JPWO2005091343A1 - ミラー、位置合わせ方法、光学ユニットの製造方法及び光学ユニット、並びに露光装置 - Google Patents

Abstract

ミラー（Ｍ１）は、その一面に反射面が形成され、その側面の一部に、前記反射面の基準となる光学基準軸（ＢＸ）に平行な基準平面（６５ｘ，６５ｙ）が形成されている。このミラー（Ｍ１）の光学基準軸を非球面測定装置を用いて検出し、同時にレーザ干渉計などで基準平面を検出することで、光学基準軸と基準平面の位置関係を、予め求めておく。これにより、その後は、基準平面の位置、姿勢（チルト等）を、三次元測定器などで計測し、その計測結果と上記の位置関係とに基づいて、間接的にミラーの光学基準軸の位置、傾きを精度良く計測することが可能となる。従って、ミラー（Ｍ１）を用いることにより、三次元測定器などの簡易な測定装置を用いて、高精度な光学特性を有する光学ユニットを容易に製造することが可能になる。

Description

本発明は、ミラー、位置合わせ方法、光学ユニットの製造方法及び光学ユニット、並びに露光装置に係り、更に詳しくは、例えば極端紫外光（Extreme Ultraviolet光：ＥＵＶ光）を露光光として用いるＥＵＶ露光装置等に用いられる所定形状の反射面を有するミラー、その位置合わせ方法、前記ミラーを備える光学ユニットの製造方法及び該製造方法により製造された光学ユニット、並びに前記光学ユニットを光学系として備える露光装置に関する。

従来より、半導体素子、液晶表示素子等を製造するためのリソグラフィ工程では、マスク又はレチクル（以下、「レチクル」と総称する）に形成されたパターンを、投影光学系を介してレジスト等が塗布されたウエハ又はガラスプレート等の基板（以下、適宜「ウエハ」ともいう）上に転写する露光装置が用いられている。この種の装置としては、近年では、スループットを重視する観点から、ステップ・アンド・リピート方式の縮小投影露光装置（いわゆる「ステッパ」）や、このステッパを改良したステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置などの逐次移動型の投影露光装置が主として用いられている。

かかる露光装置では、従来、露光用の照明光（露光ビーム）として超高圧水銀ランプからの紫外域の輝線、例えばｉ線（波長３６５ｎｍ）や、ＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）などが使用されていた。近年ではより高い解像度（解像力）を得るために、露光ビームとしてＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）を露光ビームとする露光装置も実用化されている。これらの露光装置の投影光学系としては、屈折光学素子（レンズ）のみから成る屈折系が主として使用されていた。

これに対して、より微細な半導体素子等を製造するために、最近では、露光光として波長が１００ｎｍ程度以下の軟Ｘ線領域の光、すなわちＥＵＶ光を使用するＥＵＶ露光装置の開発も行われている。このＥＵＶ露光装置では、ＥＵＶ光が透過する光学材料が現時点では存在しないため、照明光学系及び投影光学系は全て反射光学素子（ミラー）によって構成され、レチクルもまた反射型レチクルが使用される。

ところで、従来の紫外線露光装置に搭載される投影光学系は、レンズの光学面のほとんどが球面で、その外形形状は光学基準軸を回転対称軸とする回転対称な形状（回転対称軸の回りに任意の角度で回転させた場合に常に同一状態となる形状、平面視円形）であったため、玉押し技術によって投影光学系を組み立てることができた。

しかしながら、ＥＵＶ露光装置の投影光学系は、全て反射光学素子（ミラー）によって構成され、更に、ミラーの反射面が軸対称の高次非球面又は球面になる場合があり、投影光学系の組み立て時には、投影光学系の光軸方向及びそれに直交する面内の直交２軸方向の３自由度方向に関する各ミラーのシフトと、前記面に対する傾斜（チルト）とを同時に管理する必要がある。また、各ミラーの外形形状が上述した回転対称な形状ではないため、従来の玉押し技術を適用することができない。

また、上記のミラーの中には、その反射面である球面又は非球面等の光学基準軸（回転対称軸）が、その内部に存在しないミラー（光学部材）も含まれるが、従来の投影光学系の組み立て方法では、このような光学部材の組み立ては想定していなかったため、投影光学系の光軸と各光学部材の反射面の光学基準軸とを高精度に一致させることが困難である。

更に、ＥＵＶ露光装置の投影光学系では、要求される光学性能が厳しく、各ミラーの位置調整の精度が０．１μｍ以下と非常に小さく、高精度な位置合わせを行うことが必要不可欠である。

本発明は、上述した事情の下でなされたものであり、第１の観点からすると、所定形状の反射面を有するミラーであって、その一面に回転対称な面の一部から成る前記反射面が形成されたミラー素材と、前記ミラー素材のうち、前記反射面と異なる面の一部に、前記反射面の基準となるとともに前記回転対称な面の回転対称軸をなす光学基準軸に対して、所定の位置関係で設けられた位置測定用部材とを有することを特徴とするミラーである。

ここで、「光学基準軸」とは、ミラーの形状に関わらず、該ミラーの反射面の基準となる軸を指し、例えばミラーの反射面が球面又は非球面等の回転対称な面である場合の回転対称軸などもこれに該当する。従って、ミラーの反射面が、球面又は非球面の一部であり、その内部に回転対称軸が存在しないようなミラー形状であっても、その回転対称軸（仮想の軸）が光学基準軸である。ここで、「回転対称」とは、通常の意味における回転対称、すなわちある回転軸において、図形を回転させ同等な位置へ移すこと（例えば軸の回りに回転角ψ＝２π／ｎ（ｎ＝１，２，……）で対称操作したｎ回転対称など）とは異なり、回転対称軸の回りに任意の角度で図形を回転させた場合に常に同一図形となることを意味し、本明細書では、かかる意味で、「回転対称」なる用語を用いる。

これによれば、光学基準軸に対して所定の位置関係で設けられた位置測定用部材がミラー素材の反射面と異なる面の一部に設けられているので、この位置測定用部材を介してミラーの少なくとも一軸方向の位置情報を測定することが可能となり、これにより、ミラーの位置合わせを正確に行うことが可能となる。特に、位置測定用部材が、ミラー素材の側面に形成された基準平面を複数有する場合には、それらの基準平面を用いてミラーの２次元方向のシフト、チルトを正確に測定することが可能となるので、ミラーの２次元面内における位置合わせを正確に行うことが可能となる。また、基準平面の各々が、前記反射面の基準となるとともに前記回転対称な面の回転対称軸をなす光学基準軸に平行であることから、回転対称軸及び各基準平面に直交する方向を各基準平面に関する計測軸方向とすることができ、これにより測定位置が対象軸方向にずれていても、そのずれによって測定誤差が生じない。特に、基準平面が複数設けられ、基準平面の各々が該各基準平面に垂直の角度をなし前記回転対称軸を通る仮想直線が各基準平面を通るように配置されている場合には、例えば複数のミラーの基準平面位置を測定する場合に、測定軸を共有することが可能となり、測定装置を相対的に簡略な構成とすることが可能となる。

ここで、「平行」又は「垂直」という言葉は装置の要求される精度に対して実質的に垂直又は平行であるという意味である。

また、基準平面が２つ設けられている場合、２つの基準平面のなす角度が９０度である場合、各基準平面に垂直な軸方向の測定感度を同じにすることができ軸間干渉がないので、より精度の高いミラーの位置測定を行うことが可能となる。

本発明は、第２の観点からすると、マスクに形成されたパターンを光学系を介して物体上に転写する露光装置であって、前記光学系が、本発明のミラーを含むことを特徴とする第１の露光装置である。

これによれば、高精度な露光を行うことが可能となる。

本発明は、第３の観点からすると、その一面に回転対称な面の一部から成る反射面が形成されたミラー素材と、前記ミラー素材のうち、前記反射面と異なる面の一部に、前記反射面の基準となるとともに前記回転対称な面の回転対称軸をなす光学基準軸に対して、所定の位置関係で設けられた位置測定用部材とを有するミラーに、前記光学基準軸及び前記位置測定用部材を通る仮想直線を設定し、前記仮想直線に対し、前記ミラーの位置を測定するための位置測定軸を実質的に一致させることを特徴とする位置合わせ方法である。

これによれば、仮想直線と位置測定軸とが実質的に一致するため、複数のミラーの位置測定用部材の位置を測定軸を動かさずに同じ測定装置で測定することができ、結果的に測定装置を簡略化することが可能である。

本発明は、第４の観点からすると、その一面に形成された回転対称な面の一部から成る反射面が形成されたミラー素材と、前記ミラー素材のうち、前記反射面と異なる面の一部に設けられ、前記回転対称な面の回転対称軸に対して、所定の位置関係を有する位置測定用部材とを有する複数のミラーと；前記複数のミラーの前記回転対称軸を回転中心として配置された位置合わせ用の参照基準部材と；を備える第１の光学ユニットである。

これによれば、光学ユニットの光軸（複数のミラーを含む光学系の光軸）を挟んでミラーが配置された場合においても、全てのミラーの位置測定用部材に対して、所定の位置関係、例えば平行に参照基準部材を配置することが可能となり、高精度な測定を行うことが可能である。

この場合において、前記複数のミラーを保持する保持セルを更に備え、前記参照基準部材は前記保持セルのフランジ部に配置されていることとすることができる。かかる場合には、保持セルのフランジ部は剛性が高いため、形状変化が小さく、参照基準平面の位置ずれが少ないため、高精度な測定を行うことが可能である。

本発明は、第５の観点からすると、マスクに形成されたパターンを光学系を介して物体上に転写する露光装置であって、本発明の第１の光学ユニットを前記光学系として具備する第２の露光装置である。

これによれば、高精度な露光を行うことが可能となり、マスクに形成されたパターンを光学系を介して物体上に精度良く転写することが可能となる。

本発明は、第６の観点からすると、複数の光学部材を備える光学ユニットを製造する製造方法であって、前記複数の光学部材のうち特定の光学部材を保持セル内に組み込む第１工程と；前記保持セルの外部から前記保持セル内部の前記特定の光学部材の位置測定用部材に検出光を照射して光学ユニットの光軸に直交する２次元面内に関する前記特定の光学部材の位置情報を検出するとともに、その検出結果に基づいて前記特定の光学部材の前記２次元面内の位置を調整する第２工程と；を含む第１の製造方法である。

これによれば、複数の光学部材のうち特定の光学部材を保持セル内に組み込み（第１工程）、保持セルの外部から保持セル内部の前記特定の光学部材の位置測定用部材に検出光を照射して光学ユニットの光軸に直交する２次元面内に関する特定の光学部材の位置情報を検出するとともに、その検出結果に基づいて特定の光学部材の前記２次元面内の位置を調整する（第２工程）。従って、保持セル内に組み込んだ後に光学ユニットの光軸に直交する２次元面内に関する特定の光学部材の位置を精度良く調整することが可能となる。この場合、特定の光学部材の前記２次元面内の位置情報の検出は、例えばレーザ干渉計などの簡易な計測装置により行うことができ、高精度な光学特性を有する光学ユニットを容易に製造することが可能になる。

この場合において、前記特定の光学部材として、その一面に所定形状の反射面が形成されたミラー素材と、前記ミラー素材のうち、前記反射面と異なる面の一部に、前記反射面の基準となる光学基準軸に対して所定の位置関係で設けられた位置測定用部材とを有するミラーが用いられていることとすることができる。

本発明は第７の観点からすると、複数の光学部材を備える光学ユニットを製造する製造方法であって、前記複数の光学部材のうち特定の光学部材を保持セルの内部に対して、前記保持セルの基準軸と、前記特定の光学部材の光学基準軸との位置関係を調整した状態で取り付ける工程と；前記光学部材が取り付けられた前記保持セルの基準軸を基準として、該保持セルと他の保持セルとを組み付ける工程と；を含む第２の製造方法である。

これによれば、複数の光学部材のうち特定の光学部材を保持セルの内部に対して、その保持セルの基準軸と特定の光学部材の光学基準軸との位置関係を調整した状態で取り付ける。そして、その光学部材が取り付けられた保持セルの基準軸を基準として、その保持セルと他の保持セルとを取り付ける。すなわち、特定の光学部材の光学基準軸との位置関係が既知の保持セルの基準軸を基準として、その保持セルを他の保持セルに組み付けることにより、全ての保持セルの基準軸同士を所望の位置関係に設定することができるとともに、特定の光学部材と全ての保持セルの基準軸との位置関係を所望の状態に設定することができる。特に、複数の保持セルの各々に特定の光学部材が取り付けられている場合、各保持セルの基準軸と特定光学部材の光学基準軸との位置関係を調整した後は、保持セル同士を取り付けることで、各光学部材に直接触れることなく、複数の特定の光学部材同士の位置関係を所望の位置関係に調整することが可能となる。従って、高精度な光学特性を有する光学ユニットを容易に製造することが可能になる。

本発明は、第８の観点からすると、複数の光学部材を備える光学ユニットを製造する製造方法であって、 前記複数の光学部材のそれぞれについて該光学部材の光学基準軸と該光学部材の位置測定用部材との位置関係を測定する工程と；前記各光学部材を、複数の保持セルのそれぞれに、該保持セルの基準軸方向に関する位置ずれ及び前記基準軸に直交する面に対する傾斜を調整した状態で取り付ける工程と；前記各保持セルの外部から該保持セル内の光学部材の前記位置測定用部材に検出光を照射して前記位置測定用部材の位置情報を測定し、その測定結果と前記位置関係の測定結果とに基づいてその保持セルの基準軸に直交する面内でシフトさせて前記各光学部材の位置関係を調整する工程と含む第３の製造方法である。

これによれば、複数の光学部材のそれぞれについて該光学部材の光学基準軸と該光学部材の位置測定用部材との位置関係（すなわち位置測定用部材の位置（光学基準軸と位置測定用部材との距離）と位置測定用部材の傾き（光学基準軸と位置測定用部材の平行度））が測定される。次いで、各光学部材が、複数の保持セルのそれぞれに、該保持セルの基準軸方向に関する位置ずれ及び前記基準軸に直交する面に対する傾斜を調整した状態で取り付けられる。すなわち、各保持セルに取り付けられた状態では、各光学部材は、それぞれの保持セルの基準軸方向に関する位置と基準軸に直交する面に対する傾斜（チルト）とが所望の状態に設定されている。

そして、各保持セルの外部から該保持セル内の光学部材の前記位置測定用部材に検出光が照射されて位置測定用部材の位置情報が測定され、その測定結果と前記位置関係の測定結果とに基づいてその保持セルの基準軸に直交する面内でその保持セルをシフトさせることで各光学部材の位置関係が調整される。

すなわち、保持セル同士を取り付ける（組み上げる）際に調整できる保持セルの基準軸に直交する面内におけるシフト方向以外の方向の光学部材の位置・姿勢を予め調整した状態で保持セルに取り付けておき、保持セル同士を取り付ける際にはそのシフト方向の位置の調整が光学部材に直接触れることなく行われるので、誤差要因の少ない方法で高精度な光学ユニットを製造することが可能である。

本発明は、第９の観点からすると、本発明の第１〜第３の製造方法のいずれかによって製造された第２の光学ユニットである。

これによれば、本発明の第１〜第３の製造方法のいずれかによって第２の光学ユニットが製造されているので、その光学ユニットは光学特性が高精度に調整されている。

本発明は、第１０の観点からすると、マスクに形成されたパターンを光学系を介して物体上に転写する露光装置であって、本発明の第２の光学ユニットを前記光学系として具備する露光装置である。

これによれば、高精度な調整がなされた本発明の第２の光学ユニットを光学系として具備しているので、該光学系によりマスクに形成されたパターンが物体上に転写され、これにより物体へのパターン転写を高精度に行うことが可能となる。

この場合において、前記マスクとして反射型マスクが用いられ、前記光学ユニットを構成する全ての光学部材はミラーであり、各ミラーの反射面には、その表面に極端紫外光の反射させるための多層膜が設けられていることとすることができる。

本発明の第１の実施形態に係る露光装置の概略構成を示す図である。 図１の投影光学系の概略斜視図である。 投影光学系を構成するミラーの配置を説明するための図であって、鏡筒内に配置された６つのミラーを斜め上方から見た斜視図である。 投影光学系を構成するミラーの配置を説明するための図であって、鏡筒内に配置された６つのミラーを斜め下方から見た斜視図である。 投影光学系を構成するミラーの作用を説明するための図である。 分割鏡筒１５２ｃの一部を破砕して示す斜視図である。 ミラーＭ１の平面図である。 図６（Ａ）のＡ−Ａ線断面図である。 Ｙチルト量θｙを説明するための図である。 第１の実施形態の制御系を示すブロック図である。 第１の実施形態に係る投影光学系の製造方法を示すフローチャートである。 ミラーと分割鏡筒を示す平面図である。 分割鏡筒及び分割鏡筒内に設けられたミラーを示す縦断面図である。 ２つの分割鏡筒を組み上げた状態を模式的に示す断面図である。 計測軸を３軸有するレーザ干渉計からの測長ビームが、基準平面に照射された状態を示す図である。 ローコヒーレント干渉計からの測長ビームが基準平面に照射された状態を示す図である。 外径の異なるミラーの位置関係を説明するための図である。 第２の実施形態に係る投影光学系の製造方法を示すフローチャートである。 ４つの基準面が設けられた単一の鏡筒を有する投影光学系を示す図である。 ミラーＭ_Aの２つの基準平面が２つの基準面２２Ａ，２２Ｂに対して位置決めされた状態を示す図である。 ミラーＭ_Bの２つの基準平面が残り２つの基準面２２Ｃ，２２Ｄに対して位置決めされた状態を示す図である。 ミラーの裏面に形成された計測面部を示す図である。

《第１の実施形態》
以下、本発明の第１の実施形態を図１〜図１２に基づいて説明する。

図１には、第１の実施形態に係る露光装置１０の全体構成が概略的に示されている。この露光装置１０では、後述するように、投影光学系ＰＯが使用されているので、以下においては、この投影光学系ＰＯの光軸方向をＺ軸方向、これに直交する面内で図１における紙面内左右方向をＹ軸方向、紙面に直交する方向をＸ軸方向として説明するものとする。

この露光装置１０は、レチクルＲに形成された回路パターンの一部の像を投影光学系ＰＯを介してウエハＷ上に投影しつつ、レチクルＲとウエハＷとを投影光学系ＰＯに対して１次元方向（ここではＹ軸方向）に相対走査することによって、レチクルＲの回路パターンの全体をウエハＷ上の複数のショット領域の各々にステップ・アンド・スキャン方式で転写するものである。

露光装置１０は、ＥＵＶ光（軟Ｘ線領域の光）を露光用照明光（以下、「露光ビーム」と記述する）ＥＬとして射出する光源装置１２、この光源装置１２からの露光ビームＥＬを反射して所定の入射角、例えば約５０〔ｍｒａｄ〕でレチクルＲのパターン面（図１における下面（−Ｚ側の面））に入射するように折り曲げる折り曲げミラーＭを含む照明光学系（なお、折り曲げミラーＭは、投影光学系ＰＯの鏡筒内部に存在しているが、実際には照明光学系の一部である）、レチクルＲを保持するレチクルステージＲＳＴ、レチクルＲのパターン面で反射された露光ビームＥＬをウエハＷの被露光面（図１における上面（＋Ｚ側の面））に対して垂直に投射する投影光学系ＰＯ、及びウエハＷを保持するウエハステージＷＳＴ等を備えている。

前記光源装置１２としては、一例として、レーザ励起プラズマ光源が用いられている。このレーザ励起プラズマ光源は、ＥＵＶ光発生物質（ターゲット）に高輝度のレーザ光を照射することにより、そのターゲットが高温のプラズマ状態に励起され、該ターゲットが冷える際に放出するＥＵＶ光、紫外光、可視光、及び他の波長域の光を利用するものである。なお、本実施形態では、主に波長５〜２０ｎｍ、例えば波長１１ｎｍのＥＵＶ光が露光ビームとして用いられるものとする。

前記照明光学系は、照明ミラー、波長選択窓等（いずれも図示省略）及び折り曲げミラーＭ等を含んで構成されている。また、光源装置１２内の集光ミラーとしての放物面鏡も照明光学系の一部を構成する。光源装置１２で射出され、照明光学系を介した露光ビームＥＬ（前述の折り曲げミラーＭで反射された露光ビームＥＬ）は、レチクルＲのパターン面を円弧スリット状の照明光となって照明する。

前記レチクルステージＲＳＴは、ＸＹ平面に沿って配置されたレチクルステージベース３２上に配置され、レチクルステージ駆動系３４を構成する例えば磁気浮上型２次元リニアアクチュエータが発生する磁気浮上力によって前記レチクルステージベース３２上に浮上支持されている。レチクルステージＲＳＴは、レチクルステージ駆動系３４が発生する駆動力によってＹ軸方向に所定ストロークで駆動されるとともに、Ｘ軸方向及びθｚ方向（Ｚ軸回りの回転方向）にも微小量駆動されるようになっている。また、このレチクルステージＲＳＴは、レチクルステージ駆動系３４が複数箇所で発生する磁気浮上力の調整によってＺ軸方向及びＸＹ面に対する傾斜方向（Ｘ軸回りの回転方向であるθｘ方向及びＹ軸回りの回転方向であるθｙ方向）にも微小量だけ駆動可能に構成されている。

レチクルステージＲＳＴの下面側に不図示の静電チャック方式（又はメカチャック方式）のレチクルホルダが設けられ、該レチクルホルダによってレチクルＲが保持されている。このレチクルＲとしては、露光ビームＥＬが波長１１ｎｍのＥＵＶ光であることと対応して反射型レチクルが用いられている。このレチクルＲは、そのパターン面が下面となる状態でレチクルホルダによって保持されている。このレチクルＲは、シリコンウエハ、石英、低膨張ガラスなどの薄い板から成り、その−Ｚ側の表面（パターン面）には、ＥＵＶ光を反射する反射膜が形成されている。この反射膜は、モリブデンＭｏとベリリウムＢｅの膜が交互に約５．５ｎｍの周期で、約５０ペア積層された多層膜である。この多層膜は波長１１ｎｍのＥＵＶ光に対して約７０％の反射率を有する。なお、前記折り曲げミラーＭ、その他の照明光学系内の各ミラーの反射面にも同様の構成の多層膜が形成されている。

レチクルＲのパターン面に形成された多層膜の上には、吸収層として例えばニッケルＮｉ又はアルミニウムＡｌが一面に塗布され、その吸収層にパターンニングが施されて回路パターンが形成されている。

レチクルＲの吸収層が残っている部分に当たったＥＵＶ光はその吸収層によって吸収され、吸収層の抜けた部分（吸収層が除去された部分）の反射膜に当たったＥＵＶ光はその反射膜によって反射され、結果として回路パターンの情報を含んだＥＵＶ光（露光ビームＥＬ）がレチクルＲのパターン面からの反射光として後述する投影光学系ＰＯへ向かう。

レチクルステージＲＳＴ（レチクルＲ）のステージ移動面内での位置（ＸＹ面内の位置）は、レチクルステージＲＳＴに設けられた（又は形成された）反射面にレーザビームを投射するレチクルレーザ干渉計（以下、「レチクル干渉計」という）８２Ｒによって、例えば０．５〜１ｎｍ程度の分解能で常時検出される。ここで、実際には、レチクル干渉計は、レチクルステージＲＳＴのＸ軸方向位置（Ｘ位置）を計測するレチクルＸ干渉計とレチクルステージＲＳＴのＹ軸方向位置（Ｙ位置）を計測するレチクルＹ干渉計とが設けられているが、図１ではこれらが代表的にレチクル干渉計８２Ｒとして示されている。そして、レチクルＹ干渉計とレチクルＸ干渉計の少なくとも一方、例えばレチクルＹ干渉計は、測長軸を２軸有する２軸干渉計であり、このレチクルＹ干渉計の計測値に基づきレチクルステージＲＳＴ（レチクルＲ）のＹ位置に加え、θｚ方向（Ｚ軸回りの回転方向）の回転量（ヨーイング量）も計測できるようになっている。

前記レチクルＲのＺ軸方向の位置は、レチクルＲのパターン面に対し斜め方向から検出ビームを照射する送光系１３ａと、レチクルＲのパターン面で反射された検出ビームを受光する受光系１３ｂとから構成されるレチクルフォーカスセンサ（１３ａ，１３ｂ）によって計測されている。このレチクルフォーカスセンサ（１３ａ，１３ｂ）としては、例えば特開平６−２８３４０３号公報及びこれに対応する米国特許第５，４４８，３３２号等に開示される多点焦点位置検出系が用いられている。このため、該レチクルフォーカスセンサ（１３ａ，１３ｂ）の計測値に基づいて、レチクルＲのパターン面のＺ位置のみならず、ＸＹ面に対する傾斜（θｘ、θｙ方向の回転量）も求めることができる。なお、本国際出願で指定した指定国（又は選択した選択国）の国内法令が許す限りにおいて、上記公報及び米国特許における開示を援用して本明細書の記載の一部とする。

レチクル干渉計８２Ｒ及びレチクルフォーカスセンサ（１３ａ，１３ｂ）の計測値は、主制御装置２０（図７参照）に供給され、該主制御装置２０によってそれらレチクル干渉計８２Ｒ及びレチクルフォーカスセンサ（１３ａ，１３ｂ）の計測値に基づいてレチクルステージ駆動部３４を介してレチクルステージＲＳＴが駆動されることで、レチクルＲの６次元方向の位置及び姿勢制御が行われるようになっている。

前記投影光学系ＰＯは、開口数（Ｎ．Ａ．）が例えば０．１で、後述するように、反射光学素子（ミラー）のみから成る反射光学系が使用されており、ここでは、投影倍率が１／４倍のものが使用されている。従って、レチクルＲによって反射され、レチクルＲに形成されたパターンの情報を含む露光ビームＥＬは、ウエハＷ上に投射され、これによりレチクルＲ上のパターンは１／４に縮小されてウエハＷに転写される。なお、投影光学系ＰＯの具体的構成等については、後に更に詳述する。

前記ウエハステージＷＳＴは、ＸＹ平面に沿って配置されたウエハステージベース６０上に配置され、例えば磁気浮上型２次元リニアアクチュエータから成るウエハステージ駆動部６２によって該ウエハステージベース６０上に浮上支持されている。このウエハステージＷＳＴは、前記ウエハステージ駆動部６２によってＸ軸方向及びＹ軸方向に所定ストローク（ストロークは例えば３００〜４００ｍｍである）で駆動されるとともに、θｚ方向（Ｚ軸回りの回転方向）にも微小量駆動されるようになっている。また、このウエハステージＷＳＴは、ウエハステージ駆動部６２によってＺ軸方向及びＸＹ面に対する傾斜方向にも微小量だけ駆動可能に構成されている。

ウエハステージＷＳＴの上面には、静電チャック方式の不図示のウエハホルダが載置され、該ウエハホルダによってウエハＷが吸着保持されている。ウエハステージＷＳＴの位置は、外部に配置されたウエハレーザ干渉計（以下、「ウエハ干渉計」という）８２Ｗにより、例えば、０．５〜１ｎｍ程度の分解能で常時検出されている。なお、実際には、ウエハ干渉計はＸ軸方向に測長軸を有する干渉計及びＹ軸方向に測長軸を有する干渉計が設けられているが、図１ではこれらが代表的にウエハ干渉計８２Ｗとして示されている。それらの干渉計は、測長軸を複数有する多軸干渉計で構成され、ウエハステージＷＳＴのＸ、Ｙ位置の他、回転（ヨーイング（Ｚ軸回りの回転であるθｚ回転）、ピッチング（Ｘ軸回りの回転であるθｘ回転）、ローリング（Ｙ軸回りの回転であるθｙ回転））も計測可能となっている。

また、投影光学系ＰＯの鏡筒を基準とするウエハＷのＺ軸方向に関する位置は、斜入射方式のウエハフォーカスセンサによって計測されるようになっている。このウエハフォーカスセンサは、図１に示されるように、投影光学系ＰＯの鏡筒を保持する不図示のコラムに固定され、ウエハＷの上面に対し斜め方向から検出ビームを照射する送光系１４ａと、同じく不図示のコラムに固定され、ウエハＷ面で反射された検出ビームを受光する受光系１４ｂとから構成される。このウエハフォーカスセンサ（１４ａ，１４ｂ）としては、レチクルフォーカスセンサ（１３ａ，１３ｂ）と同様の多点焦点位置検出系が用いられる。

ウエハ干渉計８２Ｗ及びウエハフォーカスセンサ（１４ａ、１４ｂ）の計測値は、主制御装置２０（図７参照）に供給され、該主制御装置２０によってウエハステージ駆動部６２が制御され、ウエハステージＷＳＴの６次元方向の位置及び姿勢制御が行われるようになっている。

ウエハステージＷＳＴ上面の一端部には、レチクルＲに形成されたパターンがウエハＷ面上に投影される位置と後述するアライメント系ＡＬＧとの相対位置関係の計測（いわゆるベースライン計測）等を行うための空間像計測器ＦＭが設けられている。この空間像計測器ＦＭは、従来のＤＵＶ露光装置の基準マーク板に相当するものである。

さらに、本実施形態では、図１に示されるように、投影光学系ＰＯの鏡筒に、アライメント系ＡＬＧが固定されている。このアライメント系ＡＬＧとしては、ブロードバンド光をウエハＷ上のアライメントマーク（または空間像計測器ＦＭ）に照射し、その反射光を受光して画像処理によりマーク検出を行うＦＩＡ（Field Image Alignment ）方式のアライメントセンサ、レーザ光をウエハＷ上の回折格子状のアライメントマークに２方向から照射し、発生した２つの回折光を干渉させ、その位相からアライメントマークの位置情報を検出するＬＩＡ（Laser Interferometric Alignment ）方式のアライメントセンサ、レーザ光をウエハＷ上のアライメントマークに照射し、回折・散乱された光の強度を利用してマーク位置を計測するＬＳＡ（Laser Step Alignment）方式のアライメントセンサやＡＦＭ（原子間力顕微鏡）のような走査型プローブ顕微鏡等種々のものを用いることができる。

なお、本実施形態では、レチクルステージＲＳＴ、投影光学系ＰＯ、及びウエハステージＷＳＴ等は、実際には、不図示の真空チャンバ内に収容されている。

次に、前記投影光学系ＰＯについて、図２〜図６に基づいて、詳細に説明する。

図２には、投影光学系ＰＯの概略斜視図が示されている。この投影光学系ＰＯは、Ｚ軸方向に沿って上から下へ順次連結された５つの分割鏡筒１５２ａ、１５２ｂ，１５２ｃ，１５２ｄ，１５２ｅ、及び分割鏡筒１５２ｂ，１５２ｃ間に設けられたフランジＦＬＧ等から成る鏡筒５２と、該鏡筒５２内部に配置されたミラーＭ１，Ｍ２，Ｍ３，Ｍ４，Ｍ５，Ｍ６（図３（Ａ），図３（Ｂ），及び図４参照）とを含んで構成されている。この鏡筒５２の−Ｙ側の側壁には、分割鏡筒１５２ａ及び分割鏡筒１５２ｂの両者に跨る開口５２ａが形成されている。分割鏡筒１５２ａ〜１５２ｅ及びフランジＦＬＧは、ステンレス（ＳＵＳ）等の脱ガスの少ない材料にて形成されている。

前記分割鏡筒１５２ａには、その下端部近傍の外周面の一部（−Ｚ側かつ＋Ｙ側部分）に外部に突出する張り出し部１５２ｆが設けられ、全体として上面が閉塞された概略円筒状の部材によって形成されている。この分割鏡筒１５２ａは、その上壁（＋Ｚ側の壁）に上下に貫通する矩形の開口５２ｂが形成されている。

前記分割鏡筒１５２ｂは、前記分割鏡筒１５２ａよりも僅かに径の大きい円筒状の部材から成り、分割鏡筒１５２ａの下側（−Ｚ側）に連結されている。この分割鏡筒１５２ｂの下端部近傍には、他の部分より直径（外径）が大きな前記フランジ部ＦＬＧが連結されている。

前記分割鏡筒１５２ｃは、分割鏡筒１５２ｂよりも僅かに直径（外径）の小さい円筒状の部材から成り、フランジ部ＦＬＧの下側（−Ｚ側）に連結されている。

前記分割鏡筒１５２ｄは、前記分割鏡筒１５２ｃよりも僅かに直径（外径）の小さい円筒状の部材から成り、分割鏡筒１５２ｃの下側（−Ｚ側）に連結されている。

前記分割鏡筒１５２ｅは、底面が閉塞された、前記分割鏡筒１５２ｄよりも僅かに直径（外径）の小さい円筒状部材から成り、分割鏡筒１５２ｄの下側（−Ｚ側）に連結されている。この分割鏡筒１５２ｅの底壁（−Ｚ側の壁）には、不図示ではあるが、投影光学系ＰＯからウエハＷに向けて露光ビームＥＬを通過させるための開口が形成されている。

図３（Ａ）には、鏡筒５２内に配置された６つのミラーＭ１〜Ｍ６を斜め上方から見た斜視図が示され、図３（Ｂ）には、これらの６つのミラーＭ１〜Ｍ６を斜め下方から見た斜視図が示されている。これらの図からわかるように、６つのミラーＭ１〜Ｍ６は、上からミラーＭ２、ミラーＭ４、ミラーＭ３、ミラーＭ１、ミラーＭ６、ミラーＭ５の順に配置されている。なお、図３（Ａ），図３（Ｂ）では、各ミラーの反射面に、ハッチングが付されている。

本実施形態では、ミラーＭ１〜Ｍ６それぞれの反射面は、設計値に対して露光波長の約５０分の１から６０分の１以下の凹凸となる加工精度が実現され、ＲＭＳ値（標準偏差）で０．２ｎｍから０．３ｎｍ以下の平坦度誤差しかないように設定されている。また、各ミラーの反射面の形状は、計測と加工とを交互に繰り返しながら形成されている。

前記ミラーＭ１は、図３（Ａ）及び図４から分かるように、その上面が球面又は非球面などの回転対称な反射面とされた低熱膨張のミラー素材（例えば、石英、Zerodur：Schott社登録商標、ULE：Corning社登録商標等）から成る凹面鏡であり、その反射面の光学基準軸、すなわち回転対称軸（非球面軸）ＢＸ（図６（Ａ）参照）が投影光学系ＰＯの光軸ＡＸにほぼ一致するように位置調整されている。このミラーＭ１は、前記分割鏡筒１５２ｃの内部に配置されている。ミラーＭ１は、分割鏡筒１５２ｃを一部破砕して示す斜視図である図５に示されるように、ミラー保持機構９２によって、分割鏡筒１５２ｃ内で保持されている。また、ミラーＭ１は、実際には、ミラーＭ１の平面図である図６（Ａ）に示されるように、その外周の輪郭が多角形（８角形）状とされ、その側面の一部（外周面の＋Ｘ側の一部）には、Ｘ軸に垂直な平面（鏡面加工が施された平面）から成る基準平面６５ｘが形成され、その側面の別の一部（外周面の＋Ｙ側の一部）には、Ｙ軸に垂直な平面（鏡面加工が施された平面）から成る基準平面６５ｙが形成されている。２つの基準平面６５ｘ，６５ｙは、互いに直交し（９０度の角度をなし）、また、設計上は回転対称軸（非球面軸）と平行となるように配置されている。更に、基準平面６５ｘ，６５ｙのそれぞれと垂直に交差し、基準平面６５ｘ，６５ｙを通る仮想直線Ｌｘ，Ｌｙが回転対称軸ＢＸで交差するように配置されている。基準平面６５ｘ，６５ｙは、ミラー本体と一体に形成しても良いし、別体を接合しても構わない。本実施形態では、上述の低熱膨張のミラー素材から成る基板を加工することによって、ミラー本体と一体に基準平面６５ｘ，６５ｙが形成されている。これらの基準平面６５ｘ，６５ｙは、少なくとも直径１５ｍｍで、その表面の凹凸が６０ｎｍ以下の円形領域を含むような形状（大きさ）を有している。

なお、ミラー素材の外周部に後述するミラー保持部材４４Ａ，４４Ｂ，４４Ｃに保持される３つの突起をミラー本体と一体又は別体で設けても良い。

前記ミラー保持機構９２は、図５に示されるように、分割鏡筒１５２ｃの内面にその一部が固定されたパラレルリンク機構４１₁と、該パラレルリンク機構４１₁のエンドエフェクタを構成するインナーリング４２の上面にそれぞれ設けられ、ミラーＭ１の側面の３箇所を保持するミラー保持部材４４Ａ，４４Ｂ，４４Ｃとを備えている。

前記パラレルリンク機構４１₁は、分割鏡筒１５２ｃの下端部で内側に突出する円環状の突出部上に、３つの調整用ワッシャＷＲを介して載置された円環状部材から成るアウターリング４８と、該アウターリング４８よりも径が一回り小さい円環状部材から成り、アウターリング４８の上方に配置されたインナーリング４２と、アウターリング４８とインナーリング４２とを相互に連結するとともにインナーリング４２をアウターリング４８に対してＸ，Ｙ，Ｚ軸方向及びθｘ方向（Ｘ軸回りの回転方向）、θｙ方向（Ｙ軸回りの回転方向）、θｚ方向（Ｚ軸回りの回転方向）の６自由度方向に駆動する駆動機構４６と、を備えている。

前記駆動機構４６は、一端と他端が、アウターリング４８、インナーリング４２に対して球面対偶を介して接続された同一構成の６本のリンク１１０によって構成されている。各リンク１１０は、図５に示されるように、第１軸部材１１３と、該第１軸部材１１３に接続又は連結された第２軸部材１１５とを有し、第１軸部材１１３の一端（下端）は、アウターリング４８にボールジョイント１１１を介して取り付けられ、第２軸部材１１５の他端（上端）は、インナーリング４２にボールジョイント（不図示）を介して取り付けられている。

この場合、第２軸部材１１５と、第１軸部材１１３との少なくとも一方には、リンク１１０の長さ、すなわち、第１軸部材１１３の下端と第２軸部材１１５の上端との距離を変更可能なアクチュエータが設けられている。かかるアクチュエータとしては、直動シリンダ、小型モータ、圧電素子などを用いることが考えられるが、本実施形態では、一例として圧電素子が用いられているものとする。

これまでの説明からわかるように、パラレルリンク機構４１₁は、６本の伸縮可能なリンクを有する、スチュワートプラットホーム型と呼ばれるパラレルリンク機構である。

前記ミラー保持部材４４Ａ〜４４Ｃは、インナーリング４２の上面（＋Ｚ側の面）に所定の位置関係で配置され、ミラーＭ１の外周面の３箇所、例えば中心角１２０°間隔の外周の３等分点をそれぞれ保持している。これらのミラー保持部材４４Ａ〜４４Ｃは、それぞれ、ほぼ逆Ｕ字状の形状を有しており、インナーリング４２の半径方向についての剛性が低くなるように設定されている。

ミラー保持部材４４Ａ〜４４ＣのそれぞれとミラーＭ１との間は、機械的なクランプ機構により固着されており、これにより、ミラーＭ１がインナーリング４２に対して所定の位置関係を維持した状態で保持されている。なお、前述の如く、ミラー本体の外周部に３つの突起を設けた場合には、これら３つの突起がミラー保持部材４４Ａ〜４４Ｃに保持される。

このように、ミラーＭ１がインナーリング４２の半径方向についての剛性が低いミラー保持部材４４Ａ〜４４Ｃによって、その外周の３等分点で保持されていることから、ミラーＭ１に熱膨張が生じるような場合であっても、ミラーＭ１の熱膨張による変形を吸収することができ、ミラーＭ１の歪みを抑制できる。

図５に示されるように、ミラーＭ１の基準平面６５ｘに対向して分割鏡筒１５２ｃの一部には開口６４ｘが形成されており、ミラーＭ１の基準平面６５ｙに対向して分割鏡筒１５２ｃの一部には開口６４ｙが形成されている。投影光学系ＰＯが露光装置本体に搭載された状態では、投影光学系ＰＯの外部に設置されたレーザ干渉計６３Ｘ₁，６３Ｙ₁（図５では不図示、図７参照）からの測長ビームが開口６４ｘ，６４ｙを介して、ミラーの基準平面６５ｘ，６５ｙに照射され、該ミラーＭ１の基準平面６５ｘ，６５ｙで反射された測長ビームがレーザ干渉計６３Ｘ₁，６３Ｙ₁内のディテクタにより検出されることでミラーＭ１のＸＹ位置が例えば０．５〜１ｎｍ程度の分解能で常時検出される。

図３（Ａ）に戻り、前記ミラーＭ２は、その下面が球面又は非球面などの回転対称な反射面とされた前述と同様の低熱膨張のミラー素材から成り、その反射面の回転対称軸（球面軸又は非球面軸）が投影光学系ＰＯの光軸ＡＸにほぼ一致するように位置調整された凹面鏡である（図３（Ｂ）、図４等参照）。このミラーＭ２は、図２の分割鏡筒１５２ａ内で、前述したミラーＭ１を保持する保持機構９２と同様の保持機構によって保持され、該保持機構を構成する前述のパラレルリンク機構４１₁と同様の構成のパラレルリンク機構４１₂（図７参照）によって６自由度方向に駆動可能となっている。

なお、ミラーＭ２にも、前述したミラーＭ１と同様に、ミラーＭ２のＸ軸位置を計測するための基準平面とＹ軸位置を計測するための基準平面とが形成されている。従って、投影光学系ＰＯが露光装置に組み込まれた状態では、投影光学系ＰＯの外部に設けられたレーザ干渉計６３Ｘ₂，６３Ｙ₂（図７参照）により、ミラーＭ２の位置が検出されるようになっている。

前記ミラーＭ３は、図３（Ａ）、図３（Ｂ）及び図４を総合するとわかるように、その上面が反射面とされた前述と同様の低熱膨張のミラー素材から成る凸面鏡であり、投影光学系ＰＯの光軸ＡＸから外れた位置に配置されている。但し、図４に示されるように、ミラーＭ３の反射面は、破線９４ａで示される球面又は非球面などの回転対称な面の一部であり、その回転対称軸（球面軸又は非球面軸）が光軸ＡＸにほぼ一致する位置にミラーＭ３は位置調整されている。このミラーＭ３は、図２の分割鏡筒１５２ｂ内で、前述したミラーＭ１を保持する保持機構９２と同様の保持機構によって保持され、該保持機構を構成する前述のパラレルリンク機構４１₁と同様の構成のパラレルリンク機構４１₃（図７参照）によって６自由度方向に駆動可能となっている。

なお、ミラーＭ３にも、前述したミラーＭ１と同様に、ミラーＭ３のＸ軸位置を計測するための基準平面とＹ軸位置を計測するための基準平面とが形成されている。従って、投影光学系ＰＯが露光装置に組み込まれた状態では、投影光学系ＰＯの外部に設けられたレーザ干渉計６３Ｘ₃，６３Ｙ₃（図７参照）により、ミラーＭ３の位置が検出されるようになっている。

前記ミラーＭ４は、図３（Ａ）、図３（Ｂ）及び図４を総合するとわかるように、その下面が反射面とされた前述と同様の低熱膨張のミラー素材から成る凹面鏡であり、投影光学系ＰＯの光軸ＡＸから大きく外れた位置に配置されている。但し、図４に示されるように、ミラーＭ４の反射面は、破線９４ｂで示される球面又は非球面などの回転対称な面の一部であり、その回転対称軸（球面軸又は非球面軸）が光軸ＡＸにほぼ一致する位置にミラーＭ４は位置調整されている。このミラーＭ４は、図２の分割鏡筒１５２ａ内で、前述したミラーＭ１を保持する保持機構９２と同様の保持機構によって、張り出し部１５２ｆに例えば１つのリンクがはみ出した状態で保持され、該保持機構を構成する前述のパラレルリンク機構４１₁と同様の構成のパラレルリンク機構４１₄（図７参照）によって６自由度方向に駆動可能となっている。

なお、ミラーＭ４にも、前述したミラーＭ１〜Ｍ３と同様に、ミラーＭ４のＸ軸位置を計測するための基準平面とＹ軸位置を計測するための基準平面とが形成されている。従って、投影光学系ＰＯが露光装置に組み込まれた状態では、投影光学系ＰＯの外部に設けられたレーザ干渉計６３Ｘ₄，６３Ｙ₄（図７参照）により、ミラーＭ４の位置が検出されるようになっている。

前記ミラーＭ５は、図３（Ａ）、図３（Ｂ）及び図４を総合するとわかるように、その上面が反射面とされ、その一部に切り欠きが形成された全体として概略馬蹄形状を有する前述の低熱膨張のミラー素材から成る凸面鏡である。このミラーＭ５は、その反射面が球面又は非球面などの回転対称な面の一部となっており、その回転対称軸（球面軸又は非球面軸）が投影光学系ＰＯの光軸ＡＸにほぼ一致するように位置調整されている。このミラーＭ５では、光軸ＡＸより−Ｙ側の部分に露光ビームＥＬの光路となる上記切り欠きが形成されている。このミラーＭ５は、図２の分割鏡筒１５２ｅ内で、前述したミラーＭ１を保持する保持機構９２と同様の保持機構によって保持され、該保持機構を構成する前述のパラレルリンク機構４１₁と同様の構成のパラレルリンク機構４１₅（図７参照）によって６自由度方向に駆動可能となっている。

なお、ミラーＭ５にも、前述したミラーＭ１〜Ｍ４と同様に、ミラーＭ５のＸ軸位置を計測するための基準平面とＹ軸位置を計測するための基準平面とが形成されている。従って、投影光学系ＰＯが露光装置に組み込まれた状態では、投影光学系ＰＯの外部に設けられたレーザ干渉計６３Ｘ₅，６３Ｙ₅（図７参照）により、ミラーＭ５の位置が検出されるようになっている。

前記ミラーＭ６は、図３（Ａ）、図３（Ｂ）及び図４を総合するとわかるように、その下面が反射面とされ、その一部に切り欠きが形成された全体として概略馬蹄形状を有する前述の低熱膨張のミラー素材から成る凹面鏡である。このミラーＭ６は、その反射面が球面又は非球面などの回転対称な面の一部となっており、その回転対称軸（球面軸又は非球面軸）が投影光学系ＰＯの光軸ＡＸにほぼ一致するように位置調整されている。このミラーＭ５では、光軸ＡＸより＋Ｙ側の部分に露光ビームＥＬの光路となる上記切り欠きが形成されている。このミラーＭ５は、図２の分割鏡筒１５２ｄ内で、前述したミラーＭ１を保持する保持機構９２と同様の保持機構によって保持され、該保持機構を構成する前述のパラレルリンク機構４１₁と同様の構成のパラレルリンク機構４１₆（図７参照）によって６自由度方向に駆動可能となっている。

なお、ミラーＭ６にも、前述したミラーＭ１〜Ｍ５と同様に、ミラーＭ６のＸ軸位置を計測するための基準平面とＹ軸位置を計測するための基準平面とが形成されている。従って、投影光学系ＰＯが露光装置に組み込まれた状態では、投影光学系ＰＯの外部に設けられたレーザ干渉計６３Ｘ₆，６３Ｙ₆（図７参照）により、ミラーＭ６の位置が検出されるようになっている。

ここで、上述のようにして構成された投影光学系ＰＯの作用について図１及び図４に基づいて説明する。図１に示されるように、光源装置１２から射出され、投影光学系ＰＯの鏡筒５２に形成された開口５２ａを介して鏡筒５２の内部に入射された露光ビームＥＬは、鏡筒５２内に配置された照明光学系の一部を構成する折り曲げミラーＭでほぼ上向きに反射され、鏡筒５２の開口５２ｂを介してレチクルＲに所定の入射角で入射する。そして、レチクルＲのパターン面で反射された露光ビームＥＬは、図４に示されるように、ミラーＭ１で反射されてミラーＭ２の反射面に集光される。次いで、ミラーＭ２の反射面で反射された露光ビームＥＬは、ミラーＭ３、Ｍ４で順次反射され、ミラーＭ６の切り欠きを通過してミラーＭ５に入射し、ミラーＭ５の反射面で反射される。その後、ミラーＭ５で反射された露光ビームＥＬは、ミラーＭ６で反射され、パターンの結像光束となってミラーＭ５の切り欠きを介してウエハＷ上に照射される。

図７には、本実施形態に係る露光装置１０の制御系の主要な構成が示されている。この制御系は、装置全体を統括的に制御する主制御装置２０を中心として構成されている。

次に、本第１の実施形態の投影光学系ＰＯの製造方法について、図８に沿ってかつ図９（Ａ）、図９（Ｂ）、図１０及びその他の図面を適宜参照しながら説明する。ここで、図８には、投影光学系ＰＯの製造手順が、フローチャート（流れ図）にて示されている。また、図９（Ａ）には、１つの分割鏡筒１５２ｃ及びその内部に設けられたミラーＭ１の概略平面図が示され、図９（Ｂ）には、分割鏡筒１５２ｃ及びその内部の構成部品の縦断面図が示されている。また、図１０には、ミラーＭ１，Ｍ６及びこれらに対応する分割鏡筒１５２ｃ，１５２ｄの部分が縦断面図にて模式的に示されている。

〔ステップ１〕
図８のステップ１では、まず、所定のミラーデータを含む設計値に従って投影光学系ＰＯを構成する各光学部材としてのミラーＭ１〜Ｍ６、各ミラーを保持するミラー保持機構９２、及びミラーとミラー保持機構９２とが組み込まれる分割鏡筒１５２ａ〜１５２ｅを製造する。

すなわち、各ミラーは、周知のミラー加工機を用いて所定の光学材料からそれぞれ所定の設計値に従うように加工され、またミラー保持機構９２を構成するアウターリング４８、インナーリング４２は、周知の金属加工機等を用いて所定の寸法に加工され、各リング４２，４８間に別の工程で作成された駆動機構４６が取り付けられ、更に別の工程で作成されたミラー保持部材４４Ａ〜４４Ｃがインナーリング４２上面に取り付けられる。また、分割鏡筒１５２ａ〜１５２ｅは、周知の金属加工機等を用いて所定の材料（ステンレス、真鍮、セラミック等）からそれぞれ所定の寸法を有する形状に加工される。

〔ステップ２〕
ステップ２では、ステップ１で製造された投影光学系ＰＯを構成する各ミラーの非球面を高精度な非球面干渉計で計測し、回転対称軸（非球面軸）ＢＸ（図６（Ａ）参照）を求める。非球面干渉計としては非球面の参照面を用いたフィゾー干渉計等を用いることが可能である。特に、非球面量の小さい（例えば１００μｍ以下）ミラーの場合は、非球面干渉計を用いることによって、３次元測定機よりも高精度に回転対称軸ＢＸの位置を測定することができる。また、非球面干渉計による回転対称軸ＢＸの測定の際に、各ミラーの基準面（ここでは基準平面６５ｘ，６５ｙ）を非球面干渉計上に設けられたレーザ干渉計（レーザ干渉式測長器）又はローコヒーレント干渉計などで計測する。

ここで、基準平面６５ｘ，６５ｙの位置と傾きを計測するために、レーザ干渉計又はローコヒーレント干渉計を用いるのは、これらの干渉計は、一般にワーキングディスタンスが大きく確保でき、かつ検出感度も高いからである。従って、非球面干渉計に具備する測定装置としてレーザ干渉計又はローコヒーレント干渉計は適している。なお、その測定装置としては、その他、リニアエンコーダや静電容量センサ等他の装置を用いることもできる。

図１１（Ａ）には、計測軸を３軸有するレーザ干渉計からの測長ビームＩＢ１，ＩＢ２，ＩＢ３が、基準平面（６５ｘ，６５ｙ）に照射された状態が示されている。測長ビームＩＢ１、ＩＢ２によってミラーのチルトを測定することができ、測長ビームＩＢ１，ＩＢ３によってミラーの回転対称軸ＢＸ回りの回転を測定することができ、測長ビームＩＢ１〜ＩＢ３の少なくとも１つによってミラーの位置ずれ（シフト）を測定することが可能である。

図１１（Ｂ）には、測定ビームと参照ビームとの干渉縞を測定することによって、ミラーの位置ずれ、チルト、回転対称軸回りの回転等を測定する、ローコヒーレント干渉計からの測長ビームＩＢ４が基準平面（６５ｘ，６５ｙ）に照射された状態が示されている。本実施形態では、前述の如く、基準平面６５ｘ，６５ｙのそれぞれは、少なくとも直径１５ｍｍで、その表面の凹凸が６０ｎｍ以下の円形領域を含むような形状（大きさ）を有しているので、直径１５ｍｍの測長ビームＩＢ４は基準平面（６５ｘ，６５ｙ）内に完全に収まり（基準平面（６５ｘ，６５ｙ）からはみ出すことがなく）、また、凹凸が６０ｎｍ以下であることから計測誤差の影響が小さくなる。この結果、傾きの測定誤差を１秒以下に抑えることができる。なお、基準平面６５ｘ，６５ｙそれぞれの平面度及び２つの基準平面６５ｘ，６５ｙがなす角度についても必要に応じて、同時または別途測定しておく。

そして、回転対称軸ＢＸ及び基準平面６５ｘ，６５ｙの計測結果に基づいて、回転対称軸ＢＸと基準平面６５ｘ，６５ｙのＸＹ方向に関する位置関係（以下、回転対称軸ＢＸと基準平面６５ｘとの距離を「Ｘシフト量Ｓｘ」と呼び、回転対称軸ＢＸと基準平面６５ｙとの距離を「Ｙシフト量Ｓｙ」と呼ぶものとする）、及び回転対称軸ＢＸに対する基準平面６５ｘ，６５ｙの傾斜（以下、図６（Ｃ）に示される回転対称軸ＢＸに対する基準平面６５ｘの傾き角を「Ｙチルト量θｙ」と呼び、回転対称軸ＢＸに対する基準平面６５ｙの傾き角（不図示）を「Ｘチルト量θｘ」と呼ぶものとする）を求める。

このような回転対称軸ＢＸと基準平面６５ｘ，６５ｙとの位置関係の測定はミラー毎に行う必要がある。本実施形態では、６枚のミラーＭ１〜Ｍ６についてこの測定を行う必要がある。すなわち、外形形状等の異なる複数のミラーを測定する必要がある。このような場合、測定軸を共通にすることによって、装置を簡略化することができる。

図１２には、一例として一軸のレーザ干渉計を用いた場合の一例が示されている。今、外形が異なる２つのミラーＭ’、Ｍ”の各々の回転対称軸ＢＸが重なるように配置する。すると、ミラーＭ’、Ｍ”（６枚のミラーＭ１〜Ｍ６のうち、２枚のミラーを簡略化したもの）それぞれの仮想直線（基準平面のそれぞれと垂直に交差し、基準平面を通る仮想直線）Ｌｘ、Ｌｙを共通にすることができるため、この直線Ｌｘ、Ｌｙを測定軸として、レーザ干渉計の光束を基準平面６５ｘ₁，６５ｘ₂、６５ｙ₁，６５ｙ₂に導けば、レーザ光束の軸を移動せずに、全てのミラーの回転対称軸ＢＸと基準平面との位置関係を測定することが可能となる。仮に、測定軸が各ミラーで異なる場合、光束を導く位置を変える手段が必要となり、また、干渉計のキャリブレーションも測定毎に必要となり、コスト及び時間が増大するという問題がある。この問題は、他の測定装置を用いた場合も同様に問題となる。

〔ステップ３〕
ステップ３では、高精度な三次元測定器を用いて、投影光学系ＰＯを構成する各ミラーの反射面（非球面）とＺ基準面（例えば、ミラーＭ１の外縁部に存在する最上面６５ｚ）とを計測する。そして、この計測結果に基づいて、図６（Ｂ）に示される非球面頂点ＢａとＺ基準面６５ｚとの関係（以下、この非球面頂点ＢａとＺ基準面６５ｚとの距離を「Ｚシフト量Ｓｚ」と呼ぶ）を求める。

〔ステップ４〕
ステップ２及びステップ３での投影光学系ＰＯを構成するミラーとそのミラーの回転対称軸（非球面軸）との関係の計測（Ｓｘ，Ｓｙ，Ｓｚ，θｘ，θｙ）が完了した後、ステップ４において、予め設定されている設計値に従って、各ミラーと該各ミラーを保持するミラー保持機構から成るユニット（以下、「ミラーユニット」と呼ぶ）を組み立てる。

〔ステップ５〕
ステップ５では、ステップ４で組み立てたミラーユニットをそれぞれに対応する分割鏡筒内に仮に組み込み、各ミラーと対応する分割鏡筒との位置関係を、それぞれ計測する。例えば、分割鏡筒１５２ｃ及びミラーＭ１を採りあげて説明すると、分割鏡筒１５２ｃ内のミラーＭ１のＸＹＺシフト計測のための基準面（基準平面６５ｘ，６５ｙ、Ｚ基準面６５ｚ）と、分割鏡筒１５２ｃに予め形成されているＸＹＺシフト計測のための基準面（図９（Ａ）、図９（Ｂ）に示される、分割鏡筒１５２ｃのＸ位置計測に用いられる基準面６７ｘ、Ｙ位置計測に用いられる基準面６７ｙ、及びＺ位置計測に用いられる基準面６７ｚ）を三次元測定器（又はレーザ干渉計）で計測し、図９（Ａ）、図９（Ｂ）に示されるミラーＭ１と分割鏡筒１５２ｃとの位置関係（具体的には、ミラーＭ１の基準平面６５ｘと分割鏡筒１５２ｃの基準面６７ｘとの距離Ｓｘ’、ミラーＭ１の基準平面６５ｙと分割鏡筒１５２ｃの基準面６７ｙとの距離Ｓｙ’、及びミラーＭ１のＺ基準面６５ｚと分割鏡筒１５２ｃの基準面６７ｚとの距離Ｓｚ’）を求める。この場合、三次元測定器（又はレーザ干渉計）を用いて基準面６７ｘ，６７ｙ，６７ｚを計測するので、これらの基準面６７ｘ，６７ｙ，６７ｚも鏡面加工を行い、また、十分な平面度を有するようにしておく必要がある。このとき、図９（Ａ）に示されるように、基準面６７ｘ，６７ｙとミラーＭ１の基準平面６５ｘ，６５ｙとは平行に配置されることが好ましい。このような配置の場合、基準平面とミラーの基準平面との相対位置関係をより高精度に計測することができる。

なお、分割鏡筒１５２ｃは、上記分割鏡筒１５２ｃの基準面６７ｘのＹ軸方向に関する中心を通る該基準面６７ｘに垂直な直線（この場合図９（Ａ）の平面図では基準面６７ｘの垂直二等分線となる）と、基準面６７ｙのＸ軸方向に関する中心を通る該基準面６７ｙに垂直な直線（この場合図９（Ａ）の平面図では基準面６７ｙの垂直二等分線となる）との交点を、分割鏡筒１５２ｃの中心軸（基準軸）が通るように設計されている。

ここで、ミラーＭ１の基準面（基準平面６５ｘ，６５ｙ）の計測に際しては、分割鏡筒１５２ｃに形成された図５に示される開口６４ｘ、６４ｙを介して、三次元測定器からの検出光をミラーＭ１の基準面（基準平面）６５ｘ，６５ｙにそれぞれ照射し、その反射光に基づいて基準面６５ｘ，６５ｙの位置を計測する。

その他のミラーＭ２〜Ｍ６及び対応する分割鏡筒についても、上記と同様にして、各ミラーと対応する分割鏡筒との位置関係を、それぞれ計測するようになっている。

〔ステップ６〕
次いで、ステップ６では、オートコリメータを用いて、各分割鏡筒内の各ミラーのＸＹチルト基準面（例えばミラーＭ１の場合、基準平面６５ｘ，６５ｙ）の傾きと各分割鏡筒のＸＹチルト基準面（分割鏡筒１５２ｃの場合、基準面６７ｘ，６７ｙ）の傾きとをそれぞれ計測し、対応する各分割鏡筒のＸＹチルト基準面に対する各ミラーのＸＹチルト基準面の相対角度（Ｘ軸回りの回転角であるＸチルト量θｘ’及びＹ軸回りの回転角であるＹチルト量θｙ’）をそれぞれ求める。

〔ステップ７〕
次のステップ７では、上述したステップ５における計測結果（Ｓｘ’，Ｓｙ’，Ｓｚ’）とステップ６における計測結果（θｘ’，θｙ’）とに基づいて、各分割鏡筒に対する対応するミラーのＸチルトθｘ’、Ｙチルトθｙ’が０になるように、かつ距離Ｓｚ’が所望の値になるような調整を行う。この調整は、例えば図５に示されるミラー保持機構９２を構成するアウターリング４８と分割鏡筒１５２ｃの下端部で内側に突出する円環状の突出部との間に配置される３つの調整用ワッシャＷＲを加工してそれぞれの厚さ（及び傾斜）を調整することにより、行われる。なお、調整用ワッシャＷＲを加工する場合に限らず、調整用ワッシャを複数種類用意し、最適な厚さの調整ワッシャを選択することで、調整を行うこととしても良い。そして、調整後の調整用ワッシャＷＲ又は選択された調整用ワッシャを介して、再度各ミラーユニットを対応する分割鏡筒にそれぞれ取り付ける。なお、この調整の終了後に、基準面６７ｘ，６７ｙとミラーの基準平面６５ｘ，６５ｙとは真に平行な配置となる。

〔ステップ８〕
次いで、ステップ８では、エアスピンドルを用いた回転テーブル等の真直度を保証できる装置を用いて各分割鏡筒の偏心を調整し、分割鏡筒のそれぞれを隣接する分割鏡筒に分離環（リングワッシャ）ＲＷを介して一時的に固定することで（図１０参照）、鏡筒５２を一旦組み立てる。この段階では、これまでの説明から分かるように、各分割鏡筒に対する各ミラーのＸＹチルト（θｘ’，θｙ’）、Ｚシフト（Ｓｚ’）は調整されており、かつ各ミラーのＸＹシフト（Ｓｘ’，Ｓｙ’）は調整されていない状態である。

〔ステップ９〕
ステップ９では、ステップ８で組み立てた投影光学系ＰＯの光学特性、例えば波面収差を、波面収差計測機を用いて計測し、その波面収差の計測結果に基づいて、各ミラーの投影光学系ＰＯの光軸に対するＸ軸方向、Ｙ軸方向の位置ずれ量、すなわち、各ミラーが組み込まれた各分割鏡筒の偏心量を求める。また、ミラーのＺシフト（ここでは、ステップ７の処理で各ミラーと対応する分割鏡筒との間のＺ軸方向の位置関係の調整は行われているので、隣接する分割鏡筒相互間の距離、具体的には図１０に示される分離環（リングワッシャ）ＲＷの厚さを意味する）を求め、一旦組み立てた投影光学系を分解して各分離環（リングワッシャ）ＲＷの厚さを変更する。この場合もリングワッシャを複数種類用意し、最適なリングワッシャを選択することで調整することとしても良い。そして、分割鏡筒のそれぞれと、厚さの調整がなされた複数の分離環（リングワッシャ）ＲＷとを、分割鏡筒、分離環、分割鏡筒、分離環、分割鏡筒、……という順序で、順次組み上げ、その組み上げられた各分割鏡筒の偏心量を周知の偏心調整機で調整する。その調整後に、分割鏡筒のそれぞれを隣接する分割鏡筒に分離環を介してボルト止めすることで、投影光学系の組み立てが一応終了する。

その後、波面収差が所望の値になるまでステップ９を繰り返し、波面収差が所望の値になった段階で、投影光学系ＰＯが完成する。

説明は前後するが、前述したように、各ミラーは、パラレルリンク機構により６自由度方向に駆動可能とされているが、パラレルリンク機構による各ミラーの駆動範囲は、非常に狭いので、組み立て後に各ミラーの駆動範囲を最大にするためには、組み立て製造時には、各パラレルリンクをその可動範囲の中立位置に設定することが必要となる。そこで、本実施形態では、組み立て製造中の各パラレルリンク機構は、その可動範囲の中立位置に設定した状態で、上述した投影光学系の組み立てを行うようにしている。すなわち、製造組み立て段階では、パラレルリンク機構によるミラーの駆動は行われないようになっている。

次に、上述のようにして構成された本実施形態の露光装置１０による露光工程の動作について説明する。

まず、不図示のレチクル搬送系によりレチクルＲが搬送され、ローディングポジションにあるレチクルステージＲＳＴに保持される。次いで、主制御装置２０（図７参照）により、ウエハステージＷＳＴ及びレチクルステージＲＳＴの位置が制御され、レチクルＲ上に形成された不図示のレチクルアライメントマークのウエハＷ面上への投影像が空間像計測器ＦＭを用いて検出され、その検出結果と干渉計８２Ｒ、８２Ｗの計測値とに基づいて、レチクルパターン像のウエハＷ面上への投影位置が求められる。すなわち、レチクルアライメントが行われる。

次に、主制御装置２０により、空間像計測器ＦＭがアライメント系ＡＬＧの直下へ位置するように、ウエハステージＷＳＴが移動され、アライメント系ＡＬＧの検出信号及びそのときのウエハ干渉計８２Ｗの計測値とに基づいて、間接的にレチクルＲのパターン像のウエハＷ面上への投影位置とアライメント系ＡＬＧの相対距離、すなわちアライメント系ＡＬＧのベースラインが求められる。

かかるベースライン計測が終了すると、主制御装置２０により、いわゆるＥＧＡ方式のウエハアライメントが行われ、ウエハＷ上の全てのショット領域の位置座標が求められる。

そして、次のようにしてステップ・アンド・スキャン方式の露光がＥＵＶ光を露光ビームＥＬとして行われる。すなわち、主制御装置２０ではウエハアライメントの結果得られたウエハＷ上の各ショット領域の位置情報に従って、ウエハ干渉計８２Ｗからの位置情報をモニタしつつ、ウエハステージＷＳＴを第１ショット領域の露光のための走査開始位置（加速開始位置）に移動するとともに、レチクルステージＲＳＴを走査開始位置（加速開始位置）に移動して、その第１ショットの走査露光を行う。この走査露光に際し、主制御装置２０ではレチクルステージＲＳＴとウエハステージＷＳＴとを同期して駆動するとともに両者の速度比が投影光学系ＰＯの投影倍率に正確に一致するように両ステージの速度を制御し、露光（レチクルパターンの転写）を行う。これにより、ウエハＷ上の第１ショット領域には、例えば２５ｍｍ（幅）×５０ｍｍ（走査方向の長さ）の回路パターンの転写像が形成される。

上記のようにして第１ショット領域の走査露光が終了すると、主制御装置２０ではウエハステージＷＳＴを第２ショット領域の露光のための走査開始位置（加速開始位置）へ移動させるショット間のステッピング動作を行う。そして、その第２ショット領域の走査露光を上述と同様にして行う。以後、第３ショット領域以降も同様の動作を行う。

このようにして、ショット間のステッピング動作とショットに対する走査露光動作とが繰り返され、ステップ・アンド・スキャン方式でウエハＷ上の全てのショット領域にレチクルＲのパターンが転写される。

ここで、上記の走査露光中やアライメント中には、ウエハフォーカスセンサ（１４ａ、１４ｂ）によってウエハＷ表面と投影光学系ＰＯの間隔、ＸＹ平面に対する傾斜が計測され、主制御装置２０によってウエハＷ表面と投影光学系ＰＯとの間隔、平行度が常に一定になるようにウエハステージＷＳＴが制御される。また、主制御装置２０では、レチクルフォーカスセンサ（１３ａ、１３ｂ）の計測値に基づいて、露光中（レチクルパターンの転写中）の投影光学系ＰＯとレチクルＲのパターン面との間隔が常に一定に保たれるように、レチクルＲの投影光学系ＰＯの光軸方向（Ｚ方向）の位置を調整しつつ、レチクルステージＲＳＴとウエハステージＷＳＴとをＹ軸方向に沿って同期移動させる。

更に、本実施形態の露光装置１０では、例えばオペレータの指示に基づいて、主制御装置２０によって投影光学系ＰＯの所定の結像特性の調整が行われるようになっている。この投影光学系の結像特性の調整の前提として、結像特性を正確に計測する必要がある。その計測方法としては、例えば所定の計測用パターンが形成された計測用マスクを用いて露光を行い、計測用パターンの投影像が転写形成されたウエハを現像して得られるレジスト像を計測した計測結果に基づいて結像特性を算出する方法（焼き付け法）が主として採用される。

そして、オペレータにより上記の結像特性の算出結果が入力されると、主制御装置２０は、所定の演算を行って、投影光学系ＰＯの結像特性を所望の状態に調整するための、ミラーＭ１〜Ｍ６それぞれのＸ軸、Ｙ軸方向の駆動量（ゼロを含む）を算出し、その算出結果に応じてパラレルリンク機構４１₁〜４１₆を介してミラーＭ１〜Ｍ６の位置調整を行う。この調整に際して、主制御装置２０は、投影光学系ＰＯの外部に配置されたレーザ干渉計６３Ｘ_i，６３Ｙ_i（ｉ＝１〜６）で計測されるミラーＭｉのＸ，Ｙ位置情報に基づいて、ミラーＭ１〜Ｍ６それぞれのＸ，Ｙ位置が目標位置に一致するように、パラレルリンク機構４１₁〜４１₆をフィードバック制御する。

以上詳細に説明したように、本実施形態の露光装置１０によると、極めて波長の短いＥＵＶ光（露光ビームＥＬ）を露光光として用い、色収差のないオール反射の投影光学系ＰＯを介してレチクルＲのパターンがウエハＷ上に転写されるので、レチクルＲ上の微細パターンをウエハＷ上の各ショット領域に高精度に転写することができる。具体的には、最小線幅７０ｎｍ程度の微細パターンの高精度な転写が可能である。

また、本実施形態に係る投影光学系の製造方法によると、複数のミラーＭ１〜Ｍ６のそれぞれについて該ミラーの光学基準軸（回転対称軸）と該ミラーの基準平面（６５ｘ，６５ｙ等）との位置関係（すなわち基準平面の位置（光学基準軸と基準平面との距離）と基準平面（ＸＹチルト基準面）の傾き（光学基準軸と基準平面の平行度））が測定される（図８のステップ２）。次いで、各ミラーが、複数の分割鏡筒のそれぞれに、該分割鏡筒の基準軸方向に関する位置ずれ及び基準軸に直交する面に対する傾斜を調整した状態で取り付けられる（図８のステップ７）。すなわち、各分割鏡筒に取り付けられた状態では、各ミラーは、それぞれの分割鏡筒の基準軸方向に関する位置と基準軸に直交する面に対する傾斜（チルト）とが所望の状態に設定されている。

そして、各分割鏡筒の外部から該分割鏡筒内のミラーの基準平面に検出光が照射されて基準面の位置情報が測定され、その測定結果と前記位置関係の測定結果とに基づいてその分割鏡筒の基準軸に直交する面内でその分割鏡筒をシフトさせることで各光学部材の位置関係が調整される（ステップ９）。

すなわち、分割鏡筒同士を取り付ける（組み上げる）際に調整できる分割鏡筒の基準軸に直交する面内におけるシフト方向以外の方向の光学部材の位置・姿勢を予め調整した状態で分割鏡筒に取り付けておき、分割鏡筒同士を取り付ける際にはそのシフト方向の位置の調整がミラーに直接触れることなく行われるので、誤差要因の少ない方法で高精度な投影光学系を製造することが可能である。

また、本実施形態では、投影光学系ＰＯを構成する光学部材（ミラー）として、回転対称軸（非球面軸）に平行で、かつ互いに直交する２つの基準平面を有するミラーを採用していることから、前述の非球面測定装置などを常時用いることなく、上記の三次元測定器やオートコリメータなどの簡易な測定装置を用いて、高精度な光学特性を有する投影光学系ＰＯを容易に製造することが可能になる。

《第２の実施形態》
以下、本発明の第２の実施形態を図１３に基づいて説明する。この第２の実施形態では、投影光学系ＰＯの製造方法が、前述の第１の実施形態と異なるのみで、その他の部分の構成は、同様になっている。従って、以下では重複説明を避ける観点から相違点を中心として説明する。なお、前述した第１の実施形態と同一若しくは同等の構成部分については、同一の符号を用いるものとする。

図１３には、本第２の実施形態に係る投影光学系ＰＯの製造手順が、フローチャート（流れ図）にて示されている。以下、この図１３に沿って、本第２の実施形態の投影光学系ＰＯの製造方法について説明する。

図１３のステップ１からステップ７までは、前述した第１の実施形態のステップ１からステップ７と同様の処理が行われるので詳細説明は省略するが、ステップ７の処理が終了した時点では、厚さが調整された後の調整用ワッシャＷＲ又は選択された任意の調整用ワッシャを介して、各ミラーユニットが、ミラーのＸチルトθｘ’、Ｙチルトθｙ’が０となり、かつミラーの分割鏡筒の基準軸方向の位置が所望の位置に調整された状態で、対応する分割鏡筒にそれぞれ取り付けられている。また、この場合、前述した距離Ｓｘ’、Ｓｙ’が既知であるから、分割鏡筒の基準軸（中心軸）と各ミラーの光学基準軸との位置関係も既知である。すなわち、ミラーＭ１〜Ｍ６のそれぞれが、対応する分割鏡筒の内部に対して、その分割鏡筒の基準軸と各ミラーの光学基準軸との位置関係が既知の関係に調整された状態で取り付けられている。

〔ステップ８〕
図１３のステップ８では、分割鏡筒のそれぞれと、複数の分離環（リングワッシャ）ＲＷとを、分割鏡筒、分離環、分割鏡筒、分離環、分割鏡筒、……という順序で、順次組み上げ、ステップ２で計測された各ミラーの光学基準軸、すなわち回転対称軸（非球面軸）と基準平面との関係（Ｓｘ，Ｓｙ，θｘ，θｙ）と、ステップ５で計測された各ミラーの基準平面と対応する分割鏡筒の基準面との関係とに基づいて、偏心調整機を介して複数の分割鏡筒１５２ａ〜１５２ｅの位置関係を調整することで、投影光学系の光軸に直交する面内におけるミラーＭ１〜Ｍ６相互の位置ずれ（ＸＹシフト）を調整する。これにより、投影光学系の製造が終了する。この投影光学系では、ミラーＭ１〜Ｍ６の回転対称軸（非球面軸）、すなわち光学基準軸が同一軸に調整され、この調整された軸が投影光学系ＰＯの光軸となる。

この場合、ミラーの光学基準軸（非球面軸）と基準平面との関係（Ｓｘ，Ｓｙ）とミラーの基準平面と分割鏡筒の基準面との関係（Ｓｘ’，Ｓｙ’）とに基づいて調整することから、実質的にミラーの光学基準軸（非球面軸）と分割鏡筒の基準面との関係を用いて、ミラーのＸＹシフトが調整されていることになる。

〔ステップ９〕
次のステップ９では、上述のようにして製造された投影光学系ＰＯの波面収差を測定し、該波面収差の計測結果に基づいて、パラレルリンク機構４１₁〜４１₆の少なくとも１つを駆動することで、ミラーの位置の微調整を行うこと。これにより、投影光学系ＰＯの光学特性の調整も完了する。

以上説明したように、本第２の実施形態の投影光学系の製造方法によると、複数のミラーＭ１〜Ｍ６を対応する分割鏡筒の内部に対して、その分割鏡筒の基準軸と各ミラーの光学基準軸との位置関係を調整した状態で取り付ける（ステップ２〜ステップ７）。

そして、特定のミラー、例えばミラーＭ１が取り付けられた分割鏡筒の基準面を基準として（この場合、分割鏡筒の基準軸と基準面との位置関係は既知であるから実質的に基準軸を基準として）、その分割鏡筒と他の分割鏡筒とを取り付ける（ステップ８）。

すなわち、特定のミラーの光学基準軸との位置関係が既知の分割鏡筒の基準軸を基準として、その分割鏡筒を他の分割鏡筒に組み付けることにより、各ミラーの光学基準軸同士の位置関係を所望の位置関係（上記実施形態では、同一軸上）に設定することができる。換言すれば、全ての分割鏡筒の基準軸同士を所望の位置関係に設定することができるとともに、特定のミラー（光学部材）と全ての分割鏡筒の基準軸との位置関係を所望の状態に設定することができる。

また、上記第２の実施形態では、複数の分割鏡筒の各々に非球面ミラーが取り付けられており、各分割鏡筒の基準軸と非球面ミラーの光学基準軸との位置関係を調整した後は、分割鏡筒同士を取り付けることで、各ミラーに直接触れることなく、複数のミラー同士の位置関係を所望の位置関係に調整することが可能となる。従って、高精度な光学特性を有する投影光学系を容易に製造することが可能になる。

《その他の製造方法》
ミラーユニットを投影光学系ＰＯを構成する分割鏡筒に組み付ける際に、該分割鏡筒の中心軸とミラーの光学基準軸（非球面軸）とが一致するように組み付けることも可能である。

すなわち、上記第１の実施形態で説明したステップ７（図８参照）において、調整用ワッシャを加工し、Ｚシフト及びＸ，Ｙチルトを調整するのに加えて、ステップ５で計測されたミラーと分割鏡筒との間の相対シフト量に基づいて、ミラーのＸＹシフトをも調整することとする。この場合、例えば分割鏡筒１５２ｃの基準面６７ｘの垂直二等分線と、基準面６７ｙの垂直二等分線との交点が、分割鏡筒１５２ｃの基準軸（中心軸）に一致するように設定され、他の分割鏡筒でも同様であるから、ミラーの基準平面と分割鏡筒の基準面との距離がＸ軸方向、Ｙ軸方向でともに所望の値となるように調整することで、ミラーの光学基準軸と分割鏡筒の基準軸（中心軸）とを一致させことができる。

これにより、複数の分割鏡筒それぞれにミラーユニットが組み込まれた後に、ステップ８において複数の分割鏡筒を組み上げる場合において、各分割鏡筒の中心軸が一致するように、エアスピンドルを用いた回転テーブル等の真直度を保証できる装置を用いて各分割鏡筒を組み上げることにより、各ミラーの光学軸を容易に一致させることが可能となる。

すなわち、このようにすると、分割鏡筒の組み上げ時には、分割鏡筒内部のミラーを含むミラーユニットに触れることがないので、高精度な投影光学系の製造を行うことが可能となる。

この場合、図４に示されるミラーＭ３やＭ４のように、ミラーの反射面の有効領域が光学基準軸（非球面軸）上に存在しない場合であって、従来のような玉押し技術を用いることができない場合であっても、ミラーに形成された基準平面と該ミラーの光学基準軸（非球面軸）との位置関係を計測しておくことで、分割鏡筒の中心軸とミラーの光学基準軸とを正確に一致させることが可能である。

なお、ミラーＭ１等の特定の光学部材の基準平面と光学基準軸との位置関係の計測は、必ずしも投影光学系の製造段階で行う必要はなく、投影光学系の製造とは無関係に予め行っていても良い。この場合、例えば、そのミラーＭ１等の光学部材を分割鏡筒内に組み込み、分割鏡筒の外部から上記各実施形態と同様にして、分割鏡筒内部のミラーＭ１等の基準平面（側面）に検出光を照射して投影光学系（光学ユニット）の光軸に直交する２次元面内に関するミラーＭ１などの位置情報を検出するとともに、その検出結果に基づいてミラーＭ１などの前記２次元面内の位置を調整する。これにより、分割鏡筒内に組み込んだ後に投影光学系の光軸に直交する２次元面内に関するミラーＭ１等の位置を精度良く調整することが可能となる。この場合、ミラーの前記２次元面内の位置情報の検出は、例えばレーザ干渉計などの簡易な計測装置により行うことができ、高精度な光学特性を有する投影光学系等の光学ユニットを容易に製造することが可能になる。

なお、上記各実施形態では、ミラーにＸ軸方向の位置計測用のＹＺ平面を有する基準平面と、Ｙ軸方向の位置計測用のＸＺ平面を有する基準平面とが形成されている場合（すなわち、両基準平面が相互に直交する場合）について説明したが、本発明がこれに限られるものではない。すなわち、例えば、各基準平面は、互いに直交していなくても良いし、それぞれ、Ｘ軸、Ｙ軸に垂直とされていなくても良い。このような場合には、計測結果を換算することにより、ミラーのＸ軸方向の位置と、Ｙ軸方向の位置を求めることとすれば良い。

なお、上記各実施形態では、複数の分割鏡筒から成る鏡筒を備える投影光学系ＰＯを、露光装置が備えている場合について説明したが、本発明の光学ユニットは、これに限定されるものではない。すなわち、単一の鏡筒の内部に複数のミラーが配置された投影光学系にも本発明を適用することができる。但し、この場合、図４に示されるような６枚ミラーで投影光学系を構成するようなときには、少なくとも一部のミラーは、その反射面の有効領域が光軸に関して偏芯しているため、光軸ＡＸを挟んで反対側の位置に配置される場合がある。このような場合に、組み立て調整時に配置される基準平面の方向を固定してしまうと、場合によっては鏡筒内部に配置される他の部材等が邪魔をしてミラーに設けられた基準平面の位置測定を行うことができない可能性がある。この問題は、鏡筒に基準面を４面設けることによって解決することが可能である。

以下、これに関して図１４（Ａ）〜図１４（Ｃ）に基づいて簡単に説明する。なお、ここでは、説明の便宜上図１４（Ａ）に示されるように、２枚のミラーＭ_A，Ｍ_Bがその内部に配置された鏡筒について説明するが、図４に示されるような６枚のミラーを含む投影光学系や他の光学系の鏡筒についても同様に取り扱うことが可能である。鏡筒２１のフランジ部２１ａの外周面（端面）に４つの基準面が２２Ａ〜２２Ｄが設けられている。基準面２２Ａ〜２２Ｄは鏡筒の中心軸を基準として中心角９０度の間隔で配置され、基準面２２Ａ〜２２Ｄの各々と直交する４本の直線が１点で交差するように配置されている。これらの直線に垂直でこの交点を通る直線が光軸ＡＸとなる。ここで、基準面２２Ａ〜２２Ｄを鏡筒２１のフランジ部２１ａに設けたのは、フランジ部２１ａは鏡筒２１の中で最も剛性が高く、位置変動が最も少ない部分であるため、鏡筒２１全体の基準面を設ける場所として適しているからである。この場合、基準面２２Ａ〜２２Ｄは、フランジ部２１ａの端面を加工することによって一体形成しても良いし、基準面が形成された別部材をフランジ部に接合することとしても良い。

鏡筒２１に設けられた各基準面とミラーＭ_A，Ｍ_Bの基準平面とが平行になるように配置し、かつ各基準面とミラーＭ_A，Ｍ_Bの基準平面とが所定の位置関係になるようにミラーＭ_A，Ｍ_Bを位置決めすることによって、光軸ＡＸとミラーＭ_A，Ｍ_Bの回転対称軸とが一致する。すなわち、図１４（Ｂ）に示されるように、ミラーＭ_Aの２つの基準平面２４ｘ、２４ｙは基準面２２Ｂ，２２Ａに対してそれぞれ位置決めされ、図１４（Ｃ）に示されるように、ミラーＭ_Bの２つの基準平面２６ｘ、２６ｙは基準面２２Ｄ，２２Ｃに対してそれぞれ位置決めされる。基準面２２Ａ〜２２Ｄのうち隣り合う２つの基準面を用いれば、ミラーの２次元方向（光軸方向をＺ軸とするとＸ軸、Ｙ軸方向）の位置とミラーのチルト（Ｘ軸回り、Ｙ軸回りの回転）及びＺ軸回りの回転を精度良く決めることができる。この場合、４つの基準面のうち、任意の隣り合う２つの基準面を用いることができるため、ミラーに設けられる基準平面及び、鏡筒２１に設けられるその他の機構の配置自由度が大きくなり、設計に幅を持たせることができる。

なお、上記各実施形態において、ミラーのＺ位置を計測するために、各ミラーの裏面（露光ビームＥＬを反射する反射面とは反対側の面）に干渉計ビームを照射することとしても良い。この場合、図１５に示されるように、ミラーの裏面の正三角形の頂点をなす３箇所に干渉計ビームを照射するための計測面部１６７を形成することとすることができる。この計測面部１６７は、干渉計ビームが外れない大きさ（具体的には直径１５ｍｍ以上の大きさ）を有する円形領域を、その表面の凹凸が６０ｎｍ以下の平面となるように加工することで形成されている。なお、計測面部１６７としては、平面に限らず、球面形状とすることも可能である。

また、計測面部が、ミラーの反射面の裏面のうちの、三角形の頂点をなす３箇所に設けられた場合に限られるものではなく、計測面部は、ミラーの反射面の裏面の全体であることとしても良い。また、３箇所に限られるものではなく、４箇所以上設けられていても良い。更には、ミラーのＺシフト量だけを計測するのであれば、計測面部が３箇所未満であっても良い。

また、計測面部は、その反射率を高めるために、表面の平坦度を良好にしても良いが、例えば、ミラーの裏面に高反射コートを施して、そこを計測面部としても良い。一般に高反射コート材料はアルミ等の金属膜が好ましい。

なお、上記各実施形態では、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向の位置を測定するための各基準平面を位置測定用部材として説明したが、この構成に限られるものではない。位置測定用部材としては、二次元方向（Ｘ，Ｙ平面内の位置）、或いは三次元方向（Ｘ，Ｙ，Ｚ空間内の位置）を測定するために、ミラーの面とは異なる面、例えば、側面に、球を取り付け、この球を三次元測定機で測定する構成であっても良い。

また、上記各実施形態では、露光ビームＥＬとしてＥＵＶ光を用い、６枚のミラーのみから成るオール反射の投影光学系を用いる場合について説明したが、これは一例であって、本発明がこれに限定されないことは勿論である。すなわち、例えば、特開平１１−３４５７６１号公報に開示されるような４枚のミラーのみから成る投影光学系を備えた露光装置は勿論、光源に波長１００〜１６０ｎｍのＶＵＶ光源、例えばＡｒ₂レーザ（波長１２６ｎｍ）を用い、４〜８枚のミラーを有する投影光学系などにも好適に適用することができる。また、レンズのみから成る屈折系の投影光学系、レンズを一部に含む反射屈折系の投影光学系のいずれにも、本発明は好適に適用することができる。勿論、光学素子としては、１又は２以上あれば良いので、その数が３以下の投影光学系についても本発明は好適に適用することができる。

なお、上記各実施形態では、本発明の光学装置を、露光装置を構成する投影光学系として採用した場合について説明したが、本発明がこれに限られるものではなく、例えば、本発明の光学装置を照明光学系として採用することとしても良い。また、露光装置に限らず、その他、鏡筒内に光学素子を有する光学装置であれば、種々の装置に採用することができ、いずれの場合にも、上記各実施形態と同様の効果を得ることが可能である。

なお、上記各実施形態では、露光ビームとして波長１１ｎｍのＥＵＶ光を用いる場合について説明したが、これに限らず、露光ビームとして波長１３ｎｍのＥＵＶ光を用いても良い。この場合には、波長１３ｎｍのＥＵＶ光に対して約７０％の反射率を確保するため、各ミラーの反射膜としてモリブデンＭｏとケイ素Ｓｉを交互に積層した多層膜を用いる必要がある。

また、上記各実施形態では、露光光源としてレーザ励起プラズマ光源を用いるものとしたが、これに限らず、ＳＯＲ、ベータトロン光源、ディスチャージド光源、Ｘ線レーザなどのいずれを用いても良い。

以上説明したように、本発明のミラーは、ＥＵＶ露光装置の投影光学系を構成するのに適している。また、本発明の位置合わせ方法は、その投影光学系を組み立てる際のミラーの位置合わせに適している。また、本発明の製造方法は、光学ユニットの製造に適している。また、本発明の光学ユニットは、投影光学系に適している。また、本発明の露光装置は、マスクに形成されたパターンを投影光学系を介して物体上に転写するのに適している。

Claims (40)

1. 所定形状の反射面を有するミラーであって、
   その一面に回転対称な面の一部から成る前記反射面が形成されたミラー素材と、前記ミラー素材のうち、前記反射面と異なる面の一部に、前記反射面の基準となるとともに前記回転対称な面の回転対称軸をなす光学基準軸に対して、所定の位置関係で設けられた位置測定用部材とを有することを特徴とするミラー。
2. 請求項１に記載のミラーにおいて、
   前記反射面と異なる面は、前記ミラー素材の側面であり、
   前記位置測定用部材は、前記側面の少なくとも一部に形成された少なくとも２面の基準平面を有することを特徴とするミラー。
3. 請求項２に記載のミラーにおいて、
   少なくとも２面の前記基準平面は、互いに直交する少なくとも一組の基準平面を含むことを特徴とするミラー。
4. 請求項２に記載のミラーにおいて、
   前記少なくとも２面の基準平面の各々は該各基準平面に垂直の角度をなし前記光学基準軸を通る仮想直線が各基準平面を通るように配置されていることを特徴とするミラー。
5. 請求項４に記載のミラーにおいて、
   前記ミラー素材の側面の一部には、前記基準平面が２面形成され、
   該２面の基準平面のなす角度が９０度であることを特徴とするミラー。
6. 請求項４に記載のミラーにおいて、
   前記ミラー素材の外形形状は非回転対称形状であることを特徴とするミラー。
7. 請求項４に記載のミラーにおいて、
   前記反射面の有効領域が前記光学基準軸を含んでいないことを特徴とするミラー。
8. 請求項１に記載のミラーにおいて、
   前記基準平面は、少なくとも直径１５ｍｍの円形領域を含む大きさを有することを特徴とするミラー。
9. 請求項１に記載のミラーにおいて、
   前記基準平面は、凹凸が６０ｎｍ以下の円形領域を含むことを特徴とするミラー。
10. 請求項１に記載のミラーにおいて、
    前記ミラー素材の前記反射面の裏面には、計測面部が少なくとも１箇所設けられていることを特徴とするミラー。
11. 請求項１０に記載のミラーにおいて、
    前記ミラー素材の前記反射面の裏面には、三角形の頂点を成す３箇所に前記計測面部がそれぞれ設けられていることを特徴とするミラー。
12. 請求項１０に記載のミラーにおいて、
    前記計測面部の表面形状は、平面又は球面であることを特徴とするミラー。
13. マスクに形成されたパターンを光学系を介して物体上に転写する露光装置であって、
    前記光学系が、請求項１〜１２のいずれか一項に記載のミラーを含むことを特徴とする露光装置。
14. その一面に回転対称な面の一部から成る反射面が形成されたミラー素材と、前記ミラー素材のうち、前記反射面と異なる面の一部に、前記反射面の基準となるとともに前記回転対称な面の回転対称軸をなす光学基準軸に対して、所定の位置関係で設けられた位置測定用部材とを有するミラーに、前記光学基準軸及び前記位置測定用部材を通る仮想直線を設定し、
    前記仮想直線に対し、前記ミラーの位置を測定するための位置測定軸を実質的に一致させることを特徴とする位置合わせ方法。
15. 請求項１４に記載の位置合わせ方法において、
    前記位置測定用部材は、前記ミラー素材の側面の少なくとも一部に設けられ、前記光学基準軸に平行な基準平面を少なくとも２面有し、
    前記仮想直線は、前記少なくとも２面の基準平面の各々に対して垂直の角度をなすことを特徴とする位置合わせ方法。
16. その一面に形成された回転対称な面の一部から成る反射面が形成されたミラー素材と、前記ミラー素材のうち、前記反射面と異なる面の一部に設けられ、前記回転対称な面の回転対称軸に対して所定の位置関係を有する位置測定用部材とを有する複数のミラーと；
    前記複数のミラーの前記回転対称軸を回転中心として配置された位置合わせ用の参照基準部材と；を備える光学ユニット。
17. 請求項１６に記載の光学ユニットにおいて、
    前記位置測定用部材は、前記ミラー素材の側面の少なくとも一部に設けられ、前記回転対称軸とそれぞれ平行な２つの位置合わせ用の基準平面を有し、
    前記２つの基準平面の各々は、前記反射面の回転対称軸と平行であり、かつ各基準平面にそれぞれ垂直に交差し前記回転対称軸をそれぞれ通る２本の仮想直線が相互に直交するように配置され、
    前記参照基準部材は、前記回転対称軸を回転中心として互いの面が９０度の角度を成すように配置された４つの参照基準平面を有し、
    前記４つの参照基準平面のうち、隣り合う２つの参照基準平面の一方と前記各ミラーの２つの基準平面の一方とが所定距離隔てて相互に平行に配置され、前記２つの参照基準平面の他方と、前記２つの基準平面の他方とが所定距離隔てて相互に平行に配置されていることを特徴とする光学ユニット。
18. 請求項１６に記載の光学ユニットにおいて、
    前記複数のミラーを保持する保持セルを更に備え、
    前記参照基準部材は前記保持セルのフランジ部に配置されていることを特徴とする光学ユニット。
19. 請求項１６に記載の光学ユニットにおいて、
    前記反射面は、非球面であることを特徴とする光学ユニット。
20. マスクに形成されたパターンを光学系を介して物体上に転写する露光装置であって、
    請求項１６〜１９のいずれか一項に記載の光学ユニットを前記光学系として具備する露光装置。
21. 複数の光学部材を備える光学ユニットを製造する製造方法であって、
    前記複数の光学部材のうち特定の光学部材を保持セル内に組み込む第１工程と；
    前記保持セルの外部から前記保持セル内部の前記特定の光学部材の位置測定用部材に検出光を照射して光学ユニットの光軸に直交する２次元面内に関する前記特定の光学部材の位置情報を検出するとともに、その検出結果に基づいて前記特定の光学部材の前記２次元面内の位置を調整する第２工程と；を含む製造方法。
22. 請求項２１に記載の製造方法において、
    前記特定の光学部材として、その一面に所定形状の反射面が形成されたミラー素材と、前記ミラー素材のうち、前記反射面と異なる面の一部に、前記反射面の基準となる光学基準軸に対して所定の位置関係で設けられた位置測定用部材とを有するミラーが用いられていることを特徴とする製造方法。
23. 請求項２１に記載の製造方法において、
    前記特定の光学部材として、その一面に形成された所定形状の反射面と、前記反射面と異なる面の一部に設けられ、前記反射面の基準となる光学基準軸に平行な複数の基準平面とを有するミラーが用いられていることを特徴とする製造方法。
24. 請求項２１に記載の製造方法において、
    前記特定の光学部材として、その一面に形成された所定形状の反射面と、前記反射面と異なる面の一部に設けられ、前記反射面の基準となる光学基準軸に平行でかつ相互に直交する少なくとも一組の基準平面を含む複数の基準平面とを有するミラーが用いられていることを特徴とする製造方法。
25. 請求項２１に記載の製造方法において、
    前記特定の光学部材として、その一面に形成された所定形状の反射面と、前記反射面と異なる面の一部に設けられ、前記反射面の基準となる光学基準軸に平行で少なくとも直径１５ｍｍの円形領域を含む大きさを有する基準平面とを有するミラーが用いられていることを特徴とする製造方法。
26. 請求項２１に記載の製造方法において、
    前記特定の光学部材として、その一面に形成された所定形状の反射面と、前記反射面と異なる面の一部に設けられ、前記反射面の基準となる光学基準軸に平行で凹凸が６０ｎｍ以下の円形領域を含む基準平面とを有するミラーが用いられていることを特徴とする製造方法。
27. 請求項２１に記載の製造方法において、
    前記特定の光学部材として、その一面に形成され、回転対称な面の一部から成る所定形状の反射面と、前記反射面と異なる面の一部に設けられ、前記反射面の基準となるとともに前記回転対称な面の回転対称軸である光学基準軸に平行な少なくとも１面の基準平面とを有するミラーが用いられていることを特徴とする製造方法。
28. 請求項２１に記載の製造方法において、
    前記特定の光学部材として、その一面に形成された所定形状の反射面と、前記反射面と異なる面の一部に設けられ、前記反射面の基準となる光学基準軸に平行な少なくとも１面の基準平面と、前記反射面の裏面に設けられた計測面部とを有するミラーが用いられ、
    前記第２工程では、前記特定の光学部材の前記計測面部に検出光を更に照射して前記特定の光学部材の前記光軸方向に関する位置情報を更に検出するとともに、その検出結果に基づいて前記特定の光学部材の少なくとも前記光軸方向に関する位置を更に調整することを特徴とする製造方法。
29. 請求項２８に記載の製造方法において、
    前記ミラーの各計測面部の表面形状は、平面又は球面であることを特徴とする製造方法。
30. 請求項２１に記載の製造方法において、
    前記特定の光学部材として、その一面に形成された所定形状の反射面と、前記反射面と異なる面の一部に設けられ、前記反射面の基準となる光学基準軸に平行な基準平面と、前記反射面の裏面の三角形の頂点を成す３箇所に設けられる計測面部とを有するミラーが用いられ、
    前記第２工程では、前記特定の光学部材の前記各計測面部に検出光を更に照射して前記特定の光学部材の前記光軸方向に関する位置情報を更に検出するとともに、その検出結果に基づいて前記特定の光学部材の前記光軸方向に関する位置及び前記光軸方向に直交する面に対する傾斜を更に調整することを特徴とする製造方法。
31. 請求項３０に記載の製造方法において、
    前記ミラーの各計測面部の表面形状は、平面又は球面であることを特徴とする製造方法。
32. 複数の光学部材を備える光学ユニットを製造する製造方法であって、
    前記複数の光学部材のうち特定の光学部材を保持セルの内部に対して、前記保持セルの基準軸と、前記特定の光学部材の光学基準軸との位置関係を調整した状態で取り付ける工程と；
    前記光学部材が取り付けられた前記保持セルの基準軸を基準として、該保持セルと他の保持セルとを組み付ける工程と；を含む製造方法。
33. 請求項３２に記載の製造方法において、
    前記複数の光学部材の少なくとも一部として、その一面に設けられ、回転対称な面の一部から成る所定形状の反射面と、前記反射面と異なる面の一部に設けられ、前記反射面の基準となるとともに前記回転対称な面の回転対称軸である光学基準軸に平行な少なくとも１面の基準平面とを有するミラーが用いられることを特徴とする製造方法。
34. 請求項３２に記載の製造方法において、
    前記複数の光学部材の少なくとも一部は、その光学面に前記光学基準軸が含まれない光学部材であることを特徴とする製造方法。
35. 複数の光学部材を備える光学ユニットを製造する製造方法であって、
    前記複数の光学部材のそれぞれについて該光学部材の光学基準軸と該光学部材の位置測定用部材との位置関係を測定する工程と；
    前記各光学部材を、複数の保持セルのそれぞれに、該保持セルの基準軸方向に関する位置ずれ及び前記基準軸に直交する面に対する傾斜を調整した状態で取り付ける工程と；
    前記各保持セルの外部から該保持セル内の光学部材の前記位置測定用部材に検出光を照射して前記位置測定用部材の位置情報を測定し、その測定結果と前記位置関係の測定結果とに基づいてその保持セルの基準軸に直交する面内でシフトさせて前記各光学部材の位置関係を調整する工程と；を含む製造方法。
36. 請求項３５に記載の製造方法において、
    前記複数の光学部材の少なくとも一部として、その一面に回転対称な面の一部から成る所定形状の反射面が形成され、前記反射面と異なる面の一部に、前記反射面の基準となるとともに前記回転対称な面の回転対称軸である光学基準軸に平行な少なくとも１面の基準平面が前記基準面として形成されたミラーが用いられていることを特徴とする製造方法。
37. 請求項３５に記載の製造方法において、
    前記複数の光学部材の少なくとも一部は、その光学面に前記光学基準軸が含まれない光学部材であることを特徴とする製造方法。
38. 請求項２１〜３７のいずれか一項に記載の製造方法によって製造された光学ユニット。
39. マスクに形成されたパターンを光学系を介して物体上に転写する露光装置であって、
    請求項３８に記載の光学ユニットを前記光学系として具備する露光装置。
40. 請求項３９に記載の露光装置において、
    前記マスクとして反射型マスクが用いられ、
    前記光学ユニットを構成する全ての光学部材はミラーであり、各ミラーの反射面には、その表面に極端紫外光の反射させるための多層膜が設けられていることを特徴とする露光装置。

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