JPWO2010109538A1 - 磁気ディスク、磁気ディスクの製造方法及び磁気ディスク装置 - Google Patents

Abstract

磁気ヘッドを有するスライダを、磁気ディスクにロード・アンロードする機構を有する磁気ディスク装置において、磁気ディスクの外周部に、磁気ディスクの回転方向に、開口する形状の溝を、磁気ディスクの円周方向に多数個形成したロードゾーンを設けた。このため、ロードゾーンにおいて、スライダと磁気ディスクの最狭間隔部で、正圧を発生でき、ロード時のスライダと磁気ディスクとの接触を防止できる。

Description

本発明は、磁気ヘッドのロード・アンロード機構を備えた磁気ディスク装置に利用される磁気ディスク、磁気ディスクの製造方法及び磁気ディスク装置に関する。

ロード・アンロード方式の磁気ディスク装置は、磁気ヘッドを、磁気ディスクから離して、ランプ上のパーキング位置にパークしておき、リード・ライト時に、磁気ヘッドをランプから、磁気ディスクに、ロードする。このロード・アンロード方式を用いることによって、磁気ディスク装置が、外部から衝撃を受けても、磁気ヘッドや、磁気ディスクの損傷を防止でき、且つ磁気ヘッドが、パーキング位置にパークしている時は、アクチュエータに電力を供給する必要がないため、磁気ディスク装置の省電力化が可能となる。

図２０は、従来のロード・アンロード機構を備えた磁気ディスク装置の説明図である。図２０に示すように、磁気ディスク１００が回転し、磁気ヘッド（リード素子及びライト素子）を備えたスライダ１２０が、磁気ディスク１００の回転による空気流で、磁気ディスク１００から浮上している。

磁気ヘッドを搭載するスライダ１２０が、パークするランプ１１０は、磁気ディスク１００の外周端面１０１の近傍に設けられている。スライダ１２０を支えるサスペンションの先端には、リフトタブ１３０が設けられている。リフトタブ１３０が、ランプ１１０に沿って移動し、スライダ１２０のロード・アンロードを行う。

ランプ１１０は、平坦部１１０−２と、傾斜部１１０−１とを有し、傾斜部１１０−１は、磁気ディスク１００側に設けられている。ロード動作は、リフトタブ１３０が、ランプ１１０の平坦部１１０−２に位置している状態（パーク状態という）から、リフトタブ１３０を含むサスペンション、アームを、磁気ディスク１００方向に、移動する。これにより、リフトタブ１３０が、ランプ１１０の平坦部１１０−２から、図の左方向（矢印方向）に移動し、ランプ１１０の傾斜部１１０−１を滑り降りる。

このリフトタブ１３０の移動に従い、スライダ１２０も、図の左方向に移動し、スライダ１２０が、磁気ディスク１００の外周端面１０１の外側から、磁気ディスク１００の外周端面１０１の内側に移動する。

一方、アンロード動作は、この動作の逆の動作であり、磁気ディスク１００上で、浮上している磁気ヘッドを含むスライダ１２０を搭載するアーム、サスペンションを、図の右方向に移動する。これにより、リフトタブ１３０が、ランプ１１０の傾斜部１１０−１を、登り、ランプ１１０の平坦部１１０−２で停止する。このリフトタブ１３０の移動に従い、スライダ１２０も、図の右方向に移動し、スライダ１２０が、磁気ディスク１００の外周端面１０１の内側から、磁気ディスク１００の外周端面１０１の外側に移動する。

このスライダ１２０を、ディスク１００上に、ロードした際に、スライダ１２０が、ディスク１００に接触する場合がある。スライダ１２０が、ディスク１００に接触することにより、ディスク１００に記録されている情報が失われたり、最悪の場合、ヘッドクラッシュに至る重大な問題となる。

一方、ＣＳＳ（Contact Start Stop）方式の磁気ディスク装置においては、ディスクの外周部に、半径方向に延びる溝を設け、磁気ヘッドを、磁気ディスクに接触させ、溝により、磁気ヘッドの浮上面に付着している塵埃を除去する方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。

又、ＣＳＳ方式の磁気ディスク装置では、磁気ディスクのＣＳＳゾーンに、突起を設け、磁気ヘッドの浮上を迅速に行う方法が提案されている（例えば、特許文献２，３参照）。
特開平７−０９３７２８号公報 特開平５−１５１７３３号公報 特開平５−１８９７５８号公報

近年の磁気ディスク装置の記録密度の向上の要求により、磁気ヘッドの浮上量を低下することが、要求されている。磁気ヘッドの浮上量を低下する（例えば、１０ｎｍ）ことにより、記録磁界の隣接するトラックへの影響を低減でき、記録密度の向上が図れる。

このような低浮上量を達成するため、前述のロード・アンロード方式において、ロードした際の磁気ヘッドの浮上量も低下するため、スライダの取り付けの精度、ランプの配置の精度や、磁気ディスク自体の面振れにより、スライダが、磁気ディスクに接触しやすくなる。

前述のディスク面を加工する方法では、接触型のＣＳＳを前提としているため、ロード時のスライダの接触を防止することは、困難である。

従って、本発明の目的は、スライダの浮上量が低下しても、ロード時のスライダと磁気ディスクの接触を防止するための磁気ディスク、磁気ディスクの製造方法及び磁気ディスク装置を提供することにある。

この目的の達成のため、磁気ディスクは、磁気ヘッドを搭載するスライダを、ロード及びアンロードする磁気ディスク装置に使用される磁気ディスクにおいて、前記磁気ディスクの外周部に、前記磁気ディスクの回転方向に、開口する形状の溝を、前記磁気ディスクの円周方向に多数個形成したロードゾーンを有する。

又、磁気ディスク装置は、回転する磁気ディスクと、前記磁気ディスクのデータを少なくともリードする磁気ヘッドを搭載するスライダと、前記スライダを前記磁気ディスクの半径方向に移動するアクチュエータと、前記スライダを、前記磁気ディスクの外周より外で、パークしておくためのランプ機構とを有し、前記磁気ディスクの外周部に、前記磁気ディスクの回転方向に、開口する形状の溝を、前記磁気ディスクの円周方向に多数個形成したロードゾーンを有する。

更に、磁気ディスク装置の製造方法は、磁気ヘッドを搭載するスライダを、ロード及びアンロードする磁気ディスク装置に使用される磁気ディスクの製造方法において、スタンパにより、前記磁気ディスク基板の磁性層の外周部に、前記磁気ディスクの回転方向に、開口する形状の溝を、前記磁気ディスクの円周方向に多数個形成したロードゾーンと、データを記録するためのディスクリート・トラック又はビット・パターンからなるデータゾーンを一括して形成するためのレジストパターンを形成する工程と、前記レジストパターンを、マスクとして、前記磁性層に、磁性層の外周部に、前記溝を、前記磁気ディスクの円周方向に多数個形成したロードゾーンと、前記ディスクリート・トラック又はビット・パターンからなるデータゾーンとを形成する工程と、前記データゾーンの前記磁性層の間に、非磁性材料を埋め込む工程とを有する。

磁気ディスクの外周部に、磁気ディスクの回転方向に、開口する形状の溝を、磁気ディスクの円周方向に多数個形成したロードゾーンを設けたため、ロードゾーンにおいて、スライダと磁気ディスクの最狭間隔部で、正圧を発生でき、ロード時のスライダと磁気ディスクとの接触を防止できる。

本発明の磁気ディスク装置の一実施の形態の外観図である。 図１のランプ機構の正面図である。 図１のランプ機構の側面図である。 本発明の磁気ディスクの一実施の形態の上面図である。 図４の形状の溝による発生圧力分布図である。 図４の形状の溝による圧力発生メカニズムの説明図である。 比較例の突起による発生圧力分布図である。 図７の比較例の突起による圧力発生メカニズムの説明図である。 他の比較例の直線形状の溝による発生圧力分布図である。 本発明の磁気ディスクの他の実施の形態の上面図である。 本発明の一実施の形態の磁気ディスク製造方法のレジストパターン形成工程の説明図である。 本発明の一実施の形態の磁気ディスク製造方法の磁性層パターン形成工程の説明図である。 本発明の一実施の形態の磁気ディスク製造方法のデータゾーン形成工程の説明図である。 本発明の第２の実施の形態の溝形状の説明図である。 本発明の第３の実施の形態の溝形状の説明図である。 本発明の第４の実施の形態の溝形状の説明図である。 本発明の第５の実施の形態の溝形状の説明図である。 本発明の第６の実施の形態の溝形状の説明図である。 本発明の第７の実施の形態の溝形状の説明図である。 従来のロード動作の説明図である。

符号の説明

１ ディスクエンクロージャ
３ 磁気ディスク
３−１ 外周端面
３−２ ロードゾーン
３−３ 遷移ゾーン
３−４ データゾーン
４ スピンドルモータ
５ アクチュエータ（ＶＣＭ）
３０ 微細溝
５２ サスペンション
５３ リフトタブ
５４ ランプ
５５ スライダ

以下、本発明の実施の形態を、磁気ディスク装置、磁気ディスクの一実施の形態、磁気ディスクの他の実施の形態及び磁気ディスクの製造方法、磁気ディスクの更に他の実施の形態、他の実施の形態の順で説明する。しかしながら、本発明は、この実施の形態に限られない。

（磁気ディスク装置）
図１は、本発明の磁気ディスク装置の一実施の形態の外観図、図２は、図１のランプ機構の正面図、図３は、図１のランプ機構の側面図である。図１は、磁気ディスク装置として、ハードディスクドライブを例に示す。

図１に示すように、ディスクエンクロージャ（ＤＥという）１は、磁気ディスク装置の各構成要素を収容する。ＤＥ１内では、磁気記録媒体である磁気ディスク３が、スピンドルモータ４の回転軸に設けられている。

ＤＥ１に取り付けられたスピンドルモータ４は、磁気ディスク３を回転する。アクチュエータ（ＶＣＭという）５は、アーム（サスペンションを含む）５２を回転する。アームのサスペンションの先端には、磁気ヘッドを含むスライダ５５が設けられている。従って、ＶＣＭ５は、磁気ヘッドを含むスライダ５５を磁気ディスク３の半径方向に移動する。

アクチュエータ５は、回転軸を中心に回転するボイスコイルモータ（ＶＣＭ）で構成される。図１では、磁気ディスク装置に、１枚の磁気ディスク３が搭載され、２つの磁気ヘッドを含むスライダ５５が、同一のアクチュエータ５で同時に駆動される。

磁気ディスク３の外側には、スライダ５５を磁気ディスク３から退避し、パーキングするためのランプ機構５４が設けられる。サスペンションの先端には、このランプ機構５４に係合するリフトタブ５３が設けられる。

図２に示すように、スライダ５５は、リード素子５５−１と、ライト素子５５−２とを有する。スライダ５５は、スライダ本体に、磁気抵抗（ＭＲ）素子を含むリード素子５５−１を積層し、その上にライトコイルを含むライト素子５５−２を積層して、構成される。スライダ５５の最下部は、空気軸受け面５５−３を形成する。

磁気ヘッドを搭載するスライダ５５は、サスペンション５２の下部に設けられ、サスペンション５２の先端には、リフトタブ５３が設けられる。リフトタブ５３のみが、ランプ５４に接触し、ランプ５４に沿って移動する。

図３に示すように、ランプ５４は、平坦部５４−２と、傾斜部５４−１とを有し、傾斜部５４−１は、磁気ディスク３側に設けられている。ロード動作は、リフトタブ５３が、ランプ５４の平坦部５４−２に位置している状態（パーク状態という）から、リフトタブ５３を含むサスペンション、アーム５２を、磁気ディスク３方向に、移動する。これにより、リフトタブ５３が、ランプ５４の平坦部５４−２から、図の左方向（矢印方向）に移動し、ランプ５４の傾斜部５４−１を滑り降りる。

このリフトタブ５３の移動に従い、スライダ５５も、図の左方向に移動し、スライダ５５が、磁気ディスク３の外周端面３−１の外側から、磁気ディスク３の外周端面３−１の内側に移動する。

一方、アンロード動作は、この動作の逆の動作であり、磁気ディスク３上で、浮上している磁気ヘッドを含むスライダ５５を搭載するアーム、サスペンション５２を、図の右方向に移動する。これにより、リフトタブ５３が、ランプ５４の傾斜部５４−１を、登り、ランプ５４の平坦部５４−２で停止する。このリフトタブ５３の移動に従い、スライダ５５も、図の右方向に移動し、スライダ５５が、磁気ディスク３の外周端面３−１の内側から、磁気ディスク３の外周端面３−１の外側に移動する。

この磁気ディスク３の外周端面３−１のエッジに隣接して設けられた磁気デイスク３の領域を、ロードゾーン３−２という。又、磁気ディスク３のロードゾーン３−２と、データゾーンの間を、遷移ゾーン３−３という。

尚、図１のＤＥ１の下部には、プリント回路アッセンブリ（制御回路部）が設けられ、プリント回路アッセンブリには、ハードディスクコントローラ（ＨＤＣ）、マイクロコントローラ（ＭＣＵ）、リード／ライトチャネル回路（ＲＤＣ）、サーボコントロール回路、データバッファ（ＲＡＭ）、ＲＯＭ（リードオンリーメモリ）が設けられる。

この磁気ディスク３としては、以下で説明するディスクリートトラック媒体や、ビットパターンド媒体を用いても良く、磁気ヘッドは、垂直記録ヘッドで構成しても良い。

（磁気ディスクの一実施の形態）
図４は、本発明の磁気ディスクの一実施の形態の上面図、図５は、図４のＶ字形状の溝による圧力分布図、図６は、図５の側面図である。

図４に示すように、図３で説明した磁気ディスク３のロードゾーン３−２に、多数の略Ｖ字型の微細溝３０を設ける。これらのＶ字型微細溝３０は、磁気ディスク３の走行方向に、開口するように構成する。このＶ字型に溝３０は、磁気ディスク３の円周方向の列に、多数設け、且つ半径方向に複数列設ける。

後述するように、この構成を用いることにより、スライダ５５が、Ｖ字溝３０の上を浮上した場合、磁気ディスク３の回転方向と反対方向に、Ｖ字溝３０の幅が狭まる構造をしているため，磁気ディスク３の回転により、回転方向と反対の方向に流れる空気が圧縮され、正の空気圧力が生じる。

したがって、このように、磁気ディスク３にＶ字溝３０を設けることにより，スライダ５５を、磁気ディスク３上にロードした際、磁気ディスク３と接触しそうになっても、磁気ディスク３側に、正圧が発生し、スライダ５５と磁気ディスク３を引き離そうとする力が加わり、接触を回避または接触力を低減することができる。

さらに、ロードゾーン３−２の内周側の隣接領域に、遷移ゾーン３−３を、設けている。遷移ゾーン３−３の内周部のＶ字型溝列３０の円周方向の数密度を、遷移ゾーン３−３の外周部の数密度に比べて小さくなるように、配置する。

このように、遷移ゾーン３−３を構成することによって、ロードゾーン３−２とデータゾーン３−４の間での発生正圧力に大きな不連続を防止でき、遷移ゾーン３−３で、徐々に正圧力が変化する。この結果，当該部分で、スライダ５５の浮上量や姿勢が滑らかに変化し、安定した浮上特性を得ることができる。

図５は、前記Ｖ字溝３０を、磁気ディスク３に設けた場合の圧力分布の解析結果を示す。図５において、黒で表されている場所は、空気の圧力が高く、白で表されている場所は、空気の圧力が低いことを示す。この溝形状３０では、Ｖ字溝３０の先端部分より、下流側領域（図の上方向）のディスク３とスライダ５５の間隔が最も狭い最小隙間面３−５で、主に空気の正圧が発生している。

したがって、ロード・アンロード中に、スライダ５５が、ディスク３に近づいた際に、最も接触しやすい最小浮上面３−５で、正の圧力が発生するため，当該部分により、スライダ５５を、ディスク３から遠ざけるように空気の力が働き、スライダ５５とディスク３の接触を確実に防ぐことができる。

図６の側面図で説明する。図６の左側から空気流が流れて来る。この空気流が、溝部３０（広い隙間面３−６）内で、一旦膨張したあとに、再度隙間が狭い領域に、突入することによって、空気が圧縮され、空気の圧力が高い領域が生じる。

ここで、この高圧空気は、スライダ５５とディスク３の最小隙間面３−５で発生している。

図７、図８は、本発明の比較例の説明図である。図７は、Ｖ字形状であるが、突起３００を設けた場合の圧力分布図、図８は、その断面図である。

図７において、黒で表されている場所は、空気の圧力が高く、白で表されている場所は空気の圧力が低いことを示す。図７の突起形状の場合、空気の正圧は、ディスク３とスライダ５５の隙間が広い広隙間面３００−２で主に発生している。一方，ディスク３とスライダ５５の隙間が最も狭い最小隙間面３００−１である突起３００の表面では、ほとんど正圧が発生していない。

したがって、ロード・アンロード中に、スライダ５５がディスク３に近づいた際に、最も接触しやすい突起表面３００−１で、正の圧力が十分に発生せず、スライダ５５とディスク３の接触が起こりやすい。

図８の比較例の突起３００による圧力発生のメカニズムの説明図を用いて説明する。図８の左側から、空気流が流れて来る。この空気流が、ディスク３表面に設けられた突起３００に衝突することによって、突起３００よりも、空気の上流側の領域で、空気が圧縮されて高圧空気部３０２が生じる。

即ち、比較例の突起３００では、突起部分３００で、流れをせき止めるため、そのせき止めた部分よりも上流側に、高圧部３０２ができる。図７でも、突起３００により、せき止められた部分よりも、上流側で高圧部３０２が形成されていることが、分かる。

前述した通り、この高圧空気が生じる場所は、最小隙間面３００−１でなく、スライダ５５とディスク３が接触する際に、重要な最小浮上面３００−１では、十分な圧力が生じず、スライダ５５とディスク３は、接触しやすくなってしまう。

このように、突起形状では、空気をせき止める効果により、隙間が広いところで、空気の圧力が発生するのに対して、本実施の形態の溝形状では、空気が膨張したあとに、再圧縮されることにより、隙間の狭い部分で、空気の圧力が発生する。

このため、圧力発生のメカニズムが異なり、その結果，本実施の形態では、スライダ５５とディスク３の接触を防ぐために重要な最小隙間部で、確実に正圧力が発生し、スライダ５５とディスク３の接触を、確実に防ぐことができる。

図９は、他の比較例の圧力分布図である。図９は、溝形状であるが、半径方向に、直線形状の溝３１０を設けた比較例である。即ち、この溝３１０の形状は、図５のＶ字溝のように、磁気ディスク３の走行方向に向かって開口する形状ではない。

図９において、黒で表されている場所は、空気の圧力が高く、白で表されている場所は、空気の圧力が低いことを示す。この溝形状３１０では、直線溝３１０の先端部分より、下流側領域（図の上方向）のディスク３とスライダ５５の間隔が最も狭い最小隙間面３−５で、主に空気の正圧が発生している。

図６の側面図でも説明する。空気流が、溝部３１０内で、一旦膨張したあとに、再度隙間が狭い領域に、突入するが、図９では、直線形状のため、空気圧が分散され、スライダ５５とディスク３の最小隙間面３−５で発生する空気圧は、低圧である。

このため、図９の比較例では、ロード・アンロード中に、スライダ５５がディスク３に近づいた際に、最も接触しやすい突起表面３００−１で、正の圧力が十分に発生せず、スライダ５５とディスク３の接触が起こりやすい。

本実施の形態のＶ字型溝３０では、例えば、溝３０が、１ｍｍ角当たりで、スライダ５５の押し付け荷重（２．５ｇｆ程度）に匹敵する、２ｇｆ以上の正味正圧力を生じさせることが可能である。このため、ロード時に接触しやすく、面積が大きい、スライダ５５の流入パッドで、十分な浮上力を発生させることが可能である。

さらに、本実施の形態の遷移ゾーン３−３により、ロードゾーン３−２とデータゾーン３−４の間での発生圧力の大きな不連続が解消され、安定した浮上特性が得られる。

このように、スライダ５５の空気膜剛性も高くなり、また、ダンピング特性も向上し，より安定したロード特性を実現することができる。又、正圧の発生、ダンピングの向上により、アンロード特性の向上にも寄与する。

したがって、安定したロード・アンロード特性を有する信頼性の高い磁気ディスク及び磁気ディスク装置を提供できる。

（磁気ディスクの他の実施の形態及び磁気ディスクの製造方法）
図１０は、本発明の磁気ディスクの他の実施の形態の上面図である。図１０において、図４で説明したものと、同一のものは、同一の記号で示している。図１０に示すように、磁気ディスク３は、最外周側から、Ｖ字溝列３０を有するロードゾーン３−２、遷移ゾーン３−３、データゾーン３−４が設けられている。このデータゾーン３−４は、ディスクリート・トラックで構成されている。

ディスクリート・トラックは、磁気記録層で形成されたトラックが、非磁気記録層で分離された構成を有する。このため、トラック間の干渉を少なくでき、トラック密度を向上できる。この構成を採用することにより、磁気ディスク製造時に、ディスクリート・トラックを形成するのと同時に、V字溝列３０を有するロードゾーン３−２、遷移ゾーン３−３を形成することができる。

即ち、ロードゾーン３−２、遷移ゾーン３−３を形成するための付加工程を設ける必要がなく、より安価に製造することができる。

図１１乃至図１３は、この構成の磁気ディスクの製造方法の工程説明図である。

ディスクリート・トラックの形成方法として種々の方法が考えられる。以下では，電子線リソグラフィー、ナノインプリントリソグラフィー、ドライエッチングなどを用いたディスクリート・トラック形成方法に基づき、製造方法の手順を説明する。

図１１に示すように、電子線リソグラフィー法を用いて、原盤となるスタンパ６を製作する。このとき、スタンパ６には、ディスクリート・トラックのパターン６−２と同時に、ロードゾーン，遷移ゾーンのパターン（Ｖ字溝列）６−１を形成する。

一方、磁気ディスク基板３として、基板４０に、軟磁性膜４２、磁性層４３を積層したものを、形成しておく。そして、磁気ディスク基板３の磁性層４３上にレジスト樹脂（膜）４４を設けた後、このスタンパ６を用いて、ナノインプリントリソグラフィー法により、磁気ディスク上のレジスト樹脂４４に、パターンを転写する。

次に、図１２に示すように、転写された樹脂パターン４４を、マスク材として、ドライエッチング手法で、磁気ディスク３の表面（磁性層４３）に、溝を加工、形成する。図１２は、樹脂パターン４４を、マスク材として、ドライエッチング法で、溝を形成した後、樹脂パターン４４を除去した状態を示す。

更に、図１３に示すように、データ領域（データゾーン３−４）については、スライダ５５の浮上特性を確保するために、一旦形成した溝に、再び、非磁性材料を埋め込み平坦化を行う。必要に応じて、さらに，データゾーン３−４には、保護膜、潤滑膜を形成する。

以上のように、新たな工程を追加することなく、ディスクリートトラック媒体に、本実施の形態のＶ字溝３０を設けたロードゾーン３−２，遷移ゾーン３−３を形成することができる。また、上記では、ディスクリート・トラックを例に説明したが、ディスクリート・トラックだけでなく、ビットパターン媒体でも、同様の工程で、実現できる。

（磁気ディスクの更に他の実施の形態）
前述の実施の形態は、ロードゾーン３−２、遷移ゾーン３−３に設けた溝３０を、Ｖ字型で説明した。しかしながら、図５の圧力発生メカニズム等で説明したように、本発明の形態は、溝形状であり、且つ磁気ディスク３の走行方向に向かって開口するように構成する形状であれば、良い。

図１４乃至図１９は、本発明の他の実施の形態の溝形状の正面図である。尚、図１４乃至図１９において、矢印方向が、磁気ディスクの回転方向である。図１４は、ロードゾーンおよび遷移ゾーンの微細溝の形状を、円周方向にハの字型の溝３０Ａで形成した例である。

又、図１５は、ロードゾーンおよび遷移ゾーンの微細溝の形状を、円周方向に円形の溝３０Ｂで形成した例である。図１６は、ロードゾーンおよび遷移ゾーンの微細溝の形状を、円周方向に、三角型に溝３０Ｃで形成した例である。

図１７は、ロードゾーンおよび遷移ゾーンの微細溝の形状を、円周方向に、コの字形状の溝３０Ｄで形成した例である。図１８は、ロードゾーンおよび遷移ゾーンの微細溝の形状を、円周方向に、半円形型の溝３０Ｅで形成した例である。図１９は、ロードゾーンおよび遷移ゾーンの微細溝の形状を、円周方向に、逆Ｕ字形状の溝３０Ｆで形成した例である。

図１４乃至図１９の溝形状は、いずれも、磁気ディスク３の走行方向に向かって開口するように構成する形状の溝である。又、これらの例の他に、台形型、三日月形等を適用できる。

これら何れの形状でも、ディスク回転に伴う空気流が圧縮される効果を有し、その結果、空気の正圧力が、最狭間隔部で、発生する。したがって、これらの構成を用いることによって，安定したロード・アンロード特性を実現することができる。

これらの溝３０、３０Ａ〜３０Ｄは、スライダ５５の空気膜の共振周波数に対応する波長と異なるピッチ（円周方向の間隔）で、ロードゾーンおよび遷移ゾーンに形成することが望ましい。

即ち、スライダ５５の空気膜の共振周波数と異なるピッチで、溝を、形成することによって、スライダ５５の振動原因となる空気膜共振を励起せず、安定した浮上特性を実現することができる。

（他の実施の形態）
上述の実施の形態では、磁気ディスク装置として、ディスクリート・トラック媒体、ビットパターンド媒体を用いた磁気ディスク装置で説明したが、他の磁気ディスク媒体にも適用できる。又、必要に応じて、ロードゾーンと遷移ゾーンを一体に形成しても良く、ロードゾーンのみを設けても良い。

以上、本発明の実施の形態により説明したが、本発明は、上述の実施の形態に限られず、本発明の趣旨の範囲において、種々の変形が可能であり、これらを、本発明の範囲から排除するものではない。

磁気ディスクの外周部に、磁気ディスクの回転方向に、開口する形状の溝を、磁気ディスクの円周方向に多数個形成したロードゾーンを設けたため、ロードゾーンにおいて、スライダと磁気ディスクの最狭間隔部で、正圧を発生でき、ロード時のスライダと磁気ディスクとの接触を防止できる。

Claims (20)

1. 磁気ヘッドを搭載するスライダを、ロード及びアンロードする磁気ディスク装置に使用される磁気ディスクにおいて、
   前記磁気ディスクの外周部に、前記磁気ディスクの回転方向に、開口する形状の溝を、前記磁気ディスクの円周方向に多数個形成したロードゾーンを有する
   ことを特徴とする磁気ディスク。
2. 前記ロードゾーンは、前記円周方向に多数個の溝を形成した列が、前記磁気ディスクの半径方向に複数配置された
   ことを特徴とする請求項１の磁気ディスク。
3. 前記ロードゾーンと、データを記録するためのデータゾーンとの間に設けられ、前記円周方向に多数個の溝を形成した列が、前記磁気ディスクの半径方向に複数配置された遷移ゾーンを更に有し、
   前記遷移ゾーンの内周部の前記円周方向の溝の数密度が、前記遷移ゾーンの外周部の前記円周方向の溝の数密度に比し、低い
   ことを特徴とする請求項１の磁気ディスク。
4. 前記ロードゾーンの内側に、ディスクリート・トラック又は、ビット・パターンで形成されたデータゾーンを有する
   ことを特徴とする請求項１の磁気ディスク。
5. 前記円周方向に多数個設けられた溝の間隔が、前記スライダの空気膜の共振周波数に対応する波長と異なる間隔である
   ことを特徴とする請求項１の磁気ディスク。
6. 前記円周方向に多数個設けられた溝の形状が、前記溝部分より、下流側領域で、正圧を発生する形状である
   ことを特徴とする請求項１の磁気ディスク。
7. 前記円周方向に多数個設けられた溝の形状が、前記溝部分より、下流側領域で、且つ磁気ディスクとスライダの間隔が最も狭い最小隙間面で、正圧を発生する形状である
   ことを特徴とする請求項６の磁気ディスク。
8. 前記円周方向に多数個設けられた溝の形状が、Ｖ字形状である
   ことを特徴とする請求項７の磁気ディスク。
9. 前記円周方向に多数個設けられた溝の形状が、前記磁気ディスクの回転方向に対し、開口する形状を持つハの字形状、三角形状、台形形状、半月形状、三日月形状、丸型形状、コの字形状、Ｕ字形状のいずれか１つの形状である
   ことを特徴とする請求項７の磁気ディスク。
10. 回転する磁気ディスクと、
    前記磁気ディスクのデータを少なくともリードする磁気ヘッドを搭載するスライダと、
    前記スライダを前記磁気ディスクの半径方向に移動するアクチュエータと、
    前記スライダを、前記磁気ディスクの外周より外で、パークしておくためのランプ機構とを有し、
    前記磁気ディスクの外周部に、前記磁気ディスクの回転方向に対し、開口する形状の溝を、前記磁気ディスクの円周方向に多数個形成したロードゾーンを有する
    ことを特徴とする磁気ディスク装置。
11. 前記ロードゾーンは、前記円周方向に多数個の溝を形成した列が、前記磁気ディスクの半径方向に複数配置された
    ことを特徴とする請求項１０の磁気ディスク装置。
12. 前記ロードゾーンと、データを記録するためのデータゾーンとの間に設けられ、前記円周方向に多数個の溝を形成した列が、前記磁気ディスクの半径方向に複数配置された遷移ゾーンを更に有し、
    前記遷移ゾーンの内周部の前記円周方向の溝の数密度が、前記遷移ゾーンの外周部の前記円周方向の溝の数密度に比し、低い
    ことを特徴とする請求項１０の磁気ディスク装置。
13. 前記ロードゾーンの内側に、ディスクリート・トラック又は、ビット・パターンで形成されたデータゾーンを有する
    ことを特徴とする請求項１０の磁気ディスク装置。
14. 前記円周方向に多数個設けられた溝の間隔が、前記スライダの空気膜の共振周波数に対応する波長と異なる間隔である
    ことを特徴とする請求項１０の磁気ディスク装置。
15. 前記円周方向に多数個設けられた溝の形状が、前記溝の先端部分より、下流側領域で、正圧を発生する形状である
    ことを特徴とする請求項１０の磁気ディスク装置。
16. 前記円周方向に多数個設けられた溝の形状が、前記溝の先端部分より、下流側領域で、且つ磁気ディスクとスライダの間隔が最も狭い最小隙間面で、正圧を発生する形状である
    ことを特徴とする請求項１５の磁気ディスク装置。
17. 前記円周方向に多数個設けられた溝の形状が、Ｖ字形状である
    ことを特徴とする請求項１６の磁気ディスク装置。
18. 前記円周方向に多数個設けられた溝の形状が、前記磁気ディスクの回転方向に対し、開口する形状を持つハの字形状、三角形状、台形形状、半月形状、三日月形状、丸型形状、コの字形状、Ｕ字形状のいずれか１つの形状である
    ことを特徴とする請求項１６の磁気ディスク装置。
19. 磁気ヘッドを搭載するスライダを、ロード及びアンロードする磁気ディスク装置に使用される磁気ディスクの製造方法において、
    前記磁気ディスク基板の磁性層の外周部に、前記磁気ディスクの回転方向に、開口する形状の溝を、前記磁気ディスクの円周方向に多数個形成したロードゾーンと、データを記録するためのディスクリート・トラック又はビット・パターンからなるデータゾーンを一括して形成する工程を有する
    ことを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
20. 前記形成工程は、
    スタンパにより、前記磁気ディスク基板の磁性層の外周部に、前記磁気ディスクの回転方向に対し、開口する形状の溝を、前記磁気ディスクの円周方向に多数個形成したロードゾーンと、データを記録するためのディスクリート・トラック又はビット・パターンからなるデータゾーンを形成するためのレジストパターンを形成する工程と、
    前記レジストパターンを、マスクとして、前記磁性層に、磁性層の外周部に、前記溝を、前記磁気ディスクの円周方向に多数個形成したロードゾーンと、前記ディスクリート・トラック又はビット・パターンからなるデータゾーンとを形成する工程と、
    前記データゾーンの前記磁性層の間に、非磁性材料を埋め込む工程とを有する
    ことを特徴とする請求項１９の磁気ディスクの製造方法。