JPWO2007111159A1 - 光学特性計測装置及び光学特性計測方法、並びに、光学特性計測ユニット - Google Patents

光学特性計測装置及び光学特性計測方法、並びに、光学特性計測ユニット Download PDF

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Abstract

光学特性計測装置は、光学系10と、測定光の光強度情報を取得する光強度情報取得部40と、演算処理部60とを含む。光学系10は、光源12から出射された光を、偏光子22、1/2波長板24、第1の1/4波長板26を介して試料100に入射させ、試料100から出射した光を、第2の1/4波長板34、検光子36を介して受光部14に入射させるように、かつ、1/2波長板24、第1及び第2の1/4波長板26,34、並びに、検光子36が回転可能に構成されている。光強度情報取得部40では、複数の測定光の光強度情報を取得する。演算処理部60では、測定光の光強度の理論式と、測定光の光強度情報とに基づいて、試料の光学特性を表す行列の行列要素を少なくとも1つ算出する。

Description

本発明は、測定対象の光学特性を計測する光学特性計測装置及び光学特性計測方法、並びに、光学特性計測ユニットに関する。
測定対象の光学特性を表す行列の行列要素を利用して物質の光学特性を解析する技術が知られている。すなわち、測定対象の光学特性を表す行列の行列要素を知ることができれば、測定対象の光学特性(光学特性を表す物理量)を計測することが可能になる。
測定対象の光学特性を表す行列として、例えばミュラー行列が知られており、その行列要素を算出するための種々の技術が知られている。
なお、これらの技術を示す文献として、特開2005−116732号公報、特表2000−502461号公報、Collins, R. W. and Y. T. Kim,"Ellipsometry for thin-film and Surface analysis," Ann. Chem.,62,887a-900a(1990).、Azzam, R. M. A.,"Photopolarimetric Muasurement of the Mueller Matrix by Fourier Analysisi of a Single Detected Signal,"Opt.Lett.2:148-150(1978).、D. Lara and C. Dainty,"Polarization sensitive imaging using a cofocal Mueller matrix ellipsometer" ICO topical Meeting on Polarization Optics,226-227(2003).が知られている。
上述の文献に記載された手法には、それぞれ、次のような課題がある。
特開2005−116732号公報に記載された技術によれば、ミュラー行列の行列要素を高精度に計測することが困難である。
特表2000−502461号公報に記載された技術によれば、計測のために高電圧を利用する必要があり、また、高価な変調素子を利用する必要がある。
Collins, R. W. and Y. T. Kim,"Ellipsometry for thin-film and Surface analysis," Ann. Chem.,62,887a-900a(1990).に記載された技術によると、9個のミュラー行列の行列要素を算出するために、最低でも12個の分光強度が必要になり、効率のよい計測は困難である。
Azzam, R. M. A.,"Photopolarimetric Muasurement of the Mueller Matrix by Fourier Analysisi of a Single Detected Signal,"Opt.Lett.2:148-150(1978).に記載された技術によると、計測に時間がかかり、また、16個のミュラー行列の行列要素をすべて算出するために、最低でも48個の分光強度が必要になり、効率のよい計測は困難である。
D. Lara and C. Dainty,"Polarization sensitive imaging using a cofocal Mueller matrix ellipsometer" ICO topical Meeting on Polarization Optics,226-227(2003).に記載された技術によると、計測のために高電圧を利用する必要があり、また、高価な光学素子を利用する必要がある。さらに、4個のディテクタが必要になるため、簡易な装置構成にすることが困難である。
本発明の目的は、構成が比較的簡易で、かつ、少ない測定データで測定対象の光学特性を表す行列(ミュラー行列)の行列要素を算出することが可能な光学特性計測装置及び光学特性計測方法、並びに、測定対象の光学特性を計測する光学特性計測ユニットを提供することにある。
(1)本発明に係る光学特性計測装置は、
測定対象の光学特性を計測する光学特性計測装置であって、
所定の波長の光を出射する光源と、少なくとも5個の光学素子と、前記少なくとも5個の光学素子及び前記測定対象で前記光を変調させることによって得られる測定光を受光する受光部と、を含む光学系と、
前記測定光の光強度情報を取得する光強度情報取得部と、
前記測定光の光強度の理論式と、前記測定光の光強度情報とに基づいて、前記測定対象の光学特性を表す行列の行列要素の少なくとも1つを算出する演算処理を行う演算処理部と、
を含み、
前記少なくとも5個の光学素子は、第1及び第2の偏光子、1/2波長板、第1及び第2の1/4波長板を含み、
前記光学系は、前記光源から出射された光を、前記第1の偏光子、前記1/2波長板、及び、前記第1の1/4波長板を介して前記測定対象に入射させ、前記測定対象によって変調された前記光を、前記第2の1/4波長板及び前記第2の偏光子を介して前記受光部に入射させるように、かつ、
少なくとも、前記1/2波長板、前記第1及び第2の1/4波長板、並びに、前記第2の偏光子が回転可能に構成されてなり、
前記光強度情報取得部では、
前記1/2波長板、前記第1及び第2の1/4波長板、並びに、前記第2の偏光子の主軸方位の少なくとも1つが異なる第1〜第N(Nは2以上の整数)の条件に設定された前記光学系で得られる第1〜第Nの前記測定光の光強度情報を取得し、
前記演算処理部では、
前記測定対象の光学特性を表す行列の行列要素を変数として含む、前記少なくとも5個の光学素子の主軸方位を反映した前記第1〜第Nの測定光の光強度の理論式と、前記第1〜第Nの測定光の光強度情報とに基づいて、前記行列要素の少なくとも1つを算出する演算処理を行う。
本発明によると、測定光の光強度の理論式は、測定対象の光学特性を表す行列の行列要素を変数として含む式として表すことができる。また、測定光の光強度の理論式は、光学素子の主軸方位を反映したものとなる。このことから、光強度情報取得部で取得される1つの光強度情報と、そのときの光学素子の主軸方位情報とを利用すれば、測定対象の光学特性を表す行列の行列要素の関係を示す関係式を1つ導出することができる。
また、光学素子の主軸方位が変われば、取得される光強度及び光強度の理論式に含まれる係数が変化するため、光強度の理論式が変わる。
そのため、光学素子の主軸方位を適当に設定し、測定対象の光学特性を表す行列の行列要素の関係を示す複数の関係式を導出すれば、これらを連立させて解くことによって、測定対象の光学特性を表す行列の行列要素を算出することができる。
本発明では、光強度情報取得部で、第1〜第N(Nは2以上の整数)の光強度情報、すなわち、N個の光強度情報を取得する。ここで、第1〜第Nの光強度情報は、それぞれ、第1〜第Nの条件に設定された光学系で得られる測定光の強度情報である。そして、第1〜第Nの条件に設定された光学系とは、相互に、光学素子(第1及び第2の1/2波長板)の少なくとも1つの主軸方位が異なる光学系である。
例えば、はじめに第1の設定がなされた光学系を利用して、第1の光強度情報を取得する。次に、第2の設定がなされた光学系を利用して、第2の光強度情報を取得する。これをN回繰り返すことによって、測定対象の光学特性を表す行列の行列要素を変数として含む関係式を、N個導出してもよい。
そして、N個の関係式を、行列要素について解くことによって、当該行列要素を数値として算出することができる。各行列要素は測定対象の光学特性を表すことから、行列要素を算出すれば、測定対象の光学特性を計測することが可能になる。
なお、本発明によると、光学系を、回転型の光学素子のみを利用して構成することができるため、光学系の設定・変更を短時間で正確に行うことができる。そのため、本発明によると、光学特性の精度の高い計測を、効率よく行うことが可能な光学特性計測装置を提供することができる。
(2)本発明に係る光学特性計測装置は、
測定対象の光学特性を計測する光学特性計測装置であって、
光学系に含まれる少なくとも5個の光学素子及び前記測定対象によって変調された測定光の光強度情報を取得する光強度情報取得部と、
前記測定光の光強度の理論式と、前記測定光の光強度情報とに基づいて、前記測定対象の光学特性を表す行列の行列要素の少なくとも1つを算出する演算処理を行う演算処理部と、
を含み、
前記少なくとも5個の光学素子は、第1及び第2の偏光子、1/2波長板、第1及び第2の1/4波長板を含み、かつ、少なくとも、前記1/2波長板、前記第1及び第2の1/4波長板、並びに、前記第2の偏光子が回転可能に構成されてなり、
前記測定光は、光源から出射された所定の波長の光を、前記第1の偏光子、前記1/2波長板、及び、前記第1の1/4波長板を介して前記測定対象に入射させ、前記測定対象によって変調された前記光を、前記第2の1/4波長板及び前記第2の偏光子を介して受光部に入射させることで得られる光であり、
前記光強度情報取得部では、
前記1/2波長板、前記第1及び第2の1/4波長板、並びに、前記第2の偏光子の主軸方位の少なくとも1つが異なる第1〜第N(Nは2以上の整数)の条件に設定された前記光学系で得られる第1〜第Nの前記測定光の光強度情報を取得し、
前記演算処理部では、
前記測定対象の光学特性を表す行列の行列要素を変数として含む、前記少なくとも5個の光学素子の主軸方位を反映した前記第1〜第Nの測定光の光強度の理論式と、前記第1〜第Nの測定光の光強度情報とに基づいて、前記行列要素の少なくとも1つを算出する演算処理を行う。
本発明によると、測定光の光強度の理論式は、測定対象の光学特性を表す行列の行列要素を変数として含む式として表すことができる。また、測定光の光強度の理論式は、光学素子の主軸方位を反映したものとなる。このことから、光強度情報取得部で取得される1つの光強度情報と、そのときの光学素子の主軸方位情報とを利用すれば、測定対象の光学特性を表す行列の行列要素の関係を示す関係式を1つ導出することができる。
また、光学素子の主軸方位が変われば、取得される光強度及び光強度の理論式に含まれる係数が変化するため、光強度の理論式が変わる。
そのため、光学素子の主軸方位を適当に設定し、測定対象の光学特性を表す行列の行列要素の関係を示す複数の関係式を導出すれば、これらを連立させて解くことによって、測定対象の光学特性を表す行列の行列要素を算出することができる。
なお、各行列要素は測定対象の光学特性を表すことから、行列要素を算出すれば、測定対象の光学特性を計測することが可能になる。
(3)この光学特性計測装置において、
前記1/2波長板及び前記第1の1/4波長板は第1の位相変調部を構成し、前記第2の1/4波長板及び前記第2の偏光子は第2の位相変調部を構成してなり、
前記第1〜第Nの条件に設定された光学系とは、それぞれ、
前記第1の位相変調部が、前記1/2波長板及び前記第1の1/4波長板の主軸方位の少なくとも一方が異なる第1〜第L(Lは2以上の整数)の条件に設定され、かつ、
前記第2の位相変調部が、前記第2の1/4波長板及び前記第2の偏光子の主軸方位の少なくとも一方が異なる第1〜第M(Mは2以上の整数)の条件に設定された光学系であり、
N=L×Mを満たしていてもよい。
(4)この光学特性計測装置において、
前記L及びMは、それぞれ、4以上の整数であってもよい。
(5)この光学特性計測装置において、
L=Mであってもよい。
(6)この光学特性計測装置において、
前記第1及び第2の1/4波長板の主軸方位を、それぞれ、θ,θとすると、
前記第1〜第Nの条件に設定された光学系とは、それぞれ、
2θが180度の整数倍又は90度の奇数倍であり、かつ、
2θが180度の整数倍又は90度の奇数倍であってもよい。
これによると、後述する式(13)〜式(16)に示すように、測定光の光強度の理論式を単純化することができる。そのため、演算処理にかかる負荷が小さくなり、演算処理速度を高めることができるため、計測速度を高めることができる。
(7)この光学特性計測装置において、
前記演算処理部で、前記測定対象の光学特性を表す行列の行列要素をすべて算出してもよい。
なお、測定対象の光学特性を表す行列とは、ミュラー行列であってもよい。そして、この発明では、ミュラー行列の16個の行列要素をすべて算出するように構成されていてもよい。
あるいは、測定対象の光学特性を表す行列とはジョーンズ行列であってもよく、この発明は、ジョーンズ行列の4個の行列要素をすべて算出するように構成されていてもよい。
ただし、この光学特性計測装置は、測定対象の光学特性を表す行列の行列要素の一部のみを算出するように構成されていてもよい。
(8)この光学特性計測装置において、
前記光強度情報取得部では、
前記1/2波長板、前記第1及び第2の1/4波長板、並びに、前記検光子が所与の回転比で連続的に回転する前記光学系で得られる前記測定光の光強度情報を取得してもよい。 これによると、光学素子が連続的に回転する光学系で得られる測定光の光強度情報を利用して、光学特性計測を行うことができる。そのため、回転と静止を繰り返す光学素子を利用する場合に較べて、計測を高速化することができる。
(9)この光学特性計測装置において、
前記光強度情報取得部では、
前記1/2波長板、前記第1及び第2の1/4波長板、並びに、前記検光子を、互いに素な回転比で連続的に回転する前記光学系で得られる前記測定光の光強度情報を取得してもよい。
これにより、計測に必要なデータをすべて取得することが可能になる。
(10)この光学特性計測装置において、
前記1/2波長板、前記第1及び第2の1/4波長板、並びに、前記第2の偏光子を駆動させる第1〜第4のアクチュエータと、
前記1/2波長板、前記第1及び第2の1/4波長板、並びに、前記第2の偏光子の主軸方位を検出する第1〜第4の検出部と、
前記第1〜第4のアクチュエータの動作を制御する制御信号を生成する制御信号生成部と、
をさらに含み、
前記制御信号生成部は、前記第1〜第4の検出部からの検出信号に基づいて、前記制御信号を生成してもよい。
(11)本発明に係る光学特性計測ユニットは、上記のいずれかの光学特性計測装置を含む。
この光学特性計測ユニットは、測定対象の光学特性を表す行列(ミュラー行列やジョーンズ行列)の行列要素を利用して、測定対象の光学特性要素(測定対象の光学特性を表す物理量)を算出する構成をなしていてもよい。このとき、光学特性計測ユニットは、測定対象の複屈折位相差やデポラリゼーション、主軸方位、旋光角、二色性等の光学特性要素を算出するように構成されていてもよい。
(12)本発明に係る光学特性計測方法は、
測定対象の光学特性を計測する光学特性計測方法であって、
光学系に含まれる少なくとも5個の光学素子及び前記測定対象によって変調された測定光の光強度情報を取得する光強度情報取得手順と、
前記測定光の光強度の理論式と、前記測定光の光強度情報とに基づいて、前記測定対象の光学特性を表す行列の行列要素の少なくとも1つを算出する演算処理を行う演算処理手順と、
を含み、
前記少なくとも5個の光学素子は、第1及び第2の偏光子、1/2波長板、第1及び第2の1/4波長板を含み、かつ、少なくとも、前記1/2波長板、前記第1及び第2の1/4波長板、並びに、前記第2の偏光子が回転可能に構成されてなり、
前記測定光は、光源から出射された所定の波長の光を、前記第1の偏光子、前記1/2波長板、及び、前記第1の1/4波長板を介して前記測定対象に入射させ、前記測定対象によって変調された前記光を、前記第2の1/4波長板及び前記第2の偏光子を介して受光部に入射させることで得られる光であり、
前記光強度情報取得手順では、
前記1/2波長板、前記第1及び第2の1/4波長板、並びに、前記第2の偏光子の主軸方位の少なくとも1つが異なる第1〜第N(Nは2以上の整数)の条件に設定された前記光学系で得られる第1〜第Nの前記測定光の光強度情報を取得し、
前記演算処理手順では、
前記測定対象の光学特性を表す行列の行列要素を変数として含む、前記少なくとも5個の光学素子の主軸方位を反映した前記第1〜第Nの測定光の光強度の理論式と、前記第1〜第Nの測定光の光強度情報とに基づいて、前記行列要素の少なくとも1つを算出する演算処理を行う。
本発明によると、測定光の光強度の理論式は、測定対象の光学特性を表す行列の行列要素を変数として含む式として表すことができる。また、測定光の光強度の理論式は、光学素子の主軸方位を反映したものとなる。このことから、光強度情報取得部で取得される1つの光強度情報と、そのときの光学素子の主軸方位情報とを利用すれば、測定対象の光学特性を表す行列の行列要素の関係を示す関係式を1つ導出することができる。
また、光学素子の主軸方位が変われば、取得される光強度及び光強度の理論式に含まれる係数が変化するため、光強度の理論式が変わる。
そのため、光学素子の主軸方位を適当に設定して、測定対象の光学特性を表す行列の行列要素の関係を示す複数の関係式を導出すれば、これらを連立させて解くことによって、測定対象の光学特性を表す行列の行列要素を算出することができる。
本発明では、光強度情報取得手順で、第1〜第N(Nは2以上の整数)の光強度情報、すなわち、N個の光強度情報を取得する。ここで、第1〜第Nの光強度情報は、それぞれ、第1〜第Nの条件に設定された光学系で得られる測定光の強度情報である。そして、第1〜第Nの条件に設定された光学系とは、相互に、光学素子(第1及び第2の1/2波長板)の少なくとも1つの主軸方位が異なる光学系である。
例えば、はじめに第1の設定がなされた光学系を利用して、第1の光強度情報を取得する。次に、第2の設定がなされた光学系を利用して、第2の光強度情報を取得する。これをN回繰り返すことによって、測定対象の光学特性を表す行列の行列要素を変数として含む関係式を、N個導出してもよい。
そして、N個の関係式を、行列要素について解くことによって、当該行列要素を数値として算出することができる。各行列要素は測定対象の光学特性を表すことから、行列要素を算出すれば、測定対象の光学特性を計測することが可能になる。
なお、本発明によると、光学系を、回転型の光学素子のみを利用して構成することができるため、光学系の設定・変更を短時間で正確に行うことができる。そのため、本発明によると、光学特性の精度の高い計測を、効率よく行うことが可能な光学特性計測方法を提供することができる。
(13)この光学特性計測方法において、
前記1/2波長板及び前記第1の1/4波長板は第1の位相変調部を構成し、前記第2の1/4波長板及び前記第2の偏光子は第2の位相変調部を構成してなり、
前記第1〜第Nの条件に設定された光学系とは、それぞれ、
前記第1の位相変調部が、前記1/2波長板及び前記第1の1/4波長板の主軸方位の少なくとも一方が異なる第1〜第L(Lは2以上の整数)の条件に設定され、かつ、
前記第2の位相変調部が、前記第2の1/4波長板及び前記第2の偏光子の主軸方位の少なくとも一方が異なる第1〜第M(Mは2以上の整数)の条件に設定された光学系であり、 N=L×Mを満たしていてもよい。
このとき、L及びMは4以上の整数であってもよい。また、L=Mであってもよい。
(14)この光学特性計測方法において、
前記第1及び第2の1/4波長板の主軸方位を、それぞれ、θ,θとすると、
前記第1〜第Nの条件に設定された光学系とは、それぞれ、
2θが180度の整数倍又は90度の奇数倍であり、かつ、
2θが180度の整数倍又は90度の奇数倍であってもよい。
これによると、後述する式(13)〜式(16)に示すように、測定光の光強度の理論式を単純化することができる。そのため、演算処理にかかる負荷が小さくなり、演算処理速度を高めることができるため、計測速度を高めることができる。
(15)この光学特性計測方法において、
前記演算処理手順で、前記測定対象の光学特性を表す行列の行列要素をすべて算出してもよい。
なお、測定対象の光学特性を表す行列とは、ミュラー行列であってもよい。そして、この発明では、ミュラー行列の16個の行列要素をすべて算出するように構成されていてもよい。
あるいは、測定対象の光学特性を表す行列とはジョーンズ行列であってもよく、この発明は、ジョーンズ行列の4個の行列要素をすべて算出するように構成されていてもよい。
ただし、この光学特性計測装置は、測定対象の光学特性を表す行列の行列要素の一部のみを算出するように構成されていてもよい。
(16)この光学特性計測方法において、
前記光強度情報取得手順では、
前記1/2波長板、前記第1及び第2の1/4波長板、並びに、前記検光子が所与の回転比で連続的に回転する前記光学系で得られる前記測定光の光強度情報を取得してもよい。
これによると、光学素子が連続的に回転する光学系で得られる測定光の光強度情報を利用して、光学特性計測を行うことができる。そのため、回転と静止を繰り返す光学素子を利用する場合に較べて、計測を高速化することができる。
(17)この光学特性計測方法において、
前記光強度情報取得手順では、
前記1/2波長板、前記第1及び第2の1/4波長板、並びに、前記検光子が互いに素な回転比で連続的に回転する前記光学系で得られる前記測定光の光強度情報を取得してもよい。
これにより、計測に必要なデータをすべて取得することが可能になる。
図1は、光学特性計測装置の概略図である。 図2は、光学特性計測装置のブロック図である。 図3は、光学特性計測装置について説明するための図である。 図4は、光学特性計測装置について説明するための図である。 図5は、光強度情報取得手順を示すフローチャート図である。 図6は、演算処理手順を示すフローチャート図である。 図7Aは、計測結果を示す図である。 図7Bは、計測結果を示す図である。 図7Cは、計測結果を示す図である。 図8Aは、計測結果を示す図である。 図8Bは、計測結果を示す図である。 図8Cは、計測結果を示す図である。 図9Aは、計測結果を示す図である。 図9Bは、計測結果を示す図である。 図9Cは、計測結果を示す図である。
以下、本発明の実施の形態を、図面に基づき説明する。
本発明の実施の形態に係る計測装置(光学特性計測装置)は、測定対象の光学特性を計測するものである。
以下、本発明を適用した実施の形態に係る光学特性計測装置として、測定対象である試料100の光学特性を表す行列の行列要素の少なくとも1つを算出することが可能な計測装置1について説明する。
(1)装置構成
図1及び図2は、計測装置1の装置構成を説明するための図である。なお、図1は光学系10(計測装置1)の模式図であり、図2は計測装置1のブロック図である。
本実施の形態に係る計測装置1は、測定対象である試料100の光学特性を計測する装置である。計測装置1は、光学系10と、光強度情報取得部40と、演算処理部60とを含む。光強度情報取得部40では、光学系10に含まれる光学素子及び試料100によって変調された測定光の光強度情報を取得する。演算処理部60では、測定光の光強度の理論式と、測定光の光強度情報とに基づいて、試料100の光学特性(行列要素)を算出する演算処理を行う。なお、試料100は、光を透過させる物質であってもよく、光を反射させる物質であってもよい。
以下、計測装置1の装置構成について説明する。
1−1:光学系10
光学系10は、光源12と受光部14とを含む。光学系10は、また、光源12と受光部14とを結ぶ光路11上に設けられた、偏光子22、1/2波長板24、第1の1/4波長板26、第2の1/4波長板34、並びに、検光子36を含む。これらの光学素子は、光源12から出射された光を、偏光子22、1/2波長板24、及び、第1の1/4波長板26を介して試料100に入射させ、試料100によって変調された光を、第2の1/4波長板34、及び、検光子36を介して受光部14に入射させるように配列されている。以下、それぞれについて説明する。
光源12は、所定の波長(波数)の光を出射する。すなわち、光源12は、単色光を出射する発光装置であるといえる。光源12として、レーザーやSLDなどを利用してもよい。なお、光源12は、出射する光の波長(波数)を変更することが可能な構成をなしていてもよい。
偏光子22は、検光子36と対になり、光源12から出射された光を直線偏光とする入射側の偏光子である。
1/2波長板24は、直線偏光の振動方向を変える光学素子である。また、第1及び第2の1/4波長板26,34は、直線偏光を円偏光(楕円偏光)に変える光学素子である。なお、1/2波長板24、第1及び第2の1/4波長板26,34は、光源12から出射される光の波長に対応したものを選択する。
検光子36は、試料100によって変調された光(第2の1/4波長板34から出射された光)を直線偏光とする出射側の偏光子である。検光子36は、偏光子22と対をなしている。すなわち、偏光子22を第1の偏光子と、検光子36を第2の偏光子と、それぞれ称してもよい。
光学系10では、1/2波長板24、第1及び第2の1/4波長板26,34、並びに、検光子36は、回転可能に構成されている。なお、光学系10では、偏光子22についても、回転可能に構成されていてもよい。これらの光学素子は、回転することによって、その主軸方位を変えることができる。そして、光学系10では、光源12から出射された光は、光学素子の回転角によって、任意に位相が変調される。
なお、光学系10では、1/2波長板24及び第1の1/4波長板26は第1の位相変調部25を構成し、第2の1/4波長板34及び検光子36は第2の位相変調部35を構成していてもよい。
受光部14は、測定光を受光する。受光部14は、複数の受光素子15を含んでいてもよい。複数の受光素子15は、図3に示すように、平面的に(二次元的に)配列されていてもよい。このとき、複数の受光素子15は、受光面を構成していてもよい。そして、光強度情報取得部40では、受光素子15毎に、入射した測定光の光強度情報を取得してもよい。受光部14として、例えば、CCDを利用してもよい。
光学系10は、図示しないビームエキスパンダーを含んでいてもよい。ビームエキスパンダーは、ビーム径を大きくするための光学素子(装置)である。ビームエキスパンダーは、光源12と試料100との間に配置される。すなわち、ビームエキスパンダーは、光路11における試料100よりも上流側に配置される。これにより、試料100の広範囲に光を照射することができる。そして、ビームエキスパンダーと対応して、受光素子15が二次元的に配列された受光部14を利用することで、試料100の広範囲にわたり、光学特性を計測することが可能になる。すなわち、広がりを有する試料100に対して、効率よく光特性計測を行うことができる。言い換えると、試料100を、広がりを有する「面」として解析することが可能になる。ただし、本発明には、ビームエキスパンダーを有しない光学系を利用してもよい。
光学系10は、図示しない反射板(ミラー)を有する構成としてもよい。反射板を利用することで、光学系10を、試料100を水平に配置することが可能な構成にすることができる。すなわち、反射板を利用することで、計測装置1を顕微鏡型の構成としてもよい。ただし、反射板を利用せずに、計測装置1を顕微鏡型の構成としてもよい。
光学系10は、また、図1及び図2に示すように、試料100を透過した透過光が、第2の1/4波長板34(第2の位相変調部35)に入射するように構成されていてもよい。ただし、光学系10は、試料100からの反射光が、第2の1/4波長板34(第2の位相変調部35)に入射するように構成されていてもよい(図示せず)。
1−2:光強度情報取得部40
光強度情報取得部40は、測定光の光強度情報を取得する。すなわち、光強度情報取得部40は、光学系10に含まれる光学素子(偏光子22、1/2波長板24、第1及び第2の1/4波長板26,34、並びに、検光子36)、及び、試料100によって変調された光(測定光)の光強度情報を取得する。すなわち、光強度情報取得部40は、受光部14で受光された光(測定光)の光強度情報を取得する。なお、受光部14は、光強度情報取得部40の一部を構成していてもよい。
計測装置1では、光強度情報取得部40は、1/2波長板24、第1及び第2の1/4波長板26,34、並びに、検光子36の主軸方位の少なくとも1つが異なる第1〜第N(Nは2以上の整数)の条件(主軸方位条件)に設定された光学系10で得られる、第1〜第Nの測定光(複数の測定光)の光強度情報を取得する。
詳しくは、光強度情報取得部40では、第1〜第N(Nは2以上の整数)の光強度情報、すなわち、N個の光強度情報を取得する。ここで、第1〜第Nの光強度情報とは、それぞれ、第1〜第Nの条件(主軸方位条件)に設定された光学系10で得られる測定光の強度情報である。そして、第1〜第Nの条件(主軸方位条件)に設定された光学系10とは、相互に、光学素子(1/2波長板24、第1及び第2の1/4波長板26,34、並びに、検光子36)の少なくとも1つの主軸方位が異なる光学系10である。
なお、第1〜第Nの主軸方位条件とは、第1の位相変調部25が、1/2波長板24及び第1の1/4波長板26の主軸方位の少なくとも一方が異なる第1〜第L(Lは2以上の整数)の条件のいずれかに設定されてなり、かつ、第2の位相変調部35が、第2の1/4波長板34及び検光子36の主軸方位の少なくとも一方が異なる第1〜第M(Mは2以上の整数)の条件のいずれかに設定されていてもよい。例えば、第1の位相変調部25を第1の条件に設定した状態で、第2の位相変調部35を第1〜第Mの条件に順次変更して、M個の測定光の光強度情報を取得する。次いで、第1の位相変調部25を第2の条件に設定し、その状態で、第2の位相変調部35を第1〜第Mの条件に順次変更して、M個の測定光の光強度情報を取得する。これらの動作を繰り返すことによって、L×M個の測定光の光強度情報を取得してもよい。このとき、N=L×Mを満たす。また、L及びMは、4以上の整数であってもよく、L=Mであってもよい。
また、第1〜第Nの主軸方位条件では、偏光子22の主軸方位は一定であってもよく、互いに異なっていてもよい。
そして、光強度情報取得部40で取得された複数の光強度情報は、制御装置80の記憶装置50に格納されてもよい。記憶装置50では、複数の光強度情報を、光学系10の設定条件(偏光子22、1/2波長板24、第1及び第2の1/4波長板26,34、並びに、検光子36の主軸方位)と対応させて格納してもよい。例えば、記憶装置50では、第1〜第Nの条件における光学素子の主軸方位と、第1〜第Nの光強度情報とを、対応させて格納してもよい。
1−3:演算処理部60
演算処理部60は、測定光の光強度の理論式と、測定光の光強度情報とに基づいて、測定対象(試料100)の光学特性を表す行列の行列要素を算出する演算処理を行う。後で詳述するが、測定光の光強度の理論式は、試料100の光学特性を表す行列の行列要素を変数として含んだ形で表すことができる。また、測定光の光強度の理論式に表れる係数は、光学系10の光学素子の主軸方位設定により変化する。そのため、光学素子の主軸方位の設定が異なる光学系10で得られる複数の測定光の光強度情報を取得し、これと光強度の理論式を対応させることで、複数の行列要素の関係を示す複数の関係式を導出することができる。そして、この関係式を各行列要素について解けば、行列要素を数値として算出することができる。
また、試料100の光学特性を表す行列の行列要素を算出することができれば、これを利用して、試料100の光学特性(例えば、複屈折位相差や主軸方位、旋光角、二色性、デポラリゼーション等)を算出(計測)することが可能になる。
1−4:駆動・検出部
計測装置1は、第1〜第4の駆動・検出部72,74,76,78をさらに含む。なお、第1〜第4の駆動・検出部72〜78は、それぞれ、1/2波長板24、第1及び第2の1/4波長板26,34、並びに、検光子36を回転させる駆動部であり、かつ、これらの光学素子の主軸方位を検出する検出部(センサ)である。
計測装置1は、さらに、他の駆動・検出部75を含んでいてもよい。駆動・検出部75は、偏光子22を回転させる駆動部であり、かつ、偏光子22の主軸方位を検出する検出部(センサ)である。 なお、計測装置1では、第1〜第4の駆動・検出部72〜78は、光学素子を所定の回転比で連続的に回転させるように構成されていてもよい。
そして、計測装置1は、第1〜第4の駆動・検出部72〜78の動作を制御する制御信号生成部70をさらに含んでいてもよい。例えば、制御信号生成部70は、検出部からの検出信号に基づいて制御信号を生成し、駆動部の動作を制御するように構成されていてもよい。
1−5:制御装置80
計測装置1は、制御装置80を含んでいてもよい。制御装置80は、計測装置1の動作を統括制御する機能を有していてもよい。すなわち、制御装置80は、第1〜第4の駆動・検出部72〜78を制御して光学素子(偏光子22、1/2波長板24、第1及び第2の1/4波長板26,34、並びに、検光子36)の主軸方位を設定し、光源12の発光動作を制御し、そして、光強度情報取得部40及び演算処理部60の動作を制御してもよい。
制御装置80は、記憶装置50及び演算処理部60を含んでいてもよい。なお、記憶装置50は、種々のデータを一時記憶する機能を有する。記憶装置50は、例えば、測定光の光強度情報を、光学素子(偏光子22、1/2波長板24、第1及び第2の1/4波長板26,34、並びに、検光子36)の主軸方位情報(第1〜第Nの主軸方位情報)と対応付けて記憶してもよい。
制御装置80は、また、制御信号生成部70を含んでいてもよい。そして、制御装置80は、同期制御部をさらに含んでいてもよい。同期制御部は、1/2波長板24、第1及び第2の1/4波長板26,34、並びに、検光子36を連続的に回転させて光強度情報を取得する場合に、これらの光学素子の回転を同期させるための制御を行う。同期制御部は、1/2波長板24、第1及び第2の1/4波長板26,34、並びに、検光子36の主軸方位情報に基づいて同期制御信号を生成し、駆動部の動作を制御するように構成されていてもよい。
なお、計測装置1は、特に制御装置80(演算処理部60)において、コンピュータを利用した処理が可能である。ここで、コンピュータとは、プロセッサ(処理部:CPU等)、メモリ(記憶部)、入力装置、及び、出力装置を基本的な構成要素とする物理的装置(システム)を言う。
図4には、計測装置1を構成する、演算処理システムの機能ブロックの一例を示す。
処理部110は、情報記憶媒体130に格納されるプログラム(データ)に基づいて本実施形態の種々の処理を行う。即ち情報記憶媒体130には、本実施形態の各部としてコンピュータを機能させるためのプログラム(各部の処理をコンピュータに実行させるためのプログラム)が記憶される。
処理部110の機能は、各種プロセッサ(CPU、DSP等)、ASIC(ゲートアレイ等)などのハードウェアや、プログラムにより実現できる。
記憶部120は、処理部などのワーク領域となるもので、その機能はRAMなどにより実現できる。
情報記憶媒体130(コンピュータにより読み取り可能な媒体)は、プログラムやデータなどを格納するものであり、その機能は、光ディスク(CD、DVD)、光磁気ディスク(MO)、磁気ディスク、ハードディスク、磁気テープ、或いはメモリ(ROM)などにより実現できる。
情報記憶媒体130に格納されたプログラムに基づいて、第1及び第2の1/2波長板24,28の回転比が設定され、光源12の発光動作が制御されてもよい。
表示部140は、本計測装置で得られた情報を、画像として表示する機能を有していてもよい。表示部140は、既に公知となっているいずれかのハードウェアを適用してもよい。
(2)光学特性計測原理
次に、本実施の形態に係る光学特性計測装置が採用する、光学特性計測原理を説明する。なお、本実施例では、測定対象(試料100)の光学特性を表す行列としてミュラー行列を例に取り、光学特性計測原理を説明する。
2−1:測定光の光強度の理論式
光源12から出射される光(出射光)のストークスパラメータS、偏光子22のミュラー行列Pθ、1/2波長板24のミュラー行列Hθ1、第1の1/4波長板26のミュラー行列Qθ2、及び、試料100のミュラー行列Xは、それぞれ、以下のように表すことができる。
なお、これらの式中、θは偏光子22の主軸方位であり、θは1/2波長板24の主軸方位であり、θは第1の1/4波長板26の主軸方位である。また、m00〜m33は、試料100の光学特性を表すミュラー行列の行列要素である。
これらの行列式を利用すると、偏光子22、1/2波長板24、及び、第1の1/4波長板26、並びに、試料100で変調された出射光のストークスパラメータSは、
で表すことができる。 ただし、
とした。
なお、S〜Sは、それぞれ、試料100から出射した光のストークスパラメータの各成分(要素)である。
さらに、第2の1/4波長板34のストークスパラメータQθ3と検光子36のストークスパラメータAθ4とは、それぞれ、次のように表すことができる。
これらを用いれば、検光子36を透過して受光部14に入射する光(測定光)のストークスパラメータS´は、
と表すことができる。
この行列演算を行えば、S´の第1成分から、測定光の光強度Iの理論式を、
と表すことができる。
ただし、
である。
2−2:試料100のミュラー行列の行列要素の算出原理
式(11)を見ると、測定光の光強度の理論式は、S〜S,θ,θで表されることがわかる。また、式(6)(及び式(7))を見ると、S〜Sは、m00〜m33,θ,θ,θで表されることがわかる。
すなわち、光学系10によると、測定光の光強度の理論式は、試料100のミュラー行列の行列要素であるm00〜m33、及び、光学系10の光学素子の主軸方位であるθ,θ,θ,θ,θで表されることがわかる。このうち、θ〜θは、駆動・検出部によって検出可能である。そのため、光学系10によると、測定光の光強度の理論式は、m00〜m33を未知数として含む式で表すことが可能になる。
ところで、測定光の光強度の理論式は、θ〜θを含むため、光学系10の光学素子の主軸方位条件を変えれば、係数の異なる理論式が導出される。また、m00〜m33は、測定対象(試料100)に固有の値であり、光学系10の光学素子の主軸方位を変えた場合でも、その値は変化しない。
このことから、光学素子の主軸方位の少なくとも1つが異なる第1〜第Nの条件に設定された光学系10で得られる第1〜第Nの測定光の光強度を、第1〜第Nの主軸方位条件と対応させて式(6)及び式(11)に代入すれば、試料100のミュラー行列の行列要素m00〜m33の関係を表すN個の関係式を導出することができる。
そして、導出されるN個の関係式を連立させて解けば、試料100のミュラー行列の行列要素を数値として算出することができる。
(3)光特性計測手順
次に、本実施の形態に係る光特性計測装置による、光特性計測手順について説明する。
図5及び図6には、本実施の形態に係る光特性計測装置の動作フローチャートを示す。
3−1:光強度情報取得手順
図5は、光強度情報取得手順のフローチャートである。
光強度情報取得手順では、まず、光学系10を構成する光学素子の主軸方位を設定する(ステップS10)。
この状態で、光源12から光を出射し、光学素子及び試料100によって変調された測定光を、受光部14で受光する。そして、光強度情報取得部40で、受光部14が受光した測定光の光強度情報を取得する(ステップS12)。
なお、ステップS12の前のいずれかに、光学系10の光路11上に、試料100を設けるステップを行ってもよい。当該ステップは、光学素子の主軸方位を設定するステップの前後のいずれに行ってもよい。
計測装置1では、これらのステップで、第1〜第NのN個の測定光の光強度情報を取得する。ここで、第1〜第Nの測定光の光強度情報とは、1/2波長板24、第1及び第2の1/4波長板26,34、及び、検光子36の主軸方位の少なくとも1つが異なる設定がなされた光学系10で得られる測定光の強度情報である。すなわち、光強度情報取得手順では、上記のステップS10及びステップS12を、光学素子(少なくとも1/2波長板24、第1及び第2の1/4波長板26,34、及び、検光子36)の主軸方位設定を変更して複数回行う。
詳しくは、計測装置1では、はじめに、光学系10(光学素子の主軸方位)を第1の条件に設定して、第1の光強度情報を取得する。そして、記憶装置50に、第1の条件(主軸方位情報)と第1の光強度情報とを対応付けして格納する。続いて、光学系10を第2の条件に設定(変更)して、第2の光強度情報を取得し、記憶装置50で、第2の条件と第2の光強度情報とを対応付けして格納する。以下、この動作を繰り返し、N個の主軸方位情報と、N個の光強度情報を取得し、それぞれを対応させて、記憶装置50に格納する。
なお、光学系10の光学素子の主軸方位は、アクチュエータにより設定(変更)することができる。また、光学系の光学素子の主軸方位情報は、検出部で検出してもよく、予めプログラムされた情報に従ってもよい。
3−2:演算処理手順
図6は、演算処理手順のフローチャートである。演算処理手順では、光強度情報取得手順で取得された測定光の光強度情報と、測定光の理論式とに基づいて、試料100の光学特性を算出する。
演算処理手順では、はじめに、測定光の理論式(例えば式(6)及び式(11))に、光強度情報と、光学素子の主軸方位情報とを代入し、試料100の光学特性を表す行列の行列要素(ミュラー行列の行列要素)と、測定光の光強度との関係を表す関係式を導出する(ステップS20)。
なお、1つの光強度情報と、対応する1つの主軸方位情報とから、試料100の光学特性を表す行列の行列要素(ミュラー行列の行列要素)の関係を表す関係式を1つ導出することができる。すなわち、N個の光強度情報と、対応するN個の主軸方位情報とを利用すれば、試料100の光学特性を表す行列の行列要素(ミュラー行列の行列要素)の関係を表す複数の関係式を導出することができる。
そして、複数の関係式を解くことによって、試料100の光学特性を表す行列の行列要素(ミュラー行列の行列要素)を算出する(ステップS22)。
(4)試料100の光学特性を表す行列の行列要素(ミュラー行列の行列要素)を算出する演算の具体例
以下、試料100のミュラー行列の行列要素を算出する演算の具体的な一例について説明する。
4−1:本具体例で利用する光強度の理論式
先に説明したように、測定光の光強度の理論式は、式(11)で表すことができる。ここで、式(11)にθ=0°,45°を代入すると、式(11)は、
と変形することができる。
同様に、式(6)にθ=0°,45°を代入すると、式(6)は、
と変形することができる。ただし、i=0,1,2,3である。
本具体例では、これらの式を利用して、試料100のミュラー行列の行列要素を算出する。
4−2:本具体例における光学系の主軸方位条件
本具体例では、次に示す表1の通りに光学素子(1/2波長板24、第1及び第2の1/4波長板26,34、並びに、検光子36)の主軸方位を設定して、I(0)〜I(15)の16個の光強度情報を取得する。なお、偏光子22の主軸方位を0°に設定した。
4−3:演算手順
はじめに、式(13)にI(0)及びδ´=0°と、I(4)及びδ´=90°を代入し、式(14)にI(8)及びδ´=180°と、I(12)及びδ´=270°を代入する。これにより、次に示す4式を導出することができる。
そして、式(17)〜式(20)を連立させると、次に示すように、S〜Sを算出することができる。
なお、表1を見ると、I(0),I(4),I(8),I(12)は、それぞれ、δ=0°における測定光の光強度であることがわかる。そのため、上記の手順によって算出される各値は、δ=0°におけるS〜Sの値である。
これらの演算を、I(1),I(5),I(9),I(13)、及び、I(2),I(6),I(10),I(14)、及び、I(3),I(7),I(11),I(15)に対して行うことで、δ=90°,180°,270°のそれぞれにおけるS〜Sの各値を算出することができる。この演算結果を、次の表2に示す。
この表を整理すると、
のように書き表すことができる。
次に、表3の内容を式(15)及び式(16)に代入する。
例えば、式(15)及び式(16)においてi=0とし、式(15)に、δ=0°とこれに対応するSの値(表3におけるS00の値)、及び、δ=90°とこれに対応するSの値(表3におけるS10の値)を代入し、また、式(16)に、δ=180°とこれに対応するSの値(表3におけるS20の値)、及び、δ=270°とこれに対応するSの値(表3におけるS30の値)を代入する。これにより、次に示す4式を導出することができる。
そして、式(25)〜式(28)を連立させれば、次式に示すように、m00〜m03の各値を算出することができる。
同様の手順を、S,S,Sのそれぞれに対して行うと、m10〜m13,m20〜m23,m30〜m33の各値を算出することができる。この演算結果を、表4に示す。
以上の手順によって、試料100の光学特性を表すミュラー行列の行列要素をすべて算出することができる。特に、この方法によると、演算が単純で、演算処理にかかる負荷が小さいため、高速の演算処理が可能になる。
なお、本発明は、計測装置を、必ずしもミュラー行列の16個の行列要素をすべて算出するように構成されていなくてもよい。すなわち、計測装置1は、ミュラー行列の16個の行列要素のうち、必要な要素のみを算出するように構成されていてもよい。
また、この具体例では、θ=0°,45°、及び、θ=0°,45°を例にとって説明した。しかし、本具体例で適用可能なθ、θの値はこれに限られるものではない。例えば、2θが180度の整数倍又は90度の奇数倍になるように第1の1/4波長板26の主軸方位が設定されてなり、かつ、2θが180度の整数倍又は90度の奇数倍になるように第2の1/4波長板34の主軸方位が設定された光学系10を利用して測定光の光強度情報を取得し、行列要素を算出する演算を行ってもよい。光学系10がこの条件を満たす場合には、式(6)及び式(11)を単純化することができるため、演算処理にかかる負担を小さくすることができる。
(5)産業上の利用可能性
以上に述べたように、本実施の形態に係る計測装置によると、測定対象である試料100の光学特性を表すミュラー行列の16個の行列要素を、簡易、簡便、かつ、迅速に算出することが可能になる。
そして、測定対象である試料100の光学特性を表すミュラー行列の16個の行列要素をすべて算出することで、試料100の様々な光学特性(光学特性を示す物理量)を明らかにすることができる。以下、その具体例を示す。
5−1:デポラリゼーション
試料100のデポラリゼーションは、
と表すことができる。
式(33)を見ると、デポラリゼーションを算出するためには、ミュラー行列の16個の行列要素がすべて必要であることがわかる。すなわち、本実施の形態に係る計測装置を利用すれば、試料100のデポラリゼーションを、簡易かつ迅速に算出することが可能になる。
5−2:複屈折位相差及び主軸方位、並びに、二色性
複屈折位相差及び主軸方位、並びに、二色性を有する試料のミュラー行列は、
と書き表すことができる。
ここで、
である。
f,Psは、それぞれ、進相軸及び遅相軸(f軸及びs軸)の主透過率である。また、φは、進相軸の方向(主軸方位)である。
式(34)と式(35)とから、複屈折位相差Δ、主軸方位φ、進相軸及び遅相軸の主透過率Pf,Psは、
と表すことができる。
すなわち、試料100のミュラー行列の行列要素を利用して、複屈折位相差及び主軸方位、並びに、二色性が算出することが可能になる。
(5−3)反射係数及びその位相差
1次散乱媒質における反射係数と位相差のミュラー行列Xsurfは、
と表すことができる。
ここで、r,rs,σは、それぞれ、p-偏光、s-偏光における振幅反射係数、及び
、p-偏光とs-偏光との位相差である。
これらを計算すれば、
を得ることができる。
すなわち、試料100のミュラー行列の行列要素を利用すれば、p-偏光、s-偏光における振幅反射係数、及び、p-偏光、s-偏光の位相差を算出することができる。
なお、本発明に係る計測装置がこれらの光学特性要素(試料100の光学特性を表す物理量)を算出する光学特性要素計測ユニットとして構成されている場合には、制御装置80(演算処理部60)で、これらの光学特性要素を算出する処理を行ってもよい。このとき、光学特性要素計測ユニットは、光学特性要素の各値を出力する装置として構成されてもよい。
(6)変形例
本発明は、上記の実施の形態に限られるものではなく、種々の変形例が可能である。ここでは、光強度情報及び光学素子の主軸方位から、試料100のミュラー行列要素を算出する方法の変形例について説明する。
上述した式(13)、式(14)、及び、式(15)、式(16)は、次式のように一般化することができる。
本変形例では、このときのαを任意の角度に変化させて、最小二乗法による近似を用いて、x,x,x,xを算出する。以下、この手順について、式(44)を例にとって説明する。
式(44)において、αをN回変化させたものとし、誤差を含む実測値f´ (α)と、式(44)の理論値f(α)を近似し、x,x,xを算出する。ここでは、最小二乗法により、
とおき、
を満たすa,a,aを求める。
式(46)及び式(47)から、次式を導出することができる。
式(48)は、行列を用いると、
と表すことができ、逆行列を求めることによって、
が得られる。
この手順によると、サンプル(試料100)の特性に合わせて、最も検出感度が高くなる位相変調量を選択することができるため、高精度の計測が可能になる。
(7)キャリブレーション
実際に装置で計測を行う場合、光学素子による偏光状態の変化や光軸調整時の誤差が生じる。そのため、上述の解析を行うだけでは、実験光学系に固有の誤差は補償されていない。そこで、実験光学系の有する複屈折等に起因する誤差を解消するために、キャリブレーションを行ってもよい。キャリブレーションを行うことで、精度の高い計測結果を得ることができる。
なお、本発明では、計測装置1に適用可能ないずれかのキャリブレーション手法を適用して、キャリブレーションを行ってもよい。
(8)計測結果
以下、本発明を適用した実施の形態に係る計測装置による計測結果を示す。
次に示す式(51)〜式(56)は、計測結果である測定対象のミュラー行列の行列式と、その理論値を示している。
ここで、式(51)及び式(52)は、サンプルがない状態で計測した計測値及び理論値である。また、式(53)及び式(54)は、サンプルとして偏光子(ポラロイド)を計測した計測値及びその理論値である。さらに、式(55)及び式(56)は、サンプルとして1/4波長板を計測した計測値及びその理論値である。それぞれの計測値と理論値とを対比すれば、この計測装置によって、概ね理論値と一致した結果を得ることができることがわかる。
なお、式(51)〜式(56)は、測定対象の一点(1つの受光素子に対応する領域)のミュラー行列を示している。これを面(複数の受光素子に対応する領域)に拡張すれば、測定対象の面における計測結果(ミュラー行列の分布状況)を得ることができる。
図7A〜図9Cには、本発明を適用した実施の形態に係る計測装置を利用して、試料を2次元的に計測したときの計測結果を示す。なお、図7A〜図7Cは、サンプルを挿入しない状態で計測を行ったときの計測結果であり、図8A〜図8C及び図9A〜図9Cは、それぞれ、サンプルとして方位が90度の偏光子(ポラロイド)及び1/4波長板を計測したときの計測結果である。図7A、図8A、図9Aでは、光強度を表すm00が1となるように他の要素を規格化し、各要素を、−1〜1を青〜赤のカラーバーで表示した。なお、それぞれの要素の画像の中心部が、サンプルである。また、図7B、図8B、図9Bは、図7A、図8A、図9Aで示される計測結果を拡大し、黒〜白のカラーバーで表示した図である。そして、図7C、図8C、図9Cは、計測結果を、ミュラー行列要素の分布として示す図である。
この計測装置によると、図7A〜図9Cに示すように、サンプルの所定の領域における行列要素を算出することができる。すなわち、本発明によると、広がりを有する測定対象を、測定面として計測することができる。また、本発明によると、図7A、図8A、図9A、及び、図7B、図8B、図9Bに示すように、サンプルの所定の領域における行列要素の分布状況を、視覚的に表示することが可能になる。
なお、サンプルを挿入しない状態で計測したときの理論値、サンプルとして偏光子及び1/4波長板を挿入したときの計測結果は、それぞれ、式(52)、式(54)、式(56)で表される。これらの式を図7A〜図9Cと対比すると、計測結果が理論値とほぼ一致していることがわかる。すなわち、この計測装置によって、信頼性の高い計測を行うことが可能であることがわかる。
(9)最後に
本発明は、上述の実施の形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。本発明は、実施の形態で説明した構成と実質的に同一の構成(例えば、機能、方法及び結果が同一の構成、あるいは目的及び効果が同一の構成)を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。
例えば、光学系10を構成する光学素子は、手動で、その主軸方位を変更可能に構成されていてもよい。この場合には、検出部によってその主軸方位情報を取得し、各種演算処理を行ってもよい。
また、光学系10は、光源12及び偏光子22に変えて、直線偏光を出射する光源を利用してもよい。なお、当該光源は、直線偏光の変更方向を任意に変更可能な構成をなしていてもよい。
また、計測装置1では、光学系10を構成する光学素子(1/2波長板24、第1及び第2の1/4波長板26,34、並びに、検光子36)を連続的に回転させながら、光強度情報を取得してもよい。これによると、短時間で効率よく光強度情報を取得することができるため、試料100のリアルタイムな計測が可能になる。
ただし、本実施の形態に係る光学特性計測装置によると、先に説明したように、ある入射偏光(δ,2θに設定された第1の位相変調部25によって変調された光)に対して、第2の位相変調部35の設定(δ´,2θ)を変化させて光強度情報を取得する必要がある。そのため、連続的に回転する光学系を利用してデータを取得するためには、δ,2θ,δ´,2θを、それぞれ異なる周期で回転させる必要がある。すなわち、δ,2θ,δ´,2θが異なる周期で変化するように光学素子(1/2波長板24、第1及び第2の1/4波長板26,34、並びに、検光子36)を回転させれば、連続的に回転する光学素子を利用して必要なデータをすべて取得することが可能になる。例えば、光学素子(1/2波長板24、第1及び第2の1/4波長板26,34、並びに、検光子36)を、互いに素な回転比で回転させれば、必要なデータをすべて取得することが可能になる。
ところで、測定光の光強度を表す式である式(11)は、次式のように変形することができる。
ただし、
である。 そして、δ´を複数回変化させることで、S,S12,Sが得られ、さらに2θを変化させることで、S,Sが得られる。
また、式(6)の各行は、
とすることができる。
ただし、
であり、i=0,1,2,3である。
そして、δを複数回変化させることで、mi0,Mi12,mi3が得られ、さらに2θを変化させることで、mi1,mi2が得られる。
表5には、δ,2θ,δ´,2θが異なる周期で連続的に変化する場合の具体例を示す。なお、2θ及び2θは素子の主軸方位を表すので、180度で1周期とした。
また、このときの各素子の回転角を表6に示す。
表6に示すように各素子を回転させることによって、表5に示す位相変化を得ることができる。そして、これによって得られる光強度情報及び対応する主軸方位情報に基づいて、測定対象の光学特性を表す行列の行列要素を算出することができる。 光学素子が連続的に回転する光学系を利用して光強度情報を取得する場合、光学素子の回転と静止を繰り返す場合に較べて、必要なデータを短時間で取得することが可能になるため、さらに高速の光学特性計測が可能になる。
なお、光学素子(1/2波長板24、第1及び第2の1/4波長板26,34、並びに、検光子36)が連続的に回転する光学系10によって光強度情報を取得する場合には、これらの光学素子を、同期させる必要がある。
上述した例によれば、1/2波長板24、第1及び第2の1/4波長板26,34、並びに、検光子36の主軸方位が同時に0°となるように、1/2波長板24、第1及び第2の1/4波長板26,34、並びに、検光子36を同期させると、解析に適した光強度情報を取得することが可能になる。
これらの同期制御を行う方法は特に限られるものではない。例えば、第1の1/4波長板26の主軸方位を基準にして同期制御を行ってもよい。以下、同期制御の手順について説明する。はじめに、1/2波長板24、第1及び第2の1/4波長板26,34、並びに、検光子36を所定の回転比で回転さる。そして、第1及び第2の駆動・検出部72,74を利用して、第1の1/4波長板26の主軸方位θが0°となったとき(偏光子22の主軸方位と一致したとき)の、1/2波長板24の主軸方位θを検出する。そして、第1の駆動・検出部72(アクチュエータ)に検出された差分に対応する電圧を与えることで、1/2波長板24の主軸方位θをずらし、1/2波長板24を、第1の1/4波長板26に同期させる。同様に、第2の1/4波長板34及び検光子36を、第1の1/4波長板26に同期させてもよい。
この同期制御により、光学素子(1/2波長板24、第1及び第2の1/4波長板26,34、並びに、検光子36)が連続的に回転する光学系によって、必要なデータを取得することが可能になる。
本発明によると、様々な物質(光学材料となる結晶、高分子材料など)の物性検査の他、顕微鏡装置に組み込むことで、複屈折性だけでなく、旋光性や吸収性を持つ生体試料の観察に応用が可能である。また、高速な計測を行えば、力学的な付加や試薬を与えることによる試料の変化を様々なパラメータからモニタリングすることが可能になる。

Claims (17)

  1. 測定対象の光学特性を計測する光学特性計測装置において、
    所定の波長の光を出射する光源と、少なくとも5個の光学素子と、前記少なくとも5個の光学素子及び前記測定対象で前記光を変調させることによって得られる測定光を受光する受光部と、を含む光学系と、
    前記測定光の光強度情報を取得する光強度情報取得部と、
    前記測定光の光強度の理論式と、前記測定光の光強度情報とに基づいて、前記測定対象の光学特性を表す行列の行列要素の少なくとも1つを算出する演算処理を行う演算処理部と、
    を含み、
    前記少なくとも5個の光学素子は、第1及び第2の偏光子、1/2波長板、第1及び第2の1/4波長板を含み、
    前記光学系は、前記光源から出射された光を、前記第1の偏光子、前記1/2波長板、及び、前記第1の1/4波長板を介して前記測定対象に入射させ、前記測定対象によって変調された前記光を、前記第2の1/4波長板及び前記第2の偏光子を介して前記受光部に入射させるように、かつ、
    少なくとも、前記1/2波長板、前記第1及び第2の1/4波長板、並びに、前記第2の偏光子が回転可能に構成されてなり、
    前記光強度情報取得部では、
    前記1/2波長板、前記第1及び第2の1/4波長板、並びに、前記第2の偏光子の主軸方位の少なくとも1つが異なる第1〜第N(Nは2以上の整数)の条件に設定された前記光学系で得られる第1〜第Nの前記測定光の光強度情報を取得し、
    前記演算処理部では、
    前記測定対象の光学特性を表す行列の行列要素を変数として含む、前記少なくとも5個の光学素子の主軸方位を反映した前記第1〜第Nの測定光の光強度の理論式と、前記第1〜第Nの測定光の光強度情報とに基づいて、前記行列要素の少なくとも1つを算出する演算処理を行う光学特性計測装置。
  2. 測定対象の光学特性を計測する光学特性計測装置において、
    光学系に含まれる少なくとも5個の光学素子及び前記測定対象によって変調された測定光の光強度情報を取得する光強度情報取得部と、
    前記測定光の光強度の理論式と、前記測定光の光強度情報とに基づいて、前記測定対象の光学特性を表す行列の行列要素の少なくとも1つを算出する演算処理を行う演算処理部と、
    を含み、
    前記少なくとも5個の光学素子は、第1及び第2の偏光子、1/2波長板、第1及び第2の1/4波長板を含み、かつ、少なくとも、前記1/2波長板、前記第1及び第2の1/4波長板、並びに、前記第2の偏光子が回転可能に構成されてなり、
    前記測定光は、光源から出射された所定の波長の光を、前記第1の偏光子、前記1/2波長板、及び、前記第1の1/4波長板を介して前記測定対象に入射させ、前記測定対象によって変調された前記光を、前記第2の1/4波長板及び前記第2の偏光子を介して受光部に入射させることで得られる光であり、
    前記光強度情報取得部では、
    前記1/2波長板、前記第1及び第2の1/4波長板、並びに、前記第2の偏光子の主軸方位の少なくとも1つが異なる第1〜第N(Nは2以上の整数)の条件に設定された前記光学系で得られる第1〜第Nの前記測定光の光強度情報を取得し、
    前記演算処理部では、
    前記測定対象の光学特性を表す行列の行列要素を変数として含む、前記少なくとも5個の光学素子の主軸方位を反映した前記第1〜第Nの測定光の光強度の理論式と、前記第1〜第Nの測定光の光強度情報とに基づいて、前記行列要素の少なくとも1つを算出する演算処理を行う光学特性計測装置。
  3. 請求項1又は請求項2記載の光学特性計測装置において、
    前記1/2波長板及び前記第1の1/4波長板は第1の位相変調部を構成し、前記第2の1/4波長板及び前記第2の偏光子は第2の位相変調部を構成してなり、
    前記第1〜第Nの条件に設定された光学系とは、それぞれ、
    前記第1の位相変調部が、前記1/2波長板及び前記第1の1/4波長板の主軸方位の少なくとも一方が異なる第1〜第L(Lは2以上の整数)の条件に設定され、かつ、
    前記第2の位相変調部が、前記第2の1/4波長板及び前記第2の偏光子の主軸方位の少なくとも一方が異なる第1〜第M(Mは2以上の整数)の条件に設定された光学系であり、
    N=L×Mを満たす光学特性計測装置。
  4. 請求項3記載の光学特性計測装置において、
    前記L及びMは、それぞれ、4以上の整数である光学特性計測装置。
  5. 請求項3又は請求項4記載の光学特性計測装置において、
    L=Mである光学特性計測装置。
  6. 請求項1から請求項5のいずれかに記載の光学特性計測装置において、
    前記第1及び第2の1/4波長板の主軸方位を、それぞれ、θ,θとすると、
    前記第1〜第Nの条件に設定された光学系とは、それぞれ、
    2θが180度の整数倍又は90度の奇数倍であり、かつ、
    2θが180度の整数倍又は90度の奇数倍である光学特性計測装置。
  7. 請求項1から請求項6のいずれかに記載の光学特性計測装置において、
    前記演算処理部で、前記測定対象の光学特性を表す行列の行列要素をすべて算出する光学特性計測装置。
  8. 請求項1から請求項7のいずれかに記載の光学特性計測装置において、
    前記光強度情報取得部では、
    前記1/2波長板、前記第1及び第2の1/4波長板、並びに、前記検光子が所与の回転比で連続的に回転する前記光学系で得られる前記測定光の光強度情報を取得する光学特性計測装置。
  9. 請求項8記載の光学特性計測装置において、
    前記光強度情報取得部では、
    前記1/2波長板、前記第1及び第2の1/4波長板、並びに、前記検光子を、互いに素な回転比で連続的に回転する前記光学系で得られる前記測定光の光強度情報を取得する光学特性計測装置。
  10. 請求項1から請求項9のいずれかに記載の光学特性計測装置において、
    前記1/2波長板、前記第1及び第2の1/4波長板、並びに、前記第2の偏光子を駆動させる第1〜第4のアクチュエータと、
    前記1/2波長板、前記第1及び第2の1/4波長板、並びに、前記第2の偏光子の主軸方位を検出する第1〜第4の検出部と、
    前記第1〜第4のアクチュエータの動作を制御する制御信号を生成する制御信号生成部と、
    をさらに含み、 前記制御信号生成部は、前記第1〜第4の検出部からの検出信号に基づいて、前記制御信号を生成する光学特性計測装置。
  11. 請求項1から請求項10のいずれかに記載の光学特性計測装置を含む光学特性計測ユニット。
  12. 測定対象の光学特性を計測する光学特性計測方法において、
    光学系に含まれる少なくとも5個の光学素子及び前記測定対象によって変調された測定光の光強度情報を取得する光強度情報取得手順と、
    前記測定光の光強度の理論式と、前記測定光の光強度情報とに基づいて、前記測定対象の光学特性を表す行列の行列要素の少なくとも1つを算出する演算処理を行う演算処理手順と、
    を含み、
    前記少なくとも5個の光学素子は、第1及び第2の偏光子、1/2波長板、第1及び第2の1/4波長板を含み、かつ、少なくとも、前記1/2波長板、前記第1及び第2の1/4波長板、並びに、前記第2の偏光子が回転可能に構成されてなり、
    前記測定光は、光源から出射された所定の波長の光を、前記第1の偏光子、前記1/2波長板、及び、前記第1の1/4波長板を介して前記測定対象に入射させ、前記測定対象によって変調された前記光を、前記第2の1/4波長板及び前記第2の偏光子を介して受光部に入射させることで得られる光であり、
    前記光強度情報取得手順では、
    前記1/2波長板、前記第1及び第2の1/4波長板、並びに、前記第2の偏光子の主軸方位の少なくとも1つが異なる第1〜第N(Nは2以上の整数)の条件に設定された前記光学系で得られる第1〜第Nの前記測定光の光強度情報を取得し、
    前記演算処理手順では、
    前記測定対象の光学特性を表す行列の行列要素を変数として含む、前記少なくとも5個の光学素子の主軸方位を反映した前記第1〜第Nの測定光の光強度の理論式と、前記第1〜第Nの測定光の光強度情報とに基づいて、前記行列要素の少なくとも1つを算出する演算処理を行う光学特性計測方法。
  13. 請求項12記載の光学特性計測方法において、
    前記1/2波長板及び前記第1の1/4波長板は第1の位相変調部を構成し、前記第2の1/4波長板及び前記第2の偏光子は第2の位相変調部を構成してなり、
    前記第1〜第Nの条件に設定された光学系とは、それぞれ、
    前記第1の位相変調部が、前記1/2波長板及び前記第1の1/4波長板の主軸方位の少なくとも一方が異なる第1〜第L(Lは2以上の整数)の条件に設定され、かつ、
    前記第2の位相変調部が、前記第2の1/4波長板及び前記第2の偏光子の主軸方位の少なくとも一方が異なる第1〜第M(Mは2以上の整数)の条件に設定された光学系であり、
    N=L×Mを満たす光学特性計測方法。
  14. 請求項12又は請求項13記載の光学特性計測方法において、
    前記第1及び第2の1/4波長板の主軸方位を、それぞれ、θ,θとすると、
    前記第1〜第Nの条件に設定された光学系とは、それぞれ、
    2θが180度の整数倍又は90度の奇数倍であり、かつ、
    2θが180度の整数倍又は90度の奇数倍である光学特性計測方法。
  15. 請求項12から請求項14のいずれかに記載の光学特性計測方法において、
    前記演算処理手順で、前記測定対象の光学特性を表す行列の行列要素をすべて算出する光学特性計測方法。
  16. 請求項12から請求項15のいずれかに記載の光学特性計測方法において、
    前記光強度情報取得手順では、
    前記1/2波長板、前記第1及び第2の1/4波長板、並びに、前記検光子が所与の回転比で連続的に回転する前記光学系で得られる前記測定光の光強度情報を取得する光学特性計測方法。
  17. 請求項16記載の光学特性計測方法において、
    前記光強度情報取得手順では、
    前記1/2波長板、前記第1及び第2の1/4波長板、並びに、前記検光子が互いに素な回転比で連続的に回転する前記光学系で得られる前記測定光の光強度情報を取得する光学特性計測方法。
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