JP2013136016A - Structure producing method - Google Patents

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克昭 菅沼
Masaya Atagi
雅也 能木
Takehiro Tokuno
剛大 徳野
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a structure producing method capable of easily producing a structure at low cost.SOLUTION: A structure producing method for producing a meshed structure includes a step of preparing a base having a surface, a step of disposing a mixture containing a formed article and air bubbles on a surface of the base, and a step of forming the structure comprising the formed article obtained by drying the air bubbles of the mixture.

Description

本発明は網目形状の構造体を作製する構造体作製方法に関する。   The present invention relates to a structure manufacturing method for manufacturing a mesh-shaped structure.

網目状の構造体は、光の透過率が高い、比表面積が大きい、軽いなどの性質を併せ持っていることから、太陽電池の電極、二次電池或いは燃料電池の集電体、軽量フレームなど様々な用途に使用されている。例えば太陽電池において網目状の構造体を電極として使用する場合、光の透過率が高いことから受光面積が増加し、エネルギー変換効率の向上を図ることができる。また、二次電池又は燃料電池の場合、網目状の集電体を使用すると、比表面積が大きいことから、より多くの反応物質と集電体とを接触させることができ、反応性が高められる。このような網目状の構造体の例としては、例えば特許文献1、2と非特許文献1に記載されたものが知られている。   The net-like structure has properties such as high light transmittance, large specific surface area, and light weight. Therefore, it has various properties such as solar cell electrodes, secondary battery or fuel cell current collectors, and lightweight frames. It is used for various purposes. For example, when a net-like structure is used as an electrode in a solar cell, the light receiving area is increased due to high light transmittance, and energy conversion efficiency can be improved. Further, in the case of a secondary battery or a fuel cell, when a mesh-like current collector is used, since the specific surface area is large, more reactive substances and the current collector can be brought into contact with each other, and the reactivity is improved. . As examples of such a net-like structure, those described in Patent Documents 1 and 2 and Non-Patent Document 1, for example, are known.

特許文献1には、スクリーン印刷方式によって基板にグリッド線を形成することで、太陽電池に用いられる網目状の導電膜を作製する技術が開示されている。   Patent Document 1 discloses a technique for forming a mesh-like conductive film used for a solar cell by forming grid lines on a substrate by a screen printing method.

特許文献2には、金属粉末を含有した混合物と溶媒とを混合してなるエマルジョンを基材に塗布し、そしてエマルジョンから溶媒を蒸発させて得た被覆層に対して焼結及びめっきを行うことで、網目状の透明導電性被膜を作製する技術が開示されている。   In Patent Document 2, an emulsion obtained by mixing a mixture containing a metal powder and a solvent is applied to a substrate, and the coating layer obtained by evaporating the solvent from the emulsion is sintered and plated. Thus, a technique for producing a network-like transparent conductive film is disclosed.

非特許文献1には、3次元に並べられたプラスチック球にカーボンナノチューブ分散液を流し込んで乾燥させた後、化学処理でプラスチック球を除去することにより、網目状の立体構造を作製する技術が開示されている。   Non-Patent Document 1 discloses a technique for producing a network-like three-dimensional structure by pouring a carbon nanotube dispersion into three-dimensionally arranged plastic spheres, drying them, and then removing the plastic spheres by chemical treatment. Has been.

特願2003-349359Japanese Patent Application No. 2003-349359 特表2008-546165Special table 2008-546165

Macromolecular Rapid Communications、2010年、31巻、609頁〜615頁Macromolecular Rapid Communications, 2010, 31, 609-615

特許文献1に記載されているようにスクリーン印刷方式でグリッド線を形成する場合、線幅とピッチとを制御することで、透過性の高い導電膜を作製できる。ところが、印刷装置を必要とする。また、基板に印圧がかかり、脆い場合は割れてしまうため、適用できる基板が限られる。   When grid lines are formed by a screen printing method as described in Patent Document 1, a highly transmissive conductive film can be manufactured by controlling the line width and pitch. However, a printing apparatus is required. Further, since the printing pressure is applied to the substrate and it is broken when it is brittle, the applicable substrates are limited.

特許文献2と非特許文献1の場合、焼結及びめっき処理又はテンプレートとしてのプラスチック球を除去する処理が必要なので、工程が複雑であり、コストが高くなってしまう。   In the case of Patent Document 2 and Non-Patent Document 1, since the sintering and plating process or the process of removing the plastic sphere as a template is necessary, the process is complicated and the cost is increased.

本発明は、上記課題を鑑みてなされたものであり、その目的は、安価で容易に作製することができる構造体の作製方法を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to provide a method for manufacturing a structure that can be easily manufactured at low cost.

本発明の作製方法は、網目形状の構造体を作製する構造体作製方法であって、表面を有する基台を用意する工程と、前記基台の前記表面に、形成物及び気泡を含む混合物を配置する工程と、前記混合物の前記気泡を乾燥させて前記形成物から構成された前記構造体を形成する工程とを包含する。   The production method of the present invention is a structure production method for producing a mesh-shaped structure, and a step of preparing a base having a surface, and a mixture containing a formation and bubbles on the surface of the base A step of arranging, and a step of drying the bubbles of the mixture to form the structure composed of the formed product.

ある実施形態において、前記混合物を配置する工程は、前記形成物の混入した溶液を用意する工程と、前記溶液に前記気泡を形成することによって前記混合物を形成する工程とを含む。   In one embodiment, the step of arranging the mixture includes a step of preparing a solution mixed with the formed product, and a step of forming the mixture by forming the bubbles in the solution.

ある実施形態において、前記混合物を配置する工程は、溶液を用意する工程と、 前記溶液に前記気泡を形成する工程と、前記溶液の前記気泡を前記基台の前記表面に載せる工程と、前記基台の前記表面に載せられた前記気泡に前記形成物を注入することによって前記混合物を形成する工程とを含む。   In one embodiment, the step of disposing the mixture includes a step of preparing a solution, a step of forming the bubbles in the solution, a step of placing the bubbles of the solution on the surface of the base, and the base Forming the mixture by injecting the formation into the bubbles placed on the surface of a table.

ある実施形態において、前記基台と、前記混合物と、前記混合物を介して前記基台と対向する覆体とを有する挟持体を形成する工程を更に包含する。   In one embodiment, the method further includes a step of forming a sandwiching body having the base, the mixture, and a cover that faces the base via the mixture.

ある実施形態において、前記混合物を配置する工程は、前記挟持体を形成する前に、前記基台の前記表面に、前記混合物を載せる工程を含む。   In a certain embodiment, the process of arrange | positioning the said mixture includes the process of mounting the said mixture on the said surface of the said base, before forming the said clamping body.

ある実施形態において、前記挟持体を形成する工程は、前記基台と前記覆体との間に位置する前記気泡に前記形成物を注入する工程を含む。   In a certain embodiment, the process of forming the said clamping body includes the process of inject | pouring the said formation into the said bubble located between the said base and the said cover body.

ある実施形態において、前記乾燥する工程の後は、前記挟持体の前記基台及び前記覆体を剥がし、前記構造体を取り出す工程を更に包含する。   In one embodiment, after the step of drying, the method further includes a step of peeling off the base and the cover of the holding body and taking out the structure.

ある実施形態において、前記挟持体を形成する工程において、前記基台及び前記覆体の少なくとも一方は剥離層を有する。   In one embodiment, in the step of forming the holding body, at least one of the base and the cover has a release layer.

ある実施形態において、前記挟持体を形成する工程は、スペーサーを介して前記基台と前記覆体とを張り合わせる工程を含む。   In a certain embodiment, the process of forming the said clamping body includes the process of bonding the said base and the said cover body through a spacer.

ある実施形態において、前記形成物は、金属、金属塩、酸化物、硫化物、塩化物、有機ファイバー、カーボンナノチューブ、生体分子のうちの少なくとも1つを含む。   In one embodiment, the formation includes at least one of a metal, a metal salt, an oxide, a sulfide, a chloride, an organic fiber, a carbon nanotube, and a biomolecule.

ある実施形態において、前記金属は、金、銀、銅、ニッケル、白金、アルミニウム、ケイ素、チタン、マンガン、鉄、コバルト、亜鉛、モリブデン、パラジウム、タンタル、錫のうちの少なくとも1つを含む。   In one embodiment, the metal includes at least one of gold, silver, copper, nickel, platinum, aluminum, silicon, titanium, manganese, iron, cobalt, zinc, molybdenum, palladium, tantalum, and tin.

ある実施形態において、前記金属塩は銀塩インク又はβ-ケトカルボン酸銀である。   In one embodiment, the metal salt is a silver salt ink or silver β-ketocarboxylate.

ある実施形態において、前記形成物は、粒子又はワイヤー形状を有している。   In one embodiment, the formation has a particle or wire shape.

本発明の作製方法によれば、大掛りな装置を必要とせず、且つ工程が簡便であるため、網目形状の構造体を安価で容易に作製することができる。   According to the manufacturing method of the present invention, since a large-scale apparatus is not required and the process is simple, a mesh-shaped structure can be easily manufactured at low cost.

本発明の構造体作製方法によって作製された構造体を示す。The structure manufactured by the structure manufacturing method of this invention is shown. 本発明の構造体作製方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the structure manufacturing method of this invention. 本発明の構造体作製方法を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structure preparation method of this invention. 本発明の実施形態1に係る構造体作製方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the structure manufacturing method which concerns on Embodiment 1 of this invention. 本発明の構造体作製方法に使用される溶液を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the solution used for the structure preparation method of this invention. 実施形態1の方法に基づいて作製した構造体を示す写真である。2 is a photograph showing a structure manufactured based on the method of Embodiment 1. FIG. 本発明の実施形態2に係る構造体作製方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the structure manufacturing method which concerns on Embodiment 2 of this invention. 本発明の実施形態2の構造体を作製する工程を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the process of producing the structure of Embodiment 2 of this invention. 本発明の実施形態3に係る構造体作製方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the structure manufacturing method which concerns on Embodiment 3 of this invention. 本発明の実施形態3の構造体を作製する工程を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the process of producing the structure of Embodiment 3 of this invention. 本発明の実施形態4に係る構造体作製方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the structure manufacturing method which concerns on Embodiment 4 of this invention. 構造体10Aを示す拡大模式図である。It is an expansion schematic diagram which shows 10A of structures.

以下、図面を参照して、本発明を説明する。なお、本発明は以下に説明する実施形態や図面に記載される構成に限定されることを意図せず、当該構成と均等な構成も含む。   Hereinafter, the present invention will be described with reference to the drawings. Note that the present invention is not intended to be limited to the configurations described in the embodiments and drawings described below, and includes configurations equivalent to those configurations.

図1は、本発明の構造体作製方法によって作製された構造体10を示す。図1(a)は、構造体10の模式図であり、図1(b)は、構造体10の一部(領域A)の拡大模式図である。構造体10は、基台20の表面202に形成されており、並列して配置された複数のユニット12から構成される。複数のユニット12の各々は、隣り同士の端部が接続している複数の線状部122を有しており、複数の線状部122によって空間124が囲まれている。複数の線状部122の線幅は10μm〜100μmである。また、複数の線状部122によって形成される開口の径は数百μm〜数mmである。   FIG. 1 shows a structure 10 manufactured by the structure manufacturing method of the present invention. FIG. 1A is a schematic diagram of the structure 10, and FIG. 1B is an enlarged schematic diagram of a part (region A) of the structure 10. The structure 10 is formed on the surface 202 of the base 20 and includes a plurality of units 12 arranged in parallel. Each of the plurality of units 12 has a plurality of linear portions 122 to which adjacent end portions are connected, and a space 124 is surrounded by the plurality of linear portions 122. The line width of the plurality of linear portions 122 is 10 μm to 100 μm. Further, the diameter of the opening formed by the plurality of linear portions 122 is several hundred μm to several mm.

構造体10は、多数の線状部122から構成されているため、比表面積が大きくて軽量である。更に、線状部122によって囲まれた空間124を光が透過できるため、透過性にも優れている。従って、本発明の構造体作製方法によって作製された構造体10は、透過性、比表面積が高く且つ軽量である網目形状の構造体の特性を併せ持っており、これらの性質を必要とする様々な分野において好適に使用することができる。   Since the structure 10 includes a large number of linear portions 122, the specific surface area is large and lightweight. Furthermore, since light can be transmitted through the space 124 surrounded by the linear portion 122, the transparency is also excellent. Therefore, the structure 10 manufactured by the structure manufacturing method of the present invention has the characteristics of a mesh-shaped structure having high permeability, high specific surface area, and light weight, and various properties that require these properties. It can be suitably used in the field.

図2は本発明の構造体作製方法を示すフローチャートであり、図3は本発明の構造体作製方法を示す模式図である。本発明の構造体作製方法は、工程S1〜S5によって実行される。   FIG. 2 is a flowchart showing the structure manufacturing method of the present invention, and FIG. 3 is a schematic diagram showing the structure manufacturing method of the present invention. The structure manufacturing method of this invention is performed by process S1-S5.

工程S1において、表面202を有する基台20を用意する。基台20としては、表面202を有していればよく、特に制限されないが、例えばガラス板、PET基板を使用し得る。工程S3において、基台20の表面202に、形成物302及び気泡304を含む混合物300を配置する。形成物302は気泡304の気泡壁に含まれている。気泡304の主成分は水と形成物であるが、必要に応じて界面活性剤、増粘剤を添加し得る。   In step S1, a base 20 having a surface 202 is prepared. The base 20 is not particularly limited as long as it has a surface 202, and for example, a glass plate or a PET substrate can be used. In step S <b> 3, the mixture 300 including the formation 302 and the bubbles 304 is disposed on the surface 202 of the base 20. The formation 302 is contained in the bubble wall of the bubble 304. The main components of the bubbles 304 are water and a formed product, but a surfactant and a thickener may be added as necessary.

工程S5において、混合物300の気泡304を乾燥させて形成物302から構成された構造体10を形成する。隣接する気泡同士の間には、プラトー境界と呼ばれている三重点Tが存在する。気泡形成後、時間の経過に伴って泡膜が薄くなり、気泡を形成する液体は三重点Tに向かって流れる。従って、気泡に含まれている形成物302は、混合物300の乾燥の過程では、液体の流れと共に移動し、三重点Tに集まる。液体の乾燥後、気泡304が消えるが、三重点Tに集まった形成物302がユニット12の線状部122に形成されると共に、隣接する気泡同士から形成された線状部122とユニット12を構成する。例えば、形成物として硬度と高アスペクト比を有する金属ナノワイヤを使用する場合、三重点Tに集まった金属ナノワイヤが絡み合って、一定の強度を有する線状部122を形成する。その結果、立体的な網目状構造を保持した構造体10が得られる。なお、乾燥方法は、例えば風乾である。但し、気泡304を乾燥によって消滅し得る限りは、風乾に限定されない。自然乾燥でもあり得る。   In step S <b> 5, the bubbles 304 of the mixture 300 are dried to form the structure 10 composed of the formation 302. A triple point T called a plateau boundary exists between adjacent bubbles. After the bubble formation, the bubble film becomes thinner with the passage of time, and the liquid forming the bubble flows toward the triple point T. Accordingly, the formation 302 contained in the bubbles moves with the liquid flow and gathers at the triple point T in the course of drying the mixture 300. After the liquid is dried, the bubbles 304 disappear, but the formation 302 gathered at the triple point T is formed in the linear portion 122 of the unit 12, and the linear portion 122 formed from adjacent bubbles and the unit 12 are separated. Configure. For example, when metal nanowires having hardness and a high aspect ratio are used as the formation, the metal nanowires gathered at the triple point T are entangled to form the linear portion 122 having a certain strength. As a result, the structure 10 having a three-dimensional network structure is obtained. The drying method is, for example, air drying. However, it is not limited to air drying as long as the bubbles 304 can be eliminated by drying. It can be natural drying.

本発明の構造体10は、工程S1〜S5を実行することによって作製された。構造体10は、気泡同士の三重点Tの形を呈する網目形状を有している。構造体10の透過性、比表面積又は重量といった特性は、構造体10におけるユニット12の線状部122の線径及び線状部122に囲まれた空間124の大きさに左右される。例えば、ユニット12が大きければ、それによって囲まれる空間124も広くなり、より多くの光が透過できるため、透過性が向上する。一方、より小さいユニット12を有している場合、単位面積に含まれる線状部122の数が増えるため、比表面積が大きくなる。   The structure 10 of the present invention was produced by performing steps S1 to S5. The structure 10 has a mesh shape that takes the shape of a triple point T between bubbles. Characteristics of the structure 10 such as permeability, specific surface area, or weight depend on the diameter of the linear portion 122 of the unit 12 in the structural body 10 and the size of the space 124 surrounded by the linear portion 122. For example, if the unit 12 is large, the space 124 surrounded by the unit 12 is also widened, and more light can be transmitted, so that the transparency is improved. On the other hand, when the unit 12 is smaller, the number of the linear portions 122 included in the unit area increases, and the specific surface area increases.

上述したように、本発明では、構造体10のユニット12は、気泡304に含まれる形成物302が集まって線状部122を形成することで構成されているため、気泡304のサイズを調節することによってユニット12に囲まれる空間124の大きさを制御し得る。気泡304は、数百μm〜数mmのものが形成できるため、本発明によれば、ユニット12の空間124の開口径が数百μm〜数mmの構造体10を作製し得る。また、気泡304の気泡壁は非常に薄いため、線径が約10μm〜100μmと細い線状部122を形成することができる。   As described above, in the present invention, the unit 12 of the structure 10 is configured by the formation 302 included in the bubbles 304 gathering to form the linear portion 122, and thus the size of the bubbles 304 is adjusted. Thus, the size of the space 124 surrounded by the unit 12 can be controlled. Since the bubbles 304 can be formed from several hundred μm to several mm, according to the present invention, the structure 10 having an opening diameter of the space 124 of the unit 12 of several hundred μm to several mm can be produced. Moreover, since the bubble wall of the bubble 304 is very thin, the thin linear part 122 with a wire diameter of about 10 μm to 100 μm can be formed.

本発明において、形成物302は、気泡を形成する液体に分散又は溶解可能である。例えば形成物302は、銀ナノワイヤである。形成物302が銀ナノワイヤから形成された場合、構造体は導電性を有して導電体として機能する。例えば、電池の電極、集電体に好適に用いられる。ただし、使用目的や使用環境等に応じて、銀よりも耐食性が優れた金や白金等の貴金属や、銅、ニッケル、アルミニウム、ケイ素、チタン、マンガン、鉄、コバルト、亜鉛、モリブデン、パラジウム、タンタル、錫等の金属、さらにはこれらの貴金属及び金属の少なくとも1種を構成元素として含む合金等を形成物302の材料として採用することも可能である。   In the present invention, the formation 302 can be dispersed or dissolved in a liquid that forms bubbles. For example, the formation 302 is a silver nanowire. When the formation 302 is formed from silver nanowires, the structure has conductivity and functions as a conductor. For example, it is suitably used for battery electrodes and current collectors. However, noble metals such as gold and platinum that have better corrosion resistance than silver, copper, nickel, aluminum, silicon, titanium, manganese, iron, cobalt, zinc, molybdenum, palladium, tantalum, depending on the purpose and environment of use. It is also possible to employ a metal such as tin, an alloy containing at least one of these noble metals and metals as a constituent element, as the material of the formation 302.

また、形成物302の材料は金属塩、酸化物、硫化物、塩化物、カーボンナノチューブ、有機ファイバー、生体分子のうちの少なくとも1つであり得る。金属塩としては、例えば加熱焼成により導電性の金属銀が生じる銀塩を挙げることができる。例えば銀塩インク又はβ-ケトカルボン酸銀である。銀塩の内でも、β−ケトカルボン酸銀は低温焼成で金属銀の形成が可能であるため好適である。また、構造体10が銅やニッケルを含む金属酸化物から形成された場合は、例えば光触媒として使用することができる。さらに、還元処理を更に行うことで構造体10を導電体にすることもできる。   The material of the formation 302 may be at least one of a metal salt, an oxide, a sulfide, a chloride, a carbon nanotube, an organic fiber, and a biomolecule. Examples of the metal salt include a silver salt in which conductive metallic silver is produced by heating and baking. For example, silver salt ink or silver β-ketocarboxylate. Among silver salts, silver β-ketocarboxylate is preferable because it can form metallic silver by low-temperature firing. Moreover, when the structure 10 is formed from the metal oxide containing copper and nickel, it can be used as a photocatalyst, for example. Furthermore, the structure 10 can be made into a conductor by further performing a reduction treatment.

形成物302としては金属ナノワイヤに限らず、金属ナノ粒子を採用することもできる。さらに、樹脂、炭素、セラミックス、金属等の粒子の表面をめっき等によって金属で被覆したものを採用することもできる。さらに、形成物302を種類の異なる複数種類の粒子やナノワイヤの混合物とすることも可能である。   The formation 302 is not limited to metal nanowires, and metal nanoparticles can also be employed. Furthermore, it is also possible to employ a material in which the surface of particles of resin, carbon, ceramics, metal or the like is coated with metal by plating or the like. Furthermore, the formation 302 can be a mixture of different types of particles and nanowires.

[実施形態1]
図4は本発明の実施形態1に係る構造体作製方法を示すフローチャートである。図5は本発明の構造体作製方法に使用される溶液を示す模式図である。図5(a)は、形成物302を含む溶液30を示し、図5(b)は、溶液30に気泡304が形成された状態を示す。
[Embodiment 1]
FIG. 4 is a flowchart showing the structure manufacturing method according to Embodiment 1 of the present invention. FIG. 5 is a schematic view showing a solution used in the structure manufacturing method of the present invention. FIG. 5A shows the solution 30 containing the formed product 302, and FIG. 5B shows a state where bubbles 304 are formed in the solution 30.

本発明の実施形態1では、構造体作製方法は、工程S1、工程S3a1、工程S3a2、工程S5によって実行される。   In Embodiment 1 of the present invention, the structure manufacturing method is performed by step S1, step S3a1, step S3a2, and step S5.

工程S1において、表面202を有する基台20を用意する。基台20としては、表面202を有していればよく、特に制限されないが、例えばガラス板、PET基板を使用し得る。また、図1及び図3に示す基台20が有している表面202は平面状であったが、本実施形態はこれに限られない。表面202は例えば円弧面や波形面、又はそれ以外の曲面であってもよい。   In step S1, a base 20 having a surface 202 is prepared. The base 20 is not particularly limited as long as it has a surface 202, and for example, a glass plate or a PET substrate can be used. Moreover, although the surface 202 which the base 20 shown in FIG.1 and FIG.3 has was planar shape, this embodiment is not restricted to this. The surface 202 may be, for example, an arc surface, a corrugated surface, or another curved surface.

工程S3a1において、形成物302の混入した溶液30を用意する。形成物302の混入した溶液30は、例えば溶液30に形成物302を添加して混合させることによって作成し得る。溶液30は、形成物302の種類に合わせて選択し得る。気泡304が形成できればよく、特に制限されないが、例えば界面活性剤の混入した水溶液を使用することができる。なお、界面活性剤としては、例えばドデシル硫酸ナトリウム、市販の洗剤を使用し得る。また、気泡304の強度を向上させるため、溶液30に増粘剤として例えばポリビニルアルコール(PVA)、ラウリルジメチルアミンオキサイドなどを添加することが好ましい。   In step S3a1, a solution 30 mixed with the formed product 302 is prepared. The solution 30 in which the formation 302 is mixed can be prepared, for example, by adding the formation 302 to the solution 30 and mixing them. The solution 30 can be selected according to the type of the formation 302. There is no particular limitation as long as the bubbles 304 can be formed. For example, an aqueous solution mixed with a surfactant can be used. As the surfactant, for example, sodium dodecyl sulfate or a commercially available detergent can be used. In order to improve the strength of the bubbles 304, it is preferable to add, for example, polyvinyl alcohol (PVA), lauryl dimethylamine oxide or the like as a thickener to the solution 30.

工程S3a2において、溶液30に気泡304を形成することによって基台20の表面202に混合物300を形成する。混合物300は、例えば攪拌や起泡装置などの手段によって溶液30に気泡304を形成することによって形成し得る。起泡装置を使用する場合は、より均一な気泡304が得られる。   In step S <b> 3 a 2, the mixture 300 is formed on the surface 202 of the base 20 by forming bubbles 304 in the solution 30. The mixture 300 can be formed by forming bubbles 304 in the solution 30 by means such as stirring or a foaming device. When the foaming device is used, more uniform bubbles 304 are obtained.

工程S5において、混合物300の気泡304を乾燥させて形成物302から構成された構造体10を形成する。混合物300の気泡304は、風乾によって乾燥される。   In step S <b> 5, the bubbles 304 of the mixture 300 are dried to form the structure 10 composed of the formation 302. The bubbles 304 in the mixture 300 are dried by air drying.

図6は、上述した実施形態1の方法に基づいて作製した構造体10を示す写真である。構造体10は、網目形状を有する立体的な構造であり、網目形状に由来する高い透過性、高い比表面積、高い空洞率、軽量といった特性を有しているため、例えば太陽電池の電極、Liイオン二次電池やキャパシタや燃料電池の集電体、光触媒、含浸部材、ヒートパイプ、熱緩衝材、消音部材、衝撃吸収材、軽量フレーム、伸縮導体、フィルターなどに好適に用いられる。   FIG. 6 is a photograph showing the structure 10 produced based on the method of Embodiment 1 described above. The structure 10 is a three-dimensional structure having a mesh shape, and has characteristics such as high permeability derived from the mesh shape, a high specific surface area, a high cavity ratio, and light weight. It is suitably used for current collectors of ion secondary batteries, capacitors, and fuel cells, photocatalysts, impregnated members, heat pipes, heat buffer materials, noise absorbing members, shock absorbers, lightweight frames, stretchable conductors, filters, and the like.

[実施形態2]
図7は本発明の実施形態2に係る構造体作製方法を示すフローチャートである。図8は本発明の実施形態2の構造体を作製する工程を示す模式図である。本発明の実施形態2の作製方法は、実施形態1の方法と同様に構造体10を作製する方法であり、混合物300を配置する工程S3が異なる点を除いて上述した実施形態1と同様な工程を包含しているため、冗長を避けるために重複する説明を省略する。
[Embodiment 2]
FIG. 7 is a flowchart showing a structure manufacturing method according to Embodiment 2 of the present invention. FIG. 8 is a schematic diagram showing a process of manufacturing the structure according to the second embodiment of the present invention. The manufacturing method of Embodiment 2 of the present invention is a method of manufacturing the structure 10 in the same manner as the method of Embodiment 1, and is the same as that of Embodiment 1 described above except that the step S3 of arranging the mixture 300 is different. Since the process is included, redundant description is omitted to avoid redundancy.

本発明の実施形態2に係る構造体作製方法は、工程S1、工程S3b1、工程S3b2、工程S3b3、工程S3b4、工程S5によって実行される。   The structure manufacturing method according to the second embodiment of the present invention is performed by step S1, step S3b1, step S3b2, step S3b3, step S3b4, and step S5.

工程S1において、表面202を有する基台20を用意する。工程S3b1において、溶液30を用意する。溶液30は、上述した実施形態1の工程S3a1と同様のものを使用するが、溶液30に形成物302が混入されていない。工程S3b2において、溶液30に気泡304を形成する。工程S3b2は、実施形態1の工程S3a2と同様にして溶液30に気泡304を形成した。工程S3b3において、溶液30の気泡304を基台20の表面202に載せる。工程S3b4において、基台20の表面202に載せられた気泡304に形成物302を注入することによって混合物300を形成する。   In step S1, a base 20 having a surface 202 is prepared. In step S3b1, a solution 30 is prepared. The solution 30 is the same as that in step S3a1 of the first embodiment described above, but the formed product 302 is not mixed in the solution 30. In step S3b2, bubbles 304 are formed in the solution 30. In step S3b2, bubbles 304 were formed in the solution 30 in the same manner as in step S3a2 of the first embodiment. In step S3b3, the bubbles 304 of the solution 30 are placed on the surface 202 of the base 20. In step S3b4, the mixture 300 is formed by injecting the formation 302 into the bubbles 304 placed on the surface 202 of the base 20.

図8に示すように、工程S3b4において実行される注入は、例えば、溶液に形成物302が混入した分散液306を作成し、分散液306を基台20の表面202に垂らして気泡304に接触させることによって行われる。   As shown in FIG. 8, the injection performed in step S <b> 3 b <b> 4 is performed, for example, by creating a dispersion 306 in which the formed product 302 is mixed with the solution, Is done by letting

工程S3b1〜工程S3b4を実行することによって、基台20の表面202に混合物300が形成された。その後、混合物300を乾燥させば、図2及び図3を参照して説明したように、形成物302が三重点Tに集まって構造体10が形成される。   The mixture 300 was formed on the surface 202 of the base 20 by executing the steps S3b1 to S3b4. After that, when the mixture 300 is dried, as described with reference to FIGS. 2 and 3, the formation 302 is gathered at the triple point T to form the structure 10.

なお、図1、図3及び図6において、構造体10は一層のみのユニット12から構成されていたが、本発明の実施形態1及び実施形態2はこれに制限されない。混合物300における気泡304の層数を調節すれば、ユニット12が一層以上である構造体10を作製し得る。   In FIG. 1, FIG. 3 and FIG. 6, the structure 10 is composed of only one unit 12, but Embodiments 1 and 2 of the present invention are not limited to this. By adjusting the number of the bubbles 304 in the mixture 300, the structure 10 having one or more units 12 can be produced.

[実施形態3]
図9は本発明の実施形態3に係る構造体作製方法を示すフローチャートである。図10は本発明の実施形態3の構造体を作製する工程を示す模式図である。本発明の実施形態3は、挟持体50を形成する工程S4と構造体10を取り出す工程S7を更に有する点を除いて上述した実施形態1と同様な工程を包含しているため、冗長を避けるために重複する説明を省略する。
[Embodiment 3]
FIG. 9 is a flowchart showing a structure manufacturing method according to Embodiment 3 of the present invention. FIG. 10 is a schematic view showing a process for producing a structure according to Embodiment 3 of the present invention. Since the third embodiment of the present invention includes the same steps as those of the first embodiment described above except that the step S4 for forming the sandwiching body 50 and the step S7 for taking out the structure 10 are further included, redundancy is avoided. Therefore, the overlapping description is omitted.

本発明の実施形態3では、作製方法は、工程S1、工程S3a1、工程S3a2、工程S4、工程S5、工程S7によって実行される。工程S1において、表面202を有する基台20を用意する。工程S3a1において、形成物302の混入した溶液30を用意する。工程S3a2において、溶液30に気泡304を形成することによって基台20の表面202に混合物300を形成する。   In Embodiment 3 of the present invention, the manufacturing method is performed by Step S1, Step S3a1, Step S3a2, Step S4, Step S5, and Step S7. In step S1, a base 20 having a surface 202 is prepared. In step S3a1, a solution 30 mixed with the formed product 302 is prepared. In step S <b> 3 a 2, the mixture 300 is formed on the surface 202 of the base 20 by forming bubbles 304 in the solution 30.

工程S4において、基台20と混合物300と覆体40とを有する挟持体50を形成する。覆体40は、混合物300を介して基台20と対向する。挟持体50は、前工程で基台20の表面202に配置された混合物300を挟むように、基台20の表面202に覆体40を載せることによって形成される。覆体40としては、基台20と同様に、例えばガラス板が用いられるが、基台20と覆体40により混合物300を挟持できればよく、特に制限されない。工程S4を行うことで、混合物300の気泡304は、基台20と覆体40とにより挟まれて薄肉で平たい形状となる。   In step S <b> 4, the sandwich body 50 having the base 20, the mixture 300, and the cover 40 is formed. The cover 40 is opposed to the base 20 through the mixture 300. The sandwiching body 50 is formed by placing the cover 40 on the surface 202 of the base 20 so as to sandwich the mixture 300 disposed on the surface 202 of the base 20 in the previous step. As the cover 40, for example, a glass plate is used in the same manner as the base 20, but there is no particular limitation as long as the mixture 300 can be sandwiched between the base 20 and the cover 40. By performing step S4, the bubbles 304 of the mixture 300 are sandwiched between the base 20 and the cover 40 and become thin and flat.

工程S5において、混合物300の気泡304を乾燥させて形成物302から構成された構造体10を形成する。基台20と覆体40とにより気泡304を挟持した状態で工程S5を行うと、厚み方向の線状部122が非常に短いユニット12が基台20と覆体40との間に形成される。   In step S <b> 5, the bubbles 304 of the mixture 300 are dried to form the structure 10 composed of the formation 302. When step S5 is performed in a state where the bubbles 304 are sandwiched between the base 20 and the cover 40, a unit 12 having a very short linear portion 122 in the thickness direction is formed between the base 20 and the cover 40. .

工程S7において、挟持体50の基台20及び覆体40を剥がし、構造体10を取り出す。基台20と覆体40とを剥がして分離させれば、構造体10が得られる。   In step S7, the base 20 and the cover 40 of the holding body 50 are peeled off, and the structure 10 is taken out. If the base 20 and the cover 40 are peeled off and separated, the structure 10 is obtained.

工程S1、工程S3a1、工程S3a2、工程S4、工程S5、工程S7を実行することによって構造体10が作製された。非常に薄く形成できるため、薄い構造体が要求される場合に好適に使用することができる。また、本実施形態3に係る作製方法では、構造体10の厚さを、基台20と覆体40との間の隙間を調節することによって制御することができる。隙間を調節する方法は、具体的には、例えば基台20と覆体40との間にスペーサーを配置することによって行われる。スペーサーを配置することで、隙間の大きさを変えることができ、様々な厚さの構造体10を形成し得る。   The structure 10 was produced by performing process S1, process S3a1, process S3a2, process S4, process S5, and process S7. Since it can be formed very thin, it can be suitably used when a thin structure is required. In the manufacturing method according to Embodiment 3, the thickness of the structure 10 can be controlled by adjusting the gap between the base 20 and the cover 40. Specifically, the method of adjusting the gap is performed, for example, by placing a spacer between the base 20 and the cover 40. By arranging the spacer, the size of the gap can be changed, and the structures 10 having various thicknesses can be formed.

[実施形態4]
図11は本発明の実施形態4に係る構造体作製方法を示すフローチャートである。本発明の実施形態4は、挟持体50を形成する工程S4と構造体10を取り出す工程S7を更に有する点を除いて上述した実施形態2と同様な工程を包含しているため、冗長を避けるために重複する説明を省略する。
[Embodiment 4]
FIG. 11 is a flowchart showing a structure manufacturing method according to Embodiment 4 of the present invention. The fourth embodiment of the present invention includes the same steps as those of the second embodiment described above except that the step S4 for forming the sandwiching body 50 and the step S7 for taking out the structure 10 are further included. Therefore, redundancy is avoided. Therefore, the overlapping description is omitted.

本発明の実施形態4では、作製方法は、工程S1、工程S3b1、工程S3b2、工程S3b3、工程S4、工程S3b4、工程S5によって実行される。   In Embodiment 4 of the present invention, the manufacturing method is executed by Step S1, Step S3b1, Step S3b2, Step S3b3, Step S4, Step S3b4, and Step S5.

工程S1において、表面202を有する基台20を用意する。工程S3b1において、溶液30を用意する。工程S3b2において、溶液30に気泡304を形成する。工程S3b3において、溶液30の気泡304を基台20の表面202に載せる。   In step S1, a base 20 having a surface 202 is prepared. In step S3b1, a solution 30 is prepared. In step S3b2, bubbles 304 are formed in the solution 30. In step S3b3, the bubbles 304 of the solution 30 are placed on the surface 202 of the base 20.

工程S4において、挟持体50を形成する。挟持体50は、基台20と、気泡304と、気泡304を介して基台20と対向する覆体40とを有する。挟持体50は、上述した実施形態3と同様にして、基台20の表面202に配置された気泡304を挟むように、基台20の表面202に覆体40を載せることによって形成される。工程S4を実行することで、気泡304は、基台20と覆体40とにより挟まれて薄肉で平たい形状となる。   In step S4, the sandwiching body 50 is formed. The sandwiching body 50 includes a base 20, a bubble 304, and a cover 40 that faces the base 20 via the bubble 304. The sandwiching body 50 is formed by placing the cover 40 on the surface 202 of the base 20 so as to sandwich the bubbles 304 arranged on the surface 202 of the base 20 in the same manner as in the third embodiment. By executing step S4, the bubbles 304 are sandwiched between the base 20 and the cover 40 and become thin and flat.

工程S3b4において、基台20と覆体40とによって挟持された気泡304に形成物302を注入することによって混合物300を形成する。   In step S3b4, the mixture 300 is formed by injecting the formation 302 into the bubbles 304 sandwiched between the base 20 and the cover 40.

工程S5において、混合物300の気泡304を乾燥させて形成物302から構成された構造体10を形成する。挟持体50を乾燥後、厚み方向の線状部122が非常に短いユニット12が基台20と覆体40との間に形成する。   In step S <b> 5, the bubbles 304 of the mixture 300 are dried to form the structure 10 composed of the formation 302. After the holding body 50 is dried, a unit 12 having a very short linear portion 122 in the thickness direction is formed between the base 20 and the cover 40.

工程S7において、挟持体50の基台20及び覆体40を剥がし、構造体10を取り出す。基台20と覆体40とを剥がして分離させれば、構造体10が得られる。   In step S7, the base 20 and the cover 40 of the holding body 50 are peeled off, and the structure 10 is taken out. If the base 20 and the cover 40 are peeled off and separated, the structure 10 is obtained.

本発明の実施形態3と実施形態4では、構造体10を基台20又は覆体40から取り出しやすくするため、基台20と覆体40の内のいずれか一方又は両方の混合物300と接触する面に剥離層を設けてもよい。剥離層は、例えばポリテトラフルオロエチレン(PTFE)からなり得る。   In Embodiment 3 and Embodiment 4 of the present invention, in order to facilitate removal of the structure 10 from the base 20 or the cover 40, the structure 10 is brought into contact with one or both of the base 20 and the cover 40. A release layer may be provided on the surface. The release layer can be made of, for example, polytetrafluoroethylene (PTFE).

また、剥離層を有していない基台20又は覆体40を用いる場合、構造体10を取り出す工程S7において、基台20と覆体40とを剥がして分離させる際、ユニット12の厚み方向の線状部122がちぎれて、図12に示す拡大模式図のように、基台20と覆体40の両方には、一層に並ぶ線状部122から構成されている構造体10Aが形成される。   Moreover, when using the base 20 or the cover 40 which does not have a peeling layer, in process S7 which takes out the structure 10, when peeling and separating the base 20 and the cover 40, the thickness direction of the unit 12 is used. As shown in the enlarged schematic diagram shown in FIG. 12, the linear portion 122 is broken, and the structure 10 </ b> A including the linear portions 122 arranged in a single layer is formed on both the base 20 and the cover 40. .

例えば、形成物302として銀のナノワイヤを用いて上述したように構造体10Aを形成した場合、透過率が約76%で、シート抵抗が約4.5Ω/□の構造体10Aが得られる。このような構造体10Aは、薄くて透過率が高く、且つシート抵抗が導電膜として常用されているITO膜の約半分であるため、透明導電膜として好適に用いることができる。   For example, when the structure 10A is formed as described above using silver nanowires as the formation 302, the structure 10A having a transmittance of about 76% and a sheet resistance of about 4.5Ω / □ is obtained. Such a structure 10A can be suitably used as a transparent conductive film because it is thin, has high transmittance, and has a sheet resistance that is approximately half that of a commonly used ITO film.

また、本発明の作製方法によって得られた構造体10は、加熱工程又はめっき工程を更に行うことによってその導電性を更に上げることができる。例えば、構造体10を200℃で20分加熱すれば、構造体10に残っている界面活性剤が除去されるため、導電性が向上する。めっき工程を行う場合、構造体10の線状部122が太くなり電気を伝導する面積が増えるため、導電性が向上する。   In addition, the structure 10 obtained by the manufacturing method of the present invention can further increase its conductivity by further performing a heating step or a plating step. For example, if the structure 10 is heated at 200 ° C. for 20 minutes, the surfactant remaining in the structure 10 is removed, so that the conductivity is improved. When the plating step is performed, the linear portion 122 of the structure 10 becomes thicker and the area for conducting electricity increases, so that the conductivity is improved.

本発明の作製方法によって得られた構造体10は、例えば太陽電池の電極、Liイオン二次電池やキャパシタや燃料電池の集電体、光触媒、含浸部材、ヒートパイプ、熱緩衝材、消音部材、衝撃吸収材、軽量フレーム、伸縮導体、フィルター、透明導電膜などに好適に用いられる。   The structure 10 obtained by the production method of the present invention includes, for example, an electrode of a solar cell, a Li-ion secondary battery, a current collector of a capacitor or a fuel cell, a photocatalyst, an impregnation member, a heat pipe, a heat buffer material, a sound deadening member, It is suitably used for shock absorbers, lightweight frames, stretchable conductors, filters, transparent conductive films and the like.

10、10A 構造体
12 ユニット
122 線状部
124 空間
20 基台
202 表面
30 溶液
302 形成物
304 気泡
306 分散液
10, 10A Structure 12 Unit 122 Linear portion 124 Space 20 Base 202 Surface 30 Solution 302 Formation 304 Bubble 306 Dispersion

Claims (13)

網目形状の構造体を作製する構造体作製方法であって、
表面を有する基台を用意する工程と、
前記基台の前記表面に、形成物及び気泡を含む混合物を配置する工程と、
前記混合物の前記気泡を乾燥させて前記形成物から構成された前記構造体を形成する工程と
を包含する、構造体作製方法。
A structure manufacturing method for manufacturing a mesh-shaped structure,
Preparing a base having a surface;
Disposing a mixture containing a formation and bubbles on the surface of the base;
And drying the bubbles of the mixture to form the structure composed of the formed product.
前記混合物を配置する工程は、
前記形成物の混入した溶液を用意する工程と、
前記溶液に前記気泡を形成することによって前記混合物を形成する工程と
を含む、請求項1に記載の構造体作製方法。
Placing the mixture comprises:
Preparing a solution mixed with the formation,
Forming the mixture by forming the bubbles in the solution.
前記混合物を配置する工程は、
溶液を用意する工程と、
前記溶液に前記気泡を形成する工程と、
前記溶液の前記気泡を前記基台の前記表面に載せる工程と、
前記基台の前記表面に載せられた前記気泡に前記形成物を注入することによって前記混合物を形成する工程と
を含む、請求項1に記載の構造体作製方法。
Placing the mixture comprises:
Preparing a solution;
Forming the bubbles in the solution;
Placing the bubbles of the solution on the surface of the base;
The method for producing a structure according to claim 1, further comprising: forming the mixture by injecting the formation into the bubbles placed on the surface of the base.
前記基台と、前記混合物と、前記混合物を介して前記基台と対向する覆体とを有する挟持体を形成する工程を更に包含する、請求項1から請求項3の何れかに記載の構造体作製方法。   The structure according to any one of claims 1 to 3, further comprising a step of forming a sandwiching body having the base, the mixture, and a cover that faces the base via the mixture. Body making method. 前記混合物を配置する工程は、前記挟持体を形成する前に、前記基台の前記表面に、前記混合物を載せる工程を含む、請求項4に記載の構造体作製方法。   5. The structure manufacturing method according to claim 4, wherein the step of arranging the mixture includes a step of placing the mixture on the surface of the base before forming the sandwiched body. 前記挟持体を形成する工程は、前記基台と前記覆体との間に位置する前記気泡に前記形成物を注入する工程を含む、請求項4に記載の構造体作製方法。   The structure forming method according to claim 4, wherein the step of forming the sandwiching body includes a step of injecting the formed material into the bubbles positioned between the base and the cover. 前記乾燥する工程の後は、前記挟持体の前記基台及び前記覆体を剥がし、前記構造体を取り出す工程を更に包含する、請求項4から請求項6の何れかに記載の構造体作製方法。   The method for producing a structure according to any one of claims 4 to 6, further comprising a step of removing the base body and the cover body of the sandwiching body and taking out the structure body after the drying step. . 前記挟持体を形成する工程において、前記基台及び前記覆体の少なくとも一方は剥離層を有する、請求項4から請求項7の何れかに記載の構造体作製方法。   The structure manufacturing method according to claim 4, wherein in the step of forming the sandwiching body, at least one of the base and the cover has a release layer. 前記挟持体を形成する工程は、スペーサーを介して前記基台と前記覆体とを張り合わせる工程を含む、請求項4から請求項8の何れかに記載の構造体作製方法。   9. The structure manufacturing method according to claim 4, wherein the step of forming the sandwiching body includes a step of bonding the base and the cover through a spacer. 前記形成物は、金属、金属塩、酸化物、硫化物、塩化物、カーボンナノチューブ、有機ファイバー、生体分子のうちの少なくとも1つを含む、請求項1から請求項9の何れかに記載の構造体作製方法。   The structure according to claim 1, wherein the formation includes at least one of a metal, a metal salt, an oxide, a sulfide, a chloride, a carbon nanotube, an organic fiber, and a biomolecule. Body making method. 前記金属は、金、銀、銅、ニッケル、白金、アルミニウム、ケイ素、チタン、マンガン、鉄、コバルト、亜鉛、モリブデン、パラジウム、タンタル、錫のうちの少なくとも1つを含む、請求項10に記載の構造体作製方法。   11. The metal according to claim 10, wherein the metal includes at least one of gold, silver, copper, nickel, platinum, aluminum, silicon, titanium, manganese, iron, cobalt, zinc, molybdenum, palladium, tantalum, and tin. Structure manufacturing method. 前記金属塩は銀塩インク又はβ-ケトカルボン酸銀である、請求項10に記載の構造体作成方法。   The method for producing a structure according to claim 10, wherein the metal salt is silver salt ink or silver β-ketocarboxylate. 前記形成物は、粒子又はワイヤー形状を有している、請求項1から請求項12の何れかに記載の構造体作製方法。   The structure formation method according to any one of claims 1 to 12, wherein the formation has a particle or wire shape.
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Citations (4)

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