JPWO2006013741A1 - 捩り共振器およびこれを用いたフィルタ - Google Patents
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Abstract
Description
このフィルタは、シリコン基板上に薄膜プロセスを用いてパターン形成を行うことで形成され、入力線路104と、出力線路105と、それぞれの線路に対して1ミクロン以下の空隙をもって配置された両持ち梁101、102と、その2つの梁を結合する結合梁103とで構成されている。入力線路104から入力した信号は、梁101と容量的に結合し、梁101に静電力を発生させる。信号の周波数が、梁101、102および結合梁103からなる弾性構造体の共振周波数近傍と一致したときのみ、機械振動が励振され、この機械振動をさらに出力線路105と梁102との間の静電容量の変化として検出することで、入力信号のフィルタリング出力を取り出すようにしたものである。
本発明は、前記実情に鑑みてなされたもので、簡易な方法で捩り共振器の捩り振動以外の振動モードを極力抑制することができ、高周波での使用が可能な捩り共振器を提供することを目的とする。
特に、本発明は、適応的に共振周波数が切替可能な共振器に対しても、簡易な方法で捩り振動以外の振動モードを極力抑制できる共振器を提供することも目的とする。
本構成によって、簡易な方法で捩り共振器の捩り振動以外の振動モードを極力抑制することが可能となる。
上記構成によれば、簡単な構成で捩り振動を生起することができ、望ましいQ値をもつ共振特性を得ることができる。また、この構成によれば、簡単な構成で、捩り振動のみを生起することができる。
この構成によれば、電極と梁構造体との間で静電力を生起しやすく、効率よく捩り振動を生起することができる。またこの梁は両持ち梁であれば、より安定であるが、片持ち梁であってもよい。
この構成によれば、各電極に同一電圧を印加すればよいため、駆動手段を簡略化することができる。
また、本発明のフィルタは、上記捩り共振器を用いたものを含む。
2 基板
3 パドル
4 電極
11 分配器
12a、12b コンデンサ
13a、13b インダクタンス
14 捩り共振器
15 電流−電圧変換回路
31 酸化シリコン層
32 単結晶シリコン層
R レジスト
101、102 両持ち梁型振動子
103 結合梁
104 入力線路
105 出力線路
191 同一周波数を有する長さLと厚さhの関係を示す直線
192 同じたわみやすさの指標を有する長さLと厚さhの関係を示す直線
201 振動子
202 パドル
204 入力線路
205 出力線路
(実施の形態1)
図1は、本発明の実施の形態1における捩り共振器の斜視図である。本実施の形態1の捩り共振器は、軸対称位置にパドル状突起3a、3b、3c、3dを有する機械的振動を行う振動体1と、各パドル状突起3a、3b、3c、3dに近接して配置された電極4a、4b、4c、4dとを有し、各パドル状突起3a、3b、3c、3dとこれらにそれぞれ対応する電極4a、4b、4c、4dとの間の電圧変化を、前記振動体の振動に変換する電気機械変換機能を有する電気機械共振器であり、前記電極4a、4b、4c、4dと前記振動体との間の電位差により生ずる静電力が、前記振動体1の梁構造体の軸を中心軸としたモーメントを生起するように構成された駆動手段とを具備したことを特徴とする。
電気的に位相を変える一般的な移相器は、波長オーダの線路長が必要となり共振器の励振回路の小型化に難があり、また正確に180度の移相調整が必要となるが、本実施例のように極性の異なるバイアス電圧とインダクタで同一交流信号をプルアップすることで、位相が正確に180度異なる梁への励振力を得ることができる。
この工程では、SOI(Silicon on Insulator)基板を用いている。この場合、SOI基板の上部の単結晶シリコン層が梁構造となる。
この図では、ベース層としてのシリコン基板を省略しているが、シリコン基板表面に酸化シリコン膜からなる酸化膜31を介して、デバイス形成層としての所望のキャリア濃度の単結晶シリコン層32を貼着したSOI(Silicon−On−Insulator)基板を用いる。
本発明者らは、たわみ振動と捩り振動のQ値の差異を実証するために、厚さ約2μm、長さ約10、20、30μmのアルミニウムスパッタ薄膜を用いて構成された両持ち梁を励振し、Q値の値を測定した。図20の横軸は真空度、縦軸はQ値である。長さ約30μmのたわみ共振3次、長さ約20μmのたわみ共振2次、長さ約10μmのたわみ共振1次のQ値が200〜400であるのに対して、長さ20μmの捩り共振1次のQ値は2000であり、Q値に関して、捩り振動は、たわみ振動に対して優位性を持つことを示している。
まず、単結晶シリコン基板30をベース層とし、酸化シリコン層31を介してシリコン層32貼着したSOI基板上に窒化シリコン膜33を形成して、これをパターニングする(図12(a))。このパターンのエッジがシリコン層32の(110)に沿うように形成する。
次に本発明の実施の形態2について説明する。
図13は、本発明の実施の形態2における捩り共振器を励振する回路のブロック図である。振動子および電極の配置は、実施の形態1で示した図1と同様であるが、入力信号は分配器11で4つの信号に分配され、電極4a〜4dに加えられる、それぞれのバイアス電圧が−VpからVpまで設定可能であることを特徴とする。電極4aと4dにバイアス電圧Vpを、電極4bと4cにバイアス電圧−Vpを印加した時の振動子の振幅スペクトルは、図2に示したように、捩り2次共振のみを持つ。しかし、電極4aと4cのバイアス電圧をVpに、4b、4dのバイアス電圧を−Vpに切り替えることで、振動子1の振幅スペクトルは、図14に示すように、捩り1次共振のみを持つものに変更することができる。すなわち、バイアス電圧を切り替えることで、異なる捩り共振周波数を有する捩り共振器を形成することができる。
電気的に位相を変える一般的な移相器では、ある特定の周波数一点での移相量を設定できるが、その他の帯域では移相量が異なってくる。しかし、本実施例のように極性の異なるバイアス電圧とインダクタで同一交流信号をプルアップすることで、共振器の励振モードの高次と低次を適応的に切り替えても、切り替え可能な周波数帯域内でインダクタが十分高インピーダンスとみなすことができれば、位相が正確に180度異なる梁への励振力を得ることができる。
次に本発明の実施の形態3について説明する。
前記実施の形態1乃至2では、各電極に印加する電圧の位相をずらすように分配器を用いて調整したが、本実施の形態では、図16(a)および(b)に示すように、各電極4a乃至4dに印加する直流バイアス電圧の大きさは同一とし、梁1に対して軸対称方向に電極を配置し、振動体である梁1の捩れ方向に静電力が印加されるように構成したことを特徴とするものである。すなわち、これら電極は、振動体である梁1の捩り振動に伴い、振動体との距離が等しくなるように、振動体に対し、捩れの方向に配置されて電極対を構成している。そして、駆動手段は、振動体の捩り振動に伴い、電極対には、同一交流信号と、同一の直流バイアス電圧を印加するように構成される。他は前記実施の形態1と同様である。なお、同一部位には同一符号を付した。
本実施の形態の共振器によれば、突出部がないため、振動子に付加される質量が低減され、共振周波数の高周波数化が可能となる。また同一位相交流信号と同一の直流バイアス電圧を各電極に印加すればよいため、駆動手段を構成する駆動回路が極めて簡略化される。
次に本発明の実施の形態4について説明する。
前記実施の形態3では、梁1は棒状体としたが、本実施の形態では、図17(a)に示すように、各電極4a乃至4dに対向する部分に、切り欠き1Sを形成したものである。本実施の形態においても実施の形態3と同様に、印加する交流信号の位相および直流バイアス電圧の大きさは同一とし、梁1に対して軸対称方向に電極を配置し、梁の捩れ方向に静電力が印加されるように構成すればよい。他は前記実施の形態1と同様である。なお、同一部位には同一符号を付した。
形状加工は若干複雑となるが、MEMS技術を用いて容易に形成可能である。
また図17(b)に変形例を示すように電極4a乃至4dと振動体とは相対向していればよい。
また、本発明の実施の形態で示した共振器は容量性の高インピーダンスを有するので、適宜複数個の共振器を電気的に並列接続し、インピーダンスを下げ、入力電気エネルギーを効率よく共振器に伝達させるように構成してもよい。
このフィルタは、シリコン基板上に薄膜プロセスを用いてパターン形成を行うことで形成され、入力線路104と、出力線路105と、それぞれの線路に対して1ミクロン以下の空隙をもって配置された両持ち梁101、102と、その2つの梁を結合する結合梁103とで構成されている。入力線路104から入力した信号は、梁101と容量的に結合し、梁101に静電力を発生させる。信号の周波数が、梁101、102および結合梁103からなる弾性構造体の共振周波数近傍と一致したときのみ、機械振動が励振され、この機械振動をさらに出力線路105と梁102との間の静電容量の変化として検出することで、入力信号のフィルタリング出力を取り出すようにしたものである。
本発明は、前記実情に鑑みてなされたもので、簡易な方法で捩り共振器の捩り振動以外の振動モードを極力抑制することができ、高周波での使用が可能な捩り共振器を提供することを目的とする。
特に、本発明は、適応的に共振周波数が切替可能な共振器に対しても、簡易な方法で捩り振動以外の振動モードを極力抑制できる共振器を提供することも目的とする。
本構成によって、簡易な方法で捩り共振器の捩り振動以外の振動モードを極力抑制することが可能となる。
上記構成によれば、簡単な構成で捩り振動を生起することができ、望ましいQ値をもつ共振特性を得ることができる。また、この構成によれば、簡単な構成で、捩り振動のみを生起することができる。
この構成によれば、電極と梁構造体との間で静電力を生起しやすく、効率よく捩り振動を生起することができる。またこの梁は両持ち梁であれば、より安定であるが、片持ち梁であってもよい。
この構成によれば、各電極に同一電圧を印加すればよいため、駆動手段を簡略化することができる。
また、本発明のフィルタは、上記捩り共振器を用いたものを含む。
(実施の形態1)
図1は、本発明の実施の形態1における捩り共振器の斜視図である。本実施の形態1の捩り共振器は、軸対称位置にパドル状突起3a、3b、3c、3dを有する機械的振動を行う振動体1と、各パドル状突起3a、3b、3c、3dに近接して配置された電極4a、4b、4c、4dとを有し、各パドル状突起3a、3b、3c、3dとこれらにそれぞれ対応する電極4a、4b、4c、4dとの間の電圧変化を、前記振動体の振動に変換する電気機械変換機能を有する電気機械共振器であり、前記電極4a、4b、4c、4dと前記振動体との間の電位差により生ずる静電力が、前記振動体1の梁構造体の軸を中心軸としたモーメントを生起するように構成された駆動手段とを具備したことを特徴とする。
電気的に位相を変える一般的な移相器は、波長オーダの線路長が必要となり共振器の励振回路の小型化に難があり、また正確に180度の移相調整が必要となるが、本実施例のように極性の異なるバイアス電圧とインダクタで同一交流信号をプルアップすることで、位相が正確に180度異なる梁への励振力を得ることができる。
この工程では、SOI(Silicon on Insulator )基板を用いている。この場合、SOI基板の上部の単結晶シリコン層が梁構造となる。
この図では、ベース層としてのシリコン基板を省略しているが、シリコン基板表面に酸化シリコン膜からなる酸化膜31を介して、デバイス形成層としての所望のキャリア濃度の単結晶シリコン層32を貼着したSOI(Silicon-On-Insulator)基板を用いる。
本発明者らは、たわみ振動と捩り振動のQ値の差異を実証するために、厚さ約2μm、長さ約10、20、30μmのアルミニウムスパッタ薄膜を用いて構成された両持ち梁を励振し、Q値の値を測定した。図20の横軸は真空度、縦軸はQ値である。長さ約30μmのたわみ共振3次、長さ約20μmのたわみ共振2次、長さ約10μmのたわみ共振1次のQ値が200〜400であるのに対して、長さ20μmの捩り共振1次のQ値は2000であり、Q値に関して、捩り振動は、たわみ振動に対して優位性を持つことを示している。
まず、単結晶シリコン基板30をベース層とし、酸化シリコン層31を介してシリコン層32貼着したSOI基板上に窒化シリコン膜33を形成して、これをパターニングする(図12(a))。このパターンのエッジがシリコン層32の(110)に沿うように形成する。
次に本発明の実施の形態2について説明する。
図13は、本発明の実施の形態2における捩り共振器を励振する回路のブロック図である。振動子および電極の配置は、実施の形態1で示した図1と同様であるが、入力信号は分配器11で4つの信号に分配され、電極4a〜4dに加えられる、それぞれのバイアス電圧が−VpからVpまで設定可能であることを特徴とする。電極4aと4dにバイアス電圧Vpを、電極4bと4cにバイアス電圧−Vpを印加した時の振動子の振幅スペクトルは、図2に示したように、捩り2次共振のみを持つ。しかし、電極4aと4cのバイアス電圧をVpに、4b、4dのバイアス電圧を−Vpに切り替えることで、振動子1の振幅スペクトルは、図14に示すように、捩り1次共振のみを持つものに変更することができる。すなわち、バイアス電圧を切り替えることで、異なる捩り共振周波数を有する捩り共振器を形成することができる。
電気的に位相を変える一般的な移相器では、ある特定の周波数一点での移相量を設定できるが、その他の帯域では移相量が異なってくる。しかし、本実施例のように極性の異なるバイアス電圧とインダクタで同一交流信号をプルアップすることで、共振器の励振モードの高次と低次を適応的に切り替えても、切り替え可能な周波数帯域内でインダクタが十分高インピーダンスとみなすことができれば、位相が正確に180度異なる梁への励振力を得ることができる。
次に本発明の実施の形態3について説明する。
前記実施の形態1乃至2では、各電極に印加する電圧の位相をずらすように分配器を用いて調整したが、本実施の形態では、図16(a)および(b)に示すように、各電極4a乃至4dに印加する直流バイアス電圧の大きさは同一とし、梁1に対して軸対称方向に電極を配置し、振動体である梁1の捩れ方向に静電力が印加されるように構成したことを特徴とするものである。すなわち、これら電極は、振動体である梁1の捩り振動に伴い、振動体との距離が等しくなるように、振動体に対し、捩れの方向に配置されて電極対を構成している。そして、駆動手段は、振動体の捩り振動に伴い、電極対には、同一交流信号と、同一の直流バイアス電圧を印加するように構成される。他は前記実施の形態1と同様である。なお、同一部位には同一符号を付した。
本実施の形態の共振器によれば、突出部がないため、振動子に付加される質量が低減され、共振周波数の高周波数化が可能となる。また同一位相交流信号と同一の直流バイアス電圧を各電極に印加すればよいため、駆動手段を構成する駆動回路が極めて簡略化される。
次に本発明の実施の形態4について説明する。
前記実施の形態3では、梁1は棒状体としたが、本実施の形態では、図17(a)に示すように、各電極4a乃至4dに対向する部分に、切り欠き1Sを形成したものである。本実施の形態においても実施の形態3と同様に、印加する交流信号の位相および直流バイアス電圧の大きさは同一とし、梁1に対して軸対称方向に電極を配置し、梁の捩れ方向に静電力が印加されるように構成すればよい。他は前記実施の形態1と同様である。なお、同一部位には同一符号を付した。
形状加工は若干複雑となるが、MEMS技術を用いて容易に形成可能である。
また図17(b)に変形例を示すように電極4a乃至4dと振動体とは相対向していればよい。
また、本発明の実施の形態で示した共振器は容量性の高インピーダンスを有するので、適宜複数個の共振器を電気的に並列接続し、インピーダンスを下げ、入力電気エネルギーを効率よく共振器に伝達させるように構成してもよい。
2 基板
3 パドル
4 電極
11 分配器
12a、12b コンデンサ
13a、13b インダクタンス
14 捩り共振器
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31 酸化シリコン層
32 単結晶シリコン層
R レジスト
101、102 両持ち梁型振動子
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105 出力線路
191 同一周波数を有する長さLと厚さhの関係を示す直線
192 同じたわみやすさの指標を有する長さLと厚さhの関係を示す直線
201 振動子
202 パドル
204 入力線路
205 出力線路
Claims (9)
- 機械的振動を行う振動体と、前記振動体に近接して位置する電極とを有し、前記振動体と前記電極との間の電圧変化を、前記振動体の振動に変換する電気機械変換機能を有する捩り共振器であり、
前記振動体は梁構造体で構成されており、
前記電極と前記振動体との間の電位差により生ずる静電力が、前記梁構造体の軸を中心軸としたモーメントを生起するように構成され、
前記振動体の捩り振動に伴い、前記振動体との距離が遠ざかる電極と、振動体との距離が近づく電極との電極対には、同一交流信号で、極性の異なる直流バイアス電圧を印加するように構成された駆動手段を具備した捩り共振器。 - 請求項1に記載の捩り共振器であって、
前記梁構造体は、軸対称となる位置に突出部を具備した梁を備えた捩り共振器。 - 請求項1または2に記載の捩り共振器であって、
前記梁構造体は、パドル状の突出部を具備した捩り共振器。 - 請求項1乃至3のいずれかに記載の捩り共振器であって、
2対以上の電極対を有し、
前記駆動手段は、前記電極対の少なくとも一部の電極に印加される直流バイアス電圧の極性を切り替えることで、捩り共振の低次モードと高次モードとを切り替えるようにした捩り共振器。 - 請求項1乃至3のいずれかに記載の捩り共振器であって、
前記電極は、前記振動体の捩り振動に伴い、前記振動体との距離が等しくなるように、前記振動体に対し捩れの方向に配置されて電極対を構成した捩り共振器。 - 請求項1乃至5のいずれかに記載の捩り共振器であって、
異なる捩り共振周波数を有する前記複数の捩り共振器と、前記捩り共振器の少なくとも1つを選択するスイッチ素子とを備えた捩り共振器。 - 請求項1乃至6のいずれかに記載の捩り共振器であって、
電気的に並列に配置された複数個捩り共振器を備えた捩り共振器。 - 請求項1乃至7のいずれかに記載の捩り共振器であって、
前記捩り共振器が、雰囲気を真空に封止したケース内に収納された捩り共振器。 - 請求項1乃至8のいずれかに記載の捩り共振器を用いたフィルタ。
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US20070284680A1 (en) * | 2006-04-20 | 2007-12-13 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method for manufacturing semiconductor device and semiconductor device using the same |
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CN101971494A (zh) * | 2008-03-04 | 2011-02-09 | 三洋电机株式会社 | 共振器及共振器阵列 |
JP4690436B2 (ja) * | 2008-05-01 | 2011-06-01 | 株式会社半導体理工学研究センター | Mems共振器、mems発振回路及びmemsデバイス |
US7999635B1 (en) | 2008-07-29 | 2011-08-16 | Silicon Laboratories Inc. | Out-of plane MEMS resonator with static out-of-plane deflection |
WO2010049217A1 (en) * | 2008-10-28 | 2010-05-06 | Nokia Siemens Networks Oy | Allocating resource units to a mobile station |
JP5523727B2 (ja) * | 2009-03-31 | 2014-06-18 | 学校法人トヨタ学園 | ねじり振動を利用した赤外線の検出方法とこれを実施したねじり振動を利用した赤外線センサ |
JP5213284B2 (ja) * | 2009-06-09 | 2013-06-19 | パナソニック株式会社 | 共振器およびこれを用いた発振器 |
WO2010147156A1 (ja) * | 2009-06-17 | 2010-12-23 | 三洋電機株式会社 | 共振器およびその製造方法 |
WO2010150821A1 (ja) * | 2009-06-25 | 2010-12-29 | 三洋電機株式会社 | 共振器 |
US8916407B1 (en) | 2012-03-29 | 2014-12-23 | Sitime Corporation | MEMS device and method of manufacturing same |
EP3202036B1 (en) * | 2014-10-03 | 2020-05-27 | Teknologian Tutkimuskeskus VTT OY | Temperature compensated beam resonator |
FR3030942A1 (fr) * | 2014-12-22 | 2016-06-24 | Commissariat Energie Atomique | Oscillateur multi-mode permettant un suivi simultane des variations de plusieurs frequences de resonance d'un resonateur |
WO2018182657A1 (en) * | 2017-03-30 | 2018-10-04 | Intel Corporation | Compensation for temperature coefficient of resonant frequency using atomic layer deposition materials |
JP2019215190A (ja) * | 2018-06-11 | 2019-12-19 | 株式会社デンソー | 静電アクチュエータおよび物理量センサ |
CN111470467B (zh) * | 2020-04-22 | 2022-08-05 | 西安交通大学 | 一种跷跷板结构的自主碰撞式谐振器 |
CN117856759B (zh) * | 2024-03-07 | 2024-05-24 | 山东大学 | 实现悬臂梁微谐振器频率调谐和频谱展宽的方法和装置 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5451498A (en) * | 1977-09-13 | 1979-04-23 | Western Electric Co | Electromechanical resonator |
JPH05152886A (ja) * | 1991-06-04 | 1993-06-18 | Csem Centre Suisse Electron & De Microtech Sa Rech & Dev | 捩り基本モードにしたがつて振動する石英共振器 |
JP2002535865A (ja) * | 1999-01-14 | 2002-10-22 | ザ リージェンツ オブ ザ ユニバーシティ オブ ミシガン | 動作周波数を有するマイクロメカニカル共振器を含むデバイス及び動作周波数を拡張する方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3490056A (en) * | 1967-05-16 | 1970-01-13 | Gen Electric | Electromechanical resonator for integrated circuits |
US3634787A (en) * | 1968-01-23 | 1972-01-11 | Westinghouse Electric Corp | Electromechanical tuning apparatus particularly for microelectronic components |
US6424074B2 (en) * | 1999-01-14 | 2002-07-23 | The Regents Of The University Of Michigan | Method and apparatus for upconverting and filtering an information signal utilizing a vibrating micromechanical device |
US6628177B2 (en) * | 2000-08-24 | 2003-09-30 | The Regents Of The University Of Michigan | Micromechanical resonator device and micromechanical device utilizing same |
JP3775276B2 (ja) * | 2001-10-24 | 2006-05-17 | 株式会社デンソー | 静電アクチュエータ |
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5451498A (en) * | 1977-09-13 | 1979-04-23 | Western Electric Co | Electromechanical resonator |
JPH05152886A (ja) * | 1991-06-04 | 1993-06-18 | Csem Centre Suisse Electron & De Microtech Sa Rech & Dev | 捩り基本モードにしたがつて振動する石英共振器 |
JP2002535865A (ja) * | 1999-01-14 | 2002-10-22 | ザ リージェンツ オブ ザ ユニバーシティ オブ ミシガン | 動作周波数を有するマイクロメカニカル共振器を含むデバイス及び動作周波数を拡張する方法 |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
JPN6010069709, A. Olkhovets, S. Evoy, D. W. Carr, J. M. Parpia, and H. G. Craighead, "Actuation and internal friction of torsional nanomechanical silicon resonators", Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures, 200012, vol.18, no.6, p. 3549−3551, US * |
JPN7010003985, S. Evoy, D. W. Carr, A. Olkhovets, J. M. Parpia, and H. G. Craighead, "Nanofabrication and electrostatic operation of single−crystal silicon paddle oscillators", Journal of Applied Physics, 19991201, vol.86, no.11, p. 6072−6077, US * |
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