JPWO2005070945A1 - メチシリン耐性黄色ブドウ球菌（ｍｒｓａ）に有効な新規アミノグリコシド系抗生物質 - Google Patents

Abstract

肺炎、敗血症等の重症感染症の起因菌、特にＭＲＳＡに対して優れた抗菌活性を有する、一般式（Ｉ）等で表される化合物またはそれらの薬理学的に許容されうる塩もしくは溶媒和物およびこれらの化合物を含んでなる抗菌剤、並びにこれらの化合物を有効成分とする医薬組成物が開示されている。【化１】

Description

関連出願の参照

本特許出願は、先に出願された日本国における特許出願である特願２００４−１３６４２号（出願日：２００４年１月２１日）に基づく優先権の主張を伴うものである。先の特許出願の明細書の記載は、引用することにより本明細書の開示の一部とされる。

発明の背景

発明の分野
本発明は、臨床上における重篤な感染症の起因菌、特にメチシリン耐性黄色ブドウ球菌（ＭＲＳＡ）に有効な新規アミノグリコシド系抗生物質に関する。

背景技術
近年、ＭＲＳＡは、院内感染により急速に伝播し、臨床上において重篤な感染症の起因菌として問題になっており、その治療剤の検討がなされている。

例えば、The Journal of Antibiotics、２４巻、１９７１年、４８５頁には、アミノグリコシド抗生物質カナマイシンについて種々の誘導体が合成され、それらのカナマイシン誘導体の中から３’, ４’−デオキシカナマイシンB（ジベカシン）が見い出されたことが開示されており、ジベカシンは１９７５年以来耐性菌に有効な化学療法剤として広く使用されている。

また、The Journal of Antibiotics、２６巻、１９７３年、４１２頁には、ジベカシンの１位のアミノ基が、アミノヒドロキシブチリル酸（ＨＡＢＡ）でアシル化された（Ｓ）−１−N−（４−アミノ−２−ヒドロキシブチロイル）ジベカシン（アルベカシン）が開示されており、アルベカシンは１９９０年末よりＭＲＳＡ感染症の特効薬として使用されている。

また、日本化学療法学会雑誌、５０巻、２００２年、４９４頁には、アルベカシンはＭＲＳＡ感染症治療薬として使用され始めてから１０年以上が経過するが、アルベカシンに対して軽度耐性のＭＲＳＡは認められているものの、依然として高度耐性菌は臨床上にほとんど出現していないことが開示されている。

また、特許第３２１５７５９号公報には、アルベカシンの５位置換誘導体として、５−置換−２”−デオキシ−２”−アミノ誘導体が、耐性菌に有効な化合物として開示されている。

また、米国特許第４０００２６１号公報および米国特許第４０００２６２号公報には、アミノグリコシド系抗生物質の５位水酸基の立体配置を反転させた、５−エピ誘導体が開示されている。しかしながら、これらの公報には、５−エピ誘導体の抗ＭＲＳＡ活性については、示唆も開示もされていない。

また、特公昭６３−１０７１９号公報には、種々の耐性菌に有効な抗菌剤活性を有する１−Ｎ−（Ｌ-４−アミノー２−ヒドロキシブチリル）−３’，４’−ジデオキシカナマイシンＢの製造方法が開示されている。

また、The Journal of Antibiotics(1981), 34(12), 1635-40には、５−デオキシアルベカシンの化学的修飾方法が開示されており、さらに、５−デオキシアルベカシン等が開示されている。

また、Carbohydrate Research276(1995), 75-89には、５−デオキシ−５−エピフルオロアルベカシン等の製造方法および抗菌活性が開示されている。

また、The Journal of Antibiotics(1998), 51(8), 735-42には、３”−Ｎ−アセチルアルベカシン等の製造方法および抗菌活性が開示されている。

また、The Journal of Antibiotics(1975), 28(4), 340-343には、３’，４’−ジデオキシ−６’−Ｎ−メチル−カナマイシンＢの１−アシル化誘導体の製造方法およびその抗菌活性が開示されている。

発明の概要

本発明者らは、今般、アミノグリコシド抗生物質、特にアルベカシン誘導体において、アルベカシンの５位の立体配置を反転し、種々の置換基を導入した構造を特徴とする化合物群を見い出し、さらに、この化合物群が感染症の起因菌、特にＭＲＳＡに対して顕著な抗菌活性を有することを見い出した。さらに本発明者らは、アルベカシンの５位に二つの置換基を導入した構造を特徴とする化合物群を見い出し、さらに、この化合物群が感染症の起因菌、特にＭＲＳＡに対して顕著な抗菌活性を有することを見い出した。さらに本発明者らは、アルベカシンの６’位、３”位、４”位、６”位について誘導化した化合物群を見い出し、さらに、この化合物群が感染症の起因菌、特にＭＲＳＡに対して顕著な抗菌活性を有することを見い出した。本発明は、これらの知見に基づくものである。

したがって、本発明は、重篤な感染症の起因菌、とりわけ、ＭＲＳＡに対して顕著な抗菌活性を有する新規アミノグリコシド系抗生物質の提供をその目的としている。

そして、本発明の第一の態様による化合物は、一般式（Ｉ）で表される化合物、またはそれらの薬理学的に許容されうる塩もしくは溶媒和物：

〔式中、
R^4”aおよびR^4”bは、同一または異なって、水素原子または水酸基を表し、
R^5aは、ハロゲン原子、
水酸基、
アミノ基、
アジド基、
Ｃ_1-6アルカノイルオキシ基、
Ｃ_1-6アルキルスルホニルオキシ基、
Ｃ_1-6アルカノイルアミノ基、
アリールカルボニルアミノ基、
ジ−Ｃ_1-6アルキルアミノ基、または
Ｃ_1-6アルキルアミノ基（このアルキル基の１以上の水素原子は、水酸基、フェニル基、ビニル基、アミノ基またはヒドロキシメチル基で置換されていてもよい）を表し、
R^6”aはＣ_1-6アルキル基（このアルキル基の１以上の水素原子は、水酸基、ハロゲン原子またはアミノ基で置換されていてもよい）を表し、
R^6’aおよびR^6’bは、同一または異なって、水素原子またはＣ_1-6アルキル基を表し、
R^3”a は水素原子またはＣ_1-6アルキル基を表し、
点線は単結合または二重結合を表し、
ｍは０〜２の整数を表し、
Xは水素原子または水酸基を表し、
ｎは１〜３の整数を表し、
＊はRまたはS配置を表し、
ここで、R^4”aが水素原子であり、R^4”bが水酸基であり、点線が単結合の場合は、R^5aがフッ素原子以外の前述の基を表し、R^3"aが水素原子であり、R^4”aが水素原子であり、R^4”bが水酸基であり、R^6”aがヒドロキシメチル基であり、R^6'aおよびR^6'bがともに水素原子であり、Ｘが水素原子であり、かつ、点線が単結合である場合は、R^5aが水酸基、アミノ基、アジド基以外の前述の基を表す〕
であるものである。

さらに、本発明の第一の態様による抗菌剤は、本発明の第一の態様による化合物またはそれらの薬理学的に許容されうる塩もしくは溶媒和物を含んでなるものである。

さらに、本発明の第一の態様による抗ＭＲＳＡ剤は、一般式（Ｉａ）：

〔式中、
R^4”aおよびR^{4” b}は、同一または異なって、水素原子または水酸基を表し、
R^5aは、ハロゲン原子、
水酸基、
アミノ基、
アジド基、
Ｃ_1-6アルカノイルオキシ基、
Ｃ_1-6アルキルスルホニルオキシ基、
Ｃ_1-6アルカノイルアミノ基、
アリールカルボニルアミノ基、
ジ−Ｃ_1-6アルキルアミノ基、または
Ｃ_1-6アルキルアミノ基（このアルキル基の１以上の水素原子は、水酸基、フェニル基、ビニル基、アミノ基またはヒドロキシメチル基で置換されていてもよい）を表し、
R^6”aは、Ｃ_1-6アルキル基（このアルキル基の１以上の水素原子は、水酸基、ハロゲン原子またはアミノ基で置換されていてもよい）を表し、
R^6’aおよびR^6’bは、同一または異なって、水素原子またはＣ_1-6アルキル基を表し、
R^3”a は水素原子またはＣ_1-6アルキル基を表し、
点線は、単結合または二重結合を表し、
ｍは０〜２の整数を表し、
Xは水素原子または水酸基を表し、
ｎは１〜３の整数を表し、
＊はRまたはS配置を表し、ここで、R^4”aが水素原子であり、R^4”bが水酸基であり、点線が単結合の場合は、R^5aがフッ素原子以外の前述の基を表す〕
で表される化合物、またはそれらの薬理学的に許容されうる塩もしくは溶媒和物
を含んでなるものである。

また、本発明の第二の態様による化合物は、一般式（ＩＩ）で表される化合物、またはそれらの薬理学的に許容されうる塩もしくは溶媒和物：

〔式中、
R^5CはＣ_1-6アルキル基（このアルキル基の１以上の水素原子は、Ｃ_1-6アルコキシ基で置換されていてもよい）、
Ｃ_2-6アルケニル基、または
アミノＣ_1-6アルキル基（このアミノ基の１以上の水素原子は、Ｃ_1-6アルキル基（このアルキル基の1以上の水素原子はアミノ基、水酸基、またはヘテロアリール基で置換されていてもよい）で置換されていてもよい）を表し、
ｎは１〜３の整数を表す〕である。

さらに、本発明の第二の態様による抗菌剤は、本発明の第二の態様による化合物またはそれらの薬理学的に許容されうる塩もしくは溶媒和物を含んでなるものである。

さらに、本発明の第二の態様による抗ＭＲＳＡ剤は、本発明の第二の態様による化合物、またはそれらの薬理学的に許容されうる塩もしくは溶媒和物を含んでなるものである。

また、本発明の第三の態様による化合物は、一般式（ＩＩＩ）で表される化合物、またはそれらの薬理学的に許容されうる塩もしくは溶媒和物：

〔式中、
R^4”cは水素原子または水酸基を表し、
R^4”dは水素原子または水酸基を表し（ただし、R^4”cが水酸基の場合はR^4”dは水素原子を表す）、
R^6”cは、Ｃ_1-6アルキル基（このアルキル基の１以上の水素原子は、水酸基、アミノ基またはアジド基により置換されていてもよい）、または下記の基：

(ここで、R^6”dおよびR^6”eは同一若しくは異なって、水素原子またはアミノＣ_1-6アルキル基を表し、あるいはR^6”dとR^6”eとは一緒になってヘテロ原子を１−４個含む６員環基を形成してもよく、Yは水素原子または水酸基を表し、ｐは０または１の整数を表す)
を表し、
R^3”c およびR^3”dは、同一または異なって、
水素原子、
Ｃ_1-10アルキル基（このアルキル基の１以上の水素原子は、水酸基、アリール基（水酸基またはアミノ基で置換されていてもよい）、
ホルムイミドイル基、または
アミジノ基を表し、
R^6’cおよびR^6’dは、同一または異なって、
水素原子、
アミノＣ_1-6アルキル基、
ホルムイミドイル基、
アミジノ基、または
ベンジル基（水酸基で置換されていてもよい）を表し、
rは０−２の整数を表し、
Jは水素原子または水酸基を表し、
sは１−３の整数を表し、
＊はRまたはS配置を表すが、ただし、R^4”c、R^3”c、R^3”d、R^6’c、およびR^6’dがともに水素原子を表し、R^4”dが水酸基を表し、R^6”cがヒドロキシメチル基を表し、rが０を表し、Xが水素原子を表し、sが２である化合物を除く〕である。

さらに、本発明の第三の態様による抗菌剤は、本発明の第三の態様による化合物またはそれらの薬理学的に許容されうる塩もしくは溶媒和物を含んでなるものである。

さらに、本発明の第三の態様による抗ＭＲＳＡ剤は、本発明の第三の態様による化合物、またはそれらの薬理学的に許容されうる塩もしくは溶媒和物を含んでなるものである。

本発明によれば、臨床上わずかではあるが認められているアルベカシン耐性菌に対しても優れた抗菌活性を有する、新規アミノグリコシド系抗生物質を提供することが可能となる。また、本発明による新規アミノグリコシド系抗生物質は、大腸菌および緑膿菌等の感染症の起因菌に対しても顕著な抗菌活性を有するものである。

発明の具体的説明

本明細書において、特に断らない限り、基または基の一部としての「アルキル」、「アルコキシ」、または「アルケニル」という語は、基が直鎖状、分枝鎖状、または環状のアルキル、アルコキシまたはアルケニルを意味する。また、特に断らない限り、「アリール」とは、フェニルまたはナフチルを意味し、「ヘテロアリール」という語は、特に断らない限り、１−３個の窒素、酸素若しくは硫黄原子を含む５−６員ヘテロアリール（５−６員環芳香族複素環基）を意味する。

５−エピアルベカシン類縁体
本発明の第一の態様において、R^5aで表されるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子を挙げることができ、フッ素原子または塩素原子がより好ましい。

本発明の第一の態様において、R^5aで表されるＣ_1-6アルカノイルオキシ基は、好ましくは、Ｃ_1-３アルカノイルオキシ基であり、その具体例としては、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、イソブチリルオキシ等を挙げることができ、より好ましくはアセチルオキシ基である。

本発明の第一の態様において、R^5aで表されるＣ_1-6アルキルスルホニルオキシ基は、好ましくはＣ_1-３アルキルスルホニルオキシ基であり、その具体例としては、メチルスルホニルオキシ基、エチルスルホニルオキシ基、プロピルスルホニルオキシ基、イソプロピルスルホニルオキシ基、ブチルスルホニルオキシ基等を挙げることができ、より好ましくはメチルスルホニルオキシ基である。

本発明の第一の態様において、R^5aで表されるＣ_1-6アルカノイルアミノ基は、好ましくはＣ_1-３アルカノイルアミノ基であり、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、ブチリルアミノ基、イソブチリルアミノ等を挙げることができ、より好ましくはアセチルアミノ基である。

本発明の第一の態様において、R^5aで表されるアリールカルボニルアミノ基は、好ましくはＣ_6-10アリール−カルボニルアミノ基であり、その具体例としては、フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基等の等を挙げることができ、より好ましくはフェニルカルボニルアミノ基である。

本発明の第一の態様において、R^5aで表されるジ−Ｃ_1-6アルキルアミノ基は、好ましくはジ−Ｃ_1-３アルキルアミノ基であり、その具体例としては、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、メチルエチルアミノ基等を挙げることができ、より好ましくはジメチルアミノ基である。

本発明の第一の態様において、R^5aで表されるＣ_1-6アルキルアミノ基は、好ましくはＣ_1-3アルキルアミノ基であり、その具体例としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ブチルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基等を挙げることができ、より好ましくはメチルアミノ基である。

さらに、R^5aで表されるＣ_1-6アルキルアミノ基の１以上の水素原子は、水酸基、フェニル基、ビニル基、アミノ基またはヒドロキシメチル基で置換されていてもよく、置換されたアルキルアミノ基の具体例としては、ヒドロキシメチルアミノ基、２−ヒドロキシエチルアミノ基、３−ヒドロキシプロピルアミノ基、ベンジルアミノ基、フェネチルアミノ基、３−フェニルプロピル基、４−フェニルブチル基、アリルアミノ基、アミノメチルアミノ基、（２−アミノエチル）アミノ基、（２−ヒドロキシ−１−ヒドロキシメチル−エチル）アミノ基等を挙げることができる。

本発明の第一の態様において、R^6”aで表されるＣ_1-6アルキル基は、好ましくはＣ_1-3アルキル基であり、その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、2-メチルブチル基、ネオペンチル基、１−エチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、４−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、１−メチルペンチル基、３，３−ジメチルブチル基、２，２−ジメチルブチル基、１，１−ジメチルブチル基、１，２−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、２−エチルブチル等の直鎖若しくは分岐鎖Ｃ_1-6アルキル基を挙げることができ、より好ましくは、メチル基またはエチル基である。

さらに、R^6”aで表されるＣ_1-6アルキル基の１以上の水素原子は、水酸基、ハロゲン原子またはアミノ基で置換されていてもよく、置換されたアルキル基の具体例としては、２−アミノ−１−ヒドロキシエチル基、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、フルオロメチル基等を挙げることができる。

本発明の第一の態様において、R^6’a 、R^6’bおよびR^3"aで表されるＣ_1-6アルキル基は、好ましくはＣ_1-3アルキル基である。

本発明の好ましい態様によれば、好ましい式（Ｉ）で表される化合物として、
R^5aが、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、アジド基、Ｃ_1-3アルカノイルオキシ基、Ｃ_1-3アルキルスルホニルオキシ基、Ｃ_1-3アルカノイルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基、ジ−Ｃ_1-3アルキルアミノ基、または
Ｃ_1-3アルキルアミノ基（このアルキル基の１以上の水素原子は、水酸基、フェニル基、ビニル基、アミノ基またはヒドロキシメチル基で置換されていてもよい）であり、
R^6”aが、Ｃ_1-3アルキル基（このアルキル基の１以上の水素原子は、水酸基、ハロゲン原子またはアミノ基で置換されていてもよい）であり、
R^6’aおよびR^6’bが、同一または異なって、水素原子またはＣ_1-3アルキル基であり、
R^3”a が水素原子またはＣ_1-3アルキル基であるものが挙げられる。

本発明の別の好ましい態様によれば、好ましい式（Ｉ）で表される化合物として、
R^4”aが水素原子または水酸基であり、
R^{4” b}が水素原子であり、
R^6”aがヒドロキシメチル基であり、
R^6’aおよびR^6’bのいずれか一方が水素原子であり、
点線が単結合であり、
ｍが０であり、
Xが水素原子であり、
ｎが１〜３の整数であるものが挙げられる。

また、本発明の別の好ましい態様によれば、好ましい式（Ｉ）で表される化合物として、
R^5aが塩素原子、水酸基、アミノ基、アジド基、Ｃ_1-6アルカノイルオキシ基、Ｃ_1-6アルキルスルホニルオキシ基、Ｃ_1-6アルカノイルアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、ジ−Ｃ_1-6アルキルアミノ基、またはＣ_1-6アルキルアミノ基（このアルキル基の１以上の水素原子は、水酸基、フェニル基、ビニル基、アミノ基またはヒドロキシメチル基で置換されていてもよい）であり、
R^6”aがヒドロキシメチル基であり、
R^6’aおよびR^6’bのいずれか一方が水素原子であり、
点線が単結合であり、
ｍが０であり、
Xが水素原子であり、
ｎが２であるものが挙げられる。

また、本発明の別の好ましい態様によれば、好ましい式（Ｉ）で表される化合物として、
R^6”aが、ヒドロキシメチル基またはフルオロメチル基であり、
R^6’aおよびR^6’bがともに水素原子であり、
R^3”a が水素原子であり、
点線が二重結合であり、
ｍは０であり、
Xが水素原子であり、
ｎが１若しくは２であるものが挙げられる。

５位２置換アルベカシン類縁体
本発明の第二の態様によれば、R^5cで表されるＣ_1-6アルキル基は、好ましくは、Ｃ_1-3アルキル基である。

さらに、R^5cで表されるＣ_1-6アルキル基（好ましくはＣ_1-3アルキル基）の１以上の水素原子は、Ｃ_1-6アルコキシ基、好ましくはＣ_1-3アルコキシ基で置換されていてもよく、置換されたアルキル基の具体例としては、メトキシメチル基、エトキシメチル基等を挙げることができ、より好ましくはメトキシメチル基である。

本発明の第二の態様において、R^5cで表されるＣ_2-6アルケニル基は、好ましくはＣ_2-4アルケニル基であり、その具体例としては、ビニル、２−プロペニル、１−メチル−２−プロペニル、２−メチル−２−プロペニル、２−エチル−２−プロペニル、２−ブテニル、１−メチル−２−ブテニル、２−メチル−２−ブテニル、１−エチル−２−ブテニル、３−ブテニル、１−メチル−３−ブテニル、２−メチル−３−ブテニル、１−エチル−３−ブテニル等を挙げることができる。

本発明の第二の態様において、R^5cで表されるアミノＣ_1-6アルキル基は、好ましくはアミノＣ_1-3アルキル基であり、その具体例としては、アミノメチル基、２−アミノエチル基、３−アミノプロピル基等を挙げることができ、より好ましくはアミノメチル基である。

さらに、R^5cで表されるアミノＣ_1-6アルキル基（好ましくはアミノＣ_1-3アルキル基）におけるアミノ基の１以上の水素原子は、Ｃ_1-6アルキル基、好ましくはＣ_1-3アルキル基で置換されていてもよく、より好ましくはメチルアミノメチル基である。

さらに、R^5cで表されるアミノＣ_1-6アルキル基（好ましくはアミノＣ_1-3アルキル基）におけるアミノ基の１以上の水素原子の置換基であるＣ_1-6アルキル基（好ましくはＣ_1-3アルキル基）の１以上の水素原子は、アミノ基、水酸基、またはヘテロアリール基（好ましくは、ピロリル基またはピリジル基）で置換されていてもよく、このようなR^5cとしては、例えば、（２−アミノエチル）アミノメチル基、（３−アミノプロピル）アミノメチル基、（３−アミノ−２−ヒドロキシプロピル）アミノメチル基、（２−ヒドロキシエチル）アミノメチル基、アリルアミノメチル基、（２−ピリジルメチル）アミノ基等を挙げることができ、より好ましくは、（２−アミノエチル）アミノメチル基、（３−アミノ−２−ヒドロキシプロピル）アミノメチル基、（２−ヒドロキシエチル）アミノメチル基、（２−ピリジルメチル）アミノ基等が挙げられる。

本発明の好ましい態様によれば、好ましい式（ＩＩ）で表される化合物として、R^5Cが、Ｃ_1-3アルキル基（このアルキル基の１以上の水素原子は、Ｃ_1-6アルコキシ基で置換されていてもよい）、Ｃ_2-4アルケニル基、またはアミノＣ_1-3アルキル基（このアミノ基の１以上の水素原子は、Ｃ_1-6アルキル基（このアルキル基の１以上の水素原子はアミノ基、水酸基、ヘテロアリール基で置換されていてもよい）で置換されていてもよい）であるものが挙げられる。

また、本発明の別の好ましい態様によれば、好ましい式（ＩＩ）で表される化合物として、R^5Cが、Ｃ_1-6アルキル基（このアルキル基の１以上の水素原子は、Ｃ_1-3アルコキシ基で置換されていてもよい）、Ｃ_2-6アルケニル基、またはアミノＣ_1-6アルキル基（このアミノ基の１以上の水素原子は、Ｃ_1-3アルキル基（このアルキル基の１以上の水素原子はアミノ基、水酸基、ピロリル基またはピリジル基で置換されていてもよい）で置換されていてもよい）であるものが挙げられる。

また、本発明の別の好ましい態様によれば、好ましい式（ＩＩ）で表される化合物として、R^5Cが、Ｃ_1-3アルキル基（このアルキル基の１以上の水素原子は、Ｃ_1-3アルコキシ基で置換されていてもよい）、Ｃ_2-4アルケニル基、またはアミノＣ_1-3アルキル基（このアミノ基の１以上の水素原子は、Ｃ_1-3アルキル基（このアルキル基の1以上の水素原子はアミノ基、水酸基、ピロリル基またはピリジル基で置換されていてもよい）で置換されていてもよい）であるものが挙げられる。

６’位、３”位、４”位、６”位について誘導化したアルベカシン誘導体
本発明の第三の態様において、R^6"cで表されるＣ_1-6アルキル基は、好ましくは、Ｃ_1-3アルキル基である。

ここで、R^6"cで表される上記Ｃ_1-6アルキル基（好ましくは、Ｃ_1-3アルキル基）の１以上の水素原子は、水酸基、アミノ基、またはアジド基により置換されていてもよく、置換されたアルキル基としては、ヒドロキシメチル基、アミノメチル基、アミノエチル基、アジドメチル基、アジドエチル基等を挙げることができ、より好ましくはヒドロキシメチル基、アミノメチル基、アジドメチル基である。

本発明の第三の態様において、R^6"dおよびR^6"eで表されるアミノＣ_1-6アルキル基は、好ましくはアミノＣ_1-3アルキル基であり、より好ましくはアミノエチル基である。

本発明の第三の態様において、R^6"dおよびR^6"eが一緒になって形成するヘテロ原子を１−４個含む６員環基としては、ＮおよびＯから選択される１または２個のヘテロ原子を含んでなる６員複素飽和環が挙げられ、具体例としては、モルホリニル基、ピペラジル基、ピペリジル基が挙げられ、好ましくはモルホリニル基である。

本発明の第三の態様において、R^3”c およびR^3”dで表されるＣ_1-10アルキル基は、好ましくはＣ_1-6アルキル基であり、具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、２-メチルブチル基、ネオペンチル基、１−エチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、４−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、１−メチルペンチル基、３，３−ジメチルブチル基、２，２−ジメチルブチル基、１，１−ジメチルブチル基、１，２−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基等の直鎖若しくは分岐鎖Ｃ_1-10アルキル基等を挙げることができ、好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基が挙げられ、特に好ましくはメチル基またはエチル基である。

ここで、R^3”c およびR^3”dで表されるＣ_1-10アルキル基（好ましくは、Ｃ_1-6アルキル基）の１以上の水素原子は、水酸基またはアリール基（水酸基もしくはアミノ基で置換されていてもよい）で置換されていてもよく、置換されたアルキル基の具体例としては、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、ベンジル基、フェネチル基、（m−ヒドロキシ）ベンジル基、（ｐ−ヒドロキシ）ベンジル基、（ｍ−アミノ）ベンジル基等を挙げることができ、好ましくはヒドロキシエチル基、ヒドロキシエチル基、ベンジル基、フェネチル基、（ｍ−ヒドロキシ）ベンジル基、（ｐ−ヒドロキシ）ベンジル基、（ｍ−アミノ）ベンジル基である。

本発明の第三の態様において、R^6’cおよびR^6’dで表されるアミノＣ_1-6アルキル基は、好ましくはアミノＣ_1-3アルキル基であり、より好ましくはアミノエチル基である。

本発明の第三の態様において、R^6’cおよびR^6’dで表されるベンジル基（水酸基で置換されていてもよい）は、具体例として、（ｏ−ヒドロキシ）ベンジル基、（ｍ−ヒドロキシ）ベンジル基（ｐ−ヒドロキシ）ベンジル基が挙げられ、好ましくは（ｏ−ヒドロキシ）ベンジル基である。

また、本発明の好ましい態様によれば、好ましい式（ＩＩＩ）で表される化合物として、R^6”cが、Ｃ_1-3アルキル基（このアルキル基の１以上の水素原子は、水酸基、アミノ基またはアジド基により置換されていてもよい）、または下記の基：

(ここで、R^6”dおよびR^6”eは、同一または異なって、水素原子またはアミノＣ_1-3アルキル基を表し、あるいはR^6”dとR^6”eとは一緒になってヘテロ原子を１−４個含む６員環基を形成してもよく、Yは水素原子または水酸基を表し、ｐは０または１の整数を表す)
であり、
R^3”c およびR^3”dは、同一または異なって、
水素原子、
Ｃ_1-6アルキル基（このアルキル基の１以上の水素原子は、水酸基、フェニル基（水酸基またはアミノ基で置換されていてもよい）、ナフチル基（水酸基またはアミノ基で置換されていてもよい）で置換されていてもよい）、
ホルムイミドイル基、または
アミジノ基であり、
R^6’c、R^6’dは同一または異なって、
水素原子、
アミノＣ_1-3アルキル基、
ホルムイミドイル基、
アミジノ基、または
ベンジル基（水酸基で置換されていてもよい）
であるものが挙げられる。

また、本発明の別の好ましい態様によれば、好ましい式（ＩＩＩ）で表される化合物として、R^4”cが水素原子であり、R^4”dが水酸基であり、R^6’cおよびR^6’dがともに水素原子であり、R^3”cおよびR^3”dがともに水素原子であり、rが０であり、Jが水素原子であり、sが２であるものが挙げられる。

また、本発明の別の好ましい態様によれば、好ましい式（ＩＩＩ）で表される化合物として、R^4”cが水素原子であり、R^4”dが水酸基であり、R^6’cおよびR^6’dがともに水素原子であり、R^6”cがヒドロキシメチル基であり、R^3”cおよびR^3”dのいずれか一方が水素原子であり、rが０であり、Jが水素原子であり、sが２であるものが挙げられる。

また、本発明の別の好ましい態様によれば、好ましい式（ＩＩＩ）で表される化合物として、R^4”cが水素原子であり、R^4”dが水酸基であり、R^6”cがヒドロキシメチル基であり、R^3”c およびR^3”dがともに水素原子であり、sが２であるものが挙げられる。

また、本発明によれば、 ５，４”−ジエピアルベカシン、５−デオキシ−４”−エピ−５−エピフルオロアルベカシン、５−デオキシ−４”−エピ−５−エピクロロアルベカシン、５−デオキシ−４”−エピ−５−エピアミノアルベカシン、４”−デオキシ−５−エピアルベカシン、１−Ｎ−［（Ｓ）−（３−アミノ−２−ヒドロキシプロパノイル）］−５，４”−ジエピジベカシン、５，４”−ジエピ−３”−Ｎ−メチルアルベカシン、５，４”−ジエピ−６’−Ｎ−メチルアルベカシン、５−エピアルベカシン、５−デオキシ−５−エピクロロアルベカシン、５−デオキシ−５−エピアミノアルベカシン、５−デオキシ−５−エピ（２−アミノエチル）アミノアルベカシン、５−エピ−３”−Ｎ−メチルアルベカシン、６”−アミノメチル−５−エピアルベカシン、３’，４’−ジデヒドロ−５−エピアルベカシン、５−デオキシ−３’，４’−ジデヒドロ−５−エピフルオロアルベカシン、５−デオキシ−３’，４’−ジデヒドロ−５−エピアミノアルベカシン、１−Ｎ−[（Ｓ）−（３−アミノ−２−ヒドロキシプロパノイル）]−３’，４’−ジデヒドロ−５−エピジベカシン、３’，４’−ジデヒドロ−５，４”−ジエピアルベカシン、５−デオキシ−３’，４’−ジデヒドロ−４”−エピ−５−エピフルオロアルベカシン、５−デオキシ−３’，４’−ジデヒドロ−４”−エピ−５−エピアミノアルベカシン、４”−デオキシ−３’，４’−ジデヒドロ−５−エピアルベカシン、６”−アミノメチルアルベカシンが提供される。

製造方法
本発明第一の態様による化合物は、以下のＡ〜Ｑの方法に従って製造することができる。
Ａ法
Ａ法は、化合物(Ａ１)の５位アキシアルに置換基Ｒ^5aを導入し、次いで４”位アキシアルに置換基Ｒ^4”aを導入することにより、一般式（Ａ９）で表される化合物を製造する方法であり、その工程は以下に示される通りである。出発原料である式（Ａ１）で表される化合物は特開昭４９−６２４４２、特開昭５５−８１８９７、特開昭５５−１６４６９６、特公昭６３−１０７１９に記載された方法で製造することができる。

第Ａ１工程
第Ａ１工程は、式（Ａ１）の化合物の５個のアミノ基に保護基（Ａ）を導入し、一般式（Ａ２）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、塩基存在下、式（Ａ１）の化合物とＡ_２ＯあるいはＡＣｌ（ここでＡはｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基（Ｂｏｃ基）、ベンジルオキシカルボニル基（Ｚ基）、ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル基、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基を表す）を反応させることにより達成される。

Ａ１工程で使用される溶媒としては、水、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、ジオキサンおよびこれらの混合溶剤が挙げられ、好ましくは水とＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドとの混合溶剤である。使用される塩基としては水酸化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、トリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジンを挙げることができ、好ましくはトリエチルアミンである。反応温度は０℃〜４０℃で行われる。反応時間は１〜２４時間である。

第Ａ２工程
第Ａ２工程は、一般式（Ａ２）で表される化合物の４”位、６”位水酸基に保護基を導入し、一般式（Ａ３）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、酸存在下、一般式（Ａ２）で表される化合物とＥ_２ＣＯあるいはＥ_２Ｃ（ＯＭe）_２（ここでＥは水素原子、メチル基、フェニル基あるいはＥ_２Ｃとしてシクロヘキシル基を表す）を反応させることにより達成される。

本工程で使用される溶媒としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、塩化メチレン、クロロホルム、１，２−ジクロルエタン、酢酸エチルなどが挙げられ、好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。使用される酸としてはｐ−トルエンスルホン酸、ピリジニウム ｐ−トルエンスルホネート、カンファースルホン酸、塩酸などが挙げられ、好ましくは、ｐ−トルエンスルホン酸である。反応温度は２０℃〜５０℃で行われる。反応時間は１〜８時間である。

第Ａ３工程
第Ａ３工程は、一般式（Ａ３）で表される化合物の２”位、２’’’位水酸基に保護基を導入し、一般式（Ａ４）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、塩基存在下、一般式（Ａ３）で表される化合物とＢ_２ＯあるいはＢＣｌ（Ｂとしてはアセチル基、ベンゾイル基を表す）と反応させることにより達成される。

本工程で使用される溶媒としてはピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、塩化メチレン、クロロホルム、１，２−ジクロルエタンなどが挙げられ、好ましくはピリジンである。使用される塩基としては、トリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジンなどが挙げられ、好ましくはピリジンである。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜８時間である。

第Ａ４工程
第Ａ４工程は、一般式（Ａ４）で表される化合物の５位水酸基に脱離基を導入し、次いで置換反応することにより、一般式（Ａ５）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、塩基の存在下、一般式（Ａ４）で表される化合物とＷＳＯ_２Ｃｌ（ここでＷはメチル、フェニル、ｐ−トリル基を表す）とを反応させ、５位に置換スルホニルオキシ基を有する化合物を合成し、次いで得られた化合物とＲ^5aＭ（ここで、Ｒ^5aは、アセトキシ基、アジド基、クロル原子、Ｃ_1-6アルキルアミノ基（このアルキル基の１以上の水素原子は、水酸基、フェニル基、ビニル基、アミノ基またはヒドロキシメチル基で置換されていてもよい）を表し、Ｍはリチウム、ナトリウム、セシウム、水素原子を表す）とを反応させることにより達成される。

脱離基の導入工程で使用される溶媒としては、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、酢酸エチルなどを挙げることができ、好ましくは、塩化メチレンである。使用される塩基としてはピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、４−ジメチルアミノピリジンなどを挙げることができ、好ましくは４−ジメチルアミノピリジンである。反応温度は通常０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜２４時間である。

置換反応の工程で使用される溶媒としてはテトラヒドロフラン、ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどが挙げられ、好ましくはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。反応温度は６０℃〜９０℃で行われる。反応時間は１〜１２時間である。

第Ａ５工程
第Ａ５工程は、一般式（Ａ５）で表される化合物の４”位、６”位の保護基を除去する工程である。この工程は、一般式（Ａ５）で表される化合物を、酸と反応させることにより達成される。

本工程で使用される溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサン、メタノール、塩化メチレン、クロロホルム、水およびこれらの混合溶媒などが挙げられ、好ましくは塩化メチレンとメタノールの混合溶媒である。使用される酸としては酢酸、トリフルオロ酢酸、塩酸、硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸、三塩化ホウ素などが挙げられ、好ましくは、トリフルオロ酢酸である。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は０．１〜８時間である。

一般式（Ａ５）で表される化合物の置換基Ｅ_２Ｃの１方が水素原子でもう１方がフェニル基である場合には、水素および接触水素還元触媒と反応させることによっても保護基を除去することができる。使用される接触水素還元触媒としては、パラジウム-炭素、パラジウムブラック、水酸化パラジウム、酸化白金などを挙げることができ、好ましくは、パラジウム-炭素溶媒である。使用される溶媒としては本反応に関与しないものであれば特に限定はないが、好ましくはメタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサン、またはこれらの有機溶剤と水との混合溶剤である。反応温度は１０℃〜３０℃であり、反応時間は通常１〜８時間である。

第Ａ６工程
第Ａ６工程は、一般式（Ａ６）で表される化合物の６”位水酸基に保護基を導入し、一般式（Ａ７）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、塩基の存在下、一般式（Ａ６）で表される化合物とＲ¹³Ｃｌ（Ｒ¹³は、トリフェニルメチル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基、ベンゾイル基を表す）とを反応させることにより達成される。

トリフェニルメチル基導入工程で使用される溶媒としては、塩化メチレン、アセトニトリル、ピリジンなどが挙げられ、好ましくはピリジンである。使用される塩基としてはトリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジンなどが挙げられ、好ましくはピリジンである。反応温度は２０℃〜８０℃で行われる。反応時間は通常２〜１０時間である。

シリル基導入工程で使用される溶媒としては、好ましくは塩化メチレン、クロロホルム、ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、ピリジンなどである。塩基としては４−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、イミダゾール、ジイソプロピルエチルアミンなどが挙げられ、好ましくは４−ジメチルアミノピリジンである。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜１２時間である。

ベンゾイル基導入工程で使用される溶媒としては、好ましくはアセトニトリル、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフランなどである。塩基としては好ましくはトリエチルアミン、テトラメチルエチレンジアミン、ピリジンである。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜８時間である。この工程では、ベンゾイル化の試薬としてベンゾイルクロリドの他に無水安息香酸、ベンゾイルシアニドあるいは安息香酸、ジイソプロピルアゾジカルボキシレート、トリフェニルホスフィンの組み合わせなどを用いることができる。

第Ａ７工程
第Ａ７工程は、一般式（Ａ７）で表される化合物の４”位水酸基に脱離基を導入し、次いで置換反応することにより一般式（Ａ８）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、塩基の存在下、一般式（Ａ７）で表される化合物とトリフルオロメタンスルホニルクロリドあるいはトリフルオロメタンスルホン酸無水物とを反応させ、４”位にトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を有する化合物を合成し、次いで得られた化合物とＲ^4”aＭ（ここで、Ｒ^4”aは、Ｃ_１−６アルカノイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基を表し、Ｍはリチウム、ナトリウム、セシウムを表す）とを反応させることにより達成される。

脱離基を導入する工程で使用される溶媒としては、塩化メチレン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、酢酸エチルなどが挙げられ、好ましくは塩化メチレンである。使用される塩基としては、ピリジン、ルチジン、コリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンなどが挙げられ、好ましくはピリジンである。反応温度は−３０℃〜２０℃で行われる。反応時間は１〜６時間である。

置換反応の工程で使用される溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、塩化メチレン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどが挙げられ、好ましくはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。反応温度は０℃〜５０度で行われる。反応時間は１〜６時間である。

第Ａ８工程
第Ａ８工程は、一般式（Ａ８）で表される化合物の保護基を除去し、一般式（Ａ９）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、一般式（Ａ８）で表される化合物と塩基とを反応させて６”位を除く水酸基の保護基を除去し、次いで得られた化合物を酸と反応させてアミノ基および６”位水酸基の保護基を除去することにより達成される。

６”位を除く水酸基の保護基を除去する工程で使用される溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール、塩化メチレン、クロロホルムおよびこれらの混合溶媒などが挙げられ、好ましくはメタノールと塩化メチレンの混合溶剤である。使用される塩基としては炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ｔｅｒｔ−ＢｕＯＫなどが挙げられ、好ましくは、ナトリウムメトキシドである。反応温度は０℃〜６０℃で行われる。反応時間は１〜８時間で行われる。

アミノ基および６”位水酸基の保護基を除去する工程で使用される溶媒としては、酢酸エチル、塩化メチレン、アセトニトリル、アセトン、水などが挙げられ、好ましくは、水である。使用される酸としてはｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、酢酸、トリフルオロ酢酸などが挙げられ、好ましくは、トリフルオロ酢酸である。反応温度は通常０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜１２時間である。一般式（Ａ８）で表される化合物の保護基Ａが、ベンジルオキシカルボニル基、ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル基、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基であり、かつ、点線が単結合を表す場合には、水素および接触水素還元触媒と反応させることによっても保護基を除去することができる。使用される接触水素還元触媒としてはパラジウム-炭素、パラジウムブラック、水酸化パラジウム、酸化白金などを挙げることができ、好ましくは、パラジウム-炭素である。溶媒としては本反応に関与しないものであれば特に限定はないが、好ましくは、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサンまたはこれらの有機溶剤と水との混合溶剤である。反応温度は１０℃〜３０℃であり、反応時間は通常１〜８時間である。

Ｂ法
Ｂ法は、一般式(Ｂ１)で表される化合物の４”位アキシアルに置換基Ｒ^4”aを導入し、次いで５位アキシアルに置換基Ｒ^5aを導入することにより、一般式（Ｂ６）で表される化合物を製造する方法であり、以下に示す工程を経て製造される。出発原料である一般式（Ｂ１）で表される化合物は前述のＡ法の第Ａ１〜Ａ３工程に従い製造することができる。

第Ｂ１工程
第Ｂ１工程は、一般式（Ｂ１）で表される化合物の４”位、６”位の保護基を除去する工程である。この工程は、一般式（Ｂ１）で表される化合物と、酸とを反応させることにより達成される。

本工程で使用される溶媒としてはテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサン、メタノール、塩化メチレン、クロロホルム、水およびこれらの混合溶媒などが挙げられ、好ましくは、塩化メチレンとメタノールの混合溶媒である。使用される酸としては酢酸、トリフルオロ酢酸、塩酸、硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸、三塩化ホウ素などが挙げられ、好ましくは、トリフルオロ酢酸である。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は０．１〜８時間である。

一般式（Ｂ１）の化合物の置換基Ｅ_２Ｃの１方が水素原子でもう１方がフェニル基である場合には水素および接触水素還元触媒と反応させることによっても保護基を除去することができる。使用される接触水素還元触媒としては、パラジウム-炭素、パラジウムブラック、水酸化パラジウム、酸化白金などを挙げられ、好ましくは、パラジウム-炭素である。使用される溶媒としては本反応に関与しないものであれば特に限定はないが、好ましくは、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサンまたはこれらの有機溶剤と水との混合溶剤である。反応温度は１０℃〜３０℃であり、反応時間は通常１〜８時間である。

第Ｂ２工程
第Ｂ２工程は、一般式（Ｂ２）で表される化合物の６”位水酸基に保護基を導入する工程である。この工程は、塩基の存在下、一般式（Ｂ２）で表される化合物とＲ¹³Ｃｌ（Ｒ¹³はトリフェニルメチル基、トリイソプロピルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基、ベンゾイル基を表す）とを反応させることにより達成される。

トリフェニルメチル基導入工程で使用される溶媒としては、塩化メチレン、アセトニトリル、ピリジンなどが挙げられ、好ましくは、ピリジンである。使用される塩基としてはトリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジンなどが挙げられ、好ましくは、ピリジンである。反応温度は２０℃〜８０℃で行われる。反応時間は通常２〜１０時間である。

シリル基導入工程で使用される溶媒としては、好ましくは、塩化メチレン、クロロホルム、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、ピリジンなどである。塩基としては４−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、イミダゾール、ジイソプロピルエチルアミンなどが挙げられ、好ましくは、４−ジメチルアミノピリジンである。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜１２時間である。

ベンゾイル基導入工程で使用される溶媒としては、好ましくは、アセトニトリル、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフランなどである。塩基としては好ましくは、トリエチルアミン、テトラメチルエチレンジアミン、ピリジンである。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜８時間である。この工程では、ベンゾイル化の試薬としてベンゾイルクロリドの他に無水安息香酸、ベンゾイルシアニドあるいは安息香酸、ジイソプロピルアゾジカルボキシレート、トリフェニルホスフィンの組み合わせなどを用いることができる。

第Ｂ３工程
第Ｂ３工程は、一般式（Ｂ３）で表される化合物の４”位水酸基に脱離基を導入し、次いで置換反応することにより一般式（Ｂ４）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、塩基の存在下、一般式（Ｂ３）で表される化合物とトリフルオロメタンスルホニルクロリドあるいはトリフルオロメタンスルホン酸無水物とを反応させ、４”位にトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を有する化合物を合成し、次いで得られた化合物とＲ^4”aＭ（ここでＲ^4”aはＣ_１−Ｃ_６アルカノイル基、ベンゾイルオキシ基を表し、Ｍはリチウム、ナトリウム、セシウムを表す）とを反応させることにより達成される。

脱離基を導入する工程で使用される溶媒としては、塩化メチレン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、酢酸エチルなどが挙げられ、好ましくは、塩化メチレンである。使用される塩基としてはピリジン、ルチジン、コリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンなどが挙げられ、好ましくは、ピリジンである。反応温度は−３０℃〜２０℃で行われる。反応時間は１〜６時間である。

置換反応の工程で使用される溶媒としてはテトラヒドロフラン、ジオキサン、塩化メチレン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどが挙げられ、好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。反応温度は０℃〜５０℃で行われる。反応時間は１〜６時間である。

第Ｂ４工程
第Ｂ４工程は、一般式（Ｂ４）で表される化合物の５位水酸基に脱離基を導入し、次いで置換反応することにより、一般式（Ｂ５）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、 塩基の存在下、一般式（Ｂ４）で表される化合物とＷＳＯ_２Ｃｌ（ここでＷはメチル、フェニル、ｐ−トリル基を表す）とを反応させ、５位に置換スルホニルオキシ基を有する化合物を合成し、次いで得られた化合物とＲ^5aＭ（ここでＲ^5aはアセトキシ基、アジド基、クロル原子、ブロム原子、Ｃ_1-6アルキルアミノ基（このアルキル基の１以上の水素原子は、水酸基、フェニル基、ビニル基、アミノ基またはヒドロキシメチル基で置換されていてもよい）を表し、Ｍはリチウム、ナトリウム、セシウム、水素原子を表す）とを反応させることにより達成される。

脱離基の導入工程で使用される溶媒としては、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、１，２−ジクロルエタン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、酢酸エチルなどを挙げることができ、好ましくは、塩化メチレンである。使用される塩基としてはピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、４−ジメチルアミノピリジンなどを挙げることができ、好ましくは、４−ジメチルアミノピリジンである。反応温度は通常０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜２４時間である。

置換反応の工程で使用される溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどが挙げられ、好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。反応温度は２０℃〜１２０℃であり、好ましくは、８０℃〜１２０℃で行われる。反応時間は１〜１２時間である。さらに、一般式（Ｂ５）で表される化合物をＡ法の第Ａ８工程に従い脱保護することにより、一般式（Ａ９）で表される化合物を製造することができる。

（Ｃ法）
Ｃ法は、一般式(Ｃ１)で表される化合物の５位アキシアルにフルオロ基を導入することにより、一般式（Ｃ３）で表される化合物を製造する方法であり、以下に示す工程を経て製造される。Ｃ法について、各工程毎にその詳細を説明する。ここで出発原料である一般式（Ｃ１）で表される化合物は、前述のＢ法の第Ｂ１〜Ｂ３工程に従い製造することができる。

第Ｃ１工程
第Ｃ１工程は、一般式（Ｃ１）で表される化合物の５位アキシアルにフルオロ基を導入する工程である。この工程は、一般式（Ｃ１）で表される化合物をフルオロ化試剤と反応させることにより達成される。

本工程で使用されるフルオロ化試剤としては、三フッ化ジエチルアミノ硫黄（ＤＡＳＴ）、三フッ化モルホリノ硫黄が挙げられる。使用される溶媒としてはテトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、塩化メチレン、クロロホルムなどが挙げられ、好ましくは、塩化メチレンである。反応温度は−４０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜８時間である。

第Ｃ２工程
第Ｃ２工程は、一般式（Ｃ２）で表される化合物の保護基を除去し、一般式（Ｃ３）で表される化合物を製造する工程である。保護基の除去は前述の第Ａ８工程と同様の条件で行うことができる。

Ｄ法
Ｄ法は、一般式(Ｄ１)で表される化合物の５位アジド基をアミノ基に還元することにより一般式（Ｄ２）で表される化合物を製造する方法であり、以下に示す工程を経て製造される。 ここで出発原料である一般式（Ｄ１）で表される化合物は前述のＡ、Ｂ法および後述のＥ〜Ｈ法、Ｊ法、Ｍ〜Ｑ法に従い製造することができる。

第Ｄ１工程
第Ｄ１工程は、一般式(Ｄ１)で表される化合物の５位アジド基をアミノ基に還元する工程である。この工程は、一般式（Ｄ１）の化合物と還元剤とを反応させることにより達成される。

本工程で使用される還元剤としては、トリメチルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、水素およびパラジウム−炭素、パラジウムブラック、水酸化パラジウム、酸化白金などのような接触水素還元触媒などが挙げられ、一般式（Ｄ１）で表される化合物の点線が二重結合を表す場合には、トリブチルホスフィンが好ましく、点線が単結合を表す場合には、水素およびパラジウム−炭素触媒が好適である。使用される溶媒としてはメタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、水またはこれらの有機溶媒と水との混合溶媒などが挙げられる。反応温度は１０℃〜３０℃で行われる。反応時間は通常１〜８時間である。

Ｅ法
Ｅ法は、一般式（Ｅ１）で表される化合物の４”位を還元し、次いで５位のアキシアルに置換基Ｒ^5aを導入することにより、一般式（Ｅ５）で表される化合物を製造する方法であり、以下に示す工程を経て製造される。出発原料である一般式（Ｅ１）で表される化合物は、前述のＢ法の第Ｂ１〜Ｂ２工程に従い製造することができる。

第Ｅ１工程
第Ｅ１工程は、一般式（Ｅ１）で表される化合物の４”位水酸基に脱離基を導入し、次いで置換反応することにより一般式（Ｅ２）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、塩基の存在下、一般式（Ｅ１）で表される化合物と、トリフルオロメタンスルホニルクロリドあるいはトリフルオロメタンスルホン酸無水物とを反応させ、４”位にトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を有する化合物を合成し、次いでＭＸ（ここでＸはクロル原子、ブロム原子を表し、Ｍはリチウム、ナトリウムを表す）と反応させることにより達成される。

脱離基を導入する工程で使用される溶媒としては、塩化メチレン、クロロホルム、１，２−ジクロルエタン、テトラヒドロフラン、酢酸エチルなどが挙げられ、好ましくは、塩化メチレンである。使用される塩基としてはピリジン、ルチジン、コリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンなどが挙げられ、好ましくは、ピリジンである。反応温度は−３０℃〜２０℃で行われる。反応時間は１〜６時間である。

置換反応の工程で使用される溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、塩化メチレン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどが挙げられ、好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。反応温度は０℃〜５０℃で行われる。反応時間は１〜１２時間である。

第Ｅ２工程
第Ｅ２工程は、一般式（Ｅ２）で表される化合物の４”位ハロゲン基を還元することにより一般式（Ｅ３）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、遊離基開始剤の存在下、一般式（Ｅ２）で表される化合物と還元剤とを反応させることにより達成される。

本工程において使用される還元剤としては、例えば、水素化トリ−ｎ−ブチルスズ、水素化ジ−ｎ−ブチルスズ、水素化トリエチルスズ、水素化トリフェニルスズなどが挙げられ、好ましくは、水素化トリ−ｎ−ブチルスズである。使用される遊離基開始剤としてはアゾビスイソブチロニトリルが挙げられる。使用される溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ベンゼン、トルエンなどが挙げられ、好ましくは、ジオキサンである。反応温度は２０℃〜１２０℃で行われる。反応時間は１〜８時間である。

第Ｅ３工程
第Ｅ３工程は、一般式（Ｅ３）で表される化合物の５位水酸基に脱離基を導入し、次いで置換反応することにより一般式（Ｅ４）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、塩基の存在下、一般式（Ｅ３）で表される化合物とＷＳＯ_２Ｃｌ（ここでＷはメチル、フェニル、ｐ−トリル基を表す）とを反応させ、５位に置換スルホニルオキシ基を有する化合物を合成し、次いで得られた化合物とＲ^5aＭ（ここでＲ^5aはアセトキシ基、アジド基、クロル原子、ブロム原子、Ｃ_1-6アルキルアミノ基（このアルキル基の１以上の水素原子は、水酸基、フェニル基、ビニル基、アミノ基またはヒドロキシメチル基で置換されていてもよい）を表し、Ｍはリチウム、ナトリウム、セシウム、水素原子を表す）とを反応させることにより達成される。

脱離基の導入工程で使用される溶媒としては、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、１，２−ジクロルエタン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、酢酸エチルなどを挙げることができ、好ましくは、塩化メチレンである。使用される塩基としてはピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、４−ジメチルアミノピリジンなどを挙げることができ、好ましくは、４−ジメチルアミノピリジンである。反応温度は通常０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜２４時間である。

置換反応の工程で使用される溶媒としてはテトラヒドロフラン、ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどが挙げられ、好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。反応温度は６０℃〜９０℃で行われる。反応時間は１〜１２時間である。

第Ｅ４工程
第Ｅ４工程は、一般式（Ｅ４）で表される化合物の保護基を除去し、一般式（Ｅ５）で表される化合物を製造する工程である。保護基の除去は、前述の第Ａ８工程と同様の条件で行うことができる。

Ｆ法
Ｆ法は、式(Ｆ１)で表される化合物の４”位アキシアルに置換基Ｒ^4”aを導入し、次いで５位アキシアルに置換基Ｒ^5aを導入し、さらに１位アミノ基に側鎖を導入することにより、一般式（Ｆ１１）で表される化合物を製造する方法であり、以下に示す工程を経て製造される。 出発原料である式（Ｆ１）で表される化合物はTetrahedron Lett., 4951-4954 (1979). およびJ. Med. Chem., 34, 1483-1492 (1991).に記載された方法に準じて製造することができる。

第Ｆ１工程
第Ｆ１工程は、式（Ｆ１）で表される化合物の４”位、６”位水酸基に保護基を導入し、一般式（Ｆ２）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、酸存在下、式（Ｆ１）の化合物とＥ_２ＣＯあるいはＥ_２Ｃ（ＯＭe）_２（ここでＥは水素原子、メチル基、フェニル基あるいはＥ_２Ｃとしてシクロヘキシル基を表す）を反応させることにより達成される。

本工程で使用される溶媒としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、塩化メチレン、酢酸エチルなどが挙げられ、好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。使用される酸としては、ｐ−トルエンスルホン酸、ピリジニウム ｐ−トルエンスルホネート、カンファースルホン酸、塩酸などが挙げられ、好ましくは、ｐ−トルエンスルホン酸である。反応温度は２０℃〜５０℃で行われる。反応時間は１〜8時間である。

第Ｆ２工程
第Ｆ２工程は、一般式（Ｆ２）で表される化合物の２”位水酸基に保護基を導入し、一般式（Ｆ３）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、塩基存在下、一般式（Ｆ２）で表される化合物とＢ_２ＯあるいはＢＣｌ（Ｂとしてはアセチル基、ベンゾイル基を表す）と反応させることにより達成される。

本工程で使用される溶媒としてはピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、塩化メチレン、クロロホルムなどが挙げられ、好ましくは、ピリジンである。使用される塩基としてはトリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジンなどが挙げられ、好ましくは、ピリジンである。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜８時間である。

第Ｆ３工程
第Ｆ３工程は、一般式（Ｆ３）で表される化合物を一般式（Ｆ４）で表される化合物に変換する工程である。この工程は、一般式（Ｆ３）で表される化合物と、酸とを反応させることにより達成される。

本工程で使用される溶媒としてはテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサン、メタノール、塩化メチレン、クロロホルム、水およびこれらの混合溶媒などが挙げられ、好ましくは、塩化メチレンとメタノールの混合溶媒である。使用される酸としては酢酸、トリフルオロ酢酸、塩酸、硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸、三塩化ホウ素などが挙げられ、好ましくは、トリフルオロ酢酸である。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は０．１〜８時間である。

第Ｆ４工程
第Ｆ４工程は、一般式（Ｆ４）で表される化合物の６”位水酸基に保護基を導入し、一般式（Ｆ５）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、塩基の存在下、一般式（Ｆ４）で表される化合物とＲ¹³Ｃｌ（Ｒ¹³は、トリフェニルメチル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基を表す）とを反応させることにより達成される。

トリフェニルメチル基導入工程で使用される溶媒としては、塩化メチレン、アセトニトリル、ピリジンなどが挙げられ、好ましくは、ピリジンである。使用される塩基としてはトリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジンなどが挙げられ、好ましくは、ピリジンである。反応温度は２０℃〜８０℃で行われる。反応時間は通常２〜１０時間である。

シリル基導入工程で使用される溶媒としては、好ましくは、塩化メチレン、クロロホルム、ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、ピリジンなどである。塩基としては４−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、イミダゾール、ジイソプロピルエチルアミンなどが挙げられ、好ましくは、４−ジメチルアミノピリジンである。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜１２時間である。

第Ｆ５工程
第Ｆ５工程は、一般式（Ｆ５）で表される化合物の４”位水酸基に脱離基を導入し、次いで置換反応することにより一般式（Ｆ６）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、塩基の存在下、一般式（Ｆ５）で表される化合物とトリフルオロメタンスルホニルクロリドあるいはトリフルオロメタンスルホン酸無水物とを反応させ、４”位にトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を有する化合物を合成し、次いで得られた化合物とＲ^4”aＭ（ここでＲ^4”aはＣ_１−Ｃ_６アルカノイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基を表し、Ｍはリチウム、ナトリウム、セシウムを表す）とを反応させることにより達成される。

脱離基を導入する工程で使用される溶媒としては、塩化メチレン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、酢酸エチルなどが挙げられ、好ましくは、塩化メチレンである。使用される塩基としてはピリジン、ルチジン、コリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンなどが挙げられ、好ましくは、ピリジンである。反応温度は−３０℃〜２０℃で行われる。反応時間は１〜６時間である。

置換反応の工程で使用される溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、塩化メチレン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどが挙げられ、好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。反応温度は０℃〜５０℃で行われる。反応時間は１〜６時間である。

第Ｆ６工程
第Ｆ６工程は、一般式（Ｆ６）で表される化合物の５位水酸基に脱離基を導入し、次いで置換反応することにより一般式（Ｆ７）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、塩基の存在下、一般式（Ｆ６）で表される化合物とＷＳＯ_２Ｃｌ（ここでＷはメチル、フェニル、ｐ−トリル基を表す）とを反応させ５位に置換スルホニルオキシ基を有する化合物を合成し、次いで得られた化合物とＲ^5aＭ（ここでＲ^5aはアセトキシ基、アジド基、クロル原子、ブロム原子、Ｃ_1-6アルキルアミノ基（このアルキル基の１以上の水素原子は、水酸基、フェニル基、ビニル基、アミノ基またはヒドロキシメチル基で置換されていてもよい）を表し、Ｍはリチウム、ナトリウム、セシウム、水素原子を表す）とを反応させることにより達成される。

脱離基の導入工程で使用される溶媒としては、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、酢酸エチルなどを挙げることができ、好ましくは、塩化メチレンである。使用される塩基としてはピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、４−ジメチルアミノピリジンなどを挙げることができ、好ましくは、４−ジメチルアミノピリジンである。反応温度は通常０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜２４時間である。

置換反応の工程で使用される溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどが挙げられ、好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。反応温度は６０℃〜９０℃で行われる。反応時間は１〜１２時間である。

第Ｆ７工程
第Ｆ７工程は、一般式（Ｆ７）で表される化合物の６”位を除く水酸基の保護基を除去し、一般式（Ｆ８）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、一般式（Ｆ７）で表される化合物と、塩基とを反応させることにより達成される。

本工程で使用される溶媒としてはメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、塩化メチレン、クロロホルムおよびこれらの混合溶媒などが挙げられ、好ましくは、メタノールと塩化メチレンの混合溶媒である。使用される塩基としては炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ｔｅｒｔ−ＢｕＯＫなどが挙げられ、好ましくは、ナトリウムメトキシドである。反応温度は０℃〜６０℃で行われる。反応時間は１〜８時間で行われる。

第Ｆ８工程
第Ｆ８工程は、一般式（Ｆ８）で表される化合物の保護基を除去し、一般式（Ｆ９）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、一般式（Ｆ８）で表される化合物と、還元剤とを反応させることにより達成される。

本工程で使用される還元剤としては、水素とともに用いるパラジウム−炭素、パラジウムブラック、水酸化パラジウム、酸化白金などのような接触水素還元触媒または金属ナトリウム、金属リチウムなどが挙げられ、一般式（Ｆ８）で表される化合物の点線が二重結合を表す場合には金属ナトリウムが好適であり、点線が単結合を表す場合には水素およびパラジウム−炭素触媒が好適である。使用される溶媒としては、接触水素還元の場合には、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、水またはこれらの有機溶媒と水との混合溶媒などが挙げられ、金属ナトリウムを用いる場合には、液体アンモニアが好適である。反応温度は−６０℃〜３０℃で行われる。反応時間は通常１〜８時間である。

第Ｆ９工程
第Ｆ９工程は、一般式（Ｆ９）で表される化合物の１位アミノ基に側鎖を導入し、一般式（Ｆ１０）（ここで、Ｆ１０におけるＡは、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル基、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基を表す）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、縮合剤の存在下、一般式（Ｆ９）で表される化合物とカルボン酸、ＡＮＨ（ＣＨ_２）_ｎＣＨ（ＯＨ）ＣＯＯＨ（ここでＡは前記と同一の意味を表し、ｎは１〜３の整数を表す）とを縮合反応させるか、または縮合剤を使用せずに一般式（Ｆ９）で表される化合物とカルボン酸、ＡＮＨ（ＣＨ_２）_ｎＣＨ（ＯＨ）ＣＯＯＨ（ここでＡは前記と同一の意味を表す）の誘導体とを反応させることにより達成される。

本工程で使用される縮合剤としては例えばジシクロヘキシルカルボジイミド、ジイソプロピルカルボジイミド、Ｎ−エチル−Ｎ’−３−ジメチルアミノプロピルカルボジイミドなどのカルボジイミド類、またはこれらの縮合剤に添加剤として１−オキソベンゾトリアゾール、３−ヒドロキシ−４−オキソ−３、４−ジヒドロ−１，２，３−ベンゾトリアジンなどを加えたものが挙げられる。使用されるカルボン酸誘導体としてはＮ−ヒドロキシフタルイミドエステル、Ｎ−ヒドロキシコハク酸イミドエステル、ｐ−ニトロフェニルエステル、ペンタフルオロフェニルエステルなどが挙げられ、好ましくは、Ｎ−ヒドロキシコハク酸イミドエステルである。使用される溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、塩化メチレン、クロロホルム、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどが挙げられ、好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜１２時間である。

第Ｆ１０工程
第Ｆ１０工程は、一般式（Ｆ１０）で表される化合物の保護基を除去し、一般式（Ｆ１１）で表される化合物を製造する工程である。保護基の除去は前述の第Ａ８工程と同様の条件で行うことができる。

Ｇ法
Ｇ法は、式(Ｇ１)で表される化合物の６’位のアミノ基に置換基Ｒ^6’aを導入することにより、一般式（Ｇ６）で表される化合物を製造する方法であり、以下に示す工程を経て製造される。一般式（Ｇ６）で表される化合物から前述したＡ法の第Ａ３〜Ａ８工程、Ｂ法の第Ｂ１〜６工程に従い、または後述するＪ法に準じて、一般式（Ｇ７）で表される化合物を製造することができる。

第Ｇ１工程
第Ｇ１工程は、式（Ｇ１）で表される化合物のアミノ基を保護することにより、式（Ｇ２）の化合物を製造する工程である。この工程は、はじめに酢酸亜鉛存在下、式（Ｇ１）の化合物とＮ−ベンジルオキシカルボニルオキシコハク酸イミドとを反応させ、６’位アミノ基がベンジルオキシカルボニル基（Ｚ基）で保護された化合物を得、次いで得られた化合物の３位、２’位、３”位、４’’’位のアミノ基を塩基存在下、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジカルボネートと反応させてｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基（Ｂｏｃ基）で保護することにより達成される。

６’位保護の工程で使用される溶媒としてはテトラヒドロフラン、ジオキサン、水、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドあるいはこれらの混合溶媒などが挙げられ、好ましくは、水とＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドの混合溶媒である。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜８時間である。

３位、２’位、３”位、４’’’位保護の工程で使用される溶媒としては、水、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、ジオキサンおよびこれらの混合溶剤が挙げられ、好ましくは、水とジオキサンとの混合溶剤である。使用される塩基としては水酸化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、トリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジンを挙げることができ、好ましくは、トリエチルアミンである。反応温度は０℃〜４０℃で行われる。反応時間は１〜２４時間である。
第Ｇ２工程
第Ｇ２工程は、式（Ｇ２）で表される化合物の保護基を除去し、次いでベンジル基で保護することにより式（Ｇ３）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、式（Ｇ２）で表される化合物を水素を用いて接触水素還元し、次いで得られた６’位アミノ体とベンズアルデヒドを還元剤の存在下反応させることにより達成される。

脱保護工程で使用される還元剤としては水素およびパラジウム−炭素、パラジウムブラック、水酸化パラジウム、酸化白金などのような接触水素還元触媒あるいは金属ナトリウム、金属リチウムなどが挙げられ、一般式（Ｇ２）で表される化合物の点線が二重結合を表す場合には金属ナトリウムが好適であり、点線が単結合を表す場合には水素およびパラジウム−炭素触媒が好適である。使用される溶媒としては接触水素還元の場合には、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、水またはこれらの有機溶媒と水との混合溶媒などが挙げられ、金属ナトリウムを用いる場合には、液体アンモニアが好適である。反応温度は−６０℃〜３０℃で行われる。反応時間は通常１〜８時間である。

ベンジル化の工程で使用される還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム、シアン化水素化ホウ素ナトリウム、シアン化水素化ホウ素リチウムなどが挙げられ、好ましくは、水素化ホウ素ナトリウムである。使用される溶媒としてはメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ジオキサン、水またはこれらの混合溶媒などが挙げられ、好ましくは、メタノールとジオキサンの混合溶媒である。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜８時間である。また、本工程は、塩基存在下、ベンジルブロマイドと反応させることによっても達成される。
第Ｇ３工程
第Ｇ３工程は、式（Ｇ３）で表される化合物の６’位アミノ基に置換基を導入し、一般式（Ｇ４）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、式（Ｇ３）で表される化合物とＲ⁰¹ＣＨＯ（Ｒ⁰¹は水素原子、Ｃ_１−５アルキル基を表す）とを還元剤の存在下反応させることにより達成される。

本工程で使用される還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム、シアン化水素化ホウ素ナトリウム、シアン化水素化ホウ素リチウムなどが挙げられ、好ましくは、水素化ホウ素ナトリウムである。使用される溶媒としてはメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ジオキサン、水またはこれらの混合溶媒などが挙げられ、好ましくは、メタノールとジオキサンの混合溶媒である。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜８時間である。
第Ｇ４工程
第Ｇ４工程は、一般式（Ｇ４）で表される化合物の６’位ベンジル基をｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基に変換する工程である。この工程は、一般式（Ｇ４）で表される化合物とジ−ｔｅｒｔ−ブチルジカルボネートと還元剤とを反応させることにより達成される。

本工程で使用される溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサン、テトラヒドロフランまたはこれらの有機溶剤と水との混合溶剤などが挙げられ、好ましくは、水とテトラヒドロフランの混合溶媒である。使用される還元剤としては水素およびパラジウム-炭素、パラジウムブラック、水酸化パラジウム、酸化白金などの接触水素還元触媒が挙げられ、好ましくは、水素およびパラジウム-炭素である。反応温度は１０℃〜３０℃で行われる。反応時間は通常１〜８時間である。
第Ｇ５工程
第Ｇ５工程は、一般式（Ｇ５）で表される化合物の４”位、６”位水酸基に保護基を導入し、一般式（Ｇ６）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、酸存在下、一般式（Ｇ５）で表される化合物とＥ_２ＣＯあるいはＥ_２Ｃ（ＯＭe）_２（ここでＥは水素原子、メチル基、フェニル基あるいはＥ_２Ｃとしてシクロヘキシル基を表す）を反応させることにより達成される。

本工程で使用される溶媒としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、塩化メチレン、酢酸エチルなどが挙げられ、好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。使用される酸としてはｐ−トルエンスルホン酸、ピリジニウム ｐ−トルエンスルホネート、カンファースルホン酸、塩酸などが挙げられ、好ましくは、ｐ−トルエンスルホン酸である。反応温度は２０℃〜５０℃で行われる。反応時間は１〜８時間である。

Ｈ法
Ｈ法は、式(Ｈ１)で表される化合物の５位および４”位のアキシアルに置換基Ｒ^5aおよびＲ^4”aを導入し、次いで３’’位アミノ基に置換基Ｒ^3”aを導入することにより、一般式（Ｇ６）で表される化合物を製造する方法であり、以下に示す工程を経て製造される。出発原料である式（Ｈ１）で表される化合物は特開昭６３−１３１９号公報、特開平７−８２２９０号公報、および米国特許第４２９７４８５号公報に記載された方法で製造することができる。

第Ｈ１工程
第Ｈ１工程は、式（Ｈ１）で表される化合物の６”位水酸基を選択的に保護することにより、式（Ｈ２）の化合物を製造する工程である。この工程は、塩基の存在下、式（Ｈ１）で表される化合物とＲ¹³Ｃｌ（Ｒ¹³はトリフェニルメチル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基を表す）とを反応させることにより達成される。

トリフェニルメチル基導入工程で使用される溶媒としては塩化メチレン、アセトニトリル、ピリジンなどが挙げられ、好ましくは、ピリジンである。使用される塩基としてはトリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジンなどが挙げられ、好ましくは、ピリジンである。反応温度は２０℃〜８０℃で行われる。反応時間は通常２〜１０時間である。

シリル基導入工程で使用される溶媒としては好ましくは、塩化メチレン、クロロホルム、ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、ピリジンなどである。塩基としては４−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、イミダゾール、ジイソプロピルエチルアミンなどが挙げられ、好ましくは、４−ジメチルアミノピリジンである。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜１２時間である。

第Ｈ２工程
第Ｈ２工程は、式（Ｈ２）で表される化合物の２”位水酸基に保護基を導入し、一般式（Ｈ３）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、塩基存在下、式（Ｈ２）で表される化合物とＢ_２ＯあるいはＢＣｌ（Ｂとしてはアセチル基、ベンゾイル基を表す）と反応させることにより達成される。

本工程で使用される溶媒としてはピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、塩化メチレン、クロロホルムなどが挙げられ、好ましくは、ピリジンである。使用される塩基としてはトリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジンなどが挙げられ、好ましくは、ピリジンである。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜８時間である。

第Ｈ３工程
第Ｈ３工程は、一般式（Ｈ３）で表される化合物の５位および４”位水酸基に脱離基を導入し、次いで置換反応することにより一般式（Ｈ４）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、塩基の存在下、一般式（Ｈ３）で表される化合物とＷＳＯ_２Ｃｌ（ここでＷはメチル、フェニル、ｐ−トリル基を表す）とを反応させ、５位および４”位に置換スルホニルオキシ基を有する化合物を合成し、次いで得られた化合物とＲ^4”aＭ（ここでＲ^4”aはＣ_１−Ｃ_６アルカノイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基を表し、Ｍはリチウム、ナトリウム、セシウムを表す）とを反応させることにより達成される。ここで一般式（Ｈ４）の５位置換基Ｒ^5aはＲ^４”aと同一の意味を表す。

脱離基の導入工程で使用される溶媒としては、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、１，２−ジクロルエタン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、酢酸エチルなどを挙げることができ、好ましくは、塩化メチレンである。使用される塩基としてはピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、４−ジメチルアミノピリジンなどを挙げることができ、好ましくは、４−ジメチルアミノピリジンである。反応温度は通常０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜２４時間である。

置換反応の工程で使用される溶媒としては、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどが挙げられ、好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。反応温度は６０℃〜９０℃で行われる。反応時間は１〜１２時間である。

第Ｈ４工程
第Ｈ４工程は、一般式（Ｈ４）で表される化合物の６”位を除く水酸基の保護基を除去し、一般式（Ｈ５）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、一般式（Ｈ４）で表される化合物と塩基とを反応させることにより達成される。

本工程で使用される溶媒としてはメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール、塩化メチレン、クロロホルムおよびこれらの混合溶媒などが挙げられ、好ましくは、メタノールと塩化メチレンの混合溶剤である。使用される塩基としては炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ｔｅｒｔ−ＢｕＯＫなどがあげられ、好ましくは、ナトリウムメトキシドである。反応温度は０℃〜６０℃で行われる。反応時間は１〜８時間で行われる。

第Ｈ５工程
第Ｈ５工程は、一般式（Ｈ５）で表される化合物の1位および３”位アミノ基の保護基を除去し、次いで３”位アミノ基を選択的に保護することにより、一般式（Ｈ６）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、一般式（Ｈ５）で表される化合物と還元剤とを反応させ、得られた１、３”位アミノ体を塩基存在下、トリフルオロ酢酸エチルエステルと反応させることにより達成される。

脱保護工程で使用される還元剤としては、水素とともに用いられるパラジウム−炭素、パラジウムブラック、水酸化パラジウム、酸化白金などのような接触水素還元触媒または金属ナトリウム、金属リチウムなどが挙げられ、一般式（Ｈ５）で表される化合物の点線が二重結合を表す場合には、金属ナトリウムが好ましく、点線が単結合を表す場合には水素およびパラジウム−炭素触媒が好ましい。使用される溶媒としては接触水素還元の場合には、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、水またはこれらの有機溶媒と水との混合溶媒などが挙げられ、金属ナトリウムを用いる場合には、液体アンモニアが好ましい。反応温度は−６０℃〜３０℃で行われる。反応時間は通常１〜８時間である。

保護工程で使用される溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、塩化メチレン、クロロホルム、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどが挙げられ、好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。使用される塩基としてはトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジンなどが挙げられ、好ましくは、ピリジンである。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜８時間である。

第Ｈ６工程
第Ｈ６工程は、一般式（Ｈ６）で表される化合物の１位アミノ基に側鎖を導入し、一般式（Ｈ７）（ここで、Ａはｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル基、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基を表す）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、縮合剤の存在下、一般式（Ｈ６）で表される化合物とカルボン酸、ＡＮＨ（ＣＨ_２）ｎＣＨ（ＯＨ）ＣＯＯＨ（ここでＡは前記と同一の意味を表し、ｎは１〜３の整数を表す）とを反応させるか、または縮合剤を使用せずに一般式（Ｈ６）で表される化合物とカルボン酸、ＡＮＨ（ＣＨ_２）ｎＣＨ（ＯＨ）ＣＯＯＨ（ここでＡは前記と同一の意味を表す）の誘導体とを反応させることにより達成される。

本工程で使用される縮合剤としては、例えば、ジシクロヘキシルカルボジイミド、ジイソプロピルカルボジイミド、Ｎ−エチル−Ｎ’−３−ジメチルアミノプロピルカルボジイミドなどのカルボジイミド類、またはこれらの縮合剤に添加剤として１−オキソベンゾトリアゾール、３−ヒドロキシ−４−オキソ−３、４−ジヒドロ−１，２，３−ベンゾトリアジンなどを加えたものが挙げられる。使用されるカルボン酸誘導体としてはＮ−ヒドロキシフタルイミドエステル、Ｎ−ヒドロキシコハク酸イミドエステル、ｐ−ニトロフェニルエステル、ペンタフルオロフェニルエステルなどが挙げられ、好ましくは、Ｎ−ヒドロキシコハク酸イミドエステルである。使用される溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、塩化メチレン、クロロホルム、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどが挙げられ、好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜１２時間である。

第Ｈ７工程
第Ｈ７工程は、一般式（Ｈ７）の化合物の３”位の保護基をトリフルオロアセチル基からジ（４−メトキシフェニル）メチル基（ＰＤＭＤ基）に変換し、一般式（Ｈ８）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、一般式（Ｈ７）で表される化合物と塩基とを反応させ、次いで得られた３”位アミノ体とジ（４−メトキシフェニル）メチルクロリドとを塩基存在下、反応させることにより達成される。

脱保護工程で使用される塩基としては、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化バリウム、水酸化アンモニウムなどが挙げられ、好ましくは、水酸化アンモニウムである。使用される溶媒としてはメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジオキサン、塩化メチレン、クロロホルム、水またはこれらの混合溶媒などが挙げられ、好ましくは、テトラヒドロフランとエタノールの混合溶媒である。反応温度は０℃〜５０℃で行われる。反応時間は１〜８時間である。

保護工程で使用される塩基としては、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジンなどが挙げられ、好ましくは、トリエチルアミンである。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜２４時間である。

第Ｈ８工程
第Ｈ８工程は、一般式（Ｈ８）で表される化合物の３’’位アミノ基に置換基を導入し、一般式（Ｈ９）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、一般式（Ｈ８）で表される化合物とＲ⁰¹ＣＨＯ（ここでＲ⁰¹は、水素原子、Ｃ_１−５アルキル基を表す）とを還元剤の存在下反応させることにより達成される。

本工程で使用される還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム、シアン化水素化ホウ素ナトリウム、シアン化水素化ホウ素リチウムなどが挙げられ、好ましくは、水素化ホウ素ナトリウムである。使用される溶媒としてはメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ジオキサン、水またはこれらの混合溶媒などが挙げられ、好ましくは、メタノールとジオキサンの混合溶媒である。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜８時間である。

第Ｈ９工程
第Ｈ９工程は、一般式（Ｈ９）で表される化合物の保護基を除去し、一般式（Ｈ１０）で表される化合物を製造する工程である。保護基の除去は前述の第Ａ８工程と同様の条件で行うことができる。

Ｉ法
Ｉ法は、式(Ｉ１)で表される化合物の１位に側鎖を導入し、次いで５位および６”位にフルオロ基を導入することにより、一般式（Ｉ８）で表される化合物を製造する方法であり、以下に示す工程を経て製造される。これらの製造法について、各工程毎にその詳細を説明する。

第Ｉ１工程
第Ｉ１工程は、式（Ｉ１）で表される化合物の１位および３”位アミノ基の保護基を除去し、次いで３”位アミノ基を選択的に保護することにより、式（Ｉ２）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、式（Ｉ１）で表される化合物と還元剤とを反応させ、得られた１、３”位アミノ体を塩基存在下、トリフルオロ酢酸エチルエステルと反応させることにより達成される。

脱保護工程で使用される還元剤としては、水素とともに用いるパラジウム−炭素、パラジウムブラック、水酸化パラジウム、酸化白金などのような接触水素還元触媒あるいは金属ナトリウム、金属リチウムなどが挙げられ、一般式（Ｉ１）で表される化合物の点線が二重結合を表す場合には、金属ナトリウムが好ましく、点線が単結合を表す場合には水素およびパラジウム−炭素触媒が好ましい。使用される溶媒としては接触水素還元の場合にはメタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、水またはこれらの有機溶媒と水との混合溶媒などが挙げられ金属ナトリウムを用いる場合には液体アンモニアが好ましい。反応温度は−６０℃〜３０℃で行われる。反応時間は通常１〜８時間である。

保護工程で使用される溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、塩化メチレン、クロロホルム、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどが挙げられ、好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。使用される塩基としてはトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジンなどが挙げられ、好ましくは、ピリジンである。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜８時間である。

第Ｉ２工程
第Ｉ２工程は、式（Ｉ２）で表される化合物の１位アミノ基に側鎖を導入し、一般式（Ｉ３）（ここでＡはｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル基、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基を表す）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、縮合剤の存在下、式（Ｉ２）で表される化合物とカルボン酸、ＡＮＨ（ＣＨ_２）ｎＣＨ（ＯＨ）ＣＯＯＨ（ここでＡは前記と同一の意味を表す）とを反応させるか、あるいは縮合剤を使用せずに、式（Ｉ２）で表される化合物とカルボン酸、ＡＮＨ（ＣＨ_２）ｎＣＨ（ＯＨ）ＣＯＯＨ（ここでＡは前記と同一の意味を表し、ｎは１〜３の整数を表す）の誘導体とを反応させることにより達成される。

本工程で使用される縮合剤としては、例えば、ジシクロヘキシルカルボジイミド、ジイソプロピルカルボジイミド、Ｎ−エチル−Ｎ’−３−ジメチルアミノプロピルカルボジイミドなどのカルボジイミド類、またはこれらの縮合剤に添加剤として１−オキソベンゾトリアゾール、３−ヒドロキシ−４−オキソ−３、４−ジヒドロ−１，２，３−ベンゾトリアジンなどを加えたものが挙げられる。使用されるカルボン酸誘導体としてはＮ−ヒドロキシフタルイミドエステル、Ｎ−ヒドロキシコハク酸イミドエステル、ｐ−ニトロフェニルエステル、ペンタフルオロフェニルエステルなどが挙げられ、好ましくは、Ｎ−ヒドロキシコハク酸イミドエステルである。使用される溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、塩化メチレン、クロロホルム、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどが挙げられ、好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜１２時間である。

第Ｉ３工程
第Ｉ３工程は、一般式（Ｉ３）で表される化合物の６”位水酸基に保護基を導入し、一般式（Ｉ４）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、塩基の存在下、一般式（Ｉ３）で表される化合物とＲ¹³Ｃｌ（Ｒ¹³はトリフェニルメチル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基を表す）とを反応させることにより達成される。

トリフェニルメチル基導入工程で使用される溶媒としては、塩化メチレン、アセトニトリル、ピリジンなどが挙げられ、好ましくは、ピリジンである。使用される塩基としてはトリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジンなどが挙げられ、好ましくは、ピリジンである。反応温度は２０℃〜８０℃で行われる。反応時間は通常２〜１０時間である。

シリル基導入工程で使用される溶媒としては、好ましくは、塩化メチレン、クロロホルム、ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、ピリジンなどである。塩基としては４−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、イミダゾール、ジイソプロピルエチルアミンなどが挙げられ、好ましくは、４−ジメチルアミノピリジンである。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜１２時間である。

第Ｉ４工程
第Ｉ４工程は、一般式（Ｉ４）で表される化合物の２”位、４”位、２’’’位水酸基に保護基を導入し、一般式（Ｉ５）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、塩基存在下、一般式（Ｉ４）で表される化合物とＢ_２ＯあるいはＢＣｌ（Ｂとしてはアセチル基、ベンゾイル基を表す）とを反応させることにより達成される。

本工程で使用される溶媒としては、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、塩化メチレン、クロロホルムなどが挙げられ、好ましくは、ピリジンである。使用される塩基としてはトリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジンなどが挙げられ、好ましくは、ピリジンである。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜８時間である。

第Ｉ５工程
第Ｉ５工程は、一般式（Ｉ５）で表される化合物の６”位水酸基の保護基であるトリフェニルメチル基あるいはシリル基を除去し、一般式（Ｉ６）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、一般式（Ｉ５）で表される化合物と酸あるいは塩基とを反応させることにより達成される。

トリフェニルメチル基の脱保護工程で使用される溶媒としては、ジエチルエーテル、テラヒドロフラン、ジメトキシエタン、水などが挙げられ、好ましくは、ジエチルエーテルである。使用される酸としてはギ酸、酢酸、などが挙げられ、好ましくは、ギ酸である。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜８時間である。

シリル基の脱保護工程で使用される溶媒としては、好ましくは、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、塩化メチレンなどである。使用される脱保護の試薬としてはテトラブチルアンモニウムフルオライド、フッ化水素−ピリジン、フッ化水素−トリエチルアミン、フッ化水素などである。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜１２時間である。

第Ｉ６工程
第Ｉ６工程は、一般式（Ｉ６）で表される化合物の５位および６”位をフルオロ化し、一般式（Ｉ７）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、一般式（Ｉ６）で表される化合物とフルオロ化試剤とを反応させることにより達成される。

本工程で使用されるフルオロ化試剤としては三フッ化ジエチルアミノ硫黄（ＤＡＳＴ）、三フッ化モルホリノ硫黄が挙げられる。使用される溶媒としてはテトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、塩化メチレン、クロロホルムなどが挙げられ、好ましくは、塩化メチレンである。反応温度は−４０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜８時間である。

第Ｉ７工程
第Ｉ７工程は、一般式（Ｉ７）で表される化合物の保護基を除去し、一般式（Ｉ８）で表される化合物を製造する工程である。保護基の除去は前述の第Ａ８工程と同様の条件で行うことができる。

Ｊ法
Ｊ法、式(Ｊ１)で表される化合物の５位アキシアルに置換基Ｒ^5aを導入することにより、一般式（Ｊ４）で表される化合物を製造する方法であり、以下に示す工程を経て製造される。これらの製造法について、各工程毎にその詳細を説明する。

第Ｊ１工程
第Ｊ１工程は、式（Ｊ１）で表される化合物の５位を除くすべての水酸基およびアミノ基に保護基を導入する工程である。この工程は、はじめに塩基存在下、式（Ｊ１）で表される化合物とＡ_２ＯあるいはＡＣｌ（ここでＡはｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル基、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基を表す）を反応させ、アミノ基に保護基を導入し、次いで塩基存在下、Ｂ_２ＯあるいはＢＣｌ（Ｂはアセチル基、ベンゾイル基を表す）と反応させて水酸基に保護基を導入することにより達成される。

アミノ基の保護工程で使用される溶媒としては、水、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、ジオキサンおよびこれらの混合溶剤が挙げられ、好ましくは、水とＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドとの混合溶剤である。使用される塩基としては水酸化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、トリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジンを挙げることができ、好ましくは、トリエチルアミンである。反応温度は０℃〜４０℃で行われる。反応時間は１〜２４時間である。

水酸基の保護工程で使用される溶媒としては、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、塩化メチレン、クロロホルムなどが挙げられ、好ましくは、ピリジンである。使用される塩基としてはトリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジンなどが挙げられ、好ましくは、ピリジンである。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜８時間である。

第Ｊ２工程
第Ｊ２工程は、一般式（Ｊ２）で表される化合物の５位水酸基に脱離基を導入し、次いで置換反応することにより一般式（Ｊ３）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、塩基の存在下、一般式（Ｊ２）で表される化合物とＷＳＯ_２Ｃｌ（ここでＷはメチル、フェニル、ｐ−トリル基を表す）とを反応させ、５位に置換スルホニルオキシ基を有する化合物を合成し、次いで得られた化合物とＲ^5aＭ（ここでＲ^5aはアセトキシ基、アジド基、クロル原子、ブロム原子、Ｃ_1-6アルキルアミノ基（このアルキル基の１以上の水素原子は、水酸基、フェニル基、ビニル基、アミノ基またはヒドロキシメチル基で置換されていてもよい）を表し、Ｍはリチウム、ナトリウム、セシウム、水素原子を表す）とを反応させることにより達成される。

脱離基の導入工程で使用される溶媒としては、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、１，２−ジクロルエタン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、酢酸エチルなどを挙げることができ、好ましくは、塩化メチレンである。使用される塩基としてはピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、４−ジメチルアミノピリジンなどを挙げることができ、好ましくは、４−ジメチルアミノピリジンである。反応温度は通常０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜２４時間である。

置換反応の工程で使用される溶媒としてはテトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどが挙げられ、好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。反応温度は６０℃〜９０℃で行われる。反応時間は１〜１２時間である。

第Ｊ３工程
第Ｊ３工程は、一般式（Ｊ３）で表される化合物の保護基を除去し、一般式（Ｊ４）で表される化合物を製造する工程である。保護基の除去は前述の第Ａ８工程と同様の条件で行うことができる。

Ｋ法
Ｋ法は、一般式(Ｋ１)で表される化合物の５位アキシアルのアジド基をアミノ基に還元し、得られたにアミノ基に置換基を導入することにより、一般式（Ｋ４）で表される化合物を製造する方法であり、以下に示す工程を経て製造される。出発原料である一般式（Ｋ１）で表される化合物は、前述のＪ法の第Ｊ１〜Ｊ２工程に従い製造することができる。

第Ｋ１工程
第Ｋ１工程は、一般式（Ｋ１）で表される化合物の水酸基の保護基を除去し、一般式（Ｋ２）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、一般式（Ｋ１）で表される化合物と塩基とを反応させることにより達成される。

本工程で使用される溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール、塩化メチレン、クロロホルムおよびこれらの混合溶媒などが挙げられ、好ましくは、メタノールと塩化メチレンの混合溶剤である。使用される塩基としては炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ｔｅｒｔ−ＢｕＯＫなどが挙げられ、好ましくは、ナトリウムメトキサイドである。反応温度は０℃〜６０℃で行われる。反応時間は１〜８時間で行われる。

第Ｋ２工程
第Ｋ２工程は、一般式(Ｋ２)で表される化合物の５位アジド基をアミノ基に還元する工程である。この工程は、一般式（Ｋ２）で表される化合物と還元剤とを反応させることにより達成される。

本工程で使用される還元剤としては、トリメチルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、水素とともに用いるパラジウム−炭素、パラジウムブラック、水酸化パラジウム、酸化白金などのような接触水素還元触媒などが挙げられ、一般式（Ｋ２）で表される化合物の点線が二重結合を表す場合には、トリブチルホスフィンが好ましく、点線が単結合を表す場合には、水素およびパラジウム−炭素触媒が好ましい。使用される溶媒としてはメタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、水またはこれらの有機溶媒と水との混合溶媒などが挙げられる。反応温度は１０℃〜３０℃で行われる。反応時間は通常１〜８時間である。

第Ｋ３工程
第Ｋ３工程は、一般式（Ｋ３）で表される化合物の５位アミノ基に置換基を導入し、次いで保護基を除去することにより一般式（Ｋ４）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、塩基存在下、一般式（Ｋ３）で表される化合物とＲ⁰²ＣＯＣｌ（ここでＲ⁰²はＣ_１−５アルキル基、アリール基を表す）またはＲ⁰³Ｘ（ここでＲ⁰³はＣ_１−６アルキル基、アラルキル基を表し、Ｘはハロゲンを表す）とを反応させるか、あるいは還元剤の存在下、Ｒ⁰⁴ＣＨＯ（Ｒは水素原子、Ｃ_１−５アルキル基、アリール基を表す）と反応させ、次いで塩基あるいは酸と反応させて保護基を除去することにより達成される。

Ｒ⁰²ＣＯＣｌとの反応工程で使用される溶媒としては、塩化メチレン、クロロホルム、１，２−ジクロルエタン、ピリジンなどが挙げられ、好ましくは、ピリジンである。使用される塩基としてはトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジンなどが挙げられ、好ましくは、ピリジンである。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜８時間である。

Ｒ⁰³Ｘとの反応工程で使用される溶媒としてはテトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、塩化メチレン、クロロホルム、１，２−ジクロルエタン、メタノール、エタノール、アセトニトリル、水などが挙げられ、好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。使用される塩基としては炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、トリエチルアミン、４−ジメチルアミノピリジンなどが挙げられ、好ましくは、炭酸カリウムである。反応温度は２０℃〜６０℃で行われる。反応時間は１〜１２時間である。

Ｒ⁰⁴ＣＨＯとの反応工程で使用される溶媒としては使用される溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ジオキサン、水、酢酸またはこれらの混合溶媒などが挙げられ、好ましくは、メタノールとジオキサンと酢酸の混合溶媒である。使用される還元剤としては水素化ホウ素ナトリウム、シアン化水素化ホウ素ナトリウム、シアン化水素化ホウ素リチウム、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウムなどが挙げられ、好ましくは、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウムである。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜８時間である。

塩基による脱保護の工程で使用される溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール、塩化メチレン、クロロホルムおよびこれらの混合溶媒などが挙げられ、好ましくは、メタノールと塩化メチレンの混合溶剤である。使用される塩基としては炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ｔｅｒｔ−ＢｕＯＫなどが挙げられ、好ましくは、ナトリウムメトキシドである。反応温度は０℃〜６０℃で行われる。反応時間は１〜８時間で行われる

酸による脱保護の工程で使用される溶媒としては、酢酸エチル、塩化メチレン、アセトニトリル、アセトン、水などが挙げられ、好ましくは、水である。使用される酸としてはｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、酢酸、トリフルオロ酢酸などが挙げられ、好ましくは、トリフルオロ酢酸である。反応温度は通常０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜１２時間である。一般式（Ｋ３）で表される化合物の保護基Ａがベンジルオキシカルボニル基、ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル基、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基の場合、水素および接触水素還元触媒と反応させることによっても保護基を除去することができる。使用される接触水素還元触媒としてはパラジウム-炭素、酸化白金などを挙げることができ、溶媒としては本反応に関与しないものであれば特に限定はないが、好ましくは、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサンまたはこれらの有機溶剤と水との混合溶剤である。反応温度は１０℃〜３０℃であり、反応時間は通常１〜８時間である。

Ｌ法
Ｌ法は、一般式（Ｌ１）（ここでＲ^5aはＣ_１−６アルカノイルオキシ基を表す）で表される化合物の５位アキシアルに置換スルホニルオキシ基を導入することにより、一般式（L５）で表される化合物を製造する方法であり、以下に示す工程を経て製造される。出発原料である一般式（Ｌ１）で表される化合物は前述のＪ法の第Ｊ１〜Ｊ２工程に従い製造することができる。

第Ｌ１工程
第Ｌ１工程は、一般式（Ｌ１）で表される化合物の水酸基の保護基を除去し、一般式（Ｌ２）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、一般式（Ｌ１）で表される化合物と塩基とを反応させることにより達成される。

本工程で使用される溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール、塩化メチレン、クロロホルムおよびこれらの混合溶媒などが挙げられ、好ましくは、メタノールと塩化メチレンの混合溶剤である。使用される塩基としては、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ｔｅｒｔ−ＢｕＯＫなどが挙げられ、好ましくは、ナトリウムメトキシドである。反応温度は０℃〜６０℃で行われる。反応時間は１〜８時間で行われる。

第Ｌ２工程
第Ｌ２工程は、一般式（Ｌ２）で表される化合物の５位を除く水酸基に保護基を導入し、一般式（Ｌ３）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、塩基存在下、一般式（L２）で表される化合物とＢ_２ＯあるいはＢＣｌ（Ｂはアセチル基、ベンゾイル基を表す）と反応させることにより達成される。

本工程で使用される溶媒としては、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、塩化メチレン、クロロホルムなどが挙げられ、好ましくは、ピリジンである。使用される塩基としてはトリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジンなどが挙げられ、好ましくは、ピリジンである。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜８時間である。

第Ｌ３工程
第Ｌ３工程は、一般式（Ｌ３）で表される化合物の５位水酸基をスルホニル化する工程である。この工程は、塩基存在下、一般式（Ｌ３）で表される化合物とＲ⁰⁵ＳＯ_２Ｃｌ（ここでR⁰⁵はＣ_１−６アルキル基を表す）とを反応させることにより達成される。

本工程で使用される溶媒としては、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、１，２−ジクロルエタン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、酢酸エチルなどを挙げることができ、好ましくは、塩化メチレンである。使用される塩基としてはピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、４−ジメチルアミノピリジンなどを挙げることができ、好ましくは、４−ジメチルアミノピリジンである。反応温度は通常０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜２４時間である。

第Ｌ４工程
第Ｌ４工程は、一般式（Ｌ４）で表される化合物の保護基を除去し、一般式（Ｌ５）で表される化合物を製造する工程である。保護基の除去は、前述の第Ａ８工程と同様の条件で行うことができる。

Ｍ法
Ｍ法は、一般式（Ｍ１）で表される化合物の５位アキシアルに置換基Ｒ^5aを導入し、次いで１位に側鎖を導入することにより、一般式（Ｍ６）で表される化合物を製造する方法であり、以下に示す工程を経て製造される。出発原料である一般式（Ｍ１）で表される化合物は前述のＩ法の第Ｉ１工程に従い製造することができる。

第Ｍ１工程
第Ｍ１工程は、一般式（Ｍ１）で表される化合物の５位を除く水酸基に保護基を導入し、一般式（Ｍ２）で表される化合物を製造する工程において、塩基存在下、一般式（M１）で表される化合物とＢ_２ＯあるいはＢＣｌ（Ｂはアセチル基、ベンゾイル基を表す）と反応させることにより達成される。

本工程で使用される溶媒としては、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、塩化メチレン、クロロホルムなどが挙げられ、好ましくは、ピリジンである。使用される塩基としてはトリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジンなどが挙げられ、好ましくは、ピリジンである。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜８時間である。

第Ｍ２工程
第Ｍ２工程は、一般式（Ｍ２）で表される化合物の５位水酸基に脱離基を導入し、次いで置換反応することにより一般式（Ｍ３）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、塩基の存在下、一般式（Ｍ２）で表される化合物とＷＳＯ_２Ｃｌ（ここでＷはメチル、フェニル、ｐ−トリル基を表す）とを反応させ５位に置換スルホニルオキシ基を有する化合物を合成し、次いで得られた化合物とＲ^5aＭ（ここでＲ^5aはアセトキシ基、アジド基、クロル原子、Ｃ_1-6アルキルアミノ基（このアルキル基の１以上の水素原子は、水酸基、フェニル基、ビニル基、アミノ基またはヒドロキシメチル基で置換されていてもよい）を表し、Ｍはリチウム、ナトリウム、セシウム、水素原子を表す）とを反応させることにより達成される。

脱離基の導入工程で使用される溶媒としては例えば塩化メチレン、クロロホルム、１，２−ジクロルエタン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、酢酸エチルなどを挙げることができ、好ましくは、塩化メチレンである。使用される塩基としてはピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、４−ジメチルアミノピリジンなどを挙げることができ、好ましくは、４−ジメチルアミノピリジンである。反応温度は通常０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜２４時間である。

置換反応の工程で使用される溶媒としては、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどが挙げられ、好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。反応温度は６０℃〜９０℃で行われる。反応時間は１〜１２時間である。

第Ｍ３工程
第Ｍ３工程は、一般式（Ｍ３）で表される化合物の水酸基の保護基を除去し、次いで１位アミノ基の保護基を除去する工程である。この工程は、一般式（Ｍ３）で表される化合物と塩基とを反応させ、次いで得られた化合物と還元剤とを反応させることにより達成される。

水酸基の脱保護工程で使用される溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール、塩化メチレン、クロロホルムおよびこれらの混合溶媒などが挙げられ、好ましくは、メタノールと塩化メチレンの混合溶剤である。使用される塩基としては炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ｔｅｒｔ−ＢｕＯＫなどが挙げられ、好ましくは、ナトリウムメトキシドである。反応温度は０℃〜６０℃で行われる。反応時間は１〜８時間で行われる。

アミノ基の脱保護工程で使用される還元剤としては、水素およびパラジウム−炭素、パラジウムブラック、水酸化パラジウム、酸化白金などのような接触水素還元触媒あるいは金属ナトリウム、金属リチウムなどが挙げられ、一般式（Ｍ３）で表される化合物の点線が二重結合を表す場合には金属ナトリウムが好適であり、点線が単結合を表す場合には水素およびパラジウム−炭素触媒が好ましい。使用される溶媒としては接触水素還元の場合にはメタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、水またはこれらの有機溶媒と水との混合溶媒などが挙げられ、金属ナトリウムを用いる場合には液体アンモニアが好ましい。反応温度は−６０℃〜３０℃で行われる。反応時間は通常１〜８時間である。

第Ｍ４工程
第Ｍ４工程は、一般式（Ｍ４）で表される化合物の１位アミノ基に側鎖を導入し、一般式（Ｍ５）（ここでＡはｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル基、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基を表す）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、縮合剤の存在下、一般式（Ｍ４）で表される化合物とカルボン酸、ＡＮＨ（ＣＨ_２）ｎＣＨ（ＯＨ）ＣＯＯＨ（ここでＡは前記と同一の意味を表し、ｎは１〜３の整数を表す）とを縮合反応させるか、あるいは縮合剤を使用せずに一般式（Ｍ４）で表される化合物とカルボン酸、ＡＮＨ（ＣＨ_２）ｎＣＨ（ＯＨ）ＣＯＯＨ（ここでＡは前記と同一の意味を表す）の誘導体とを反応させることにより達成される。

本工程で使用される縮合剤としては、例えば、ジシクロヘキシルカルボジイミド、ジイソプロピルカルボジイミド、Ｎ−エチル−Ｎ’−３−ジメチルアミノプロピルカルボジイミドなどのカルボジイミド類、またはこれらの縮合剤に添加剤として１−オキソベンゾトリアゾール、３−ヒドロキシ−４−オキソ−３、４−ジヒドロ−１，２，３−ベンゾトリアジンなどを加えたものが挙げられる。使用されるカルボン酸誘導体としてはＮ−ヒドロキシフタルイミドエステル、Ｎ−ヒドロキシコハク酸イミドエステル、ｐ−ニトロフェニルエステル、ペンタフルオロフェニルエステルなどが挙げられ、好ましくは、Ｎ−ヒドロキシコハク酸イミドエステルである。使用される溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、塩化メチレン、クロロホルム、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどが挙げられ、好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜１２時間である。

第Ｍ５工程
第Ｍ５工程は、一般式（Ｍ５）で表される化合物の保護基を除去し、一般式（Ｍ６）で表される化合物を製造する工程である。保護基の除去は前述の第Ａ８工程と同様の条件で行うことができる。

Ｎ法
Ｎ法は、一般式（Ｎ１）で表される化合物の３”位に置換基Ｒ^3”aを導入し、次いで５位アキシアルに置換基Ｒ^5aを導入することにより、一般式（Ｎ６）で表される化合物を製造する方法であり、以下に示す工程を経て製造される。出発原料である式（Ｎ１）で表される化合物は特開昭５５−１６４６９６号公報に記載された方法で製造することができる。

第Ｎ１工程
第Ｎ１工程は、一般式（Ｎ１）で表される化合物の３”位アミノ基にベンジル基を導入する工程である。この工程は、塩基存在下、一般式（Ｎ１）で表される化合物とベンジルブロマイドとを反応させることにより達成される。また、本工程は、還元剤の存在下、一般式（Ｎ１）で表される化合物とベンズアルデヒドと反応させることによっても達成される。

本工程で使用される溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、塩化メチレンなどが挙げられ、好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。使用される塩基としては、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、トリエチルアミン、４−ジメチルアミノピリジンなどが挙げられ、好ましくは、炭酸カリウムである。反応温度は２０℃〜６０℃で行われる。反応時間は１〜１２時間である。

第Ｎ２工程
第Ｎ２工程は、一般式（Ｎ２）で表される化合物の３”位アミノ基に置換基を導入し、一般式（Ｎ３）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、一般式（Ｎ２）で表される化合物とＲ⁰¹ＣＨＯ（ここでＲ⁰¹は水素原子、Ｃ_１−５アルキル基を表す）とを還元剤の存在下反応させることにより達成される。

本工程で使用される還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム、シアン化水素化ホウ素ナトリウム、シアン化水素化ホウ素リチウム、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウムなどが挙げられ、好ましくは、水素化ホウ素ナトリウムである。使用される溶媒としてはメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ジオキサン、水またはこれらの混合溶媒などが挙げられ、好ましくは、メタノールとジオキサンの混合溶媒である。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜８時間である。

第Ｎ３工程
第Ｎ３工程は、一般式（Ｎ３）で表される化合物の３”位ベンジル基をｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基に変換する工程である。この工程は、一般式（Ｎ３）で表される化合物とジ−ｔｅｒｔ−ブチルジカルボネートと還元剤とを反応させることにより達成される。

本工程で使用される溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサン、テトラヒドロフランまたはこれらの有機溶剤と水との混合溶剤などが挙げられ、好ましくは、水とテトラヒドロフランの混合溶媒である。使用される還元剤としては水素とともに用いられるパラジウム-炭素、パラジウムブラック、水酸化パラジウム、酸化白金などの接触水素還元触媒が挙げられ、好ましくは、水素およびパラジウム-炭素である。反応温度は１０℃〜３０℃で行われる。反応時間は通常１〜８時間である。

第Ｎ４工程
第Ｎ４工程は、一般式（Ｎ４）で表される化合物の５位水酸基に脱離基を導入し、次いで置換反応することにより一般式（Ｎ５）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、塩基の存在下、一般式（Ｎ４）で表される化合物とＷＳＯ_２Ｃｌ（ここでＷはメチル、フェニル、ｐ−トリル基を表す）とを反応させ５位に置換スルホニルオキシ基を有する化合物を合成し、次いで得られた化合物とＲ^5aＭ（ここでＲ^5aはアセトキシ基、アジド基、クロル原子、ブロム原子、Ｃ_1-6アルキルアミノ基（このアルキル基の１以上の水素原子は、水酸基、フェニル基、ビニル基、アミノ基またはヒドロキシメチル基で置換されていてもよい）を表し、Ｍはリチウム、ナトリウム、セシウム、水素原子を表す）とを反応させることにより達成される。

脱離基の導入工程で使用される溶媒としては、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、１，２−ジクロルエタン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、酢酸エチルなどを挙げることができ、好ましくは、塩化メチレンである。使用される塩基としては、ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、４−ジメチルアミノピリジンなどを挙げることができ、好ましくは、４−ジメチルアミノピリジンである。反応温度は通常０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜２４時間である。

置換反応の工程で使用される溶媒としては、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどが挙げられ、好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。反応温度は６０℃〜９０℃で行われる。反応時間は１〜１２時間である。

第Ｎ５工程
第Ｎ５工程は、一般式（Ｎ５）で表される化合物の保護基を除去し、一般式（Ｎ６）で表される化合物を製造する工程である。保護基の除去は前述の第Ａ８工程と同様の条件で行うことができる。

Ｏ法
Ｏ法は、一般式（Ｏ１）で表される化合物の６’位に側鎖を導入し、次いで５位アキシアルに置換基Ｒ^5aを導入することにより、一般式（Ｏ９）で表される化合物を製造する方法であり、以下に示す工程を経て製造される。出発原料である一般式（Ｏ１）で表される化合物は前述のＧ法の第Ｇ１工程に従い製造することができる。

第Ｏ１工程
第Ｏ１工程は、一般式（Ｏ１）で表される化合物の４”、６”位に保護基を導入し、次いで６’位の保護基を除去する工程である。この工程は、酸存在下、一般式（Ｏ１）で表される化合物とＥ_２ＣＯあるいはＥ_２Ｃ（ＯＭe）_２（ここでＥは水素原子、メチル基、フェニル基あるいはＥ_２Ｃとしてシクロヘキシル基を表す）を反応させ、次いで還元剤と反応させることにより達成される。

保護工程で使用される溶媒としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、塩化メチレン、酢酸エチルなどが挙げられ、好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。使用される酸としてはｐ−トルエンスルホン酸、ピリジニウム ｐ−トルエンスルホネート、カンファースルホン酸、塩酸などが挙げられ、好ましくは、ｐ−トルエンスルホン酸である。反応温度は２０℃〜５０℃で行われる。反応時間は１〜８時間である。

脱保護工程で使用される還元剤としては、水素とともに用いられるパラジウム-炭素、パラジウムブラック、水酸化パラジウム、酸化白金などの接触水素還元触媒が挙げられ、好ましくは、水素およびパラジウム-炭素である。使用される溶媒としては本反応に関与しないものであれば特に限定はないが、好ましくは、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサンまたはこれらの有機溶剤と水との混合溶剤である。反応温度は１０℃〜３０℃であり、反応時間は通常１〜８時間である。

第Ｏ２工程
第Ｏ２工程は、一般式（Ｏ２）で表される化合物の６’位アミノ基をアルデヒドに酸化する工程である。この工程は、塩基存在下、一般式（Ｏ２）で表される化合物と酸化剤とを反応させることにより達成される。

本工程で使用される溶媒としては、好ましくは、水とクロロホルムの混合溶媒である。使用される酸化剤としては好ましくは、ニンヒドリンである。使用される塩基としては炭酸水素ナトリウムである。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１２〜４８時間である。

第Ｏ３工程
第Ｏ３工程は、一般式（Ｏ４）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、一般式（Ｏ３）で表される化合物とニトロメタンを塩基存在下反応させることにより達成される。本工程で使用される溶媒としてはメタノール、エタノール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール、塩化メチレン、ジクロロエタンおよびこれらの混合溶媒が挙げられ、好ましくは、メタノールと塩化メチレンの混合溶媒である。使用される塩基としては、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ｔｅｒｔ−ＢｕＯＫなどが挙げられ、好ましくは、ナトリウムメトキシドである。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜６時間である。

第Ｏ４工程
第Ｏ４工程は、一般式（Ｏ５）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、一般式（Ｏ４）で表される化合物と還元剤とを反応させることにより達成される。本工程で使用される還元剤としては、水素およびパラジウム-炭素、パラジウムブラック、水酸化パラジウム、酸化白金などの接触水素還元触媒が挙げられ、好ましくは、水素および酸化白金である。使用される溶媒としては本反応に関与しないものであれば特に限定はないが、好ましくは、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサンまたはこれらの有機溶剤と水との混合溶剤である。反応温度は１０℃〜３０℃であり、反応時間は通常１〜８時間である。

第Ｏ５工程
第Ｏ５工程は、一般式（Ｏ５）で表される化合物の保護基を除去し、式（Ｏ６）で表される化合物を製造する工程である。保護基の除去は前述の第Ａ８工程と同様の条件で行うことができる。

第Ｏ６工程
第Ｏ６工程は、式（Ｏ６）で表される化合物の５位を除くすべての水酸基およびアミノ基に保護基を導入する工程である。この工程は、はじめに塩基存在下、式（Ｏ６）で表される化合物とＡ_２ＯあるいはＡＣｌ（ここでＡはｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル基、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基を表す）を反応させアミノ基に保護基を導入し、次いで塩基存在下、Ｂ_２ＯあるいはＢＣｌ（Ｂとしてはアセチル基、ベンゾイル基を表す）と反応させることにより水酸基に保護基を導入することにより達成される。

アミノ基の保護工程で使用される溶媒としては、水、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、ジオキサンおよびこれらの混合溶剤が挙げられ、好ましくは、水とＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドとの混合溶剤である。使用される塩基としては水酸化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、トリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジンを挙げることができ、好ましくは、トリエチルアミンである。反応温度は０℃〜４０℃で行われる。反応時間は１〜２４時間である。

水酸基の保護工程で使用される溶媒としては、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、塩化メチレン、クロロホルムなどが挙げられ、好ましくは、ピリジンである。使用される塩基としてはトリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジンなどが挙げられ、好ましくは、ピリジンである。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜８時間である。

第Ｏ７工程
第Ｏ７工程は、一般式（Ｏ７）で表される化合物の５位水酸基に脱離基を導入し、次いで置換反応することにより一般式（Ｏ８）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、塩基の存在下、一般式（Ｏ７）で表される化合物とＷＳＯ_２Ｃｌ（ここでＷはメチル、フェニル、ｐ−トリル基を表す）とを反応させ、５位に置換スルホニルオキシ基を有する化合物を合成し、次いで得られた化合物とＲ^5aＭ（ここでＲ^5aはアセトキシ基、アジド基、クロル原子、ブロム原子、Ｃ_1-6アルキルアミノ基（このアルキル基の１以上の水素原子は、水酸基、フェニル基、ビニル基、アミノ基またはヒドロキシメチル基で置換されていてもよい）を表し、Ｍはリチウム、ナトリウム、セシウム、水素原子を表す）とを反応させることにより達成される。

脱離基の導入工程で使用される溶媒としては、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、１，２−ジクロルエタン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、酢酸エチルなどを挙げることができ、好ましくは、塩化メチレンである。使用される塩基としてはピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、４−ジメチルアミノピリジンなどを挙げることができ、好ましくは、４−ジメチルアミノピリジンである。反応温度は通常０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜２４時間である。

置換反応の工程で使用される溶媒としては、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどが挙げられ、好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。反応温度は６０℃〜９０℃で行われる。反応時間は１〜１２時間である。

第Ｏ８工程
第Ｏ８工程は、一般式（Ｏ８）で表される化合物の保護基を除去し、一般式（Ｏ９）で表される化合物を製造する工程である。保護基の除去は前述の第Ａ８工程と同様の条件で行うことができる。

Ｐ法
Ｐ法は、一般式（Ｐ１）で表される化合物の６”位水酸基を還元し、次いで５位アキシアルに置換基Ｒ^5aを導入することにより、一般式（Ｐ６）で表される化合物を製造する方法であり、以下に示す工程を経て製造される。出発原料である一般式（Ｐ１）で表される化合物は、前述のＡ法の第Ａ１工程に従い製造することができる。

第Ｐ１工程
第Ｐ１工程は、一般式（Ｐ１）で表される化合物の５位を除く水酸基に保護基を導入する工程である。この工程は、酸存在下、一般式（Ｐ１）で表される化合物とＰｈＣＨ（ＯＲ⁰⁶）_２（ここでＲ⁰⁶はメチル基、エチル基を表す）とを反応させ４”位、６”位を保護し、次いで塩基存在下、Ｂ_２ＯあるいはＢＣｌ（Ｂはアセチル基、ベンゾイル基を表す）と反応させ２”位、２’’’位を保護することにより達成される。

４”位、６”位保護工程で使用される溶媒としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、塩化メチレン、酢酸エチルなどが挙げられ、好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。使用される酸としてはｐ−トルエンスルホン酸、ピリジニウム ｐ−トルエンスルホネート、カンファースルホン酸、塩酸などが挙げられ、好ましくは、ｐ−トルエンスルホン酸である。反応温度は０℃〜１０℃で行われる。反応時間は１〜８時間である。

２”位、２’’’位保護工程で使用される溶媒としては、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、塩化メチレン、クロロホルムなどが挙げられ、好ましくは、ピリジンである。使用される塩基としてはトリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジンなどが挙げられ、好ましくは、ピリジンである。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜８時間である。

第Ｐ２工程
第Ｐ２工程は、一般式（Ｐ３）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、一般式（Ｐ２）で表される化合物とハロゲン化剤とを反応させることにより達成される。本工程で使用される溶媒としては、好ましくは、四塩化炭素である。使用されるハロゲン化剤としてはＮ−ブロモコハク酸イミドである。反応温度は２０℃〜６０℃で行われる。反応時間は１〜１２時間である。

第Ｐ３工程
第Ｐ３工程は、一般式（Ｐ４）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、遊離基開始剤の存在下、一般式（Ｐ３）で表される化合物と還元剤とを反応させるかあるいは接触水素還元することにより達成される。

本工程において使用される還元剤としては、例えば水素化トリ−ｎ−ブチルスズ、水素化ジ−ｎ−ブチルスズ、水素化トリエチルスズ、水素化トリフェニルスズなどが挙げられ、好ましくは、水素化トリ−ｎ−ブチルスズである。使用される遊離基開始剤としてはアゾビスイソブチルニトリルが挙げられる。使用される溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ベンゼン、トルエンなどが挙げられ、好ましくは、ジオキサンである。反応温度は２０℃〜１２０℃で行われる。反応時間は１〜８時間である。

接触水素還元で使用される触媒としては、パラジウム-炭素、パラジウムブラック、水酸化パラジウム、酸化白金などが挙げれ、好ましくは、パラジウム-炭素である。使用される溶媒としては本反応に関与しないものであれば特に限定はないが、好ましくは、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサンまたはこれらの有機溶剤と水との混合溶剤である。反応温度は１０℃〜３０℃であり、反応時間は通常１〜８時間である。

第Ｐ４工程
第Ｐ４工程は、一般式（Ｐ４）で表される化合物の５位水酸基に脱離基を導入し、次いで置換反応することにより一般式（Ｐ５）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、塩基の存在下、一般式（Ｐ４）で表される化合物とＷＳＯ_２Ｃｌ（ここでＷはメチル、フェニル、ｐ−トリル基を表す）とを反応させ５位に置換スルホニルオキシ基を有する化合物を合成し、次いで得られた化合物とＲ^5aＭ（ここでＲ^5aはアセトキシ基、アジド基、クロル原子、ブロム原子、Ｃ_1-6アルキルアミノ基（このアルキル基の１以上の水素原子は、水酸基、フェニル基、ビニル基、アミノ基またはヒドロキシメチル基で置換されていてもよい）を表し、Ｍはリチウム、ナトリウム、セシウム、水素原子を表す）とを反応させることにより達成される。

脱離基の導入工程で使用される溶媒としては、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、１，２−ジクロルエタン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、酢酸エチルなどを挙げることができ、好ましくは、塩化メチレンである。使用される塩基としてはピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、４−ジメチルアミノピリジンなどを挙げることができ、好ましくは、４−ジメチルアミノピリジンである。反応温度は通常０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜２４時間である。

置換反応の工程で使用される溶媒としては、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどが挙げられ、好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。反応温度は６０℃〜９０℃で行われる。反応時間は１〜１２時間である。

第Ｐ５工程
第Ｐ５工程は、一般式（Ｐ５）で表される化合物の保護基を除去し、一般式（Ｐ６）で表される化合物を製造する工程である。保護基の除去は前述の第Ａ８工程と同様の条件で行うことができる。

Ｑ法
Ｑ法は、一般式（Ｑ１）で表される化合物の６”位に側鎖Ｒ^6”a（ここでＲ^6”aは2−アミノ−１−ヒドロキシエチル基を表す）を導入し、一般式（Ｑ７）で表される化合物を製造する方法であり、以下に示す工程を経て製造される。出発原料である一般式（Ｑ１）で表される化合物は前述のＪ法の第Ｊ１〜Ｊ２工程に従い製造することができる。

第Ｑ１工程
第Ｑ１工程は、一般式（Ｑ１）で表される化合物の水酸基の保護基を除去する工程である。この工程は、一般式（Ｑ１）で表される化合物と塩基とを反応させることにより達成される。本工程で使用される溶媒としてはメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール、塩化メチレン、クロロホルムおよびこれらの混合溶媒などが挙げられ、好ましくは、メタノールと塩化メチレンの混合溶剤である。使用される塩基としては炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ｔｅｒｔ−ＢｕＯＫなどが挙げられ、好ましくは、ナトリウムメトキシドである。反応温度は０℃〜６０℃で行われる。反応時間は１〜８時間で行われる。

第Ｑ２工程
第Ｑ２工程は、一般式（Ｑ２）で表される化合物の６”位水酸基をトリフェニルメチル基あるいはシリル基で保護し、次いで残りの水酸基をアシル基で保護することにより、一般式（Ｑ３）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、塩基の存在下、一般式（Ｑ２）で表される化合物とＲ¹³Ｃｌ（Ｒ¹³はトリフェニルメチル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基を表す）とを反応させ、次いで塩基存在下、Ｂ_２ＯあるいはＢＣｌ（Ｂとしてはアセチル基、ベンゾイル基を表す）と反応させることにより達成される。

トリフェニルメチル基導入工程で使用される溶媒としては、塩化メチレン、アセトニトリル、ピリジンなどが挙げられ、好ましくは、ピリジンである。使用される塩基としてはトリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジンなどが挙げられ、好ましくは、ピリジンである。反応温度は２０℃〜８０℃で行われる。反応時間は通常２〜１０時間である。

シリル基導入工程で使用される溶媒としては、好ましくは、塩化メチレン、クロロホルム、ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、ピリジンなどである。塩基としては４−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、イミダゾール、ジイソプロピルエチルアミンなどが挙げられ、好ましくは、４−ジメチルアミノピリジンである。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜１２時間である。

アシル基導入工程で使用される溶媒としては、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、塩化メチレン、クロロホルムなどが挙げられ、好ましくは、ピリジンである。使用される塩基としてはトリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジンなどが挙げられ、好ましくは、ピリジンである。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜８時間である。

第Ｑ３工程
第Ｑ３工程は、一般式（Ｑ３）で表される化合物の６”位水酸基の保護基であるトリフェニルメチル基またはシリル基除去し、一般式（Ｑ４）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、一般式（Ｑ３）で表される化合物と、酸または塩基とを反応させることにより達成される。

トリフェニルメチル基の脱保護工程で使用される溶媒としては、ジエチルエーテル、テラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、水などが挙げられ、好ましくは、ジエチルエーテルである。使用される酸としてはギ酸、酢酸、などが挙げられ、好ましくは、ギ酸である。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜８時間である。

シリル基の脱保護工程で使用される溶媒としては好ましくは、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、塩化メチレンなどである。使用される脱保護の試薬としてはテトラブチルアンモニウムフルオライド、フッ化水素−ピリジン、フッ化水素−トリエチルアミン、フッ化水素などである。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜１２時間である。

第Ｑ４工程
第Ｑ４工程は、一般式（Ｑ４）で表される化合物の６”位水酸基をアルデヒドに酸化する工程である。この工程は、一般式（Ｑ３）で表される化合物と酸化剤を反応させることにより達成される。

本工程で使用される溶媒としては、好ましくは、ピリジンである。使用される酸化剤としてはジメチルスルホキシド、ジシクロヘキシルカルボジイミドおよび水素供与体である。ここで、水素供与体としてはリン酸、トリフルオロ酢酸が挙げられ、好ましくは、トリフルオロ酢酸である。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は６〜２４時間である。

第Ｑ５工程
第Ｑ５工程は、一般式（Ｑ６）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、一般式（Ｑ５）で表される化合物とニトロメタンを塩基存在下反応させ、次いで生成するニトロ体と還元剤とを反応させることにより達成される。

ニトロメタンとの反応工程で使用される溶媒としては、メタノール、エタノール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール、塩化メチレン、１，２−ジクロルエタンおよびこれらの混合溶媒が挙げられ、好ましくは、メタノールと塩化メチレンの混合溶媒である。使用される塩基としては、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ｔｅｒｔ−ＢｕＯＫなどが挙げられ、好ましくは、ナトリウムメトキシドである。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜６時間である。

還元工程で使用される還元剤としては、水素とともに用いられるパラジウム-炭素、パラジウムブラック、水酸化パラジウム、酸化白金などの接触水素還元触媒または鉄が挙げられ、一般式（Ｑ５）で表される化合物の点線が単結合を表す場合には、水素および酸化白金が好ましく、点線が二重結合を表す場合には鉄が好ましい。使用される溶媒としては、本反応に関与しないものであれば特に限定はないが、好ましくは、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサン、酢酸またはこれらの有機溶剤と水との混合溶剤である。反応温度は０℃〜３０℃であり、反応時間は通常１〜８時間である。

第Ｑ６工程
第Ｑ６工程は、一般式（Ｑ６）で表される化合物の保護基を除去し、一般式（Ｑ７）で表される化合物を製造する工程である。保護基の除去は前述の第Ａ８工程と同様の条件で行うことができる。

本発明の第二の態様による一般式（ＩＩ）で表される化合物は、以下のＲの方法に従って製造することができる。
Ｒ法
Ｒ法は、一般式（Ｒ１）で表される化合物の５位アキシアルに置換基を導入し、一般式（Ｒ４）で表される化合物を製造する方法であり、以下に示す工程を経て製造される。出発原料である一般式（Ｒ１）で表される化合物は前述のＪ法の第Ｊ１工程に従い製造することができる。

第Ｒ１工程
第Ｒ１工程は、一般式（Ｒ２）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、一般式（Ｒ１）で表される化合物と酸化剤とを反応させることにより達成される。本工程で使用される酸化剤としては、好ましくは、ジメチルスルホキシドと無水酢酸の組み合わせである。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は４８〜７２時間である。

第Ｒ２工程
第Ｒ２工程は、一般式（Ｒ３）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、一般式（Ｒ２）で表される化合物とＲ⁰⁷ＭｇＸ（ここでＲ⁰⁷は、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基を表し、Ｘはハロゲンを表す）とを反応させるか、またはジアゾメタンと反応させ、次いで得られたエポキシ体とＮａＮ₃、Ｒ⁰⁸ＮＨ_２（ここでR⁰⁸はＣ_１−６のアルキル基（このアルキル基の１以上の水素原子はアミノ基、水酸基で置換されていてもよい）、アラルキル基を表す）、Ｒ⁰⁹ＯＮａ（ここで、Ｒ⁰⁹はＣ_１−６アルキル基を表す）とを反応させることにより達成される。ＮａＮ₃との反応で得られたアジド体は、さらに還元剤と反応させることによりアミノ体に変換することができる。

Ｒ⁰⁷ＭｇＸとの反応工程で使用される溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジオキサン、ベンゼン、トルエンなどが挙げられ、好ましくは、テトラヒドロフランである。反応温度は−４０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜８時間である。

ジアゾメタンとの反応工程で使用される溶媒としては、メタノール、エタノール、塩化メチレン、ジクロロエタンなどが挙げられ、好ましくは、メタノールである。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜４時間である。

ＮａＮ_３、Ｒ⁰⁸ＮＨ_２、Ｒ⁰⁹ＯＮａとの反応工程で使用される溶媒としては、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、メタノール、エタノールなどが挙げられ、好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。反応温度は０℃〜８０℃で行われる。反応時間は１〜１２時間である。

アジド体を還元する工程で使用される還元剤としては、水素とともに用いるパラジウム-炭素、パラジウムブラック、水酸化パラジウム、酸化白金などの水素接触水素還元触媒を挙げることができ、好ましくは、水素およびパラジウム-炭素である。溶媒としては本反応に関与しないものであれば特に限定はないが、好ましくは、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサンまたはこれらの有機溶剤と水との混合溶剤である。反応温度は１０℃〜３０℃であり、反応時間は通常１〜８時間である。

第Ｒ３工程
第Ｒ３工程は、一般式（Ｒ３）で表される化合物の保護基を除去し、一般式（Ｒ４）で表される化合物を製造する工程である。保護基の除去は前述の第Ａ８工程と同様の条件で行うことができる。

本発明の第三の態様による一般式（ＩＩＩ）で表される化合物は、以下のＳ〜Ｘの方法に従って製造することができる。

Ｓ法
Ｓ法は、一般式（Ｓ１）で表される化合物の３”位に置換基Ｒ^3”cを導入し、一般式（Ｓ３）で表される化合物を製造する方法であり、以下に示す工程を経て製造される。これらの製造法について、各工程毎にその詳細を説明する。また、一般式（Ｓ３）で表される化合物は、前述の一般式（Ｎ４）で表される化合物の保護基を除去することによっても製造することができる。

第Ｓ１工程
第Ｓ１工程は、一般式（Ｓ１）で表される化合物の３”位アミノ基に置換基Ｒ^3”cを導入し、一般式（Ｓ２）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、還元剤の存在下、一般式（Ｓ１）で表される化合物とＲ¹⁰ＣＨＯ（ここでＲ¹⁰はＣ_１−９アルキル基（このアルキル基の１以上の水素原子は水酸基で置換されていてもよい）、アリール基、アラルキル基を表す）とを反応させるか、塩基の存在下、Ｒ^１４Ｘ（ここで、Ｒ^１４はＣ_１−１０アルキル基（このアルキル基の１以上の水素原子は、水酸基、ＯＲ^１５（ここで、Ｒ^１５は、トリフェニルメチル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基、テトラヒドロピラニル基を表す）で置換されていてもよい）、またはアラルキル基を表す）と反応させるか、またはホルムイミドイル基、アミジノ基を導入するためにそれぞれイミドイル化剤、アミジノ化剤を反応させることにより達成される。

Ｒ¹⁰ＣＨＯとの反応工程において使用される還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム、シアン化水素化ホウ素ナトリウム、シアン化水素化ホウ素リチウム、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウムなどが挙げられ、好ましくは、水素化ホウ素ナトリウムである。使用される溶媒としてはメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ジオキサン、水またはこれらの混合溶媒などが挙げられ、好ましくは、メタノールとジオキサンの混合溶媒である。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜８時間である。

Ｒ^１４Ｘとの反応工程において使用される溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、水、またはこれらの混合溶媒などが挙げられ、好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドと水との混合溶媒である。使用される塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどが挙げられ、好ましくは、炭酸カリウムである。反応温度は、２０〜８０℃で行われる。反応時間は１〜１６時間である。

ホルムイミドイル基導入工程で使用されるイミドイル化剤としては、好ましくは、イミデート塩酸塩、ＥｔＯＣＨ＝ＮＨ・ＨＣｌである。使用される溶媒としては、塩化メチレン、ジクロロエタン、アセトニトリル、メタノール、エタノール、テトラヒドロフランなどが挙げられ、好ましくは、メタノールである。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜１２時間である。

アミジノ基導入工程で使用されるアミジノ化剤としては、好ましくは、１，３−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−２−メチル−２−チオシュードウレアである。溶媒としてはテトラヒドロフラン、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどが挙げられ、好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。使用される塩基としてはトリエチルアミンであり、添加剤としては塩化水銀が挙げられる。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜６時間である。

第Ｓ２工程
第Ｓ２工程は、一般式（Ｓ２）で表される化合物の保護基を除去し、一般式（Ｓ３）で表される化合物を製造する工程である。保護基の除去は、前述の第Ａ８工程と同様の条件で行うことができる。

Ｔ法
Ｔ法は、一般式（Ｔ１）で表される化合物の６’位に置換基Ｒ^6’Cを導入し、一般式（Ｔ４）で表される化合物を製造する方法であり、以下に示す工程を経て製造される。一般式（Ｔ１）で表される化合物は、前述のＧ法の第Ｇ１工程に従い製造することができる。

第Ｔ１工程
第Ｔ１工程は、一般式（Ｔ２）で表される化合物を製造する工程である。はじめに６’位の保護基を除去し、次いで還元剤の存在下、一般式（Ｔ１）で表される化合物とＲ¹¹ＣＨＯ（ここでＲ¹¹はＣ_１−５アルキル基（このアルキル基の１以上の水素原子は、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル基などで保護されたアミノ基で置換されていてもよい）、アリール基を表す）とを反応させるか、また、ホルムイミドイル基およびアミジノ基を導入する場合には、それぞれホルムイミドイル化剤、アミジノ化剤を反応させることにより達成される。

Ｒ¹¹ＣＨＯとの反応工程で使用される溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ジオキサン、水またはこれらの混合溶媒などが挙げられ、好ましくは、メタノールとジオキサンの混合溶媒である。使用される還元剤としては水素化ホウ素ナトリウム、シアン化水素化ホウ素ナトリウム、シアン化水素化ホウ素リチウム、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウムなどが挙げられ、好ましくは、水素化ホウ素ナトリウムである。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜８時間である。

ホルムイミドイル基導入工程で使用されるイミドイル化剤としては、好ましくは、イミデート塩酸塩、ＥｔＯＣＨ＝ＮＨ・ＨＣｌである。使用される溶媒としては、塩化メチレン、ジクロロエタン、アセトニトリル、メタノール、エタノール、テトラヒドロフランなどが挙げられ、好ましくは、メタノールである。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜１２時間である。

アミジノ基導入工程で使用されるアミジノ化剤としては、好ましくは、１，３−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−２−メチル−２−チオシュードウレアである。溶媒としてはテトラヒドロフラン、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどが挙げられ、好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。使用される塩基としてはトリエチルアミンであり、添加剤としては塩化水銀が挙げられる。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜６時間である。

第Ｔ２工程
第Ｔ２工程は、一般式（Ｔ２）で表される化合物の保護基を除去し、一般式（Ｔ３）で表される化合物を製造する工程である。保護基の除去は前述の第Ａ８工程と同様の条件で行うことができる。

Ｕ法
Ｕ法は、一般式（Ｕ１）で表される化合物の６’位に側鎖を導入し、一般式（Ｕ４）で表される化合物を製造する方法であり、以下に示す工程を経て製造される。出発原料である一般式（Ｕ１）で表される化合物は前述のＯ法の第Ｏ１〜Ｏ２工程に従い製造することができる。

第Ｕ１工程
第Ｕ１工程は、一般式（Ｕ２）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、一般式（Ｕ１）で表される化合物とPh₃P＝CHCNとを反応させるか、あるいは塩基存在下、（EtO）_２P（O）CH₂CNとを反応させることにより達成される。

Ph₃P＝CHCNとの反応工程で使用される溶媒としては、塩化メチレン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルム、ベンゼン、トルエンなどが挙げられ、好ましくは、クロロホルムである。反応温度は２０℃〜６０℃で行われる。反応時間は１〜２４時間である。（EtO）_２P（O）CH₂CNとの反応工程で使用される溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、ジオキサン、Ｎ．Ｎ−ジメチルホルムアミドなどが挙げられ、好ましくは、テトラヒドロフランである。使用される塩基としては水素化ナトリウム、水素化カリウム、ｔｅｒｔ−ＢｕＯＫなどが挙げられ、好ましくは、水素化ナトリウムである。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜８時間である。

第Ｕ２工程
第Ｕ２工程は、一般式（Ｕ３）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、一般式（Ｕ２）で表される化合物と還元剤とを反応させることにより達成される。本工程で使用される還元剤としては、水素とともに用いるパラジウム-炭素、パラジウムブラック、水酸化パラジウム、酸化白金などの接触水素還元触媒が挙げれ、好ましくは、水素および酸化白金である。使用される溶媒としては本反応に関与しないものであれば特に限定はないが、好ましくは、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサンまたはこれらの有機溶剤と水との混合溶剤である。反応温度は１０℃〜３０℃であり、反応時間は通常１〜８時間である。

第Ｕ３工程
第Ｕ３工程は、一般式（Ｕ３）で表される化合物の保護基を除去し、一般式（Ｕ４）で表される化合物を製造する工程である。保護基の除去は、前述の第Ａ８工程と同様の条件で行うことができる。

Ｖ法
Ｖ法は、一般式（Ｖ１）で表される化合物の６”位に側鎖を導入し、一般式（Ｖ６）で表される化合物を製造する方法であり、以下に示す工程を経て製造される。出発原料である一般式（Ｖ１）で表される化合物は前述のＡ法の第Ａ１工程に従い製造することができる。

第Ｖ１工程
第Ｖ１工程は、一般式（Ｖ１）で表される化合物の６”位水酸基をトリフェニルメチル基あるいはシリル基で保護し、次いで残りの水酸基をアシル基で保護することにより、一般式（Ｖ２）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、塩基の存在下、一般式（Ｖ１）で表される化合物とＲ¹³Ｃｌ（Ｒ¹³はトリフェニルメチル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基を表す）とを反応させ、次いで塩基存在下、Ｂ_２ＯあるいはＢＣｌ（Ｂとしてはアセチル基、ベンゾイル基を表す）と反応させることにより達成される。

トリフェニルメチル基導入工程で使用される溶媒としては、塩化メチレン、アセトニトリル、ピリジンなどが挙げられ、好ましくは、ピリジンである。使用される塩基としてはトリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジンなどが挙げられ、好ましくは、ピリジンである。反応温度は２０℃〜８０℃で行われる。反応時間は通常２〜１０時間である。

シリル基導入工程で使用される溶媒としては、好ましくは、塩化メチレン、クロロホルム、ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、ピリジンなどである。塩基としては４−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、イミダゾール、ジイソプロピルエチルアミンなどが挙げられ、好ましくは、４−ジメチルアミノピリジンである。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜１２時間である。

アシル基導入工程で使用される溶媒としては、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、塩化メチレン、クロロホルムなどが挙げられ、好ましくは、ピリジンである。使用される塩基としてはトリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジンなどが挙げられ、好ましくは、ピリジンである。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜８時間である。

第Ｖ２工程
第Ｖ２工程は、一般式（Ｖ２）で表される化合物の６”位水酸基の保護基であるトリフェニルメチル基あるいはシリル基を除去し、一般式（Ｖ３）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、一般式（Ｖ２）で表される化合物と酸あるいは塩基とを反応させることにより達成される。

トリフェニルメチル基の脱保護工程で使用される溶媒としては、ジエチルエーテル、テラヒドロフラン、水などが挙げられ、好ましくは、ジエチルエーテルである。使用される酸としてはギ酸、酢酸、などが挙げられ、好ましくは、ギ酸である。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜８時間である。

シリル基の脱保護工程で使用される溶媒としては好ましくは、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、塩化メチレンなどである。使用される脱保護の試薬としてはテトラブチルアンモニウムフルオライド、フッ化水素−ピリジン、フッ化水素−トリエチルアミン、フッ化水素などである。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜１２時間である。

第Ｖ３工程
第Ｖ３工程は、一般式（Ｖ３）で表される化合物の６”位水酸基をアルデヒドに酸化する工程である。この工程は、一般式（Ｖ３）で表される化合物と酸化剤を反応させることにより達成される。本工程で使用される溶媒としては、好ましくは、ピリジンである。使用される酸化剤としてはジメチルスルホキシド、ジシクロヘキシルカルボジイミドおよび水素供与体の組み合わせである。ここで、水素供与体としてはリン酸、トリフルオロ酢酸が挙げられ、好ましくは、トリフルオロ酢酸である。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は６〜２４時間である。

第Ｖ４工程
第Ｖ４工程は、一般式（Ｖ５）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、一般式（Ｖ４）で表される化合物とニトロメタンを塩基存在下反応させ、次いで生成するニトロ体と還元剤とを反応させることにより達成されるか、または、一般式（Ｖ４）で表される化合物とＲ¹²ＮＨ_２（ここでＲ¹²はＣ_１−６アルキル基（このアルキル基の１以上の水素原子はｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル基などで保護されたアミノ基で置換されていてもよい）を表す）またはモルホリンとを還元剤の存在下反応させることにより達成される。

ニトロメタンとの反応工程で使用される溶媒としてはメタノール、エタノール、ｔｅｒｔｅｒｔ−ブチルアルコール、塩化メチレン、ジクロロエタンおよびこれらの混合溶媒が挙げられ、好ましくは、メタノールと塩化メチレンの混合溶媒である。使用される塩基としては、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ｔｅｒｔ−ＢｕＯＫなどが挙げられ、好ましくは、ナトリウムメトキシドである。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜６時間である。次の還元工程で使用される還元剤としては、水素およびパラジウム-炭素、パラジウムブラック、水酸化パラジウム、酸化白金などの接触水素還元触媒が挙げられ、好ましくは、水素および酸化白金である。使用される溶媒としては本反応に関与しないものであれば特に限定はないが、好ましくは、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサンまたはこれらの有機溶剤と水との混合溶剤である。反応温度は１０℃〜３０℃であり、反応時間は通常１〜８時間である。

アミノ化合物との反応工程で使用される還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム、シアン化水素化ホウ素ナトリウム、シアン化水素化ホウ素リチウム、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウムなどが挙げられ、好ましくは、水素化ホウ素ナトリウムである。使用される溶媒としてはメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ジオキサン、水またはこれらの混合溶媒などが挙げられ、好ましくは、メタノールとジオキサンの混合溶媒である。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜８時間である。

第Ｖ５工程
第Ｖ５工程は、一般式（Ｖ５）で表される化合物の保護基を除去し、一般式（Ｖ６）で表される化合物を製造する工程である。保護基の除去は前述の第Ａ８工程と同様の条件で行うことができる。

Ｗ法
Ｗ法は、一般式（W１）で表される化合物の６”位に側鎖を導入し、一般式（Ｗ５）（ここでＲ^6”cはアジドメチル基、アミノメチル基を表す）で表される化合物を製造する方法であり、以下に示す工程を経て製造される。出発原料である一般式（Ｗ１）で表される化合物は前述のＡ法の第Ａ１工程に従い製造することができる。

第Ｗ１工程
第Ｗ１工程は、一般式（Ｗ２）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、一般式（Ｗ１）で表される化合物とＷＳＯ_２Ｃｌ（ここでＷはメチル、フェニル、ｐ−トリル基を表す）を反応させることにより達成される。

本工程で使用される溶媒としては、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、１，２−ジクロルエタン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、酢酸エチルなどを挙げることができ、好ましくは、塩化メチレンである。使用される塩基としてはピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、４−ジメチルアミノピリジンなどを挙げることができ、好ましくは、４−ジメチルアミノピリジンである。反応温度は通常０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜２４時間である。

第Ｗ２工程
第Ｗ２工程は、一般式（Ｗ２）で表される化合物の２”位、４”位、２’’’位水酸基に保護基を導入し、一般式（Ｗ３）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、塩基存在下、一般式（Ｗ２）で表される化合物とＢ_２ＯあるいはＢＣｌ（Ｂとしてはアセチル基、ベンゾイル基を表す）と反応させることにより達成される。

本工程で使用される溶媒としては、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、塩化メチレン、クロロホルムなどが挙げられ、好ましくは、ピリジンである。使用される塩基としてはトリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジンなどが挙げられ、好ましくは、ピリジンである。反応温度は０℃〜３０℃で行われる。反応時間は１〜８時間である。

第Ｗ３工程
第Ｗ３工程は、一般式（Ｗ４）で表される化合物を製造する工程である。この工程は、一般式（Ｗ３）で表される化合物とナトリウムアジドとを反応させ、次いで生成するアジド体と還元剤とを反応させることにより達成される。

アジド化工程で使用される溶媒としてはテトラヒドロフラン、ジオキサン、１，２ジメトキシエタン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどが挙げられ、好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。反応温度は６０℃〜９０℃で行われる。反応時間は１〜１２時間である。

還元工程で使用される還元剤としては、水素とともに用いるパラジウム-炭素、パラジウムブラック、水酸化パラジウム、酸化白金などの接触水素還元触媒を挙げられ、好ましくは、水素およびパラジウム-炭素である。使用される溶媒としては本反応に関与しないものであれば特に限定はないが、好ましくは、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサンまたはこれらの有機溶剤と水との混合溶剤である。反応温度は１０℃〜３０℃であり、反応時間は通常１〜８時間である。

第Ｗ４工程
第Ｗ４工程は、一般式（Ｗ４）で表される化合物の保護基を除去し、一般式（Ｗ５）で表される化合物を製造する工程である。保護基の除去は前述の第Ａ８工程と同様の条件で行うことができる。

塩
本発明による化合物は、塩として存在することができる。その塩としては例えば薬学的に許容な非毒性塩が挙げられる。それらの塩の具体例としてはフッ化水素酸、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸のようなハロゲン化水素酸塩、硫酸塩、硝酸塩、リン酸塩、過塩素酸塩、炭酸塩のような無機酸塩、酢酸、トリクロロ酢酸塩、トリフルオロ酢酸、ヒドロキシ酢酸、乳酸、クエン酸、酒石酸、シュウ酸、安息香酸、マンデル酸、酪酸、マレイン酸、プロピオン酸、蟻酸、リンゴ酸のようなカルボン酸塩、アルギニン酸、アスパラギン酸、グルタミン酸のようなアミノ酸塩、メタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸のような有機酸塩等が挙げられ、好ましい例としては硫酸塩などの無機酸塩である。

溶媒和物
また、本発明による化合物は、その溶媒和物として存在することができる。好ましい溶媒和物としては、水和物、エタノール和物が挙げられる。

抗菌作用
本発明による化合物またはそれらの薬理学的に許容されうる塩もしくは溶媒和物は、感染症の起因菌（ＭＲＳＡ、黄色ブドウ球菌、大腸菌、および緑膿菌等）に対して優れた抗菌活性を有し、したがって、抗菌剤、とりわけ、抗ＭＲＳＡ剤として用いることができる。したがって、本発明による別の態様によれば、抗菌剤の製造のための、本発明による化合物、またはそれらの薬理学的に許容されうる塩もしくは溶媒和物の使用が提供される。

医薬
本発明による化合物またはそれらの薬理学的に許容されうる塩もしくは溶媒和物は、医薬としても利用することができる。具体的には、本発明による化合物またはそれらの薬理学的に許容されうる塩もしくは溶媒和物は、感染症の予防または治療に用いることができる。感染症としては、例えば、敗血症、感染性心内膜炎、皮膚科領域感染症、外科感染症、整形外科領域感染症、呼吸器感染症、尿路感染症、腸管感染症、腹膜炎、髄膜炎、眼科領域感染症、耳鼻科領域感染症を挙げることができ、さらに具体的には、皮膚化膿疾患、熱傷・術創二次感染、肺炎、気管支内感染症、結核、腎盂腎炎、腸炎（食中毒を含む）、結膜炎、中耳炎等を挙げることができる。したがって、本発明の別の態様によれば、本発明による化合物またはそれらの薬理学的に許容されうる塩もしくは溶媒和物を含んでなる組成物、とりわけ、医薬組成物が提供される。さらに、本発明の別の態様によれば、本発明による化合物またはそれらの薬理学的に許容されうる塩もしくは溶媒和物を、ヒトを含む動物に投与することを含んでなる、感染症の予防または治療方法が提供される。また、本発明による別の態様によれば、医薬組成物の製造のための、本発明による化合物、またはそれらの薬理学的に許容されうる塩もしくは溶媒和物の使用が提供される。

本発明による化合物および薬理学的に許容されうる塩を有効成分とする医薬組成物は、経口または非経口（例えば、静注、筋注、皮下投与、直腸投与、経皮投与、眼局所投与、経肺投与）のいずれかの投与経路で、ヒトを含め全ての哺乳動物に投与することができる。従って、本発明による化合物を有効成分としてなる医薬組成物は、投与経路に応じて適当な剤形とされ、具体的には主として静注、筋注等の注射剤、カプセル剤、錠剤、顆粒剤、散剤、丸剤、細粒剤、トローチ剤等の経口剤、軟膏剤、点眼剤、乾燥粉末または霧状化エアロゾル処方物等のいずれかの製剤形態に調整することができる。これらの製剤は通常用いられている賦形剤、増量剤、結合剤、湿潤化剤、崩壊剤、界面活性化剤、滑沢剤、分散剤、緩衝剤、保存剤、溶解補助剤、防腐剤、矯味矯臭剤、無痛化剤、安定化剤、等張化剤、ｐＨ調整剤等製剤用添加剤を用いて常法により製造することができる。使用可能な無毒性の上記添加剤としては、例えば、乳糖、D-マンニトール、果糖、ブドウ糖、デンプン、ゼラチン、メチルセルロース、またはその塩、アラビアゴム、ポリエチレングリコール、シロップ、ワセリン、ラノリン、グリセリン、エタノール、プロピレングリコール、クエン酸、またはその塩、塩化ナトリウム、亜硫酸ソーダ、塩化ベンザルコニウム、リン酸ナトリウム、パラオキシ安息香酸メチル、パラオキシ安息香酸プロピル、β−シクロデキストリン、ヒドロキシプロピル−β−シクロデキストリン、Ｔｗｅｅｎ８０、水酸化ナトリウム、硫酸等が挙げられる。投与量は用法、患者の年齢、性別、症状の程度等を考慮して適宜決定される。

次に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
以下の実施例において、アルベカシン、３，２’，６’−トリ−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−４”’−Ｎ−ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニルアルベカシンおよび３，２’，６’−トリ−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−３”−トリフルオロアセチル−ジベカシンは、特開昭５５−１６４６９６号公報に記載の方法に従って合成したものである。また、２’，３，６’−トリ−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）−３”−Ｎ−トリフルオロアセチル−３’，４’−ジデヒドロジベカシンとは、３’，４’−ジデヒドロジベカシンを用いて、特開昭５５−１６４６９６号公報の方法に従って合成したものである。また、２’，３，６’−トリ−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）−３”−Ｎ−トリフルオロアセチル−３’，４’−ジデヒドロジベカシンとは、３’，４’−ジデヒドロジベカシンを用いて、特開昭５５−１６４６９６号公報の方法に従って合成したものである。また、３’，４’−ジデヒドロアルベカシンとは、特公昭６３−１０７１９号公報記載の方法に従って合成したものである。また、３，２’，６’，３”−テトラ−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−３’，４’−ジデヒドロ−４”’−ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニルアルベカシンとは、特開昭５５−８１８９７号公報の方法に従って合成したものである。

実施例１
５，４”−ジエピアルベカシン

製造工程１−（ａ）
アルベカシン１００ｇを４５０ｍＬの水に溶かした溶液に、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド９００ｍＬを加え、氷浴下でジｔ−ブチルジカルボネ−ト２５０ｇを加えて、室温にて一夜撹拌した。この反応液に酢酸エチルを加えた後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。この溶液を濃縮乾固し、固体として下記の化合物１８８ｇを得た。

製造工程１−（ｂ）
製造工程１−（ａ）にて得た上記の化合物４０ｇを、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド３６０ｍＬに溶解し、１，１−ジメトキシシクロヘキサン１１．６ｍＬおよびｐ−トルエンスルホン酸一水和物１．３ｇを加え、５０℃、４６〜４８ｍｂａｒにて、５時間反応させた。この溶液に酢酸エチルを加えた後、水で洗浄し、濃縮乾固して、下記の化合物４５ｇを得た。

FABMS:m/z1155[M＋Na]^＋,1171[M＋Na]^＋。

製造工程１−（ｃ）
製造工程１−（ｂ）にて得た上記の化合物２５ｇをピリジン５００ｍＬに溶解し、内温４〜６℃にてベンゾイルクロライドを２０分掛けて滴下した。この溶液の内温を４〜６℃に保ちながら２時間撹拌した後、室温まで昇温し、１時間撹拌した。この溶液に水０．７５ｍＬを加えた後、減圧濃縮し、残渣に酢酸エチルを加え、水、１０％硫酸水素カリウム水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮乾固して、下記の化合物３０ｇを得た。

FABMS:m/z1363[M＋Na]^＋,1379[M＋K]^＋。

製造工程１−（ｄ）
製造工程１−（ｃ）にて得た上記の化合物１１．６ｇを、塩化メチレン１５０ｍＬに溶解し、室温で４−ジメチルアミノピリジン１８ｇを加え、氷浴下メシルクロライド４．５ｍＬを加え、さらに氷浴下で１時間撹拌した後、室温まで昇温して４時間撹拌した。この反応液に、氷浴下で水１００ｍＬを加え、塩化メチレン２４０ｍＬを加えた。この溶液を、１０％硫酸水素カリウム水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。この溶液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−(ヘキサン：酢酸エチル＝１：１〜１：２)にて精製し、下記の化合物７．４ｇを得た。

製造工程１−（ｅ）
製造工程１−（ｄ）にて得た上記の化合物６．０ｇを、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド６０ｍＬに溶解した。この溶液に、検体乾燥機にて１２０℃で２時間乾燥させた酢酸セシウム６．４ｇを加え、１００℃で２時間反応させた。この溶液を室温まで冷やし、減圧濃縮した。残渣に塩化メチレン３００ｍＬを加え、水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。得た溶液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−(ヘキサン：酢酸エチル=１：１〜２：３)にて精製し、下記の化合物４．６ｇを得た。

FABMS:m/z1405[M＋Na]^＋,1421[M＋K]^＋。

製造工程１−（ｆ）
製造工程１−（ｅ）にて得た上記の化合物１．１３gを、塩化メチレン４０ｍＬ、メタノール４ｍＬの混合溶液に溶解し、９０％トリフルオロ酢酸水溶液４ｍＬを加えて１時間攪拌した。この反応液に水２０ｍＬを加え、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後減圧濃縮し、下記の化合物１．０３ｇを得た。

製造工程１−（ｇ）
製造工程１−（ｆ）にて得た上記の化合物１．０３gを、ピリジン８ｍＬに溶解し、トリフェニルメチルクロリド０．５６ｇを加えて６０℃で１晩攪拌した。この反応後、メタノ−ル０．１５ｍＬを加えて１時間攪拌した。この反応液を酢酸エチルで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後減圧濃縮し、下記の化合物０．９９ｇを得た。

FABMS:m/z:1567[M＋Na]^＋。

製造工程１−（ｈ）
製造工程１−（ｇ）にて得た上記の化合物０．８４ｇを、塩化メチレン８ｍＬにて溶解し、ピリジン０．５４ｍＬを加えた。−１８℃に冷却下、この溶液にトリフルオロメタンスルホン酸無水物０．２４ｍＬを加え、−５℃にて２時間攪拌した。この反応液にメタノールを６滴加えた後、酢酸エチルで抽出し、有機層を氷水、飽和炭酸水素ナトリウム水、および１０％硫酸水素カリウム水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後減圧濃縮し、さらにトルエンを加えて減圧濃縮した。得た残渣をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド９ｍＬに溶解した。この溶液に、検体乾燥機にて１２０℃で２時間乾燥させた酢酸セシウム０．５９gを加え、室温で２時間反応させた。この反応液を酢酸エチルで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、下記の化合物０．９３ｇを得た。

製造工程１−（ｉ）
製造工程１−（ｈ）にて得た上記の化合物０．９２ｇを、塩化メチレン１５ｍＬに溶解し、０．５Ｍナトリウムメトキシド−メタノール溶液５ｍＬを加えて室温で３時間攪拌した。反応液にドライアイスを加えて３０分攪拌後、減圧濃縮し、下記の化合物（０．７２ｇ）を粗精製物として得た。

製造工程１−（ｊ）
製造工程１−（ｉ）にて得た粗精製物０．７２ｇに、９０％トリフルオロ酢酸水１５ｍＬを加えて室温にて１晩攪拌した。この反応液に水１０ｍＬを加え、得た水層をジエチルエーテル５ｍＬで３回洗浄し、水層をアンモニア水でｐＨ７に中和し、さらにＢｉｏ−Ｒｅｘ７０(ＮＨ_４ ^＋，１１０ｍＬ，１００−２００ｍｅｓｈ)で精製して、標題の化合物：５，４”−ジエピアルベカシン（０．１６ｇ）を得た。
TSPMS:m/z553[M+H]⁺；
¹H-NMR(D₂O+ND₃ )δ：1.54 (1H, m),1.60 (1H, m),1.93 (4H, m),2.11 (1H, m),2.22 (1H, ddd, J=4.4, 4.6, 12.9 Hz)2.85 (2H, m),2.94 (2H, m),3.02 (1H, m),3.17(1H, dd, J=2.9, 10.7 Hz),3.41 (1H, m),3.67 (1H, dd, 2.4, 10.0 Hz),3.76 (1H, dd, J=3.9, 10.7 Hz),3.92 (2H, m),4.00 (1H, dd, J=2.6, 10.5 Hz),4.02 (1H, m),4.07 (1H, brd),4.27 (1H, m),4.38 (1H, dd, J=3.6, 9.2 Hz),4.46 (1H, m),4.75 (1H, dd, J=2.3 Hz),5.14 (1H, d, J=3.4 Hz),5.27 (1H, d, J=3.9 Hz)。

実施例２
５−デオキシ−４”−エピ−５−エピフルオロアルベカシン

製造工程２−（ａ）
実施例１の製造工程１−（ｂ）にて得た化合物２．５ｇを、ピリジン７．０ｍＬに溶解し、無水酢酸３．０ｍＬを加え、室温で１晩攪拌した。反応液を酢酸エチルで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン：酢酸エチル=1：２)で精製し、下記の化合物１．９ｇを得た。

ESIMS:m/z1217[M+H]⁺。

製造工程２−（ｂ）
製造工程２−（ａ）で得た上記の化合物１．０ｇを用いて、実施例１の製造工程１−（ｆ）の方法に従い、下記の化合物０．９１ｇを得た。

FABMS:m/z1159[M+Na]⁺

製造工程２−（ｃ）
製造工程２−（ｂ）で得た化合物２．４ｇを用いて、製造工程１−（ｇ）の方法に従い、下記の化合物２．２ｇを得た。

FABMS:m/z1379[M+H]⁺。

製造工程２−（ｄ）
製造工程２−（ｃ）で得た化合物０．７４ｇを用いて、実施例１−（ｈ）の方法に従い、下記化合物０．２５ｇを得た。

FABMS:m/z1443[M+Na]⁺。

製造工程２−（ｅ）
製造工程２−（ｄ）で得た化合物０．１８ｇを、塩化メチレン５．０ｍＬに溶解し、−５０℃に冷却下、三フッ化ジエチルアミノ硫黄（ＤＡＳＴ）を０．０５８ｍＬ加えた後、室温で３時間攪拌した。その後、氷冷下飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を５ｍＬ加え、５分間攪拌した後、酢酸エチルで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後減圧濃縮し、粗精製物として下記の化合物を得た。得た粗精製物は単離、精製することなく次の工程である製造工程２−（ｆ）に用いた。

製造工程２−（ｆ）
製造工程２−（ｅ）で得た粗精製物１７０ｍｇを用いて，実施例１の製造工程１−（ｉ） 、（ｊ）の方法に従い、標題の化合物：５−デオキシ−４”−エピ−５−エピフルオロアルベカシン（７．３ｍｇ）を得た。
FABMS:m/z555[M+H]⁺；
¹H-NMR(D₂O+ND₃)δ：1.88 (2H, m),2.12 (4H, m),2.20 (3H, m),2.37 (1H, m),2.52 (1H, m),3.12 (2H, m),3.23 (3H, m),3.40 (1H, dd, J=3.0, 10.7 Hz),3.66 (1H, m), 4.03 (1H, dd, J=3.9, 10.7 Hz),4.03 (1H, dd, J=10.3, 27.1 Hz),4.18 (2H, m),4.28 (1H, m),4.32 (1H, m),4.38 (1H, dd, J=11.0, 27.3 Hz),4.52 (1H, m),4.63 (1H, dd, J=3.6, 9.3 Hz),4.67 (1H, ddd, J=4.7, 11.0 Hz),5.43 (1H, d, J=3.2 Hz),5.52 (1H, d, J=3.6 Hz),5.88 (1H, d, J=52.2 Hz) 。

実施例３
５−デオキシ−４”−エピ−５−エピクロロアルベカシン

製造工程３−（ａ）
製造工程２−（ｄ）で得た化合物０．２８ｇを用い、製造工程１−（ｄ）の方法に従い、下記の化合物０．２１ｇを得た。

製造工程３−（ｂ）
製造工程３−（ａ）で得た化合物０．２１ｇを用いて、実施例１の製造工程１−（ｅ）の方法に従い、酢酸セシウムの代わりにリチウムクロライドを下記の化合物０．１３ｇを得た。

FABMS:m/z1461[M+Na]⁺,1477[M+K]⁺。

製造工程３−（ｃ）
製造工程３−（ｂ）で得た化合物１３０ｍｇを用いて、製造工程１−（ｉ） 、１−（ｊ）の方法に従い、標題の化合物： ５−デオキシ−４”−エピ−５−エピクロロアルベカシン（１４．０ｍｇ）を得た。
FABMS:m/z571[M+H]^+
1H-NMR(D₂O+ND₃)δ：1.60 (2H, m),1.92 (4H, m),2.11 (1H, m),2.26 (1H, m),2.85 (2H, m),2.98 (3H, m),3.16 (1H, dd, J=2.9, 10.7 Hz),3.52 (1H, m), 3.77 (1H, dd, J=3.9, 10.7 Hz),3.92 (3H, m),4.02 (1H, m),4.07 (1H, brd, J=2.9 Hz),4.24 (1H, dd, J=3.1, 10.5 Hz),4.33 (1H, m),4.38 (1H, dd, J=3.6, 9.2 Hz),4.53 (1H, m),5.10 (1H, d, J=3.4 Hz),5.23 (1H, brs, J=3.7 Hz) ,5.27 (1H, d, J=3.9 Hz)。

実施例４
５−デオキシ−４”−エピ−５−エピアジドアルベカシン

製造工程４−（ａ）
製造工程３−（ａ）で得た化合物１００mgを用いて、製造工程１−（ｅ）の方法に従い、酢酸セシウムの代わりにアジ化ナトリウムを用い、下記の化合物５７ｍｇを得た。

FABMS:m/z1446[M+H]⁺。

製造工程４−（ｂ）
製造工程１−（ｉ）および１−（ｊ）の方法に従い、上記４−（ａ）で得た化合物（５２mg）を用いて標題の化合物： ５−デオキシ−４”−エピ−５−エピアジドアルベカシン（６．３mg）を得た。
FABMS:m/z578[M+H]^+
1H-NMR(D₂O+ND₃)δ：1.54 (1H, m),1.60 (1H, m),1.92 (4H, m),2.12 (1H, m),2.19 (1H, ddd, J=4.5, 12.9 Hz),2.86 (2H, m),2.95 (2H, m),3.04 (1H, m),3.14 (1H, dd, J=3.0, 10.7 Hz),3.34 (1H, m), 3.78 (2H, m), 3.95 (2H, m),4.00 (1H, m),4.09 (2H, brd),4.24 (2H, m),4.37 (1H, dd, J=3.6, 9.3 Hz),4.46 (1H, ddd, J=3.6, 11.5 Hz),4.61 (1H, brs),5.16 (1H, d, J=3.4 Hz),5.30 (1H, d, J=3.9 Hz)。

実施例５
５−デオキシ−４”−エピ−５−エピアミノアルベカシン

製造工程５−（ａ）
実施例４で得た化合物：５−デオキシ−４”−エピ−５−エピアジドアルベカシン（８．３mg）を水５．０ｍＬに溶解し、アルゴン気流下１０％ Ｐｄ−Ｃ（８．０mg）を加えた後、水素置換を行い室温で５時間攪拌した。反応液をセライト濾過したのち、ＣＭ−Ｓｅｐｈａｄｅｘ（ＮＨ_４ ^＋）を用いて精製し、標題の化合物：５−デオキシ−４”−エピ−５−エピアミノアルベカシン（５．７mg）を得た。
FABMS:m/z552[M+H]^+
1H-NMR(D₂O+ND₃)：δ 1.57 (1H, m),1.62 (1H, m),1.97 (4H, m),2.15 (1H, m),2.23 (1H, m),2.89 (2H, m),2.98 (2H, m),3.05 (1H, m),3.20 (1H, dd, J=3.2, 11.0 Hz),3.47 (1H, ddd, J=4.4, 11.7 Hz), 3.74 (1H, dd, J=3.4, 10.3 Hz), 3.79 (1H, dd, J=3.9, 11.0 Hz),3.94 (2H, m),4.04 (2H, m),4.12 (2H, m),4.22 (1H, dd, J=6.1 Hz),4.41 (1H, dd, J=3.4, 9.3 Hz),4.52 (1H, ddd, J=3.6, 7.3 Hz),5.16 (1H, d, J=3.2 Hz),5.30 (1H, d, J=3.9 Hz)。

実施例６
５−デオキシ−４”−エピ−５−エピ（２−ヒドロキシエチル）アミノアルベカシン

製造工程６−（ａ）
製造工程３−（ａ）で得た化合物（１００mg）を用い、製造工程１−（ｅ）の方法に従い、酢酸セシウムの代わりに２−アミノエタノールを用いて、下式の化合物を粗精製物として得た。そして、この粗精製物を単離、精製することなく次の製造工程６−（ｂ）に用いた。

製造工程６−（ｂ）
製造工程１−（ｉ）および１−（ｊ）の方法に従い、製造工程６−（ａ）で得た化合物７２mgを用いて、標題の化合物：５−デオキシ−４”−エピ−５−エピ（２−ヒドロキシエチル）アミノアルベカシン（１３mg）を得た。
FABMS:m/z596[M+H]^+
1H-NMR(D₂O+ND₃)：δ1.56 (1H, m),1.65 (1H, m),1.99(4H, m),2.17 (1H, m),2.26 (1H, ddd, J=4.9, 13.2 Hz),2.90 (2H, m),3.00 (2H, m),3.08 (2H, m),3.17 (1H , m),3.27 (1H , m),3.46 (1H, m), 3.80 (1H, m), 4.00 (5H, m),4.13 (1H, m),4.15 (1H, dd, J=3.2, 11.0 Hz),4.27 (1H, dd, J=5.8, 5.9 Hz),4.41 (1H, dd, J=3.4, 9.2 Hz),4.65 (1H, ddd, J=4.2, 11.7 Hz),5.17 (1H, d, J=3.2 Hz),5.30 (1H, d, J=3.9 Hz)。

実施例７
４”−エピアルベカシン

製造工程７−（ａ）
製造工程１−（ｉ）および（ｊ）の方法に従い、製造工程２−（ｄ）で得た化合物７５mgを用いて標題の化合物：４”−エピアルベカシン（２４mg）を得た。

FABMS:m/z553[M+H]^+
1H-NMR(D₂O+ ND₃ )：δ1.70 (2H, m),1.90 (1H, m)2.00 (3H, m),2.19 (2H, m),2.92 (2H, m),3.02 (2H, m),3.12 (1H, ddd, J=3.7, 12.4 Hz),3.18 (1H, m),3.20 (1H, m),3.61 (1H, dd, J=9.1 Hz),3.85 (1H, dd, J=3.8, 10.7 Hz),3.97 (4H, m),4.13 (1H, m),4.16 (1H, brd),4.22 (1H, ddd, J=4.3, 9.7, 13.4 Hz),4.44 (1H, dd, J=3.6, 9.2 Hz),4.51 (1H, m)5.39 (1H, d, J=3.8 Hz),5.41 (1H, d, J=3.9 Hz)。

実施例８
４”−デオキシ−５−エピアルベカシン

製造工程８−（ａ）
製造工程２−（ｃ）で得た化合物５６０mgを用いて、製造工程２−（ｄ）の方法に従い、酢酸セシウムの代わりにリチウムクロリドを用いて、下記の化合物２８４mgを得た。

FABMS:m/z1435[M+K]⁺。

製造工程８−（ｂ）
製造工程８−（ａ）で得た化合物１４０mgをジオキサン７．０ｍＬに溶解し、水素化トリ−ｎ−ブチルスズ０．４３ｍＬ、アゾビスイソブチルニトリル１５mgを加え、８０℃で１晩攪拌した。反応液を減圧濃縮し残渣をヘキサンで洗浄後、分取−ＴＬＣ（ヘキサン：酢酸エチル＝５：７）で精製し下記の化合物１０９mgを得た。

FABMS:m/z1385[M+Na]⁺, 1401[M+K]⁺

製造工程８−（ｃ）
製造工程８−（ｂ）で得た化合物９５mgを用いて、製造工程１−（ｄ）の方法に従い、下式の化合物を粗精製物として得た。この化合物を単離、精製することなく次の工程に付した。

製造工程８−（ｄ）
製造工程８−（ｃ）で得た化合物を用いて、製造工程１−（ｅ）の方法に従い、下記の化合物２５mgを得た。

FABMS:m/z1427[M+Na]⁺。

製造工程８−（ｅ）
製造工程８−（ｄ）で得た化合物２５mgを用いて、製造工程１−（ｉ）および１−（ｊ）の方法に従い、標題の化合物：４”−デオキシ−５−エピアルベカシン（１０mg）を得た。
FABMS:m/z537[M+H]^+
1H-NMR(D₂O+ND₃)：δ1.30 (1H, m),1.40 (1H, m),1.47 (1H, m),1.78 (4H, m),1.91 (1H, m),2.00 (1H, m),2.08 (1H, m),2.72 (2H, m), 2.83 (2H, m),2.89 (1H, m),3.16 (1H, m),3.28 (1H, m),3.33 (1H, dd, J=3.8, 10.2 Hz),3.52 (1H, dd, J=2.2, 10.3 Hz),3.60 (1H, dd, J=7.6, 12.1 Hz),3.70 (1H, dd, J=2.7, 12.1 Hz),3.84 (1H, m),3.92 (1H, m),4.16 (1H, m),4.25 (1H, dd, J=3.6, 9.5 Hz),4.31 (1H, ddd, J=4.6, 12.2 Hz),4.57 (1H, brs),5.01 (1H, d, J=3.4 Hz) ,5.12 (1H, d, J=3.8 Hz)。

実施例９
１−Ｎ−［（Ｓ）−（３−アミノ−２−ヒドロキシプロパノイル）］−５，４”−ジエピジベカシン

製造工程９−（ａ）
３，２’，６’−トリ−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−３”−トリフルオロアセチル−ジベカシン５ｇを１，４−ジオキサン１００ｍＬ、水５０ｍＬに溶解し、トリエチルアミン０．４４ｍＬ、ベンジルオキシカルボニルオキシコハク酸イミド２ｇを加えて、１時間攪拌した。反応液を減圧濃縮し、残渣をヘキサン、ジイソプロピルエーテル、ジエチルエーテルで洗浄後、乾燥し、下記の化合物を得た。

製造工程９−（ｂ）
製造工程９−（ａ）で得た化合物をメタノール１５０ｍＬに溶解し、アンモニア水１５０ｍＬを加え、室温で一晩攪拌した。この反応液を減圧濃縮し、下記の化合物を得た。

製造工程９−（ｃ）
製造工程９−（ｂ）で得た化合物を用いて、テトラヒドロフラン１００ｍＬ、水５０ｍＬに溶解し、トリエチルアミン０．６６ｍＬ、ｔ−ブチルジカルボネート１．９ｍＬを加え、１晩攪拌した。反応液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−(塩化メチレン：メタノール：アンモニア水＝３００：１０：１)にて精製し、下記の化合物２．８ｇを得た。

製造工程９−（ｄ）
製造工程９−（ｃ）で得た化合物を用いて、製造工程１−（ｂ）の方法に従い、下記の化合物を得た。

製造工程９−（ｅ）
製造工程９−（ｄ）で得た化合物を用いて、製造工程２−（ａ）の方法に従い、下記の化合物を得た。

製造工程９−（ｆ）
製造工程９−（ｅ）で得た化合物を用いて、製造工程１−（ｆ）の方法に従い、下記の化合物を得た。

製造工程９−（ｇ）
製造工程９−（ｆ）で得た化合物３ｇを用いて、製造工程１−（ｇ）の方法に従い、下記の化合物１．２ｇを得た。

製造工程９−（ｈ）
製造工程９−（ｇ）で得た化合物１．２ｇを用いて、製造工程１−（ｈ）の方法に従い、下記の化合物１．２ｇを得た。

製造工程９−（ｉ）
製造工程９−（ｈ）で得た化合物１．２ｇを用いて、製造工程１−（ｄ）の方法に従い、下記の化合物０．３５ｇを得た。

製造工程９−（ｊ）
製造工程９−（ｉ）で得た化合物０．３５ｇを用いて、製造工程１−（ｅ）の方法に従い、下記の化合物０．２０ｇを得た。

製造工程９−（ｋ）
製造工程９−（ｊ）で得た化合物０．２０ｇを用いて、製造工程１−（ｉ）の方法に従い、下記の化合物０．１７ｇを得た。

製造工程９−（ｌ）
製造工程９−（ｋ）で得た化合物７５mgをメタノールに溶解し、ギ酸０．２３ｍＬ、パラジウム炭素１４５mgを加えて、５時間攪拌した。反応液をセライトろ過し、ろ液を減圧濃縮した。残渣に塩化メチレンを加え、５％炭酸水素ナトリウム水溶液にて洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を濃縮乾固し、下記の化合物４６mgを得た。

製造工程９−（ｍ）
（ｓ）−３−ベンジルオキシカルボニルアミノ−２−ヒドロキシプロピオン酸３０mgをテトラヒドロフラン１ｍＬに溶解し、さらに、この溶液にＤＣＣ２５mg、ヒドロキシコハク酸イミド１４mgを加えて５時間攪拌し、活性エステル溶液を調製した。また、製造工程９−（ｌ）にて得た化合物６７mgを、テトラヒドロフラン／水（テトラヒドロフラン：水＝３：１）の溶液１ｍＬに溶かし、炭酸ナトリウム１３mgを加えた。さらに、この溶液に、先に調製した活性エステル溶液を加えて１時間攪拌した。その後、反応液に塩化メチレン８０ｍＬを加え、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−(塩化メチレン：メタノール：アンモニア水＝１００：１０：１)にて精製し、下記の化合物２０mgを得た。

製造工程９−（ｎ）
製造工程９−（ｍ）で得た化合物２０mgを９０％トリフルオロ酢酸水２ｍＬに溶解し、４時間攪拌した。反応液を減圧濃縮後、水２ｍＬに溶解し、パラジウム炭素２０mgを加えて、水素雰囲気下で４時間攪拌した。この溶液をセライトろ過し、ろ液を減圧濃縮した。残渣をＣＭ−Ｓｅｐｈａｄｅｘ（ＮＨ_４ ^＋）で精製し、標題の化合物：１−Ｎ−［（Ｓ）−（３−アミノ−２−ヒドロキシプロパノイル）］−５，４”−ジエピジベカシン（１０mg）を得た。
FABMS:m/z539[M+H]⁺；
¹H-NMR(D₂O+ND₃)δ :1.33-1.54 (2H, m),1.75-1.88 (3H, m),2.05-2.13 (1H, m),2.69-2.83 (2H ,m),2.86-2.95 (2H, m),3.00-3.09 (2H, m),3.20-3.33(1H ,m),3.54 (1H, dd, J=2.5),3.64 (1H, dd, J=4.0, 10.8 Hz),3.79-4.00 (3H, m),3.86 (1H, dd, J=2.3, 10.8 Hz),3.96 (1H, d, J=1.9 Hz),4.12-4.18 (1H, m),4.22 (1H, dd, J=3.9, 6.9 Hz),4.30-4.38 (1H ,m),4.56 (1H, s),5.02 (1H, d, J=3.2 Hz),5.14 (1H, d, J=4.1 Hz)。

実施例１０
1−Ｎ−［（Ｓ）−（５−アミノ−２−ヒドロキシペンタノイル）］−５，４”−ジエピジベカシン

製造工程１０−（ａ）
（ｓ）−５−ベンジルオキシカルボニルアミノ−２−ヒドロキシペンタン酸を用いて、実施例９の方法に従い、標題の化合物：１−Ｎ−［（Ｓ）−（５−アミノ−２−ヒドロキシペンタノイル）］−５，４”−ジエピジベカシンを得た。
FABMS:m/z567[M+H]⁺。

実施例１１
５，４”−ジエピ−３”−Ｎ−メチルアルベカシン

製造工程１１−（ａ）
３，２’，６’−トリ−Ｎ−t−ブトキシカルボニル−４”’−Ｎ−ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル−アルベカシン３．０ｇをメタノール／ジオキサン溶液３０ｍＬ（メタノール：ジオキサン＝１：１）に溶解させ、トリエチルアミン０．８４ｍＬ、ベンズアルデヒド０．４６ｍＬを加え、室温で２時間攪拌した。反応液を減圧濃縮後、ジイソプロピルエーテルで洗浄し、得た残渣をメタノール／ジオキサン溶液３０ｍＬ（メタノール：ジオキサン＝１：１）に溶解させ、水素化ホウ素ナトリウム１１３mgを加え、室温で１時間攪拌した。反応液を減圧濃縮後、塩化メチレンで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮して得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（塩化メチレン：メタノール＝９：１）で精製し、下記の化合物0.87gを得た。

FABMS:m/z1107[M+H]⁺。

製造工程１１−（ｂ）
製造工程１１−（ａ）で得た化合物１．４０ｇを用いて、製造工程１１−（ａ）の方法に従い、ベンズアルデヒドの代わりにホルムアルデヒドを用い、下記の化合物０．９９ｇを得た。

FABMS:m/z1121[M+H]⁺。

製造工程１１−（ｃ）
製造工程１−（ｂ）〜１−（ｊ）の方法に従い、上記（ｂ）で得た化合物を用いて反応を行い、得た化合物を水に溶解し、１Ｍ塩酸を加えアルゴン気流下１０％Ｐｄ−Ｃを加えた後、水素置換を行い、室温で一晩攪拌した。反応液をセライト濾過した後ＣＭ−Ｓｅｐｈａｄｅｘ（ＮＨ_４ ^＋）を用いて精製し標題の化合物：５，４”−ジエピ−３”−Ｎ−メチルアルベカシンを得た。
FABMS:m/z567[M+H]⁺。
実施例１２
５，４”−ジエピ−６’−Ｎ−メチルアルベカシン

製造工程１２−（ａ）
アルベカシン２２ｇを１１６ｍＬの水に溶解し、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド７７２ｍＬを加え、酢酸亜鉛１４．７ｇを加えて１時間攪拌し、ベンジルオキシカルボニルオキシコハク酸イミドを加え、５時間攪拌した。反応液を減圧濃縮し、得た残渣をアンバーライトＣＧ−５０（ＮＨ_４ ^＋）にて精製し、下記の化合物４．９ｇを得た。

FABMS:m/z687[M+H]⁺。

製造工程１２−（ｂ）
製造工程１２−（ａ）で得た化合物４．９ｇを１００ｍＬの水に溶解し、メタノール１５０ｍＬ, １，４−ジオキサン２５ｍＬを加え、さらに、トリエチルアミン０．８ｍＬ、ジｔ−ブチルジカルボネート９．５ｍＬを加えて１晩攪拌した。反応液を減圧濃縮し、残渣をヘキサン、ジイソプロピルエーテル、ジエチルエーテルで洗浄した後、濃縮乾固し、下記の化合物８．０ｇを得た。

製造工程１２−（ｃ）
製造工程１２−（ｂ）で得た化合物を、８０ｍＬの１，４−ジオキサンに溶解し、１６ｍＬの水を加え、１０％Ｐｄ−Ｃ ０．５ｇを加え、水素雰囲気下、接触水素還元反応を行った。セライトろ過後、ろ液を濃縮乾固して、下記の化合物を６．０ｇ得た。

製造工程１２−（ｄ）
製造工程１２−（ｃ）で得た化合物６．０ｇを１００ｍＬの１，４−ジオキサンに溶解し、１００ｍＬのメタノールを加え、トリエチルアミン１．８ｍＬ, ベンズアルデヒド１．０ｍＬを加えて２時間攪拌した。反応液を減圧濃縮し、残渣をジイソプロイルエーテルにて洗浄した後、濃縮乾固した。１００ｍＬの１，４−ジオキサンに溶かし、１００ｍＬのメタノールを加えた。水素化ホウ素ナトリウム０．２４ｇを加えて、２時間攪拌した。反応液を減圧濃縮後、水100mlを加え、塩化メチレンにて抽出し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥後、濃縮乾固して、下記の化合物４．０ｇを得た。

製造工程１２−（ｅ）
製造工程１２−（ｄ）で得た化合物６．５８ｇを用い、ベンズアルデヒドの代わりにホルムアルデヒドを用いて、製造工程１２−（ｄ）の方法に従い、下記の化合物６．７４ｇを得た。

製造工程１２−（ｆ）
製造工程１２−（ｅ）で得た化合物４ｇを１４０ｍＬのテトラヒドロフランに溶かした溶液に、２０ｍＬの水を加え、水酸化パラジウム１ｇを加えて、水素雰囲気下、３時間攪拌した。セライトろ過後、ろ液を濃縮乾固した。１００ｍＬのテトラヒドロフランに溶かし、トリエチルアミン１．２ｍＬ、ジ−ｔ−ブチルジカルボネート２．９ｍＬを加えて３時間攪拌した。反応液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−(塩化メチレン：メタノール：アンモニア水=１００：１０：１)にて精製し、下記の化合物１．０gを得た。

製造工程１２−（ｇ）
製造工程１２−（ｆ）で得た化合物1gを用いて、製造工程１−（ｂ）の方法に従い、下記の化合物１．２ｇを得た。

製造工程１２−（ｈ）
製造工程１２−（ｇ）で得た化合物１．２ｇをピリジン７ｍＬに溶解し、無水酢酸０．２５ｍＬを加え、２時間反応させた。反応液を減圧濃縮後、水３０ｍＬを加え、塩化メチレンにて抽出し、１０％硫酸水素カリウム水、飽和炭酸ナトリウム水にて洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。この溶液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−(ヘキサン：酢酸エチル=１：２）にて精製し、下記の化合物０．３８ｇを得た。

製造工程１２−（ｉ）
製造工程１２−（ｈ）で得た化合物０．３８ｇを塩化メチレン１０ｍｌ、メタノール1mlの混合溶液に溶解し、90％トリフルオロ酢酸水溶液1mlを加え１時間攪拌した。氷浴下、トリエチルアミンを加えて中和後、反応液を減圧濃縮し、塩化メチレンにて抽出し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、濃縮乾固して、下記の化合物0.34ｇを得た。

製造工程１２−（ｊ）
製造工程１２−（ｉ）で得た化合物２５０mgを用いて、製造工程１−（ｇ）の方法に従い、下記の化合物７０mgを得た。

製造工程１２−（ｋ）
製造工程１２−（ｊ）で得た化合物７０mgを用いて、製造工程１−（ｈ）の方法に従い、下記の化合物６６mgを得た。

製造工程１２−（ｌ）
製造工程１２−（ｋ）で得た化合物５０mgを用いて、製造工程１−（ｄ）の方法に従い、下記の化合物５０mgを得た。

製造工程１２−（ｍ）
製造工程１２−（ｌ）で得た化合物７０mgを用いて、製造工程１−（ｅ）の方法に従い、下記の化合物６０mgを得た。

製造工程１２−（ｎ）
製造工程１２−（ｍ）で得た化合物３５mgを用いて、製造工程１−（ｉ）および１−（ｊ）の方法に従い、標題の化合物：５，４”−ジエピ−６’−Ｎ−メチルアルベカシン（３mg）を得た。
FABMS:m/z567[M+H]⁺；
¹H-NMR(D₂O+DCl)δ：1.62 (1H, m),1.88 (1H, m),1.99 (1H, m),2.04 (1H, m),2.10 (2H, m)3.26 (2H, m),2.82 (3H, s),3.16 (1H, dd, J=9.0, 13.0 Hz),3.25 (2H, m),3.30 (1H, dd, J=2.0, 13.0 Hz),3.59 (1H, m),3.62 (1H, dd, J=3.1, 11.2 Hz),3.73 (1H, m),3.80 (1H, dd, J=8.8, 12.0 Hz),3.87 (1H, dd, J=2.7, 12.0 Hz),4.05 (2H, m),4.22 (3H, m),4.36 (1H, dd, J=3.8, 9.3 Hz),4.41 (1H, m),4.80 (1H, m),5.26 (1H, d, J=4.0 Hz),5.47 (1H, d, J=3.7 Hz)。
実施例１３
５−エピアルベカシン

製造工程１３−（ａ）
製造工程２−（ａ）の方法に従い、製造工程１−（ａ）で得た化合物１４ｇを用いて下記の化合物１１．６ｇを得た。

FABMS:m/z1259[M+K]⁺。

製造工程１３−（ｂ）
製造工程１３−（ａ）で得た化合物１１．６ｇを用いて、製造工程１−（ｄ）の方法に従い、下記の化合物７．４ｇを得た。

FABMS:m/z1321[M+Na]⁺, 1337[M+K]⁺。

製造工程１３−（ｃ）
製造工程１−（ｅ）の方法に従い、製造工程１３−（ｂ）で得た化合物７．４ｇを用いて、下記の化合物３．６ｇを得た。

FABMS:m/z1263[M+H]⁺。

製造工程１３−（ｄ）
製造工程１−（ｉ） および１−（ｊ）の方法に従い、製造工程１３−（ｃ）で得た化合物５．１ｇを用いて標題の化合物： ５−エピアルベカシン（１．３ｇ）を得た。
FABMS:m/z553[M+H]⁺；
¹H-NMR(D₂O+ND₃)δ：1.27-1.48 (2H, m)1.64-1.80 (4H, m),1.85-1.95 (1H, m),1.98-2.07 (1H ,m),2.60-2.86 (5H, m),3.02 (1H, dd, J=10.3 Hz),3.17-3.26 (2H, m),3.39 (1H, ddd, J=1.2, 3.9, 10.3 Hz),3.46 (1H, dd, J=1.2, 10.3 Hz),3.67 (1H, dd, J=6.9, 12.1Hz),3.77-3.93 (4H, m),4.17 (1H,dd, J=3.7, 9.3 Hz),4.25 (1H, dd, J=4.4, 11.7 Hz),4.50 (1H, s),4.94 (1H, d, J=3.2 Hz),5.40 (1H d, J=3.9 Hz)。

実施例１４
５−デオキシ−５−エピアセチルアミノアルベカシン

製造工程１４−（ａ）
アルベカシン３．３６ｇを水３０ｍＬに溶かした溶液に、イソプロピルアルコール１２ｍＬ、テトラヒドロフラン６０ｍＬ、トリエチルアミン２．４ｍＬを加え、室温でＳ−ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル−４，６−ジメチル−２−メルカプトピリミジン１０．８６ｇのイソプロピルアルコール／テトラヒドロフラン溶液（イソプロピルアルコール１８ｍＬ、テトラヒドロフラン３０ｍＬ）を滴下し、６０℃にて３時間攪拌した。ジエチルエーテル１００ｍＬを加え、６℃で１４時間放置した。析出した固体をろ取し、ジエチルエーテル、水で洗浄後、減圧下乾燥させ、固体として下記の化合物６．６１ｇを得た。

製造工程１４−（ｂ）
製造工程１４−（ａ）で得た化合物４．１１ｇをピリジン５０ｍＬに溶解し、氷冷下、ベンゾイルクロライド２．０５ｇの塩化メチレン９ｍＬ溶液を加え、氷冷下０．５時間攪拌した後、室温まで昇温で４時間攪拌した。水０．１ｍＬを加えた後、減圧濃縮し、残渣に酢酸エチルを加え、水、１０％硫酸水素カリウム水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液で、順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮乾固して、下記の化合物５．２２ｇを得た。

製造工程１４−（ｃ）
製造工程１４−（ｂ）で得た化合物を用いて、製造工程４−（ａ）の方法に従い、下記の化合物を得た。

製造工程１４−（ｄ）
製造工程１４−（ｃ）で得た化合物１０３mgを、テトラヒドロフラン２ｍＬおよび水０．２ｍＬの混合溶媒に溶解し、ラネーニッケル存在下常圧水素圧で３時間攪拌した。触媒を濾去した後、減圧濃縮し、得た残渣をクロロホルム：メタノール＝５：１の溶液２ｍＬに溶解し、トリエチルアミン０．０３ｍＬ、無水酢酸３０mgを加え室温で一晩攪拌した。得た残渣を製造工程１−（ｉ）および１−（ｊ）の方法に従い、脱保護して標題の化合物：５−デオキシ−５−エピアセチルアミノアルベカシン（６mg）を得た。
FABMS:m/z594[M+H]⁺。

実施例１５
５−デオキシ−５−エピメタンスルホニルオキシアルベカシン

製造工程１５−（ａ）
製造工程１３−（ｃ）で得た化合物を、製造工程１−（ｉ）の方法に従って反応後、さらに製造工程２−（ａ）の方法に従い反応させた。こうして得た化合物を用いて製造工程１−（ｄ）の方法に従い反応させた後、製造工程１−（ｉ）および１−（ｊ）の方法に従い脱保護し、標題の化合物：５−デオキシ−５−エピメタンスルホニルオキシアルベカシンを得た。
FABMS:m/z631[M+H]⁺；
¹H-NMR(D₂O+DCl)δ：1.69 (1H, m),1.92 (3H, m),2.15 (3H, m),2.34 (1H, m),3.12 (3H, m),3.41 (2H, m),3.47 (3H, s),3.67 (3H, m),3.95 (5H, m),4.27 (1H, m),4.35 (2H, m),4.44 (1H, m),5.18 (1H, d, J=3.6 Hz),5.50 (1H, brs),5.58 (1H, brs)。

実施例１６
５−デオキシ−５−エピクロロアルベカシン

製造工程１６−（ａ）
製造工程３−（ｂ）の方法に従い、製造工程１３−（ｂ）で得た化合物を用いて下記の化合物を得た。

製造工程１６−（ｂ）
製造工程１−（ｉ）および１−（ｊ）の方法に従い、製造工程１５−（ａ）で得た化合物を用いて、標題の化合物：５−デオキシ−５−エピクロロアルベカシンを得た。
FABMS:m/z571[M+H]⁺；
¹H-NMR(D₂O+ND₃)δ：1.62 (1H, dddd, J=3.90, 13.67, 13.67, 13.67 Hz),1.85 (1H, ddd, J=12.7, 12.7, 12.7 Hz),1.90-2.10 (4H, m),2.17 (1H, ddt, J=3.42, 7.81, 14.16 Hz),2.34 (1H, ddd, J=4.39, 4.39, 12.7 Hz),3.09 (1H, dd, J=7.33, 13.19 Hz),3.17 (2H, dd, J=6.84, 6.84 Hz),3.27 (1H, dd, J=2.93, 13.18 Hz),3.38 (1H, dd, J=10.26, 10.26 Hz),3.58 (1H, dd, J=9.77, 9.77 Hz),3.58-3.63 (1H, m),3.69 (1H, dd, J=7.33, 12.21 Hz),3.81 (1H, dd, J=3.90, 11.23 Hz),3.87-3.97 (3H, m),4.05-4.13 (1H, m),4.28 (1H, dd, J=3.41, 9.27 Hz),4.30 (1H, dd, J=2.93, 9.77 Hz),4.38-4.45 (1H, m),4.42 (1H, dd, J=2.93, 10.74 Hz),5.15 (1H, dd, J=2.93, 2.93 Hz),5.17 (1H, d, J=3.91 Hz),5.35 (1H, d, J=3.42 Hz)。

実施例１７
５−デオキシ−５−エピアジドアルベカシン

製造工程１７−（ａ）
製造工程４−（ａ）の方法に従い、製造工程１３−（ｂ）で得た化合物を用いて下記の化合物を得た。

製造工程１７−（ｂ）
製造工程１−（ｉ）および１−（ｊ）の方法に従い、製造工程１７−（ａ）で得た化合物を用いて、標題の化合物： ５−デオキシ−５−エピアジドアルベカシンを得た。
FABMS:578[M+H]⁺。

実施例１８
５−デオキシ−５−エピアミノアルベカシン

製造工程１８−（ａ）
実施例１７で得た化合物を用いて、実施例５の方法に従い、標題の化合物：５−デオキシ−５−エピアミノアルベカシンを得た。
FABMS:m/z552[M+H]⁺；
¹H-NMR(D₂O+ND₃)δ：1.27-1.48 (1H, m)1.33 (1H,q ,J=12.8 Hz),1.67-1.80 (4H, m),1.87-1.97 (1H, m),2.01 (1H,dt, J=4.7, 12.8 Hz),2.62-2.87(5H, m),3.02 (1H, t, J=10.1 Hz),3.15-3.30 (1H, m),3.38 (1H, dd, J=3.9 Hz, J=10.1Hz),3.52 (1H, dd, J=3.1 Hz,J=10.3 Hz),3.73-3.87 (6H, m),4.19 (1H, dd, J=3.6, 9.5 Hz),4.26-4.35 (1H, m),4.93 (1H, d, J=3.4 Hz),5.17 (1H, d, J=3.9 Hz)。

実施例１９
５−デオキシ−５−エピジメチルアミノアルベカシン

製造工程１９−（ａ）
製造工程１７−（ａ）で得た化合物２８８mgを用いて、製造工程１−（ｉ）の方法に従い反応を行い、下記の化合物２５０mgを得た。

製造工程１９−（ｂ）
製造工程１９−（ａ）で得た化合物２２０mgを、水：エタノール＝１：１の溶液４ｍＬに溶解しアルゴン気流下１０％Ｐｄ−Ｃ２００mgを加えた後室温で一晩攪拌した。反応液をセライト濾過した後、Ｐ−ＴＬＣ（展開溶媒：アセトン）で精製を行い、下記の化合物１２０mgを得た。

製造工程１９−（ｃ）
製造工程１９−（ｂ）で得た化合物９０mgを用いて製造工程１１−（ｂ）の方法に従って反応させ、さらに製造工程１−（ｊ）の方法に従って脱保護し、標題の化合物：５−デオキシ−５−エピジメチルアミノアルベカシン（８mg）を得た。
FABMS:m/z580[M+H]⁺。

実施例２０
５−デオキシ−５−エピベンゾイルアミノアルベカシン

製造工程２０−（ａ）
製造工程１９−（ｂ）で得た化合物５０mgを用いて、製造工程１−（ｃ）の方法に従って反応させ、さらに製造工程１−（ｉ）および１−（ｊ）の方法に従って脱保護し、標題の化合物：５−デオキシ−５−エピベンゾイルアミノアルベカシン（８mg）を得た。
FABMS:656[M+H]⁺。

実施例２１
５−デオキシ−５−エピベンジルアミノアルベカシン

製造工程２１−（ａ）
製造工程１９−（ｂ）で得た化合物１００mgをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３ｍＬに溶解し、炭酸カリウム１３mgおよびベンジルブロマイド０．０６６ｍＬを加え、室温で一晩攪拌した。反応液を減圧濃縮後塩化メチレンで抽出し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、濃縮乾固により化合物（６４mg）を得た。さらに、この化合物を用いて、製造工程１−（ｊ）の方法に従い脱保護を行い、標題の化合物：５−デオキシ−５−エピベンジルアミノアルベカシン（３０mg）を得た。
FABMS:m/z642[M+H]⁺。

実施例２２
５−デオキシ−５−エピメチルアミノアルベカシン

製造工程２２−（ａ）
製造工程１３−（ｂ）で得た化合物５００mgを用いて、製造工程１−（ｉ）の方法に従い、下記の化合物４０６mgを得た。

製造工程２２−（ｂ）
製造工程２２−（ａ）で得た化合物１００mgにメチルアミン−メタノール溶液５．０ｍＬを加え、封管中６０℃で４日間攪拌した。反応液を減圧濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝９：１）にて精製し、下記の化合物２７．０mgを得た。

FABMS:m/z1088[M+Na]⁺。

製造工程２２−（ｃ）
製造工程２２−（ｂ）で得た化合物２３．０mgを用い、製造工程１−（ｊ）の方法に従い、標題の化合物：５−デオキシ−５−エピメチルアミノアルベカシン（１２．０mg）を得た。
FABMS:m/z566[M+H]⁺；
¹H-NMR(D₂O+ND₃)δ：1.48 (1H, m),1.60 (1H, m),1.90 (4H, m),2.09 (1H, m),2.19 (1H, m),2.74 (3H, s),2.84 (2H, m),2.94 (2H, m),3.01 (1H, m),3.15 (1H, dd, J=9.7, 10.5 Hz),3.32 (1H, m),3.40 (1H, dd, J=9.8, 10.0 Hz),3.56 (2H, m),3.72 (1H, dd, J=3.0, 10.0 Hz), 3.88 (2H, m),3.99 (2H, m),4.08 (1H, m),4.35 (1H, dd, J=3.4, 9.3 Hz),4.52 (1H, ddd, J=4.8, 12.0 Hz),5.12 (1H, d, J=3.4 Hz),5.20 (1H, d, J=4.0 Hz)。

実施例２３
５−デオキシ−５−エピアリルアミノアルベカシン

製造工程２３−（ａ）
製造工程２２−（ｂ）の方法に従い、製造工程２２−（ａ）の化合物１００mgを用い、さらに、メチルアミン−メタノール溶液の代わりにアリルアミンを用いて、下記の化合物２１mgを得た。

FABMS:m/z1092[M+H]⁺。

製造工程２３−（ｂ）
製造工程１−（ｊ）の方法に従い、製造工程２３−（ａ）で得た化合物２１mgを用いて 標題の化合物：５−デオキシ−５−エピアリルアミノアルベカシン（１２．０mg）を得た。
FABMS:m/z592[M+H]⁺。

実施例２４
５−デオキシ−５−エピ（２−アミノエチル）アミノアルベカシン

製造工程２４−（ａ）
製造工程１−（ｅ）の方法に従い、酢酸セシウムの代わりにエチレンジアミンを用い、製造工程２２−（ａ）で得た化合物１００mgを用いて下記の化合物２１mgを得た。

FABMS:m/z1095[M+H]⁺。

製造工程２４−（ｂ）
製造工程１−（ｊ）の方法に従い、製造工程２４−（ａ）で得た化合物を用いて標題の化合物：５−デオキシ−５−エピ（２−アミノエチル）アミノアルベカシン（１６．０mg）を得た。
FABMS:m/z595[M+H]⁺；
¹H-NMR(D₂O+ND₃ )δ：1.48 (1H, m),1.59 (1H, m),1.90 (4H, m),2.08 (1H, m),2.18 (1H, m)2.83 (2H, m)2.92 (4H, m),3.00 (2H, m),3.13 (1H, dd, J=10.2 Hz),3.20 (1H, m),3.35 (1H, m),3.40 (1H, dd, J=10.2 Hz),3.55 (1H, dd, J=3.9, 10.2 Hz),3.65 (1H, brs),3.71 (1H, dd, J=3.0, 10.1 Hz),3.87 (1H, m),3.97 (2H, m),4.06 (2H, m),4.34 (1H, dd, J=3.5, 9.8 Hz),4.59 (1H, m),5.10 (1H, d, J=3.4 Hz),5.19 (1H, d, J=3.9 Hz)。

実施例２５
５−デオキシ−５−エピ（２−ヒドロキシエチル）アミノアルベカシン

製造工程２５−（ａ）
製造工程１−（ｅ）の方法に従い、酢酸セシウムの代わりに２−アミノエタノールを用い、製造工程２２−（ａ）で得た化合物１００mgを用いて、下記の化合物２５．０mgを得た。

FABMS:m/z1096[M+H]⁺。

製造工程２５−（ｂ）
製造工程１−（ｊ）の方法に従い、製造工程２５−（ａ）で得た化合物２５．０mgを用いて標題の化合物：５−デオキシ−５−エピ（２−ヒドロキシエチル）アミノアルベカシン（１１．４mg）を得た。
FABMS:m/z596[M+H]⁺；
¹H-NMR(D₂O+ND₃ )δ：1.26 (1H, m),1.35 (1H, m),1.69 (4H, m),1.87 (1H, m),1.96 (1H, m)2.61 (2H, m)2.70 (3H, m),2.80 (1H, m),2.89 (1H, dd, J=9.6 Hz),3.09 (1H, m),3.17 (1H, dd, J=9.6,10.0 Hz),3.32 (1H, dd, J=3.6,9.6 Hz),3.43 (1H, brs),3.52 (1H, m),3.65 (3H, m),3.74 (2H, m),3.85 (2H, m),4.12 (1H, dd, J=3.6, 10.0 Hz),4.39 (1H, m),4.87 (1H, d, J=3.2Hz),4.97 (1H, d, J=3.8 Hz)。

実施例２６
５−デオキシ−５−エピ（３−ヒドロキシプロピル）アミノアルベカシン

製造工程２６−（ａ）
製造工程１−（ｅ）の方法に従い、酢酸セシウムの代わりに３−アミノ−１−プロパノールを用い、製造工程２２−（ａ）で得た化合物１００mgを用いて下記の化合物４３．０mgを得た。

FABMS:m/z1110[M+H]⁺。

製造工程２６−（ｂ）
製造工程１−（ｊ）の方法に従い、製造工程２６−（ａ）で得た化合物４３．０mgを用いて標題の化合物：５−デオキシ−５−エピ（３−ヒドロキシプロピル）アミノアルベカシン（１８．５mg）を得た。
ESIMS:m/z610[M+H]⁺。

実施例２７
５−デオキシ−５−エピ（２−ヒドロキシ−１−ヒドロキシメチル−エチル）アミノアルベカシン

製造工程２７−（ａ）
製造工程１−（ｅ）の方法に従い、酢酸セシウムの代わりに２−アミノ−１，３−プロパンジオールを用い、製造工程２２−（ａ）で得た化合物１００mgを用いて下記の化合物１３．８mgを得た。

製造工程２７−（ｂ）
製造工程１−（ｊ）の方法に従い、製造工程２７−（ａ）で得た化合物１３．８mgを用いて標題の化合物：５−デオキシ−５−エピ（２−ヒドロキシ−１−ヒドロキシメチル−エチル）アミノアルベカシン（６．０mg）を得た。
FABMS:m/z626[M+H]⁺；
¹H-NMR(D₂O+ND₃ )δ：1.49 (1H, m),1.60 (1H, m),1.95 (4H, m),2.09 (1H, m),2.20 (1H, m),2.84 (2H, m),2.93 (2H, m),3.03 (1H, m),3.11 (1H, dd, J=10.1 Hz),3.34 (1H, m),3.43 (1H, dd, J=9.7,10.1 Hz),3.48 (1H, m),3.57 (1H, dd, J=3.8,10.1 Hz),3.70-4.09 (11H, m),4.36 (1H, dd, J=3.4, 9.5 Hz),4.81 (1H, m),5.17 (1H, d, J=3.4 Hz),5.22 (1H, d, J=3.8 Hz)。

実施例２８
５−エピ−３”−Ｎ−メチルアルベカシン

製造工程２８−（ａ）
３，２’，６’−トリ−Ｎ−t−ブトキシカルボニル−４”’−Ｎ−ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル−アルベカシン３．０ｇをメタノール／ジオキサン溶液（メタノール：ジオキサン＝１：１）３０ｍＬに溶解させ、トリエチルアミン０．８４ｍＬ、ベンズアルデヒド０．４６ｍＬを加え、室温で２時間攪拌した。反応液を減圧濃縮後、ジイソプロピルエーテルで洗浄し、得た残渣をメタノール／ジオキサン溶液（メタノール：ジオキサン＝１：１）３０ｍＬに溶解させ、水素化ホウ素ナトリウム１１３mgを加え、室温で１時間攪拌した。反応液を減圧濃縮後、塩化メチレンで抽出して無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮して得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（塩化メチレン：メタノール＝９：１）で精製し、下記の化合物０．８７ｇを得た。

FABMS:m/z1107[M+H]⁺

製造工程２８−（ｂ）
製造工程２８−（ａ）の方法に従い、ベンズアルデヒドの代わりにホルムアルデヒドを用い、かつ、製造工程２８−（ａ）で得た化合物１．４０ｇを出発物質として用いて、下記の化合物０．９９ｇを得た。

FABMS:m/z1121[M+H]⁺

製造工程２８−（ｃ）
製造工程２−（ａ）の方法に従い、製造工程２８−（ｂ）で得た化合物３７０mgを用いて下記の化合物２００mgを得た。

FABMS:m/z1289[M+H]⁺

製造工程２８−（ｄ）
製造工程１−（ｄ）および１−（ｅ）の方法に従い、製造工程２８−（ｃ）で得た化合物２００mgを用いて下記の化合物１３４mgを得た。

FABMS:m/z1331[M+H]⁺

製造工程２８−（ｅ）
製造工程１−（ｉ）および１−（ｊ）の方法に従い、製造工程２８−（ｄ）で得た化合物１３０mgを用いて下記の化合物１９mgを得た。

FABMS:m/z657[M+H]⁺

製造工程２８−（ｆ）
製造工程２８−（ｅ）で得た化合物１９．０mgを水５．０ｍＬに溶解し、１Ｎ塩酸０．５ｍＬを加え、アルゴン気流下１０％Ｐｄ−Ｃ ５mgを加えた後、水素置換を行い室温で一晩攪拌した。反応液をセライト濾過した後ＣＭ−Ｓｅｐｈａｄｅｘ（ＮＨ_４ ^＋）を用いて精製し、標題の化合物：５−エピ−３”−Ｎ−メチルアルベカシン（１６．０mg）を得た。
FABMS:567[M+H]^+
1H-NMR(D₂O+ND₃ )δ：1.40 (2H, m),1.77 (4H, m),1.95 (1H, m),2.05 (1H, ddd, J=4.2, 5.1, 13.2 Hz),2.47 (3H, s),2.70 (2H, m),2.83 (4H, m),3.26 (1H, m),3.40 (1H, dd, J=9.8,10.0 Hz),3.50 (1H, dd, J=2.2,10.3 Hz),3.57 (1H, dd, J=3.9,10.5 Hz),3.70 (1H, dd, J=7.0,12.0 Hz),3.85 (3H, m),3.93 (1H, dd, J=2.0,12.0 Hz),4.23 (1H, dd),4.31 (1H, m),4.54 (1H, dd,),4.98 (1H, d, J=3.6 Hz),5.07 (1H, d, J=3.9 Hz)。

実施例２９
５−エピ−６’−Ｎ−メチルアルベカシン

製造工程２９−（ａ）
製造工程１２−（ｆ）で得た化合物を用いて、製造工程２−（ａ）の方法に従って水酸基のアセチル化を行い、得られた化合物を用いて製造工程１−（ｄ）および１−（ｅ）の方法に従い５位の水酸基の反転反応を行った後に、製造工程１−（ｉ）および１−（ｊ）の方法に従い脱保護を行い、標題の化合物：５−エピ−６’−Ｎ−メチルアルベカシンを得た。
FABMS:m/z567[M+H]⁺

実施例３０
６’−アミノメチル−６’−デアミノ−５−エピ−６’−ヒドロキシアルベカシン

製造工程３０−（ａ）
製造工程１２−（ｂ）で得た化合物６２０mgをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍＬに溶かした溶液に、触媒量のｐ−ＴｓＯＨ・Ｈ_２Ｏおよび２，２−ジメトキシプロパン２１０mgを加え、室温で２０時間攪拌した。反応液にトリエチルアミンを加え、減圧濃縮し、得た残渣をイソプロピルエーテルで洗浄後、減圧下乾燥させ、固体として下記の化合物６４０mgを得た。

製造工程３０−（ｂ）
製造工程３０−（ａ）で得た化合物６４０mgをジオキサン１０ｍＬ、メタノール１０ｍＬ、水８ｍＬに溶解し、水酸化パラジウム１７０ｍｇを加え、水素圧３０ｌｂｓにて接触水素還元反応を１６時間行った。反応液をセライトろ過し、メタノール：水＝１：１の溶液で洗浄後、ろ液を濃縮乾固し、下記の化合物５６０mgを得た。

製造工程３０−（ｃ）
製造工程３０−（ｂ）で得た化合物５００mgをクロロホルム１２ｍＬ、水６ｍＬに溶解し、ニンヒドリン４４０mg、炭酸水素ナトリウム２１０mgを加え、室温で１６時間攪拌した。反応液に塩化メチレンを加え、水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。得た溶液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開系、塩化メチレン：メタノール＝１５：１)にて精製し、下記の化合物２５６mgを得た。

製造工程３０−（ｄ）
製造工程３０−（ｃ）で得た化合物１００mgを塩化メチレン５ｍＬ、テトラヒドロフラン２ｍＬ、メタノール１ｍＬに溶解し、ニトロメタン６０ｍｇ、ナトリウムメトキシドのメタノール溶液（１Ｍ）１００mgを加え１時間攪拌した。この反応液を１Ｍの塩酸溶液で中和し、クロロホルムを加え、水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。このようにして得た溶液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開系、塩化メチレン：メタノール=１５：１）にて精製し、下記の化合物８２mgを得た。

製造工程３０−（ｅ）
製造工程３０−（ｄ）で得た化合物８２mgをメタノール７ｍＬ、水３ｍＬ、酢酸０．２ｍＬに溶解し、酸化白金５０mgを加え、水素圧４０ｌｂｓで接触水素還元反応を２０時間行った。反応液をセライトろ過し、メタノール：水＝１：１の溶液で洗浄後、ろ液を減圧濃縮し、製造工程１−（ｊ）と同様の方法で脱保護した。こうして得た化合物を用い、製造工程１−（ａ）の方法に従いアミノ基を保護した後、実施例１３の方法に従って反応を行い、標題の化合物：６’−アミノメチル−６’−デアミノ−５−エピ−６’−ヒドロキシアルベカシン を得た。
FABMS:m/z583[M+H]⁺

実施例３１
６’−アミノメチル−６’−デアミノ−５−デオキシ−５−エピアセトキシ−６’−ヒドロキシアルベカシン

製造工程３１−（ａ）
実施例３０と同様の方法で反応を行い、６’−アミノメチル−６’−デアミノ−５−エピ−６’−ヒドロキシアルベカシンとともに、標題の化合物：６’−アミノメチル−６’−デアミノ−５−デオキシ−５−エピアセトキシ−６’−ヒドロキシアルベカシンを得た。
FABMS:m/z625[M+H]⁺

実施例３２
６”−デオキシ−５−エピアルベカシン

製造工程３２−（ａ）
製造工程１−（ａ）で得た化合物１．５５ｇを、ジメチルホルムアミド２０ｍＬに溶解し、ｐ−ＴｓＯＨ・Ｈ２Ｏ１００mg、ベンズアルデヒドジメチルアセタール２ｍＬを加え、５℃にて５時間攪拌した。反応液にトリエチルアミンを加え中和後、減圧濃縮し、得た残渣にピリジン３０ｍＬ、無水酢酸１．５ｍＬを加え、室温で３日間攪拌した。この反応液にメタノール２０ｍＬを加えた後、減圧濃縮し、残渣に酢酸エチルを加え、硫酸水素カリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液、水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。得た溶液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開系、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン=１：1)にて精製し、下記の化合物１．１３ｇを得た。

製造工程３２−（ｂ）
製造工程３２−（ａ）で得た化合物２００mgを四塩化炭素６ｍＬに溶解し、Ｎ−ブロモコハク酸イミド５０mg、炭酸バリウム１８mgを加え、還流下３時間攪拌した。反応液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開系、酢酸エチル：トルエン=１：１)にて精製し、下記の化合物１５４mgを得た。

製造工程３２−（ｃ）
製造工程８−（ｂ）の方法に従い、製造工程３２−（ｂ）で得た化合物６７mgを用いてハロゲンの還元を行い、下記の化合物６５mgを得た。

製造工程３２−（ｄ）
製造工程１−（ｄ）の方法に従い、製造工程−（ｃ）で得た化合物２５mgを用いて下記の化合物３０mgを得た。

TSPMS:m/z1303[M+H]⁺

製造工程３２−（ｅ）
製造工程３２−（ｄ）で得た化合物３０mgを用いて、製造工程１−（ｅ）の方法に従い反応を行い、得た化合物を引き続き製造工程１−（ｉ）および１−（ｊ）の方法に従って脱保護し、標題の化合物：６”−デオキシ−５−エピアルベカシンを得た。
FABMS:m/z537[M+H]⁺

実施例３３
６”−アミノメチル−５−エピアルベカシン

製造工程３３−（ａ）
製造工程１３−（ｃ）で得た化合物を用いて、製造工程１−（ｉ）の方法に従って水酸基を脱保護した後、得た化合物０．３３ｇを用いて、製造工程１−（ｇ）の方法に従い、下記の化合物０．３２ｇを得た。

製造工程３３−（ｂ）
製造工程２−（ａ）の方法に従い、製造工程３３−（ａ）で得た化合物０．３２ｇを用いて、下記の化合物０．２９ｇを得た。

製造工程３３−（ｃ）
製造工程３３−（ｂ）で得た化合物０．３６ｇをジエチルエーテル０．７５ｍＬおよびギ酸０．７５ｍＬに溶解して２０分攪拌後、塩化メチレンで抽出し、飽和水酸化ナトリウム水で洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮した。得た残渣をトルエン１２．３ｍＬ、ＤＭＳＯ１．６ｍＬに溶解し、ピリジン０．０８５ｍＬ、トリフルオロ酢酸０．０２７ｍＬ、および１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド０．２６ｇを加え、室温で１晩攪拌した。反応液を酢酸エチルで抽出して減圧濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（塩化メチレン：メタノール＝１５：１）で精製し、下記の化合物０．０５ｇを得た。

製造工程３３−（ｄ）
製造工程３０−（ｄ）の方法に従い、製造工程３３−（ｃ）で得た化合物１００mgを用いて、下記の化合物３８mgを得た。

製造工程３３−（ｅ）
製造工程３０−（ｅ）の方法に従い、製造工程３３−（ｄ）で得た化合物３８mgを用いて、標題の化合物：６”−アミノメチル−５−エピアルベカシン（２０mg）を得た。
FABMS:m/z582[M+H]⁺。

実施例３４
５−メチルアルベカシン

製造工程３４−（ａ）
実施例１４−（ａ）の方法に従い、下記の化合物６．６１ｇを得た。

製造工程３４−（ｂ）
製造工程３４−（ａ）で得た化合物の４．１１ｇをピリジン５０ｍＬに溶解し、氷冷下にてベンゾイルクロライド２．０５ｇの塩化メチレン９ｍＬ溶液を加えた。この溶液を氷冷下０．５時間攪拌した後、室温まで昇温し、４時間攪拌した。その後、この溶液に水０．１ｍＬを加えた後に減圧濃縮した。この残渣に酢酸エチルを加え、水、１０％硫酸水素カリウム水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液で、順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後に濃縮乾固し、下記の化合物５．２２ｇを得た。

製造工程３４−（ｃ）
製造工程３４−（ｂ）にて得た化合物１．１９７ｇを、ジメチルスルホキサイド５ｍＬに溶解し、無水酢酸１．５ｍＬを加え、室温で３日間攪拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１ｍＬを加え、１時間攪拌した後、酢酸エチルを加え、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液で、順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濃縮乾固して、下記の化合物１．２０ｇを得た。

製造工程３４−（ｄ）
製造工程３４−（ｃ）で得た化合物３２０ｍｇを、テトラヒドロフラン４ｍＬに溶解し、氷冷下、メチルマグネシウムブロマイドのテトラヒドロフラン溶液（０．９３ｍｍｏｌ/ｍＬ）０．９７ｍＬを加え、氷冷下３時間攪拌した。この反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。このようにして得た溶液を減圧濃縮し、残渣をＰｒｅｐａｒａｔｉｖｅ ＴＬＣ(展開系、クロロホルム：メタノール=３０：１)にて精製し、下記の化合物１００ｍｇを得た。

製造工程３４−（ｅ）
製造工程１−（ｉ）および１−（ｊ）の方法に従い、製造工程３４−（ｄ）で得た化合物１００mgを用いて、標題の化合物：５−メチルアルベカシン（５．１mg）を得た。
FABMS:m/z567[M+H]⁺；
1H-NMR(D2O+DCl )δ:1.63-1.73 (1H, m)1.86 (1H, ddd, J=12.4, 12.4, 12.4 Hz),1.96-2.03 (2H, m),2.05-2.15 (2H, m),2.21 (1H, ddt, J=3.7, 7.1, 14.7 Hz')2.31 (1H, ddd, J=4.4, 4.4, 13.0 Hz),3.21 (2H, d, J=7.1, 7.1 Hz),3.21 (1H, dd, J=6.8, 13.1 Hz),3.32 (1H, dd, J=3.5, 13.5 Hz),3.37 (3H, s),3.42 (1H, dd, J=10.5, 10.5 Hz),3.47-3.56 (1H, m),3.63-3.68 (1H, m),3.75 (1H, dd, J=10.0, 10.0 Hz),3.79-3.84 (3H, m),3.87 (1H, d, J=10.8 Hz),4.02 (1H, d, J=10.7 Hz),4.06 (1H, dt, J=3.2, 10.3 Hz),4.10-4.16 (1H, m),4.18-4.25 (1H, m),4.31 (1H, dd, J=3.6, 9.3 Hz),5.16 (1H, d, J=3.6 Hz),5.83 (1H, d, J=3.7 Hz)。

実施例３５
５−メトキシメチルアルベカシン

製造工程３５−（ａ）
製造工程３４−（ｃ）で得た化合物の６０mgを、メタノール４ｍＬに溶解し、氷冷下、ジアゾメタンのジエチルエーテル溶液（０．６ｍｍｏｌ/ｍＬ）１．０ｍＬを加え、氷冷下２時間攪拌した。この反応液を減圧濃縮し、得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−(展開系、クロロホルム：メタノール=３０：１)にて精製し、下記の化合物５０．６ｍｇを得た。

製造工程３５−（ｂ）
製造工程１−（ｉ）および１−（ｊ）の方法に従い、製造工程３５−（ａ）で得た化合物の４４mgを用いて、標題の化合物：５−メトキシメチルアルベカシン（５．８mg）を得た。
FABMS:m/z597[M+H]⁺；
¹H-NMR(D2O+DCl)δ:1.69-1.75 (1H, m),1.90 (1H, ddd, J=12.7, 12.7, 12.7 Hz),1.99-2.06 (2H, m),2.08-2.16 (2H, m),2.24 (1H, ddt, J=3.9, 7.3, 14.4 Hz),2.39 (1H, ddd, J=4.6, 4.6, 12.9 Hz),3.20-3.24 (1H, m),3.24 (2H, dd, J=7.4, 7.4 Hz),3.35 (1H, dd, J=3.4, 13.6 Hz),3.44 (1H, dd, J=10.5, 10.5 Hz),3.50 (3H, s),3.63-3.68 (1H,m),3.77 (1H, dd, J=10.0, 10.0 Hz),3.82 (1H, d, J=10.7 Hz),3.86 (1H, dd, J=3.7, 10.0 Hz),3.87 (2H, d, J=2.9 Hz),3.87-3.92 (1H, m),3.94 (1H, d, J=10.8 Hz),4.02 (1H, d, J=10.7 Hz),4.06 (1H, dt, J=2.9, 10.0 Hz),4.12 (1H, d, J=11.0 Hz),4.26 (1H, dddd, J=3.4, 6.9, 6.9, 6.9 Hz),4.33 (1H, dd, J=3.6, 6.9 Hz),4.35-4.40 (1H, m),5.19 (1H, d, J=3.6 Hz),5.76 (1H, d, J=3.2 Hz)。

実施例３６
５−ビニルアルベカシン

製造工程３６−（ａ）
製造工程３４−（ｃ）で得た化合物とビニルマグネシウムブロマイドを製造工程３４−（ｄ）の方法に準じて反応させ、次いで製造工程１−（ｉ）および１−（ｊ）の方法に従い脱保護し、精製して、標題の化合物：５−ビニルアルベカシンを得た。
TSPMS:m/z579[M+H]⁺；
¹H-NMR(D₂O+ND₃),δ:1.38-1.45 (2H, m),1.54-1.63 (1H, m),1.71-1.79 (3H, m),1.89-1.94 (1H, m),2.10 (1H, ddd, J=4.4, 4.4, 13.2 Hz),2.64-2.68 (2H, m),2.75-2.79 (2H, m),2.85 (1H, ddd, J=4.4, 4.4, 11.7 Hz),2.88 (1H, dd, J=10.0, 10.0 Hz),3.01-3.08 (1H, m),3.30 (1H, dd, J=10.0, 10.0 Hz),3.37 (1H, dd, J=3.6, 10.2 Hz),3.43 (1H, d, J=10.3 Hz),3.70-3.85 (4H, m),3.99 (1H, dt, J=2.9, 10.2 Hz'),4.07 (1H, ddd, J=4.4, 10.8, 10.8 Hz),4.18 (1H, dd, J=3.9, 9.2 Hz),4.98 (1H, d, J=4.0 Hz),5.12 (1H, d, J=3.4 Hz),5.53 (1H, dd, J=1.4, 10.9 Hz),5.58 (1H, dd, J=1.4, 17.1 Hz),6.09 (1H, dd, J=10.7, 16.8 Hz)。

実施例３７
５−アミノメチルアルベカシン

製造工程３７−（ａ）
製造工程３５−（ａ）で得た化合物５０mgをジメチルホルムアミド０．５ｍＬに溶解し、アジ化ナトリウム５．４mgを加え、８０℃で２時間攪拌した。この反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加えた後に酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。このようにして得た溶液を減圧濃縮し、残渣をＰｒｅｐａｒａｔｉｖｅ ＴＬＣ(展開系、クロロホルム：メタノール=３０：１)にて精製し、下記の化合物２４．３ｍｇを得た。

製造工程３７−（ｂ）
製造工程１−（ｉ）および１−（ｊ）の方法に従い、製造工程３７−（ａ）で得た化合物２４．３mgから下記の化合物５．３mgを得た。

TSPMS: m/z608[M+H]⁺；
¹H-NMR(D₂O+DCl)δ:1.66-1.77 (1H, m),1.92 (1H, ddd, J=12.4, 12.4, 12.4 Hz),1.99-2.07 (2H, m),2.08-2.16 (2H, m),2.22 (1H, ddt, J=3.9, 7.3, 14.4 Hz),2.38 (1H, ddd, J=4.9, 4.9, 12.9 Hz),3.22 (2H, dd, J=7.1, 7.1 Hz),3.23 (1H, dd, J=6.8, 13.9 Hz),3.34 (1H, dd, J=3.4, 13.4 Hz),3.44 (1H, dd, J=10.5, 10.5 Hz'),3.65-3.70 (1H, m),3.77 (1H, dd, J=10.0, 10.0 Hz),3.80-3.85 (2H, m),3.87 (2H, d, J=3.4 Hz),3.91 (1H, d, J=13.7 Hz),3.96 (1H, d, J=13.7 Hz),4.05 (1H, d, J=10.7 Hz),4.08 (1H, dt, J=3.4, 9.8 Hz),4.14 (1H, d, J=10.7 Hz),4.21-4.33 (2H, m),4.33 (1H, dd, J=3.7, 9.3 Hz),5.18 (1H, d, J=3.6 Hz),5.81 (1H, d, J=3.5 Hz)。

製造工程３７−（ｃ）
製造工程３７−（ｂ）で得た化合物５．３mgを水１ｍＬに溶解し、１０％パラジウム−炭素４．６mgを加え、室温且つ常圧にて３時間接触水素還元を行った。この反応液をろ過し、減圧濃縮して得た残渣をＣＭ−Ｓｅｐｈａｄｅｘ（ＮＨ_４ ^＋） (展開系；水：濃アンモニア水=１０：１)にて精製し、標題の化合物：５−アミノメチルアルベカシン４．０ｍｇを得た。
TSPMS: m/z582[M+H]^+
1H-NMR(D₂O+ND₃ )δ:1.70-1.81 (1H, m),1.95-2.10 (3H, m),2.10-2.20 (2H, m),2.25 (1H, ddt, J=3.7, 7.1, 14.4 Hz),2.42 (1H, ddd, J=4.8, 4.8, 12.9 Hz),3.25 (2H, dd, J=7.3, 7.3 Hz),3.35-3.40 (3H, m),3.55 (1H, d, J=13.9 Hz),3.56-3.65 (1H, m),3.61 (1H, d, J=13.9 Hz),
3.74-3.77 (1H, m),3.78 (1H, dd, J=10.0, 10.0 Hz),3.88 (1H, dd, J=4.1, 11.8 Hz),3.92 (1H, dd, J=3.9, 11.2 Hz),3.97 (1H, dd, J=2.2, 12.2 Hz),4.05 (1H, ddd, J=2.2, 4.1, 10.0 Hz),4.27 (1H, d, J=11.0 Hz),4.30-4.45 (4H, m),5.29 (1H, d, J=4 Hz),5.81 (1H, d, J=3.2 Hz)。

実施例３８
５−メチルアミノメチルアルベカシン

製造工程３８−（ａ）
製造工程３５−（ａ）で得た化合物１５０mgを、メタノール：塩化メチレン＝１：１の溶液５ｍＬの溶解した。この溶液に、１ｍｏｌ／ｌの水酸化ナトリウム水溶液０．５ｍＬを加え、室温で４時間攪拌した。この反応液を１ｍｏｌ／ｌの塩酸によって中和後、減圧濃縮した。この残渣を塩化メチレンで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後減圧濃縮し、下記の化合物１１０mgを得た。

FABMS:m/z1423[M+K]⁺。

製造工程３８−（ｂ）
製造工程３８−（ａ）にて得た化合物１０mgに、エタノール１ｍＬ、４０％メチルアミン水溶液１．１mgを加え８０℃で３時間攪拌した。反応液を減圧濃縮し、得た残渣を製造工程１−（ｊ）の方法に従って脱保護し、精製して、標題の化合物：５−メチルアミノメチルアルベカシン（３．７mg）を得た。
TSPMS: m/z596[M+H]⁺；
¹H-NMR(D₂O+ND₃ ),1.38 (1H, ddd, J=12.7, 12.7, 12.7 Hz),1.41-1.44 (1H, m),1.62-1.79 (4H, m),1.91-1.93 (1H, m),2.22 (1H, ddd, J=4.7, 4.7, 13.2 Hz)2.46 (3H, s),2.65-2.70 (2H, m),2.76-2.81 (2H, m),2.90 (1H, dd, J=10.3, 10.3 Hz),2.93-3.01 (2H, m),3.05 (1H, d, J=13.2 Hz),3.10 (1H, d, J=13.4 Hz),3.31 (1H, dd, J=9.8, 9.8 Hz),3.39 (1H, dd, J=3.8, 10.4 Hz),3.41 (1H, d, J=10.3 Hz),3.74-3.81 (3H, m),3.82-3.92 (1H, m),4.04 (1H, ddd, J=2.6, 3.9, 10.3 Hz),4.11 (1H, ddd, J=4.4, 12.2, 12.2 Hz),4.18 (1H, dd, J=3.7, 9.3 Hz),5.03 (1H, d, J=3.7 Hz),5.07 (1H, d, J=3.4 Hz)。

実施例３９
５−（２−ヒドロキシエチル）アミノメチルアルベカシン

製造工程３９−（ａ）
製造工程３８−（ｂ）の方法に従い、製造工程３８−（ａ）の化合物 １２．３mgとヒドロキシエチルアミンを反応させ、標題の化合物：５−（２−ヒドロキシエチル）アミノメチルアルベカシン（４．４mg）を得た。
TSPMS:m/z 626[M+H]⁺；
¹H-NMR(D₂O+ND₃ )δ：1.35 (1H, ddd, J=12.7, 12.7, 12.7 Hz),1.37-1.50 (1H, m),1.60-1.85 (4H, m),1.88-1.98 (1H, m),2.04 (1H, ddd, J=4.6, 4.6, 13.2 Hz),2.62-2.70 (2H, m),2.72-2.83 (4H, m),2.85-3.00 (3H, m),3.00 (1H, d, J=13.0 Hz),3.05 (1H, d, J=13.0 Hz),3.31 (1H, dd, J=9.8, 9.8 Hz),3.38 (1H, dd, J=3.7, 10.5 Hz),3.39(1H, d, J=10.0 Hz),3.65-3.73 (2H, m),3.75-3.83 (3H, m),3.85-3.95 (1H, m),4.02-4.08 (1H, m),4.13 (1H, ddd, J=3.9, 11.4, 11.4 Hz),4.18 (1H, dd, J=3.6, 9.3 Hz),5.03 (1H, d, J=4.4 Hz),5.04 (1H, d, J=4.2 Hz)。

実施例４０
５−（２−アミノエチル）アミノメチルアルベカシン

製造工程４０−（ａ）
製造工程３８−（ｂ）の方法に従い、製造工程３８−（ａ）の化合物 １５mgとジアミノエタンとを反応させ、標題の化合物：５−（２−アミノエチル）アミノメチルアルベカシン（４．４mg）を得た。
TSPMS:m/z625[M+H]⁺；
¹H-NMR(D₂O+ND₃ )δ：1.35 (1H, ddd, J=12.9, 12.9, 12.9 Hz),1.42 (1H, dddd, J=4.9, 12.4, 12.4, 12.4 Hz),1.64 (1H, dddd, J=3.7, 12.4, 12.4, 12.4 Hz),1.71-1.79(3H, m),1.91-1.93 (1H, m),2.03 (1H, ddd, J=4.7, 4,7, 13.2 Hz),2.62-2.82 (6H, m)2.88-2.99 (3H, m),2.99 (1H, d, J=13.2 Hz),3.05 (1H, d, J=12.9 Hz),3.31 (1H, dd, J=9.7, 9.7 Hz),3.38 (1H, dd, J=3.7, 10.5 Hz),3.40 (1H, d, J=10.2 Hz),3.73-3.79 (3H, m),3.84-3.92 (1H, m),4.02 (1H, dt, J=2.9, 9.5 Hz),4.13 (1H, ddd, J=3.8, 11.4, 11.4 Hz),4.18 (1H, dd, J=3.6, 9.2 Hz),5.04 (1H, d, J=3.9 Hz),
5.07 (1H, d, J=3.2 Hz)。

実施例４１
５−（３−アミノプロピル）アミノメチルアルベカシン

製造工程４１−（ａ）
製造工程３８−（ｂ）の方法に従い、製造工程３８−（ａ）の化合物 30mgと１，３−ジアミノプロパンとを反応させ、標題の化合物：５−（３−アミノプロピル）アミノメチルアルベカシン（４．０mg）を得た。
FABMS:m/z639[M+H]⁺；
¹H-NMR(D₂O+ ND₃ )δ：1.36 (1H, m),1.43 (1H, m),1.72 (5H, m)1.94 (1H, m),2.04 (1H, ddd, J=4.4, 13.2 Hz),2.68 (2H, m),2.73 (4H, m),2.78 (2H, m),2.92 (2H, m),2.99 (1H, m)3.04 (2H, m),3.32 (1H, dd, J=10.0 Hz),3.39 (2H, m),3.79 (3H, m),3.89 (1H, m),4.02 (1H, m),4.12(1H, ddd, J=4.3, 11.4 Hz),4.19 (1H, dd, J=3.6, 9.3 Hz),5.03 (1H, d, J=3.9 Hz),5.05 (1H, d, J=3.4 Hz)。

実施例４２
５−（３−アミノ−２−ヒドロキシプロピル）アミノメチルアルベカシン

製造工程４２−（ａ）
製造工程３８−（ｂ）の方法に従い、製造工程３８−（ａ）の化合物 ３０mgと１，３−ジアミノ−２−ヒドロキシプロパンとを反応させ、標題の化合物：５−（３−アミノ−２−ヒドロキシプロピル）アミノメチルアルベカシン（１０．２mg）を得た。
TSPMS:m/z655[M+H]⁺；
¹H-NMR(D₂O+ND₃ )δ：1.47 (2H, m),1.75 (1H, m),1.83 (3H, m),2.04 (1H, m),2.12 (1H, m),2.76 (6H, m),2.90 (2H, m),3.04 (4H, m),3.16 (1H, dd, J=10.0,13.0 Hz),3.40 (1H, m),3.47 (2H, m),3.86 (3H, m),3.98 (1H, m),4.12 (1H, m),4.23 (1H, dd),4.31 (1H, m),4.54 (1H, dd),4.98 (1H,d, J=3.6 Hz),5.07 (1H, d, J=3.9 Hz)。

実施例４３
５−（２−ピリジルメチル）アミノメチルアルベカシン

製造工程４３−（ａ）
製造工程３８−（ｂ）の方法に従い、製造工程３８−（ａ）の化合物２０mgと２−（アミノメチル）ピリジンとを反応させ、標題の化合物：５−（２−ピリジルメチル）アミノメチルアルベカシン（１０．２mg）を得た。
TSPMS:m/z673[M+H]⁺。

実施例４４
３’，４’−ジデヒドロ−５−エピアルベカシン

製造工程４４−（ａ）
実施例１３の方法に準じて、３’，４’−ジデヒドロアルベカシンを用いて、標題の化合物：３’，４’−ジデヒドロ−５−エピアルベカシンを得た。
FABMS:m/z551[M+H]⁺；
¹H-NMR(D₂O+DCl)δ:1.77 (1H, ddd, J=12.7, 12.7, 12.7 Hz),1.92-2.01 (1H, m),2.19 (1H, ddt, J=3.90, 7.32, 14.16 Hz),2.30 (1H, ddd, J=4.89, 4.89, 12.69 Hz),3.18 (2H, dd, J=7.32, 7.32 Hz),3.30 (1H, dd, J=6.34, 13.67 Hz),3.36 (1H, dd, J=3.90, 13.67 Hz),3.46 (1H, dd, J=10.25, 10.25 Hz),3.62 (1H, dd, J=9.77, 9.77 Hz),3.74 (1H, dd, J=6.83, 11.72 Hz),3.75-3.79 (1H, m),3.81 (1H, dd, J=3.42, 10.75 Hz),3.89 (1H, ddd, J=1.96, 6.84, 9.28 Hz),3.94 (1H, dd, J=1.95, 11.72 Hz),4.06 (1H, dd, J=2.44, 10.74 Hz),4.19-4.25 (2H, m),4.29 (1H, dd, J=3.91, 9.28 Hz),4.36 (1H, ddd, J=4.88, 10.75, 10.75 Hz),4.72-4.90 (2H, m),5.18 (1H, d, J=3.91 Hz),5.59 (1H, d, J=3.91 Hz),6.04 (1H, ddd, J=2.93, 2.93, 10.75 Hz),6.18 (1H, ddd, J=2.44, 2.44, 10.25 Hz)。

実施例４５
５−デオキシ−３’，４’−ジデヒドロ−５−エピフルオロアルベカシン

製造工程４５−（ａ）
実施例１３及び製造工程２−（ｅ）の方法に準じて、３’，４’−ジデヒドロアルベカシンから標題の化合物：５−デオキシ−３’，４’−ジデヒドロ−５−エピフルオロアルベカシンを得た。
FABMS:m/z553[M+H]⁺。

実施例４６
５−デオキシ−３’，４’−ジデヒドロ−５−エピクロロアルベカシン

製造工程４６−（ａ）
実施例１６の方法に準じて、３’，４’−ジデヒドロアルベカシン１６１mgから、標記化合物：５−デオキシ−３’，４’−ジデヒドロ−５−エピクロロアルベカシン（８６mg）を得た。
FABMS:m/z569[M+H]⁺。

実施例４７
５−デオキシ−３’，４’−ジデヒドロ−５−エピアジドアルベカシン

製造工程４７−（ａ）
実施例１７の方法に準じて、３’，４’−ジデヒドロアルベカシンから標記化合物：５−デオキシ−３’，４’−ジデヒドロ−５−エピアジドアルベカシンを得た。
FABMS:m/z576[M+H]⁺。

実施例４８
５−デオキシ−３’，４’−ジデヒドロ−５−エピアミノアルベカシン

製造工程４８−（ａ）
実施例１７の方法に準じて、３’，４’−ジデヒドロアルベカシン１６１mgから、下記の化合物８６mgを得た。

製造工程４８−（ｂ）
製造工程４８−（ａ）で得た化合物８５mgをジメチルホルムアミド２ｍＬ、水６μＬに溶解し、トリブチルホスフィン０．０３ｍＬを加え、室温で１５時間攪拌した。反応液を濃縮乾固し、残渣を酢酸エチル（１０ｍＬ） に溶解し、水、１０％食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシムにて脱水し、濃縮乾固した。得た化合物（５−エピアミノ体）を塩化メチレン２．４ｍＬおよびメタノール１．２ｍＬに溶解し、氷冷下、０．５Mナトリウムメトキサイド０．１ｍＬを加え、室温で１５時間攪拌した。反応液にドライアイスを加えた後、減圧濃縮し、得た残渣をヘキサン、イソプロピルエーテル、水で洗浄後減圧乾燥し、下記の化合物５４mgを得た

製造工程４８−（ｃ）
製造工程１−（ｊ）の方法に従い、製造工程４８−（ｂ）で得た化合物の５４mgから、標記化合物：５−デオキシ−３’，４’−ジデヒドロ−５−エピアミノアルベカシン（１７mg）を固体として得た。
FABMS:m/z550[M+H]⁺。

実施例４９
１−Ｎ−[（Ｓ）−（３−アミノ−２−ヒドロキシプロパノイル）]−３’，４’−ジデヒドロ−５−エピジベカシン

製造工程４９−（ａ）
２’，３，６’−トリ−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）−３”−Ｎ−トリフルオロアセチル−３’，４’−ジデヒドロジベカシン２．７０ｇを用いて、製造工程９−（ａ）の方法に従って反応を行った。こうして得た化合物（３．０３g）を用いて、製造工程１−（ｃ）の方法に従って、ベンゾイル化した化合物（２．５５ｇ）を得た。この化合物を用いて製造工程１−（ｄ）および（ｅ）の方法に従って反応を行った後、さらに製造工程１−（ｉ）の方法に従って反応を行い、ベンゾイル基及びアセチル基を脱保護した化合物（１．７７ｇ）を得た。この化合物３５０mgを、無水テトラヒドロフラン４ｍＬに溶解した。さらに、冷却下、反応中に液体アンモニア２０ｍＬを捕集し、金属ナトリウム２００mgを加えた。この反応液が深青色を１０分継続した後、塩化アンモニウムを５１５mg加えて反応を停止した。反応中の液体アンモニアを室温、窒素気流下にて留去後、反応液を濃縮乾固し、残渣をクロロホルム：メタノール＝５：１で抽出し、酢酸でｐＨ６とした。この溶液を濃縮乾固して得た化合物を、製造工程９−（ｍ）の方法に従って反応させ、さらに製造工程１−（ｊ）の方法に従って脱保護し、標題の化合物：１−Ｎ−[（Ｓ）−（３−アミノ−２−ヒドロキシプロパノイル）]−３’，４’−ジデヒドロ−５−エピジベカシン（２８mg）を得た。
FABMS:m/z537[M+H]⁺。

実施例５０
１−Ｎ−[（Ｒ）−（３−アミノ−２−ヒドロキシプロパノイル）]−３’，４’−ジデヒドロ−５−エピジベカシン

製造工程５０−（ａ）
実施例４９の方法に準じて反応を行い、標題の化合物：１−Ｎ−[（Ｒ）−（３−アミノ−２−ヒドロキシプロパノイル）]−３’，４’−ジデヒドロ−５−エピジベカシンを得た。
FABMS:m/z537[M+H]⁺。

実施例５１
３’，４’−ジデヒドロ−５，４”−ジエピアルベカシン

製造工程５１−（ａ）
実施例１の方法に準じて、３’，４’−ジデヒドロアルベカシンから、標題の化合物：３’，４’−ジデヒドロ−５，４”−ジエピアルベカシンを得た。
FABMS:m/z551[M+H]⁺ ；
¹H-NMR(D₂O+ND₃)δ：1.35 (1H, m),1.82 (1H, m),2.02 (2H, m),2.80 (2H, m),2.89 (2H, m),3.00 (1H, dd, J=2.9, 10.7 Hz),3.18 (1H, m),3.53 (2H, m),3.59 (1H, dd, J=3.9, 10.7 Hz),3.76 (2H, m),3.82 (1H, dd, J=2.7, 10.7 Hz),3.89 (1H, brd),4.09 (1H, m),4.22 (1H, dd, J=3.6, 9.3 Hz),4.26 (1H, m),4.37 (1H, m),4.59 (1H, m),5.09 (1H, d, J=4.0 Hz),5.16 (1H, d, J=4.2 Hz),5.80 (1H, s),5.80 (1H, s)。

実施例５２
５−デオキシ−３’，４’−ジデヒドロ−４”−エピ−５−エピフルオロアルベカシン

製造工程５２−（ａ）
実施例２の方法に準じて、３’，４’−ジデヒドロアルベカシンから、標題の化合物：５−デオキシ−３’，４’−ジデヒドロ−４”−エピ−５−エピフルオロアルベカシンを得た。
FABMS:m/z553[M+H]⁺；
¹H-NMR(D₂O+DCl)δ:1.70 (1H, ddd, J=12.7, 12.7, 12.7 Hz),1.76-1.86 (1H, m),2.03 (1H, ddt, J=3.90, 7.32, 14.65 Hz),2.20 (1H, ddd, J=4.39, 4.39, 13.19 Hz),3.03 (2H, dd, J=7.33, 7.33 Hz),3.12 (1H, dd, J=6.35, 13.67 Hz),3.22 (1H, dd, J=3.42, 13.67 Hz),3.49 (1H, dd, J=2.93, 11.23 Hz),3.59-3.66 (1H, m),3.63 (2H, d, J=5.86 Hz),3.84 (1H, dd, J=3.91, 10.74 Hz),3.95-4.04 (3H, m),4.07-4.10 (1H, m),4.14 (1H, dd, J=3.91, 9.28 Hz),4.15-4.23 (2H, m),4.54-4.56 (1H, m),5.05 (1H, d, J=3.91 Hz),5.48 (1H, d, J=3.91 Hz),5.50 (1H, d, J=51.27 Hz),5.86 (1H, ddd, J=1.95, 1.95, 11.23 Hz),6.00 (1H, ddd, J=1.95, 1.95, 10.74 Hz)。

実施例５３
５−デオキシ−３’，４’−ジデヒドロ−４”−エピ−５−エピアミノアルベカシン

製造工程５３−（ａ）
実施例４の方法に準じて、３’，４’−ジデヒドロアルベカシンから、下記の化合物を得た。

製造工程５３−（ｂ）
製造工程４８−（ｂ）および４８−（ｃ）の方法に従い、製造工程５３−（ａ）で得た化合物の１５０mgから、標題の化合物：５−デオキシ−３’，４’−ジデヒドロ−４”−エピ−５−エピアミノアルベカシン（１０mg）を固体として得た。
ESIMS: m/z572[M+Na]⁺

実施例５４
４”−デオキシ−３’，４’−ジデヒドロ−５−エピアルベカシン

製造工程５４−（ａ）
３，２’，６’，３”−テトラ−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−３’，４’−ジデヒドロ−４”’−ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニルアルベカシン１．５０ｇを用いて、製造工程１−（ｂ）〜１−（ｇ）の方法に従って反応を行い、下記の化合物０．７４ｇを得た。

製造工程５４−（ｂ）
製造工程５４−（ａ）で得た化合物３００mgを用いて、製造工程８−（ａ）および８−（ｂ）の方法に従って反応を行い、下記の化合物１００mgを得た。

製造工程５４−（ｃ）
製造工程５４−（ｂ）で得た化合物９７mgを用いて製造工程１−（ｉ）および１−（ｊ）の方法に従い脱保護を行い、標題の化合物：４”−デオキシ−３’，４’−ジデヒドロ−５−エピアルベカシン（２０mg）を得た。
ESIMS:m/z557[M+Na]^+
1H-NMR(D₂O+DCl)δ:1.68(1H,m),1.79(1H,m),2.01(1H,m),2.15(1H,m),2.21(1H,m)2.32(1H,m),2.32(1H,m),3.21(2H,m),3.35(2H,m),3.73(5H,m),4.05(1H,dd,J=2.4,10.7 Hz),4.21(2H,m),4.25(1H,brs),4.32(1H,dd,J=3.7,9.3 Hz),4.38(1H,m),4.75(1H,brs),5.22(1H,J=3.6 Hz),5.61(1H,d,J=3.9 Hz),6.07(1H,m),6.21(1H,m)。

実施例５５
５，６”−ジデオキシ−３’，４’−ジデヒドロ−６”−フルオロ−５−エピフルオロアルベカシン

製造工程５５−（ａ）
２’，３，６’−トリ−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）−３”−Ｎ−トリフルオロアセチル−３’，４’−ジデヒドロジベカシン（２．５３７ｇ）と（Ｓ）−４−（ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニルアミノ）−２−ヒドロキシブタン酸とを、実施例９の方法に準じて反応させ、下記の化合物３．３２５ｇを得た。

製造工程５５−（ｂ）
製造工程１−（ｇ）の方法に従い、製造工程５５−（ａ）で得た化合物 ２．８０ｇから、下記の化合物１．７１ｇを得た。

製造工程５５−（ｃ）
製造工程２−（ａ）の方法に従い、製造工程５５−（ｂ）で得た化合物 １．５４ｇから、下記の化合物 １．６４ｇを得た。

製造工程５５−（ｄ）
製造工程５５−（ｃ）で得た化合物１．０８ｇを用いて、製造工程３３−（ｃ）の方法に従ってトリフェニルメチル基の除去を行い、下記の化合物７００mgを得た。

製造工程５５−（ｅ）
製造工程２−（ｅ）の方法に従い、製造工程５５−（ｄ）で得た化合物３４０mgから、下記の化合物１８０mgを得た。

製造工程５５−（ｆ）
製造工程９−（ｂ）および製造工程１−（ｊ）の方法に従い、製造工程５５−（ｅ）で得た化合物 １８０mgから、標題の化合物：５，６”−ジデオキシ−３’，４’−ジデヒドロ−６”−フルオロ−５−エピフルオロアルベカシン（１７mg）を得た。
FABMS:m/z555[M+H]⁺；
¹H-NMR(D₂O+DCl)δ:1.71 (1H, ddd, J=12.7, 12.7, 12.7 Hz),1.77-1.89 (1H, m),2.03 (1H, ddt, J=3.90, 7.32, 14.65 Hz),2.19 (1H, ddd, J=4.40, 4.40, 12.70 Hz),3.02 (2H, dd, J=7.32, 7.32 Hz),3.14 (1H, dd, J=6.35, 13.67 Hz),3.22 (1H, dd, J=3.42, 13.67 Hz),3.29 (1H, dd, J=10.25, 10.25 Hz),3.59 (1H, dd, J=10.26, 10.26 Hz),3.62-3.65 (1H, m),3.69 (1H, dd, J=3.42, 10.75 Hz),3.90-3.99 (1H, m),4.02 (1H, ddd, J=1.96, 10.74, 28.30 Hz),4.08-4.10 (1H, m),4.14 (1H, dd, J=3.42, 9.28 Hz),4.17-4.25 (2H, m),4.54-4.74 (3H, m'),5.07 (1H, d, J=3.91 Hz),5.31 (1H, d, J=51.76 Hz),5.50 (1H, d, J=3.91 Hz),5.87 (1H, ddd, J=2.44, 2.44, 10.74 Hz),6.01 (1H, ddd, J=1.95, 1.95, 10.74 Hz)。

実施例５６
３”−Ｎ−メチルアルベカシン

製造工程５６−（ａ）
製造工程２８−（ｂ）で得た化合物４．１０ｇを用いて、製造工程１−（ｊ）の方法に従い脱保護を行い、さらに製造工程２８−（ｆ）の方法に従って反応を行い、標題の化合物：３”−Ｎ−メチルアルベカシン（１．５４ｇ）を得た。
FABMS:m/z567[M+H]⁺；
¹H-NMR(D₂O+ ND₃ ),δ：1.55 (2H, m),1.76 (1H, m)1.87 (3H, m),2.04 (2H, m),2.55 (3H, s)2.78 (2H, m),2.87 (3H, m),2.98 (1H, m),3.04 (1H, m)3.46 (1H, dd, J=9.3 Hz),3.57 (1H, dd, J=9.7, 10.0 Hz),3.64 (1H, dd, J=3.6, 10.5 Hz),3.86 (4H, m),3.98 (1H, m),4.10 (2H, m),4.30 (1H, dd, J=3.6, 9.3 Hz),5.20 (1H, d, J=3.6 Hz),5.27 (1H, d, J=3.5 Hz)。

実施例５７
３”−Ｎ−エチルアルベカシン

製造工程５７−（ａ）
製造工程２８−（ｂ）において、ホルムアルデヒドの代わりにアセトアルデヒドを用いて反応を行って得た化合物を用いて、製造工程５６−（ａ）の方法に従い、標題の化合物：３”−Ｎ−エチルアルベカシンを得た。
FABMS:m/z581[M+H]⁺；
¹H NMR (D₂O+DCl)δ：1.19 (3H, t, J=7.3 Hz),1.42-1.58 (1H, m),1.62-2.13 (7H, m),2.93-3.46 (9H, m), 3.61-3.92 (8H, m),3.94-4.09 (2H, m), 4.13 (1H, dd, J=3.7, 9.3 Hz),5.03 (1H, d, J=3.7Hz),5.64 (1H, d, J=3.6Hz)。

実施例５８
３”−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アルベカシン

製造工程５８−（ａ）
３，２’，６’−トリ−Ｎ−t−ブトキシカルボニル−４”’−Ｎ−ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル−アルベカシン６１ｍｇを、ＤＭＦ０．６ｍＬおよび水０．０２ｍＬに溶解し、炭酸カリウム１４mgおよび２−（２−ブロモエトキシ）テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン４２mgを加え、６０℃で一晩攪拌した。反応液を減圧濃縮後、水を加えて濾過し、得た残渣を分取−ＴＬＣを用いて精製した。このようにして得た化合物を製造工程１−（ｊ）の方法に従って処理し、標題の化合物：３”−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アルベカシンを得た。
FABMS:m/z597[M+H]⁺。

実施例５９
３”−Ｎ−ベンジルアルベカシン

製造工程５９−（ａ）
製造工程１−（ｊ）の方法に従い、製造工程２８−（ａ）で得た化合物８５mgを用いて、標題の化合物：３”−Ｎ−ベンジルアルベカシン（５６mg）を得た。
TSPMS:m/z643[M+H]⁺；
¹H NMR (D₂O+DCl)δ：1.58-1.72 (1H, m),1.86-2.15 (5H, m),2.16-2.33 (2H , m),3.15(1H, dd, J=7.3, 13.4 Hz),3.21 (2H, t, J=7.3 Hz),3.30 (1H, d, J=7.3, 13.4 Hz),3.51-3.64 (3H, m),3.82 (1H, dd, J=4.2, 12.5 Hz),3.82-3.88 (1H ,m),3.87 (1H, dd, J=2.2, 11.7 Hz),3.93 (1H, t, J=10.0 Hz),3.94 (1H, t, J=10.3 Hz),3.97-4.08 (3H, m),4.15 (1H, ddd, J=4.6, 10.7, 12.2 Hz),4.19-4.26 (1H, m), 4.32 (1H, dd, J=3.8, 9.4 Hz),4.47 (2H, q_Ab, J=12.9, 16.9 Hz),5.22 (1H, d, J=3.6 Hz),5.81 (1H, d, J=3.7 Hz),7.54 (5H, s)。

実施例６０
３”−Ｎ−（３−ヒドロキシベンジル）アルベカシン

製造工程６０−（ａ）
ベンズアルデヒドの代わりにｍ−ヒドロキシベンズアルデヒドを用いて製造工程２８−（ａ）の方法に従って反応を行い、得た化合物を製造工程１−（ｊ）の方法に従って脱保護し、標題の化合物：３”−Ｎ−（３−ヒドロキシベンジル）アルベカシンを得た。
FABMS:m/z659[M+H]⁺；
¹H NMR (D₂O:DCl)δ：1.36-1.51 (1H,m),1.63-2.12(7H, m),2.89-3.12 (4H, m),3.29-3.43 (3H, m),3.57-4.23 (11H, m),4.65 (2H, s),5.00 (1H, d, J=3.6Hz),5.59 (1H, d, J=3.4Hz),6.77-6.89 (3H, m),7.15-7.21 (1H, m)。

実施例６１
３”−Ｎ−（４−ヒドロキシベンジル）アルベカシン

製造工程６１−（ａ）
ベンズアルデヒドの代わりにｐ−ヒドロキシベンズアルデヒドを用いて製造工程２８−（ａ）の方法に従って反応を行い、得た化合物を製造工程１−（ｊ）の方法に従って脱保護し、標題の化合物：３”−Ｎ−（４−ヒドロキシベンジル）アルベカシンを得た。
FABMS:m/z659[M+H]⁺；
¹H NMR (D₂O+DCl)δ：1.35-1.48 (1H, m),1.60-2.10 (7H, m),2.87-3.09 (4H, m), 3.25-3.42 (3H, m),3.54-4.04 (10H, m) 4.08 (1H, dd, J=3.6, 9.5 Hz),4.14 (2H, q_Ab, J=13.2, 16.3 Hz),4.97 (1H, d, J=3.6 Hz),5.57 (1H, d, J=3.4 Hz),6.74 (2H, d, J=8.5 Hz),7.17 (2H, d, J=8.5 Hz)。

実施例６２
３”−Ｎ−（３−アミノベンジル）アルベカシン

製造工程６２−（ａ）
製造工程２８−（ａ）の方法に従い、ベンズアルデヒドの代わりにｍ−（ｔ−ブトキシカルボニル）アミノベンズアルデヒドを用いて反応を行い、得た化合物を製造工程１−（ｊ）の方法に従って脱保護し、標題の化合物：３”−Ｎ−（３−アミノベンジル）アルベカシンを得た。
FABMS:m/z658[M+H]⁺；
¹H NMR (D₂O+DCl)δ：1.37-1.50 (1H, m),1.63-2.11 (7H, m),2.90-3.12 (4H, m),3.30-3.43 (3H, m),3.58-4.05 (10H, m) 4.09-4.14 (1H, m),4.32 (2H, q_Ab, J=13.4, 15.6 Hz),5.01 (1H, d, J=3.7Hz),5.60 (1H, d, J=3.5 Hz),7.31-7.48 (4H, m)。

実施例６３
３”−Ｎ−（２−フェニルエチル）アルベカシン

製造工程６３−（ａ）
製造工程２８−（ａ）の方法に従い、ベンズアルデヒドの代わりに３−フェニルプロピオンアルデヒドを用いて反応を行い、得た化合物を製造工程１−（ｊ）の方法に従って脱保護し、標題の化合物：３”−Ｎ−（２−フェニルエチル）アルベカシンを得た。
FABMS:m/z657[M+H]⁺；
¹H NMR (D₂O+DCl)δ：1.28-1.41 (1H, m),1.55-2.02 (7H, m),2.80-3.03 (6H, m),3.21-3.34 (5H, m),3.47-3.97 (10H, m),4.00 (1H, dd, J=3.7, 9.5 Hz),4.90 (1H, d, J=3.7 Hz),5.52 (1H, d, J=3.4 Hz),7.05-7.18(5H, m)。

実施例６４
３”−Ｎ−アミジノアルベカシン

製造工程６４−（ａ）
３，２’，６’−トリ−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−４”’−Ｎ−ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル−アルベカシン１０４mgを、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１ｍＬに溶解した。この溶液に、Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｓ−メチルイソチオ尿素４０mgのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液０．２ｍＬ、トリエチルアミン０．０３４ｍＬ、および塩化水銀３８ｍｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液０．２ｍＬを順次加え、室温にて３時間攪拌した。この反応液を濾過した後、減圧濃縮して得た残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝１０：１）で精製した。さらに、得た化合物を製造工程１−（ｊ）の方法に従って脱保護し、標題の化合物：３”−Ｎ−アミジノアルベカシン（４３mg）を得た。
FABMS:m/z595[M+H]⁺。

実施例６５
３”−Ｎ−ホルムイミドイルアルベカシン

製造工程６５−（ａ）
３，２’，６’−トリ−Ｎ−t−ブトキシカルボニル−４”’−Ｎ−ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニルアルベカシン１０２mgを、メタノール４ｍＬに溶解し、エチルホルムイミデート塩酸塩３７mgを加え、室温にて２日間攪拌した。この反応液を濃縮乾固してジエチルエーテルで洗浄して得た固体を、製造工程１−（ｊ）の方法に従って脱保護し、標題の化合物：３”−Ｎ−ホルムイミドイルアルベカシンを得た。
FABMS:m/z580[M+H]⁺。

実施例６６
６’−Ｎ−（２−ヒドロキシベンジル）アルベカシン

製造工程６６−（ａ）
製造工程１２−（ｃ）で得た化合物５０mgをメタノール１ｍＬに溶解し、２−ヒドロキシベンズアルデヒド９．６mgを加え、２時間室温で攪拌した。さらに、この反応液に水素化ホウ素ナトリウム16mgを加えて１時間攪拌した。この反応液を濾過し、減圧濃縮して得た残渣を、製造工程１−（ｊ）の方法に従って脱保護し、標題の化合物：６’−Ｎ−（２−ヒドロキシベンジル）アルベカシン（２７．４mg）を得た。
FABMS:m/z659[M+H]⁺。

実施例６７
６’−Ｎ，Ｎ−ビス（２−アミノエチル）アルベカシン

製造工程６７−（ａ）
製造工程１２−（ｂ）で得た化合物６２０mgを、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍＬに溶かした溶液に、触媒量のｐ−ＴｓＯＨ・Ｈ_２Ｏおよび２，２−ジメトキシプロパン（２１０mg）を加え、室温で２０時間攪拌した。この反応液にトリエチルアミンを加えて減圧濃縮し、得た残渣をイソプロピルエーテルで洗浄後、減圧下乾燥させ、下記の化合物６４０mgを得た。

製造工程６７−（ｂ）
製造工程６７−（ａ）で得た化合物６４０mgを、ジオキサン１０ｍＬ、メタノール１０ｍＬ、および水８ｍＬの溶液に溶解し、水酸化パラジウム１７０mgを加えて、水素圧３０ｌｂｓにて接触水素還元反応を１６時間行った。この反応液をセライトろ過し、メタノール：水＝１：１の溶液で洗浄後、ろ液を濃縮乾固して下記の化合物５６０mgを得た。

製造工程６７−（ｃ）
製造工程６７−（ｂ）で得た化合物９５mgをメタノール５ｍＬに溶解し、この反応液に、Ｎ−ベンジル−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）アミノアセトアルデヒド７０mgおよびシアン化水素化ホウ素ナトリウム１４mgを加え、室温で１時間攪拌した。この反応液を減圧濃縮し、製造工程１−（ｊ）と同様の方法で脱保護し、下記の化合物２７mgを得た。

製造工程６７−（ｄ）
製造工程−（ｃ）で得た化合物の２１mgを、水２ｍＬおよび酢酸0.3ｍＬに溶解し、さらに、水酸化パラジウム１７mgを加えて、水素雰囲気下１６時間、接触水素還元反応を行った。この反応液をセライトろ過後、ろ液を濃縮乾固した。得た化合物をさらに製造工程１−（ｊ）と同様の方法で処理し、標題の化合物：６’−Ｎ，Ｎ−ビス（２−アミノエチル）アルベカシン（１３mg）を得た。
FABMS:m/z639[M+H]⁺。

実施例６８
６’−Ｎ−アミジノアルベカシン

製造工程６８−（ａ）
製造工程１２−（ｃ）で得た化合物１０９mgを、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１ｍＬに溶解した。この溶液に、Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｓ−メチルイソチオ尿素４１mgのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液０．２ｍＬ、トリエチルアミン０．０３２ｍＬ、および塩化水銀３７mgのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液０．１ｍＬを順次加え、室温にて３時間攪拌した。この反応液を濾過し、減圧濃縮して得た残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝１０：１）で精製した。こうして得た化合物を製造工程１−（ｊ）の方法に従って脱保護し、標題の化合物：６’−Ｎ−アミジノアルベカシン（５３mg）を得た。
FABMS:m/z595[M+H]⁺。

実施例６９
６’−Ｎ−ホルムイミドイルアルベカシン

製造工程６９−（ａ）
製造工程１２−（ｃ）で得た化合物１９６mgを、メタノール４ｍＬに溶解し、エチルホルムイミデート塩酸塩６７mgを加えて、室温で２日間攪拌した。この反応液を濃縮乾固し、ジエチルエーテルで洗浄して、固形物を得た。この固形物を、製造工程１−（ｊ）の方法に従って処理し、標題の化合物：６’−Ｎ−ホルムイミドイルアルベカシンを得た。
FABMS:m/z580[M+H]⁺。

実施例７０
６’−アミノメチル−６’−デアミノ−６’−ヒドロキシアルベカシン

製造工程７０−（ａ）
製造工程３０−（ｄ）で得た化合物８２mgを、メタノール７ｍＬ、水３ｍＬ、および酢酸０．２ｍＬの溶液に溶解した。この溶液に酸化白金５０mgを加え、水素圧４０ｌｂｓにて接触水素還元反応を２０時間行った。この反応液をセライトろ過し、メタノール：水＝１：１の溶液で洗浄後、ろ液を減圧濃縮した。さらに、こうして得た化合物を製造工程１−（ｊ）と同様の方法にて脱保護し、標題の化合物：６’−アミノメチル−６’−デアミノ−６’−ヒドロキシアルベカシン（３１mg）を得た。
FABMS:m/z583[M+H]⁺。

実施例７１
６’−（２−アミノエチル）−６’−デアミノアルベカシン

製造工程７１−(ａ)
製造工程３０−（ｃ）で得た化合物の７５mgをクロロホルム３ｍＬに溶解し、この溶液にＰｈ_３Ｐ＝ＣＨＣＮ ６０mgを加え、４０℃にて１２時間攪拌した。この反応液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開系、塩化メチレン：メタノール=２５：１)にて精製し、下記の化合物５４ｍｇを得た。

製造工程７１−(ｂ)
製造工程７１−(ａ)で得た化合物５４mgを、メタノール７ｍＬ、水３ｍＬ、および酢酸０．２ｍＬの溶液に溶解した。この溶液に酸化白金３５mgを加え、水素圧４０ｌｂｓにて接触水素還元反応を２０時間行った。この反応液をセライトろ過し、メタノール：水＝６：４の溶液で洗浄後、ろ液を減圧濃縮した。こうして得た生成物を、製造工程１−（ｉ）、（ｊ）と同様の方法で脱保護し、標題の化合物：６’−（２−アミノエチル）−６’−デアミノアルベカシン（１９．８mg）を得た。
FABMS:m/z581[M+H]⁺。

実施例７２
６”−アジド−６”−デオキシアルベカシン

製造工程７２−（ａ）
製造工程３２−（ｂ）で得た化合物１００ｍｇを、ジメチルホルムアミド４ｍＬに溶解し、アジ化ナトリウム６５ｍｇを加え、９０℃にて２２時間攪拌した。この反応液から不溶物をろ過し、ろ液を減圧濃縮し、得た残渣に酢酸エチルを加え、水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開系、酢酸エチル：トルエン=１：1)にて精製し、下記の化合物３２ｍｇを得た。

製造工程７２−（ｂ）
製造工程７２−（ａ）で得た化合物３０ｍｇを、メタノール３ｍＬに溶解し、２Ｍ 水酸化ナトリウム水溶液０．２ｍＬを加え、室温で０．５時間攪拌した。この反応液を１Ｍ 塩酸で中和後、減圧濃縮した。こうして得た化合物を、製造工程１−（ｊ）と同様の方法にて脱保護し、標題の化合物：６”−アジド−６”−デオキシアルベカシン（８ｍｇ）を得た。
FABMS:m/z578[M+H]⁺。

実施例７３
６”−アミノ−６”−デオキシアルベカシン

製造工程７３−（ａ）
実施例７２で得た化合物（６”−アジド−６”−デオキシアルベカシン）２５ｍｇを、水２ｍＬおよびメタノール０．３ｍＬに溶解した。この溶液にパラジウムブラック１０ｍｇを加え、水素雰囲気下にて３時間、接触水素還元反応を行った。この反応溶液をセライトろ過後、ろ液を濃縮乾固した。こうして得た化合物を製造工程１−（ｊ）と同様の方法で処理し、標記の化合物：６”−アミノ−６”−デオキシアルベカシン（１２．６ｍｇ）を得た。
FABMS:m/z552[M+H]⁺ 。

実施例７４
６”−デオキシ−６”−（４−モルホリニル）アルベカシン

製造工程７４−（ａ）
製造工程１−（ａ） で得た化合物１．０gをピリジン２０ｍＬに溶解し、４−ジメチルアミノピリジン９００mgおよびトリチルクロライド５６０mgを加え、この反応液を７０℃にて４時間攪拌した。さらに、この反応液に無水酢酸０．９ｍＬを加え、室温で１６時間攪拌した。この反応液にメタノール１ｍＬを加えた後、減圧濃縮した。そして、残渣に酢酸エチルを加え、硫酸水素カリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液、水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開系、塩化メチレン：メタノール=２５：１)にて精製し、下記の化合物１．２４ｇを得た。

製造工程７４−（ｂ）
製造工程７４−（ａ）で得た化合物４８０mgを、ジエチルエーテル３ｍＬに溶解し、ギ酸３ｍＬを加え、室温で２０時間攪拌した。この反応液に酢酸エチルを加え、炭酸水素ナトリウム水溶液、水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開系、塩化メチレン：メタノール=１５：１)にて精製し、下記の化合物２００mgを得た。

製造工程７４−（ｃ）
製造工程７４−（ｂ）で得た化合物２００mgをベンゼン８ｍＬおよびジメチルスルホキシド１ｍＬに溶解し、ジシクロヘキシルカルボジイミド１８０mg、ピリジン４６mg、およびトリフルオロ酢酸２１mgを加え、室温で１６時間攪拌した。この反応液をろ過し、ろ液を減圧濃縮した。得た残渣に酢酸エチルを加え、水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開系、塩化メチレン：メタノール=60：1)にて精製し、下記の化合物２００mgを得た。

製造工程７４−（ｄ）
製造工程７４−（ｃ）で得た化合物９６mgを、メタノール５ｍＬに溶解し、モルホリン２３０mgおよびシアン化水素化ホウ素ナトリウム１８mgを加え、室温で３時間攪拌した。さらに，この反応液に２Ｍ 水酸化ナトリウム水溶液０．３ｍＬを加え、０．５時間攪拌した。この反応液を１Ｍ 塩酸で中和後、減圧濃縮した。こうして得た化合物を製造工程１−（ｊ）と同様の方法で脱保護し、標題の化合物：６”−デオキシ−６”−（４−モルホリニル）アルベカシン（３１mg）を得た。
FABMS:m/z622[M+H]⁺。

実施例７５
６”−デオキシ−６”−（２−アミノエチル）アミノアルベカシン

製造工程７５−（ａ）
製造工程７４−（ｄ）と同様の方法で、製造工程７４−（ｃ）の化合物７０mgとＮ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）エチレンジアミンとを反応させ、標題の化合物：６” −デオキシ−６”−（２−アミノエチル）アミノアルベカシン（２６mg）を得た。
FABMS:m/z595[M+H]⁺。

実施例７６
６”−アミノメチルアルベカシン

製造工程７６−（ａ）
製造工程７４−（ｃ）で得た化合物１０８mgを５ｍＬのメタノールに溶かした溶液に、１Ｍ ナトリウムメトキシド・メタノール溶液０．１ｍＬを加え、室温にて３０分撹拌後した。さらに、この反応液にニトロメタン０．５５ｍＬを加えて、室温にて４時間撹拌後した。この反応液を、氷浴下１Ｍ塩酸にて中和し、濃縮乾固した。こうして得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−(塩化メチレン：メタノール=15：1)にて精製し、下記の化合物４３mgを得た。

製造工程７６−（ｂ）
製造工程７６−（ａ）で得た化合物４３ｍｇを、エタノール２．５ｍＬおよび水２．５ｍＬに溶解した。この溶液に酢酸０．０５ｍＬおよび酸化白金２０mgを加え、水素雰囲気下、接触水素還元反応を行った。１６時間後、この反応溶液に再度酸化白金４０mgを加えて、さらに１２時間、水素雰囲気下にて接触水素還元反応を行った。この反応液をセライトろ過後、ろ液を濃縮乾固し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−(塩化メチレン：メタノール：アンモニア水＝６０：１０：１)にて精製し、下記の化合物１０mgを得た。

製造工程７６−（ｃ）
製造工程７６−（ｂ）で得た化合物の１０mgに、９０％トリフルオロ酢酸水１ｍＬを加えて室温で１晩攪拌した。この反応液に水１０ｍＬを加え、水層をジエチルエーテル５ｍＬで３回洗浄した。さらに、この水層をアンモニア水でｐＨ７に中和した後、ＣＭ−Ｓｅｐｈａｄｅｘ(ＮＨ_４ ^＋）２０ｍＬにて精製し、標題の化合物：６”−アミノメチルアルベカシン（０．３ｇ）を得た。
FABMS:m/z582[M+H]⁺。

試験例１
抗細菌活性
本発明の新規アミノグリコシド系抗生物質誘導体の代表的な実施例記載化合物（実施例１、実施例２、実施例９、実施例１３、実施例１８、実施例２４、実施例４４、実施例４４、実施例４５、実施例４８、実施例４９、実施例５１、実施例５２、実施例５３、実施例５４、実施例７６）を用いて、ＭＲＳＡ（MRSA-HR, MRSA-LR）に対する最小発育阻止濃度（ＭＩＣ、μｇ／ｍＬ）を日本化学療法学会法に準じた寒天平板希釈法により測定した。この結果、実施例記載化合物は、MRSA-HR株に対してＭＩＣ値８以下を示し、MRSA-LR株に対してＭＩＣ値４以下を示した。一方、特開昭５５−１６４６９６号公報に記載のアルベカシンについて同様に試験したところ、MRSA-HR株に対してＭＩＣ値６４を示し、MRSA-LR株に対してＭＩＣ値１６を示した。また、上記の実施例記載化合物を用いて、緑膿菌（P.aeruginosa PAO1）に対する最小発育阻止濃度を測定したところ、ＭＩＣ値４以下を示した。

Claims (27)

1. 一般式（Ｉ）で表される化合物、またはそれらの薬理学的に許容されうる塩もしくは溶媒和物：
   

   

   〔式中、
   R^4”aおよびR^4”bは、同一または異なって水素原子または水酸基を表し、
   R^5aは、ハロゲン原子、
   水酸基、
   アミノ基、
   アジド基、
   Ｃ_1-6アルカノイルオキシ基、
   Ｃ_1-6アルキルスルホニルオキシ基、
   Ｃ_1-6アルカノイルアミノ基、
   アリールカルボニルアミノ基、
   ジ−Ｃ_1-6アルキルアミノ基、または
   Ｃ_1-6アルキルアミノ基（このアルキル基の１以上の水素原子は、水酸基、フェニル基、ビニル基、アミノ基またはヒドロキシメチル基で置換されていてもよい）を表し、
   R^6”aはＣ_1-6アルキル基（このアルキル基の１以上の水素原子は、水酸基、ハロゲン原子またはアミノ基で置換されていてもよい）
   R^6’aおよびR^6’bは、同一または異なって、水素原子またはＣ_1-6アルキル基を表し、
   R^3”a は水素原子またはＣ_1-6アルキル基を表し、
   点線は単結合または二重結合を表し、
   ｍは０〜２の整数を表し、
   Xは水素原子または水酸基を表し、
   ｎは１〜３の整数を表し、
   ＊はRまたはS配置を表し、ここで、R^4”aが水素原子であり、R^4”bが水酸基であり、点線が単結合の場合は、R^5aがフッ素原子以外の前述の基を表し、R^3"aが水素原子であり、R^4”aが水素原子であり、R^4”bが水酸基であり、R^6”aがヒドロキシメチル基であり、R^6'aおよびR^6'bがともに水素原子であり、Ｘが水素原子であり、かつ、点線が単結合である場合は、R^5aが水酸基、アミノ基、アジド基以外の前述の基を表す〕。
2. R^5aが、Ｃ_1-3アルカノイルオキシ基、Ｃ_1-3アルキルスルホニルオキシ基、Ｃ_1-3アルカノイルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基、ジ−Ｃ_1-3アルキルアミノ基、またはＣ_1-3アルキルアミノ基（このアルキル基の１以上の水素原子は、水酸基、フェニル基、ビニル基、アミノ基またはヒドロキシメチル基で置換されていてもよい）である、請求項１記載の化合物、またはそれらの薬理学的に許容されうる塩もしくは溶媒和物。
3. R^6”aが、Ｃ_1-3アルキル基（このアルキル基の１以上の水素原子は、水酸基、ハロゲン原子またはアミノ基で置換されていてもよい）である、請求項１に記載の化合物、またはそれらの薬理学的に許容されうる塩もしくは溶媒和物。
4. R^6’aおよびR^6’bが、同一または異なって、水素原子またはＣ_1-3アルキル基である、請求項１に記載の化合物、またはそれらの薬理学的に許容されうる塩もしくは溶媒和物。
5. R^3”a がＣ_1-3アルキル基である、請求項１記載の化合物、またはそれらの薬理学的に許容されうる塩もしくは溶媒和物。
6. R^5aが、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、アジド基、Ｃ_1-3アルカノイルオキシ基、Ｃ_1-3アルキルスルホニルオキシ基、Ｃ_1-3アルカノイルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基、ジ−Ｃ_1-3アルキルアミノ基、または
   Ｃ_1-3アルキルアミノ基（このアルキル基の１以上の水素原子は、水酸基、フェニル基、ビニル基、アミノ基またはヒドロキシメチル基で置換されていてもよい）であり、
   R^6”aが、Ｃ_1-3アルキル基（このアルキル基の１以上の水素原子は、水酸基、ハロゲン原子またはアミノ基で置換されていてもよい）であり、
   R^6’aおよびR^6’bが、同一または異なって、水素原子またはＣ_1-3アルキル基であり、
   R^3”a が水素原子またはＣ_1-3アルキル基である、請求項１記載の化合物、またはそれらの薬理学的に許容されうる塩もしくは溶媒和物。
7. R^4”aが水素原子または水酸基であり、
   R^{4” b}が水素原子であり、
   R^6”aがヒドロキシメチル基であり、
   R^6’aおよびR^6’bのいずれか一方が水素原子であり、
   点線が単結合であり、
   ｍが０であり、
   Xが水素原子であり、
   ｎが１〜３の整数である、請求項１記載の化合物、またはそれらの薬理学的に許容されうる塩もしくは溶媒和物。
8. R^5aが塩素原子、水酸基、アミノ基、アジド基、Ｃ_1-6アルカノイルオキシ基、Ｃ_1-6アルキルスルホニルオキシ基、Ｃ_1-6アルカノイルアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、ジ−Ｃ_1-6アルキルアミノ基、またはＣ_1-6アルキルアミノ基（このアルキル基の１以上の水素原子は、水酸基、フェニル基、ビニル基、アミノ基またはヒドロキシメチル基で置換されていてもよい）であり、
   R^6”aがヒドロキシメチル基であり、
   R^6’aおよびR^6’bのいずれか一方が水素原子であり、
   点線が単結合であり、
   ｍが０であり、
   Xが水素原子であり、
   ｎが２である請求項１記載の化合物、またはそれらの薬理学的に許容されうる塩もしくは溶媒和物。
9. R^6”aが、ヒドロキシメチル基またはフルオロメチル基であり、
   R^6’aおよびR^6’bがともに水素原子であり、
   R^3”a が水素原子であり、
   点線が二重結合であり、
   ｍは０であり、
   Xが水素原子であり、
   ｎが１若しくは２である請求項１記載の化合物、またはそれらの薬理学的に許容されうる塩もしくは溶媒和物。
10. 一般式（ＩＩ）で表される化合物、またはそれらの薬理学的に許容されうる塩もしくは溶媒和物：
    

    

    〔式中、
    R^5CはＣ_1-6アルキル基（このアルキル基の１以上の水素原子は、Ｃ_1-6アルコキシ基で置換されていてもよい）、
    Ｃ_2-6アルケニル基、または
    アミノＣ_1-6アルキル基（このアミノ基の１以上の水素原子は、Ｃ_1-6アルキル基（このアルキル基の1以上の水素原子はアミノ基、水酸基、またはヘテロアリール基で置換されていてもよい）で置換されていてもよい）を表し、
    ｎは１〜３の整数を表す〕。
11. R^5Cが、Ｃ_1-3アルキル基（このアルキル基の１以上の水素原子は、Ｃ_1-6アルコキシ基で置換されていてもよい）、Ｃ_2-4アルケニル基、またはアミノＣ_1-3アルキル基（このアミノ基の１以上の水素原子は、Ｃ_1-6アルキル基（このアルキル基の1以上の水素原子はアミノ基、水酸基、ヘテロアリール基で置換されていてもよい）で置換されていてもよい）である、請求項１０に記載の化合物、またはそれらの薬理学的に許容されうる塩もしくは溶媒和物。
12. R^5Cが、Ｃ_1-6アルキル基（このアルキル基の１以上の水素原子は、Ｃ_1-3アルコキシ基で置換されていてもよい）、Ｃ_2-6アルケニル基、またはアミノＣ_1-6アルキル基（このアミノ基の１以上の水素原子は、Ｃ_1-3アルキル基（このアルキル基の1以上の水素原子はアミノ基、水酸基、ピロリル基またはピリジル基で置換されていてもよい）で置換されていてもよい）である、請求項１０記載の化合物、またはそれらの薬理学的に許容されうる塩もしくは溶媒和物。
13. R^5Cが、Ｃ_1-3アルキル基（このアルキル基の１以上の水素原子は、Ｃ_1-3アルコキシ基で置換されていてもよい）、Ｃ_2-4アルケニル基、またはアミノＣ_1-3アルキル基（このアミノ基の１以上の水素原子は、Ｃ_1-3アルキル基（このアルキル基の1以上の水素原子はアミノ基、水酸基、ピロリル基またはピリジル基で置換されていてもよい）で置換されていてもよい）である、請求項１０記載の化合物、またはそれらの薬理学的に許容されうる塩もしくは溶媒和物。
14. 一般式（ＩＩＩ）で表される化合物、またはそれらの薬理学的に許容されうる塩もしくは溶媒和物：
    

    

    〔式中、
    R^4”cは水素原子または水酸基を表し、
    R^4”dは水素原子または水酸基を表し（ただし、R^4”cが水酸基の場合はR^4”dは水素原子を表す）、
    R^6”cは、Ｃ_1-6アルキル基（このアルキル基の１以上の水素原子は、水酸基、アミノ基またはアジド基により置換されていてもよい）、または下記の基：
    

    

    (ここで、R^6”dおよびR^6”eは同一若しくは異なって、水素原子またはアミノＣ_1-6アルキル基を表し、あるいはR^6”dとR^6”eとは一緒になってヘテロ原子を１−４個含む６員環基を形成してもよく、Yは水素原子または水酸基を表し、ｐは０または１の整数を表す)
    を表し、
    R^3”c およびR^3”dは、同一または異なって、
    水素原子、
    Ｃ_1-10アルキル基（このアルキル基の１以上の水素原子は、水酸基、アリール基（水酸基またはアミノ基で置換されていてもよい）、
    ホルムイミドイル基、または
    アミジノ基を表し、
    R^6’cおよびR^6’dは、同一または異なって、
    水素原子、
    アミノＣ_1-6アルキル基、
    ホルムイミドイル基、
    アミジノ基、または
    ベンジル基（水酸基で置換されていてもよい）を表し、
    rは０−２の整数を表し、
    Jは水素原子または水酸基を表し、
    sは１−３の整数を表し、
    ＊はRまたはS配置を表すが、ただし、R^4”c、R^3”c、R^3”d、R^6’c、およびR^6’dがともに水素原子を表し、R^4”dが水酸基を表し、R^6”cがヒドロキシメチル基を表し、rが０を表し、Xが水素原子を表し、sが２である化合物を除く〕。
15. R^6”cが、Ｃ_1-3アルキル基（このアルキル基の１以上の水素原子は、水酸基、アミノ基またはアジド基により置換されていてもよい）、または下記の基：
    

    

    (ここで、R^6”dおよびR^6”eは、同一または異なって、水素原子またはアミノＣ_1-3アルキル基を表し、あるいはR^6”dとR^6”eとは一緒になってヘテロ原子を１−４個含む６員環基を形成してもよく、Yは水素原子または水酸基を表し、ｐは０または１の整数を表す)
    であり、
    R^3”c およびR^3”dは、同一または異なって、
    水素原子、
    Ｃ_1-6アルキル基（このアルキル基の１以上の水素原子は、水酸基、フェニル基（水酸基またはアミノ基で置換されていてもよい）、ナフチル基（水酸基またはアミノ基で置換されていてもよい）で置換されていてもよい）、
    ホルムイミドイル基、または
    アミジノ基であり、
    R^6’c、R^6’dは同一または異なって、
    水素原子、
    アミノＣ_1-3アルキル基、
    ホルムイミドイル基、
    アミジノ基、または
    ベンジル基（水酸基で置換されていてもよい）
    であるものである、請求項１４に記載の化合物、またはそれらの薬理学的に許容されうる塩もしくは溶媒和物。
16. R^4”cが水素原子であり、R^4”dが水酸基であり、R^6’cおよびR^6’dがともに水素原子であり、R^3”cおよびR^3”dがともに水素原子であり、rが０であり、Jが水素原子であり、sが２である、請求項１４記載の化合物、またはそれらの薬理学的に許容されうる塩もしくは溶媒和物。
17. R^4”cが水素原子であり、R^4”dが水酸基であり、R^6’cおよびR^6’dがともに水素原子であり、R^6”cがヒドロキシメチル基であり、R^3”cおよびR^3”dのいずれか一方が水素原子であり、rが０であり、Jが水素原子であり、sが２である、請求項１４記載の化合物、またはそれらの薬理学的に許容されうる塩もしくは溶媒和物。
18. R^4”cが水素原子であり、R^4”dが水酸基であり、R^6”cがヒドロキシメチル基であり、R^3”c およびR^3”dがともに水素原子であり、sが２である、請求項１４記載の化合物、またはそれらの薬理学的に許容されうる塩もしくは溶媒和物。
19. ５，４”−ジエピアルベカシン、
    ５−デオキシ−４”−エピ−５−エピフルオロアルベカシン、
    ５−デオキシ−４”−エピ−５−エピクロロアルベカシン、
    ５−デオキシ−４”−エピ−５−エピアミノアルベカシン、
    ４”−デオキシ−５−エピアルベカシン、
    １−Ｎ−［（Ｓ）−（３−アミノ−２−ヒドロキシプロパノイル）］−５，４”−ジエピジベカシン、
    ５，４”−ジエピ−３”−Ｎ−メチルアルベカシン、
    ５，４”−ジエピ−６’−Ｎ−メチルアルベカシン、
    ５−エピアルベカシン、
    ５−デオキシ−５−エピクロロアルベカシン、
    ５−デオキシ−５−エピアミノアルベカシン、
    ５−デオキシ−５−エピ（２−アミノエチル）アミノアルベカシン、
    ５−エピ−３”−Ｎ−メチルアルベカシン、
    ６”−アミノメチル−５−エピアルベカシン
    ３’，４’−ジデヒドロ−５−エピアルベカシン、
    ５−デオキシ−３’，４’−ジデヒドロ−５−エピフルオロアルベカシン、
    ５−デオキシ−３’，４’−ジデヒドロ−５−エピアミノアルベカシン、
    １−Ｎ−[（Ｓ）−（３−アミノ−２−ヒドロキシプロパノイル）]−３’，４’−ジデヒドロ−５−エピジベカシン、
    ３’，４’−ジデヒドロ−５，４”−ジエピアルベカシン、
    ５−デオキシ−３’，４’−ジデヒドロ−４”−エピ−５−エピフルオロアルベカシン、
    ５−デオキシ−３’，４’−ジデヒドロ−４”−エピ−５−エピアミノアルベカシン、
    ４”−デオキシ−３’，４’−ジデヒドロ−５−エピアルベカシン、
    ６”−アミノメチルアルベカシン。
20. 請求項１〜１９のいずれか一項に記載の化合物、またはそれらの薬理学的に許容されうる塩もしくは溶媒和物を含んでなる、医薬組成物。
21. 請求項１〜１９のいずれか一項に記載の化合物、またはそれらの薬理学的に許容されうる塩もしくは溶媒和物を含んでなる、抗菌剤。
22. 一般式（Ｉａ）：
    

    

    〔式中、
    R^4”aおよびR^{4” b}は、同一または異なって、水素原子または水酸基を表し、
    R^5aは、ハロゲン原子、
    水酸基、
    アミノ基、
    アジド基、
    Ｃ_1-6アルカノイルオキシ基、
    Ｃ_1-6アルキルスルホニルオキシ基、
    Ｃ_1-6アルカノイルアミノ基、
    アリールカルボニルアミノ基、
    ジ−Ｃ_1-6アルキルアミノ基、または
    Ｃ_1-6アルキルアミノ基（このアルキル基の１以上の水素原子は、水酸基、フェニル基、ビニル基、アミノ基またはヒドロキシメチル基で置換されていてもよい）を表し、
    R^6”aは、Ｃ_1-6アルキル基（このアルキル基の１以上の水素原子は、水酸基、ハロゲン原子またはアミノ基で置換されていてもよい）を表し、
    R^6’aおよびR^6’bは、同一または異なって、水素原子またはＣ_1-6アルキル基を表し、
    R^3”a は水素原子またはＣ_1-6アルキル基を表し、
    点線は、単結合または二重結合を表し、
    ｍは０〜２の整数を表し、
    Xは水素原子または水酸基を表し、
    ｎは１〜３の整数を表し、
    ＊はRまたはS配置を表し、ここで、R^4”aが水素原子であり、R^4”bが水酸基であり、点線が単結合の場合は、R^5aがフッ素原子以外の前述の基を表す〕
    で表される化合物、またはそれらの薬理学的に許容されうる塩もしくは溶媒和物を含んでなる、抗ＭＲＳＡ剤。
23. 請求項１０乃至１３に記載の化合物、またはそれらの薬理学的に許容されうる塩もしくは溶媒和物を含んでなる、抗ＭＲＳＡ剤。
24. 請求項１４乃至１８に記載の化合物、またはそれらの薬理学的に許容されうる塩もしくは溶媒和物を含んでなる、抗ＭＲＳＡ剤。
25. 医薬組成物の製造のための、請求項１〜１９のいずれか一項に記載の化合物、またはそれらの薬理学的に許容されうる塩もしくは溶媒和物の使用。
26. 抗菌剤の製造のための、請求項１〜１９のいずれか一項に記載の化合物、またはそれらの薬理学的に許容されうる塩もしくは溶媒和物の使用。
27. 請求項１〜１９のいずれか一項に記載の化合物またはそれらの薬理学的に許容されうる塩もしくは溶媒和物を、ヒトを含む動物に投与することを含んでなる、感染症の予防または治療方法。