JPWO2010004935A1 - シール装置 - Google Patents
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Abstract
Description
所定の環境に保持される処理室の内部に、当該処理室の外部から当該処理室の環境を維持しつつ所定の機械的運動を伝達するシール装置であって、
前記処理室に前記所定の機械的運動を伝達するシャフトと、
前記シャフトが貫通するハウジングと、
前記ハウジングと前記シャフトとの間に配置されて前記シャフトの周囲において磁力を発生する磁力発生手段と、
前記ハウジングから前記シャフトに向かって突出しており、前記シャフトを取り囲むシーリング溝を形成する一対の内方突縁を有し、前記磁力発生手段に隣接して配置されて当該磁力発生手段で発生される磁力を伝達する磁気伝達部材と、
少なくとも一部が前記シャフトに向かってはみ出した状態で前記シーリング溝に収納され、前記シャフトの外側面に対して摺動するシール部材と、
前記磁力発生手段により発生された磁力により前記シャフトと前記磁気伝達部材の間に保持される磁性流体と
を有し、前記一対の内方突縁のうち前記磁力発生手段に近接する第1内方突縁における前記シャフトに近接する端部には、前記シャフトおよび前記シール部材に向かって突出する流体保持突部が形成されていることを特徴とする。
所定の環境に保持される処理室の内部に、当該処理室の外部から当該処理室の環境を維持しつつ所定の機械的運動を伝達する磁性流体シール装置であって、
前記処理室に前記所定の機械的運動を伝達するシャフトと、
前記シャフトが貫通するハウジングと、
前記ハウジングと前記シャフトとの間に配置されて前記シャフトの周囲において磁力を発生する磁力発生手段と、
前記ハウジングから前記シャフトに向かって突出して前記シャフトを取り囲むシーリング溝を形成する一対の内方突縁を有し、前記磁力発生手段に隣接して配置されて当該磁力発生手段で発生される磁力を伝達する磁気伝達部材と、
少なくとも一部が前記シャフトに向かってはみ出した状態で前記シーリング溝に収納され、前記シャフトの外側面に対して摺動するシール部材と、
前記磁力発生手段により発生された磁力により前記シャフトと前記磁気伝達部材の間に保持される磁性流体と
を有し、前記シーリング溝は、アリ溝形状を有していることを特徴とする。
所定の環境に保持される処理室の内部に、当該処理室の外部から当該処理室の環境を維持しつつ所定の機械的運動を伝達する磁性流体シール装置であって、
前記処理室に前記所定の機械的運動を伝達するシャフトと、
前記シャフトが貫通するハウジングと、
前記ハウジングと前記シャフトとの間に配置されて前記シャフトの周囲において磁力を発生する磁力発生手段と、
前記ハウジングから前記シャフトに向かって突出して前記シャフトを取り囲むシーリング溝を形成する一対の内方突縁を有し、前記磁力発生手段に隣接して配置されて当該磁力発生手段で発生される磁力を伝達する磁気伝達部材と、
少なくとも一部が前記シャフトに向かってはみ出した状態で前記シーリング溝に収納され、前記シャフトの外側面に対して摺動するシール部材と、
前記磁力発生手段により発生された磁力により前記シャフトと前記磁気伝達部材の間に保持される磁性流体と
を有し、前記シャフトの中心軸を通る断面によって観察した前記シーリング溝の断面は、略矩形形状を有しており、
前記シール部材は、前記シーリング溝の前記略矩形形状の頂点のいずれかに向かって突出する2以上の突起部を有しており、前記突起部のうち前記シャフト側に向かって突出する2つの突起部の間には、前記磁性流体を保持する流体保持溝が形成されていることを特徴とする。
図1は、本発明の第1実施形態に係るシール装置3を表す断面図である。シール装置3は、不図示の処理室に設けられた開口を塞ぐように配置されており、処理室内部を処理室外部に対して気密状態に保つことができる。本実施形態に係るシール装置3が配置される処理室としては、特に限定されないが、例えばシリコンウェーハの処理を行うウェーハ処理室や、真空状態と大気圧状態とを繰り返すロードロック室等が挙げられる。また、処理室内部は、処理室外部に対して負圧環境に保持されるものであっても良く、また、等圧もしくは加圧環境に保持されるものであってもよい。
第2実施形態
第3実施形態
実施例1
実施例2
参考例1
参考例2
参考例3
Claims (4)
- 所定の環境に保持される処理室の内部に、当該処理室の外部から当該処理室の環境を維持しつつ所定の機械的運動を伝達する磁性流体シール装置であって、
前記処理室に前記所定の機械的運動を伝達するシャフトと、
前記シャフトが貫通するハウジングと、
前記ハウジングと前記シャフトとの間に配置されて前記シャフトの周囲において磁力を発生する磁力発生手段と、
前記ハウジングから前記シャフトに向かって突出して前記シャフトを取り囲むシーリング溝を形成する一対の内方突縁を有し、前記磁力発生手段に隣接して配置されて当該磁力発生手段で発生される磁力を伝達する磁気伝達部材と、
少なくとも一部が前記シャフトに向かってはみ出した状態で前記シーリング溝に収納され、前記シャフトの外側面に対して摺動するシール部材と、
前記磁力発生手段により発生された磁力により前記シャフトと前記磁気伝達部材の間に保持される磁性流体と
を有し、前記内方突縁のうち前記磁力発生手段に近接する第1内方突縁における前記シャフトに近接する端部には、前記シャフトおよび前記シール部材に向かって突出する流体保持突部が形成されていることを特徴とするシール装置。 - 所定の環境に保持される処理室の内部に、当該処理室の外部から当該処理室の環境を維持しつつ所定の機械的運動を伝達する磁性流体シール装置であって、
前記処理室に前記所定の機械的運動を伝達するシャフトと、
前記シャフトが貫通するハウジングと、
前記ハウジングと前記シャフトとの間に配置されて前記シャフトの周囲において磁力を発生する磁力発生手段と、
前記ハウジングから前記シャフトに向かって突出して前記シャフトを取り囲むシーリング溝を形成する一対の内方突縁を有し、前記磁力発生手段に隣接して配置されて当該磁力発生手段で発生される磁力を伝達する磁気伝達部材と、
少なくとも一部が前記シャフトに向かってはみ出した状態で前記シーリング溝に収納され、前記シャフトの外側面に対して摺動するシール部材と、
前記磁力発生手段により発生された磁力により前記シャフトと前記磁気伝達部材の間に保持される磁性流体と
を有し、前記シーリング溝は、アリ溝形状を有していることを特徴とするシール装置。 - 所定の環境に保持される処理室の内部に、当該処理室の外部から当該処理室の環境を維持しつつ所定の機械的運動を伝達する磁性流体シール装置であって、
前記処理室に前記所定の機械的運動を伝達するシャフトと、
前記シャフトが貫通するハウジングと、
前記ハウジングと前記シャフトとの間に配置されて前記シャフトの周囲において磁力を発生する磁力発生手段と、
前記ハウジングから前記シャフトに向かって突出して前記シャフトを取り囲むシーリング溝を形成する一対の内方突縁を有し、前記磁力発生手段に隣接して配置されて当該磁力発生手段で発生される磁力を伝達する磁気伝達部材と、
少なくとも一部が前記シャフトに向かってはみ出した状態で前記シーリング溝に収納され、前記シャフトの外側面に対して摺動するシール部材と、
前記磁力発生手段により発生された磁力により前記シャフトと前記磁気伝達部材の間に保持される磁性流体と
を有し、前記シーリング溝は、前記シャフトの中心軸を通る断面の形状が略矩形形状であり、
前記シール部材は、前記シーリング溝の前記略矩形形状の頂点のそれぞれに向かって突出する4つの突起部を有しており、前記突起部のうち前記シャフト側に向かって突出する2つの突起部の間には、前記磁性流体を保持する流体保持溝が形成されていることを特徴とするシール装置。 - 前記磁気伝達部に対して前記磁気発生手段を挟んで配置され、当該磁力発生手段で発生される磁気を伝達する第2磁気伝達部をさらに有する請求項1から3のいずれかに記載されたシール装置。
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