JPWO2008102499A1 - 磁性体装置及び磁気ランダムアクセスメモリ - Google Patents
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Abstract
Description
1−1.基本構造
図4は、本発明の第1の実施の形態に係る磁性体装置の構造を概略的に示す側面図である。図5は、図4に示された構造を示す平面図である。この磁性体装置は、反強磁性体層1、磁性体層を含むピン層2、及び機能層5を備えている。ピン層2は、反強磁性体層1上に形成されており、その磁化の向きは反強磁性体層1によって固定されている。機能層5は、ピン層2上に形成されており、ピン層2と共に所定の機能を実現する。
(構造)
図6は、本実施の形態が適用された磁気抵抗素子(GMR素子)10の一例を示す側面図である。この磁気抵抗素子10は、半導体基板上に順番に積層された下部電極11(Ta:20nm)、シード層12(NiFe:1nm)、反強磁性体層13(PtMn:20nm)、ピン層2、機能層5、及び上部電極14(Ta:30nm)を有している。反強磁性体層13は、図4中の反強磁性体層1に対応する。
図6に示される磁気抵抗素子10の製造方法は次の通りである。まず、半導体基板上に、上述の各膜11〜13、21〜27、30〜31、14が、スパッタリング法によって順番に成膜される。Ru膜22、24、26のそれぞれの膜厚は、反強磁性結合を実現する膜厚(例:0.8nm)に設定される。その後、フォトリソグラフィ技術により、下部電極11、シード層12、反強磁性体層13、ピン層2、非磁性スペーサ層30、フリー層31、及び上部電極14のそれぞれがパターニングされる。
図7は、上述の磁気抵抗素子10をメモリセルとして用いるMRAM80の構成の一例を示している。MRAM80において、複数のワード線WL1〜WL3と複数のビット線BL1〜BL3が互いに交差するように設けられている。ワード線WL1〜WL3は、ワード線制御回路81とワード線終端回路82に接続されている。一方、ビット線BL1〜BL3は、ビット線制御回路83とビット線終端回路84に接続されている。
図8には、1つの磁気抵抗素子(磁気メモリセル)10と、1本のワード線WLと、1本のビット線BLが示されている。ワード線WLとビット線BLは互いに交差しており、且つ、磁気抵抗素子10を挟むように形成されている。また、1つの磁気抵抗素子10に対して、1つの選択トランジスタ85が設けられている。図7及び図8を参照して、磁気メモリセル10に対するデータ書き込み及びデータ読み出しを説明する。
(構造)
図9は、本実施の形態が適用された磁気抵抗素子(TMR素子)10の一例を示す側面図である。この磁気抵抗素子10は、半導体基板上に順番に積層された下部電極11(Ta:10nm)、シード層12(NiFe:1nm)、反強磁性体層13(PtMn:20nm)、ピン層2、機能層5、及び上部電極14(Ta:30nm)を有している。反強磁性体層13は、図4中の反強磁性体層1に対応する。
MRAMの回路構成は、図7及び図8で示された構成と同様である。また、データ読み出し方法も、第1−2節で説明された方法と同様である。
2−1.基本構造
第2磁性体層3−2の厚さT2を極力小さくしつつ、第1磁性体層3−1の厚さT1を比較的大きくするための工夫は、第1の実施の形態で説明されたものに限られない。例えば、第1磁性体層3−1の少なくとも一部の材料として、磁気モーメントの小さい材料を使用することが考えられる。これにより、同じ磁化量M1であっても、第1磁性体層3−1の厚さT1を比較的大きくすることが可能となる。
図11は、本実施の形態が適用された磁気抵抗素子(TMR素子)10の一例を示す側面図である。この磁気抵抗素子10は、半導体基板上に順番に積層された下部電極11(Ta:20nm)、シード層12(NiFe:1nm)、反強磁性体層13(PtMn:20nm)、ピン層2、機能層5、及び上部電極14(Ta:30nm)を有している。反強磁性体層13は、図10中の反強磁性体層1に対応する。
Claims (10)
- 反強磁性体層と、
前記反強磁性体層上に形成されたピン層と
を備え、
前記ピン層は、複数の磁性体層と少なくとも1つの非磁性体層とが交互に積層された積層構造を有し、前記複数の磁性体層のうちある非磁性体層を挟んで隣り合う2つの磁性体層は、互いに強磁性結合あるいは反強磁性結合しており、
前記複数の磁性体層の磁化量の総和はゼロであり、
前記複数の磁性体層は、
前記反強磁性体層と接触する第1磁性体層と、
前記反強磁性体層から最も離れて位置する第2磁性体層と
を含み、
前記第2磁性体層の厚さは、前記第1磁性体層の厚さより小さい
磁性体装置。 - 請求の範囲1に記載の磁性体装置であって、
前記第2磁性体層の実効的な厚さは、前記第1磁性体層の実効的な厚さより小さい
磁性体装置。 - 請求の範囲1又は2に記載の磁性体装置であって、
前記第2磁性体層の厚さは、前記複数の磁性体層の中で最小である
磁性体装置。 - 請求の範囲1乃至3のいずれか1つに記載の磁性体装置であって、
前記第2磁性体層の磁化量は、前記第1磁性体層の磁化量より小さい
磁性体装置。 - 請求の範囲4に記載の磁性体装置であって、
前記第2磁性体層の磁化量は、前記複数の磁性体層の中で最小である
磁性体装置。 - 請求の範囲1乃至3のいずれか1つに記載の磁性体装置であって、
前記第1磁性体層の少なくとも一部は、磁気モーメントが前記第2磁性体層の材料より小さい材料で形成されている
磁性体装置。 - 請求の範囲6に記載の磁性体装置であって、
前記第1磁性体層は、前記第2磁性体層の材料と同じ材料で形成された磁性体層と、磁気モーメントが前記第2磁性体層の材料より小さい材料で形成された磁性体層との積層構造を有する
磁性体装置。 - 請求の範囲1乃至7のいずれか1つに記載の磁性体装置であって、
更に、
前記ピン層の前記第2磁性体層上に形成された非磁性スペーサ層と、
前記非磁性スペーサ層上に形成された強磁性体層を含むフリー層と
を備え、
前記ピン層の前記複数の磁性体層のそれぞれの磁化の向きは固定されており、前記フリー層の前記強磁性体層の磁化の向きは前記第2磁性体層の磁化の向きに対して平行あるいは反平行となることが許され、
前記ピン層、前記非磁性スペーサ層及び前記フリー層は、磁気抵抗素子を構成する
磁性体装置。 - 反強磁性体層と、
前記反強磁性体層上に形成されたピン層と
を備え、
前記ピン層は、複数の磁性体層と少なくとも1つの非磁性体層とが交互に積層された積層構造を有し、前記複数の磁性体層のうちある非磁性体層を挟んで隣り合う2つの磁性体層は、互いに強磁性結合あるいは反強磁性結合しており、
前記複数の磁性体層の磁化量の総和はゼロであり、
前記複数の磁性体層は、
前記反強磁性体層と接触する第1磁性体層と、
前記反強磁性体層から最も離れて位置する第2磁性体層と
を含み、
前記第2磁性体層の磁化量は、前記第1磁性体層の磁化量より小さい
磁性体装置。 - 複数の磁気抵抗素子がアレイ状に配置された磁気ランダムアクセスメモリであって、
前記複数の磁気抵抗素子の各々は、
反強磁性体層と、
前記反強磁性体層上に形成されたピン層と、
前記ピン層上に形成された非磁性スペーサ層と、
前記非磁性スペーサ層上に形成された強磁性体層を含むフリー層と
を備え、
前記ピン層は、複数の磁性体層と少なくとも1つの非磁性体層とが交互に積層された積層構造を有し、前記複数の磁性体層のうちある非磁性体層を挟んで隣り合う2つの磁性体層は、互いに強磁性結合あるいは反強磁性結合しており、
前記複数の磁性体層の磁化量の総和はゼロであり、
前記複数の磁性体層は、
前記反強磁性体層と接触する第1磁性体層と、
前記非磁性スペーサ層と接触する第2磁性体層と
を含み、
前記第2磁性体層の厚さは、前記第1磁性体層の厚さより小さく、
前記ピン層の前記複数の磁性体層のそれぞれの磁化の向きは固定されており、前記フリー層の前記強磁性体層の磁化の向きは前記第2磁性体層の磁化の向きに対して平行あるいは反平行となることが許される
磁気ランダムアクセスメモリ。
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