JPWO2007043569A1 - Transparent conductive film and method for producing the same - Google Patents

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公 東谷
公 東谷
陽一 神田
陽一 神田
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Abstract

本発明は導電性が高く、充分な膜の強度を有する透明導電性膜を提供する。具体的には、平面網目構造を有する金属薄膜からなる透明導電性膜、および(a)ポリマー粒子が分散したエマルション溶液を基板上に塗布して、該ポリマー粒子の単層膜を形成させる工程、(b)形成した単層膜を加熱して単層平面網目構造を形成する工程、(c)単層平面網目構造を形成した基板に、金属ナノ粒子を塗布する工程、および(d)金属ナノ粒子を加熱して融着させる工程を含む透明導電性膜の製造方法である。The present invention provides a transparent conductive film having high conductivity and sufficient film strength. Specifically, a transparent conductive film composed of a metal thin film having a planar network structure, and (a) a step of applying an emulsion solution in which polymer particles are dispersed on a substrate to form a single layer film of the polymer particles, (B) heating the formed single layer film to form a single layer planar network structure, (c) applying metal nanoparticles to the substrate on which the single layer planar network structure is formed, and (d) metal nano It is a manufacturing method of a transparent conductive film including the process of heating and fusing particles.

Description

本発明は、特定の構造を有し、導電性に優れた金属薄膜からなる透明導電性膜および該透明導電性膜の製造方法に関する。   The present invention relates to a transparent conductive film comprising a metal thin film having a specific structure and excellent conductivity, and a method for producing the transparent conductive film.

透明導電性膜は、身近なエレクトロニクスの製品において主に電極材料として多く利用されている。実用的な電子デバイス用の透明導電性膜としては、安定した特性が得られる酸化物薄膜である酸化インジウムスズ(以下、ITOという)膜がほとんどを占め、その他にも酸化インジウム亜鉛(以下、IZOという)膜などが利用されている。しかしながら、ITO膜やIZO膜は、いずれも主原料であるインジウムが希少金属であることから、その枯渇問題が危ぶまれ、また、膜形成には真空処理や高温処理が必要であることから、製造工程が煩雑であるという問題があった。   Transparent conductive films are widely used mainly as electrode materials in familiar electronics products. As a transparent conductive film for practical electronic devices, indium tin oxide (hereinafter referred to as ITO) film, which is an oxide thin film capable of obtaining stable characteristics, occupies most, and indium zinc oxide (hereinafter referred to as IZO). Membrane etc. are used. However, both ITO and IZO films are manufactured because indium, the main raw material, is a rare metal, so the depletion problem is jeopardized, and the formation of the film requires vacuum processing and high-temperature processing. There was a problem that the process was complicated.

そこで、ITO膜やIZO膜に代えて金や銀などの金属粒子を利用し、透明基材の上に金属微粒子を塗布した透明導電性膜を製造する方法が提案されている。例えば、特開昭63−160140号公報および特開平9−55175号公報には、陰極線管の外表面に用いる帯電防止膜として、金属のコロイド溶液を塗布し、乾燥させることにより製造する方法が開示されている。しかしながら、特開昭63−160140号公報および特開平9−55175号公報に記載の方法は、透明基材の上に金属粒子を分散させたものであり、機械強度が小さいという問題や、導電性が低いという問題があった。   Therefore, a method of manufacturing a transparent conductive film in which metal particles such as gold and silver are used in place of the ITO film and the IZO film and metal fine particles are coated on a transparent substrate has been proposed. For example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 63-160140 and 9-55175 disclose a method for producing an antistatic film used on the outer surface of a cathode ray tube by applying a metal colloid solution and drying it. Has been. However, the method described in JP-A-63-160140 and JP-A-9-55175 is a method in which metal particles are dispersed on a transparent substrate, and there is a problem that the mechanical strength is low, and the electrical conductivity. There was a problem of low.

また、特開2001−255402号公報では、膜の強度を強くするため、ポリマーラテックスと金属粒子とを混合させた透明導電層を有するフィルムについて開示されている。該透明導電層は、ポリマーラテックスを混合することにより、強度と導電性を併せ持っているが、金属微粒子は基板上にてポリマーラテックス中に分散されているために、導電性が充分なものではないという問題があった。   Japanese Patent Laid-Open No. 2001-255402 discloses a film having a transparent conductive layer in which a polymer latex and metal particles are mixed in order to increase the strength of the film. The transparent conductive layer has both strength and conductivity by mixing a polymer latex. However, since the metal fine particles are dispersed in the polymer latex on the substrate, the conductivity is not sufficient. There was a problem.

本発明は、従来、透明導電性膜の主原料として含まれているインジウムを使用することなく、容易に製造することができ、また、優れた導電性が得られ、かつ充分な膜の強度を有する透明導電性膜を提供することを目的とする。   The present invention can be easily manufactured without using indium, which has been conventionally contained as a main raw material for transparent conductive films, has excellent conductivity, and has sufficient film strength. It aims at providing the transparent conductive film which has.

本発明は、平面網目構造を有する金属薄膜からなる透明導電性膜に関する。   The present invention relates to a transparent conductive film made of a metal thin film having a planar network structure.

平面網目構造の網目の平均径が0.1μm以上であることが好ましい。   The average mesh size of the planar network structure is preferably 0.1 μm or more.

本発明は、基板上に、前記の透明導電性膜が形成されてなる透明導電性材料にも関する。   The present invention also relates to a transparent conductive material in which the transparent conductive film is formed on a substrate.

また、本発明は、(a)ポリマー粒子が分散したエマルション溶液を基板上に塗布して、該ポリマー粒子の単層膜を形成させる工程、(b)形成した単層膜を加熱して単層平面網目構造を形成する工程、(c)単層平面網目構造を形成した基板に、金属ナノ粒子を塗布する工程、および(d)金属ナノ粒子を加熱して融着させる工程を含む前記の透明導電性膜の製造方法にも関する。   The present invention also includes (a) a step of applying an emulsion solution in which polymer particles are dispersed on a substrate to form a single layer film of the polymer particles, and (b) heating the formed single layer film to form a single layer. The above transparent comprising a step of forming a planar network structure, (c) a step of applying metal nanoparticles to a substrate on which a single-layer planar network structure is formed, and (d) a step of heating and fusing the metal nanoparticles. The present invention also relates to a method for manufacturing a conductive film.

前記ポリマー粒子の粒子径が0.1〜1000μmであることが好ましい。   The polymer particles preferably have a particle size of 0.1 to 1000 μm.

工程(b)における加熱温度が50〜350℃であることが好ましい。   It is preferable that the heating temperature in a process (b) is 50-350 degreeC.

また、本発明は、(e)対向する基板間に、ペースト状の金属ナノ粒子とともに空気または揮発性モノマーを封入し、基板間に平面網目構造を形成させる工程、(f)形成した平面網目構造を凍結乾燥する工程、および(d)金属ナノ粒子を加熱して融着させる工程を含む前記の透明導電性膜の製造方法にも関する。   The present invention also includes (e) a step of enclosing air or a volatile monomer together with paste-like metal nanoparticles between opposing substrates to form a planar network structure between the substrates, and (f) a formed planar network structure. And (d) the method for producing the transparent conductive film, comprising the step of heating and fusing the metal nanoparticles.

本発明の透明導電性膜の表面の電子顕微鏡写真である。It is an electron micrograph of the surface of the transparent conductive film of this invention. 本発明の透明導電性膜の製造方法の一実施の形態である。It is one Embodiment of the manufacturing method of the transparent conductive film of this invention.

本発明は、平面網目構造を有する金属薄膜からなる透明導電性膜に関する。   The present invention relates to a transparent conductive film made of a metal thin film having a planar network structure.

平面網目構造としては、平面三角構造、平面四角構造、平面六角構造、および平面円形構造、またはこれらの混合構造などがあげられる。このなかで、作製の容易性、導電性の均一性の点で平面六角構造が好ましい。   Examples of the planar network structure include a planar triangular structure, a planar square structure, a planar hexagonal structure, a planar circular structure, or a mixed structure thereof. Among these, a plane hexagonal structure is preferable from the viewpoint of ease of production and conductivity uniformity.

平面網目構造の網目の平均径は、目的によって異なるが、0.1μm以上が好ましい。網目の平均径が0.1μmより小さいと、金属ナノ粒子との均一混合が難しくなる。なお、網目の平均径の上限は、実施態様により種々選択可能であり、平均径が大きいほど透過率は良好になるが、1000μm以下が好ましい。   The average diameter of the planar network structure varies depending on the purpose, but is preferably 0.1 μm or more. When the average mesh size is smaller than 0.1 μm, uniform mixing with metal nanoparticles becomes difficult. The upper limit of the average diameter of the mesh can be variously selected depending on the embodiment. The larger the average diameter is, the better the transmittance is, but 1000 μm or less is preferable.

金属薄膜の膜厚は、10〜100nmが好ましく、10〜50nmがより好ましい。膜厚が10nmより小さいと、一般に、金属膜界面近傍においては、電子軌道に歪みが生じているので、歪んだ領域の占める割合が高くなり導電率が低下して導電性を示さなくなる傾向がある。一方、膜厚が100nmより大きいと、透過率が小さくなる、平面網目構造を形成する金属ナノ粒子の細線の形が見えてしまう傾向がある。   10-100 nm is preferable and, as for the film thickness of a metal thin film, 10-50 nm is more preferable. When the film thickness is smaller than 10 nm, generally, the electron orbit is distorted in the vicinity of the metal film interface. Therefore, the proportion of the distorted region is increased, and the conductivity tends to decrease and the conductivity is not exhibited. . On the other hand, if the film thickness is larger than 100 nm, the transmittance tends to be small, and the shape of fine lines of metal nanoparticles forming a planar network structure tends to be seen.

金属薄膜に用いる金属は、具体的には金、銀、銅、アルミニウム、鉄、ニッケル、パラジウム、プラチナなどの導電性のナノ粒子であればよい。これらの中で、金、銀が、反応性が小さい、表面抵抗が小さくなるなどの点で好ましい。   Specifically, the metal used for the metal thin film may be conductive nanoparticles such as gold, silver, copper, aluminum, iron, nickel, palladium, and platinum. Among these, gold and silver are preferable in terms of low reactivity and low surface resistance.

透明導電性膜の透過率は、50%以上がより好ましく、70%以上がさらに好ましく、90%以上が特に好ましい。透過率が50%より小さいと、導電膜としては利用できても透過膜としての価値は低い。   The transmittance of the transparent conductive film is more preferably 50% or more, further preferably 70% or more, and particularly preferably 90% or more. When the transmittance is less than 50%, the value as a permeable film is low even though it can be used as a conductive film.

本発明で製造される膜の表面抵抗は、100Ω/□以下が好ましく、10Ω/□以下がより好ましく、1Ω/□以下がさらに好ましい。表面抵抗が100Ω/□より大きいと、導電性膜としての価値は低下する。   The surface resistance of the film produced according to the present invention is preferably 100Ω / □ or less, more preferably 10Ω / □ or less, and further preferably 1Ω / □ or less. When the surface resistance is larger than 100Ω / □, the value as a conductive film is lowered.

図1に本発明の透明導電性膜の電子顕微鏡写真を示す。図1からわかるように、本発明の透明導電性膜は平面網目構造を有しており、たとえ網目のどこかが断線されても、全体的な導電性にはほとんど影響しないという特徴がある。   FIG. 1 shows an electron micrograph of the transparent conductive film of the present invention. As can be seen from FIG. 1, the transparent conductive film of the present invention has a planar network structure, and even if any part of the mesh is disconnected, the overall conductivity is hardly affected.

本発明の透明導電性膜は、(a)ポリマー粒子が分散したエマルション溶液を基板上に塗布して、該ポリマー粒子の単層膜を形成させる工程、(b)形成した単層膜を加熱して単層平面網目構造を形成する工程、(c)平面網目構造を形成した基板に、金属ナノ粒子を塗布する工程、および(d)金属ナノ粒子を加熱して、融着させる工程を含む方法により製造される。   The transparent conductive film of the present invention comprises (a) a step of applying an emulsion solution in which polymer particles are dispersed on a substrate to form a monolayer film of the polymer particles, and (b) heating the formed monolayer film. Forming a single-layer planar network structure, (c) applying metal nanoparticles to the substrate on which the planar network structure is formed, and (d) heating and fusing the metal nanoparticles. Manufactured by.

以下、図2に基づいて本発明の透明導電性膜の製造方法の一実施の形態を説明する。   Hereinafter, an embodiment of the method for producing a transparent conductive film of the present invention will be described with reference to FIG.

まず、工程(a)において、ポリマー粒子が分散したエマルション溶液を基板1上に塗布し、各ポリマー粒子が基板1上に緻密に並ぶように充填されることにより、ポリマー粒子単層膜2が形成される。   First, in the step (a), an emulsion solution in which polymer particles are dispersed is applied onto the substrate 1, and each polymer particle is packed so as to be densely arranged on the substrate 1, thereby forming a polymer particle monolayer film 2. Is done.

工程(a)におけるポリマー粒子としては、溶融軟化点温度が常温より高く、かつ金属ナノ粒子の溶融温度より低いことが必要であり、また、ポリマー粒子と金属ナノ粒子の静電反発力が強く、金属ナノ粒子と同様に水中で負電荷を有するものが、精度の良い網目構造が形成される点で好ましい。具体例としては、負電荷を持つポリスチレン、ポリメタクリル酸などのポリマーラテックス粒子が単層膜を形成した際、広範囲にクラックのない粒子の規則構造を製造できる点で好ましい。   As the polymer particles in the step (a), the melting softening point temperature needs to be higher than normal temperature and lower than the melting temperature of the metal nanoparticles, and electrostatic repulsion between the polymer particles and the metal nanoparticles is strong, As in the case of metal nanoparticles, those having a negative charge in water are preferred in that a highly accurate network structure is formed. As a specific example, when a polymer latex particle such as polystyrene or polymethacrylic acid having a negative charge forms a single layer film, it is preferable in that a regular structure of particles having no cracks can be produced over a wide range.

ポリマー粒子の粒子径は、0.1〜1000μmが好ましく、0.1〜5μmがより好ましく、1〜3μmがさらに好ましい。粒子径が0.1μmより小さいと、透過率が減少する傾向がある。一方、粒子径が1000μmより大きいと、透過率は高くなるが、細線が太くなりすぎて平面網目構造の形状が見えてしまう傾向がある。   The particle diameter of the polymer particles is preferably 0.1 to 1000 μm, more preferably 0.1 to 5 μm, and further preferably 1 to 3 μm. When the particle diameter is smaller than 0.1 μm, the transmittance tends to decrease. On the other hand, when the particle diameter is larger than 1000 μm, the transmittance increases, but the fine line becomes too thick and the shape of the planar network structure tends to be seen.

ポリマー粒子を分散させる溶媒としては、ポリマー粒子が溶解せず、かつ沸点が低く蒸気圧の高い極性溶媒が用いられる。極性溶媒としては、例えば、水、メタノール、エタノール、プロピルアルコール、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド等が挙げられ、扱いが容易なことから水を使用することが好ましい。   As the solvent for dispersing the polymer particles, a polar solvent which does not dissolve the polymer particles and has a low boiling point and a high vapor pressure is used. Examples of the polar solvent include water, methanol, ethanol, propyl alcohol, dimethyl sulfoxide, dimethylformamide and the like, and it is preferable to use water because it is easy to handle.

また、基板としては、ガラス基板やプラスチック基板などを使用することができる。   As the substrate, a glass substrate, a plastic substrate, or the like can be used.

エマルション溶液のポリマー粒子の配合量は、エマルション溶液に対して、5〜30重量%が好ましく、15〜30重量%がより好ましい。配合量が5重量%より小さいと、充填率が低下し広範囲、かつ多数の空隙が出現する傾向がある。一方、配合量が30重量%より大きいと、多重に配列する傾向がある。なお、エマルション溶液を調製するために、乳化剤を適宜加えても良い。   The blending amount of the polymer particles in the emulsion solution is preferably 5 to 30% by weight and more preferably 15 to 30% by weight with respect to the emulsion solution. If the blending amount is less than 5% by weight, the filling rate tends to decrease and a wide range and a large number of voids tend to appear. On the other hand, if the blending amount is greater than 30% by weight, there is a tendency for multiple arrangement. In addition, in order to prepare an emulsion solution, you may add an emulsifier suitably.

エマルション溶液を基板上に塗布する方法としては、剪断塗布法、ディップコート法、スピンコート法、移流集積法、マイクロ流路法などがあげられる。   Examples of the method for applying the emulsion solution on the substrate include a shear coating method, a dip coating method, a spin coating method, an advection accumulation method, and a microchannel method.

次に、工程(b)では、ポリマー粒子単層膜を軟化溶融温度付近まで加熱することにより、各ポリマー粒子の接触面積が大きくなって単層平面網目構造が形成される。単層平面網目構造は、後の工程で金属ナノ粒子の平面網目構造を形成させるためのいわば鋳型となる。   Next, in the step (b), the polymer particle monolayer film is heated to near the softening and melting temperature, whereby the contact area of each polymer particle is increased and a single-layer planar network structure is formed. The single-layer planar network structure becomes a so-called template for forming a planar network structure of metal nanoparticles in a later step.

工程(b)における加熱温度は、ポリマー粒子の軟化点によって異なるが、50〜350℃が好ましく、150〜250℃がより好ましい。加熱温度が50℃より低いと、粒子の溶融変形が認められず、ナノ粒子の集積が起こらず細線化しない傾向がある。一方、加熱温度が350℃より高いと、ポリマー粒子が焼失する傾向がある。   Although the heating temperature in a process (b) changes with softening points of a polymer particle, 50-350 degreeC is preferable and 150-250 degreeC is more preferable. When the heating temperature is lower than 50 ° C., no melt deformation of the particles is observed, and there is a tendency that the nanoparticles do not accumulate and are not thinned. On the other hand, when the heating temperature is higher than 350 ° C., the polymer particles tend to burn out.

加熱時間は、5〜60秒が好ましく、15〜30秒がより好ましい。加熱時間が5秒より短いと、粒子の溶融変形が認められず、容易に剥離し構造欠陥を発生する傾向がある。   The heating time is preferably 5 to 60 seconds, and more preferably 15 to 30 seconds. When the heating time is shorter than 5 seconds, melting deformation of the particles is not recognized, and the particles tend to peel off and generate structural defects.

さらに、工程(c)において、単層平面網目構造の鋳型を形成したポリマー粒子3上に、金属ナノ粒子4が塗布される。そうすると、隣接するポリマー粒子どうしの狭い境界領域に金属ナノ粒子4が入り込むため、金属ナノ粒子4が平面網目構造を形成する。   Furthermore, in the step (c), the metal nanoparticles 4 are applied on the polymer particles 3 on which the template having a single-layer planar network structure is formed. Then, since the metal nanoparticles 4 enter a narrow boundary region between adjacent polymer particles, the metal nanoparticles 4 form a planar network structure.

金属ナノ粒子の粒子径は、1〜100nmが好ましく、10〜50nmがより好ましく、10〜20nmがさらに好ましい。粒子径が1nmより小さいと、原理的には単層網目構造を製造することが可能であるが、安定性に乏しく、操作性に欠ける傾向がある。粒子径が100nmより大きいと、細線化が困難になり、透過率が低くなる。   1-100 nm is preferable, as for the particle diameter of a metal nanoparticle, 10-50 nm is more preferable, and 10-20 nm is further more preferable. When the particle diameter is smaller than 1 nm, a single-layer network structure can be manufactured in principle, but the stability is poor and the operability tends to be poor. When the particle diameter is larger than 100 nm, it is difficult to make a thin line and the transmittance is lowered.

金属ナノ粒子は、溶媒中に分散して塗布することが好ましい。溶媒としては、アルコール等の有機溶媒、水などがあげられるが、取り扱いの容易性から水が好ましい。   The metal nanoparticles are preferably dispersed and applied in a solvent. Examples of the solvent include organic solvents such as alcohol, water, and the like, but water is preferable because of easy handling.

金属ナノ粒子の配合量は、溶液に対して、1〜30重量%が好ましく、特に金属ナノ粒子の金属として金を用いた場合は、10〜20重量%がより好ましい。配合量が1重量%より小さいと、導電性が低下する傾向がある。一方、配合量が30重量%より大きいと、流動性が低下し、生産性が低下する傾向がある。   The compounding amount of the metal nanoparticles is preferably 1 to 30% by weight, and more preferably 10 to 20% by weight when gold is used as the metal of the metal nanoparticles. If the blending amount is less than 1% by weight, the conductivity tends to decrease. On the other hand, if the blending amount is greater than 30% by weight, the fluidity tends to decrease and the productivity tends to decrease.

金属ナノ粒子を塗布する方法としては、剪断塗布法、ディップコート法、スピンコート法、移流集積法、スプレー法などがあげられる。   Examples of the method for applying the metal nanoparticles include a shear coating method, a dip coating method, a spin coating method, an advection accumulation method, and a spray method.

ついで、工程(d)において、平面網目構造を形成した金属ナノ粒子4を加熱することにより、金属ナノ粒子4同士が互いに融着する。その際、単層平面網目構造の鋳型を形成したポリマー粒子3は加熱により除去され空隙5となり、結果として平面網目構造を有する金属薄膜からなる透明導電性膜6が形成される。   Next, in the step (d), the metal nanoparticles 4 having the planar network structure are heated, so that the metal nanoparticles 4 are fused to each other. At that time, the polymer particles 3 forming a template having a single-layer planar network structure are removed by heating to form voids 5, and as a result, a transparent conductive film 6 made of a metal thin film having a planar network structure is formed.

工程(d)における融着温度は、200〜450℃が好ましく、400〜450℃がより好ましい。融着温度が200℃より低いと、ポリマー粒子が残存する傾向がある。一方、融着温度が450℃より高いと、基板が軟化変形する傾向がある。   200-450 degreeC is preferable and the fusion temperature in a process (d) has more preferable 400-450 degreeC. When the fusing temperature is lower than 200 ° C., polymer particles tend to remain. On the other hand, if the fusion temperature is higher than 450 ° C., the substrate tends to be softened and deformed.

なお、基板上にポリマー粒子からなる単層平面網目構造を形成した後に、金属ナノ粒子を塗布する方法ではなく、ポリマー粒子と金属ナノ粒子を同時に基板上に塗布することにより、平面網目構造を形成してもよい。すなわち、ポリマー粒子および金属ナノ粒子を分散させたエマルション混合溶液を基板上に塗布し、金属ナノ粒子を含むポリマー粒子単層膜を形成させる工程、形成したポリマー粒子単層膜をポリマー粒子の軟化点付近まで加熱して平面網目構造を形成させる工程、および、加熱して金属ナノ粒子を融着させる工程を含む方法によっても本発明の透明導電性膜を製造することができる。   In addition, after forming a single-layer planar network composed of polymer particles on a substrate, a planar network structure is formed by coating polymer particles and metal nanoparticles on the substrate at the same time, instead of applying metal nanoparticles. May be. That is, a step of applying an emulsion mixed solution in which polymer particles and metal nanoparticles are dispersed on a substrate to form a polymer particle monolayer film containing metal nanoparticles, and the formed polymer particle monolayer film is a softening point of the polymer particles The transparent conductive film of the present invention can also be produced by a method including a step of heating to the vicinity to form a planar network structure and a step of heating to fuse the metal nanoparticles.

また、本発明の製造方法における単層構造は、乾燥速度とポリマー分散液の供給速度が平衡になったときに生じる。よって、ポリマー粒子の乾燥速度(集積速度)を変えることにより、2層、3層またはそれ以上の多層構造のポリマー粒子規則構造膜とすることが可能である。それにより、3次元構造のネットワーク網目構造を有する透明導電性膜を作製することが可能である。なお、3次元構造のネットワーク網目構造を有する透明導電性膜は、比表面積が大きい点で好ましい。   In addition, the single layer structure in the production method of the present invention occurs when the drying rate and the supply rate of the polymer dispersion are in equilibrium. Therefore, by changing the drying speed (accumulation speed) of the polymer particles, it is possible to obtain a polymer particle ordered structure film having a multilayer structure of two layers, three layers or more. Thereby, it is possible to produce a transparent conductive film having a three-dimensional network structure. A transparent conductive film having a three-dimensional network structure is preferable in that it has a large specific surface area.

また、本発明の透明導電性膜は、(e)対向する基板間に、ペースト状の金属ナノ粒子とともに空気または揮発性モノマーを封入し、基板間に平面網目構造を形成させる工程、(f)形成した平面網目構造を凍結乾燥する工程、および(d)金属ナノ粒子を加熱して融着させる工程を含む方法によっても製造することができる。   Further, the transparent conductive film of the present invention includes (e) a step of enclosing air or a volatile monomer together with paste-like metal nanoparticles between opposing substrates to form a planar network structure between the substrates, (f) It can also be produced by a method comprising a step of freeze-drying the formed planar network structure and a step of (d) heating and fusing the metal nanoparticles.

工程(e)では、ペースト状の金属ナノ粒子と空気を混合して基板間に封入する際に発生した気泡により、基板間に金属ナノ粒子の平面網目構造が形成される。例えば、対向する基板間にペースト状の金属ナノ粒子と空気とを混合しながら封入することができるような流路を設け、該流路中で該ペーストと空気を混合させ、微細な気泡を発生させる。その後、流路中の気泡を基板間に封入すると、該気泡が緻密に並ぶように充填され、各気泡の境界部分に存在する金属ナノ粒子が平面網目構造を形成する。   In the step (e), a planar network structure of the metal nanoparticles is formed between the substrates by bubbles generated when the paste-like metal nanoparticles and air are mixed and sealed between the substrates. For example, a channel that can be sealed while mixing paste-like metal nanoparticles and air between opposing substrates is provided, and the paste and air are mixed in the channel to generate fine bubbles. Let me. After that, when the bubbles in the flow path are sealed between the substrates, the bubbles are filled so as to be densely arranged, and the metal nanoparticles present at the boundary portion of each bubble form a planar network structure.

ここで、基板間に充填される気泡の粒径は、0.4μm以上であることが好ましく、0.8μm以上であることがより好ましい。気泡の粒径が0.4μmより小さいと、透過率が著しく低下する傾向がある。   Here, the particle size of the bubbles filled between the substrates is preferably 0.4 μm or more, and more preferably 0.8 μm or more. When the bubble particle size is smaller than 0.4 μm, the transmittance tends to be remarkably lowered.

ここで、基板間の距離は、0.4〜200μmが好ましい。距離が0.4μmより小さいと、膜を構成する金属量が低下し導電性が低下する傾向がある。一方、距離が200μmより大きいと、必然的に膜厚が増加し、目に見えるようになる傾向がある。   Here, the distance between the substrates is preferably 0.4 to 200 μm. When the distance is smaller than 0.4 μm, the amount of metal constituting the film tends to decrease and the conductivity tends to decrease. On the other hand, if the distance is larger than 200 μm, the film thickness inevitably increases and tends to be visible.

空気の代わりに溶媒に不溶な揮発性モノマーを封入してもよい。具体的には、溶媒が水ならばスチレンのモノマーを封入することができる。   A volatile monomer that is insoluble in a solvent may be encapsulated instead of air. Specifically, if the solvent is water, a styrene monomer can be encapsulated.

ペースト状の金属ナノ粒子は、アルコール等の有機溶媒や水などの溶媒中に、金属ナノ粒子および必要に応じて乳化剤を添加することにより形成される。   Paste-like metal nanoparticles are formed by adding metal nanoparticles and, if necessary, an emulsifier in an organic solvent such as alcohol or a solvent such as water.

金属ナノ粒子の配合量は、ペーストに対して、1〜30重量%が好ましく、特に金属が銀である場合は、10〜30重量%が好ましい。配合量が1重量%より小さいと、導電性が低下する傾向がある。一方、配合量が30重量%より大きいと、流動性が低下する傾向がある。   The compounding amount of the metal nanoparticles is preferably 1 to 30% by weight with respect to the paste, and particularly 10 to 30% by weight when the metal is silver. If the blending amount is less than 1% by weight, the conductivity tends to decrease. On the other hand, if the blending amount is larger than 30% by weight, the fluidity tends to decrease.

乳化剤は、基板間に封入され平面網目構造を形成している気泡を安定化させるために適宜添加される。乳化剤としては、揮発性液体のものが好ましく、具体的には、ポリエチレングリコールラウリルエーテル、ポリエチレングリコールオレイルエーテル、ラウリル硫酸ナトリウムなどがあげられる。   An emulsifier is appropriately added in order to stabilize the bubbles encapsulated between the substrates and forming a planar network structure. The emulsifier is preferably a volatile liquid, and specific examples include polyethylene glycol lauryl ether, polyethylene glycol oleyl ether, and sodium lauryl sulfate.

乳化剤の配合量は、ペーストに対して、0.1〜5重量%が好ましく、特に金属が銀である場合は、1〜2重量%がさらに好ましい。配合量が0.1重量%より小さいと、気泡が合一し不均一化する傾向がある。一方、配合量が5重量%より大きいと、流動性が低下し生産性が低下する傾向がある。   The blending amount of the emulsifier is preferably 0.1 to 5% by weight with respect to the paste, and particularly preferably 1 to 2% by weight when the metal is silver. If the blending amount is less than 0.1% by weight, the bubbles tend to coalesce and become non-uniform. On the other hand, if the blending amount is larger than 5% by weight, the fluidity tends to decrease and the productivity tends to decrease.

ペースト状の金属ナノ粒子を封入する流速は、0.01〜0.5ml/minが好ましく、0.1〜0.2ml/minがより好ましい。流速が0.01ml/minより小さいと、気泡が合一し不均一化する傾向がある。一方、流速が0.5ml/minより大きいと、気泡サイズが小さくなる傾向がある。   The flow rate at which the paste-like metal nanoparticles are sealed is preferably 0.01 to 0.5 ml / min, more preferably 0.1 to 0.2 ml / min. When the flow rate is less than 0.01 ml / min, the bubbles tend to coalesce and become non-uniform. On the other hand, when the flow rate is higher than 0.5 ml / min, the bubble size tends to be small.

空気を封入する流速は、0.05〜2.5ml/minが好ましく、0.5〜1ml/minがより好ましい。流速が0.05ml/minより小さいと、気泡量が減少し透過率が低下する傾向がある。一方、流速が2.5ml/minより大きいと、気泡が合一し不均一化する傾向がある。   The flow rate for enclosing air is preferably 0.05 to 2.5 ml / min, and more preferably 0.5 to 1 ml / min. When the flow rate is less than 0.05 ml / min, the amount of bubbles tends to decrease and the transmittance tends to decrease. On the other hand, when the flow rate is higher than 2.5 ml / min, the bubbles tend to coalesce and become non-uniform.

封入する気体としては、空気に限定されず、ほかにも窒素、アルゴンなどを使用してもよい。   The gas to be sealed is not limited to air, but may be nitrogen, argon, or the like.

工程(f)では、金属ナノ粒子による平面網目構造を形成させた後、凍結させ、その後真空乾燥することにより、溶媒を除去し平面網目構造を固定化させる。凍結させる温度は、使用される溶媒の凝固点以下であれば構わない。   In the step (f), a planar network structure formed of metal nanoparticles is formed, then frozen, and then vacuum dried to remove the solvent and immobilize the planar network structure. The freezing temperature may be any temperature below the freezing point of the solvent used.

工程(d)では、平面網目構造を形成した金属ナノ粒子を加熱により融着し、金属以外の溶媒や乳化剤などは加熱により除去され、金属ナノ粒子の平面網目構造の金属薄膜が形成される。   In the step (d), the metal nanoparticles having the planar network structure are fused by heating, and the solvent or emulsifier other than the metal is removed by heating to form a metal thin film having a planar network structure of metal nanoparticles.

なお、金属粒子をナノ粒子とするためには、凝集を避けなければならない。ナノ粒子を安定化させる方法としては、解離基を表面につけて、静電的反発力で凝集を防ぐ方法、高分子や界面活性剤で包んで、その立体反発力で凝集を防ぐ方法などがあげられる。しかし、該方法のような安定化を行なうと、単層に金ナノ粒子を並べて融着させ薄膜化させる際、粒子間隙が形成してしまうため融着が生じない。また、多層に金ナノ粒子を並べると融着はするが透明性が無くなる。そこで、本発明の製造方法によると、ポリマーなどの粒子または気泡の変形プロセスを利用して、金属ナノ粒子に外圧を印加することにより互いに接触させ、融着させることができる。   In addition, in order to make metal particles into nanoparticles, aggregation must be avoided. Methods for stabilizing nanoparticles include attaching a dissociation group to the surface and preventing aggregation by electrostatic repulsion, and wrapping with a polymer or surfactant to prevent aggregation by steric repulsion. It is done. However, when stabilization is performed as in the method, when gold nanoparticles are aligned and fused in a single layer to form a thin film, particle gaps are formed, so that fusion does not occur. In addition, when gold nanoparticles are arranged in multiple layers, they are fused but the transparency is lost. Therefore, according to the production method of the present invention, the metal nanoparticles can be brought into contact with each other and fused by applying an external pressure to the metal nanoparticles using a deformation process of particles such as a polymer or bubbles.

また、本発明の透明導電性膜は、上述した方法以外にも、ペースト状の金属ナノ粒子と発泡剤とを混合して基板間に封入し、加熱等により内部の発泡剤を発泡させて、基板間に金属ナノ粒子の平面網目構図を形成するようにしてもよい。発泡剤としては、例えば重炭酸ナトリウム、炭酸アンモニウム、重炭酸アンモニウム、亜硝酸アンモニウム、アミド化合物、ホウ水素化ナトリウム等の無機系発泡剤;イソシアネート化合物、アゾジカーボンアミド,アゾビスイソブチロニトリル,バリウムアゾジカルボキシレートらのアゾ化合物、p,p’−オキシビスベンゼンスルホニルヒドラジド,p−トルエンスルホニルヒドラジドらのヒドラジン誘導体、セミカルバジド化合物、アジ化合物、ジニトロソペンタメチレンテトラミンらのニトロソ化合物、トリアゾール化合物等の有機系発泡剤が挙げられ、これらの各種発泡剤を2種以上組み合わて使用することもできる。   In addition to the above-described method, the transparent conductive film of the present invention is a mixture of paste-like metal nanoparticles and a foaming agent, sealed between substrates, and foaming the internal foaming agent by heating or the like, A planar network composition of metal nanoparticles may be formed between the substrates. Examples of the foaming agent include inorganic foaming agents such as sodium bicarbonate, ammonium carbonate, ammonium bicarbonate, ammonium nitrite, amide compound, sodium borohydride; isocyanate compounds, azodicarbonamide, azobisisobutyronitrile, barium Azo compounds such as azodicarboxylate, hydrazine derivatives such as p, p′-oxybisbenzenesulfonyl hydrazide, hydrazine derivatives such as p-toluenesulfonyl hydrazide, semicarbazide compounds, aziso compounds, nitroso compounds such as dinitrosopentamethylenetetramine, triazole compounds, etc. An organic foaming agent is mentioned, It can also use combining these various foaming agents 2 or more types.

本発明の透明導電性膜は、基板上に形成することにより透明導電性材料として用いることができる。用途としては、例えば、液晶ディスプレイ(LCD)、プラズマディスプレイ(PDP)、フィールドエミッションディスプレイ(FED)、有機ELディスプレイ、電子ペーパーなどのフラットパネルディスプレイ(FPD)を構成する透明電極材料、太陽電池の電極、機能性ガラス窓などの建築部材への利用、DVDなどの高密度光ディスクへの応用、光学フィルター、調光フィルム、透明電磁波シールド、透明ヒーター、タッチパネル、透明電波吸収体などの種々の用途があげられる。   The transparent conductive film of the present invention can be used as a transparent conductive material by being formed on a substrate. Applications include, for example, liquid crystal display (LCD), plasma display (PDP), field emission display (FED), organic EL display, transparent electrode material constituting flat panel display (FPD) such as electronic paper, solar cell electrode Use for building materials such as functional glass windows, application to high-density optical discs such as DVDs, optical filters, light control films, transparent electromagnetic wave shields, transparent heaters, touch panels, and transparent wave absorbers It is done.

以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.

実施例1
(i)ポリスチレンの単層膜の製造
粒子径2.2μmのポリスチレンラテックス粒子4gを水10gに分散し、剪断塗布法によりガラス板面上に塗布し、単層膜を形成した。次いで、ホットプレート上で150℃、30秒間加熱し、ラテックス粒子の熱変形により単層平面六角構造とした。
Example 1
(I) Production of Polystyrene Single Layer Film 4 g of polystyrene latex particles having a particle size of 2.2 μm were dispersed in 10 g of water and coated on the glass plate surface by a shear coating method to form a single layer film. Subsequently, it heated on 150 degreeC on the hotplate for 30 second, and was set as the single layer plane hexagon structure by the thermal deformation of the latex particle.

(ii)透明導電性膜の製造
粒子径20nmの金粒子0.1gを水0.9gに分散し、前記のポリスチレン単層膜を形成したガラス板に剪断塗布法により10回塗布し、金粒子を浸透させた。ヒーターにより、450℃に熱することにより金粒子が融着、およびラテックス粒子を加熱により除去し、金粒子の平面六角構造を有する透明導電性膜を製造した。
(Ii) Production of transparent conductive film 0.1 g of gold particles having a particle diameter of 20 nm was dispersed in 0.9 g of water, and applied to the glass plate on which the polystyrene single-layer film was formed 10 times by a shear coating method. Infiltrated. By heating to 450 ° C. with a heater, the gold particles were fused and the latex particles were removed by heating to produce a transparent conductive film having a planar hexagonal structure of gold particles.

(iii)物性評価
製造した透明導電性膜の透過率および表面抵抗を以下の装置を用いて測定した。
透過率:UV1200分光光度計、(株)島津製作所製
表面抵抗:ロレスタEP表面抵抗計、三菱化学(株)製
この透明導電性膜は、透過率62%、表面抵抗0.1Ω/□未満(電気抵抗はほぼ0)であった。
(Iii) Physical property evaluation The transmittance | permeability and surface resistance of the manufactured transparent conductive film were measured using the following apparatuses.
Transmittance: UV1200 spectrophotometer, manufactured by Shimadzu Corporation Surface resistance: Loresta EP surface resistance meter, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation This transparent conductive film has a transmittance of 62% and a surface resistance of less than 0.1Ω / □ ( The electrical resistance was almost 0).

実施例2
粒径10nm銀粒子0.3g、ポリエチレングリコールラウリルエーテル0.02gを水0.7gに分散したものを銀ペーストとして調製した。該銀ペーストを0.03ml/min、同時に空気を0.15ml/minで、200μm×200μmの流路中で混合し、そのままガラス板で挟まれた5mm×200μmの流路へ放出させ、ガラス面に銀と気泡からなる平面網目構造を形成した。これを−10℃で凍結後、0℃で真空乾燥した後、ヒーターにより、250℃に熱することにより銀粒子を融着させ、平面網目構造を有する透明導電膜を得た。
Example 2
A silver paste was prepared by dispersing 0.3 g of 10 nm silver particles and 0.02 g of polyethylene glycol lauryl ether in 0.7 g of water. The silver paste is mixed at 0.03 ml / min and air at 0.15 ml / min in a 200 μm × 200 μm flow path, and is directly discharged into a 5 mm × 200 μm flow path sandwiched between glass plates. A planar network structure consisting of silver and bubbles was formed. This was frozen at −10 ° C., vacuum-dried at 0 ° C., and then heated to 250 ° C. with a heater to fuse silver particles to obtain a transparent conductive film having a planar network structure.

形成された透明導電性膜の透過率および表面抵抗を、実施例1と同様の装置を用いて測定したところ、この透明導電性膜は透過率50%、表面抵抗0.1Ω/□未満(電気抵抗はほぼ0)であった。   When the transmittance and surface resistance of the formed transparent conductive film were measured using the same apparatus as in Example 1, this transparent conductive film had a transmittance of 50% and a surface resistance of less than 0.1Ω / □ (electricity The resistance was almost 0).

本発明の透明導電性膜は、平面網目構造を有する金属薄膜からなるため、優れた導電性および透明性を得ることができる。また、その製造方法も容易であるため、広い面積の透明導電性膜が安価に製造可能である。さらに、膜材料として金や銀を用いた場合は、ITO膜に比べて電気抵抗がおよそ2桁低い透明導電性膜を得ることができる。   Since the transparent conductive film of the present invention is composed of a metal thin film having a planar network structure, excellent conductivity and transparency can be obtained. Moreover, since the manufacturing method is also easy, a transparent conductive film with a large area can be manufactured at low cost. Furthermore, when gold or silver is used as the film material, a transparent conductive film having an electric resistance approximately two orders of magnitude lower than that of the ITO film can be obtained.

Claims (7)

平面網目構造を有する金属薄膜からなる透明導電性膜。   A transparent conductive film comprising a metal thin film having a planar network structure. 平面網目構造の網目の平均径が0.1μm以上である請求の範囲第1項記載の透明導電性膜。   The transparent conductive film according to claim 1, wherein the average mesh size of the planar network structure is 0.1 μm or more. 基板上に、請求の範囲第1項または第2項記載の透明導電性膜が形成されてなる透明導電性材料。   A transparent conductive material, wherein the transparent conductive film according to claim 1 or 2 is formed on a substrate. (a)ポリマー粒子が分散したエマルション溶液を基板上に塗布して、該ポリマー粒子の単層膜を形成させる工程、
(b)形成した単層膜を加熱して単層平面網目構造を形成する工程、
(c)単層平面網目構造を形成した基板に、金属ナノ粒子を塗布する工程、および
(d)金属ナノ粒子を加熱して融着させる工程
を含む請求の範囲第1項または第2項記載の透明導電性膜の製造方法。
(A) applying an emulsion solution in which polymer particles are dispersed on a substrate to form a single layer film of the polymer particles;
(B) heating the formed single layer film to form a single layer planar network structure;
3. The method according to claim 1, comprising: (c) a step of applying metal nanoparticles to a substrate having a single-layer planar network structure; and (d) a step of heating and fusing the metal nanoparticles. Manufacturing method of transparent conductive film.
前記ポリマー粒子の粒子径が0.1〜1000μmである請求の範囲第4項記載の透明導電性膜の製造方法。   The method for producing a transparent conductive film according to claim 4, wherein the polymer particles have a particle size of 0.1 to 1000 µm. 工程(b)における加熱温度が50〜350℃である請求の範囲第4項または第5項記載の透明導電性膜の製造方法。   The method for producing a transparent conductive film according to claim 4 or 5, wherein the heating temperature in the step (b) is 50 to 350 ° C. (e)対向する基板間に、ペースト状の金属ナノ粒子とともに空気または揮発性モノマーを封入し、基板間に平面網目構造を形成させる工程、
(f)形成した平面網目構造を凍結乾燥する工程、および
(d)金属ナノ粒子を加熱して融着させる工程
を含む請求の範囲第1項または第2項記載の透明導電性膜の製造方法。
(E) A step of enclosing air or a volatile monomer together with paste-like metal nanoparticles between opposing substrates to form a planar network structure between the substrates,
The method for producing a transparent conductive film according to claim 1 or 2, comprising: (f) a step of freeze-drying the formed planar network structure; and (d) a step of heating and fusing the metal nanoparticles. .
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