４，６，６−へキサクロロオクチル基、２，２，４，４，６，６−ヘキサクロロ−３−プロピル−オクチル基等が挙げられる。これらのうち、Ｃ１〜６ハロアルキル基、すなわち、Ｃ１〜６アルキル基中の少なくとも一つの水素原子がハロゲン原子で置換されてなる基が好ましい。
Ｒ2の「Ｃ２〜２０アルケニル基」は、炭素―炭素二重結合を少なくとも一つ有する炭素数２〜２０の直鎖または分岐鎖の不飽和炭化水素基を意味する。
「Ｃ２〜２０アルケニル基」としては、ビニル基、１−プロペニル基、アリル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、１−メチル−２−プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基、１−ペンテニル基、２−ペンテニル基、３−ペンテニル基、４−ペンテニル基、１−メチル−２−ブテニル基、２−メチル−２−ブテニル基、１−ヘキセニル基、２−ヘキセニル基、３−ヘキセニル基、４−ヘキセニル基、５−ヘキセニル基、１−ヘプテニル基、６−ヘプテニル基、１−オクテニル基、７−オクテニル基、１−デセニル基、９−デセニル基、１−ドデセニル基、４−ドデセニル基、１−オクタデセニル基、２−エチル−１−オクタデセニル基等が挙げられる。これらのうち、Ｃ２〜６アルケニル基が好ましい。
「Ｃ２〜２０アルケニル基」としては、ビニル基、１−プロペニル基、アリル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、１−メチル−２−プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基、１−ペンテニル基、２−ペンテニル基、３−ペンテニル基、４−ペンテニル基、１−メチル−２−ブテニル基、２−メチル−２−ブテニル基、１−ヘキセニル基、２−ヘキセニル基、３−ヘキセニル基、４−ヘキセニル基、５−ヘキセニル基、１−ヘプテニル基、６−ヘプテニル基、１−オクテニル基、７−オクテニル基、１−デセニル基、９−デセニル基、１−ドデセニル基、４−ドデセニル基、１−オクタデセニル基、２−エチル−１−オクタデセニル基等が挙げられる。これらのうち、Ｃ２〜６アルケニル基が好ましい。
Ｒ2の「Ｃ２〜２０ハロアルケニル基」は、Ｃ２〜２０アルケニル基中の少なくとも一つの水素原子がハロゲン原子で置換されてなる基である。
「Ｃ２〜２０ハロアルケニル基」としては、３−クロロ−２−プロペニル基、４−クロロ−２−ブテニル基、４，４−ジクロロ−３−ブテニル基、４，４−ジフルオロ−３−ブテニル基、３，３−ジクロロ−２−プロペニル基、２，３−ジクロロ−２−プロペニル基、３，３−ジフルオロ−２−プロペニル基、２，４，６−トリクロロ−２−ヘキセニル基、３−エチル−２，４，６−トリフルオロ−２−ヘキセニル基等が挙げられる。これらのうち、Ｃ２〜６ハロアルケニル基が好ましい。
「Ｃ２〜２０ハロアルケニル基」としては、３−クロロ−２−プロペニル基、４−クロロ−２−ブテニル基、４，４−ジクロロ−３−ブテニル基、４，４−ジフルオロ−３−ブテニル基、３，３−ジクロロ−２−プロペニル基、２，３−ジクロロ−２−プロペニル基、３，３−ジフルオロ−２−プロペニル基、２，４，６−トリクロロ−２−ヘキセニル基、３−エチル−２，４，６−トリフルオロ−２−ヘキセニル基等が挙げられる。これらのうち、Ｃ２〜６ハロアルケニル基が好ましい。
Ｒ2の「Ｃ２〜２０アルキニル基」は、炭素―炭素三重結合を少なくとも一つ有する炭素数２〜２０の直鎖または分岐鎖の不飽和炭化水素基を意味する。
「Ｃ２〜２０アルキニル基」としては、エチニル基、１−プロピニル基、プロパルギル基、１−ブチニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、１−メチル−２−プロピニル基、２−メチル−３−ブチニル基、１−ペンチニル基、２−ペンチニル基、３−ペンチニル基、４−ペンチニル基、１−メチル−２−ブチニル基、２−メチル−３−ペンチニル基、１−ヘキシニル基、１，１−ジメチル−２−ブチニル基、ドデシニル基、ブタデシニル基、ヘプタデシニル基、４−エチルヘキサデシニル基等が挙げられる。これらのうち、Ｃ２〜６アルキニル基が好ましい。
「Ｃ２〜２０アルキニル基」としては、エチニル基、１−プロピニル基、プロパルギル基、１−ブチニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、１−メチル−２−プロピニル基、２−メチル−３−ブチニル基、１−ペンチニル基、２−ペンチニル基、３−ペンチニル基、４−ペンチニル基、１−メチル−２−ブチニル基、２−メチル−３−ペンチニル基、１−ヘキシニル基、１，１−ジメチル−２−ブチニル基、ドデシニル基、ブタデシニル基、ヘプタデシニル基、４−エチルヘキサデシニル基等が挙げられる。これらのうち、Ｃ２〜６アルキニル基が好ましい。
Ｒ2の「Ｃ２〜２０ハロアルキニル基」は、Ｃ２〜２０アルキニル基中の少なくとも一つの水素原子がハロゲン原子で置換されてなる基である。
「Ｃ２〜２０ハロアルキニル基」としては、３−クロロ−１−プロピニル基、３−クロロ−１−ブチニル基、３−ブロモ−１−ブチニル基、３−ブロモ−２−プロピニル基、３−ヨード−２−プロピニル基、５、５−ジクロロ−２−メチル−３−ペンチニル基、３−ブロモ−１−ヘキシニル基、４−クロロ−１，１−ジメチル−２−ブチニル基、４，４，６，６−テトラフロロ−１−ドデシニル基等が挙げられる。これらのうち、Ｃ２〜６ハロアルキニル基が好ましい。
「Ｃ２〜２０ハロアルキニル基」としては、３−クロロ−１−プロピニル基、３−クロロ−１−ブチニル基、３−ブロモ−１−ブチニル基、３−ブロモ−２−プロピニル基、３−ヨード−２−プロピニル基、５、５−ジクロロ−２−メチル−３−ペンチニル基、３−ブロモ−１−ヘキシニル基、４−クロロ−１，１−ジメチル−２−ブチニル基、４，４，６，６−テトラフロロ−１−ドデシニル基等が挙げられる。これらのうち、Ｃ２〜６ハロアルキニル基が好ましい。
Ｒ2の「Ｃ１〜２０アルコキシ基」は、水酸基中の水素原子がＣ１〜２０アルキル基で置換されてなる基である。
「Ｃ１〜２０アルコキシ基」としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、１−エチルプロポキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、イソヘキシルオキシ基、４−メチルペントキシ基、３−メチルペントキシ基、２−メチルペントキシ基、１−メチルペントキシ基、３，３−ジメチルブトキシ基、２，２−ジメチルブトキシ基、１，１−ジメチルブトキシ基、１，２−ジメチルブトキシ基、１，３−ジメチルブトキシ基、２，３−ジメチルブトキシ基、１−エチルブトキシ基、２−エチルブトキシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキシ基、２−エチルデシルオキシ基、ラウリルオキシ基等が挙げられる。これらのうち、Ｃ１〜６アルコキシ基が好ましい。
「Ｃ１〜２０アルコキシ基」としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、１−エチルプロポキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、イソヘキシルオキシ基、４−メチルペントキシ基、３−メチルペントキシ基、２−メチルペントキシ基、１−メチルペントキシ基、３，３−ジメチルブトキシ基、２，２−ジメチルブトキシ基、１，１−ジメチルブトキシ基、１，２−ジメチルブトキシ基、１，３−ジメチルブトキシ基、２，３−ジメチルブトキシ基、１−エチルブトキシ基、２−エチルブトキシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキシ基、２−エチルデシルオキシ基、ラウリルオキシ基等が挙げられる。これらのうち、Ｃ１〜６アルコキシ基が好ましい。
Ｒ2の「Ｃ１〜２０ハロアルコキシ基」は、Ｃ１〜２０アルコキシ基中の少なくとも一つの水素原子がハロゲン原子で置換されてなる基である。
「Ｃ１〜２０ハロアルコキシ基」としては、クロロメトキシ基、ジクロロメトキシ基、トリクロロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、１−フルオロエトキシ基、１，１−ジフルオロエトキシ基、２，２，２−トリフルオロエトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、４，５−ジクロロ−３−メチルペントキシ基、２−フロロ−２−エチルデシルオキシ基、１−クロロラウリルオキシ基等が挙げられる。これらのうち、Ｃ１〜６ハロアルコキシ基が好ましい。
「Ｃ１〜２０ハロアルコキシ基」としては、クロロメトキシ基、ジクロロメトキシ基、トリクロロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、１−フルオロエトキシ基、１，１−ジフルオロエトキシ基、２，２，２−トリフルオロエトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、４，５−ジクロロ−３−メチルペントキシ基、２−フロロ−２−エチルデシルオキシ基、１−クロロラウリルオキシ基等が挙げられる。これらのうち、Ｃ１〜６ハロアルコキシ基が好ましい。
Ｒ2の「Ｃ３〜２０シクロアルキル基」は、飽和脂環構造を有する炭素数３〜２０の炭化水素基である。
「Ｃ３〜２０シクロアルキル基」としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロプロピルメチル基、２−シクロプロピルエチル基、２，３，３−トリメチルシクロブチル基、シクロペンチルメチル基、２−シクロヘキシルエチル基、２−シクロオクチルエチル基、４，４，６，６−テトラメチルシクロヘキシル基、１，３−ジブチルシクロヘキシル基、ノルボルニル基、ビシクロ［２．２．２］オクチル基、アダマンチル基等が挙げられる。これらのうち、Ｃ３〜６シクロアルキル基が好ましい。
「Ｃ３〜２０シクロアルキル基」としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロプロピルメチル基、２−シクロプロピルエチル基、２，３，３−トリメチルシクロブチル基、シクロペンチルメチル基、２−シクロヘキシルエチル基、２−シクロオクチルエチル基、４，４，６，６−テトラメチルシクロヘキシル基、１，３−ジブチルシクロヘキシル基、ノルボルニル基、ビシクロ［２．２．２］オクチル基、アダマンチル基等が挙げられる。これらのうち、Ｃ３〜６シクロアルキル基が好ましい。
Ｒ2の「Ｃ４〜２０シクロアルケニル基」は、炭素―炭素二重結合を含む不飽和脂環構造を有する炭素数４〜２０の炭化水素基である。
「Ｃ４〜２０シクロアルケニル基」としては、１−シクロブテニル基、１−シクロペンテニル基、３−シクロペンテニル基、１−シクロヘキセニル基、３−シクロヘキセニル基、３−シクロヘプテニル基、４−シクロオクテニル基、２−メチル−３−シクロヘキサセニル基、３，４−ジメチル−３−シクロヘキセニル基、シクロペンテニルメチル基、３−シクロペンタテニルメチル基、３−シクロヘキセニルメチル基、２−（３−シクロヘキセニル）エチル基等が挙げられる。これらのうち、Ｃ４〜８シクロアルケニル基が好ましい。
「Ｃ４〜２０シクロアルケニル基」としては、１−シクロブテニル基、１−シクロペンテニル基、３−シクロペンテニル基、１−シクロヘキセニル基、３−シクロヘキセニル基、３−シクロヘプテニル基、４−シクロオクテニル基、２−メチル−３−シクロヘキサセニル基、３，４−ジメチル−３−シクロヘキセニル基、シクロペンテニルメチル基、３−シクロペンタテニルメチル基、３−シクロヘキセニルメチル基、２−（３−シクロヘキセニル）エチル基等が挙げられる。これらのうち、Ｃ４〜８シクロアルケニル基が好ましい。
Ｒ2の「Ｃ８〜２０シクロアルキニル基」は、炭素―炭素三重結合を含む不飽和脂環構造を有する炭素数８〜２０の炭化水素基である。
「Ｃ８〜２０シクロアルキニル基」としては、５−シクロオクチニル基、６−シクロデシニル基、７−シクロドデシニル基、２，３−ジエチル−４−シクロデシニル基、５−シクロオクチニルメチル基等が挙げられる。これらのうち、Ｃ８〜１２シクロアルキニル基が好ましい。
「Ｃ８〜２０シクロアルキニル基」としては、５−シクロオクチニル基、６−シクロデシニル基、７−シクロドデシニル基、２，３−ジエチル−４−シクロデシニル基、５−シクロオクチニルメチル基等が挙げられる。これらのうち、Ｃ８〜１２シクロアルキニル基が好ましい。
Ｒ2の「Ｃ１〜２０アシル基」は、水素原子、直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基、アリール基またはへテロアリール基がカルボニル基と結合してなる炭素数１〜２０を有する基である。
「Ｃ１〜２０アシル基」としては、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ｎ−プロピルカルボニル基、ｉ−プロピルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、ｉ−ブチルカルボニル基、ペンタノイル基、ピバロイル基、バレリル基、イソバレリル基、オクタノイル基、ノナノイル基、デカノイル基、３−メチルノナノイル基、８−メチルノナノイル基、３−エチルオクタノイル基、３，７−ジメチルオクタノイル基、ウンデカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ペンタデカノイル基、ヘキサデカノイル基、１−メチルペンタデカノイル基、１４−メチルペンタデカノイル基、１３，１３−ジメチルテトラデカノイル基、ヘプタデカノイル基、１５−メチルヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基、１−メチルヘプタデカノイル基、ノナデカノイル基、アイコサノイル基及びヘナイコサノイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、ビフェニルカルボニル基、アントラニルカルボニル基、２−ピリジルカルボニル基、チエニルカルボニル基等が挙げられる。これらのうち、Ｃ１〜６アシル基が好ましい。
「Ｃ１〜２０アシル基」としては、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ｎ−プロピルカルボニル基、ｉ−プロピルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、ｉ−ブチルカルボニル基、ペンタノイル基、ピバロイル基、バレリル基、イソバレリル基、オクタノイル基、ノナノイル基、デカノイル基、３−メチルノナノイル基、８−メチルノナノイル基、３−エチルオクタノイル基、３，７−ジメチルオクタノイル基、ウンデカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ペンタデカノイル基、ヘキサデカノイル基、１−メチルペンタデカノイル基、１４−メチルペンタデカノイル基、１３，１３−ジメチルテトラデカノイル基、ヘプタデカノイル基、１５−メチルヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基、１−メチルヘプタデカノイル基、ノナデカノイル基、アイコサノイル基及びヘナイコサノイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、ビフェニルカルボニル基、アントラニルカルボニル基、２−ピリジルカルボニル基、チエニルカルボニル基等が挙げられる。これらのうち、Ｃ１〜６アシル基が好ましい。
Ｒ2の「Ｃ１〜２０アルコキシカルボニル基」はＣ１〜２０アルコキシ基がカルボニル基と結合した基である。
「Ｃ１〜２０アルコキシカルボニル基」としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、ｉ−プロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｉ−ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−ペンチルオキシカルボニル基、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル基、デシルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基、２−エチルデシルオキシカルボニル基、ラウリルオキシカルボニル基等が挙げられる。これらのうち、Ｃ１〜６アルコキシカルボニル基が好ましい。
「Ｃ１〜２０アルコキシカルボニル基」としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、ｉ−プロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｉ−ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−ペンチルオキシカルボニル基、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル基、デシルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基、２−エチルデシルオキシカルボニル基、ラウリルオキシカルボニル基等が挙げられる。これらのうち、Ｃ１〜６アルコキシカルボニル基が好ましい。
Ｒ2の、「Ｃ６〜１０アリール基」、「ヘテロアリール基」、「アラルキル基」または「ヘテロアラルキル基」はＲ1で例示したものと同様のものが挙げられる。
前記「置換基を有するＣ６〜１０アリール基」、「置換基を有するヘテロアリール基」、「置換基を有するアラルキル基」、及び「置換基を有するヘテロアラルキル基」における「置換基」としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、２−メチルブチル基、２，２−ジメチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基のＣ１〜６アルキル基；メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基等のＣ１〜６アルコキシ基；クロロメトキシ基、ジクロロメトキシ基、トリクロロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、１−フルオロエトキシ基、１，１−ジフルオロエトキシ基、２，２，２−トリフルオロエトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、４，５−ジクロロ−３−メチルペントキシ基等のＣ１〜６ハロアルコキシ基；メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、ｉ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｉ−ブチルチオ基、ｓ−ブチルチオ基、ｔ−ブチルチオ基等のＣ１〜６アルキルチオ基；メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｎ−プロピルスルホニル基、ｎ−ブチルスルホニル基等のＣ１〜６アルキルスルホニル基；クロロメチル基、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基等のＣ１〜６ハロアルキル基；メチルスルホニルオキシ基、エチルスルホニルオキシ基、ｎ−プロピルスルホニルオキシ基、ｔ−ブチルスルホニルオキシ基等のＣ１〜６アルキルスルホニルオキシ基；等が挙げられる。
式（Ｉ）中、Ｒ3〜Ｒ6は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜２０アルキル基、Ｃ１〜２０ハロアルキル基、Ｃ２〜２０アルケニル基、Ｃ２〜２０ハロアルケニル基、Ｃ２〜２０アルキニル基、Ｃ２〜２０ハロアルキニル基、Ｃ１〜２０アルコキシ基、Ｃ１〜２０ハロアルコキシ基、Ｃ３〜２０シクロアルキル基、Ｃ３〜２０シクロアルコキシ基、Ｃ２〜２０アルケニルオキシ基、Ｃ２〜２０アルキニルオキシ基、Ｃ１〜２０アルキルチオ基、シアノ基、ニトロ基、無置換若しくは置換基を有するアミノ基、水酸基、チオール基、無置換若しくは置換基を有するフェニル基、無置換若しくは置換基を有するアラルキル基、無置換若しくは置換基を有するアリールオキシ基、または無置換若しくは置換基を有するヘテロ環基を示す。但し、Ｒ5とＲ6は、同時に水素原子であることはない。
Ｒ3〜Ｒ6の、ハロゲン原子、Ｃ１〜２０アルキル基、Ｃ１〜２０ハロアルキル基、Ｃ２〜２０アルケニル基、Ｃ２〜２０ハロアルケニル基、Ｃ２〜２０アルキニル基、Ｃ２〜２０ハロアルキニル基、Ｃ１〜２０アルコキシ基、Ｃ１〜２０ハロアルコキシ基、Ｃ３〜２０シクロアルキル基、無置換若しくは置換基を有するアラルキル基の具体例としては、前記のＲ2の具体例として列記したものと同様のものが挙げられる。
Ｒ3〜Ｒ6の「Ｃ３〜２０シクロアルコキシ基」は、水酸基中の水素原子がＣ３〜２０シクロアルキル基で置換されてなる基である。
「Ｃ３〜２０シクロアルコキシ基」としては、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロヘプチルオキシ基、シクロオクチルオキシ基、シクロプロピルメチルオキシ基、２−シクロペンチルエチルオキシ基、２−メチルシクロプロピルオキシ基、２−エチルシクロプロピルオキシ基、２，３，３−トリメチルシクロブチルオキシ基、２−メチルシクロペンチルオキシ基、２−エチルシクロヘキシルオキシ基、２−エチルシクロオクチルオキシ基、４，４，６，６−テトラメチルシクロヘキシルオキシ基、１，３−ジブチルシクロヘキシルオキシ基等が挙げられる。これらのうち、Ｃ３〜６シクロアルコキシ基が好ましい。
「Ｃ３〜２０シクロアルコキシ基」としては、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロヘプチルオキシ基、シクロオクチルオキシ基、シクロプロピルメチルオキシ基、２−シクロペンチルエチルオキシ基、２−メチルシクロプロピルオキシ基、２−エチルシクロプロピルオキシ基、２，３，３−トリメチルシクロブチルオキシ基、２−メチルシクロペンチルオキシ基、２−エチルシクロヘキシルオキシ基、２−エチルシクロオクチルオキシ基、４，４，６，６−テトラメチルシクロヘキシルオキシ基、１，３−ジブチルシクロヘキシルオキシ基等が挙げられる。これらのうち、Ｃ３〜６シクロアルコキシ基が好ましい。
Ｒ3〜Ｒ6の「Ｃ２〜２０アルケニルオキシ基」は、水酸基中の水素原子がＣ２〜２０アルケニル基で置換されてなる基である。
「Ｃ２〜２０アルケニルオキシ基」としては、ビニルオキシ基、１−プロペニルオキシ基、２−プロペニルオキシ基、１−ブテニルオキシ基、２−ブテニルオキシ基、３−ブテニルオキシ基、１−メチル−２−プロペニルオキシ基、２−メチル−２−プロペニルオキシ基、１−ペンテニルオキシ基、２−ペンテニルオキシ基、３−ペンテニルオキシ基、４−ペンテニルオキシ基、１−メチル−２−ブテニルオキシ基、２−メチル−２−ブテニルオキシ基、１−ヘキセニルオキシ基、２−ヘキセニルオキシ基、３−ヘキセニルオキシ基、４−ヘキセニルオキシ基、５−ヘキセニルオキシ基、１−ヘプテニルオキシ基、６−ヘプテニルオキシ基、１−オクテニルオキシ基、７−オクテニルオキシ基、１−デセニルオキシ基、９−デセニルオキシ基、１−ドデセニルオキシ基、４−ドデセニルオキシ基、１−オクタデセニルオキシ基、２−エチル−１−オクタデセニルオキシ基等が挙げられる。これらのうち、Ｃ２〜６アルケニルオキシ基が好ましい。
「Ｃ２〜２０アルケニルオキシ基」としては、ビニルオキシ基、１−プロペニルオキシ基、２−プロペニルオキシ基、１−ブテニルオキシ基、２−ブテニルオキシ基、３−ブテニルオキシ基、１−メチル−２−プロペニルオキシ基、２−メチル−２−プロペニルオキシ基、１−ペンテニルオキシ基、２−ペンテニルオキシ基、３−ペンテニルオキシ基、４−ペンテニルオキシ基、１−メチル−２−ブテニルオキシ基、２−メチル−２−ブテニルオキシ基、１−ヘキセニルオキシ基、２−ヘキセニルオキシ基、３−ヘキセニルオキシ基、４−ヘキセニルオキシ基、５−ヘキセニルオキシ基、１−ヘプテニルオキシ基、６−ヘプテニルオキシ基、１−オクテニルオキシ基、７−オクテニルオキシ基、１−デセニルオキシ基、９−デセニルオキシ基、１−ドデセニルオキシ基、４−ドデセニルオキシ基、１−オクタデセニルオキシ基、２−エチル−１−オクタデセニルオキシ基等が挙げられる。これらのうち、Ｃ２〜６アルケニルオキシ基が好ましい。
Ｒ3〜Ｒ6の「Ｃ２〜２０アルキニルオキシ基」は、水酸基中の水素原子がＣ２〜２０アルキニル基で置換されてなる基である。
「Ｃ２〜２０アルキニルオキシ基」としては、エチニルオキシ基、プロピニルオキシ基、プロパルギルオキシ基、１−ブチニルオキシ基、２−ブチニルオキシ基、３−ブチニルオキシ基、１−メチル−２−プロピニルオキシ基、２−メチル−３−ブチニルオキシ基、１−ペンチニルオキシ基、２−ペンチニルオキシ基、３−ペンチニルオキシ基、４−ペンチニルオキシ基、１−メチル−２−ブチニルオキシ基、２−メチル−３−ペンチニルオキシ基、１−ヘキシニルオキシ基、１，１−ジメチル−２−ブチニルオキシ基、ドデシニルオキシ基、ブタデシニルオキシ基、ヘプタデシニルオキシ基、４−エチルヘキサデシニルオキシ基等が挙げられる。これらのうち、Ｃ２〜６アルキニルオキシ基が好ましい。
「Ｃ２〜２０アルキニルオキシ基」としては、エチニルオキシ基、プロピニルオキシ基、プロパルギルオキシ基、１−ブチニルオキシ基、２−ブチニルオキシ基、３−ブチニルオキシ基、１−メチル−２−プロピニルオキシ基、２−メチル−３−ブチニルオキシ基、１−ペンチニルオキシ基、２−ペンチニルオキシ基、３−ペンチニルオキシ基、４−ペンチニルオキシ基、１−メチル−２−ブチニルオキシ基、２−メチル−３−ペンチニルオキシ基、１−ヘキシニルオキシ基、１，１−ジメチル−２−ブチニルオキシ基、ドデシニルオキシ基、ブタデシニルオキシ基、ヘプタデシニルオキシ基、４−エチルヘキサデシニルオキシ基等が挙げられる。これらのうち、Ｃ２〜６アルキニルオキシ基が好ましい。
Ｒ3〜Ｒ6の「Ｃ１〜２０アルキルチオ基」は、チオール基中の水素原子がＣ１〜２０アルキル基で置換されてなる基である。
「Ｃ１〜２０アルキルチオ基」としては、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、ｉ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｔ−ブチルチオ基、ペンチルチオ基、イソペンチルチオ基、２−メチルブチルチオ基、ネオペンチルチオ基、１−エチルプロピルチオ基、ヘキシルチオ基、イソヘキシルチオ基、４−メチルペンチルチオ基、３−メチルペンチルチオ基、２−メチルペンチルチオ基、１−メチルペンチルチオ基、３，３−ジメチルブチルチオ基、２，２−ジメチルブチルチオ基、１，１−ジメチルブチルチオ基、１，２−ジメチルブチルチオ基、１，３−ジメチルブチルチオ基、２，３−ジメチルブチルチオ基、２−エチルブチルチオ基、３−エチルオクチルチオ基、２，３−ジメチルオクチルチオ基、４−プロピルオクチルチオ基、ドデシルチオ基、４−エチルデシルチオ基、６−エチルドデシルチオ基、３，５−ジメチルデシルチオ基、２，５−ジメチルデシルチオ基、６−プロピルノニルチオ基、４−ブチルオクチルチオ基、トリデシルチオ基、テトラデシルチオ基、２，４，６，８−テトラメチルデシルチオ基、２，２−ジエチルデシルチオ基、２，５−ジエチルデシルチオ基、４−ブチルデシルチオ基、ペンタデシルチオ基、ヘキサデシルチオ基、ヘプタデシルチオ基、オクタデシルチオ基、２，４，６，８−テトラエチルデシルチオ基、ノナデシルチオ基、イコシルチオ基等が挙げられる。これらのうち、Ｃ１〜６アルキルチオ基が好ましい。
「Ｃ１〜２０アルキルチオ基」としては、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、ｉ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｔ−ブチルチオ基、ペンチルチオ基、イソペンチルチオ基、２−メチルブチルチオ基、ネオペンチルチオ基、１−エチルプロピルチオ基、ヘキシルチオ基、イソヘキシルチオ基、４−メチルペンチルチオ基、３−メチルペンチルチオ基、２−メチルペンチルチオ基、１−メチルペンチルチオ基、３，３−ジメチルブチルチオ基、２，２−ジメチルブチルチオ基、１，１−ジメチルブチルチオ基、１，２−ジメチルブチルチオ基、１，３−ジメチルブチルチオ基、２，３−ジメチルブチルチオ基、２−エチルブチルチオ基、３−エチルオクチルチオ基、２，３−ジメチルオクチルチオ基、４−プロピルオクチルチオ基、ドデシルチオ基、４−エチルデシルチオ基、６−エチルドデシルチオ基、３，５−ジメチルデシルチオ基、２，５−ジメチルデシルチオ基、６−プロピルノニルチオ基、４−ブチルオクチルチオ基、トリデシルチオ基、テトラデシルチオ基、２，４，６，８−テトラメチルデシルチオ基、２，２−ジエチルデシルチオ基、２，５−ジエチルデシルチオ基、４−ブチルデシルチオ基、ペンタデシルチオ基、ヘキサデシルチオ基、ヘプタデシルチオ基、オクタデシルチオ基、２，４，６，８−テトラエチルデシルチオ基、ノナデシルチオ基、イコシルチオ基等が挙げられる。これらのうち、Ｃ１〜６アルキルチオ基が好ましい。
Ｒ3〜Ｒ6の「無置換若しくは置換基を有するアミノ基」としては、アミノ基；メチルアミノ基、エチルアミノ基等のモノアルキルアミノ基、好ましくはモノＣ１〜６アルキルアミノ基；ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等のジアルキルアミノ基、好ましくはジＣ１〜６アルキルアミノ基；フェニルアミノ基、４−メチルフェニルアミノ基等のモノアリールアミノ基、好ましくはモノＣ６〜１０アリールアミノ基；ジフェニルアミノ基、ジ１−ナフチルアミノ基等のジアリールアミノ基、好ましくはジＣ６〜１０アリールアミノ基；アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等のアシルアミノ基、好ましくはＣ１〜６アシルアミノ基等が挙げられる。
Ｒ3〜Ｒ6の「アリールオキシ基」は、水酸基中の水素原子がアリール基で置換されてなる基である。アリール基は単環のもの及び多環のものを含む。ここで、多環アリール基は、少なくとも一つの環が芳香環であれば、残りの環が飽和脂環、部分不飽和脂環または芳香環のいずれであってもよい。
「アリールオキシ基」としては、フェニルオキシ基、ナフチルオキシ基、アズレニルオキシ基、インデニルオキシ基、インダニルオキシ基、テトラリニルオキシ基等が挙げられる。これらのうち、Ｃ６〜１０アリールオキシ基、すなわち、水酸基中の水素原子がＣ６〜１０アリール基で置換されてなる基が好ましい。
「アリールオキシ基」としては、フェニルオキシ基、ナフチルオキシ基、アズレニルオキシ基、インデニルオキシ基、インダニルオキシ基、テトラリニルオキシ基等が挙げられる。これらのうち、Ｃ６〜１０アリールオキシ基、すなわち、水酸基中の水素原子がＣ６〜１０アリール基で置換されてなる基が好ましい。
Ｒ3〜Ｒ6の、「ヘテロ環基」は、環を構成する原子として炭素原子以外に窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選ばれる１〜４個の複素原子を含む５〜７員のヘテロアリール基、飽和へテロ環基、部分不飽和へテロ環基である。この場合、単環、または環同士が縮合した多環であってもよい。
「ヘテロ環基」としては、Ｒ１で例示した「ヘテロアリール基」、以外に以下の基を挙げることができる。
ピロリジン−１−イル基、ピロリジン−２−イル基、ピロリジン−３−イル基、テトラヒドロフラン−２−イル基、テトラヒドロフラン−３−イル基；
ピペリジン−１−イル基、ピペリジン−２−イル基、ピペリジン−３−イル基、ピペリジン−４−イル基、ピペラジン−１−イル基、ピペラジン−２−イル基、モルホリン−２−イル基、モルホリン−３−イル基、モルホリン−４−イル基；
ピロリジン−１−イル基、ピロリジン−２−イル基、ピロリジン−３−イル基、テトラヒドロフラン−２−イル基、テトラヒドロフラン−３−イル基；
ピペリジン−１−イル基、ピペリジン−２−イル基、ピペリジン−３−イル基、ピペリジン−４−イル基、ピペラジン−１−イル基、ピペラジン−２−イル基、モルホリン−２−イル基、モルホリン−３−イル基、モルホリン−４−イル基；
Ｒ3〜Ｒ6の「置換基を有するフェニル基」、「置換基を有するアリールオキシ基」、「置換基を有するアラルキル基」及び「置換基を有するヘテロ環基」における「置換基」としては、Ｒ1の「置換基を有するＣ６〜１０アリール基」等における「置換基」として例示したものと同様のものが挙げられる。
上記の例のほか、Ｒ4とＲ5、及びＲ5とＲ6は、一緒になって、それぞれが結合する炭素原子と共に、無置換若しくは置換基を有する５〜８員環を形成してもよい。「Ｒ4とＲ5、及びＲ5とＲ6は、一緒になって、それぞれが結合する炭素原子と共に、無置換若しくは置換基を有する５〜８員環を形成してもよい」とは、Ｒ4とＲ5及びＲ5とＲ6の両方が環を形成している場合、並びに、Ｒ4とＲ5、またはＲ5とＲ6のいずれか一方が環を形成している場合があってもよいことを意味する。
Ｒ4とＲ5及びＲ5とＲ6が一緒になって、それぞれが結合する炭素原子と共に形成する無置換若しくは置換基を有する５〜８員環としては、無置換若しくは置換基を有するシクロアルケン環、無置換若しくは置換基を有する芳香族炭化水素環または無置換若しくは置換基を有するヘテロ環が挙げられる。
シクロアルケン環としては、シクロペンテン環、シクロヘキセン環、シクロヘプテン環、シクロオクテン環等が挙げられる。
芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環が挙げられる。
ヘテロ環としては、ジヒドロピロール環、ジヒドロフラン環、ジヒドロチオフェン環、［１,３］ジオキソール環、［１,３］ジチオール環、［１,３］オキサチオール環、テトラヒドロピリジン環、ジヒドロピラン環、ジヒドロチオピラン環、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−［１，４］オキサジン環、２，３−ジヒドロ−［１，４］ジオキシン環、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−［１，４］チアジン環、２，３−ジヒドロ−［１，４］ジチイン環、ピロ−ル環、フラン環、チオフェン環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環等が挙げられる。
これらのうち、無置換若しくは置換基を有するベンゼン環が好ましい。
シクロアルケン環としては、シクロペンテン環、シクロヘキセン環、シクロヘプテン環、シクロオクテン環等が挙げられる。
芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環が挙げられる。
ヘテロ環としては、ジヒドロピロール環、ジヒドロフラン環、ジヒドロチオフェン環、［１,３］ジオキソール環、［１,３］ジチオール環、［１,３］オキサチオール環、テトラヒドロピリジン環、ジヒドロピラン環、ジヒドロチオピラン環、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−［１，４］オキサジン環、２，３−ジヒドロ−［１，４］ジオキシン環、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−［１，４］チアジン環、２，３−ジヒドロ−［１，４］ジチイン環、ピロ−ル環、フラン環、チオフェン環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環等が挙げられる。
これらのうち、無置換若しくは置換基を有するベンゼン環が好ましい。
Ｒ4とＲ5及びＲ5とＲ6が一緒になって形成する環に有することができる置換基は、Ｒ1の「置換基を有するＣ６〜１０アリール基」等における「置換基」として例示したものと同様のものが挙げられる。これらのうち、置換基として、ハロゲン原子、Ｃ１〜６アルキル基、またはＣ１〜６アルコキシ基が好ましい。
式（Ｉ）中、Ｘは、ハロゲン原子、ニトロ基、無置換若しくは置換基を有するアミノ基、水酸基、または有機基を示す。
「ハロゲン原子」としては、Ｒ2の「ハロゲン原子」として例示したものと同様のものが挙げられる。「アミノ基」としては、Ｒ3の「アミノ基」として例示したものと同様のものが挙げられる。
「ハロゲン原子」としては、Ｒ2の「ハロゲン原子」として例示したものと同様のものが挙げられる。「アミノ基」としては、Ｒ3の「アミノ基」として例示したものと同様のものが挙げられる。
「有機基」は、炭素原子を含む原子団であれば、特に限定されない。例えば、シアノ基； ホルミル基、アセチル基、ベンゾイル基等のＣ１〜７アシル基； メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基等のＣ１〜６アルキル基； ビニル基、プロペニル基、イソプロペニル基、２−ブテニル基等のＣ２〜６アルケニル基； プロパルギル基、３−ブチニル基等のＣ２〜６アルキニル基； トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基等のＣ１〜６ハロアルキル基； シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のＣ３〜８シクロアルキル基； ２−クロロシクロプロピル基、２，２−ジクロロシクロプロピル基、３−クロロシクロペンチル基、４−ブロモシクロヘキシル基等のＣ３〜８ハロシクロアルキル基； メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基等のＣ１〜６アルコキシ基； トリクロロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基等のＣ１〜６ハロアルコキシ基；
メチルスルホニル基、エチルスルホニル基等のＣ１〜６アルキルスルホニル基； クロロメチルスルホニル基、トリクロロメチルスルホニル基等のＣ１〜６ハロアルキルスルホニル基； メチルスルホニルオキシ基、エチルスルホニルオキシ基等のＣ１〜６アルキルスルホニルオキシ基； フェニルスルホニル基、４−メチルフェニルスルホニル基等の無置換若しくは置換基を有するフェニルスルホニル基； フェニルスルホニルオキシ基、４−メチルフェニルスルホニルオキシ基等の無置換若しくは置換基を有するフェニルスルホニルオキシ基； メチルチオ基、エチルチオ基等のＣ１〜６アルキルチオ基； クロロメチルチオ基、トリクロロメチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基等のＣ１〜６ハロアルキルチオ基； フェニルチオ基、４−メチルフェニルチオ基等の無置換若しくは置換基を有するフェニルチオ基； メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基等のＣ１〜６アルキルスルフィニル基； ハロメチルスルフィニル基、ハロエチルスルフィニル基等のＣ１〜６ハロアルキルスルフィニル基； フェニルスルフィニル基等の無置換若しくは置換基を有するフェニルスルフィニル基；
−Ｎ＝ＣＨＯＨ、−Ｎ＝Ｃ（ＣＦ3）（ＯcＰｒ） 〔cＰｒはシクロプロピル基を表す。以下同じ〕、−Ｎ＝Ｃ〔ＮＥｔ2〕ＯＥｔ等の−Ｎ＝Ｃ（Ｒ10）ＯＲ11で表される基； −Ｃ(＝Ｏ)Ｎ（Ｍｅ）Ｅｔ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＣＦ3）Ｐｈ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（cＰｒ）Ｅｔ等の−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ10）（Ｒ11）で表される基； −ＣＯ2Ｍｅ、−ＣＯ2ＣＣｌ3、−ＣＯ2Ｐｈ、−ＣＯ2（cＰｒ）等の−ＣＯ2Ｒ10で表される基； −Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｍｅ）Ｅｔ、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（ＣＦ3）Ｐｈ、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（cＰｒ）Ｅｔ等の−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｒ10）（Ｒ11）で表される基； −ＳｉＭｅ3、−ＳｉＰｈ3、−Ｓｉ(Ｍｅ)2 ｔＢｕ 〔ｔＢｕはｔ−ブチル基を表す。以下同じ。〕等の−Ｓｉ（Ｒ12）（Ｒ13）（Ｒ14）で表される基； フェニル基、４−メチルフェニル基、２−フルオロフェニル基、２，４−ジクロロフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基等の無置換若しくは置換基を有するアリール基； 前記Ｒ3〜Ｒ6の無置換若しくは置換基を有するヘテロ環基として例示したものと同様のもの；等が挙げられる。これらのうち、Ｃ１〜６アルキル基、Ｃ１〜６ハロアルキル基が好ましい。
有機基の例示の中で、「無置換若しくは置換基を有する」の「置換基」は、前記Ｒ1の「置換基を有するＣ６〜１０アリール基」等の置換基として例示したのと同様のものが挙げられる。
また、有機基の例示の中で、Ｒ10〜Ｒ14は、それぞれ独立して、水素原子；水酸基；チオール基；メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基等のＣ１〜６アルキル基；トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基等のＣ１〜６ハロアルキル基；ビニル基、イソプロペニル基、２−ブテニル基等のＣ２〜６アルケニル基；アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、フェニルアミノ基、４−メチルフェニルアミノ基、ジフェニルアミノ基、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等の無置換若しくは置換基を有するアミノ基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のＣ３〜８シクロアルキル基；フェニル基、２−クロロフェニル基、４−メチルフェニル基等の無置換若しくは置換基を有するフェニル基等を表す。
また、有機基の例示の中で、Ｒ10〜Ｒ14は、それぞれ独立して、水素原子；水酸基；チオール基；メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基等のＣ１〜６アルキル基；トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基等のＣ１〜６ハロアルキル基；ビニル基、イソプロペニル基、２−ブテニル基等のＣ２〜６アルケニル基；アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、フェニルアミノ基、４−メチルフェニルアミノ基、ジフェニルアミノ基、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等の無置換若しくは置換基を有するアミノ基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のＣ３〜８シクロアルキル基；フェニル基、２−クロロフェニル基、４−メチルフェニル基等の無置換若しくは置換基を有するフェニル基等を表す。
式（Ｉ）中、ｎは、０〜４のいずれかの整数を表す。Ｚは、酸素原子または硫黄原子を表す。なお、式（Ｉ）中の、Ｚと窒素を含む環の部分は、２Ｈ−１，３−ベンゾオキサジン環または２Ｈ−１，３−ベンゾチアジン環である。
（製造法）
（製造法１）
本発明の含窒素複素環化合物またはその塩は、公知の方法により製造することができるが、例えば、下記のようにして製造することができる（特開平５−９７８２４号公報、Chem. Pharm. Bull. 1996, 44, 734-745、J. Med. Chem. 2007, 50, 2647-2654などを参照。）。
（製造法１）
本発明の含窒素複素環化合物またはその塩は、公知の方法により製造することができるが、例えば、下記のようにして製造することができる（特開平５−９７８２４号公報、Chem. Pharm. Bull. 1996, 44, 734-745、J. Med. Chem. 2007, 50, 2647-2654などを参照。）。
式(II)（式中、Ｘ、ｎ、Ｚ、Ｒ1、Ｒ2は前記式（Ｉ）における定義と同じである。Ｅは、ハロゲン原子または、エステル化された水酸基を示す。）で表わされる化合物と、
式（III）（式中、Ｒ3〜Ｒ6は前記式（Ｉ）における定義と同じである。Ｍは脱離基を示す）で表される化合物を反応させることにより製造することができる。
式（II）中、Ｅで表されるハロゲン原子としては、好ましくは塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子が挙げられ、Ｅで表されるエステル化された水酸基としては、好ましくはトリフルオロメタンスルホニル、メタンスルホニル、ｐ−トルエンスルホニルなどの反応性基でエステル化された水酸基が挙げられる。
式（III）中、Ｍで表される脱離基としては、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃａ（１／２）、ＭｇＣｌ、ＭｇＢｒ、ＭｇＩ、ＺｎＣｌ、ＳｎＣｌ、Ｓｎ（ｎＢｕ）3、ＣｒＣｌ2、ＣｕＣｌ、ＣｕＢｒ、ＮｉＣｌ、ＰｄＣｌ、Ｂ(ＯＨ)2などが挙げられる。
反応は、不活性溶媒、たとえばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、ヘキサン、トルエン、ベンゼン、メチレンクロリド、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、ＤＭＦ、ＤＭＳＯなど、あるいはこれらの混合溶媒の中で、約−５０℃〜５０℃の温度範囲で行なうことができる。また、反応は、好ましくは、不活性ガス（たとえば、窒素、アルゴンなど）雰囲気下で行なうことができる。必要に応じて、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（Ｏ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）ニッケル（Ｏ）などを触媒として添加することにより、円滑に反応を進行させることができる。
出発物質である式（II）で表される化合物は、市販の化合物であってもよいし、または実施例に示す方法により製造したものであってもよい。
また、式（III）で表される化合物は、例えば、
また、式（III）で表される化合物は、例えば、
式（III’）（式中、Ｒ3〜Ｒ6は前記定義と同じである。Ｗは水素またはハロゲン原子（Ｃｌ、ＢｒまたはＩ）を示す。）で表わされる化合物と前記脱離基Ｍの出発物質である化合物とを、前記の不活性溶媒中、約−７８℃〜７０℃の温度範囲で、好ましくは、不活性ガス雰囲気下で反応させることによって得ることができる。式(III')で表される化合物から合成された式（III）で表される化合物は、精製してもよいが、反応系から単離することなく、そのまま式(II)の化合物と反応させて式（Ｉ）の化合物を製造することができる。
さらに、式（Ｉ）で表わされる化合物中のＸ及びＲ1〜Ｒ6は、例えば、以下の公知の方法により他の置換基に変換することができる。たとえば、水素原子をハロゲン化することによってハロゲン原子に置換し、または、ニトロ化することによってニトロ基に；そしてニトロ基の還元によってアミノ基に；アミノ基のアシル化あるいはスルホン化によってアシルアミノ基あるいはスルホニルアミノ基に導くこともできる。シアノ基は、たとえば水酸化ナトリウム水溶液／３０％過酸化水素水で処理することによってカルバモイル基に；ピリジン／トリエチルアミン中で硫化水素を使用することによってチオカルバモイル基に換えることもできる。また、シアノ基は、たとえば、水酸化ナトリウム水溶液中で加温して加水分解することによってカルボキシル基に；またはリン酸ナトリウムの存在下、水／酢酸／ピリジン中でラネーニッケルを使用することによってホルミル基に変換することもできる。ホルミル基は、ヴィッティヒ（Ｗｉｔｔｉｇ）反応によってビニル基に；ヒドロキシアミンとの反応によってヒドロキシイミノメチル基などに変換できる。水酸基は、アルキル化することによってアルコキシ基に；アシル化することによってアシルオキシ基に；アルキル水酸基は、硫酸／硝酸によってニトロキシアルキル基に変換することもできる。
（製造法２）
式（Ｉ）のＺが酸素原子の場合には、下記の方法により製造することができる（特開平５−９７８２４号公報などを参照）。
式（Ｉ）のＺが酸素原子の場合には、下記の方法により製造することができる（特開平５−９７８２４号公報などを参照）。
式（IV）（式中、Ｘ、ｎは前記定義と同じ。Ｍ’は脱離基、Ｙは水酸基の保護基を示す）で表される化合物と、
式（Ｖ）（式中、Ｒ3〜Ｒ6は前記定義と同じ。Ｍ’は脱離基を示す）で表される化合物を反応させた後、公知の方法により脱保護して、
式（VI）（式中、Ｘ、ｎ、Ｒ3〜Ｒ6は前記定義と同じ）で表されるイミノ化合物を得、さらに酸触媒の存在下、
式（VII）（式中、Ｒ1及びＲ2は式（Ｉ）における定義と同じ。Ｒはメチルあるいはエチル基を示す）で表される化合物と反応させることにより製造することができる。
式(VI)で表されるイミノ化合物は、
式（VIII）（式中、Ｘ、ｎ、Ｒ3〜Ｒ6は前記定義と同じ）で表されるヒドロキシケトン化合物をアンモニアと反応させることにより得ることができる。
別法として、本発明の式（Ｉ）で表される含窒素複素環化合物は、酸触媒の存在下、式（VIII）で表されるヒドロキシケトン化合物と、式（VII)で表される化合物と、アンモニアを一挙に反応させることによっても製造することができる。
式（IV）及び（Ｖ）中、Ｍ’で表される脱離基としては、好ましくはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃａ（１／２）、ＭｇＣｌ、ＭｇＢｒ、ＭｇＩ、ＺｎＣｌ、ＳｎＣｌ、ＣｒＣｌ2等が挙げられる。式（IV）中、Ｙで表される水酸基の保護基としては、好ましくは公知のフェノール性水酸基の保護基、たとえば、メトキシジメチルメチル基、トリメチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基等が挙げられる。
式（IV）で表される化合物と式（Ｖ）で表される化合物の縮合反応は不活性溶媒、たとえばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、ヘキサン、トルエン、ベンゼン、メチレンクロリド、ＤＭＦなど、あるいはこれらの混合溶媒の中で、約−７０℃〜７０℃の温度範囲で行われる。本反応は、好ましくは、不活性ガス（たとえば、窒素、アルゴンなど）雰囲気下で行われる。
その後の脱保護反応は、酸性加水分解またはテトラブチルアンモニウムフルオリド、フッ化カリウムなどのフッ素化塩試薬を用いて行われる。
その後の脱保護反応は、酸性加水分解またはテトラブチルアンモニウムフルオリド、フッ化カリウムなどのフッ素化塩試薬を用いて行われる。
式（VIII）で表されるヒドロキシケトン化合物とアンモニアの反応は、不活性溶媒、たとえば、エタノール、ベンゼン、トルエン、クロロホルム、ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルなど、あるいはこれらの混合溶媒の中で、約０℃〜１００℃の温度範囲で行われる。通常、本反応は、式（VIII）で表されるヒドロキシケトン化合物に対して、１〜１０倍モル量のアンモニアを含む溶媒中で、脱水剤（たとえば、モレキュラーシーブス、無水硫酸カルシウム、無水硫酸マグネシウムなど）の存在下、封管中で行われる。式(VI)で表されるイミノ化合物は、単離精製することなく次の反応に用いることもできる。
式（VI）で表されるイミノ化合物と式（VII）で表される化合物との閉環反応は、無溶媒あるいは不活性溶媒、たとえばベンゼン、トルエン、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、ジエチルエーテルなど、あるいはこれらの混合溶媒中で酸触媒、脱水剤の存在下、室温から１００℃の温度範囲で行われる。
酸触媒としては、塩酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、カンファースルホン酸、塩化アンモニウム、酢酸アンモニウムなどを用いることができる。使用する酸触媒の量は、触媒の酸性度により適宜変えることが望ましく、式（VI）で表されるイミノ化合物に対して、１／１００〜１０倍モル程度の範囲とすることが好ましい。
脱水剤としては、たとえばモレキュラーシーブス、無水硫酸カルシウム、無水硫酸マグネシウムなどを使用することができる。
酸触媒としては、塩酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、カンファースルホン酸、塩化アンモニウム、酢酸アンモニウムなどを用いることができる。使用する酸触媒の量は、触媒の酸性度により適宜変えることが望ましく、式（VI）で表されるイミノ化合物に対して、１／１００〜１０倍モル程度の範囲とすることが好ましい。
脱水剤としては、たとえばモレキュラーシーブス、無水硫酸カルシウム、無水硫酸マグネシウムなどを使用することができる。
式（VIII）で表されるヒドロキシケトン化合物と、アンモニアと、式（VII）で表される化合物とのワン・ポット反応は、無溶媒あるいは不活性溶媒、たとえばベンゼン、トルエン、クロロホルム、ジクロルメタン、１,２−ジクロルエタン、ジエチルエーテルなど、あるいは、これらの混合溶媒中で、酸触媒、脱水剤の存在下、０℃〜１００℃の温度範囲で行われる。通常、本反応は式（VIII）で表されるヒドロキシケトン化合物に対して、１〜１０倍モル量のアンモニアを含む溶媒中で、封管中で行われる。
酸触媒としては、上述の式（VI）で表されるイミノ化合物と式（VII）で表される化合物との閉環反応の説明において記載のものが使用でき、用いる酸触媒の量は式（VIII）で表されるヒドロキシケトン化合物に対して、１／２０〜１０倍モル程度の範囲とすることが好ましい。
また、脱水剤としては式（VI）で表されるイミノ化合物と式（VII）で表される化合物との閉環反応の説明において記載のものを用いることができる。
酸触媒としては、上述の式（VI）で表されるイミノ化合物と式（VII）で表される化合物との閉環反応の説明において記載のものが使用でき、用いる酸触媒の量は式（VIII）で表されるヒドロキシケトン化合物に対して、１／２０〜１０倍モル程度の範囲とすることが好ましい。
また、脱水剤としては式（VI）で表されるイミノ化合物と式（VII）で表される化合物との閉環反応の説明において記載のものを用いることができる。
式（Ｉ）で表される含窒素複素環化合物のうち、塩基性化合物は、酸を使用して塩に変換することができる。この反応に対する適当な酸は、好ましくは、農園芸学的に許容されうる塩を与える酸である。たとえば、塩酸、臭化水素酸、リン酸、硫酸、硝酸またはスルファミン酸などの無機酸、酢酸、酒石酸、クエン酸、フマール酸、マレイン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸またはグルタミン酸などの有機酸が挙げられる。
式（Ｉ）で表される化合物の塩は、例えば、式（Ｉ）で表される化合物に、無機酸または有機酸を作用させることにより製造することができる。
式（Ｉ）で表される化合物の塩は、例えば、式（Ｉ）で表される化合物に、無機酸または有機酸を作用させることにより製造することができる。
いずれの反応においても、反応終了後に、通常の後処理操作を行うことができ、次いで、生成物の精製が必要であれば、蒸留、再結晶またはカラムクロマトグラフィー等の公知慣用の精製手段により精製することができる。これにより、目的物を単離することができる。
目的物の構造は、元素分析、ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトル、マススペクトル等の公知の分析手段により同定、確認することができる。
２）農園芸用殺菌剤
本発明の農園芸用殺菌剤（以下、「本発明殺菌剤」ということがある。）は、式（Ｉ）で表される含窒素複素環化合物またはその塩（以下、「本発明化合物」ということがある。）の少なくとも１種を有効成分として含有するものである。
本発明の農園芸用殺菌剤（以下、「本発明殺菌剤」ということがある。）は、式（Ｉ）で表される含窒素複素環化合物またはその塩（以下、「本発明化合物」ということがある。）の少なくとも１種を有効成分として含有するものである。
有効成分量は、殺菌剤全体に対して、通常０．０１〜９０重量％であり、好ましくは０．０５〜８５重量％である。
本発明殺菌剤は、広範囲の種類の糸状菌、例えば、藻菌類（Oomycetes）、子のう（嚢）菌類（Ascomycetes）、不完全菌類（Deuteromycetes）、担子菌類（Basidiomycetes）に属する菌に対して優れた殺菌力を有する。
本発明殺菌剤は、花卉、芝、牧草を含む農園芸作物の栽培に際し発生する種々の病害の防除のために、種子処理、茎葉散布、土壌施用、水面施用等の方法で使用することができる。
本発明殺菌剤は、以下に例示する病原菌の防除に使用することができる。
テンサイ 褐斑病（Cercospora beticola）
黒根病（Aphanomyces cochlloides）
根腐病（Thanatephorus cucumeris）
葉腐病（Thanatephorus cucumeris）
ラッカセイ 褐斑病（Mycosphaerella arachidis）
黒渋病（Mycosphaerella berkeleyi）
キュウリ うどんこ病（Sphaerotheca fuliginea）
べと病（Pseudoperonospora cubensis）
つる枯病（Mycosphaerella melonis）
つる割病（Fusarium oxysporum）
菌核病（Sclerotinia sclerotiorum）
灰色かび病（Botrytis cinerea）
炭そ病（Colletotrichum orbiculare）
黒星病（Cladosporium cucumerinum）
褐斑病（Corynespora cassicola）
苗立枯病（Pythium debaryanam、Rhizoctonia solani Kuhn）
斑点細菌病（Pseudomonas syringae pv。Lecrymans）
トマト 灰色かび病（Botrytis cinerea）
葉かび病（Cladosporium fulvum）
疫病（Phytophthora infestans）
ナス 灰色かび病（Botrytis cinerea）
黒枯病（Corynespora melongenae）
うどんこ病（Erysiphe cichoracearum）
すすかび病（Mycovellosiella nattrassii）
イチゴ 灰色かび病（Botrytis cinerea）
うどんこ病（Sohaerotheca humuli）
炭そ病（Colletotrichum acutatum、Colletotrichum fragariae）
疫病（Phytophthora cactorum）
タマネギ 灰色腐敗病（Botrytis allii）
灰色かび病（Botrytis cinerea）
白斑葉枯病（Botrytis squamosa）
べと病（Peronospora destructor）
キャベツ 根こぶ病（Plasmodiophora brassicae）
軟腐病（Erwinia carotovora）
べと病（Peronospora parasitica）
インゲン 菌核病（Sclerotinia sclerotiorum）
灰色かび病（Botrytis cinerea）
りんご うどんこ病（Podosphaera leucotricha）
黒星病（Venturia inaequalis）
モニリア病（Monilinia mali）
黒点病（Mycosphaerella pomi）
腐らん病（Valsa mali）
斑点落葉病（Alternaria mali）
赤星病（Gymnosporangium yamadae）
輪紋病（Botryosphaeria berengeriana）
炭そ病（Glomerella cingulata、Colletotrichum acutatum）
褐斑病（Diplocarpon mali）
すす点病（Zygophiala jamaicensis）
すす斑病（Gloeodes pomigena）
カキ うどんこ病（Phyllactinia kakicola）
炭そ病（Gloeosporium kaki）
角斑落葉病（Cercospora kaki）
テンサイ 褐斑病（Cercospora beticola）
黒根病（Aphanomyces cochlloides）
根腐病（Thanatephorus cucumeris）
葉腐病（Thanatephorus cucumeris）
ラッカセイ 褐斑病（Mycosphaerella arachidis）
黒渋病（Mycosphaerella berkeleyi）
キュウリ うどんこ病（Sphaerotheca fuliginea）
べと病（Pseudoperonospora cubensis）
つる枯病（Mycosphaerella melonis）
つる割病（Fusarium oxysporum）
菌核病（Sclerotinia sclerotiorum）
灰色かび病（Botrytis cinerea）
炭そ病（Colletotrichum orbiculare）
黒星病（Cladosporium cucumerinum）
褐斑病（Corynespora cassicola）
苗立枯病（Pythium debaryanam、Rhizoctonia solani Kuhn）
斑点細菌病（Pseudomonas syringae pv。Lecrymans）
トマト 灰色かび病（Botrytis cinerea）
葉かび病（Cladosporium fulvum）
疫病（Phytophthora infestans）
ナス 灰色かび病（Botrytis cinerea）
黒枯病（Corynespora melongenae）
うどんこ病（Erysiphe cichoracearum）
すすかび病（Mycovellosiella nattrassii）
イチゴ 灰色かび病（Botrytis cinerea）
うどんこ病（Sohaerotheca humuli）
炭そ病（Colletotrichum acutatum、Colletotrichum fragariae）
疫病（Phytophthora cactorum）
タマネギ 灰色腐敗病（Botrytis allii）
灰色かび病（Botrytis cinerea）
白斑葉枯病（Botrytis squamosa）
べと病（Peronospora destructor）
キャベツ 根こぶ病（Plasmodiophora brassicae）
軟腐病（Erwinia carotovora）
べと病（Peronospora parasitica）
インゲン 菌核病（Sclerotinia sclerotiorum）
灰色かび病（Botrytis cinerea）
りんご うどんこ病（Podosphaera leucotricha）
黒星病（Venturia inaequalis）
モニリア病（Monilinia mali）
黒点病（Mycosphaerella pomi）
腐らん病（Valsa mali）
斑点落葉病（Alternaria mali）
赤星病（Gymnosporangium yamadae）
輪紋病（Botryosphaeria berengeriana）
炭そ病（Glomerella cingulata、Colletotrichum acutatum）
褐斑病（Diplocarpon mali）
すす点病（Zygophiala jamaicensis）
すす斑病（Gloeodes pomigena）
カキ うどんこ病（Phyllactinia kakicola）
炭そ病（Gloeosporium kaki）
角斑落葉病（Cercospora kaki）
モモ 灰星病（Monilinia fructicola）
黒星病（Cladosporium carpophilum）
ホモプシス腐敗病（Phomopsis sp。）
オウトウ 灰星病（Monilinia fructicola）
ブドウ 灰色かび病（Botrytis cinerea）
うどんこ病（Uncinula necator）
晩腐病（Glomerella cingulata、Colletotrichum acutatum）
べと病（Plasmopara viticola）
黒とう病（Elsinoe ampelina）
褐斑病（Pseudocercospora vitis）
黒腐病（Guignardia bidwellii）
ナシ 黒星病（Venturia nashicola）
赤星病（Gymnosporangium asiaticum）
黒斑病（Alternaria kikuchiana）
輪紋病（Botryosphaeria berengeriana）
うどんこ病（Phyllactinia mali）
チャ 輪斑病（Pestalotia theae）
炭そ病（Colletotrichum theae-sinensis）
カンキツ そうか病（Elsinoe fawcetti）
青かび病（Penicillium italicum）
緑かび病（Penicillium digitatum）
灰色かび病（Botrytis cinerea）
黒点病（Diaporthe shitri）
かいよう病（Xanthomonas campestris pv.Citri）
コムギ うどんこ病（Erysiphe graminis f.sp.tritici）
赤かび病（Gibberella zeae）
赤さび病（Puccinia recondita）
褐色雪腐病（Pythium iwayamai）
紅色雪腐病（Monographella nivalis）
眼紋病（Pseudocercosporella herpotrichoides）
葉枯病（Septoria tritici）
ふ枯病（Leptosphaeria nodorum）
雪腐小粒菌核病（Typhula incarnata）
雪腐大粒菌核病（Myriosclerotinia borealis）
立枯病（Gaeumanomyces graminis）
黒星病（Cladosporium carpophilum）
ホモプシス腐敗病（Phomopsis sp。）
オウトウ 灰星病（Monilinia fructicola）
ブドウ 灰色かび病（Botrytis cinerea）
うどんこ病（Uncinula necator）
晩腐病（Glomerella cingulata、Colletotrichum acutatum）
べと病（Plasmopara viticola）
黒とう病（Elsinoe ampelina）
褐斑病（Pseudocercospora vitis）
黒腐病（Guignardia bidwellii）
ナシ 黒星病（Venturia nashicola）
赤星病（Gymnosporangium asiaticum）
黒斑病（Alternaria kikuchiana）
輪紋病（Botryosphaeria berengeriana）
うどんこ病（Phyllactinia mali）
チャ 輪斑病（Pestalotia theae）
炭そ病（Colletotrichum theae-sinensis）
カンキツ そうか病（Elsinoe fawcetti）
青かび病（Penicillium italicum）
緑かび病（Penicillium digitatum）
灰色かび病（Botrytis cinerea）
黒点病（Diaporthe shitri）
かいよう病（Xanthomonas campestris pv.Citri）
コムギ うどんこ病（Erysiphe graminis f.sp.tritici）
赤かび病（Gibberella zeae）
赤さび病（Puccinia recondita）
褐色雪腐病（Pythium iwayamai）
紅色雪腐病（Monographella nivalis）
眼紋病（Pseudocercosporella herpotrichoides）
葉枯病（Septoria tritici）
ふ枯病（Leptosphaeria nodorum）
雪腐小粒菌核病（Typhula incarnata）
雪腐大粒菌核病（Myriosclerotinia borealis）
立枯病（Gaeumanomyces graminis）
オオムギ 斑葉病（Pyrenophora graminea）
雲形病（Rhynchosporium secalis）
裸黒穂病（Ustilago tritici、U.nuda）
イネ いもち病（Pyricularia oryzae）
紋枯病（Rhizoctonia solani）
馬鹿苗病（Gibberella fujikuroi）
ごま葉枯病（Cochliobolus niyabeanus）
苗立枯病（Pythium graminicolum）
白葉枯病（Xanthomonas oryzae）
苗立枯細菌病（Burkholderia plantarii）
褐条病（Acidovorax avenae）
もみ枯細菌病（Burkholderia glumae）
タバコ 菌核病（Sclerotinia sclerotiorum）
うどんこ病（Erysiphe cichoracearum）
チューリップ灰色かび病（Botrytis cinerea）
ベントグラス雪腐大粒菌核病（Sclerotinia borealis）
赤焼病（Pythium aphanidermatum）
オーチャードグラス うどんこ病（Erysiphe graminis）
ダイズ 紫斑病（Cercospora kikuchii）
べと病（Peronospora Manshurica）
茎疫病（Phytophthora sojae）
ジャガイモ・トマト疫病（Phytophthora infestans）
雲形病（Rhynchosporium secalis）
裸黒穂病（Ustilago tritici、U.nuda）
イネ いもち病（Pyricularia oryzae）
紋枯病（Rhizoctonia solani）
馬鹿苗病（Gibberella fujikuroi）
ごま葉枯病（Cochliobolus niyabeanus）
苗立枯病（Pythium graminicolum）
白葉枯病（Xanthomonas oryzae）
苗立枯細菌病（Burkholderia plantarii）
褐条病（Acidovorax avenae）
もみ枯細菌病（Burkholderia glumae）
タバコ 菌核病（Sclerotinia sclerotiorum）
うどんこ病（Erysiphe cichoracearum）
チューリップ灰色かび病（Botrytis cinerea）
ベントグラス雪腐大粒菌核病（Sclerotinia borealis）
赤焼病（Pythium aphanidermatum）
オーチャードグラス うどんこ病（Erysiphe graminis）
ダイズ 紫斑病（Cercospora kikuchii）
べと病（Peronospora Manshurica）
茎疫病（Phytophthora sojae）
ジャガイモ・トマト疫病（Phytophthora infestans）
また、従来のベンズイミダゾール系殺菌剤やジカルボキシイミド系殺菌剤等に対して、種々の病原菌が耐性を持つようになり、その薬効不足が問題になっている。本発明殺菌剤は、従来の殺菌剤に対する感受性菌のみならず、従来の殺菌剤に対して耐性を持つようになった菌に対しても優れた殺菌効果を有する。
例えば、灰色かび病菌（Botrytis cinerea）やテンサイ褐斑病菌（Cercospora beticola）、リンゴ黒星病菌（Venturia inaequalis）、ナシ黒星病菌（Venturia nashicola）は、チオファネートメチル、ベノミル、カルベンダジム等のベンズイミダゾール系殺菌剤に耐性を示すが、本発明殺菌剤はこれら耐性菌に対して有効な殺菌作用をする。
さらに、灰色かび病菌（Botrytis cinerea）は、ジカルボキシイミド系殺菌剤（例えば、ビンクロゾリン、プロシミドン、イプロジオン）に耐性を示すが、本発明殺菌剤は有効な殺菌作用をする。
本発明殺菌剤の適用が好ましい病害としては、テンサイの褐斑病、コムギのうどんこ病、イネのいもち病、リンゴ黒星病、キュウリの灰色かび病、ラッカセイの褐斑病等が挙げられる。適用がより好ましい病害としては、各種の果樹病害が挙げられる。
本発明殺菌剤は薬害が少なく、魚類や温血動物への毒性が低く、安全性の高い薬剤である。
本発明殺菌剤は、他成分を加えず本発明化合物をそのまま使用するものであってもよいし、添加剤や担体を用いて、水和剤、粒剤、粉剤、乳剤、水溶剤、懸濁剤、顆粒水和剤等の一般の農薬のとり得る形態にして使用するものであってもよい。
本発明殺菌剤は、他成分を加えず本発明化合物をそのまま使用するものであってもよいし、添加剤や担体を用いて、水和剤、粒剤、粉剤、乳剤、水溶剤、懸濁剤、顆粒水和剤等の一般の農薬のとり得る形態にして使用するものであってもよい。
農薬製剤中に添加することのできる添加剤及び担体は、目的とする剤型に応じて適宜選択できる。例えば、固型剤を目的とする場合は、大豆粉、小麦粉等の植物性粉末、珪藻土、燐灰石、石こう、タルク、ベントナイト、パイロフィライト、クレー等の鉱物性微粉末、安息香酸ソーダ、尿素、芒硝等の有機及び無機化合物が使用される。
また、液体の剤型を目的とする場合は、ケロシン、キシレン及び石油系の芳香族炭化水素、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アルコール、アセトン、トリクロルエチレン、メチルイソブチルケトン、鉱物油、植物油、水等を溶剤として使用することができる。
さらに、これらの製剤において均一かつ安定な形態をとるために、必要に応じ界面活性剤を添加することもできる。
用いる界面活性剤としては特に限定はないが、例えば、ポリオキシエチレンが付加したアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンが付加したアルキルエーテル、ポリオキシエチレンが付加した高級脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンが付加したソルビタン高級脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンが付加したトリスチリルフェニルエーテル等の非イオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンが付加したアルキルフェニルエーテルの硫酸エステル塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、高級アルコールの硫酸エステル塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、ポリカルボン酸塩、リグニンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩のホルムアルデヒド縮合物、イソブチレン−無水マレイン酸共重合体等が挙げられる。
用いる界面活性剤としては特に限定はないが、例えば、ポリオキシエチレンが付加したアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンが付加したアルキルエーテル、ポリオキシエチレンが付加した高級脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンが付加したソルビタン高級脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンが付加したトリスチリルフェニルエーテル等の非イオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンが付加したアルキルフェニルエーテルの硫酸エステル塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、高級アルコールの硫酸エステル塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、ポリカルボン酸塩、リグニンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩のホルムアルデヒド縮合物、イソブチレン−無水マレイン酸共重合体等が挙げられる。
このようにして得られた水和剤、乳剤、フロアブル、水溶剤、顆粒水和剤は水で所定の濃度に希釈して溶解液、懸濁液あるいは乳濁液として、粉剤・粒剤はそのまま植物に散布する方法で使用される。
製剤化された本発明殺菌剤は、そのままで、或いは水等で希釈して、植物体、種子、水面または土壌に施用される。施用量は、気象条件、製剤形態、施用磁気、施用方法、施用場所、防除対象病害、対象作物等により異なるが、通常１ヘクタール当たり有効成分化合物量にして１〜１，０００ｇ、好ましくは１０〜１００ｇである。
水和剤、乳剤、懸濁剤、水溶剤、顆粒水和剤等を水で希釈して施用する場合、その施用濃度は１〜１０００ｐｐｍ、好ましくは１０〜２５０ｐｐｍであり、粒剤、粉剤等の場合は、希釈することなくそのまま施用することもできる。
本発明殺菌剤には、本発明化合物のほかに、各種の殺菌剤や殺虫・殺ダニ剤等の１種または２種以上を混合することもできる。
本発明化合物と混合して使用できる殺菌剤、殺虫・殺ダニ剤、殺線虫剤、殺土壌害虫剤、植物生長調節剤の代表例を以下に示す。
殺菌剤：
１）ベンゾイミダゾール系：ベノミル、カルベンダジム、フベリダゾール、チアベンダゾール、チオファネート メチル等；
２）ジカルボキシイミド系：クロゾリネート、イプロジオン、プロシミドン、ビンクロゾリン等；
３）ＤＭＩ−殺菌剤系：イマザリル、オキスポコナゾール、ペフラゾエート、プロクロラズ、トリフルミゾール、トリホリン、ピリフェノックス、フェナリモル、ヌアリモル、アザコナゾール、ビテルタノール、ブロムコナゾール、シプロコナゾール、ジフェノコナゾール、ジニコナゾール、エポキシコナゾール、フェンブコナゾール、フルキンコナゾール、フルシラゾール、フルトリアホル、ヘキサコナゾール、イミベンコナゾール、イプコナゾール、メトコナゾール、ミクロブタニル、ペンコナゾール、プロピコナゾール、プロチオコナゾール、シメコナゾール、テブコナゾール、テトラコナゾール、トリアジメホン、トリアジメノール、トリチコナゾール、エタコナゾール、ファーコナゾールシス等；
４）フェニルアミド系：ベナラキシル、フララキシル、メタラキシル、メタラキシル−M、オキサジキシル、オフラセ等；
５）アミン系：アルジモルフ、ドデモルフ、フェンプロピモルフ、トリデモルフ、フェンプロピジン、ピペラリン、スピロキサミン等；
６）ホスホロチオレート系：ＥＤＤＰ、イプロベンホス、ピラゾホス等；
７）ジチオラン系：イソプロチオラン等；
８）カルボキサミド：ベノダニル、ボスカリド、カルボキシン、フェンフラン、フルトラニル、フラメトピル、メプロニル、オキシカルボキシン、ペンチオピラド、チフルザミド等；
９）ヒドロキシ-(2-アミノ) ピリミジン系：ブピリメート、ジメチリモル、エチリモル等；
１０）ＡＰ殺菌剤(アニリノピリミジン)系：シプロジニル、メパニピリム、ピリメタニル等；
１１）N-フェニルカーバメート系：ジエトフェンカルブ等；
１２）QoI-殺菌剤 (Qo阻害剤)系：アゾキシストロビン、ピコキシストロビン、ピラクロストロビン、クレソキシム-メチル、トリフロキシストロビン、ジモキシストロビン、メトミノストロビン、オリザストロビン、ファモキサドン、フルオキサストロビン、フェンアミドン、メトミノフェン等；
１３）PP殺菌剤 (フェニルピロール)系：フェンピコニル、フルジオキソニル等；
１４）キノリン系：キノキシフェン等；
１５）AH殺菌剤 (芳香族炭化水素）系：ビフェニル、クロロネブ、ジクロラン、キントゼン、テクナゼン、トルクトフォス-メチル等；
１６）MBI-R系：フサライド、ピロキロン、トリシクラゾール等；
１７）MBI-D系：カルプロパミド、ジクロシメット、フェノキサニル等；
１８）SBI剤：フェンヘキサミド、ピリブチカルブ、タービナフィン等；
１９）フェニルウレア：ペンシクロン等；
２０）QiI-殺菌剤 (Ｑｉ阻害剤)：シアゾファミド等；
２１）ベンズアミド系：ゾキサミド等；
２２）エノピランウロン系：ブラストサイジン、ミルディオマイシン等；
２３）へキソピラノシル系：カスガマイシン等；
２４）グルコピラノシル系：ストレプトマイシン、バリダマイシン等；
２５）シアノアセトアミド系：シモキサニル等；
２６）カーバメート系：イドカルブ、プロパモカルブ、プロチオカルブ、ポリカーバメート等；
２７）脱共役剤：ビナパクリル、ジノカップ、フェリムゾン、フルアジナム等；
２８）有機スズ化合物：酢酸トリフェニルスズ、塩化トリフェニルスズ、水酸化トリフェニルスズ等；
２９）リン酸エステル：亜リン酸、トルクロホスメチル、ホセチル等；
３０）フタルアミド酸系：テクロフタラム等；
３１）ベンゾトリアジン系：トリアゾキシド等；
３２）ベンゼンスルフォナミド系：フルスルファミド等；
３３）ピリダジノン：ジクロメジン等；
３４）CAA 殺菌剤 (カルボン酸アミド)系：ジメトモルフ、フルモルフ、ベンチアバリカルブ、イプロバリカルブ、マンジプロパミド等；
３５）テトラサイクリン：オキシテトラサイクリン等；
３６）チオカーバメート系：メタスルホカルブ等；
３７）その他の化合物：エトリジアゾール、ポリオキシン、オキソリニック酸、ヒドロキシイソキサゾール、オクチノリン、シルチオファム、ジフルメトリム、アシベンゾラルＳメチル、プロベナゾール、チアジニル、エタボキサム、シフルフェナミド、プロキナジド、メトラフェノン、フルオピコリド、水酸化第二銅、有機銅、硫黄、ファーバム、マンゼブ、マンネブ、メチラム、プロピネブ、チウラム、ジネブ、ジラム、キャプタン、カプタホール、フォルペット、クロロタロニル、ジクロフルアニド、トリルフルアニド、ドジン、グアザチン、イミノクタジン酢酸塩、イミノクタジンドデシルベンゼンスルホン酸塩、アニラジン、ジチアノン、クロロピクリン、ダゾメット、メタムナトリウム塩、キノメチオネート、シプロフラム、シルチオファム、アグロバクテリウム、フルオルイミド)等；
１）ベンゾイミダゾール系：ベノミル、カルベンダジム、フベリダゾール、チアベンダゾール、チオファネート メチル等；
２）ジカルボキシイミド系：クロゾリネート、イプロジオン、プロシミドン、ビンクロゾリン等；
３）ＤＭＩ−殺菌剤系：イマザリル、オキスポコナゾール、ペフラゾエート、プロクロラズ、トリフルミゾール、トリホリン、ピリフェノックス、フェナリモル、ヌアリモル、アザコナゾール、ビテルタノール、ブロムコナゾール、シプロコナゾール、ジフェノコナゾール、ジニコナゾール、エポキシコナゾール、フェンブコナゾール、フルキンコナゾール、フルシラゾール、フルトリアホル、ヘキサコナゾール、イミベンコナゾール、イプコナゾール、メトコナゾール、ミクロブタニル、ペンコナゾール、プロピコナゾール、プロチオコナゾール、シメコナゾール、テブコナゾール、テトラコナゾール、トリアジメホン、トリアジメノール、トリチコナゾール、エタコナゾール、ファーコナゾールシス等；
４）フェニルアミド系：ベナラキシル、フララキシル、メタラキシル、メタラキシル−M、オキサジキシル、オフラセ等；
５）アミン系：アルジモルフ、ドデモルフ、フェンプロピモルフ、トリデモルフ、フェンプロピジン、ピペラリン、スピロキサミン等；
６）ホスホロチオレート系：ＥＤＤＰ、イプロベンホス、ピラゾホス等；
７）ジチオラン系：イソプロチオラン等；
８）カルボキサミド：ベノダニル、ボスカリド、カルボキシン、フェンフラン、フルトラニル、フラメトピル、メプロニル、オキシカルボキシン、ペンチオピラド、チフルザミド等；
９）ヒドロキシ-(2-アミノ) ピリミジン系：ブピリメート、ジメチリモル、エチリモル等；
１０）ＡＰ殺菌剤(アニリノピリミジン)系：シプロジニル、メパニピリム、ピリメタニル等；
１１）N-フェニルカーバメート系：ジエトフェンカルブ等；
１２）QoI-殺菌剤 (Qo阻害剤)系：アゾキシストロビン、ピコキシストロビン、ピラクロストロビン、クレソキシム-メチル、トリフロキシストロビン、ジモキシストロビン、メトミノストロビン、オリザストロビン、ファモキサドン、フルオキサストロビン、フェンアミドン、メトミノフェン等；
１３）PP殺菌剤 (フェニルピロール)系：フェンピコニル、フルジオキソニル等；
１４）キノリン系：キノキシフェン等；
１５）AH殺菌剤 (芳香族炭化水素）系：ビフェニル、クロロネブ、ジクロラン、キントゼン、テクナゼン、トルクトフォス-メチル等；
１６）MBI-R系：フサライド、ピロキロン、トリシクラゾール等；
１７）MBI-D系：カルプロパミド、ジクロシメット、フェノキサニル等；
１８）SBI剤：フェンヘキサミド、ピリブチカルブ、タービナフィン等；
１９）フェニルウレア：ペンシクロン等；
２０）QiI-殺菌剤 (Ｑｉ阻害剤)：シアゾファミド等；
２１）ベンズアミド系：ゾキサミド等；
２２）エノピランウロン系：ブラストサイジン、ミルディオマイシン等；
２３）へキソピラノシル系：カスガマイシン等；
２４）グルコピラノシル系：ストレプトマイシン、バリダマイシン等；
２５）シアノアセトアミド系：シモキサニル等；
２６）カーバメート系：イドカルブ、プロパモカルブ、プロチオカルブ、ポリカーバメート等；
２７）脱共役剤：ビナパクリル、ジノカップ、フェリムゾン、フルアジナム等；
２８）有機スズ化合物：酢酸トリフェニルスズ、塩化トリフェニルスズ、水酸化トリフェニルスズ等；
２９）リン酸エステル：亜リン酸、トルクロホスメチル、ホセチル等；
３０）フタルアミド酸系：テクロフタラム等；
３１）ベンゾトリアジン系：トリアゾキシド等；
３２）ベンゼンスルフォナミド系：フルスルファミド等；
３３）ピリダジノン：ジクロメジン等；
３４）CAA 殺菌剤 (カルボン酸アミド)系：ジメトモルフ、フルモルフ、ベンチアバリカルブ、イプロバリカルブ、マンジプロパミド等；
３５）テトラサイクリン：オキシテトラサイクリン等；
３６）チオカーバメート系：メタスルホカルブ等；
３７）その他の化合物：エトリジアゾール、ポリオキシン、オキソリニック酸、ヒドロキシイソキサゾール、オクチノリン、シルチオファム、ジフルメトリム、アシベンゾラルＳメチル、プロベナゾール、チアジニル、エタボキサム、シフルフェナミド、プロキナジド、メトラフェノン、フルオピコリド、水酸化第二銅、有機銅、硫黄、ファーバム、マンゼブ、マンネブ、メチラム、プロピネブ、チウラム、ジネブ、ジラム、キャプタン、カプタホール、フォルペット、クロロタロニル、ジクロフルアニド、トリルフルアニド、ドジン、グアザチン、イミノクタジン酢酸塩、イミノクタジンドデシルベンゼンスルホン酸塩、アニラジン、ジチアノン、クロロピクリン、ダゾメット、メタムナトリウム塩、キノメチオネート、シプロフラム、シルチオファム、アグロバクテリウム、フルオルイミド)等；
殺虫・殺ダニ剤、殺線虫剤、殺土壌害虫剤：
１）有機（チオ）ホスフェート系：アセフェート、アザメチホス、アジンホスメチル、クロルピリホス、クロルピリホスメチル、クロルフェンビンホス、ダイアジノン、ジクロルボス、ジクロトホス、ジメトエート、ジスルホトン、エチオン、ＥＰＮ、フェナミホス、フェニトロチオン、フェンチオン、イソキサチオン、マラソン、メタミドホス、メチダチオン、メチルパラチオン、メビンホス、モノクロトホス、オキシデメトンメチル、パラオキソン、パラチオン、フェントエート、ホサロン、ホスメット、ホスファミドン、ホレート、ホキシム、ピリミホスメチル、プロフェノホス、プロチオホス、スルプロホス、テトラクロルビンホス、テルブホス、トリアゾホス、トリクロルホン、
ホスチアゼート、ホスホカルブ、カズサホス、ジスルホトン、デメトン-Ｓ -メチル、ＢＲＰ、ＣＹＡＰ、エトプロホス、キナルホス、ジメチルビンホス、バミドチオン、ピラクロホス；
２）カルバメート系：アラニカルブ、アルジカルブ、ベンダイオカルブ、ベンフラカルブ、カルバリル、カルボフラン、カルボスルファン、フェノキシカルブ、フェノチオカルブ、メチオカルブ、メソミル、オキサミル、ピリミカルブ、プロポキスル、チオジカルブ、トリアザメート、
エチオフェンカルブ、フェノブカルブ、ＭＩＰＣ、ＭＰＭＣ、ＭＴＭＣ、ピリダフェンチオン、フラチオカルブ、ＸＭＣ；
３）ピレトロイド系：アレスリン、ビフェントリン、シフルトリン、シハロトリン、シフェノトリン、シペルメトリン、アルファシペルメトリン、ベータシペルメトリン、ゼータシペルメトリン、デルタメトリン、エスフェンバレレート、エトフェンプロックス、フェンプロパトリン、フェンバレレート、イミプロトリン、ラムダシハロトリン、ペルメトリン、プラレトリン、ピレトリンI及びII、レスメトリン、シラフルオフェン、タウフルバリネート、テフルトリン、テトラメトリン、トラロメトリン、トランスフルトリン、プロフルトリン、ジメフルトリン、
アクリナトリン、シクロプロトリン、ハルフェンプロックス、フルシトリネート；
４）成長調節物質：
a)キチン合成阻害剤：クロルフルアズロン、ジフルベンズロン、フルシクロクスロン、フルフェノクスロン、ヘキサフルムロン、ルフェヌロン、ノバルロン、テフルベンズロン、トリフルムロン；
ビストリフルロン、ノビフルムロン、ブプロフェジン、ジオフェノラン、ヘキシチアゾクス、エトキサゾール、クロフェンタジン；
b)エクジソンアンタゴニスト：ハロフェノジド、メトキシフェノジド、テブフェノジド、アザジラクチン；
クロマフェノジド；
c)幼若ホルモン様物質： ピリプロキシフェン、メトプレン、フェノキシカルブ；
d)脂質生合成阻害剤：スピロジクロフェン、スピロメシフェン、スピロテトラマト；
５）ニコチン受容体アゴニスト／アンタゴニスト化合物：アセタミプリド、クロチアニジン、ジノテフラン、イミダクロプリド、ニテンピラム、チアクロプリド、チアメトキサム；
６）GABAアンタゴニスト化合物：アセトプロール、エンドスルファン、エチピロール、フィプロニル、バニリプロール、ピラフルプロール、ピリプロール；
７）大環状ラクトン殺虫剤：アバメクチン、エマメクチン、ミルベメクチン、レピメクチン、スピノサド；
イベルメクチン；
８）METI I化合物：フェナザキン、ピリダベン、テブフェンピラド、トルフェンピラド、フルフェネリム；
９）METI II及びIII化合物：アセキノシル、フルアシプリム、ヒドラメチルノン；
１０）脱共役剤化合物：クロルフェナピル；
１１）酸化的リン酸化阻害剤化合物：シヘキサチン、ジアフェンチウロン、フェンブタチンオキシド、プロパルギット；
１２）脱皮かく乱化合物：シロマジン；
１３）混合機能オキシダーゼ阻害剤化合物：ピペロニルブトキシド；
１４）ナトリウムチャネル遮断剤化合物：インドキサカルブ、メタフルミゾン；
１５）微生物農薬：ＢＴ剤、昆虫病原ウイルス剤、昆虫病原糸状菌剤、線虫病原糸状菌剤；
１６）その他のもの：ベンクロチアズ、ビフェナゼート、カルタップ、フロニカミド、ピリダリル、ピメトロジン、硫黄、チオシクラム、フルベンジアミド、シエノピラフェン、フルピラゾホス、シフルメトフェン、アミドフルメット、ベンスルタップ、ジコホル、テトラジホン、フェンピロキシメート、アミトラズ、クロルジメホルム、トリアザメイト、ピメトロジン、ピリミジフェン、１,３−ジクロロプロペン、クロフェンテジン、フルアクリピリム、ロテノン、ＤＣＩＰ、フェニソブロモレート、ベンゾメート、メタアルデヒド、クロラントラニリプロールスピネトラム、ピリフルキナゾン；
１）有機（チオ）ホスフェート系：アセフェート、アザメチホス、アジンホスメチル、クロルピリホス、クロルピリホスメチル、クロルフェンビンホス、ダイアジノン、ジクロルボス、ジクロトホス、ジメトエート、ジスルホトン、エチオン、ＥＰＮ、フェナミホス、フェニトロチオン、フェンチオン、イソキサチオン、マラソン、メタミドホス、メチダチオン、メチルパラチオン、メビンホス、モノクロトホス、オキシデメトンメチル、パラオキソン、パラチオン、フェントエート、ホサロン、ホスメット、ホスファミドン、ホレート、ホキシム、ピリミホスメチル、プロフェノホス、プロチオホス、スルプロホス、テトラクロルビンホス、テルブホス、トリアゾホス、トリクロルホン、
ホスチアゼート、ホスホカルブ、カズサホス、ジスルホトン、デメトン-Ｓ -メチル、ＢＲＰ、ＣＹＡＰ、エトプロホス、キナルホス、ジメチルビンホス、バミドチオン、ピラクロホス；
２）カルバメート系：アラニカルブ、アルジカルブ、ベンダイオカルブ、ベンフラカルブ、カルバリル、カルボフラン、カルボスルファン、フェノキシカルブ、フェノチオカルブ、メチオカルブ、メソミル、オキサミル、ピリミカルブ、プロポキスル、チオジカルブ、トリアザメート、
エチオフェンカルブ、フェノブカルブ、ＭＩＰＣ、ＭＰＭＣ、ＭＴＭＣ、ピリダフェンチオン、フラチオカルブ、ＸＭＣ；
３）ピレトロイド系：アレスリン、ビフェントリン、シフルトリン、シハロトリン、シフェノトリン、シペルメトリン、アルファシペルメトリン、ベータシペルメトリン、ゼータシペルメトリン、デルタメトリン、エスフェンバレレート、エトフェンプロックス、フェンプロパトリン、フェンバレレート、イミプロトリン、ラムダシハロトリン、ペルメトリン、プラレトリン、ピレトリンI及びII、レスメトリン、シラフルオフェン、タウフルバリネート、テフルトリン、テトラメトリン、トラロメトリン、トランスフルトリン、プロフルトリン、ジメフルトリン、
アクリナトリン、シクロプロトリン、ハルフェンプロックス、フルシトリネート；
４）成長調節物質：
a)キチン合成阻害剤：クロルフルアズロン、ジフルベンズロン、フルシクロクスロン、フルフェノクスロン、ヘキサフルムロン、ルフェヌロン、ノバルロン、テフルベンズロン、トリフルムロン；
ビストリフルロン、ノビフルムロン、ブプロフェジン、ジオフェノラン、ヘキシチアゾクス、エトキサゾール、クロフェンタジン；
b)エクジソンアンタゴニスト：ハロフェノジド、メトキシフェノジド、テブフェノジド、アザジラクチン；
クロマフェノジド；
c)幼若ホルモン様物質： ピリプロキシフェン、メトプレン、フェノキシカルブ；
d)脂質生合成阻害剤：スピロジクロフェン、スピロメシフェン、スピロテトラマト；
５）ニコチン受容体アゴニスト／アンタゴニスト化合物：アセタミプリド、クロチアニジン、ジノテフラン、イミダクロプリド、ニテンピラム、チアクロプリド、チアメトキサム；
６）GABAアンタゴニスト化合物：アセトプロール、エンドスルファン、エチピロール、フィプロニル、バニリプロール、ピラフルプロール、ピリプロール；
７）大環状ラクトン殺虫剤：アバメクチン、エマメクチン、ミルベメクチン、レピメクチン、スピノサド；
イベルメクチン；
８）METI I化合物：フェナザキン、ピリダベン、テブフェンピラド、トルフェンピラド、フルフェネリム；
９）METI II及びIII化合物：アセキノシル、フルアシプリム、ヒドラメチルノン；
１０）脱共役剤化合物：クロルフェナピル；
１１）酸化的リン酸化阻害剤化合物：シヘキサチン、ジアフェンチウロン、フェンブタチンオキシド、プロパルギット；
１２）脱皮かく乱化合物：シロマジン；
１３）混合機能オキシダーゼ阻害剤化合物：ピペロニルブトキシド；
１４）ナトリウムチャネル遮断剤化合物：インドキサカルブ、メタフルミゾン；
１５）微生物農薬：ＢＴ剤、昆虫病原ウイルス剤、昆虫病原糸状菌剤、線虫病原糸状菌剤；
１６）その他のもの：ベンクロチアズ、ビフェナゼート、カルタップ、フロニカミド、ピリダリル、ピメトロジン、硫黄、チオシクラム、フルベンジアミド、シエノピラフェン、フルピラゾホス、シフルメトフェン、アミドフルメット、ベンスルタップ、ジコホル、テトラジホン、フェンピロキシメート、アミトラズ、クロルジメホルム、トリアザメイト、ピメトロジン、ピリミジフェン、１,３−ジクロロプロペン、クロフェンテジン、フルアクリピリム、ロテノン、ＤＣＩＰ、フェニソブロモレート、ベンゾメート、メタアルデヒド、クロラントラニリプロールスピネトラム、ピリフルキナゾン；
植物生長調節剤：
アブシジン酸、インドール酪酸、ウニコナゾール、エチクロゼート、エテホン、クロキシホナック、クロルメコート、クロレラ抽出液、過酸化カルシウム、シアナミド、ジクロルプロップ、ジベレリン、ダミノジッド、デシルアルコール、トリネキサパックエチル、メピコートクロリド、パクロブトラゾール、パラフィンワックス、ピペロニルブトキシド、ピラフルフェンエチル、フルルプリミドール、プロヒドロジャスモン、プロヘキサジオンカルシウム塩、ベンジルアミノプリン、ペンディメタリン、ホルクロルフェニュロン、マレイン酸ヒドラジドカリウム、１−ナフチルアセトアミド、4-ＣＰＡ、ＭＣＰＢ、コリン、硫酸オキシキノリン、エチクロゼート、ブトルアリン、1-メチルシクロプロペン、アビグリシン塩酸塩；
アブシジン酸、インドール酪酸、ウニコナゾール、エチクロゼート、エテホン、クロキシホナック、クロルメコート、クロレラ抽出液、過酸化カルシウム、シアナミド、ジクロルプロップ、ジベレリン、ダミノジッド、デシルアルコール、トリネキサパックエチル、メピコートクロリド、パクロブトラゾール、パラフィンワックス、ピペロニルブトキシド、ピラフルフェンエチル、フルルプリミドール、プロヒドロジャスモン、プロヘキサジオンカルシウム塩、ベンジルアミノプリン、ペンディメタリン、ホルクロルフェニュロン、マレイン酸ヒドラジドカリウム、１−ナフチルアセトアミド、4-ＣＰＡ、ＭＣＰＢ、コリン、硫酸オキシキノリン、エチクロゼート、ブトルアリン、1-メチルシクロプロペン、アビグリシン塩酸塩；
以下、実施例を示して、本発明をさらに詳細に説明する。ただし、本発明は、実施例に限定されるものではない。
実施例１ 〔2-Methyl-2-phenyl-4-(3-quinolyl)-2H-1,3-benzoxazine（化合物１−２）の製造〕
2-Methyl-2-phenyl-2,3-dihydro-4H-1,3-benzoxazin-4-one 0.7g（2.93mmol）を塩化メチレン10mLに溶解し、−10℃に冷却した。トリフルオロメタンスルホン酸無水物1.24g（4.39mmol）を加え、−10℃で１時間撹拌した。次に、2,6‐ルチジン0.47g（4.39mmol）を加え、−10℃で２時間撹拌した。
反応液を氷水に注ぎ、次いでクロロホルムで抽出を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、次いで減圧下で溶媒を留去した。
残渣をトルエンに溶解した。
文献（Angew. Chem. Int. Ed., 2008, 47, 928-931）に報告された方法に従って３−キノリンボロン酸と1,1,1-Tris(hydroxymethyl)ethaneとからトリオール塩を製造した。該トリオール塩1.04g（3.5mmol）、及びPd(PPh3)4 0.68g（0.59mmol）を前記トルエン溶液に加え、反応器内を窒素置換し、１４時間加熱還流した。
反応溶液を室温に冷却し、氷水に注ぎ、次いで酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製し、目的物 0.26g（収率25％）を得た。
反応液を氷水に注ぎ、次いでクロロホルムで抽出を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、次いで減圧下で溶媒を留去した。
残渣をトルエンに溶解した。
文献（Angew. Chem. Int. Ed., 2008, 47, 928-931）に報告された方法に従って３−キノリンボロン酸と1,1,1-Tris(hydroxymethyl)ethaneとからトリオール塩を製造した。該トリオール塩1.04g（3.5mmol）、及びPd(PPh3)4 0.68g（0.59mmol）を前記トルエン溶液に加え、反応器内を窒素置換し、１４時間加熱還流した。
反応溶液を室温に冷却し、氷水に注ぎ、次いで酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製し、目的物 0.26g（収率25％）を得た。
実施例２ 〔2-(4-Fluorobenzyl)-2-methyl-4-(3-quinolyl)-2H-1,3-benzothiazine（化合物２−６）の製造〕
2-(4-Fluorobenzyl)-2-methyl-2H-1,3-benzothiazin-4-one 0.30g（1.04mmol）をオキシ塩化リン5mlに溶解し、五塩化リン0.228g（1.10mmol）を加え６時間加熱還流した。反応液からオキシ塩化リンを減圧留去した。残渣を酢酸エチルに溶解し、重曹溶液、及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させた。濾過後、減圧下で溶媒を留去した。青黒色油状物として4-Chloro-2-(4-fluorobenzyl)-2-methyl-2H-1,3-benzothiazineを得た。
3−キノリンボロン酸0.216g（1.25mmol）及び２Ｍ炭酸セシウム水溶液1.5mL（3.00mmol）を含むジメチルホルムアミド溶液10mLを容器に入れ窒素置換した。この溶液にPd(PPh3)4 0.24g（0.208mmol）及び上記で得られた4-Chloro-2-(4-fluorobenzyl)-2-methyl-2H-1,3-benzothiazine全量を加え、80℃で18時間攪拌した。次いで、反応溶液を室温まで冷却し、酢酸エチル100mLと水100mLとからなる液に注加し、水層を酢酸エチル100mLで抽出した。有機層をブライン60mLで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させた。濾過後、減圧下で溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（１回目の溶媒〔ヘキサン：酢酸エチル＝４：１〕、２回目の溶媒〔ヘキサン：アセトン＝４：１〕）で精製して目的物0.11g（26.4％）を得た。
3−キノリンボロン酸0.216g（1.25mmol）及び２Ｍ炭酸セシウム水溶液1.5mL（3.00mmol）を含むジメチルホルムアミド溶液10mLを容器に入れ窒素置換した。この溶液にPd(PPh3)4 0.24g（0.208mmol）及び上記で得られた4-Chloro-2-(4-fluorobenzyl)-2-methyl-2H-1,3-benzothiazine全量を加え、80℃で18時間攪拌した。次いで、反応溶液を室温まで冷却し、酢酸エチル100mLと水100mLとからなる液に注加し、水層を酢酸エチル100mLで抽出した。有機層をブライン60mLで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させた。濾過後、減圧下で溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（１回目の溶媒〔ヘキサン：酢酸エチル＝４：１〕、２回目の溶媒〔ヘキサン：アセトン＝４：１〕）で精製して目的物0.11g（26.4％）を得た。
上記実施例１または２と同様にして製造される本発明の式（Ｉ）で表される含窒素複素環化合物の例を、下記表１〜表４に示す。下記表中、Ｍｅはメチル基、Ｅｔはエチル基、nＰｒはｎ−プロピル基、ＣＰｒはシクロプロピル基、Ｐｙはピリジル基、Ｐｈはフェニル基を、それぞれ表す。
表１及び表２中、Ｒ5とＲ6においてＰｈと表す場合は、Ｒ5とＲ6が一緒になって、それぞれが結合する炭素原子と共に、ベンゼン環を形成していることを表している。この場合、ベンゼン環とピリジン環とによってキノリン環が形成される。該ベンゼン環に置換基を有する場合はキノリンとしての置換位置を表す。
表３及び表４中、Ｒ5とＲ6が一緒になって、式：-ＣＨ=ＣＨ-Ｓ-と表す場合は、チオフェン環を形成していることを表している。この場合、チオフェン環とピリジン環とによってチエノ［２，３−ｂ］ピリジン環を形成していることを表す。Ｒ5とＲ6が一緒になって、式：-（ＣＨ2）4-と表す場合は、シクロヘキセン環を形成していることを表している。この場合、シクロヘキセン環とピリジン環とによって５，６，７，８−テトラヒドロキノリン環を形成していることを表す。
表１及び表２中、Ｒ5とＲ6においてＰｈと表す場合は、Ｒ5とＲ6が一緒になって、それぞれが結合する炭素原子と共に、ベンゼン環を形成していることを表している。この場合、ベンゼン環とピリジン環とによってキノリン環が形成される。該ベンゼン環に置換基を有する場合はキノリンとしての置換位置を表す。
表３及び表４中、Ｒ5とＲ6が一緒になって、式：-ＣＨ=ＣＨ-Ｓ-と表す場合は、チオフェン環を形成していることを表している。この場合、チオフェン環とピリジン環とによってチエノ［２，３−ｂ］ピリジン環を形成していることを表す。Ｒ5とＲ6が一緒になって、式：-（ＣＨ2）4-と表す場合は、シクロヘキセン環を形成していることを表している。この場合、シクロヘキセン環とピリジン環とによって５，６，７，８−テトラヒドロキノリン環を形成していることを表す。
代表的な化合物の物性値及び1H-NMRを、下記表５に示す。
次に、本発明の殺菌剤の製剤実施例を若干示すが、添加物及び添加割合は、これら実施例に限定されるべきものではなく、広範囲に変化させることが可能である。製剤実施例中の部は重量部を示す。
製剤実施例１ 水和剤
本発明化合物 ４０部
クレー ４８部
ジオクチルスルホサクシネートナトリウム塩 ４部
リグニンスルホン酸ナトリウム塩 ８部
以上を均一に混合して微細に粉砕し、有効成分４０％の水和剤を得る。
本発明化合物 ４０部
クレー ４８部
ジオクチルスルホサクシネートナトリウム塩 ４部
リグニンスルホン酸ナトリウム塩 ８部
以上を均一に混合して微細に粉砕し、有効成分４０％の水和剤を得る。
製剤実施例２ 乳剤
本発明化合物 １０部
ソルベッソ２００ ５３部
シクロヘキサノン ２６部
ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム塩 １部
ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル １０部
以上を混合溶解し、有効成分１０％の乳剤を得る。
本発明化合物 １０部
ソルベッソ２００ ５３部
シクロヘキサノン ２６部
ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム塩 １部
ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル １０部
以上を混合溶解し、有効成分１０％の乳剤を得る。
製剤実施例３ 粉剤
本発明化合物 １０部
クレー ９０部
以上を均一に混合して微細に粉砕し、有効成分１０％の粉剤を得る。
本発明化合物 １０部
クレー ９０部
以上を均一に混合して微細に粉砕し、有効成分１０％の粉剤を得る。
製剤実施例４ 粒剤
本発明化合物 ５部
クレー ７３部
ベントナイト ２０部
ジオクチルスルホサクシネートナトリウム塩 １部
リン酸カリウム １部
以上をよく粉砕混合し、水を加えてよく練り合せた後、造粒乾燥して有効成分５％の粒剤を得る。
本発明化合物 ５部
クレー ７３部
ベントナイト ２０部
ジオクチルスルホサクシネートナトリウム塩 １部
リン酸カリウム １部
以上をよく粉砕混合し、水を加えてよく練り合せた後、造粒乾燥して有効成分５％の粒剤を得る。
製剤実施例５ 懸濁剤
本発明化合物 １０部
ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル ４部
ポリカルボン酸ナトリウム塩 ２部
グリセリン １０部
キサンタンガム ０．２部
水 ７３．８部
以上を混合し、粒度が３ミクロン以下になるまで湿式粉砕し、有効成分１０％の懸濁剤を得る。
本発明化合物 １０部
ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル ４部
ポリカルボン酸ナトリウム塩 ２部
グリセリン １０部
キサンタンガム ０．２部
水 ７３．８部
以上を混合し、粒度が３ミクロン以下になるまで湿式粉砕し、有効成分１０％の懸濁剤を得る。
製剤実施例６ 顆粒水和剤
本発明化合物 ４０部
クレー ３６部
塩化カリウム １０部
アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩 １部
リグニンスルホン酸ナトリウム塩 ８部
アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩のホルムアルデヒド縮合物
５部
以上を均一に混合して微細に粉砕後、適量の水を加えてから練り込んで粘土状にする。粘土状物を造粒した後、乾燥し、有効成分４０％の顆粒水和剤を得る。
本発明化合物 ４０部
クレー ３６部
塩化カリウム １０部
アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩 １部
リグニンスルホン酸ナトリウム塩 ８部
アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩のホルムアルデヒド縮合物
５部
以上を均一に混合して微細に粉砕後、適量の水を加えてから練り込んで粘土状にする。粘土状物を造粒した後、乾燥し、有効成分４０％の顆粒水和剤を得る。
代表的な化合物について、下記のリンゴ黒星病防除試験及びキュウリ灰色かび病防除試験を行った。
（リンゴ黒星病防除試験）
素焼きポットで栽培したリンゴ幼苗（品種「国光」、３〜４葉期）に、本発明殺菌剤としての乳剤（製剤実施例２）を有効成分１００ｐｐｍの濃度で散布した。室温で自然乾燥した後、リンゴ黒星病菌（Ｖｅｎｔｕｒｉａ ｉｎａｅｑｕａｌｉｓ）の分生胞子を接種し、明暗周期が１２時間で、２０℃、高湿度の室内に２週間保持した。葉上の病斑出現状態を無処理のものと比較検査し、防除効果を求めた。
結果、化合物番号１−２〜１−９、１−１１、１−１４、１−２０、１−３１〜１−４５、１−４７〜１−４９、２−２、２−６、及び３−２６が75％以上の防除効果を示した。
素焼きポットで栽培したリンゴ幼苗（品種「国光」、３〜４葉期）に、本発明殺菌剤としての乳剤（製剤実施例２）を有効成分１００ｐｐｍの濃度で散布した。室温で自然乾燥した後、リンゴ黒星病菌（Ｖｅｎｔｕｒｉａ ｉｎａｅｑｕａｌｉｓ）の分生胞子を接種し、明暗周期が１２時間で、２０℃、高湿度の室内に２週間保持した。葉上の病斑出現状態を無処理のものと比較検査し、防除効果を求めた。
結果、化合物番号１−２〜１−９、１−１１、１−１４、１−２０、１−３１〜１−４５、１−４７〜１−４９、２−２、２−６、及び３−２６が75％以上の防除効果を示した。
（試験例）キュウリ灰色かび病防除試験
素焼きポットで栽培したキュウリ幼苗（品種「相模半白」、子葉期）に、本発明化合物の乳剤を有効成分１００ｐｐｍの濃度で散布した。室温で自然乾燥した後、キュウリ灰色かび病菌（Botrytis cinerea）の分生胞子懸濁液を滴下接種し、暗所、２０℃、高湿度の室内に４日間保持した。葉上の病斑出現状態を無処理と比較調査し、防除効果を求めた。
結果、化合物番号１−２〜１−９、１−１１、１−１３、１−１４、１−２０、１−３１〜１−３６、１−３８〜１−４７、２−２、及び３−２６が75％以上の防除効果を示した。
素焼きポットで栽培したキュウリ幼苗（品種「相模半白」、子葉期）に、本発明化合物の乳剤を有効成分１００ｐｐｍの濃度で散布した。室温で自然乾燥した後、キュウリ灰色かび病菌（Botrytis cinerea）の分生胞子懸濁液を滴下接種し、暗所、２０℃、高湿度の室内に４日間保持した。葉上の病斑出現状態を無処理と比較調査し、防除効果を求めた。
結果、化合物番号１−２〜１−９、１−１１、１−１３、１−１４、１−２０、１−３１〜１−３６、１−３８〜１−４７、２−２、及び３−２６が75％以上の防除効果を示した。
本発明の含窒素複素環化合物またはその塩は新規化合物であり、効果が確実で安全に使用できる農園芸用殺菌剤の有効成分として有用である。
また、本発明の農園芸用殺菌剤は優れた防除効果を有し、植物体に薬害を生じることがなく、人畜魚類に対する毒性や環境への影響が少ない薬剤であるので、産業上有用である。
また、本発明の農園芸用殺菌剤は優れた防除効果を有し、植物体に薬害を生じることがなく、人畜魚類に対する毒性や環境への影響が少ない薬剤であるので、産業上有用である。
Claims (3)
- 式（Ｉ）
（Ｉ）
（式（Ｉ）中、Ｒ1は、無置換若しくは置換基を有するＣ６〜１０アリール基、無置換若しくは置換基を有するヘテロアリール基、無置換若しくは置換基を有するアラルキル基、または無置換若しくは置換基を有するヘテロアラルキル基を示す。
Ｒ2は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜２０アルキル基、Ｃ１〜２０ハロアルキル基、Ｃ２〜２０アルケニル基、Ｃ２〜２０ハロアルケニル基、Ｃ２〜２０アルキニル基、Ｃ２〜２０ハロアルキニル基、Ｃ１〜２０アルコキシ基、Ｃ１〜２０ハロアルコキシ基、Ｃ３〜２０シクロアルキル基、Ｃ４〜２０シクロアルケニル基、Ｃ８〜２０シクロアルキニル基、Ｃ１〜２０アシル基、Ｃ１〜２０アルコキシカルボニル基、無置換若しくは置換基を有するＣ６〜１０アリール基、無置換若しくは置換基を有するヘテロアリール基、無置換若しくは置換基を有するアラルキル基、または無置換若しくは置換基を有するヘテロアラルキル基を示す。
Ｒ3〜Ｒ6は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜２０アルキル基、Ｃ１〜２０ハロアルキル基、Ｃ２〜２０アルケニル基、Ｃ２〜２０ハロアルケニル基、Ｃ２〜２０アルキニル基、Ｃ２〜２０ハロアルキニル基、Ｃ１〜２０アルコキシ基、Ｃ１〜２０ハロアルコキシ基、Ｃ３〜２０シクロアルキル基、Ｃ３〜２０シクロアルコキシ基、Ｃ２〜２０アルケニルオキシ基、Ｃ２〜２０アルキニルオキシ基、Ｃ１〜２０アルキルチオ基、シアノ基、ニトロ基、無置換若しくは置換基を有するアミノ基、水酸基、チオール基、無置換若しくは置換基を有するフェニル基、無置換若しくは置換基を有するアラルキル基、無置換若しくは置換基を有するアリールオキシ基、または無置換若しくは置換基を有するヘテロ環基を示す。
Ｒ4とＲ5、及びＲ5とＲ6は、一緒になってそれぞれが結合する炭素原子と共に、無置換若しくは置換基を有する５〜８員環を形成してもよい。
Ｒ5とＲ6は、同時に水素原子であることはない。
Ｘは、ハロゲン原子、ニトロ基、無置換若しくは置換基を有するアミノ基、水酸基、または有機基を示す。
ｎは、０〜４のいずれかの整数を示す。
Ｚは、酸素原子または硫黄原子を示す。）
で表される含窒素複素環化合物またはその塩。 - 前記Ｒ4とＲ5、及びＲ5とＲ6が一緒になってそれぞれが結合する炭素原子と共に形成する無置換若しくは置換基を有する５〜８員環が、無置換若しくは置換基を有するシクロアルケン環、無置換若しくは置換基を有する芳香族炭化水素環、または無置換若しくは置換基を有するヘテロ環であることを特徴とする請求項１に記載の含窒素複素環化合物またはその塩。
- 請求項１または２に記載の含窒素複素環化合物またはその塩の少なくとも１種を有効成分として含有する農園芸用殺菌剤。
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Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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|---|---|---|---|---|
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Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005070917A1 (ja) * | 2004-01-23 | 2005-08-04 | Sankyo Agro Company, Limited | ３－（ジヒドロ（テトラヒドロ）イソキノリン－１－イル）キノリン化合物 |
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