JPWO2008133263A1 - Cylindrical screen plate and manufacturing method thereof - Google Patents
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Abstract
円筒状スクリーン版の内面の磨耗を防ぎ、耐久性を向上させることによって、高精細のロータリースクリーン印刷を可能とした円筒状スクリーン版及びその製造方法を提供する。内部を中空部としかつ印刷画像に応じた多数の開口部を開穿した円筒状スクリーン版本体と、前記中空部内に設けられたスクイージとを有し、前記中空部内に導入されるインキを前記スクイージが押し出すことによって当該インキを前記開口部を通過させて被印刷物に転写させるスクリーン印刷装置における円筒状スクリーン版であって、前記円筒状スクリーン版本体の少なくとも内表面を表面強化被膜で被覆するようにした。Provided are a cylindrical screen plate capable of high-definition rotary screen printing by preventing wear on the inner surface of the cylindrical screen plate and improving durability, and a method for manufacturing the same. A cylindrical screen plate body having a hollow portion inside and a large number of openings corresponding to a printed image, and a squeegee provided in the hollow portion, and ink introduced into the hollow portion is squeegeeed Is a cylindrical screen plate in a screen printing apparatus for transferring the ink through the opening to the substrate by extrusion, so that at least the inner surface of the cylindrical screen plate body is covered with a surface-enhancement coating. did.
Description
本発明は、ロータリースクリーン印刷に用いられる円筒状スクリーン版及びその製造方法に関するものである。 The present invention relates to a cylindrical screen plate used for rotary screen printing and a method for producing the same.
ロータリースクリーン印刷は、ニッケルなどの材料で形成された内部を中空部とした円筒状シリンダーに、印刷画像に応じた多数の開口部をあけて円筒状スクリーン版とし、この円筒状スクリーン版の中空部内にスクイージ等を装着してからインクを導入し、印刷画像を構成する多数の開口部からインクを押し出して、被印刷物に印刷画像を転写して印刷するものである。このロータリースクリーン印刷は、印刷層を厚くする事が容易であるため、厚膜印刷やラベル印刷、更に電子基板のプリント等、広く一般に行われている。 In rotary screen printing, a cylindrical cylinder made of a material such as nickel with a hollow inside is formed into a cylindrical screen by opening a number of openings according to the printed image. Ink is introduced after a squeegee or the like is attached, and the ink is pushed out from a large number of openings constituting the print image, and the print image is transferred and printed on the substrate. This rotary screen printing is widely performed in general, such as thick film printing, label printing, and electronic board printing because it is easy to thicken the printing layer.
このようなロータリースクリーン印刷は、円筒状スクリーン版を形成する方法の違いから、主に3種類に分けることができる(特許文献1)。ラッカー製版法は、最も一般的な方法であり、予め多数の開口部を有するメッシュのシリンダーを用い、このメッシュのシリンダーにレジストを塗布し、このレジストに印刷画像を焼き付ける。その後、余分なレジストを除去すると、印刷画像に対応したシリンダーのメッシュ部分を覆った円筒状スクリーン版が形成される。そして、マスクされた部分以外のメッシュからインクを押し出して、被印刷物に印刷を行う。 Such rotary screen printing can be mainly divided into three types due to the difference in the method of forming a cylindrical screen plate (Patent Document 1). The lacquer plate making method is the most common method. A mesh cylinder having a large number of openings is used in advance, a resist is applied to the mesh cylinder, and a printed image is printed on the resist. Thereafter, when the excess resist is removed, a cylindrical screen plate covering the mesh portion of the cylinder corresponding to the printed image is formed. Then, ink is pushed out from the mesh other than the masked portion, and printing is performed on the substrate.
一方、ガルバノ製版法は、基材となるマザーロールの外周面に均一に感光性のレジストを塗布する。次に、このレジストに印刷する原稿の画像を焼き付け、凝固部分以外を除去してマスク層を形成する。マスク層を形成後、メッキ槽に浸し、マスク層が形成されていない部分にメッキ層を形成する。そして、メッキ層を所定の厚みまで成長させた後、マザーロールからマスク層を除去する。最後にメッキ層からマザーロールを抜き取ると、円筒状スクリーン版が得られる。 On the other hand, in the galvano plate making method, a photosensitive resist is uniformly applied to the outer peripheral surface of a mother roll serving as a base material. Next, an image of a document to be printed on the resist is baked, and a portion other than the solidified portion is removed to form a mask layer. After forming the mask layer, it is immersed in a plating tank, and a plating layer is formed in a portion where the mask layer is not formed. Then, after the plating layer is grown to a predetermined thickness, the mask layer is removed from the mother roll. Finally, when the mother roll is removed from the plating layer, a cylindrical screen plate is obtained.
このようにして得られたロータリースクリーン印刷用の円筒状スクリーン版は、メッキ層以外の部分が印刷画像に対応したインクを押し出す開口部となる。このようにガルバノ製版法は、印刷画像に対応した孔の形成と、シリンダー自体がメッキ層という形で同時に形成される。 In the thus obtained cylindrical screen plate for rotary screen printing, portions other than the plating layer serve as openings for extruding ink corresponding to the printed image. Thus, in the galvano plate making method, the formation of holes corresponding to the printed image and the cylinder itself are simultaneously formed in the form of a plating layer.
また、エッチング製版法は、ガルバノ製版法と逆に、先ずマザーロールの外周面全体にメッキ層を形成し、このメッキ層に印刷画像に対応したエッチングを行いインクを押し出す開口部を形成し、円筒状スクリーン版を得るものである。これらの従来方法の改良として特許文献1の他、特許文献2や特許文献3が知られている。
上述した従来方法によって形成された円筒状スクリーン版を使用するに当たっては、円筒状スクリーン版の中空部内にスクイージ(内部ドクター)が装着され、このスクイージを利用して、中空部内に導入されたインキを印刷画像を構成する多数の開口部から押し出して、被印刷物に印刷画像を転写するものであるが、ニッケル等の材料で形成された円筒状スクリーン版の内面側はスクイージによって押圧されるので、その内面が摩耗しやすく、耐久性に問題が生じてしまい、結果として高精細なロータリースクリーン印刷を行えないという問題が生じているものであった。 In using the cylindrical screen plate formed by the above-described conventional method, a squeegee (internal doctor) is installed in the hollow portion of the cylindrical screen plate, and the ink introduced into the hollow portion is used by utilizing this squeegee. The printed image is extruded from a large number of openings constituting the printed image, and the printed image is transferred to the printing material, but the inner surface side of the cylindrical screen plate formed of a material such as nickel is pressed by a squeegee. The inner surface is easily worn, resulting in a problem in durability, resulting in a problem that high-definition rotary screen printing cannot be performed.
本発明は、上記従来技術の問題点に鑑みなされたもので、円筒状スクリーン版の内面の磨耗を防ぎ、耐久性を向上させることによって、高精細のロータリースクリーン印刷を可能とした円筒状スクリーン版及びその製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above-described problems of the prior art. A cylindrical screen plate capable of high-definition rotary screen printing by preventing wear on the inner surface of the cylindrical screen plate and improving durability. And it aims at providing the manufacturing method.
上記目的を達成するために、本発明の円筒状スクリーン版は、内部を中空部としかつ印刷画像に応じた多数の開ロ部を開穿した円筒状スクリーン版本体と、前記中空部内に設けられたスクイージとを有し、前記中空部内に導入されるインキを前記スクイージが押し出すことによって当該インキを前記開ロ部を通過させて被印刷物に転写させるスクリーン印刷装置における円筒状スクリーン版であって、前記円筒状スクリーン版本体の少なくとも内表面を表面強化被膜で被覆したことを特徴とする。前記表面強化被膜の厚さとしては、0.1〜10μm、好ましくは0.1〜5μmが好適である。 In order to achieve the above object, the cylindrical screen plate of the present invention is provided with a cylindrical screen plate main body having a hollow portion inside and a large number of open portions corresponding to a printed image, and the hollow portion. A squeegee, and a cylindrical screen plate in a screen printing device for transferring the ink introduced into the hollow part to the printing material by passing the ink through the open part by pushing out the ink, At least the inner surface of the cylindrical screen plate main body is coated with a surface reinforcing coating. The thickness of the surface enhancement coating is 0.1 to 10 μm, preferably 0.1 to 5 μm.
前記表面強化被膜としては、ダイヤモンドライクカーボン被膜又は二酸化珪素被膜を用いることができ、二酸化珪素被膜の場合にはペルヒドロポリシラザンを用いて前記二酸化珪素被膜を形成するのが好ましい。前記表面強化被膜は円筒状スクリーン版本体の内表面を被覆するだけで本発明の作用効果は達成されるが、内表面の被覆のみに制限されるものではなく、外表面を被覆してもよいことはいうまでもない。 As the surface enhancement coating, a diamond-like carbon coating or a silicon dioxide coating can be used. In the case of a silicon dioxide coating, it is preferable to form the silicon dioxide coating using perhydropolysilazane. The surface-enhanced coating can achieve the effects of the present invention only by coating the inner surface of the cylindrical screen plate body, but is not limited to the inner surface coating, and may cover the outer surface. Needless to say.
本発明の円筒状スクリーン版の製造方法の第1の態様は、ダイヤモンドライクカーボン被膜を表面強化被膜として形成した円筒状スクリーン版の製造方法であって、前記ダイヤモンドライクカーボン被膜をCVD法又はPVD法によって形成することを特徴とする。 A first aspect of the method for producing a cylindrical screen plate of the present invention is a method for producing a cylindrical screen plate in which a diamond-like carbon coating is formed as a surface-enhanced coating, and the diamond-like carbon coating is formed by a CVD method or a PVD method. It is characterized by forming by.
本発明の円筒状スクリーン版の製造方法の第2の態様は、二酸化珪素被膜を表面強化被膜として形成した円筒状スクリーン版の製造方法であって、前記円筒状スクリーン版本体の内表面にペルヒドロポリシラザン溶液を塗布しペルヒドロポリシラザン塗布膜を形成する塗布膜形成工程と、前記塗布されたペルヒドロポリシラザン塗布膜を過熱水蒸気によって所定の条件で加熱処理して所定の硬度の二酸化珪素被膜を前記被処理体の表面に形成する工程と、を有することを特徴とする。 A second aspect of the method for producing a cylindrical screen plate according to the present invention is a method for producing a cylindrical screen plate in which a silicon dioxide coating is formed as a surface-enhanced coating. A coating film forming step of coating a polysilazane solution to form a perhydropolysilazane coating film, and heating the coated perhydropolysilazane coating film with superheated steam under a predetermined condition to form a silicon dioxide film having a predetermined hardness. Forming on the surface of the treatment body.
前記加熱処理が第1次及び第2次加熱処理を含む複数段の加熱処理であり、第1次加熱処理の条件を100℃〜170℃、好ましくは105℃〜170℃、1分〜30分、及び第2次加熱処理の条件を140℃〜200℃、1分〜30分とし、第2次加熱処理の温度を第1次加熱処理の温度よりも高く設定するのが好適である。また、上記第2次加熱処理の温度を第1次加熱処理の温度よりも5℃以上、好ましくは10℃以上高く設定するのがよい。また、前記加熱処理によって形成された二酸化珪素被膜の表面を冷水又は温水で洗浄する工程をさらに有するのが好ましい。 The heat treatment is a multi-stage heat treatment including a primary heat treatment and a secondary heat treatment, and the conditions of the primary heat treatment are 100 ° C. to 170 ° C., preferably 105 ° C. to 170 ° C., 1 minute to 30 minutes. It is preferable that the conditions of the second heat treatment are 140 ° C. to 200 ° C. and 1 minute to 30 minutes, and the temperature of the second heat treatment is set higher than the temperature of the first heat treatment. In addition, the temperature of the secondary heat treatment is set to be 5 ° C. or higher, preferably 10 ° C. or higher, than the temperature of the primary heat treatment. Moreover, it is preferable to further have the process of wash | cleaning the surface of the silicon dioxide film formed by the said heat processing with cold water or warm water.
本発明によれば、円筒状スクリーン版の内面の磨耗を防ぎ、耐久性を向上させることによって、高精細のロータリースクリーン印刷を可能となるという大きな効果が達成される。 According to the present invention, the great effect of enabling high-definition rotary screen printing is achieved by preventing wear on the inner surface of the cylindrical screen plate and improving durability.
10:円筒状スクリーン版、12:中空部、14:開ロ部、16:円筒状スクリーン版本体、18:スクイージ(内部ドクター)、20:インキ、22:被印刷物、24:内表面、26:表面強化被膜、28:圧胴。 10: Cylindrical screen plate, 12: hollow portion, 14: open portion, 16: cylindrical screen plate main body, 18: squeegee (internal doctor), 20: ink, 22: substrate, 24: inner surface, 26: Surface-enhanced coating, 28: impression cylinder.
以下に本発明の実施の形態を添付図面に基づいて説明するが、これら実施の形態は例示的に示されるもので、本発明の技術思想から逸脱しない限り種々の変形が可能なことはいうまでもない。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings, but these embodiments are exemplarily shown, and various modifications can be made without departing from the technical idea of the present invention. Nor.
図中、10は本発明に係る円筒状スクリーン版である。該円筒状スクリーン版10は、内部を中空部12としかつ印刷画像に応じた多数の開ロ部14を開穿した円筒状スクリーン版本体16を有している。該円筒状スクリーン版本体16の中空部12内にはスクイージ又は内部ドクター18が設けられている。
In the figure,
図2に示すように、前記中空部12内にインキ20を導入し、前記スクイージ18が導入されたインキ20を外方に押し出すことによって当該インキ20を前記開ロ部14を通過させて被印刷物22に転写させることができる。図2において、符号28は圧胴である。
As shown in FIG. 2, the
本発明の円筒状スクリーン版10の構成的特徴は、図3によく示されるごとく、前記円筒状スクリーン版本体16の少なくとも内表面24を表面強化被膜26で被覆した点にある。前記表面強化被膜26の厚さとしては、0.1〜10μm、好ましくは0.1〜5μmが好適である。
The structural feature of the
前記表面強化被膜26としては、ダイヤモンドライクカーボン被膜又は二酸化珪素被膜を用いることができ、二酸化珪素被膜の場合にはペルヒドロポリシラザンを用いて前記二酸化珪素被膜を形成するのが好ましい。 As the surface enhancement coating 26, a diamond-like carbon coating or a silicon dioxide coating can be used. In the case of a silicon dioxide coating, it is preferable to form the silicon dioxide coating using perhydropolysilazane.
本発明の円筒状スクリーン版の製造方法の第1の態様は、ダイヤモンドライクカーボン被膜を表面強化被膜として形成した円筒状スクリーン版の製造方法であって、前記ダイヤモンドライクカーボン被膜をCVD法又はPVD法によって形成するものである。 A first aspect of the method for producing a cylindrical screen plate of the present invention is a method for producing a cylindrical screen plate in which a diamond-like carbon coating is formed as a surface-enhanced coating, and the diamond-like carbon coating is formed by a CVD method or a PVD method. It is formed by.
CVD法としては、炭化水素系原料ガスを用いて常圧で成膜するAPCVD(Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition)法、0.05Torr程度の減圧で成膜するLPCVD(Low Pressure Chemical Vapor Deposition)法、常圧よりやや低い600Torr程度の圧力のSACVD(Subatmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition)法、超高真空のUHVCVD(Ultra-High-Vacuum Chemical Vapor Deposition)法、600〜1000℃の高温の熱CVD法、高周波プラズマエネルギーを用い200〜450℃で成膜するプラズマCVD(Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition)法、紫外線による励起を利用した光CVD法、ソースに有機金属を用いた化合物結晶成長用のMOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition)法等が知られているが、プラズマCVD法が好適である。 The CVD method includes an APCVD (Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition) method in which a film is formed at atmospheric pressure using a hydrocarbon-based source gas, an LPCVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition) method in which a film is formed at a reduced pressure of about 0.05 Torr, SACVD (Subatmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition) method with a pressure of about 600 Torr, slightly lower than the pressure, UHVCVD (Ultra-High-Vacuum Chemical Vapor Deposition) method, high-temperature thermal CVD method at 600-1000 ° C, high-frequency plasma energy Plasma CVD (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition) method for forming a film at 200 to 450 ° C., photo-CVD method using excitation by ultraviolet light, MOCVD (Metal Organic Chemical Vapor) for compound crystal growth using an organic metal as a source The Deposition method is known, but the plasma CVD method is preferred.
前記炭化水素系原料ガスとしては、従来公知のシクロヘキサン、ベンゼン、アセチレン、メタン、ブチルベンゼン、トルエン、シクロペンタン等を用いることが出来る。
なお、前記円筒状スクリーン版本体表面とダイヤモンドライクカーボン被膜との間に、アルミニウム(Al),リン(P),チタン(Ti)、珪素(Si)等からなる0.1〜1μm程度の厚さのCVD密着層(図示は省略)を形成するのが好ましい。前記CVD密着層は上記金属を含むガス種、例えば、トリメチルアルミニウム、チタニウムテトライソプロポキシド、テトラメチルシラン、亜リン酸トリメチル等を用いてCVD法によって形成することができる。As the hydrocarbon-based source gas, conventionally known cyclohexane, benzene, acetylene, methane, butylbenzene, toluene, cyclopentane, or the like can be used.
A thickness of about 0.1 to 1 μm made of aluminum (Al), phosphorus (P), titanium (Ti), silicon (Si) or the like is provided between the surface of the cylindrical screen plate main body and the diamond-like carbon film. It is preferable to form a CVD adhesion layer (not shown). The CVD adhesion layer can be formed by a CVD method using a gas species containing the metal, for example, trimethylaluminum, titanium tetraisopropoxide, tetramethylsilane, trimethyl phosphite, or the like.
PVD法としては、スパッタリング法、真空蒸着法(エレクトロンビーム法)、イオンプレーティング法、MBE(分子線エピタキシー法)、レーザーアブレーション法、イオンアシスト成膜法等を挙げることができるが、スパッタリング法が好適である。
なお、前記円筒状スクリーン版本体表面とダイヤモンドライクカーボン被膜との間に、タングステン(W)、チタン(Ti)、珪素(Si)、クロム(Cr)、タンタル(Ta)、ジルコニウム(Zr)等からなる0.1〜1μm程度の厚さのPVD密着層(図示は省略)を形成するのが好ましい。前記PVD密着層はスパッタリング法等のPVD法によって形成することができる。Examples of the PVD method include a sputtering method, a vacuum deposition method (electron beam method), an ion plating method, an MBE (molecular beam epitaxy method), a laser ablation method, and an ion assist film forming method. Is preferred.
In addition, between the surface of the cylindrical screen plate main body and the diamond-like carbon coating, tungsten (W), titanium (Ti), silicon (Si), chromium (Cr), tantalum (Ta), zirconium (Zr), etc. It is preferable to form a PVD adhesion layer (not shown) having a thickness of about 0.1 to 1 μm. The PVD adhesion layer can be formed by a PVD method such as a sputtering method.
本発明の円筒状スクリーン版の製造方法の第2の態様は、二酸化珪素被膜を表面強化被膜として形成した円筒状スクリーン版の製造方法であって、前記円筒状スクリーン版本体の内表面にペルヒドロポリシラザン溶液を塗布し所定の膜厚のペルヒドロポリシラザン塗布膜を形成する塗布膜形成工程と、前記塗布されたペルヒドロポリシラザン塗布膜を過熱水蒸気によって所定の条件で加熱処理して所定の硬度の二酸化珪素被膜を前記被処理体の表面に形成する工程と、を有するものである。ペルヒドロポリシラザン溶液の塗布方法としては、スプレーコート、インクジェット塗布、ファウンティンコート、ディップコート、回転塗布、ロール塗布、ワイヤーバー塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、カーテン塗布等の公知の塗布方法を用いることができる。 A second aspect of the method for producing a cylindrical screen plate according to the present invention is a method for producing a cylindrical screen plate in which a silicon dioxide coating is formed as a surface-enhanced coating. A coating film forming step of forming a perhydropolysilazane coating film having a predetermined thickness by applying a polysilazane solution, and heating the coated perhydropolysilazane coating film with superheated steam under predetermined conditions to obtain a dioxide dioxide having a predetermined hardness. Forming a silicon film on the surface of the object to be processed. As a coating method of the perhydropolysilazane solution, a known coating method such as spray coating, inkjet coating, fountain coating, dip coating, spin coating, roll coating, wire bar coating, air knife coating, blade coating, curtain coating or the like is used. be able to.
上記ペルヒドロポリシラザンを溶解する溶剤としては公知のものを用いればよいが、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、エーテル、THF、塩化メチレン、四塩化炭素、アニソール、デカリン、シクロヘキセン、メチルシクロヘキサン、ソルベッソ、デカヒドロナフタリン、メチルターシャリーブチルエーテル、ジイソブチルエーテル、エチルシクロヘキサン、リモネン、ヘキサン、オクタン、ノナン,デカン、C8−C11アルカン混合物、C18−C11芳香族炭化水素混合物、C8以上の芳香族炭化水素を5重量%以上25重量%以下含有する脂肪族/脂環式炭化水素混合物、及びジブチルエーテルなどを用いることができる。 As the solvent for dissolving the perhydropolysilazane, known solvents may be used. For example, benzene, toluene, xylene, ether, THF, methylene chloride, carbon tetrachloride, anisole, decalin, cyclohexene, methylcyclohexane, sorbeso, decahydro 5% by weight or more of naphthalene, methyl tertiary butyl ether, diisobutyl ether, ethylcyclohexane, limonene, hexane, octane, nonane, decane, C8-C11 alkane mixture, C18-C11 aromatic hydrocarbon mixture, C8 or higher aromatic hydrocarbon An aliphatic / alicyclic hydrocarbon mixture containing 25% by weight or less, dibutyl ether, and the like can be used.
上記した各種溶剤に溶解されて作製されるペルヒドロポリシラザン溶液は、そのままでも過熱水蒸気による加熱処理によって二酸化珪素へ転化するが、反応速度の増加、反応時間の短縮、反応温度の低下、形成される二酸化珪素被膜の密着性の向上等を図る目的で触媒を用いるのが好ましい。これらの触媒も公知であり、例えばアミンやパラジウムが用いられるが、具体的には、有機アミン、例えばC1−5のアルキル基が1−3個配置された第1−第3級の直鎖状脂肪族アミン、フェニル基が1−3個配置された第1−第3級の芳香族アミン、ピリジン又はこれにメチル、エチル基等のアルキル基が核置換された環状脂肪族アミン等が挙げられ、さらに好ましいものとして、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノブチルアミン、モノプロピルアミン、ジプロピルアミン等を挙げることができる。これらの触媒はペルヒドロポリシラザン溶液に予め添加しておいてもよく、また過熱水蒸気による加熱処理の際の処理雰囲気中に気化状態で含有させることもできる。 The perhydropolysilazane solution prepared by dissolving in the above-mentioned various solvents can be converted into silicon dioxide by heating with superheated steam, but the reaction rate is increased, the reaction time is shortened, the reaction temperature is decreased, and formed. It is preferable to use a catalyst for the purpose of improving the adhesion of the silicon dioxide film. These catalysts are also known. For example, amines and palladium are used. Specifically, organic amines such as primary to tertiary straight chain in which 1-3 alkyl groups of C1-5 are arranged. Aliphatic amines, primary to tertiary aromatic amines having 1 to 3 phenyl groups arranged, pyridine or cyclic aliphatic amines in which an alkyl group such as methyl or ethyl group is substituted with a nucleus. More preferable examples include diethylamine, triethylamine, monobutylamine, monopropylamine, dipropylamine and the like. These catalysts may be added in advance to the perhydropolysilazane solution, or may be contained in a vaporized state in the treatment atmosphere during the heat treatment with superheated steam.
前記加熱処理が第1次及び第2次加熱処理を含む複数段の加熱処理であり、第1次加熱処理の条件を100℃〜170℃、好ましくは105℃〜170℃、1分〜30分、及び第2次加熱処理の条件を140℃〜200℃、1分〜30分とし、第2次加熱処理の温度を第1次加熱処理の温度よりも高く設定するのが好適である。また、上記第2次加熱処理の温度を第1次加熱処理の温度よりも5℃以上、好ましくは10℃以上高く設定するのがよい。また、前記加熱処理によって形成された二酸化珪素被膜の表面を冷水又は温水で洗浄する工程をさらに有するのが好ましい。 The heat treatment is a multi-stage heat treatment including a primary heat treatment and a secondary heat treatment, and the conditions of the primary heat treatment are 100 ° C. to 170 ° C., preferably 105 ° C. to 170 ° C., 1 minute to 30 minutes. It is preferable that the conditions of the second heat treatment are 140 ° C. to 200 ° C. and 1 minute to 30 minutes, and the temperature of the second heat treatment is set higher than the temperature of the first heat treatment. In addition, the temperature of the secondary heat treatment is set to be 5 ° C. or higher, preferably 10 ° C. or higher, than the temperature of the primary heat treatment. Moreover, it is preferable to further have the process of wash | cleaning the surface of the silicon dioxide film formed by the said heat processing with cold water or warm water.
以下に本発明の実施例を挙げて本発明をさらに説明するが、これらの実施例は例示的に挙げられるもので、限定的に解釈されるべきでないことはいうまでもない。 EXAMPLES The present invention will be further described below with reference to examples of the present invention. However, it should be understood that these examples are given by way of illustration and should not be construed as limiting.
(実施例1)
従来法によって作製したニッケル製円筒状スクリーン版本体の内表面に炭化水素系原料ガスとしてアセチレンを用いてプラズマCVD法によって厚さ1μmのダイヤモンドライクカーボン被膜を被覆形成した。この円筒状スクリーン版本体にスクイージ等を装着して円筒状スクリーン版を作成しスクリーン印刷装置とした。この印刷装置を用いてスクリーン印刷を行ったところ、ダイヤモンドライクカーボン被膜を被覆した内表面に対するスクイージの作用もスムーズであり、良好な印刷結果が得られた。また、円筒状スクリーン版の内表面に形成したダイヤモンドライクカーボン被膜は非常に硬質であり、スクイージに対する耐摩耗性は従来の表面強化被膜の存在しない円筒状スクリーン版に比べて非常に向上したことを確認した。Example 1
A diamond-like carbon film having a thickness of 1 μm was formed on the inner surface of a nickel cylindrical screen body produced by a conventional method by plasma CVD using acetylene as a hydrocarbon-based source gas. A cylindrical screen plate was prepared by attaching a squeegee or the like to the cylindrical screen plate body to obtain a screen printing apparatus. When screen printing was performed using this printing apparatus, the action of the squeegee on the inner surface coated with the diamond-like carbon film was smooth, and good printing results were obtained. In addition, the diamond-like carbon film formed on the inner surface of the cylindrical screen plate is very hard, and the wear resistance against squeegee is greatly improved compared to the conventional cylindrical screen plate without the surface-enhanced coating. confirmed.
(実施例2)
従来法によって作製したニッケル製円筒状スクリーン版本体の内表面にスパッタリング法によってダイヤモンドライクカーボン被膜を被覆形成した。スパッタリング法の条件は次の通りである。DLC試料:固体カーボンターゲット、雰囲気:アルゴン雰囲気、成膜温度:200〜300℃、成膜時間:150分、成膜厚さ:1μm。この円筒状スクリーン版本体にスクイージ等を装着して円筒状スクリーン版を作成しスクリーン印刷装置とした。この印刷装置を用いてスクリーン印刷を行ったところ、ダイヤモンドライクカーボン被膜を被覆した内表面に対するスクイージの作用もスムーズであり、良好な印刷結果が得られた。また、円筒状スクリーン版の内表面に形成したダイヤモンドライクカーボン被膜は非常に硬質であり、スクイージに対する耐摩耗性は従来の表面強化被膜の存在しない円筒状スクリーン版に比べて非常に向上したことを確認した。(Example 2)
A diamond-like carbon coating was formed by sputtering on the inner surface of a nickel cylindrical screen plate body produced by a conventional method. The conditions of the sputtering method are as follows. DLC sample: solid carbon target, atmosphere: argon atmosphere, deposition temperature: 200 to 300 ° C., deposition time: 150 minutes, deposition thickness: 1 μm. A cylindrical screen plate was prepared by attaching a squeegee or the like to the cylindrical screen plate main body to obtain a screen printing apparatus. When screen printing was performed using this printing apparatus, the action of the squeegee on the inner surface coated with the diamond-like carbon film was smooth, and good printing results were obtained. In addition, the diamond-like carbon film formed on the inner surface of the cylindrical screen plate is very hard, and the wear resistance against squeegee is greatly improved compared to the conventional cylindrical screen plate without the surface-enhanced coating. confirmed.
(実施例3)
ペルヒドロポリシラザン溶液[アクアミカ(AZエレクトロニックマテリアルズ(株)の登録商標)NL120A(AZエレクトロニックマテリアルズ(株)製の商品名、ペルヒドロポリシラザンを20質量%含むジブチルエーテル溶液)をペルヒドロポリシラザンが固形分で4質量%含まれるようにジブチルエーテル溶液で希釈した溶液]を、従来法によって作製したニッケル製円筒状スクリーン版本体の内表面に対してHVLPスプレー塗布を行った。塗布膜厚は0.8μmであった。このペルヒドロポリシラザンが塗布された円筒状スクリーン版本体に対して、過熱水蒸気を用いて二段階の加熱処理(140℃5分+170℃5分)を施して二酸化珪素被膜を形成した。この被膜はカッターナイフで傷が付かない程度の極めて高い被膜硬度を有していた。この円筒状スクリーン版本体にスクイージ等を装着して円筒状スクリーン版を作成しスクリーン印刷装置とした。この印刷装置を用いてスクリーン印刷を行ったところ、二酸化珪素被膜を被覆した内表面に対するスクイージの作用もスムーズであり、良好な印刷結果が得られた。また、円筒状スクリーン版の内表面に形成した二酸化珪素被膜は非常に硬質であり、スクイージに対する耐摩耗性は従来の表面強化被膜の存在しない円筒状スクリーン版に比べて非常に向上したことを確認した。(Example 3)
Perhydropolysilazane solution [Aquamica (registered trademark of AZ Electronic Materials Co., Ltd.) NL120A (trade name, manufactured by AZ Electronic Materials Co., Ltd., dibutyl ether solution containing 20% by mass of perhydropolysilazane)] The solution diluted with a dibutyl ether solution so as to contain 4% by mass] was HVLP sprayed onto the inner surface of a nickel cylindrical screen plate body produced by a conventional method. The coating film thickness was 0.8 μm. The cylindrical screen plate body coated with this perhydropolysilazane was subjected to two-stage heat treatment (140 ° C. 5 minutes + 170 ° C. 5 minutes) using superheated steam to form a silicon dioxide coating. This film had an extremely high film hardness that was not damaged by a cutter knife. A cylindrical screen plate was prepared by attaching a squeegee or the like to the cylindrical screen plate main body to obtain a screen printing apparatus. When screen printing was performed using this printing apparatus, the effect of the squeegee on the inner surface coated with the silicon dioxide film was smooth, and good printing results were obtained. In addition, the silicon dioxide film formed on the inner surface of the cylindrical screen plate is very hard, and it has been confirmed that the abrasion resistance against squeegee is greatly improved compared to the conventional cylindrical screen plate without the surface-enhanced coating. did.
Claims (8)
前記ダイヤモンドライクカーボン被膜をCVD法又はPVD法によって形成することを特徴とする円筒状スクリーン版の製造方法。A method for producing a cylindrical screen plate according to claim 3,
A method for producing a cylindrical screen plate, wherein the diamond-like carbon film is formed by a CVD method or a PVD method.
前記円筒状スクリーン版本体の少なくとも内表面にペルヒドロポリシラザン溶液を塗布しペルヒドロポリシラザン塗布膜を形成する塗布膜形成工程と、
前記塗布されたペルヒドロポリシラザン塗布膜を過熱水蒸気によって加熱処理して二酸化珪素被膜を前記円筒状スクリーン版本体の少なくとも内表面に形成する工程と、
を有することを特徴とする円筒状スクリーン版の製造方法。A method for producing a cylindrical screen plate according to claim 4,
A coating film forming step of forming a perhydropolysilazane coating film by coating a perhydropolysilazane solution on at least an inner surface of the cylindrical screen plate body;
Heating the applied perhydropolysilazane coating film with superheated steam to form a silicon dioxide coating on at least the inner surface of the cylindrical screen plate body; and
A method for producing a cylindrical screen plate, comprising:
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