JP5225840B2 - 振動子、これを用いた共振器およびこれを用いた電気機械フィルタ - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 115
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 63
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 63
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 63
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 53
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 33
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 31
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 22
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims description 16
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 11
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 34
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 17
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 description 15
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 13
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 10
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 6
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 5
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 5
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 5
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- -1 oxygen ions Chemical class 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000004918 carbon fiber reinforced polymer Substances 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 2
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 2
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000577 Silicon-germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 230000021715 photosynthesis, light harvesting Effects 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000010183 spectrum analysis Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/24—Constructional features of resonators of material which is not piezoelectric, electrostrictive, or magnetostrictive
- H03H9/2405—Constructional features of resonators of material which is not piezoelectric, electrostrictive, or magnetostrictive of microelectro-mechanical resonators
- H03H9/2447—Beam resonators
- H03H9/2463—Clamped-clamped beam resonators
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- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H3/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators
- H03H3/007—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks
- H03H3/0072—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks of microelectro-mechanical resonators or networks
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- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/02244—Details of microelectro-mechanical resonators
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- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/24—Constructional features of resonators of material which is not piezoelectric, electrostrictive, or magnetostrictive
- H03H9/2405—Constructional features of resonators of material which is not piezoelectric, electrostrictive, or magnetostrictive of microelectro-mechanical resonators
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- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/02244—Details of microelectro-mechanical resonators
- H03H2009/02283—Vibrating means
- H03H2009/02291—Beams
- H03H2009/02314—Beams forming part of a transistor structure
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- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/02244—Details of microelectro-mechanical resonators
- H03H2009/02488—Vibration modes
- H03H2009/02519—Torsional
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- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/05—Holders; Supports
- H03H9/10—Mounting in enclosures
- H03H9/1057—Mounting in enclosures for microelectro-mechanical devices
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- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/24—Constructional features of resonators of material which is not piezoelectric, electrostrictive, or magnetostrictive
- H03H9/2405—Constructional features of resonators of material which is not piezoelectric, electrostrictive, or magnetostrictive of microelectro-mechanical resonators
- H03H9/2447—Beam resonators
- H03H9/2457—Clamped-free beam resonators
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Acoustics & Sound (AREA)
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
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Description
従来の機械共振器の一例について図33を参照して説明する。図33は非特許文献1で提案されているたわみ振動を用いた機械振動フィルタの構成を簡略化して示した図である。
本発明は、前記実情に鑑みてなされたもので、振動子の振動における振動エネルギの散逸が小さい、高Q値の振動子および共振器を提供することを目的とする。
この構成によれば、支持部の脆弱性を改善し、支持部からの振動エネルギの損失を低減できるので、高Q値を有する共振器を提供することが可能となる。
また、同時に振動子を単結晶材料とし、振動子表面を結晶面とする。これにより振動子表面の表面粗さに起因する振動エネルギの損失を低減することができるので高Q値を有する共振器を提供することが可能となる。表面粗さが粗いと、それだけ秩序正しく配列された原子(振動子の深層部)に比べて秩序正しくなく配列されている原子(振動子の表層部)の数が増大する。この表層部の原子は、深層部の原子とは運動の拘束のされかたが違うので、秩序正しく配列して調和して振動する深層部の原子の動きを阻害し、結果的に振動エネルギの損失要因となる。
この構成によれば、長さが等しい複数個の振動子を形成できるために、同一の共振周波数を有する複数個の共振器を隣接して並べることができる。従って、前記電極と振動子の間に形成される静電容量を電気的に並列に接続することで容量を増加させ、電気的なインピーダンスを低減させ、共振器を含む周辺の電気回路との電気的インピーダンスの整合を取りやすくすることができる。
この構成によれば、共振器を半導体製造装置で製造することができる。また同一シリコン基板上で共振器を他の能動素子を接続し集積化することが可能である。または、共振器を他の能動素子内に作りこむことも可能である。
この構成によれば、電極と梁型の振動子の間に生じる静電力で梁型の振動子のたわみ振動モードを励起することができる。
この構成によれば、同一共振周波数のねじり振動子を複数個、密に集積化することが可能となり、かつインピーダンスを低減することができる。
この構成によれば、電極と梁型の振動子の間に生じる静電力で梁型の振動子のねじり振動モードを励起することができる。この空隙は、電極と振動子との間隔が所定の静電力を生起しうる値とし、その他の領域では相対向する電極がなくてもよいし、振動子との間隔が所定の値以上となり、静電力が他の領域よりも十分に小さくなるように、空隙の大きさを調整するようにしてもよい。
この構成によれば、振動の基本モード周波数のみではなく、高次モードの共振周波数を利用した共振器を構成することができる。
この構成によれば、電極が固定される基板部位の厚みは、梁の厚みに対して十分厚いため強固であるため、外部からの衝撃や、電極と振動子間との静電力により、電極自身が変位する量を低減することができる。
この構成によれば、振動子の共振現象を増幅器を介して電気的に出力することができるとともに、増幅器の内部に共振器を包含するので、共振器と増幅器間の信号線路を設けた場合に信号線路に重畳するノイズを低減することができる。
この構成によれば、共振器の電気的インピーダンスをさらに低減することができる、また高度の寸法精度を得ることができることから、特性ばらつきを抑え、極めて信頼性の高い共振器を得る事が可能となる。
この構成によれば、共振器の保護製を向上させるとともに、振動子の振動が空気の粘性により阻害されることがない、高Q値の共振器を提供することができる。
(実施の形態1)
本実施の形態では、単結晶シリコン基板4の異方性エッチングによってキャビティ7を形成すると共に振動子1を形成するに際し、前記キャビティ7の底面と前記単結晶基板4表面間の厚み内に、支持部5によって両端を支持せしめられるように振動子1が形成され、前記振動子1の厚みが、前記支持部よりも薄くなるように構成される。
ここで単結晶シリコン基板4の裏面にはキャビティ7が形成され、キャビティの上方に基板4と同じ材料で振動子1が加工されている。単結晶シリコン基板の加工によって振動子が形成されるため、支持部と振動子とは同じ単結晶材料で構成されており、多結晶材料の振動子に見られるような結晶粒界面での振動エネルギ損失がないため、高Q値を有する振動子とすることができる。
次にシリコン基板4の裏面でシリコンが露出している部分に局所的な酸化シリコン膜(LOCOS)を形成する(図9(a)および(b))。たとえば酸化炉でシリコン表面を酸化させる。(図10(a)および(b)にLOCOSを残して窒化シリコン膜を除去した状態を示す。
そして図12に示すようにシリコン基板4の表面に対して酸化シリコン膜3の上に電極2を堆積しパターニングする。電極2には例えばCVD(化学気相成長法)で形成した多結晶シリコン膜を用いる。このパターニングは、電極2が梁の幅の約半分まで梁側面と対向するように形成する。これは梁型の振動子1をねじり振動子として用いる場合に有効である。これは振動子1と電極2間の静電力により振動子1にねじりのモーメントを有効に作用させるためである。
なお、梁型の振動子1の断面は三角形としたが、台形とすることもできる。本発明の実施の形態2としてこの台形状の振動子を持つ共振器の製造方法について説明する。
本実施の形態では、図4乃至図6までは同様に作製し、以降を図14(a)および(b)に示すように変更することで台形断面の振動子を形成することができる。図14(a)および(b)は基板4の裏面(図では上方)に窒化シリコン膜を堆積し、窒化シリコン膜に四角形の窓を2つ形成する。このときある幅を持つ直線状の窒化シリコン膜8がキャビティ7を横断し、かつ{111}面に沿うように形成する。KOHを用いてシリコンの異方性エッチングを行うと、図15(a)および(b)に示すように、台形断面の両持ち梁の振動子を形成することができる。台形の4つの側面は、2つの{111}と2つの{100}で形成される。図16((a)および(b)は窒化シリコン膜を除去した状態、図17はシリコン基板4の表面(図では下方)の上の酸化シリコン膜3上に多結晶シリコンの電極2を形成してパターニングを行った状態である。このパターニングは、電極2が梁の幅の約半分まで対向するように形成する。これは振動子1と電極2間の静電力が振動子1にねじりのモーメントを作用させるためであり、この構成によりねじり共振器を構成できる。最後に酸化シリコン膜を除去する(図18)。これはたとえばフッ酸を用いて除去可能である。振動子1と電極2の間にギャップ6が形成され、振動子1は振動可能な状態となる。図14乃至図18の工程は三角形断面を得る図4乃至図13の工程よりも少ない工程数で共振器を形成することができるのが特徴である。
また、図19に一例を示すように、この共振器が、雰囲気を真空に封止したケース内に収納されるようにしてもよい。この場合は、シリコン基板4を接着剤等の接着層10を介してシリコン基台11に接合する。さらにシリコン基台11とガラスキャップ9の凹部で共振器を内包し、内部を真空吸引しながら、シリコン基台11とガラスキャップ9を陽極接合で接合する。この構成により、保護製の高い共振器を形成できるとともに、空気の粘性による振動子1の振動エネルギの損失が低減された共振器を提供することができる。
また、図1〜3に示したねじり共振器の電極の構成を変えることで、たわみ共振器を構成することもできる。図20にたわみ共振器の断面図を示す。電極2はギャップを介して振動子1の側面の幅方向全域にわたって対向し、容量を形成している。本構成により振動子1が基板厚み方向にたわみ振動する励振力を静電力で与えることができる。
また、振動子に対して励起したい共振モード次数に従って電極の数を複数個備えることによって振動子に対して高次の共振モードを励起することができる。図21は図1のねじり共振器の電極2の数を2個にした構成である。電極2a、2bは梁の2次のねじり振動を励起するために、2次のねじりモードの2つの腹とその近傍に励振力を与える部位に位置している。すなわち、電極2a、2bと梁側面とが対向するのは、梁の長さの約半分、かつ梁の幅の約半分の部位としている。
この場合も、極めて高度の寸法精度をもち均一な梁を形成することができるため、信頼性の高い共振器を提供することが可能となる。
また、図1とほぼ同等の構成で、共振器から出力信号を取り出し、増幅する構成を追加することも可能である。図22は図1の共振器において、振動子1の両端の支持部5上に新たに2つの電極を設けたものである。振動子1上の電極をゲート電極22、支持部5上の一方をドレイン電極23、もう一方をソース電極24とする。図23は図22のB−B’の縦方向の断面図である。基板4および振動子1はN型半導体であり、ドレイン電極24下の基板にはp+拡散領域からなるドレイン領域26が、ソース電極23下の基板にはp+拡散領域からなるソース領域25が形成されている。すなわち共振器全体がpチャネルMOSトランジスタであり、MOS構造の酸化膜がギャップ6に置き換わり、振動子1の振動を可能とさせている。振動子1はゲート電極22との間の静電力を受け、共振周波数近傍で大きな振幅のねじり振動を行い、振動子1内のチャネルの形成に変調を与え、結果それに伴うドレイン電流を得る。かかる構成によれは、共振器と増幅器を個別に作製して両者を配線で接続する場合に比べて素子の小型化をはかることができるとともに、配線に起因する損失や雑音の重畳を低減することが可能となる。
また、本実施の形態の共振器を電気的に並列に配置することで、共振器の電気的インピーダンスを低減し、共振器外部の信号回路と共振器の電気的インピーダンスの整合性を高めることができる。
また、本実施の形態の振動子はシリコン基板を加工して形成したが、SOI(Silicon On Insulator)基板のSOI層を加工して振動子を形成してもよい。SOI基板はマイクロメートルまたはナノメートルオーダの薄いSOI層を有するものもあるため、極めて厚みの薄く長さも短い微小なUHF帯に共振点を有するような梁型の振動子を形成する場合に利用することができる。
次に本発明の実施の形態7について説明する。実施の形態1における図1のねじり共振器では、キャビティの底に1個の振動子を形成していたが、複数本を同時形成することができる。振動子を2本形成した場合の斜視図を図24に示す。各振動子に対して電極2a、2bをギャップを介して配置している。この場合はねじり共振器であるので、電極2a、2bともに梁型の振動子の幅方向の約半分まで電極が振動子と対向するように形成し、ねじり振動を効果的に励起する構成としている。
次に本発明の実施の形態8として、ねじり振動モードを用いた低インピーダンス共振器の他の構成を図31に示す。図31は図24と同様、第1のキャビティの底面に対して複数個の振動子を形成したものであるが、図24に示した実施の形態7の低インピーダンス共振器と異なるのは、電極2が振動子の幅方向の約半分までではなく幅方向全域と対向するように形成されている点である。そして、この電極2と対向する振動子のうちの一部の電気的特性が他部と異なるようにし、実質的に静電力が電極2の一部で他部よりも十分に大きくなるようにしたことを特徴とする。ここでは電気的特性を変えるために、振動子のうち電極2に対向する領域の一部にのみ不純物拡散領域1dを形成し、この不純物拡散領域1dと電極2とが対向する領域で大きい静電力が生起せしめられるように構成したことを特徴とする。従って、図24のような電極2のパターニングが不要である。また、図30において電極2を支持するための厚みZ0部分が不要となるため、振動子をさらに高密度に集積化しやすい。
2 電極
3 絶縁膜
4 基板
5 支持部
6 ギャップ
7 キャビティ
101、102 両持ち梁型の振動子
103 結合梁
104 入力線路
105 出力線路
Claims (15)
- 単結晶基板と、
前記単結晶基板の裏面に形成されたキャビティと、前記キャビティの底面と前記単結晶基板表面間の厚み内に、支持部によって少なくとも一端を支持せしめられるように形成された梁型の振動子と、
前記梁型の振動子に静電力の励振力を与える電極とを備え、
前記単結晶基板は、単結晶シリコン基板であり、
前記振動子の断面形状が{100}および{111}の結晶面に囲まれた三角形又は台形であり、
前記振動子の厚みは、前記支持部よりも薄く、かつ前記支持部は、前記振動子の梁の長さ方向に対して軸対称である共振器であって、
前記電極が、前記単結晶基板の表面に露出された梁型の振動子側面の幅方向全域に対して空隙を介して対向し、前記梁型の振動子との間に容量を形成した共振器。 - 単結晶基板と、
前記単結晶基板の裏面に形成されたキャビティと、前記キャビティの底面と前記単結晶基板表面間の厚み内に、支持部によって少なくとも一端を支持せしめられるように形成された梁型の振動子と、
前記梁型の振動子に静電力の励振力を与える電極とを備え、
前記単結晶基板は、単結晶シリコン基板であり、
前記振動子の断面形状が{100}および{111}の結晶面に囲まれた三角形又は台形であり、
前記振動子の厚みは、前記支持部よりも薄く、かつ前記支持部は、前記振動子の梁の長さ方向に対して軸対称である共振器であって、
前記電極が、前記単結晶基板の表面に露出された梁型の振動子側面の幅方向の約半分に対して空隙を介して対向し、前記梁型の振動子との間に容量を形成した共振器。 - 請求項1記載の共振器であって、
前記振動子の導電率が、梁長手方向のねじり中心軸に対して非対称である、ねじり共振器。 - 請求項1または2に記載の共振器であって、
同一キャビティの底面と前記単結晶基板表面間の厚み内に複数個の梁型の振動子を形成した共振器。 - 請求項1または2に記載の共振器であって、
前記単結晶基板はSOI基板のSOI層である共振器。 - 請求項1乃至5のいずれかに記載の共振器であって、
前記電極は、前記梁型の振動子の共振モード次数に対応して複数個配設された共振器。 - 請求項1乃至6のいずれかに記載の共振器であって、
前記電極は、前記キャビティ周縁の前記単結晶基板厚膜部上に絶縁膜を介して固定された共振器。 - 請求項1乃至7のいずれかに記載の共振器であって、
前記梁型の振動子は両持ち梁であり、その両端に前記梁型の振動子とは逆導電型の不純物拡散領域からなる支持部を備え、前記梁型の振動子をチャネルとし、前記不純物拡散領域からなる支持部をソース領域およびドレイン領域とした、増幅器を具備した共振器。 - 請求項1乃至8のいずれかに記載の共振器であって、
電気的に並列に配置された複数個の共振器を備えた共振器。 - 請求項1乃至9のいずれかに記載の共振器であって、
前記振動子が、雰囲気を真空に封止したケース内に収納された共振器。 - 請求項1乃至10のいずれかに記載の共振器を用い、所望の周波数帯域の信号を通過または阻止するように構成した電気機械フィルタ。
- 表面および裏面が{100}面であるシリコン基板を準備し、
シリコン基板厚みより小なる厚みを残すように、裏面から第1のマスクの開口を通して異方性エッチングを行って、結晶面を側面として囲まれたキャビティを形成し、かつ少なくとも2つの{111}面が側面として向かいあうように形成し、前記第1のマスクを除去し、
裏面に第2のマスクの開口を形成し、開口の1辺は前記キャビティの底および前記2つの向かい合う{111}面を横断するように形成され、
前記シリコン基板の表面まで前記第2のマスクの開口から異方性エッチングを行って、前記シリコン基板に{111}面の斜面を作り、
前記シリコン基板の裏面でシリコンが露出している部分に第3のマスクとなる膜を形成し、
その後、第3のマスクを残して前記第2のマスクを除去し、
前記第3のマスクを用いて、異方性エッチングを行って、前記斜面とは逆側に{111}面の斜面を作り、前記第3のマスクを除去して、三角形断面の梁の振動子を形成し、
前記振動子と前記シリコン基板とが連結している前記シリコン基板が支持部を構成し、
前記振動子の断面形状が{100}および{111}の結晶面に囲まれた三角形であり、
前記振動子の厚みは、前記支持部よりも薄く、前記支持部は、前記振動子の梁の長さ方向に対して軸対称である振動子の製造方法。 - 表面および裏面が{100}面であるシリコン基板を準備し、
シリコン基板厚みより小なる厚みを残すように、裏面から第1のマスクの開口を通して異方性エッチングを行って、結晶面を側面として囲まれたキャビティを形成し、かつ少なくとも2つの{111}面が側面として向かいあうように形成し、前記第1のマスクを除去し、
裏面に第2のマスクの2つの開口を形成し、各々の開口の1辺は平行に前記キャビティの底および前記2つの向かい合う{111}面を横断するように形成され、
前記シリコン基板の表面まで前記第2のマスク開口から異方性エッチングを行って、前記シリコン基板に{111}面の斜面を作り、
前記第2のマスクを除去して、台形断面の梁の振動子を形成し、
前記振動子と前記シリコン基板とが連結している前記シリコン基板が支持部を構成し、
前記振動子の断面形状が{100}および{111}の結晶面に囲まれた台形であり、
前記振動子の厚みは、前記支持部よりも薄く、前記支持部は、前記振動子の梁の長さ方
向に対して軸対称である振動子の製造方法。 - 表面および裏面が{100}面であるシリコン基板を準備し、
表面に犠牲層を堆積し、
シリコン基板厚みより小なる厚みを残すように、裏面から第1のマスクの開口を通して異方性エッチングを行って、結晶面を側面として囲まれたキャビティを形成し、かつ少なくとも2つの{111}面が側面として向かいあうように形成し、前記第1のマスクを除去し、
裏面に第2のマスクの開口を形成し、開口の1辺は前記キャビティの底および前記2つの向かい合う{111}面を横断するように形成され、
前記シリコン基板の表面まで前記第2のマスクの開口から異方性エッチングを行って、前記シリコン基板に{111}面の斜面を作り、
前記シリコン基板の裏面でシリコンが露出している部分に第3のマスクとなる膜を形成し、
その後、第3のマスクを残して前記第2のマスクを除去し、
前記第3のマスクを用いて、異方性エッチングを行って、前記斜面とは逆側に{111}面の斜面を作り、
前記第3のマスクを除去して、三角形断面の梁の振動子を形成し、
前記犠牲層上に電極を形成し、前記犠牲層を部分的に除去することにより、振動子と電極を離間して振動子を振動可能とし、
前記振動子と前記シリコン基板とが連結している前記シリコン基板が支持部を構成し、
前記振動子の断面形状が{100}および{111}の結晶面に囲まれた三角形であり、
前記振動子の厚みは、前記支持部よりも薄く、前記支持部は、前記振動子の梁の長さ方向に対して軸対称である共振器の製造方法。 - 表面および裏面が{100}面であるシリコン基板を準備し、
表面に犠牲層を堆積し、
シリコン基板厚みより小なる厚みを残すように、裏面から第1のマスクの開口を通して異方性エッチングを行って、結晶面を側面として囲まれたキャビティを形成し、かつ少なくとも2つの{111}面が側面として向かいあうように形成し、前記第1のマスクを除去し、
裏面に第2のマスクの2つの開口を形成し、各々の開口の1辺は平行に前記キャビティの底および前記2つの向かい合う{111}面を横断するように形成され、
前記シリコン基板の表面まで前記第2のマスク開口から異方性エッチングを行って、前記シリコン基板に{111}面の斜面を作り、
前記第2のマスクを除去して、台形断面の梁の振動子を形成し、
前記犠牲層上に電極を形成し、前記犠牲層を部分的に除去することにより、振動子と電極を離間して振動子を振動可能とし、
前記振動子と前記シリコン基板とが連結している前記シリコン基板が支持部を構成し、
前記振動子の断面形状が{100}および{111}の結晶面に囲まれた台形であり、
前記振動子の厚みは、前記支持部よりも薄く、前記支持部は、前記振動子の梁の長さ方向に対して軸対称である共振器の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008521256A JP5225840B2 (ja) | 2006-06-14 | 2007-06-14 | 振動子、これを用いた共振器およびこれを用いた電気機械フィルタ |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006164382 | 2006-06-14 | ||
JP2006164382 | 2006-06-14 | ||
PCT/JP2007/062033 WO2007145290A1 (ja) | 2006-06-14 | 2007-06-14 | 振動子、これを用いた共振器およびこれを用いた電気機械フィルタ |
JP2008521256A JP5225840B2 (ja) | 2006-06-14 | 2007-06-14 | 振動子、これを用いた共振器およびこれを用いた電気機械フィルタ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2007145290A1 JPWO2007145290A1 (ja) | 2009-11-12 |
JP5225840B2 true JP5225840B2 (ja) | 2013-07-03 |
Family
ID=38831804
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008521256A Expired - Fee Related JP5225840B2 (ja) | 2006-06-14 | 2007-06-14 | 振動子、これを用いた共振器およびこれを用いた電気機械フィルタ |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8026779B2 (ja) |
JP (1) | JP5225840B2 (ja) |
CN (1) | CN101467348A (ja) |
WO (1) | WO2007145290A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5655365B2 (ja) * | 2009-08-04 | 2015-01-21 | セイコーエプソン株式会社 | 光偏向器、光偏向器の製造方法および画像表示装置 |
CN108141194B (zh) * | 2015-10-02 | 2021-07-06 | 株式会社村田制作所 | 晶体片以及晶体振子 |
JP6673479B2 (ja) | 2016-07-14 | 2020-03-25 | 株式会社村田製作所 | 圧電トランス |
WO2018037858A1 (ja) | 2016-08-24 | 2018-03-01 | 株式会社村田製作所 | 圧電トランス |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2006013741A1 (ja) * | 2004-08-05 | 2006-02-09 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | 捩り共振器およびこれを用いたフィルタ |
JP2006074650A (ja) * | 2004-09-06 | 2006-03-16 | Seiko Epson Corp | レゾネータの振動周波数調整方法、レゾネータ |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3919616B2 (ja) * | 2002-07-05 | 2007-05-30 | キヤノン株式会社 | マイクロ構造体及びその製造方法 |
CN100568720C (zh) * | 2005-01-13 | 2009-12-09 | 松下电器产业株式会社 | 扭转谐振器和采用其的滤波器 |
US7579618B2 (en) * | 2005-03-02 | 2009-08-25 | Northrop Grumman Corporation | Carbon nanotube resonator transistor and method of making same |
CN101223692B (zh) * | 2005-09-27 | 2012-05-09 | 松下电器产业株式会社 | 共振器及使用其的滤波器 |
JP4961219B2 (ja) * | 2006-01-31 | 2012-06-27 | パナソニック株式会社 | パラメトリック共振器およびこれを用いたフィルタ |
-
2007
- 2007-06-14 CN CNA2007800222876A patent/CN101467348A/zh active Pending
- 2007-06-14 WO PCT/JP2007/062033 patent/WO2007145290A1/ja active Search and Examination
- 2007-06-14 JP JP2008521256A patent/JP5225840B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2007-06-14 US US12/304,602 patent/US8026779B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2001094062A (ja) * | 1999-08-17 | 2001-04-06 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 集積回路加工処理と両立する単結晶共振装置の製造方法 |
WO2006013741A1 (ja) * | 2004-08-05 | 2006-02-09 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | 捩り共振器およびこれを用いたフィルタ |
JP2006074650A (ja) * | 2004-09-06 | 2006-03-16 | Seiko Epson Corp | レゾネータの振動周波数調整方法、レゾネータ |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
JPN6012024464; A. Tixier-Mita, K. Nakamura, A. Laine, H. Kawakatsu, and H. Fujita: 'Single Crystal Nano-Resonators at 100 MHz Fabricated by a Simple Batch Process' Proceedings of The 13th International Conference on Solid-State Sensors, Actuators and Microsystems , 20050605, 1388-1 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2007145290A1 (ja) | 2009-11-12 |
CN101467348A (zh) | 2009-06-24 |
US20090195330A1 (en) | 2009-08-06 |
US8026779B2 (en) | 2011-09-27 |
WO2007145290A1 (ja) | 2007-12-21 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080924 |
|
A521 | Written amendment |
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|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100303 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130313 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |