JPWO2005034114A1 - Magneto-optical recording medium substrate manufacturing method and magneto-optical recording medium - Google Patents

Magneto-optical recording medium substrate manufacturing method and magneto-optical recording medium Download PDF

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Abstract

本発明の光磁気記録媒体基板製造方法は、プリグルーブ型面（３２ａ）を有する密着層（３２）を第１基板（３１）上に形成するための密着層形成工程と、プリグルーブ型面（３２ａ）上に軟磁性材料を成長させることにより、当該プリグルーブ型面（３２ａ）の凹凸形状が転写されたプリグルーブ面（１２ａ）を有する軟磁性部（１２）を密着層（３２）上に形成するための工程（図３Ａ）と、軟磁性部（１２）および第２基板（１１）を一体化するための工程（図３Ｂ）と、軟磁性部（１２）および密着層（３２）の間に作用する密着力を低下させ、軟磁性部（１２）から密着層（３２）および第１基板（３１）を分離するための分離工程（図３Ｃ）と、を含む。The magneto-optical recording medium substrate manufacturing method of the present invention includes an adhesion layer forming step for forming an adhesion layer (32) having a pre-groove type surface (32a) on a first substrate (31), a pre-groove type surface ( A soft magnetic material (12) having a pre-groove surface (12a) to which the concavo-convex shape of the pre-groove mold surface (32a) is transferred by growing a soft magnetic material on the adhesive layer (32). A step (FIG. 3A) for forming, a step (FIG. 3B) for integrating the soft magnetic portion (12) and the second substrate (11), and the soft magnetic portion (12) and the adhesion layer (32). A separation step (FIG. 3C) for reducing the adhesion force acting between them and separating the adhesion layer (32) and the first substrate (31) from the soft magnetic part (12).

Description

本発明は、軟磁性部を有する光磁気記録媒体を製造するのに用いることのできる基板の製造方法、および、軟磁性部を有する光磁気記録媒体に関する。  The present invention relates to a substrate manufacturing method that can be used for manufacturing a magneto-optical recording medium having a soft magnetic part, and a magneto-optical recording medium having a soft magnetic part.

近年、光磁気記録媒体が注目を集めている。光磁気記録媒体は、磁性材料における種々の磁気特性を利用して構成され、熱磁気的な記録および磁気光学効果を利用した再生という２つの機能を担う書換え可能な記録媒体である。光磁気記録媒体は、１または２以上の垂直磁化膜からなる記録磁性部を有し、当該記録磁性部内に設けられる記録層に信号が記録される。記録に際しては、対物レンズ（媒体に対面するレンズ）を介して集光されたレーザを照射することにより記録層の所定箇所を昇温させつつ、当該箇所に所定の磁界が印加される。このようにして、記録層において、磁化方向の変化として所定の信号が記録される。再生に際しては、この記録信号が、所定の光学系で読み取られる。
光磁気記録媒体の記録密度を向上するための一手法として、記録の際に媒体に対してレーザを照射する領域のサイズを、即ちスポット径を、小さくすることが知られている。スポットの小径化により、媒体のトラックピッチを短く設計したり、記録マーク長を短くすることが可能となり、その結果、高い記録密度を得ることが可能となる。照射レーザの波長を短くしたり、当該照射レーザを集光するための対物レンズの開口数ＮＡを大きくすることにより、スポット径を小さくすることができる。
レンズの開口数ＮＡが大きくなるほど当該レンズの焦点距離が短くなるところ、光磁気記録媒体の技術の分野においては、開口数ＮＡの大きなレンズを適用すべく、従来のバックイルミネーション方式に代えてフロントイルミネーション方式の実用化に対する要求が高い。
バックイルミネーション方式光磁気記録媒体では、記録および再生に際し、記録磁性部に対して透明な基板の側からレーザが照射される。当該透明基板は、媒体の剛性を確保するために相当程度の厚さを必要とするので、バックイルミネーション方式光磁気記録媒体に対しては、焦点距離のより短いレンズほど、即ち開口数ＮＡのより大きなレンズほど、採用するのが困難となる。
これに対し、フロントイルミネーション方式光磁気記録媒体では、記録および再生に際し、記録磁性部について基板とは反対の側に設けられている透明保護膜の側から、記録磁性部に対してレーザが照射される。当該透明保護膜は相当程度に薄く形成することができるので、フロントイルミネーション方式光磁気記録媒体は、焦点距離の短いレンズすなわち開口数ＮＡの大きなレンズを採用するうえで、バックイルミネーション方式媒体よりも好適なのである。
フロントイルミネーション方式光磁気記録媒体では、記録磁性部に含まれる記録層について、記録時における磁気記録ヘッド（電磁石または電磁コイル）からの磁界に対する感度を向上することを目的として、軟磁性層が設けられる場合がある。
図１５は、従来の光磁気記録媒体の一例である光磁気記録媒体Ｘ３の積層構成を表す。光磁気記録媒体Ｘ３は、基板９１と、記録磁性部９２と、軟磁性層９３と、プリグルーブ層９４と、熱伝導層９５と、誘電体層９６，９７と、保護膜９８とからなる積層構造を有し、フロントイルミネーション方式の光磁気ディスクとして構成されたものである。これらは、軟磁性層９３、プリグルーブ層９４、熱伝導層９５、誘電体層９６、記録磁性部９２、誘電体層９７、および保護膜９８の順で、基板９１の側から積層形成される。
記録磁性部９２は、熱磁気的な記録および磁気光学効果を利用した再生という２つの機能を担うことが可能な磁性構造を有し、再生方式に応じた１または２以上の垂直磁化膜よりなる。当該垂直磁化膜の一つは記録層である。軟磁性層９３は、高透磁率の磁性膜により構成され、当該磁性膜の膜面に平行な方向（面内方向）に磁化容易軸を有して磁化された面内磁化膜である。プリグルーブ層９４は、樹脂材料よりなり、熱伝導層９５との接触面においてプリグルーブ面９４ａ（図１５にて太線で表す）を有する。プリグルーブ面９４ａは、所望の寸法で形成されたランドグルーブ形状およびその他の凹凸形状（ピット形状など）を有する。熱伝導層９５は、記録磁性部９２にて発生する熱を基板９１側へと効率よく伝導するための部位である。誘電体層９６，９７は、記録磁性部９２に対する外部からの物理的および化学的な影響を回避するための部位である。保護膜９８は、記録磁性部９２を特に塵埃から保護するための部位であり、光透過性の樹脂材料よりなる。
光磁気記録媒体Ｘ３では、高透磁率の軟磁性層９３が存在するため、記録時において、磁気記録ヘッドから記録磁性部９２に印加される記録磁界の磁束は記録磁性部９２にて拡散せずに集中する傾向にある。すなわち、記録磁性部９２に含まれる記録層の記録磁界感度は、軟磁性層９３が存在しない場合よりも向上する。軟磁性層を有するこのような光磁気記録媒体については、例えば特開平３−１０５７４１号公報や特開平３−１３７８３７号公報に開示されている。
軟磁性層の存在に起因して記録層にて磁界が集中するという効果は、記録層と軟磁性層とが近接するほど、大きい。しかしながら、従来の光磁気記録媒体Ｘ３では、記録層を含む記録磁性部９２と軟磁性層９３との間にプリグルーブ層９４が介在している。プリグルーブ層９４は、一般に紫外線硬化性樹脂により構成されており、その表面にてランドグルーブ形状やピット形状を適切に形成するためには少なくとも１０μｍ以上の厚さが必要である。記録層を含む記録磁性部９２と軟磁性層９３とがこのように相当程度に離れているため、光磁気記録媒体Ｘ３では、磁界集中の程度は低い場合が多い。
記録磁性部９２から軟磁性層９３までの間にプリグルーブ層９４を設ける構成に代えて、記録磁性部９２からプリグルーブ層９４までの間に軟磁性層９３を設ける構成を採用すると、記録磁性部９２と軟磁性層９３との距離は、より短くなる。しかしながら、この場合、記録磁性部９２にて適切なランドグルーブ形状およびピット形状を形成することができず、その結果、実用的な光磁気記録媒体が得られない。
磁界集中の効果を得るためには、軟磁性層９３については１μｍ程度以上の厚さが必要である場合があり、スパッタリング法により１μｍ程度以上の厚さまで軟磁性材料をプリグルーブ層９４ないしプリグルーブ面９４ａ上に成膜すると、当該軟磁性層９３にて形成されるランドグルーブ形状およびピット形状は、プリグルーブ面９４ａのランドグルーブ形状およびピット形状から相当程度に変化して丸みをおびる。そのため、当該軟磁性層９３の上方に更に積層形成される記録磁性部９２において形成されるランドグルーブ形状およびピット形状の、プリグルーブ面９４ａのランドグルーブ形状およびピット形状からの逸脱は、極めて大きくなってしまう。加えて、スパッタリング法により１μｍ程度以上の厚さまで軟磁性材料をプリグルーブ層９４上に成膜すると、当該軟磁性層９３の成長端面の表面粗さは、相当程度に大きい。そのため、当該軟磁性層９３の上方に更に積層形成される記録磁性部９２の成長端面の表面粗さは不当に大きくなってしまう。
このように、記録磁性部９２からプリグルーブ層９４までの間に軟磁性層９３を設ける構成を採用すると、記録磁性部９２にて適切なランドグルーブ形状およびピット形状を形成することができないのである。記録磁性部９２にて適切にランドグルーブ形状およびピット形状を形成できない場合、良好な記録再生特性が得られない。例えば、充分に高いＣＮＲが得られない。In recent years, magneto-optical recording media have attracted attention. The magneto-optical recording medium is a rewritable recording medium that is configured using various magnetic properties of a magnetic material and has two functions of thermomagnetic recording and reproduction using a magneto-optical effect. The magneto-optical recording medium has a recording magnetic part composed of one or two or more perpendicular magnetization films, and a signal is recorded on a recording layer provided in the recording magnetic part. In recording, a predetermined magnetic field is applied to the recording layer while the temperature of the recording layer is increased by irradiating a focused laser beam through an objective lens (a lens facing the medium). In this way, a predetermined signal is recorded as a change in the magnetization direction in the recording layer. At the time of reproduction, this recording signal is read by a predetermined optical system.
As one method for improving the recording density of the magneto-optical recording medium, it is known to reduce the size of the region irradiated with laser on the medium during recording, that is, the spot diameter. By reducing the spot diameter, the track pitch of the medium can be designed to be short and the recording mark length can be shortened. As a result, a high recording density can be obtained. The spot diameter can be reduced by shortening the wavelength of the irradiation laser or increasing the numerical aperture NA of the objective lens for condensing the irradiation laser.
As the numerical aperture NA of the lens increases, the focal length of the lens becomes shorter. In the field of magneto-optical recording media, in order to apply a lens having a large numerical aperture NA, front illumination is used instead of the conventional back illumination method. There is a high demand for practical application of the method.
In the back illumination type magneto-optical recording medium, a laser is irradiated from the side of the transparent substrate to the recording magnetic part during recording and reproduction. Since the transparent substrate requires a considerable thickness to ensure the rigidity of the medium, for a back-illuminated magneto-optical recording medium, a lens with a shorter focal length, that is, a numerical aperture NA is larger. Larger lenses are more difficult to adopt.
On the other hand, in the front illumination type magneto-optical recording medium, during recording and reproduction, the recording magnetic part is irradiated with laser from the side of the transparent protective film provided on the side opposite to the substrate. The Since the transparent protective film can be formed to be considerably thin, the front illumination type magneto-optical recording medium is more suitable than the back illumination type medium in adopting a lens having a short focal length, that is, a lens having a large numerical aperture NA. That's it.
In the front illumination type magneto-optical recording medium, a soft magnetic layer is provided in the recording layer included in the recording magnetic part for the purpose of improving sensitivity to a magnetic field from a magnetic recording head (electromagnet or electromagnetic coil) during recording. There is a case.
FIG. 15 shows a laminated structure of a magneto-optical recording medium X3 which is an example of a conventional magneto-optical recording medium. The magneto-optical recording medium X3 is a laminated layer composed of a substrate 91, a recording magnetic part 92, a soft magnetic layer 93, a pregroove layer 94, a heat conductive layer 95, dielectric layers 96 and 97, and a protective film 98. It has a structure and is configured as a front-illuminated magneto-optical disk. These are laminated from the substrate 91 side in the order of the soft magnetic layer 93, the pregroove layer 94, the heat conductive layer 95, the dielectric layer 96, the recording magnetic portion 92, the dielectric layer 97, and the protective film 98. .
The recording magnetic unit 92 has a magnetic structure capable of performing two functions of thermomagnetic recording and reproduction utilizing the magneto-optical effect, and is composed of one or more perpendicular magnetization films depending on the reproduction method. . One of the perpendicular magnetization films is a recording layer. The soft magnetic layer 93 is an in-plane magnetization film that is made of a magnetic film having a high magnetic permeability and is magnetized with an easy magnetization axis in a direction parallel to the film surface of the magnetic film (in-plane direction). The pregroove layer 94 is made of a resin material and has a pregroove surface 94a (represented by a thick line in FIG. 15) on the contact surface with the heat conductive layer 95. The pre-groove surface 94a has a land-groove shape formed with a desired dimension and other uneven shapes (such as a pit shape). The heat conductive layer 95 is a part for efficiently conducting heat generated in the recording magnetic part 92 to the substrate 91 side. The dielectric layers 96 and 97 are portions for avoiding external physical and chemical influences on the recording magnetic part 92. The protective film 98 is a part for protecting the recording magnetic part 92 particularly from dust, and is made of a light transmissive resin material.
In the magneto-optical recording medium X3, since the soft magnetic layer 93 having a high permeability exists, the magnetic flux of the recording magnetic field applied from the magnetic recording head to the recording magnetic unit 92 is not diffused by the recording magnetic unit 92 during recording. Tend to concentrate on. That is, the recording magnetic field sensitivity of the recording layer included in the recording magnetic part 92 is improved as compared with the case where the soft magnetic layer 93 is not present. Such a magneto-optical recording medium having a soft magnetic layer is disclosed, for example, in JP-A-3-105741 and JP-A-3-137837.
The effect that the magnetic field is concentrated in the recording layer due to the presence of the soft magnetic layer is greater as the recording layer and the soft magnetic layer are closer to each other. However, in the conventional magneto-optical recording medium X3, the pregroove layer 94 is interposed between the recording magnetic part 92 including the recording layer and the soft magnetic layer 93. The pregroove layer 94 is generally made of an ultraviolet curable resin, and a thickness of at least 10 μm or more is necessary in order to appropriately form a land groove shape or a pit shape on the surface thereof. Since the recording magnetic part 92 including the recording layer and the soft magnetic layer 93 are thus considerably separated from each other, in the magneto-optical recording medium X3, the degree of magnetic field concentration is often low.
If a configuration in which the soft magnetic layer 93 is provided between the recording magnetic portion 92 and the pre-groove layer 94 instead of the configuration in which the pre-groove layer 94 is provided between the recording magnetic portion 92 and the soft magnetic layer 93, the recording magnetic property is obtained. The distance between the portion 92 and the soft magnetic layer 93 becomes shorter. However, in this case, appropriate land groove shape and pit shape cannot be formed in the recording magnetic part 92, and as a result, a practical magneto-optical recording medium cannot be obtained.
In order to obtain the effect of magnetic field concentration, the soft magnetic layer 93 may require a thickness of about 1 μm or more, and the soft magnetic material is deposited to a thickness of about 1 μm or more by a sputtering method. When the film is formed on the surface 94a, the land groove shape and the pit shape formed by the soft magnetic layer 93 change to a considerable extent from the land groove shape and the pit shape of the pre-groove surface 94a, and are rounded. Therefore, the deviation from the land groove shape and pit shape of the pregroove surface 94a of the land groove shape and the pit shape formed in the recording magnetic portion 92 further laminated on the soft magnetic layer 93 is extremely large. End up. In addition, when a soft magnetic material is deposited on the pregroove layer 94 to a thickness of about 1 μm or more by sputtering, the surface roughness of the growth end face of the soft magnetic layer 93 is considerably large. For this reason, the surface roughness of the growth end face of the recording magnetic part 92 that is further laminated on the soft magnetic layer 93 is unduly increased.
As described above, when the configuration in which the soft magnetic layer 93 is provided between the recording magnetic portion 92 and the pre-groove layer 94 is adopted, it is impossible to form an appropriate land groove shape and pit shape in the recording magnetic portion 92. . When the recording magnetic part 92 cannot properly form the land groove shape and the pit shape, good recording / reproducing characteristics cannot be obtained. For example, a sufficiently high CNR cannot be obtained.

本発明は、このような事情の下で考え出されたものであって、記録層とその記録磁界感度を向上するための軟磁性部とが適切に近接して設けられた光磁気記録媒体を製造するのに用いることのできる基板の製造方法、および、当該基板を用いて製造することのできる光磁気記録媒体を、提供することを目的とする。
本発明の第１の側面によると光磁気記録媒体基板の製造方法が提供される。この方法は、プリグルーブ型面を有する密着層を第１基板上に形成するための密着層形成工程と、プリグルーブ型面上に軟磁性材料を成長させることにより、当該プリグルーブ型面の凹凸形状が転写されたプリグルーブ面を有する軟磁性部を密着層上に形成するための工程と、軟磁性部および第２基板を一体化するための工程と、軟磁性部および密着層の間に作用する密着力を低下させ、軟磁性部から密着層および第１基板を分離するための分離工程と、を含む。本発明の第１の側面におけるプリグルーブ型面とは、プリグルーブを形成する際に鋳型として機能する面であり、高精度に所望の寸法で形成された、少なくともランドグルーブ形状を含む凹凸形状を、有する。プリグルーブ型面の凹凸形状には、ピット形状などの他の凹凸情報が含まれていてもよい。プリグルーブ面とは、プリグルーブ型面の凹凸形状が直接に転写されて形成された面であり、プリグルーブ型面の凹凸形状を直接に反映する凹凸形状を有する。プリグルーブ面の凹凸形状には、少なくともランドグルーブ形状が含まれ、また、ピット形状などの他の凹凸情報が含まれていてもよい。密着層は、軟磁性部に対して充分な密着性を示す材料により構成される。
このような方法により得られる光磁気記録媒体基板では、軟磁性材料よりなる軟磁性部は、第２基板とは反対の側においてプリグルーブ面を有する。プリグルーブ面は、高い寸法精度で形成されたランドグルーブ形状を有する。このようなプリグルーブ面上に、記録層を含む所定の材料膜構造部を直接積層形成すると、軟磁性部および記録層は、プリグルーブ層を介さずに配置されることとなり、充分に近接し得る。また、記録層を含む所定の材料膜構造部はプリグルーブ面上に直接積層形成されるので、当該材料膜構造部は、適切なランドグルーブ形状を有し得る。プリグルーブ面がランドグルーブ形状以外の凹凸形状（例えばピット形状）を有する場合、当該プリグルーブ面上に直接積層形成される材料膜構造部は、ランドグルーブ形状以外の適切な凹凸形状も有し得る。軟磁性部の厚さを調節することにより、プリグルーブ面の上方に設けられる記録層の記録磁界感度を所望の程度に向上することができる。このように、本発明の第１の側面に係る方法により製造される基板を用いると、記録層とその記録磁界感度を向上するための軟磁性部とが適切に近接して設けられた光磁気記録媒体を製造することが可能である。
また、本発明の第１の側面においては、軟磁性部のプリグルーブ面を形成するための鋳型として機能するプリグルーブ型面は、軟磁性部ないしこれを構成する軟磁性材料に対して充分な密着性を示し得る材料よりなる密着層に設けられている。密着層構成材料は、使用される軟磁性材料に応じて選択される。軟磁性部形成工程において、当該密着層とこの上に堆積する軟磁性材料との間に充分な密着力が作用している状態では、密着層ないしプリグルーブ型面上にて軟磁性材料を充分な厚さにまで適切に成長させることができる。したがって、軟磁性部形成工程では、プリグルーブ面を有する軟磁性部を充分な厚さで形成することができる。一方、分離工程では、軟磁性部と密着層または第１基板とを分離する前に、軟磁性部に対する密着層の密着力を低下せしめる。そのため、当該密着層および第１基板と軟磁性部とを適切に分離することができる。このように、本発明の第１の側面に係る方法よると、プリグルーブ型面の凹凸形状が直接に転写されたプリグルーブ面を有する軟磁性部を備える光磁気記録媒体基板は、当該軟磁性材料に対する密着性が機能的に変化する材料により構成されてプリグルーブ型面を有する密着層を利用して、形成される。このような方法は、光磁気記録媒体を効率よく製造するうえで好適である。
本発明の第１の側面において、好ましくは、分離工程では、密着層を劣化させるための液体を当該密着層に作用させる。例えば、第１基板、密着層、軟磁性部、および第２基板を含む構造体を所定の溶液に浸漬し、密着層を分解または溶解せしめる。或は、分離工程では、密着層を劣化させるための電磁波を当該密着層に照射してもよい。電磁波には、紫外線やＸ線が含まれる。
好ましくは、第１基板は平坦面を有し、密着層形成工程では、密着層を構成するための材料を平坦面上に成長させて材料膜を形成した後、当該材料膜における第１基板とは反対の側にてプリグルーブ型面を形成する。或は、好ましくは、第１基板は凹凸面を有し、密着層形成工程では、密着層を構成するための材料を凹凸面上に成長させることにより、成長端にてプリグルーブ型面を有する材料膜を密着層として形成する。
本発明の第２の側面によると光磁気記録媒体が提供される。この光磁気記録媒体は、光磁気記録媒体基板および材料膜構造部を備える。光磁気記録媒体基板は、プリグルーブ型面を有する密着層を第１基板上に形成するための工程、プリグルーブ型面上に軟磁性材料を成長させることにより、当該プリグルーブ型面の凹凸形状が転写されたプリグルーブ面を有する軟磁性部を密着層上に形成するための工程、軟磁性部および第２基板を一体化するための工程、および、軟磁性部および密着層の間に作用する密着力を低下させ、軟磁性部から密着層および第１基板を分離するための工程、を経て製造されたものである。材料膜構造部は、記録機能および再生機能を担う記録磁性部を含み、且つ、光磁気記録媒体基板のプリグルーブ面上に設けられている。本発明における材料膜構造部は、複数の材料膜よりなる多層構造を有して光磁気記録媒体基板上に積層形成される部位である。
このような構成の光磁気記録媒体においては、高い寸法精度で形成されたランドグルーブ形状を有するプリグルーブ面は、光磁気記録媒体基板の軟磁性部に設けられており、当該プリグルーブ面に対して、他の軟磁性部を介さずに、記録磁性部（記録層を含む）を含む材料膜構造部は直接積層形成されている。そのため、記録磁性部において適切なランドグルーブ形状を実現することが可能であるとともに、当該記録磁性部に含まれる記録層と軟磁性部との距離を充分に短くすることが可能なのである。また、プリグルーブ面がランドグルーブ形状以外の凹凸形状（例えばピット形状）を有する場合、当該プリグルーブ面上に直接積層形成される材料膜構造部は、ランドグルーブ形状以外の適切な凹凸形状も有し得る。
本発明の第３の側面によると光磁気記録媒体の製造方法が提供される。この方法は、高分子量樹脂部と、プリグルーブ型面を有する低分子量樹脂部と、を有する第１基板におけるプリグルーブ型面上に軟磁性材料を成長させることにより、当該プリグルーブ型面の凹凸形状が転写されたプリグルーブ面を有する軟磁性部を第１基板上に形成するための工程と、軟磁性部および第２基板を一体化するための工程と、軟磁性部および低分子量樹脂部の間に作用する密着力を低下させ、軟磁性部から第１基板を分離するための分離工程と、を含む。
このような方法によると、第１の側面に係る方法によるのと同様の光磁気記録媒体基板を製造することができる。したがって、本発明の第３の側面によると、製造される光磁気記録媒体基板について、第１の側面に関して上述したのと同様の利益が得られる。
また、本発明の第３の側面においては、軟磁性部のプリグルーブ面を形成するための鋳型として機能するプリグルーブ型面は、軟磁性部ないしこれを構成する軟磁性材料に対して充分な密着性を示し得る材料よりなる低分子量樹脂部に設けられている。低分子量樹脂部構成材料は、使用される軟磁性材料に応じて選択される。軟磁性部形成工程において、当該低分子量樹脂部とこの上に堆積する軟磁性材料との間に充分な密着力が作用している状態では、低分子量樹脂部ないしプリグルーブ型面上にて軟磁性材料を充分な厚さにまで適切に成長させることができる。したがって、軟磁性部形成工程では、プリグルーブ面を有する軟磁性部を充分な厚さで形成することができる。一方、分離工程では、軟磁性部と第１基板を分離する前に、軟磁性部に対する低分子量樹脂部の密着力を低下せしめる。そのため、軟磁性部と第１基板ないし低分子量樹脂部とを適切に分離することができる。このように、本発明の第３の側面に係る方法よると、プリグルーブ型面の凹凸形状が直接に転写されたプリグルーブ面を有する軟磁性部を備える光磁気記録媒体基板は、当該軟磁性材料に対する密着性が機能的に変化する材料により構成されてプリグルーブ型面を有する低分子量樹脂部を利用して、形成される。このような方法は、光磁気記録媒体を効率よく製造するうえで好適である。
本発明の第３の側面において、好ましくは、分離工程では、低分子量樹脂部を劣化させる液体を当該低分子量樹脂部に作用させる。或は、分離工程では、低分子量樹脂部を劣化させる電磁波を当該低分子量樹脂部に照射してもよい。
本発明の第４の側面によると光磁気記録媒体が提供される。この光磁気記録媒体は、光磁気記録媒体基板および材料膜構造部を有する。光磁気記録媒体基板は、高分子量樹脂部と、プリグルーブ型面を有する低分子量樹脂部と、を有する第１基板におけるプリグルーブ型面上に軟磁性材料を成長させることにより、当該プリグルーブ型面の凹凸形状が転写されたプリグルーブ面を有する軟磁性部を第１基板上に形成するための工程、軟磁性部および第２基板を一体化するための工程、および、軟磁性部および低分子量樹脂部の間に作用する密着力を低下させ、軟磁性部から第１基板を分離するための工程、を経て製造されたものである。材料膜構造部は、記録機能および再生機能を担う記録磁性部を含み、且つ、光磁気記録媒体基板のプリグルーブ面上に設けられている。このような光磁気記録媒体によると、本発明の第２の側面に関して上述したのと同様の利益が得られる。
本発明の第５の側面によると光磁気記録媒体基板の製造方法が提供される。この方法は、基板上に軟磁性材料を成長させることにより軟磁性膜を形成するための第１成長工程と、開口部を有するレジストパターンを軟磁性膜上に形成するためのレジストパターン形成工程と、開口部内にて軟磁性材料を成長させることにより、基板とは反対の側にプリグルーブ面を有する軟磁性部を形成するための第２成長工程と、を含む。
このような方法により得られる光磁気記録媒体基板では、軟磁性材料よりなる軟磁性部は、基板とは反対の側においてプリグルーブ面を有する。プリグルーブ面は、高い寸法精度で形成されたランドグルーブ形状を有する。プリグルーブ面の凹凸形状には、ピット形状などの他の凹凸情報が含まれていてもよい。このようなプリグルーブ面上に、記録層を含む所定の材料膜構造部を直接積層形成すると、軟磁性部および記録層は、プリグルーブ層を介さずに配置されることとなり、充分に近接し得る。また、記録層を含む所定の材料膜構造部はプリグルーブ面上に直接積層形成されるので、当該材料膜構造部は、適切なランドグルーブ形状を有し得る。プリグルーブ面がランドグルーブ形状以外の凹凸形状（例えばピット形状）を有する場合、当該プリグルーブ面上に直接積層形成される材料膜構造部は、ランドグルーブ形状以外の適切な凹凸形状も有し得る。軟磁性部の厚さを調節することにより、プリグルーブ面の上方に設けられる記録層の記録磁界感度を所望の程度に向上することができる。このように、本発明の第５の側面に係る方法により製造される基板を用いると、記録層とその記録磁界感度を向上するための軟磁性部とが適切に近接して設けられた光磁気記録媒体を製造することが可能である。
本発明の第５の側面において、好ましくは、第２成長工程より前であってレジストパターン形成工程の前または後に、Ｐｄよりもイオン化傾向の大きな元素を含む材料薄膜を軟磁性膜上に形成する。或は、第２成長工程より前であってレジストパターン形成工程の前または後に、Ｃｏ，Ｆｅ，およびＮｉよりもイオン化傾向の大きな元素を含む材料薄膜を軟磁性膜上に形成してもよい。これらの構成は、第２成長工程にてレジストパターンの開口部内に軟磁性材料を堆積するに際して所定の無電解めっき法を採用するうえで好適である。また、第１成長工程の後であってレジストパターン形成工程より前においては、第２成長工程にて無電解めっき法を採用する場合に使用するめっき浴に対して軟磁性膜を防食すべく、軟磁性膜上に保護膜を形成してもよい。
本発明の第６の側面によると光磁気記録媒体の製造方法が提供される。この方法は、第１温度の下、基板の有するプリグルーブ型面上に軟磁性材料を成長させることにより、当該プリグルーブ型面の凹凸形状が転写されたプリグルーブ面を有する軟磁性部を第１基板上に形成するための軟磁性部形成工程と、軟磁性部および第２基板を一体化するための工程と、第２温度の下、軟磁性部から第１基板を分離するための分離工程と、を含み、第１温度および第２温度の差は１０℃以下である。このような方法によると、第１基板の熱膨張率と軟磁性部の熱膨張率との差に起因して分離工程が阻害されるのを回避することができる。
本発明の第６の側面において、好ましくは、軟磁性部形成工程では、軟磁性部は溶液中にて第１基板上に形成され、分離工程は、相対湿度９０％以上の条件下で行われる。このような構成は、軟磁性部形成工程にて例えば湿式めっき法を採用する場合に、軟磁性部形成工程および分離工程での第１基板および軟磁性部の膨張態様を近似させて良好な分離工程を行ううえで好適である。The present invention has been conceived under such circumstances, and includes a magneto-optical recording medium in which a recording layer and a soft magnetic portion for improving the recording magnetic field sensitivity are appropriately provided. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a substrate that can be used for manufacturing, and a magneto-optical recording medium that can be manufactured using the substrate.
According to a first aspect of the present invention, a method for manufacturing a magneto-optical recording medium substrate is provided. This method includes an adhesion layer forming step for forming an adhesion layer having a pre-groove mold surface on a first substrate, and a soft magnetic material is grown on the pre-groove mold surface, thereby forming irregularities on the pre-groove mold surface. A step for forming a soft magnetic part having a pre-groove surface to which the shape has been transferred on the adhesion layer; a step for integrating the soft magnetic part and the second substrate; and between the soft magnetic part and the adhesion layer. A separation step for reducing the adhesion force acting and separating the adhesion layer and the first substrate from the soft magnetic part. The pre-groove mold surface in the first aspect of the present invention is a surface that functions as a mold when forming the pre-groove, and has a concavo-convex shape including at least a land groove shape formed with a desired dimension with high accuracy. Have. The concavo-convex shape of the pre-groove mold surface may include other concavo-convex information such as a pit shape. The pre-groove surface is a surface formed by directly transferring the concavo-convex shape of the pre-groove mold surface, and has a concavo-convex shape that directly reflects the concavo-convex shape of the pre-groove mold surface. The uneven shape of the pre-groove surface includes at least the land groove shape, and may include other uneven information such as a pit shape. The adhesion layer is made of a material that exhibits sufficient adhesion to the soft magnetic part.
In the magneto-optical recording medium substrate obtained by such a method, the soft magnetic portion made of the soft magnetic material has a pre-groove surface on the side opposite to the second substrate. The pregroove surface has a land groove shape formed with high dimensional accuracy. When a predetermined material film structure including a recording layer is directly laminated on such a pre-groove surface, the soft magnetic portion and the recording layer are disposed without the pre-groove layer, and are sufficiently close to each other. obtain. In addition, since the predetermined material film structure including the recording layer is directly laminated on the pre-groove surface, the material film structure can have an appropriate land groove shape. When the pregroove surface has an uneven shape other than the land groove shape (for example, a pit shape), the material film structure portion directly laminated on the pregroove surface can also have an appropriate uneven shape other than the land groove shape. . By adjusting the thickness of the soft magnetic part, the recording magnetic field sensitivity of the recording layer provided above the pre-groove surface can be improved to a desired level. As described above, when the substrate manufactured by the method according to the first aspect of the present invention is used, the magneto-optical layer in which the recording layer and the soft magnetic portion for improving the recording magnetic field sensitivity are appropriately provided are provided. It is possible to manufacture a recording medium.
In the first aspect of the present invention, the pregroove mold surface functioning as a mold for forming the pregroove surface of the soft magnetic portion is sufficient for the soft magnetic portion or the soft magnetic material constituting the soft magnetic portion. It is provided in the adhesion layer made of a material that can exhibit adhesion. The adhesion layer constituent material is selected according to the soft magnetic material used. In the soft magnetic part forming step, in the state where a sufficient adhesion force acts between the adhesion layer and the soft magnetic material deposited thereon, the soft magnetic material is sufficiently applied on the adhesion layer or the pregroove type surface. It is possible to grow properly to a suitable thickness. Therefore, in the soft magnetic portion forming step, the soft magnetic portion having the pregroove surface can be formed with a sufficient thickness. On the other hand, in the separation step, the adhesion of the adhesion layer to the soft magnetic portion is reduced before separating the soft magnetic portion and the adhesion layer or the first substrate. Therefore, the adhesion layer, the first substrate, and the soft magnetic part can be appropriately separated. As described above, according to the method of the first aspect of the present invention, the magneto-optical recording medium substrate including the soft magnetic portion having the pre-groove surface to which the uneven shape of the pre-groove mold surface is directly transferred is obtained. It is formed using an adhesion layer that is made of a material whose adhesion to the material is functionally changed and has a pre-groove type surface. Such a method is suitable for efficiently producing a magneto-optical recording medium.
In the first aspect of the present invention, preferably, in the separation step, a liquid for deteriorating the adhesion layer is allowed to act on the adhesion layer. For example, a structure including a first substrate, an adhesion layer, a soft magnetic part, and a second substrate is immersed in a predetermined solution, and the adhesion layer is decomposed or dissolved. Alternatively, in the separation step, the adhesion layer may be irradiated with electromagnetic waves for degrading the adhesion layer. Electromagnetic waves include ultraviolet rays and X-rays.
Preferably, the first substrate has a flat surface, and in the adhesion layer forming step, after forming a material film by growing a material for forming the adhesion layer on the flat surface, the first substrate in the material film Forms a pre-groove surface on the opposite side. Alternatively, preferably, the first substrate has a concavo-convex surface, and in the adhesion layer forming step, a material for constituting the adhesion layer is grown on the concavo-convex surface, thereby having a pre-groove type surface at a growth end. A material film is formed as an adhesion layer.
According to a second aspect of the present invention, a magneto-optical recording medium is provided. This magneto-optical recording medium includes a magneto-optical recording medium substrate and a material film structure. The magneto-optical recording medium substrate is a step for forming an adhesion layer having a pre-groove type surface on the first substrate, and by growing a soft magnetic material on the pre-groove type surface, the uneven shape of the pre-groove type surface A step for forming a soft magnetic part having a pre-groove surface onto which an adhesive has been transferred on the adhesion layer, a step for integrating the soft magnetic part and the second substrate, and an action between the soft magnetic part and the adhesion layer This is manufactured through a process for reducing the adhesion force and separating the adhesion layer and the first substrate from the soft magnetic part. The material film structure part includes a recording magnetic part responsible for a recording function and a reproducing function, and is provided on the pre-groove surface of the magneto-optical recording medium substrate. The material film structure portion in the present invention is a portion having a multilayer structure composed of a plurality of material films and laminated on the magneto-optical recording medium substrate.
In the magneto-optical recording medium having such a configuration, the pre-groove surface having a land groove shape formed with high dimensional accuracy is provided in the soft magnetic portion of the magneto-optical recording medium substrate, and the pre-groove surface is Thus, the material film structure portion including the recording magnetic portion (including the recording layer) is directly laminated without using another soft magnetic portion. Therefore, an appropriate land groove shape can be realized in the recording magnetic part, and the distance between the recording layer and the soft magnetic part included in the recording magnetic part can be sufficiently shortened. In addition, when the pregroove surface has an uneven shape other than the land groove shape (for example, a pit shape), the material film structure portion directly formed on the pregroove surface has an appropriate uneven shape other than the land groove shape. Can do.
According to a third aspect of the present invention, a method for manufacturing a magneto-optical recording medium is provided. In this method, a soft magnetic material is grown on a pregroove type surface in a first substrate having a high molecular weight resin part and a low molecular weight resin part having a pregroove type surface. A step for forming a soft magnetic part having a pre-groove surface to which a shape is transferred on the first substrate; a step for integrating the soft magnetic part and the second substrate; a soft magnetic part and a low molecular weight resin part And a separation step for separating the first substrate from the soft magnetic part.
According to such a method, the same magneto-optical recording medium substrate as that by the method according to the first aspect can be manufactured. Therefore, according to the third aspect of the present invention, the same advantages as described above with respect to the first aspect can be obtained for the produced magneto-optical recording medium substrate.
In the third aspect of the present invention, the pregroove mold surface functioning as a mold for forming the pregroove surface of the soft magnetic portion is sufficient for the soft magnetic portion or the soft magnetic material constituting the soft magnetic portion. It is provided in a low molecular weight resin portion made of a material that can exhibit adhesion. The low molecular weight resin part constituent material is selected according to the soft magnetic material used. In the soft magnetic part forming step, in the state where a sufficient adhesion force acts between the low molecular weight resin part and the soft magnetic material deposited thereon, the soft magnetic part is soft on the low molecular weight resin part or the pregroove type surface. The magnetic material can be appropriately grown to a sufficient thickness. Therefore, in the soft magnetic portion forming step, the soft magnetic portion having the pregroove surface can be formed with a sufficient thickness. On the other hand, in the separation step, the adhesion of the low molecular weight resin part to the soft magnetic part is reduced before separating the soft magnetic part and the first substrate. Therefore, the soft magnetic part and the first substrate or the low molecular weight resin part can be appropriately separated. As described above, according to the method of the third aspect of the present invention, the magneto-optical recording medium substrate including the soft magnetic portion having the pre-groove surface to which the uneven shape of the pre-groove mold surface is directly transferred is obtained. It is formed by using a low molecular weight resin portion having a pre-groove type surface, which is made of a material whose adhesiveness to the material is functionally changed. Such a method is suitable for efficiently producing a magneto-optical recording medium.
In the third aspect of the present invention, preferably, in the separation step, a liquid that degrades the low molecular weight resin part is allowed to act on the low molecular weight resin part. Alternatively, in the separation step, the low molecular weight resin portion may be irradiated with electromagnetic waves that degrade the low molecular weight resin portion.
According to a fourth aspect of the present invention, a magneto-optical recording medium is provided. This magneto-optical recording medium has a magneto-optical recording medium substrate and a material film structure. A magneto-optical recording medium substrate is obtained by growing a soft magnetic material on a pregroove mold surface of a first substrate having a high molecular weight resin portion and a low molecular weight resin portion having a pregroove mold surface. A step for forming a soft magnetic part having a pre-groove surface onto which the surface irregularities are transferred, a step for integrating the soft magnetic part and the second substrate, and a soft magnetic part and a low It is manufactured through a process for reducing the adhesion force acting between the molecular weight resin parts and separating the first substrate from the soft magnetic part. The material film structure part includes a recording magnetic part responsible for a recording function and a reproducing function, and is provided on the pre-groove surface of the magneto-optical recording medium substrate. Such a magneto-optical recording medium provides the same benefits as described above with respect to the second aspect of the present invention.
According to a fifth aspect of the present invention, a method for manufacturing a magneto-optical recording medium substrate is provided. This method includes a first growth step for forming a soft magnetic film by growing a soft magnetic material on a substrate, and a resist pattern forming step for forming a resist pattern having an opening on the soft magnetic film. And a second growth step for forming a soft magnetic part having a pregroove surface on the side opposite to the substrate by growing a soft magnetic material in the opening.
In the magneto-optical recording medium substrate obtained by such a method, the soft magnetic portion made of the soft magnetic material has a pre-groove surface on the side opposite to the substrate. The pregroove surface has a land groove shape formed with high dimensional accuracy. The uneven shape of the pre-groove surface may include other uneven information such as a pit shape. When a predetermined material film structure including a recording layer is directly laminated on such a pre-groove surface, the soft magnetic portion and the recording layer are disposed without the pre-groove layer, and are sufficiently close to each other. obtain. In addition, since the predetermined material film structure including the recording layer is directly laminated on the pre-groove surface, the material film structure can have an appropriate land groove shape. When the pregroove surface has an uneven shape other than the land groove shape (for example, a pit shape), the material film structure portion directly laminated on the pregroove surface can also have an appropriate uneven shape other than the land groove shape. . By adjusting the thickness of the soft magnetic part, the recording magnetic field sensitivity of the recording layer provided above the pre-groove surface can be improved to a desired level. As described above, when the substrate manufactured by the method according to the fifth aspect of the present invention is used, the magneto-optical layer in which the recording layer and the soft magnetic portion for improving the recording magnetic field sensitivity are appropriately provided are provided. It is possible to manufacture a recording medium.
In the fifth aspect of the present invention, preferably, a material thin film containing an element having a higher ionization tendency than Pd is formed on the soft magnetic film before the second growth step and before or after the resist pattern formation step. . Alternatively, a material thin film containing an element having a higher ionization tendency than Co, Fe, and Ni may be formed on the soft magnetic film before the second growth step and before or after the resist pattern formation step. These configurations are suitable for adopting a predetermined electroless plating method when depositing a soft magnetic material in the opening of the resist pattern in the second growth step. Further, after the first growth step and before the resist pattern formation step, in order to protect the soft magnetic film against the plating bath used when the electroless plating method is adopted in the second growth step, A protective film may be formed on the soft magnetic film.
According to a sixth aspect of the present invention, a method for manufacturing a magneto-optical recording medium is provided. In this method, a soft magnetic material is grown on a pre-groove mold surface of a substrate at a first temperature, whereby a soft magnetic portion having a pre-groove surface to which the concavo-convex shape of the pre-groove mold surface is transferred. A soft magnetic portion forming step for forming on one substrate, a step for integrating the soft magnetic portion and the second substrate, and a separation for separating the first substrate from the soft magnetic portion under a second temperature A difference between the first temperature and the second temperature is 10 ° C. or less. According to such a method, it is possible to prevent the separation process from being hindered due to the difference between the thermal expansion coefficient of the first substrate and the thermal expansion coefficient of the soft magnetic part.
In the sixth aspect of the present invention, preferably, in the soft magnetic portion forming step, the soft magnetic portion is formed on the first substrate in a solution, and the separation step is performed under a condition of a relative humidity of 90% or more. . Such a configuration provides good separation by approximating the expansion mode of the first substrate and the soft magnetic part in the soft magnetic part forming process and the separating process when, for example, a wet plating method is adopted in the soft magnetic part forming process. It is suitable when performing a process.

図１は、本発明に基づいて製造するこのとできる光磁気記録媒体の部分断面図である。
図２Ａ〜図２Ｃは、本発明の第１の実施形態に係る基板製造方法の一部の工程を表す。
図３Ａ〜図３Ｃは、図２Ｃの後に続く工程を表す。
図４Ａおよび図４Ｂは、図１に示す光磁気記録媒体を製造するための、図３Ｃの後に続く工程を表す。
図５Ａ〜図５Ｃは、本発明の第２の実施形態に係る基板製造方法の一部の工程を表す。
図６Ａおよび図６Ｂは、図５Ｃの後に続く工程を表す。
図７Ａおよび図７Ｂは、本発明の第３の実施形態に係る基板製造方法の一部の工程を表す。
図８Ａおよび図８Ｂは、図７Ｂの後に続く工程を表す。
図９Ａ〜図９Ｃは、本発明の第５の実施形態に係る基板製造方法を表す。
図１０は、本発明に基づいて製造するこのとできる他の光磁気記録媒体の部分断面図である。
図１１Ａ〜図１１Ｃは、本発明の第４の実施形態に係る基板製造方法の一部の工程を表す。
図１２Ａ〜図１２Ｃは、図１１Ｃの後に続く工程を表す。
図１３Ａ〜図１３Ｃは、第４の実施形態に係る基板製造方法の一部の代替工程を表す。
図１４Ａおよび図１４Ｂは、図１２Ｃまたは図１３Ｃの後に続く工程を表す。
図１５は、軟磁性部を有する従来の光磁気記録媒体の積層構成を表す。FIG. 1 is a partial cross-sectional view of a possible magneto-optical recording medium manufactured according to the present invention.
2A to 2C show some steps of the substrate manufacturing method according to the first embodiment of the present invention.
3A-3C represent the process that follows FIG. 2C.
4A and 4B show a process subsequent to FIG. 3C for manufacturing the magneto-optical recording medium shown in FIG.
5A to 5C show some steps of the substrate manufacturing method according to the second embodiment of the present invention.
6A and 6B represent the process following FIG. 5C.
7A and 7B show some steps of the substrate manufacturing method according to the third embodiment of the present invention.
8A and 8B represent the process that follows FIG. 7B.
9A to 9C show a substrate manufacturing method according to the fifth embodiment of the present invention.
FIG. 10 is a partial cross-sectional view of another magneto-optical recording medium manufactured according to the present invention.
11A to 11C show some steps of the substrate manufacturing method according to the fourth embodiment of the present invention.
12A to 12C show a process subsequent to FIG. 11C.
13A to 13C show some alternative steps of the substrate manufacturing method according to the fourth embodiment.
14A and 14B represent the process following FIG. 12C or FIG. 13C.
FIG. 15 shows a laminated structure of a conventional magneto-optical recording medium having a soft magnetic part.

図１は、本発明に基づいて製造することのできる光磁気記録媒体Ｘ１を表す。光磁気記録媒体Ｘ１は、基板Ｓ１と、記録磁性部２１と、熱伝導層２２と、誘電体層２３，２４と、保護膜２５とを備え、フロントイルミネーション方式の光磁気ディスクとして構成されている。
基板Ｓ１は、基材１１および軟磁性部１２を有し、これらは接着材３０を介して接合されている。基材１１は、例えば、ポリカーボネート（ＰＣ）樹脂、ポリメチルメタアクリレート（ＰＭＭＡ）樹脂、エポキシ樹脂、またはポリオレフィン樹脂よりなる。或は、基材１１としては、ガラス基板やアルミニウム合金基板を採用してもよい。
軟磁性部１２は、渦巻き状または同心円状のプリグルーブ１２ｂが所望の寸法で形成されたプリグルーブ面１２ａを有する。このプリグルーブ１２ｂを基に、本光磁気ディスクにおけるランドグルーブ形状が形成されている。軟磁性部１２は、大きな飽和磁化と小さな保磁力とを有する軟磁性材料よりなり、記録磁気ヘッドから発せられる磁界の磁束を記録磁性部２１に含まれる記録層にて集中させることによって当該記録層の記録磁界感度を向上させる機能を有する。このような軟磁性部１２は、例えば、ＦｅＣなどのＦｅ系材料、Ｃｏ系材料、パーマロイ、またはセンダストより構成することができる。より具体的には、軟磁性部１２は例えばＣｏＦｅＮｉよりなる。
軟磁性部１２を構成する軟磁性材料の飽和磁束密度をＢｓ（ｋＧａｕｓｓ）とし、軟磁性部１２の厚さをｔ（μｍ）とすると、軟磁性部１２は、下記式（１）を満たすのが好ましい。軟磁性部１２については、薄くても式（１）を満たすほどに飽和磁束密度が高い場合、或は、飽和磁束密度が小さくても式（１）を満たすほどに厚い場合、記録磁性部２１に含まれる後述の記録層における磁界集中の機能を充分に発揮することができる。
Ｂｓ×ｔ≧５（ｋＧａｕｓｓ・μｍ） ・・・・（１）
記録磁性部２１は、熱磁気的な記録および磁気光学効果を利用した再生という２つの機能を担うことが可能な、１または２以上の磁性膜よりなる磁性構造を有し、ランドグルーブ形状のランド部および／またはグルーブ部にて、本媒体における情報トラックを構成する。例えば、記録磁性部２１は、記録機能および再生機能を併有する単一の記録層よりなる。或は、記録磁性部２１は、相対的に保磁力が大きくて記録機能を担う記録層と、再生用レーザにおけるカー回転角が相対的に大きくて再生機能を担う再生層とからなる、２層構造を有する。或は、記録磁性部２１は、ＭＳＲ方式、ＭＡＭＭＯＳ方式、またはＤＷＤＤ方式での再生を実現するための、記録層、再生層、およびこれらの間の中間層を含む３層以上の多層構造を有する。
記録磁性部２１のとり得る各構造における各層は、希土類元素と遷移金属とのアモルファス合金よりなり、垂直磁気異方性を有して垂直方向に磁化された垂直磁化膜である。垂直方向とは、各層を構成する磁性膜の膜面に対して垂直な方向をいう。希土類元素としては、Ｔｂ，Ｇｄ，Ｄｙ，Ｎｄ，またはＰｒなどを用いることができる。遷移金属としては、ＦｅやＣｏなどを用いることができる。
より具体的には、記録層は、例えば、所定の組成を有するＴｂＦｅＣｏ，ＤｙＦｅＣｏ，またはＴｂＤｙＦｅＣｏよりなる。再生層を設ける場合、当該再生層は、例えば、所定の組成を有するＧｄＦｅＣｏ，ＧｄＤｙＦｅＣｏ，ＧｄＴｂＤｙＦｅＣｏ，ＮｄＤｙＦｅＣｏ，ＮｄＧｄＦｅＣｏ，またはＰｒＤｙＦｅＣｏよりなる。中間層を設ける場合、当該中間層は、例えば、所定の組成を有するＧｄＦｅ，ＴｂＦｅ，ＧｄＦｅＣｏ，ＧｄＤｙＦｅＣｏ，ＧｄＴｂＤｙＦｅＣｏ，ＮｄＤｙＦｅＣｏ，ＮｄＧｄＦｅＣｏ，またはＰｒＤｙＦｅＣｏよりなる。各層の厚さは、記録磁性部２１に所望される磁性構造に応じて決定される。
熱伝導層２２は、レーザ照射時に記録磁性部２１などにて発生する熱を効率よく基板Ｓ１へ伝えるための部位であり、例えば、Ａｇ，Ａｇ合金（ＡｇＰｄＣｕＳｉ，ＡｇＰｄＣｕなど），Ａｌ合金（ＡｌＴｉ，ＡｌＣｒなど），Ａｕ，またはＰｔなどの高熱伝導材料よりなる。熱伝導層２２の厚さは、例えば１０〜５０ｎｍである。
誘電体層２３，２４は、記録磁性部２１に対する外部からの化学的影響を回避ないし抑制するための部位であり、例えば、ＳｉＮ，ＳｉＯ２，ＹＳｉＯ２，ＺｎＳｉＯ２，ＡｌＯ，またはＡｌＮよりなる。誘電体層２３の厚さは、例えば１０〜３０ｎｍである。誘電体層２４の厚さは、例えば３５〜５０ｎｍである。
保護膜２５は、光磁気記録媒体Ｘ１の記録用レーザおよび再生用レーザに対して充分な透過性を有する樹脂よりなり、その厚さは例えば１０〜４０μｍである。保護膜２５を構成するための樹脂としては、例えば、ポリカーボネート（ＰＣ）樹脂、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）樹脂、エポキシ樹脂、またはポリオレフィン樹脂が挙げられる。
光磁気記録媒体Ｘ１は、軟磁性部１２から保護膜２５までの積層構造を基材１１の片面側のみに又は両面側に有する。また、記録磁性部２１、熱伝導層２２、誘電体層２３，２４、および保護膜２５は、光磁気記録媒体Ｘ１おいて、基板Ｓ１のプリグルーブ面１２ａ上に積層形成された材料膜構造部を構成する。当該材料膜構造部のうち熱伝導層２２がプリグルーブ面１２ａ上に直接積層されている。
図２Ａ〜図３Ｃは、本発明の第１の実施形態に係る基板製造方法を表す。本実施形態は、光磁気記録媒体用の上述の基板Ｓ１を製造するための一手法である。本実施形態においては、まず、図２Ａに示すような仮基板３１を用意する。仮基板３１は、平坦面３１ａを有し、樹脂材料、セラミック材料、または金属材料よりなる。平坦面３１ａは、所定の平滑化処理および清浄処理が施されている。樹脂材料としては、ポリカーボネート、アモルファスポリオレフィン、およびエポキシなどを採用することができる。セラミック材料としては、ガラスなどを採用することができる。金属材料としては、アルミニウム合金やマグネシウム合金などを採用することができる。
次に、図２Ｂに示すように、仮基板３１の平坦面３１ａ上に密着層３２を形成する。密着層３２を構材するための材料としては、軟磁性部１２の構成材料に対して良好な密着性を示すものを選択する。そのような材料としては、例えば、フォトレジスト、ソルダーレジスト、またはポリビニルアルコールを採用することができる。密着層３２の構成材料としては、光分解性を示す樹脂材料を採用してもよい。そのような樹脂材料としては、例えば、ポジ型フォトレジスト、ポジ型ソルダーレジスト、および、シリコンウエハダイシング用テープの接着層を構成する光分解型樹脂が、挙げられる。密着層３２の形成手法としては、スピンコート法、ディップコート法、または印刷法を採用することができる。密着層３２の厚さは例えば０．５〜１００μｍである。
次に、図２Ｃに示すように、密着層３２においてプリグルーブ型面３２ａを形成する。具体的には、紫外線照射または電子線照射により密着層３２の露出面の所定箇所を露光処理した後、当該露出面を現像処理することによって、所定寸法のランドグルーブ形状（凹凸形状）を有するプリグルーブ型面３２ａを形成する。プリグルーブ型面３２ａのランドグルーブ形状は、軟磁性部１２にて形成すべきプリグルーブ面１２ａのランドグルーブ形状に対応する。
このような手法に代えて、プリグルーブ型面３２ａの形成においては、ナノインプリント法を採用してもよい。ナノインプリント法においては、表面に所定のランドグルーブ形状を有する硬質スタンパを密着層３２に押圧することにより、硬質スタンパの当該ランドグルーブ形状を、密着層３２の露出面に転写する。これにより、密着層３２にてプリグルーブ型面３２ａが形成されることとなる。硬質スタンパは、例えばニッケルや石英ガラスよりなる。
また、本工程では、ランドグルーブ形状とともにランドグルーブ形状以外の凹凸形状（例えばピット形状）を有するように、プリグルーブ型面３２ａを形成してもよい。
基板Ｓ１の製造においては、次に、図３Ａに示すように、プリグルーブ型面３２ａ上に軟磁性部１２を形成する。軟磁性部１２は、例えばスパッタリング法や無電解めっき法により上掲の軟磁性材料をプリグルーブ型面３２ａ上に成長させることによって、形成することができる。軟磁性部１２には、密着層３２のプリグルーブ型面３２ａの凹凸形状が転写されたプリグルーブ面１２ａが形成される。図３Ａに示す軟磁性部１２の露出面上には、防食のための保護層を形成してもよい。保護層を構成する材料としては、銅、ニッケル、窒化ケイ素、および窒化アルミニウムなどから選択することができる。
次に、図３Ｂに示すように、軟磁性部１２に対し、または形成されている場合には保護層に対し、接着剤３０を介して基材１１を接合する。接着剤３０としては、紫外線硬化性樹脂を採用することができる。接着剤３０として紫外線硬化性樹脂を採用する場合、基材１１としては、紫外線透過性材料よりなるものが採用される。
次に、図３Ｃに示すように、基材１１および軟磁性部１２を含む構造体と、仮基板３１および密着層３２からなる構造体とを、分離する。
本分離工程においては、密着層３２の構成材料に応じて選択される溶液に対し、図３Ｂに示す構造体を浸漬する。密着層３２がフォトレジストまたはソルダーレジストよりなる場合、本工程で使用する溶液としては、例えばアセトン、メチルエチルケトン、およびキシレンを採用することができる。この場合、浸漬時間は例えば５分とし、溶液温度は例えば室温〜５０℃とする。密着層３２がポリビニルアルコールよりなる場合、本工程で使用する溶液としては水を採用することができる。この場合、浸漬時間は例えば５分とし、溶液温度は例えば室温〜７０℃とする。浸漬時には、当該溶液にて超音波を伝搬させてもよい。
密着層３２が光分解性樹脂材料よりなる場合には、本分離工程では、上述の浸漬手法に代えて、紫外線やＸ線などの所定の電磁波を密着層３２に照射する手法を採用することができる。
浸漬または電磁波照射により密着層３２を充分に劣化ないし溶解させた後、基材１１および軟磁性部１２を含む構造体と、仮基板３１および密着層３２からなる構造体とを、分離する。この後、軟磁性部１２のプリグルーブ面１２ａに密着層３２の残さが存在する場合には、酸素プラズマエッチングや酸素プラズマアッシングを行うことにより、当該残さを除去してもよい。
以上のようにして、プリグルーブ型面３２ａのランドグルーブ形状が転写されたプリグルーブ面１２ａを軟磁性部１２にて有する基板Ｓ１を、製造することができる。プリグルーブ型面３２ａがランドグルーブ形状以外の凹凸形状（例えばピット形状）を有する場合、プリグルーブ面１２ａには、ランドグルーブ形状以外の凹凸形状も転写されている。
上述の方法においては、軟磁性部１２のプリグルーブ面１２ａを形成するための鋳型として機能するプリグルーブ型面３２ａは、軟磁性部１２ないしこれを構成する軟磁性材料に対して充分な密着性を示し得る材料よりなる密着層３２に設けられている。密着層構成材料は、使用される軟磁性材料に応じて選択される。図３Ａを参照して上述した軟磁性部形成工程において、密着層３２とこの上に堆積する軟磁性材料との間に充分な密着力が作用している状態では、密着層３２ないしプリグルーブ型面３２ａ上にて軟磁性材料を充分な厚さにまで適切に成長させることができる。したがって、軟磁性部形成工程では、プリグルーブ面１２ａを有する軟磁性部１２を充分な厚さで形成することができる。
一方、図３Ｃを参照して上述した分離工程では、軟磁性部１２と密着層３２または仮基板３１とを分離する前に、軟磁性部１２に対する密着層３２の密着力を低下せしめる。そのため、密着層３２および仮基板３１と軟磁性部１２とを適切に分離することができる。
このように、本実施形態の基板製造方法によると、プリグルーブ型面３２ａの凹凸形状が直接に転写されたプリグルーブ面１２ａを有する軟磁性部１２を備える光磁気記録媒体用の基板Ｓ１は、軟磁性材料に対する密着性が機能的に変化する材料により構成されてプリグルーブ型面３２ａを有する密着層３２を利用して、形成される。このような方法は、例えば光磁気記録媒体Ｘ１を効率よく製造するうえで好適である。
図４Ａおよび図４Ｂは、基板Ｓ１を用いて光磁気記録媒体Ｘ１を製造する方法を表す。本方法においては、まず、図４Ａに示すように、基板Ｓ１におけるプリグルーブ面１２ａ上に、熱伝導層２２、誘電体層２３、記録磁性部２１、および誘電体層２４を、順次形成する。各層は、スパッタリング法により形成することができる。
次に、図４Ｂに示すように、誘電体層２４上に保護膜２５を形成する。保護膜２５の形成においては、まず、誘電体層２４上に液状の樹脂組成物を成膜する。成膜手法としてはスピンコート法を採用することができる。当該樹脂組成物としては、保護膜２５の構成材料として上掲した樹脂を主成分として含み、且つ、紫外線硬化性、熱硬化性、または触媒硬化性を有するものを使用する。次に、成膜された樹脂組成物を硬化させる。硬化手法としては、樹脂組成物の硬化特性に応じて、樹脂組成物に対する紫外線照射、樹脂の加熱、或は、樹脂に対して触媒を作用させる方法が採用される。触媒を利用する場合には、成膜時の樹脂組成物に対して予め当該触媒を添加しておく。このようにして、保護膜２５を形成することができる。
以上のようにして、光磁気記録媒体Ｘ１を製造することができる。軟磁性部１２から保護膜２５までの積層構造を基材１１の両面側に設ける場合には、更に、図３Ａ〜図４Ｂを参照して上述した一連の工程を、基材１１のもう一方の面の側について行う。
基板Ｓ１は、所望の寸法で高精度にプリグルーブ１２ｂが形成されたプリグルーブ面１２ａを有し、且つ、当該プリグルーブ面１２ａは、軟磁性部１２により構成されている。図４Ａを参照して上述した工程では、このようなプリグルーブ面１２ａに対して、軟磁性部を介さずに、熱伝導層２２、誘電体層２３、および記録磁性部２１が積層形成される。そのため、光磁気記録媒体Ｘ１の記録磁性部２１については、寸法精度の高いランドグルーブ形状を有するように適切に形成することができる。すなわち、記録磁性部２１については、不当に丸みをおびず且つ不当に大きな表面粗さを有さずに、形成することができる。加えて、熱伝導層２２、誘電体層２３、および記録磁性部２１は、プリグルーブ層を介さずに軟磁性部１２に対して直接積層形成されているので、記録磁性部２１に含まれる記録層と軟磁性部１２とは、充分に近接し得る。このように、基板Ｓ１を用いて製造される光磁気記録媒体Ｘ１においては、記録磁性部２１において適切なランドグルーブ形状を実現することが可能であるとともに、記録磁性部２１に含まれる記録層と軟磁性部１２との距離を充分に短くすることが可能なのである。
記録磁性部２１に含まれる記録層と軟磁性部１２との間の距離が短い光磁気記録媒体Ｘ１では、軟磁性部１２の存在に起因する磁界集中の効果を充分に享受できるので、記録層の記録磁界感度を効率よく向上することが可能である。記録層の記録磁界感度の向上は、記録時における磁気記録ヘッドによる印加磁界の低減を可能にし、その結果、より高周波での記録すなわち高速記録を適切に実現することが可能となる。このような高速記録化は、記録密度の高い光磁気記録媒体の実用化を図るうえで重要である。
図５Ａ〜図６Ｂは、本発明の第２の実施形態に係る基板製造方法を表す。本実施形態は、光磁気記録媒体用の上述の基板Ｓ１を製造するための一手法である。本実施形態においては、まず、図５Ａに示すような仮基板３３を用意する。仮基板３３は、軟磁性部１２にて形成すべきプリグルーブ面１２ａのランドグルーブ形状に応じた所定の凹凸面３３ａを有し、樹脂材料、セラミック材料、または金属材料よりなる。凹凸面３３ａは、所定の清浄処理が施されている。樹脂材料としては、ポリカーボネート、アモルファスポリオレフィン、およびエポキシなどを採用することができる。セラミック材料としては、ガラスなどを採用することができる。金属材料としては、アルミニウム合金やマグネシウム合金などを採用することができる。
次に、図５Ｂに示すように、仮基板３３の凹凸面３３ａ上に、所定寸法のランドグルーブ形状を成すプリグルーブ型面３４ａを有する密着膜３４を形成する。このプリグルーブ型面３４ａのランドグルーブ形状は、軟磁性部１２にて形成すべきプリグルーブ面１２ａのランドグルーブ形状に対応する。また、プリグルーブ型面３４ａは、ランドグルーブ形状とともにランドグルーブ形状以外の凹凸形状（例えばピット形状）を有していてもよい。密着膜３４は、スパッタリング法や無電解めっき法により所定の材料を凹凸面３３ａ上に成長させることによって、形成することができる。密着膜３４を構成する材料としては、酸化亜鉛または亜鉛である。酸化亜鉛および亜鉛は、軟磁性部１２を構成する軟磁性材料に対して良好な密着性を示す傾向にある。密着膜３４の厚さは例えば０．１〜０．５μｍである。
次に、図５Ｃに示すように、プリグルーブ型面３４ａ上に軟磁性部１２を形成する。軟磁性部１２は、例えばスパッタリング法や無電解めっき法により上掲の軟磁性材料をプリグルーブ型面３４ａ上に成長させることによって、形成することができる。軟磁性部１２には、密着膜３４のプリグルーブ型面３４ａの凹凸形状が転写されたプリグルーブ面１２ａが形成される。軟磁性部１２の露出面上には、防食のための保護層を形成してもよい。
次に、図６Ａに示すように、軟磁性部１２に対し、または形成されている場合には保護層に対し、例えば紫外線硬化性樹脂よりなる接着剤３０を介して、基材１１を接合する。
次に、図６Ｂに示すように、基材１１および軟磁性部１２を含む構造体と、仮基板３３および密着膜３４からなる構造体とを、分離する。具体的には、図６Ａに示す構造体を酸性水溶液に浸漬することにより、酸化亜鉛または亜鉛よりなる密着膜３４を当該酸性水溶液に溶解した後、基材１１および軟磁性部１２を含む構造体と、仮基板３３とを分離する。酸性水溶液としては、所定濃度の例えば塩酸や硝酸水溶液を使用することができる。この場合、浸漬時間は例えば５分とし、溶液温度は例えば室温〜５０℃とする。
分離の後、軟磁性部１２のプリグルーブ面１２ａに密着膜３４の残さが存在する場合には、酸素プラズマエッチングや酸素プラズマアッシングを行うことにより、当該残さを除去してもよい。
以上のようにして、プリグルーブ型面３４ａのランドグルーブ形状が転写されたプリグルーブ面１２ａを軟磁性部１２にて有する基板Ｓ１を、製造することができる。プリグルーブ型面３４ａがランドグルーブ形状以外の凹凸形状（例えばピット形状）を有する場合、プリグルーブ面１２ａには、ランドグルーブ形状以外の凹凸形状も転写されている。
本実施形態は、軟磁性部１２のプリグルーブ面１２ａを形成するための鋳型として機能するプリグルーブ型面３４ａは、軟磁性部１２ないしこれを構成する軟磁性材料に対して充分な密着性を示し得る材料よりなる密着膜３４に設けられている。密着膜構成材料は、使用される軟磁性材料に応じて選択される。図５Ｃを参照して上述した軟磁性部形成工程において、密着膜３４とこの上に堆積する軟磁性材料との間に充分な密着力が作用している状態では、密着膜３４ないしプリグルーブ型面３４ａ上にて軟磁性材料を充分な厚さにまで適切に成長させることができる。したがって、軟磁性部形成工程では、プリグルーブ面１２ａを有する軟磁性部１２を充分な厚さで形成することができる。
一方、図６Ｂを参照して上述した分離工程では、軟磁性部１２と密着膜３４または仮基板３３とを分離する前に、軟磁性部１２に対する密着膜３４の密着力を低下せしめる。そのため、密着膜３４および仮基板３３と軟磁性部１２とを適切に分離することができる。
このように、本実施形態の基板製造方法によると、プリグルーブ型面３４ａの凹凸形状が直接に転写されたプリグルーブ面１２ａを有する軟磁性部１２を備える光磁気記録媒体用の基板Ｓ１は、軟磁性材料に対する密着性が機能的に変化する材料により構成されてプリグルーブ型面３４ａを有する密着膜３４を利用して、形成される。このような方法は、例えば光磁気記録媒体Ｘ１を効率よく製造するうえで好適である。
図７Ａ〜図８Ｂは、本発明の第３の実施形態に係る基板製造方法を表す。本実施形態は、光磁気記録媒体用の上述の基板Ｓ１を製造するための一手法である。本実施形態においては、まず、図７Ａに示すような仮基板３５を用意する。仮基板３５は、コア部３５ａおよび外皮部３５ｂよりなり、外皮部３５ｂにて、プリグルーブ型面３５ｃを有する。コア部３５ａは、相対的に高分子量の樹脂材料よりなり、外皮部３５ｂは、相対的に低分子量の樹脂材料よりなる。外皮部３５ｂを構成する樹脂材料の平均分子量は、コア部３５ａを構成するそれの２分の１以下が好ましい。プリグルーブ型面３５ｃは、所定寸法のランドグルーブ形状を有し、当該ランドグルーブ形状は、軟磁性部１２にて形成すべきプリグルーブ面１２ａのランドグルーブ形状に対応する。プリグルーブ型面３５ｃは、ランドグルーブ形状とともにランドグルーブ形状以外の凹凸形状（例えばピット形状）を有していてもよい。また、プリグルーブ型面３５ｃは、所定の清浄処理が施されている。このような仮基板３５を構成する樹脂材料としては、例えばポリビニルアルコールを採用することができる。構成樹脂の分子量の異なるコア部３５ａおよび外皮部３５ｂを有するこのような仮基板３５は、例えば、樹脂射出成形技術における２色成形法により作製することができる。
本実施形態では、次に、図７Ｂに示すように、仮基板３５のプリグルーブ型面３５ｃ上に軟磁性部１２を形成する。軟磁性部１２は、例えばスパッタリング法や無電解めっき法により上掲の軟磁性材料をプリグルーブ型面３５ｃ上に成長させることによって、形成することができる。軟磁性部１２には、仮基板３５のプリグルーブ型面３５ｃの凹凸形状が転写されたプリグルーブ面１２ａが形成される。軟磁性部１２の露出面上には、防食のための保護層を形成してもよい。
次に、図８Ａに示すように、軟磁性部１２に対し、または形成されている場合には保護層に対し、例えば紫外線硬化性樹脂よりなる接着剤３０を介して、基材１１を接合する。
次に、図８Ｂに示すように、基材１１および軟磁性部１２を含む構造体と仮基板３５とを分離する。具体的には、外皮部３５ｂの構成樹脂材料に応じて選択される溶液に対し、図８Ａに示す構造体を浸漬することにより、仮基板３５の外皮部３５ｂを当該溶液に溶解した後、基材１１および軟磁性部１２を含む構造体と仮基板３５とを分離する。本工程で使用する溶液としては、例えば水、エチルアルコール、およびイソプロピルアルコールを採用することができる。浸漬時間は例えば５分とし、溶液温度は例えば室温〜５０℃とする。浸漬時には、当該溶液にて超音波を伝搬させてもよい。
外皮部３５ｂを光分解性樹脂材料により構成する場合には、本分離工程では、上述の浸漬手法に代えて、紫外線やＸ線などの所定の電磁波を外皮部３５ｂに照射する手法を採用することができる。
浸漬または電磁波照射により外皮部３５ｂを充分に劣化ないし溶解させた後、基材１１および軟磁性部１２を含む構造体と仮基板３５とを、分離する。この後、軟磁性部１２のプリグルーブ面１２ａに外皮部３５ｂの残さが存在する場合には、酸素プラズマエッチングや酸素プラズマアッシングを行うことにより、当該残さを除去してもよい。
以上のようにして、プリグルーブ型面３５ｃのランドグルーブ形状が転写されたプリグルーブ面１２ａを軟磁性部１２にて有する基板Ｓ１を、製造することができる。プリグルーブ型面３５ｃがランドグルーブ形状以外の凹凸形状（例えばピット形状）を有する場合、プリグルーブ面１２ａには、ランドグルーブ形状以外の凹凸形状も転写されている。
本実施形態では、プリグルーブ型面３５ｃは、仮基板３５において、分離工程にて劣化されて例えば除去される外皮部３５ｂに形成されている。分離工程では、仮基板３５と軟磁性部１２とを分離する前に、外皮部３５ｂを劣化せしめるため、仮基板３５と軟磁性部１２とを適切に分離することができる。
このように、本実施形態の基板製造方法によると、プリグルーブ型面３５ｃの凹凸形状が直接に転写されたプリグルーブ面１２ａを有する軟磁性部１２を備える光磁気記録媒体用の基板Ｓ１は、軟磁性材料に対する密着性が機能的に変化し得る材料により構成されてプリグルーブ型面３５ｃを有する外皮部３５ｂを利用して、形成される。このような方法は、例えば光磁気記録媒体Ｘ１を効率よく製造するうえで好適である。
図９Ａ〜図９Ｃは、本発明の第４の実施形態に係る基板製造方法を表す。本実施形態は、光磁気記録媒体用の上述の基板Ｓ１を製造するための一手法である。本実施形態においては、まず、図９Ａに示すように、仮基板３８上に軟磁性部１２を形成する。仮基板３８はプリグルーブ型面３８ａを有し、このプリグルーブ型面３８ａのランドグルーブ形状は、軟磁性部１２にて形成すべきプリグルーブ面１２ａのランドグルーブ形状に対応する。プリグルーブ型面３８ａは、ランドグルーブ形状とともにランドグルーブ形状以外の凹凸形状（例えばピット形状）を有していてもよい。仮基板３８は、樹脂材料、セラミック材料、または金属材料により一様に構成されていてもよいし、図２Ｃ、図５Ｂ、または図７Ａに示す構造体のような複合的な内部構造を有していてもよい。
軟磁性部１２は、例えばスパッタリング法や無電解めっき法により当該プリグルーブ型面３８ａ上に軟磁性材料を成長させることによって、形成することができる。軟磁性部１２には、仮基板３８のプリグルーブ型面３８ａの凹凸形状が転写されたプリグルーブ面１２ａが形成される。スパッタリング法を採用する場合、成膜時における仮基板３８の温度は例えば２０〜４０℃とする。一方、無電解めっき法を採用する場合、成膜時におけるめっき浴の温度は例えば４５〜９０℃とする。本工程の後、図９Ａに示す軟磁性部１２の露出面上には、防食のための保護層を形成してもよい。
本実施形態では、次に、図９Ｂに示すように、軟磁性部１２に対し、または形成されている場合には保護層に対し、例えば紫外線硬化性樹脂よりなる接着剤３０を介して基材１１を接合する。
次に、図９Ｃに示すように、基材１１および軟磁性部１２を含む構造体と、仮基板３８とを、分離する。本工程では、図９Ａを参照して上述した軟磁性部形成工程に近似した温度条件および／または湿度条件の下に、図９Ｂに示す構造体を充分に放置した後に、基板Ｓ１と仮基板３８とを分離する。
例えば、軟磁性部形成工程にてスパッタリング法を採用する場合、当該スパッタリング時の仮基板３８の温度と、分離工程における少なくとも仮基板３８および軟磁性部１２の温度との差を、１０℃以下とする。例えば、軟磁性部形成工程にて無電解めっき法を採用する場合、当該無電解めっき時のめっき浴の温度と、分離工程における環境温度との差を、１０℃以下とする。また、軟磁性部形成工程にて無電解めっき法を採用する場合、分離工程は、相対湿度９０％以上の環境下で行うのが好ましい。
両工程の温度や湿度を近似させることにより、両工程間での仮基板３８の膨張または収縮を低減できるとともに、両工程間での軟磁性部１２の膨張または収縮を低減でき、従って、本分離工程において、例えば軟磁性部１２が仮基板３８に対して相対的に不当に膨張または収縮することを回避することができる。それゆえ、分離工程において、軟磁性部１２と仮基板３８と適切に分離することが可能となるのである。
このように、本実施形態の基板製造方法によると、プリグルーブ型面３８ａの凹凸形状が直接に転写されたプリグルーブ面１２ａを有する軟磁性部１２を備える光磁気記録媒体用の基板Ｓ１を、適切に製造することができる。プリグルーブ型面３８ａがランドグルーブ形状以外の凹凸形状（例えばピット形状）を有する場合、プリグルーブ面１２ａには、ランドグルーブ形状以外の凹凸形状も転写されている。
図１０は、本発明に基づいて製造することのできる光磁気記録媒体Ｘ２を表す。光磁気記録媒体Ｘ２は、基板Ｓ２と、記録磁性部２１と、熱伝導層２２と、誘電体層２３，２４と、保護膜２５とを備え、フロントイルミネーション方式の光磁気ディスクとして構成されている。
基板Ｓ２は、基材１３、軟磁性部１４、およびこれらの間の密着層１５を有する。基材１３は、例えば、ポリカーボネート（ＰＣ）樹脂、ポリメチルメタアクリレート（ＰＭＭＡ）樹脂、エポキシ樹脂、またはポリオレフィン樹脂よりなる。或は、基材１３としては、ガラス基板やアルミニウム合金基板を採用してもよい。
軟磁性部１４は、渦巻き状または同心円状のプリグルーブ１４ｂが所望の寸法で形成されたプリグルーブ面１４ａを有する。このプリグルーブ１４ｂを基に、本光磁気ディスクにおけるランドグルーブ形状が形成されている。軟磁性部１４を構成する材料としては、軟磁性部１２の構成材料として上述しものを採用することができる。軟磁性部１４を構成する軟磁性材料の飽和磁束密度をＢｓ（ｋＧａｕｓｓ）とし、軟磁性部１４の厚さをｔ（μｍ）とすると、軟磁性部１４は、上記式（１）を満たすのが好ましい。
密着層１５は、基材１３に対する軟磁性部１４の密着力を確保するための部位であり、例えば、Ｔｉ，Ｃｒ，Ｗよりなる。密着層１５の厚さは例えば１０〜１００ｎｍであり、好ましくは２０〜５０ｎｍである。厚さが１０ｎｍより小さいと、密着力向上の効果を充分には得られない。厚さが１００ｎｍより大きいと、基材１３から密着層１５が剥離しやすくなる。
記録磁性部２１、熱伝導層２２、誘電体層２３，２４、および保護層２５については、光磁気記録媒体Ｘ１に関して上述したのと同様である。
光磁気記録媒体Ｘ２は、密着層１５から保護膜２５までの積層構造を基材１３の片面側のみに又は両面側に有する。また、記録磁性部２１、熱伝導層２２、誘電体層２３，２４、および保護膜２５は、光磁気記録媒体Ｘ２おいて、プリグルーブ面１４ａ上に積層形成された材料膜構造部を構成する。当該材料膜構造部のうち熱伝導層２２がプリグルーブ面１４ａ上に直接積層されている。
図１１Ａ〜図１２Ｂは、本発明の第５の実施形態に係る基板製造方法を表す。本実施形態は、光磁気記録媒体用の上述の基板Ｓ２を製造するための一手法である。本実施形態においては、まず、図１１Ａに示すように、平坦面１３ａを有する基材１３を用意する。基材１３の平坦面１３ａは、所定の平滑化処理および清浄処理が施されている。
次に、図１１Ｂに示すように、基材１３の平坦面１３ａ上に密着層１５を形成する。具体的には、密着層１５の上掲の構成材料を例えばスパッタリング法により平坦面１３ａ上に成膜する。
次に、図１１Ｃに示すように、密着層１５上に軟磁性膜１４ｃを形成する。具体的には、軟磁性部１４を構成するための軟磁性材料を所定の厚さに成膜する。成膜手法としては、スパッタリング法、電気めっき法、または無電解めっき法を採用することができる。
次に、図１２Ａに示すように、軟磁性膜１４ｃ上にレジストパターン３７を形成する。レジストパターン３７は、フォトレジストまたはソルダーレジストよりなり、軟磁性部１４にて形成すべきプリグルーブ面１４ａのランドグルーブ形状におけるランド部に対応する開口部３７ａを有する。また、レジストパターン３７は、例えばピット形状を形成するための、ランド部以外に対応する開口部を有していてもよい。レジストパターン３７の厚さは、形成すべき軟磁性部１４の厚さの１．５倍以上が好ましい。
次に、図１２Ｂに示すように、スパッタリング法、電気めっき法、または無電解めっき法により、レジストパターン３７の開口部３７ａ内に軟磁性材料１４ｄを堆積させることによって、プリグルーブ面１４ａを有する軟磁性部１４を形成する。
軟磁性部１４の形成においては、レジストパターン３７を形成する前に図１３Ａに示すように、保護膜としての薄膜１４ｅを軟磁性膜１４ｃ上に形成し、図１３Ｂに示すようにレジストパターン３７を形成し、図１３Ｃに示すように薄膜１４ｅ上に軟磁性材料１４ｄを堆積してもよい。
薄膜１４ｅの構成材料としては、軟磁性部１４を構成する軟磁性材料よりイオン化傾向の大きい金属材料（例えば亜鉛）、不働態酸化皮膜を形成しやすい金属材料（例えば、アルミニウム、マグネシウム、チタン、銅）、または、セラミックス（ホウ化物、炭化物、窒化物、酸化物、フッ化物）を採用することができる。この場合、薄膜１４ｅは、無電解めっき法により軟磁性材料１４ｄを堆積させる際に、めっき浴に対して軟磁性膜１４ｃを防食する機能を呈することができる。
軟磁性材料１４ｄの堆積手法として無電解めっき法を採用する場合には、薄膜１４ｅの構成材料としては、銅や亜鉛を採用してもよい。
薄膜１４ｅの構成材料として銅を採用する場合、軟磁性材料１４ｄの堆積に際して、まず、図１３Ｂに示す構造体を塩化パラジウム水溶液（０．０１〜０．１ｗｔ％、室温）に浸漬する。このとき、当該水溶液中のパラジウムと、薄膜１４ｅを構成する銅との置換めっき反応により、薄膜１４ｅ表面にてパラジウムが強固かつ均一に析出する。当該パラジウムは、後出のめっき成長における触媒核として機能する。次に、図１３Ｂに示す構造体を充分に水洗いした後、所定の組成を有するめっき浴に当該構造体を浸漬し、軟磁性材料１４ｄをめっき成長させる。めっき浴は、形成目的の軟磁性部１４の組成に応じて、所定濃度のコバルト、ニッケル、鉄、還元剤などを含む。
薄膜１４ｅを形成せずに、軟磁性膜１４ｃ上に直接に塩化パラジウム水溶液を作用させると、軟磁性膜１４ｃ表面に対する吸着力の弱いパラジウムは当該表面に均一には吸着しにくい傾向がある。軟磁性膜１４ｃ表面におけるパラジウムの吸着態様が疎らであると、その後の軟磁性めっき膜成長工程において、膜成長箇所にわたって成長速度すなわち膜厚に差が生じてしまう。これに対し、銅よりなる薄膜１４ｅを上述のように形成する場合には、パラジウムよりイオン化傾向の大きな銅とパラジウムとの置換反応を利用して、当該薄膜１４ｅ表面にパラジウム触媒核を均一に形成することができるので、当該薄膜１４ｅ上にて良好な軟磁性めっき膜を形成することが可能となるのである。銅以外であっても、パラジウムよりもイオン化傾向が大きい元素により薄膜１４ｅを形成する場合には、同様の効果が奏される。
薄膜１４ｅの構成材料として亜鉛を採用する場合、軟磁性材料１４ｄの堆積に際して、図１３Ｂに示す構造体を、所定の組成を有するめっき浴に浸漬し、軟磁性めっき膜を成長させる。めっき浴は、形成目的の軟磁性部１４の組成に応じて、所定濃度のコバルト、ニッケル、鉄、還元剤などを含む。本方法では、まず、めっき液中のコバルト、ニッケル、鉄と、薄膜１４ｅを構成する亜鉛との置換めっき反応により、薄膜１４ｅ表面にコバルト、ニッケル、および鉄が強固かつ均一に析出する。その後、めっき液中の還元剤の作用により、コバルト、ニッケル、および鉄が析出し続ける。本方法によると、パラジウム触媒核の吸着形成を行わなくとも、軟磁性材料１４ｄを堆積することができる。亜鉛以外であっても、コバルト、ニッケル、および鉄よりもイオン化傾向の大きな元素により薄膜１４ｅを形成する場合には、同様の効果が奏される。
本実施形態では、軟磁性部１４の形成の後、図１２Ｃに示すように、レジストパターン３７を除去する。例えば、図１２Ｂに示す構造体を所定の溶液に浸漬することにより、レジストパターン３７を除去する。除去するための溶液としては、例えばアセトン、メチルエチルケトン、およびキシレンを使用することができる。
以上のようにして、高い寸法精度のランドグルーブ形状を有するプリグルーブ面１４ａを軟磁性部１４にて有する基板Ｓ２を、製造することができる。レジストパターン３７がランドグルーブ形状以外の凹凸形状（例えばピット形状）に対応する開口部を有する場合には、プリグルーブ面１４ａは、ランドグルーブ形状以外の凹凸形状も有する。
基板Ｓ２を用いて光磁気記録媒体Ｘ２を製造する場合には、まず、図１４Ａに示すように、基板Ｓ２におけるプリグルーブ面１４ａ上に、熱伝導層２２、誘電体層２３、記録磁性部２１、および誘電体層２４を、順次形成する。各層は、スパッタリング法により形成することができる。
次に、図１４Ｂに示すように、図４Ｂを参照して上述したのと同様の手法により、誘電体層２４上に保護膜２５を形成する。密着層１５から保護膜２５までの積層構造を基材１３の両面側に設ける場合には、更に、図１１Ｂ〜図１４Ｂを参照して上述した一連の工程を、基材１３のもう一方の面の側について行う。以上のようにして、光磁気記録媒体Ｘ２を製造することができる。
基板Ｓ２は、所望の寸法で高精度にプリグルーブ１４ｂが形成されたプリグルーブ面１４ａを有し、且つ、当該プリグルーブ面１４ａは、軟磁性部１４により構成されている。図１４Ａを参照して上述した工程では、このようなプリグルーブ面１４ａに対して、軟磁性部を介さずに、熱伝導層２２、誘電体層２３、および記録磁性部２１が積層形成される。そのため、記録磁性部２１については、寸法精度の高いランドグルーブ形状を有するように適切に形成することができる。すなわち、記録磁性部２１については、不当に丸みをおびず且つ不当に大きな表面粗さを有さずに、形成することができる。加えて、熱伝導層２２、誘電体層２３、および記録磁性部２１は、プリグルーブ層を介さずに軟磁性部１４に対して直接積層形成されているので、記録磁性部２１に含まれる記録層と軟磁性部１４とは、充分に近接し得る。このように、基板Ｓ２を用いて製造される光磁気記録媒体Ｘ２においては、記録磁性部２１において適切なランドグルーブ形状を実現することが可能であるとともに、記録磁性部２１に含まれる記録層と軟磁性部１４との距離を充分に短くすることが可能なのである。
記録磁性部２１に含まれる記録層と軟磁性部１４との間の距離が短い光磁気記録媒体Ｘ２では、軟磁性部１４の存在に起因する磁界集中の効果を充分に享受できるので、記録層の記録磁界感度を効率よく向上することが可能である。記録層の記録磁界感度の向上は、記録時における磁気記録ヘッドによる印加磁界の低減を可能にし、その結果、より高周波での記録すなわち高速記録を適切に実現することが可能となる。このような高速記録化は、記録密度の高い光磁気記録媒体の実用化を図るうえで重要である。FIG. 1 shows a magneto-optical recording medium X1 that can be manufactured according to the present invention. The magneto-optical recording medium X1 includes a substrate S1, a recording magnetic unit 21, a heat conductive layer 22, dielectric layers 23 and 24, and a protective film 25, and is configured as a front illumination type magneto-optical disk. .
The substrate S <b> 1 has a base material 11 and a soft magnetic part 12, which are bonded via an adhesive 30. The base material 11 is made of, for example, a polycarbonate (PC) resin, a polymethyl methacrylate (PMMA) resin, an epoxy resin, or a polyolefin resin. Alternatively, as the base material 11, a glass substrate or an aluminum alloy substrate may be employed.
The soft magnetic part 12 has a pregroove surface 12a in which a spiral or concentric pregroove 12b is formed with a desired dimension. Based on the pregroove 12b, a land groove shape in the magneto-optical disk is formed. The soft magnetic part 12 is made of a soft magnetic material having a large saturation magnetization and a small coercive force, and concentrates the magnetic flux generated from the recording magnetic head on the recording layer included in the recording magnetic part 21 to thereby record the recording layer. Has a function of improving the recording magnetic field sensitivity. Such a soft magnetic part 12 can be composed of, for example, an Fe-based material such as FeC, a Co-based material, permalloy, or sendust. More specifically, the soft magnetic part 12 is made of, for example, CoFeNi.
When the saturation magnetic flux density of the soft magnetic material constituting the soft magnetic part 12 is Bs (kGauss) and the thickness of the soft magnetic part 12 is t (μm), the soft magnetic part 12 satisfies the following formula (1). Is preferred. When the soft magnetic part 12 is thin, the saturation magnetic flux density is high enough to satisfy the expression (1), or when the saturation magnetic flux density is small enough to satisfy the expression (1), the recording magnetic part 21 Can fully exhibit the function of magnetic field concentration in the recording layer described later.
Bs × t ≧ 5 (kGauss · μm) (1)
The recording magnetic part 21 has a magnetic structure composed of one or two or more magnetic films capable of performing two functions of thermomagnetic recording and reproduction utilizing the magneto-optical effect, and has a land-groove-shaped land. The information track in the present medium is configured by the section and / or the groove section. For example, the recording magnetic part 21 is composed of a single recording layer having both a recording function and a reproducing function. Alternatively, the recording magnetic part 21 is composed of two layers including a recording layer that has a relatively large coercive force and assumes a recording function, and a reproducing layer that has a relatively large Kerr rotation angle and plays a reproducing function. It has a structure. Alternatively, the recording magnetic unit 21 has a multilayer structure of three or more layers including a recording layer, a reproducing layer, and an intermediate layer between them in order to realize reproduction by the MSR method, the MAMMOS method, or the DWDD method. .
Each layer in each structure that the recording magnetic part 21 can take is a perpendicular magnetization film made of an amorphous alloy of a rare earth element and a transition metal and magnetized in the perpendicular direction with perpendicular magnetic anisotropy. The vertical direction means a direction perpendicular to the film surface of the magnetic film constituting each layer. As the rare earth element, Tb, Gd, Dy, Nd, Pr, or the like can be used. As the transition metal, Fe, Co, or the like can be used.
More specifically, the recording layer is made of, for example, TbFeCo, DyFeCo, or TbDyFeCo having a predetermined composition. When the reproduction layer is provided, the reproduction layer is made of, for example, GdFeCo, GdDyFeCo, GdTbDyFeCo, NdDyFeCo, NdGdFeCo, or PrDyFeCo having a predetermined composition. When the intermediate layer is provided, the intermediate layer is made of, for example, GdFe, TbFe, GdFeCo, GdDyFeCo, GdTbDyFeCo, NdDyFeCo, NdGdFeCo, or PrDyFeCo having a predetermined composition. The thickness of each layer is determined according to the magnetic structure desired for the recording magnetic part 21.
The heat conductive layer 22 is a part for efficiently transmitting heat generated in the recording magnetic part 21 and the like to the substrate S1 during laser irradiation. For example, Ag, Ag alloy (AgPdCuSi, AgPdCu, etc.), Al alloy (AlTi, AlCr), Au, or Pt. The thickness of the heat conductive layer 22 is, for example, 10 to 50 nm.
The dielectric layers 23 and 24 are portions for avoiding or suppressing external chemical influence on the recording magnetic part 21. For example, SiN, SiO 2 , YSiO 2 , ZnSiO 2 , AlO, or AlN. The thickness of the dielectric layer 23 is, for example, 10 to 30 nm. The thickness of the dielectric layer 24 is, for example, 35 to 50 nm.
The protective film 25 is made of a resin having sufficient transparency with respect to the recording laser and the reproducing laser of the magneto-optical recording medium X1, and has a thickness of, for example, 10 to 40 μm. Examples of the resin for forming the protective film 25 include polycarbonate (PC) resin, polymethyl methacrylate (PMMA) resin, epoxy resin, and polyolefin resin.
The magneto-optical recording medium X1 has a laminated structure from the soft magnetic part 12 to the protective film 25 only on one side of the substrate 11 or on both sides. In addition, the recording magnetic part 21, the heat conductive layer 22, the dielectric layers 23 and 24, and the protective film 25 are laminated on the pre-groove surface 12a of the substrate S1 in the magneto-optical recording medium X1. Configure. Of the material film structure, the heat conductive layer 22 is directly laminated on the pre-groove surface 12a.
2A to 3C show a substrate manufacturing method according to the first embodiment of the present invention. This embodiment is one method for manufacturing the above-described substrate S1 for a magneto-optical recording medium. In the present embodiment, first, a temporary substrate 31 as shown in FIG. 2A is prepared. The temporary substrate 31 has a flat surface 31a and is made of a resin material, a ceramic material, or a metal material. The flat surface 31a is subjected to predetermined smoothing processing and cleaning processing. As the resin material, polycarbonate, amorphous polyolefin, epoxy and the like can be employed. Glass or the like can be used as the ceramic material. As the metal material, an aluminum alloy, a magnesium alloy, or the like can be employed.
Next, as shown in FIG. 2B, an adhesion layer 32 is formed on the flat surface 31 a of the temporary substrate 31. As a material for forming the adhesion layer 32, a material showing good adhesion to the constituent material of the soft magnetic portion 12 is selected. As such a material, for example, a photoresist, a solder resist, or polyvinyl alcohol can be employed. As a constituent material of the adhesion layer 32, a resin material exhibiting photodegradability may be employed. Examples of such a resin material include a positive photoresist, a positive solder resist, and a photodecomposable resin that constitutes an adhesive layer of a silicon wafer dicing tape. As a method for forming the adhesion layer 32, a spin coating method, a dip coating method, or a printing method can be employed. The thickness of the adhesion layer 32 is, for example, 0.5 to 100 μm.
Next, as shown in FIG. 2C, a pregroove surface 32 a is formed in the adhesion layer 32. Specifically, a predetermined portion of the exposed surface of the adhesion layer 32 is exposed by ultraviolet irradiation or electron beam irradiation, and then the exposed surface is developed to obtain a pre-shaped land groove shape (uneven shape). The groove type surface 32a is formed. The land groove shape of the pregroove mold surface 32 a corresponds to the land groove shape of the pregroove surface 12 a to be formed by the soft magnetic portion 12.
Instead of such a method, a nanoimprint method may be employed in forming the pregroove type surface 32a. In the nanoimprint method, a hard stamper having a predetermined land groove shape on the surface is pressed against the adhesion layer 32, whereby the land groove shape of the hard stamper is transferred to the exposed surface of the adhesion layer 32. As a result, the pre-groove surface 32 a is formed in the adhesion layer 32. The hard stamper is made of, for example, nickel or quartz glass.
In this step, the pre-groove mold surface 32a may be formed so as to have an uneven shape (for example, a pit shape) other than the land groove shape along with the land groove shape.
In manufacturing the substrate S1, next, as shown in FIG. 3A, the soft magnetic portion 12 is formed on the pre-groove mold surface 32a. The soft magnetic part 12 can be formed by growing the above-described soft magnetic material on the pregroove surface 32a by, for example, a sputtering method or an electroless plating method. The soft magnetic portion 12 is formed with a pre-groove surface 12a to which the uneven shape of the pre-groove mold surface 32a of the adhesion layer 32 is transferred. A protective layer for anticorrosion may be formed on the exposed surface of the soft magnetic part 12 shown in FIG. 3A. The material constituting the protective layer can be selected from copper, nickel, silicon nitride, aluminum nitride, and the like.
Next, as shown in FIG. 3B, the base material 11 is bonded to the soft magnetic portion 12 or, if formed, to the protective layer via an adhesive 30. As the adhesive 30, an ultraviolet curable resin can be employed. When an ultraviolet curable resin is employed as the adhesive 30, a material made of an ultraviolet transmissive material is employed as the substrate 11.
Next, as shown in FIG. 3C, the structure including the base material 11 and the soft magnetic part 12 is separated from the structure including the temporary substrate 31 and the adhesion layer 32.
In this separation step, the structure shown in FIG. 3B is immersed in a solution selected according to the constituent material of the adhesion layer 32. When the adhesion layer 32 is made of a photoresist or a solder resist, for example, acetone, methyl ethyl ketone, and xylene can be used as a solution used in this step. In this case, the immersion time is, for example, 5 minutes, and the solution temperature is, for example, room temperature to 50 ° C. When the adhesion layer 32 is made of polyvinyl alcohol, water can be used as the solution used in this step. In this case, the immersion time is, for example, 5 minutes, and the solution temperature is, for example, room temperature to 70 ° C. At the time of immersion, ultrasonic waves may be propagated in the solution.
When the adhesion layer 32 is made of a photodegradable resin material, in this separation step, a method of irradiating the adhesion layer 32 with a predetermined electromagnetic wave such as ultraviolet rays or X-rays may be employed instead of the above-described immersion technique. it can.
After the adhesion layer 32 is sufficiently deteriorated or dissolved by immersion or electromagnetic wave irradiation, the structure including the base material 11 and the soft magnetic part 12 and the structure including the temporary substrate 31 and the adhesion layer 32 are separated. Thereafter, when the adhesive layer 32 remains on the pre-groove surface 12a of the soft magnetic portion 12, the residue may be removed by performing oxygen plasma etching or oxygen plasma ashing.
As described above, the substrate S1 having the pre-groove surface 12a to which the land-groove shape of the pre-groove mold surface 32a is transferred in the soft magnetic portion 12 can be manufactured. When the pre-groove mold surface 32a has an uneven shape (for example, pit shape) other than the land groove shape, the uneven shape other than the land groove shape is also transferred to the pre-groove surface 12a.
In the above-described method, the pregroove mold surface 32a functioning as a mold for forming the pregroove surface 12a of the soft magnetic part 12 has sufficient adhesion to the soft magnetic part 12 or the soft magnetic material constituting the soft magnetic part 12. It is provided in the adhesion layer 32 made of a material that can exhibit the following. The adhesion layer constituent material is selected according to the soft magnetic material used. In the soft magnetic portion forming step described above with reference to FIG. 3A, in the state where a sufficient adhesion force is acting between the adhesion layer 32 and the soft magnetic material deposited thereon, the adhesion layer 32 or the pregroove type is formed. The soft magnetic material can be appropriately grown to a sufficient thickness on the surface 32a. Therefore, in the soft magnetic part forming step, the soft magnetic part 12 having the pre-groove surface 12a can be formed with a sufficient thickness.
On the other hand, in the separation step described above with reference to FIG. 3C, the adhesion of the adhesion layer 32 to the soft magnetic portion 12 is reduced before separating the soft magnetic portion 12 and the adhesion layer 32 or the temporary substrate 31. Therefore, the adhesion layer 32 and the temporary substrate 31 and the soft magnetic part 12 can be appropriately separated.
As described above, according to the substrate manufacturing method of the present embodiment, the substrate S1 for a magneto-optical recording medium including the soft magnetic portion 12 having the pre-groove surface 12a to which the uneven shape of the pre-groove mold surface 32a is directly transferred is The adhesive layer 32 is formed using a material that has a pregroove type surface 32a and is made of a material whose adhesiveness to the soft magnetic material is functionally changed. Such a method is suitable, for example, for efficiently producing the magneto-optical recording medium X1.
4A and 4B show a method of manufacturing the magneto-optical recording medium X1 using the substrate S1. In this method, first, as shown in FIG. 4A, a heat conductive layer 22, a dielectric layer 23, a recording magnetic part 21, and a dielectric layer 24 are sequentially formed on the pre-groove surface 12a of the substrate S1. Each layer can be formed by a sputtering method.
Next, as shown in FIG. 4B, a protective film 25 is formed on the dielectric layer 24. In forming the protective film 25, first, a liquid resin composition is formed on the dielectric layer 24. As a film forming method, a spin coating method can be employed. As the resin composition, a resin composition containing the resin listed above as a main component of the protective film 25 and having ultraviolet curable properties, thermosetting properties, or catalyst curable properties is used. Next, the formed resin composition is cured. As a curing method, a method of irradiating the resin composition with ultraviolet rays, heating the resin, or causing a catalyst to act on the resin is employed depending on the curing characteristics of the resin composition. When a catalyst is used, the catalyst is previously added to the resin composition at the time of film formation. In this way, the protective film 25 can be formed.
As described above, the magneto-optical recording medium X1 can be manufactured. When the laminated structure from the soft magnetic part 12 to the protective film 25 is provided on both sides of the base material 11, the series of steps described above with reference to FIGS. 3A to 4B is further performed on the other side of the base material 11. Do on the side of the face.
The substrate S1 has a pregroove surface 12a on which a pregroove 12b is formed with a desired dimension and high accuracy, and the pregroove surface 12a is configured by the soft magnetic portion 12. In the process described above with reference to FIG. 4A, the heat conductive layer 22, the dielectric layer 23, and the recording magnetic part 21 are laminated on the pre-groove surface 12a without using the soft magnetic part. . Therefore, the recording magnetic part 21 of the magneto-optical recording medium X1 can be appropriately formed so as to have a land groove shape with high dimensional accuracy. That is, the recording magnetic portion 21 can be formed without being unduly rounded and without having an unduly large surface roughness. In addition, since the heat conductive layer 22, the dielectric layer 23, and the recording magnetic part 21 are directly laminated on the soft magnetic part 12 without using the pregroove layer, the recording included in the recording magnetic part 21 is included. The layer and the soft magnetic part 12 can be sufficiently close to each other. As described above, in the magneto-optical recording medium X1 manufactured using the substrate S1, an appropriate land groove shape can be realized in the recording magnetic part 21, and the recording layer included in the recording magnetic part 21 The distance from the soft magnetic part 12 can be made sufficiently short.
In the magneto-optical recording medium X1 in which the distance between the recording layer included in the recording magnetic part 21 and the soft magnetic part 12 is short, the effect of the magnetic field concentration caused by the presence of the soft magnetic part 12 can be fully enjoyed. It is possible to efficiently improve the recording magnetic field sensitivity. The improvement in the recording magnetic field sensitivity of the recording layer makes it possible to reduce the magnetic field applied by the magnetic recording head during recording, and as a result, it is possible to appropriately realize recording at higher frequencies, that is, high-speed recording. Such high-speed recording is important for the practical application of a magneto-optical recording medium having a high recording density.
5A to 6B show a substrate manufacturing method according to the second embodiment of the present invention. This embodiment is one method for manufacturing the above-described substrate S1 for a magneto-optical recording medium. In the present embodiment, first, a temporary substrate 33 as shown in FIG. 5A is prepared. The temporary substrate 33 has a predetermined uneven surface 33a corresponding to the land groove shape of the pre-groove surface 12a to be formed by the soft magnetic part 12, and is made of a resin material, a ceramic material, or a metal material. The uneven surface 33a is subjected to a predetermined cleaning process. As the resin material, polycarbonate, amorphous polyolefin, epoxy and the like can be employed. Glass or the like can be used as the ceramic material. As the metal material, an aluminum alloy, a magnesium alloy, or the like can be employed.
Next, as shown in FIG. 5B, an adhesion film 34 having a pregroove surface 34 a having a land groove shape with a predetermined dimension is formed on the uneven surface 33 a of the temporary substrate 33. The land groove shape of the pre-groove mold surface 34 a corresponds to the land groove shape of the pre-groove surface 12 a to be formed by the soft magnetic portion 12. Further, the pre-groove mold surface 34a may have an uneven shape (for example, a pit shape) other than the land groove shape as well as the land groove shape. The adhesion film 34 can be formed by growing a predetermined material on the uneven surface 33a by a sputtering method or an electroless plating method. The material constituting the adhesion film 34 is zinc oxide or zinc. Zinc oxide and zinc tend to exhibit good adhesion to the soft magnetic material constituting the soft magnetic part 12. The thickness of the adhesion film 34 is, for example, 0.1 to 0.5 μm.
Next, as shown in FIG. 5C, the soft magnetic portion 12 is formed on the pre-groove mold surface 34a. The soft magnetic part 12 can be formed by growing the above-described soft magnetic material on the pregroove surface 34a by, for example, a sputtering method or an electroless plating method. In the soft magnetic part 12, a pre-groove surface 12a to which the uneven shape of the pre-groove mold surface 34a of the adhesion film 34 is transferred is formed. A protective layer for corrosion protection may be formed on the exposed surface of the soft magnetic part 12.
Next, as shown in FIG. 6A, the base material 11 is bonded to the soft magnetic portion 12 or, if formed, to the protective layer via an adhesive 30 made of, for example, an ultraviolet curable resin. .
Next, as shown in FIG. 6B, the structure including the base material 11 and the soft magnetic part 12 is separated from the structure including the temporary substrate 33 and the adhesion film 34. Specifically, by immersing the structure shown in FIG. 6A in an acidic aqueous solution, the adhesion film 34 made of zinc oxide or zinc is dissolved in the acidic aqueous solution, and then the structure including the substrate 11 and the soft magnetic part 12. And the temporary substrate 33 are separated. As the acidic aqueous solution, for example, hydrochloric acid or nitric acid aqueous solution having a predetermined concentration can be used. In this case, the immersion time is, for example, 5 minutes, and the solution temperature is, for example, room temperature to 50 ° C.
After the separation, if there is a residue of the adhesion film 34 on the pre-groove surface 12a of the soft magnetic portion 12, the residue may be removed by performing oxygen plasma etching or oxygen plasma ashing.
As described above, the substrate S1 having the pre-groove surface 12a on which the land-groove shape of the pre-groove mold surface 34a is transferred can be manufactured. When the pre-groove mold surface 34a has an uneven shape (for example, pit shape) other than the land groove shape, the uneven shape other than the land groove shape is also transferred to the pre-groove surface 12a.
In the present embodiment, the pre-groove mold surface 34a functioning as a mold for forming the pre-groove surface 12a of the soft magnetic part 12 has sufficient adhesion to the soft magnetic part 12 or the soft magnetic material constituting the soft magnetic part 12. It is provided on the adhesion film 34 made of a material that can be shown. The adhesive film constituent material is selected according to the soft magnetic material used. In the soft magnetic portion forming step described above with reference to FIG. 5C, in the state where a sufficient adhesion force acts between the adhesion film 34 and the soft magnetic material deposited thereon, the adhesion film 34 or the pregroove type is formed. The soft magnetic material can be appropriately grown to a sufficient thickness on the surface 34a. Therefore, in the soft magnetic part forming step, the soft magnetic part 12 having the pre-groove surface 12a can be formed with a sufficient thickness.
On the other hand, in the separation step described above with reference to FIG. 6B, before the soft magnetic part 12 and the adhesion film 34 or the temporary substrate 33 are separated, the adhesion force of the adhesion film 34 to the soft magnetic part 12 is reduced. Therefore, the adhesion film 34, the temporary substrate 33, and the soft magnetic part 12 can be appropriately separated.
As described above, according to the substrate manufacturing method of the present embodiment, the substrate S1 for a magneto-optical recording medium including the soft magnetic portion 12 having the pre-groove surface 12a onto which the uneven shape of the pre-groove mold surface 34a is directly transferred is The adhesive film 34 is formed by using an adhesive film 34 having a pre-groove type surface 34a which is made of a material whose adhesiveness to the soft magnetic material is functionally changed. Such a method is suitable, for example, for efficiently producing the magneto-optical recording medium X1.
7A to 8B show a substrate manufacturing method according to the third embodiment of the present invention. This embodiment is one method for manufacturing the above-described substrate S1 for a magneto-optical recording medium. In the present embodiment, first, a temporary substrate 35 as shown in FIG. 7A is prepared. The temporary substrate 35 includes a core portion 35a and an outer skin portion 35b, and has a pre-groove mold surface 35c at the outer skin portion 35b. The core portion 35a is made of a relatively high molecular weight resin material, and the outer skin portion 35b is made of a relatively low molecular weight resin material. The average molecular weight of the resin material constituting the outer skin portion 35b is preferably less than or equal to half that of the core material 35a. The pre-groove mold surface 35 c has a land groove shape with a predetermined size, and the land groove shape corresponds to the land groove shape of the pre-groove surface 12 a to be formed by the soft magnetic part 12. The pre-groove mold surface 35c may have an uneven shape (for example, a pit shape) other than the land groove shape as well as the land groove shape. The pre-groove mold surface 35c is subjected to a predetermined cleaning process. As a resin material constituting such a temporary substrate 35, for example, polyvinyl alcohol can be employed. Such a temporary substrate 35 having the core portion 35a and the outer skin portion 35b having different molecular weights of the constituent resins can be produced by, for example, a two-color molding method in a resin injection molding technique.
In this embodiment, next, as shown in FIG. 7B, the soft magnetic part 12 is formed on the pre-groove surface 35 c of the temporary substrate 35. The soft magnetic part 12 can be formed by growing the above-described soft magnetic material on the pregroove surface 35c by, for example, a sputtering method or an electroless plating method. The soft magnetic part 12 is formed with a pre-groove surface 12a to which the uneven shape of the pre-groove mold surface 35c of the temporary substrate 35 is transferred. A protective layer for corrosion protection may be formed on the exposed surface of the soft magnetic part 12.
Next, as shown in FIG. 8A, the base material 11 is bonded to the soft magnetic portion 12 or, if formed, to the protective layer via an adhesive 30 made of, for example, an ultraviolet curable resin. .
Next, as shown in FIG. 8B, the structure including the base material 11 and the soft magnetic part 12 and the temporary substrate 35 are separated. Specifically, by immersing the structure shown in FIG. 8A in a solution selected according to the constituent resin material of the skin portion 35b, the skin portion 35b of the temporary substrate 35 is dissolved in the solution. The structure including the material 11 and the soft magnetic part 12 is separated from the temporary substrate 35. As the solution used in this step, for example, water, ethyl alcohol, and isopropyl alcohol can be employed. The immersion time is, for example, 5 minutes, and the solution temperature is, for example, room temperature to 50 ° C. At the time of immersion, ultrasonic waves may be propagated in the solution.
When the outer skin portion 35b is made of a photodegradable resin material, in this separation step, a method of irradiating the outer skin portion 35b with a predetermined electromagnetic wave such as ultraviolet rays or X-rays instead of the above-described immersion method is adopted. Can do.
After the outer skin portion 35b is sufficiently deteriorated or dissolved by immersion or electromagnetic wave irradiation, the structure including the base material 11 and the soft magnetic portion 12 and the temporary substrate 35 are separated. Thereafter, when a residue of the outer skin portion 35b exists on the pre-groove surface 12a of the soft magnetic portion 12, the residue may be removed by performing oxygen plasma etching or oxygen plasma ashing.
As described above, the substrate S1 having the pre-groove surface 12a to which the land-groove shape of the pre-groove mold surface 35c is transferred in the soft magnetic portion 12 can be manufactured. When the pre-groove mold surface 35c has an uneven shape (for example, a pit shape) other than the land groove shape, the uneven shape other than the land groove shape is also transferred to the pre-groove surface 12a.
In the present embodiment, the pre-groove mold surface 35c is formed on the outer substrate 35b which is deteriorated in the separation process and removed, for example, in the temporary substrate 35. In the separation step, the temporary substrate 35 and the soft magnetic portion 12 can be appropriately separated because the outer skin portion 35b is deteriorated before the temporary substrate 35 and the soft magnetic portion 12 are separated.
As described above, according to the substrate manufacturing method of the present embodiment, the substrate S1 for a magneto-optical recording medium including the soft magnetic portion 12 having the pre-groove surface 12a to which the uneven shape of the pre-groove mold surface 35c is directly transferred is It is formed by using an outer skin portion 35b having a pre-groove surface 35c made of a material whose adhesiveness to the soft magnetic material can be changed functionally. Such a method is suitable, for example, for efficiently producing the magneto-optical recording medium X1.
9A to 9C show a substrate manufacturing method according to the fourth embodiment of the present invention. This embodiment is one method for manufacturing the above-described substrate S1 for a magneto-optical recording medium. In the present embodiment, first, as shown in FIG. 9A, the soft magnetic part 12 is formed on the temporary substrate 38. The temporary substrate 38 has a pre-groove type surface 38 a, and the land groove shape of the pre-groove type surface 38 a corresponds to the land groove shape of the pre-groove surface 12 a to be formed by the soft magnetic part 12. The pre-groove mold surface 38a may have an uneven shape (for example, a pit shape) other than the land groove shape together with the land groove shape. The temporary substrate 38 may be made of a resin material, a ceramic material, or a metal material, and has a complex internal structure such as the structure shown in FIG. 2C, FIG. 5B, or FIG. 7A. It may be.
The soft magnetic portion 12 can be formed by growing a soft magnetic material on the pre-groove mold surface 38a by, for example, a sputtering method or an electroless plating method. The soft magnetic portion 12 is formed with a pre-groove surface 12a to which the uneven shape of the pre-groove mold surface 38a of the temporary substrate 38 is transferred. When employing the sputtering method, the temperature of the temporary substrate 38 during film formation is set to 20 to 40 ° C., for example. On the other hand, when the electroless plating method is adopted, the temperature of the plating bath during film formation is set to 45 to 90 ° C., for example. After this step, a protective layer for anticorrosion may be formed on the exposed surface of the soft magnetic portion 12 shown in FIG. 9A.
In the present embodiment, next, as shown in FIG. 9B, the base material is attached to the soft magnetic portion 12 or, if formed, to the protective layer via an adhesive 30 made of, for example, an ultraviolet curable resin. 11 is joined.
Next, as illustrated in FIG. 9C, the structure including the base material 11 and the soft magnetic part 12 is separated from the temporary substrate 38. In this step, the structure shown in FIG. 9B is sufficiently left under the temperature and / or humidity conditions similar to the soft magnetic part forming step described above with reference to FIG. And are separated.
For example, when the sputtering method is employed in the soft magnetic portion forming step, the difference between the temperature of the temporary substrate 38 at the time of sputtering and the temperature of at least the temporary substrate 38 and the soft magnetic portion 12 in the separation step is 10 ° C. or less. To do. For example, when the electroless plating method is employed in the soft magnetic part forming step, the difference between the temperature of the plating bath during the electroless plating and the environmental temperature in the separation step is set to 10 ° C. or less. Further, when the electroless plating method is adopted in the soft magnetic part forming step, the separation step is preferably performed in an environment with a relative humidity of 90% or more.
By approximating the temperature and humidity of both processes, the expansion or contraction of the temporary substrate 38 between both processes can be reduced, and the expansion or contraction of the soft magnetic part 12 between both processes can be reduced. In the process, for example, it is possible to avoid the soft magnetic portion 12 from being unduly expanded or contracted relative to the temporary substrate 38. Therefore, the soft magnetic part 12 and the temporary substrate 38 can be appropriately separated in the separation step.
As described above, according to the substrate manufacturing method of the present embodiment, the substrate S1 for a magneto-optical recording medium including the soft magnetic portion 12 having the pre-groove surface 12a onto which the uneven shape of the pre-groove mold surface 38a is directly transferred. Can be manufactured properly. When the pre-groove mold surface 38a has an uneven shape (for example, pit shape) other than the land groove shape, the uneven shape other than the land groove shape is also transferred to the pre-groove surface 12a.
FIG. 10 shows a magneto-optical recording medium X2 that can be manufactured according to the present invention. The magneto-optical recording medium X2 includes a substrate S2, a recording magnetic unit 21, a heat conductive layer 22, dielectric layers 23 and 24, and a protective film 25, and is configured as a front illumination type magneto-optical disk. .
The substrate S2 has a base material 13, a soft magnetic part 14, and an adhesion layer 15 between them. The substrate 13 is made of, for example, a polycarbonate (PC) resin, a polymethyl methacrylate (PMMA) resin, an epoxy resin, or a polyolefin resin. Alternatively, a glass substrate or an aluminum alloy substrate may be employed as the base material 13.
The soft magnetic part 14 has a pregroove surface 14a in which a spiral or concentric pregroove 14b is formed with a desired dimension. Based on the pregroove 14b, a land groove shape in the magneto-optical disk is formed. As the material constituting the soft magnetic part 14, those described above as the constituent material of the soft magnetic part 12 can be adopted. When the saturation magnetic flux density of the soft magnetic material constituting the soft magnetic part 14 is Bs (kGauss) and the thickness of the soft magnetic part 14 is t (μm), the soft magnetic part 14 satisfies the above formula (1). Is preferred.
The adhesion layer 15 is a part for ensuring adhesion of the soft magnetic part 14 to the base material 13 and is made of, for example, Ti, Cr, or W. The thickness of the adhesion layer 15 is, for example, 10 to 100 nm, and preferably 20 to 50 nm. If the thickness is smaller than 10 nm, the effect of improving the adhesion cannot be obtained sufficiently. When the thickness is larger than 100 nm, the adhesion layer 15 is easily peeled off from the substrate 13.
The recording magnetic part 21, the heat conductive layer 22, the dielectric layers 23 and 24, and the protective layer 25 are the same as those described above regarding the magneto-optical recording medium X1.
The magneto-optical recording medium X2 has a laminated structure from the adhesion layer 15 to the protective film 25 only on one side of the substrate 13 or on both sides. Further, the recording magnetic part 21, the heat conduction layer 22, the dielectric layers 23 and 24, and the protective film 25 constitute a material film structure part laminated on the pre-groove surface 14a in the magneto-optical recording medium X2. . Of the material film structure, the heat conductive layer 22 is directly laminated on the pre-groove surface 14a.
11A to 12B show a substrate manufacturing method according to the fifth embodiment of the present invention. This embodiment is one method for manufacturing the above-described substrate S2 for a magneto-optical recording medium. In this embodiment, first, as shown in FIG. 11A, a base material 13 having a flat surface 13a is prepared. The flat surface 13a of the base material 13 is subjected to predetermined smoothing processing and cleaning processing.
Next, as shown in FIG. 11B, the adhesion layer 15 is formed on the flat surface 13 a of the base material 13. Specifically, the constituent materials listed above on the adhesion layer 15 are formed on the flat surface 13a by, for example, sputtering.
Next, as illustrated in FIG. 11C, the soft magnetic film 14 c is formed on the adhesion layer 15. Specifically, a soft magnetic material for forming the soft magnetic portion 14 is formed to a predetermined thickness. As a film forming method, a sputtering method, an electroplating method, or an electroless plating method can be employed.
Next, as shown in FIG. 12A, a resist pattern 37 is formed on the soft magnetic film 14c. The resist pattern 37 is made of a photoresist or a solder resist, and has an opening 37 a corresponding to a land portion in the land groove shape of the pre-groove surface 14 a to be formed by the soft magnetic portion 14. Further, the resist pattern 37 may have an opening corresponding to a portion other than the land for forming a pit shape, for example. The thickness of the resist pattern 37 is preferably 1.5 times or more the thickness of the soft magnetic portion 14 to be formed.
Next, as shown in FIG. 12B, a soft magnetic material 14d is deposited in the opening 37a of the resist pattern 37 by sputtering, electroplating, or electroless plating, thereby forming a soft groove having a pregroove surface 14a. The magnetic part 14 is formed.
In forming the soft magnetic portion 14, before forming the resist pattern 37, as shown in FIG. 13A, a thin film 14e as a protective film is formed on the soft magnetic film 14c, and as shown in FIG. 13B, the resist pattern 37 is formed. And a soft magnetic material 14d may be deposited on the thin film 14e as shown in FIG. 13C.
As a constituent material of the thin film 14e, a metal material (for example, zinc) having a higher ionization tendency than the soft magnetic material constituting the soft magnetic portion 14, or a metal material (for example, aluminum, magnesium, titanium, copper) that easily forms a passive oxide film. ) Or ceramics (boride, carbide, nitride, oxide, fluoride) can be employed. In this case, the thin film 14e can exhibit a function of preventing the soft magnetic film 14c from being corroded against the plating bath when the soft magnetic material 14d is deposited by an electroless plating method.
When the electroless plating method is employed as a method for depositing the soft magnetic material 14d, copper or zinc may be employed as a constituent material of the thin film 14e.
When copper is employed as the constituent material of the thin film 14e, the structure shown in FIG. 13B is first immersed in an aqueous palladium chloride solution (0.01 to 0.1 wt%, room temperature) when the soft magnetic material 14d is deposited. At this time, palladium is firmly and uniformly deposited on the surface of the thin film 14e by a displacement plating reaction between the palladium in the aqueous solution and copper constituting the thin film 14e. The palladium functions as a catalyst nucleus in the later plating growth. Next, after sufficiently washing the structure shown in FIG. 13B, the structure is immersed in a plating bath having a predetermined composition, and the soft magnetic material 14d is grown by plating. The plating bath includes a predetermined concentration of cobalt, nickel, iron, a reducing agent, and the like according to the composition of the soft magnetic portion 14 to be formed.
If a palladium chloride aqueous solution is allowed to act directly on the soft magnetic film 14c without forming the thin film 14e, palladium having a weak adsorption force on the surface of the soft magnetic film 14c tends to be difficult to uniformly adsorb on the surface. If the adsorption mode of palladium on the surface of the soft magnetic film 14c is sparse, a difference occurs in the growth rate, that is, the film thickness over the film growth location in the subsequent soft magnetic plating film growth step. On the other hand, when the thin film 14e made of copper is formed as described above, a palladium catalyst nucleus is uniformly formed on the surface of the thin film 14e using a substitution reaction between copper and palladium, which has a higher ionization tendency than palladium. Therefore, a good soft magnetic plating film can be formed on the thin film 14e. Even if the material is other than copper, the same effect can be obtained when the thin film 14e is formed of an element having a higher ionization tendency than palladium.
When zinc is employed as the constituent material of the thin film 14e, when depositing the soft magnetic material 14d, the structure shown in FIG. 13B is immersed in a plating bath having a predetermined composition to grow a soft magnetic plating film. The plating bath includes a predetermined concentration of cobalt, nickel, iron, a reducing agent, and the like according to the composition of the soft magnetic portion 14 to be formed. In this method, first, cobalt, nickel, and iron are firmly and uniformly deposited on the surface of the thin film 14e by a displacement plating reaction between cobalt, nickel, and iron in the plating solution and zinc constituting the thin film 14e. Thereafter, cobalt, nickel, and iron continue to be deposited by the action of the reducing agent in the plating solution. According to this method, the soft magnetic material 14d can be deposited without performing adsorption formation of palladium catalyst nuclei. Even when the material is other than zinc, the same effect can be obtained when the thin film 14e is formed of an element having a larger ionization tendency than cobalt, nickel, and iron.
In the present embodiment, after the soft magnetic portion 14 is formed, the resist pattern 37 is removed as shown in FIG. 12C. For example, the resist pattern 37 is removed by immersing the structure shown in FIG. 12B in a predetermined solution. As the solution for removal, for example, acetone, methyl ethyl ketone, and xylene can be used.
As described above, the substrate S2 having the pre-groove surface 14a having the land groove shape with high dimensional accuracy at the soft magnetic portion 14 can be manufactured. When the resist pattern 37 has an opening corresponding to an uneven shape (for example, pit shape) other than the land groove shape, the pre-groove surface 14a also has an uneven shape other than the land groove shape.
When the magneto-optical recording medium X2 is manufactured using the substrate S2, first, as shown in FIG. 14A, on the pre-groove surface 14a of the substrate S2, a heat conductive layer 22, a dielectric layer 23, and a recording magnetic part 21 And the dielectric layer 24 are sequentially formed. Each layer can be formed by a sputtering method.
Next, as shown in FIG. 14B, a protective film 25 is formed on the dielectric layer 24 by the same method as described above with reference to FIG. 4B. When the laminated structure from the adhesion layer 15 to the protective film 25 is provided on both sides of the base material 13, the series of steps described above with reference to FIGS. 11B to 14B is further performed on the other side of the base material 13. Do for the side. As described above, the magneto-optical recording medium X2 can be manufactured.
The substrate S2 has a pregroove surface 14a on which a pregroove 14b is formed with a desired dimension and high precision, and the pregroove surface 14a is constituted by a soft magnetic portion 14. In the process described above with reference to FIG. 14A, the heat conductive layer 22, the dielectric layer 23, and the recording magnetic part 21 are laminated on the pregroove surface 14 a without using the soft magnetic part. . Therefore, the recording magnetic part 21 can be appropriately formed so as to have a land groove shape with high dimensional accuracy. That is, the recording magnetic portion 21 can be formed without being unduly rounded and without having an unduly large surface roughness. In addition, since the heat conductive layer 22, the dielectric layer 23, and the recording magnetic part 21 are directly laminated on the soft magnetic part 14 without using the pregroove layer, the recording included in the recording magnetic part 21 is provided. The layer and the soft magnetic part 14 can be sufficiently close to each other. As described above, in the magneto-optical recording medium X2 manufactured using the substrate S2, it is possible to realize an appropriate land groove shape in the recording magnetic unit 21, and the recording layer included in the recording magnetic unit 21. The distance from the soft magnetic part 14 can be made sufficiently short.
In the magneto-optical recording medium X2 in which the distance between the recording layer included in the recording magnetic part 21 and the soft magnetic part 14 is short, the effect of the magnetic field concentration resulting from the presence of the soft magnetic part 14 can be fully enjoyed. It is possible to efficiently improve the recording magnetic field sensitivity. The improvement in the recording magnetic field sensitivity of the recording layer makes it possible to reduce the magnetic field applied by the magnetic recording head during recording, and as a result, it is possible to appropriately realize recording at higher frequencies, that is, high-speed recording. Such high-speed recording is important for the practical application of a magneto-optical recording medium having a high recording density.

上述の第１の実施形態に準じて光磁気記録媒体用の基板を作製した。本実施例においては、まず、仮基板（ポリカーボネート製）の上に、密着層としてのフォトレジスト層（厚さ：１μｍ）を形成した（図２Ｂ）。具体的には、スピンコート法により基板表面にフォトレジストを成膜した後、当該フォトレジスト膜を加熱乾燥した。スピンコート法における回転数は５０００ｒｐｍとし、回転時間は６０秒とした。また、加熱乾燥はオーブンにて行い、加熱温度は１２０℃とし、加熱時間は３０分とした。
次に、フォトレジスト層に対して露光処理および現像処理を施すことにより、フォトレジスト層において、ランドグルーブ形状（渦巻き状、ランド幅：０．３μｍ、グルーブ幅：０．３μｍ、トラックピッチ：０．３μｍ、グルーブ深さ：５０ｎｍ）を有するプリグルーブ型面を形成した（図２Ｃ）。
次に、スパッタリング法により、フォトレジスト層のプリグルーブ型面上に所定組成のＣｏＦｅＮｉを成膜することによって、厚さ３０ｎｍの軟磁性薄膜を形成した。本スパッタリングでは、ＣｏＦｅＮｉターゲットを用い、スパッタガスとしてＡｒガスを使用し、スパッタガス圧力を０．５Ｐａとし、放電電力を１ｋＷとした。
次に、無電解めっき法により、所定組成のＣｏＦｅＮｉを軟磁性薄膜上に成膜することによって、最大厚さ５００ｎｍの軟磁性部を完成した（図３Ａ）。本工程では、所定組成のめっき浴を使用し、当該めっき浴の温度は６０℃とした。本実施例の軟磁性部は、上掲の式（１）を満たす構成を有していた。
次に、軟磁性部に対し、紫外線硬化性樹脂を介して平坦な基材（ポリカーボネート製）を貼り合せた後、紫外線照射により当該紫外線硬化性樹脂を硬化させた（図３Ｂ）。
次に、仮基板および基材が一体となった構造体をアセトン（３５℃）に５分間浸漬することによりフォトレジスト層を溶解ないし劣化させた後、軟磁性部および基材を含む構造体から、仮基板およびフォトレジスト層を分離した（図３Ｃ）。
次に、アッシング装置を使用して、軟磁性部の露出面に対して酸素プラズマによるアッシングを施した。
以上のようにして、プリグルーブ面を軟磁性部にて有する本実施例の光磁気記録媒体基板を作製した。A substrate for a magneto-optical recording medium was produced according to the first embodiment described above. In this example, first, a photoresist layer (thickness: 1 μm) as an adhesion layer was formed on a temporary substrate (made of polycarbonate) (FIG. 2B). Specifically, a photoresist was formed on the substrate surface by spin coating, and then the photoresist film was heated and dried. The number of rotations in the spin coating method was 5000 rpm, and the rotation time was 60 seconds. Heat drying was performed in an oven, the heating temperature was 120 ° C., and the heating time was 30 minutes.
Next, an exposure process and a development process are performed on the photoresist layer, whereby a land groove shape (spiral, land width: 0.3 μm, groove width: 0.3 μm, track pitch: 0. A pre-groove type surface having a thickness of 3 μm and a groove depth of 50 nm was formed (FIG. 2C).
Next, a CoFeNi film having a predetermined composition was formed on the pregroove type surface of the photoresist layer by a sputtering method to form a soft magnetic thin film having a thickness of 30 nm. In this sputtering, a CoFeNi target was used, Ar gas was used as the sputtering gas, the sputtering gas pressure was 0.5 Pa, and the discharge power was 1 kW.
Next, a soft magnetic portion having a maximum thickness of 500 nm was completed by depositing CoFeNi having a predetermined composition on the soft magnetic thin film by electroless plating (FIG. 3A). In this step, a plating bath having a predetermined composition was used, and the temperature of the plating bath was 60 ° C. The soft magnetic part of the present example had a configuration satisfying the above formula (1).
Next, a flat base material (made of polycarbonate) was bonded to the soft magnetic part via an ultraviolet curable resin, and then the ultraviolet curable resin was cured by ultraviolet irradiation (FIG. 3B).
Next, after the photoresist layer is dissolved or deteriorated by immersing the structure in which the temporary substrate and the base material are integrated in acetone (35 ° C.) for 5 minutes, the structure including the soft magnetic portion and the base material is used. The temporary substrate and the photoresist layer were separated (FIG. 3C).
Next, ashing with oxygen plasma was performed on the exposed surface of the soft magnetic part using an ashing device.
As described above, the magneto-optical recording medium substrate of this example having the pre-groove surface at the soft magnetic part was produced.

上述の第１の実施形態に準じて光磁気記録媒体用の基板を作製した。本実施例においては、まず、仮基板（ポリカーボネート製）の上に、密着層としてのフォトレジスト層（厚さ：１μｍ）を形成した（図２Ｂ）。具体的には、スピンコート法により、光分解性を示すポジ型フォトレジストを基板表面に成膜した後、当該フォトレジスト膜を加熱乾燥した。スピンコートにおける回転数は５０００ｒｐｍとし、回転時間は６０秒とした。また、加熱乾燥はオーブン上にて行い、加熱温度は１２０℃とし、加熱時間は３０分とした。
次に、フォトレジスト層に対して露光処理および現像処理を施すことにより、フォトレジスト層において、ランドグルーブ形状（渦巻き状、ランド幅：０．３μｍ、グルーブ幅：０．３μｍ、トラックピッチ：０．３μｍ、グルーブ深さ：５０ｎｍ）を有するプリグルーブ型面を形成した（図２Ｃ）。
次に、実施例１と同様にして、プリグルーブ型面上にＣｏＦｅＮｉ軟磁性部（最大厚さ：５００ｎｍ）を形成した（図３Ａ）。この後、軟磁性部に対し、紫外線硬化性樹脂を介して平坦な基材（ポリカーボネート製）を貼り合せた後、紫外線照射により当該紫外線硬化性樹脂を硬化させた（図３Ｂ）。
次に、仮基板の側からフォトレジスト層に紫外線（波長：２５５ｎｍ）を照射することにより当該フォトレジスト層を劣化させた後、軟磁性部および基材を含む構造体から、仮基板およびフォトレジスト層を分離した（図３Ｃ）。
次に、アッシング装置を使用して、軟磁性部の露出面に対して酸素プラズマによるアッシングを施した。
以上のようにして、プリグルーブ面を軟磁性部にて有する本実施例の光磁気記録媒体基板を作製した。A substrate for a magneto-optical recording medium was produced according to the first embodiment described above. In this example, first, a photoresist layer (thickness: 1 μm) as an adhesion layer was formed on a temporary substrate (made of polycarbonate) (FIG. 2B). Specifically, a positive photoresist showing photodegradability was formed on the substrate surface by spin coating, and then the photoresist film was dried by heating. The number of rotations in spin coating was 5000 rpm, and the rotation time was 60 seconds. Heat drying was performed in an oven, the heating temperature was 120 ° C., and the heating time was 30 minutes.
Next, an exposure process and a development process are performed on the photoresist layer, whereby a land groove shape (spiral, land width: 0.3 μm, groove width: 0.3 μm, track pitch: 0. A pre-groove type surface having a thickness of 3 μm and a groove depth of 50 nm was formed (FIG. 2C).
Next, a CoFeNi soft magnetic part (maximum thickness: 500 nm) was formed on the pregroove surface in the same manner as in Example 1 (FIG. 3A). Thereafter, a flat base material (made of polycarbonate) was bonded to the soft magnetic part via an ultraviolet curable resin, and then the ultraviolet curable resin was cured by ultraviolet irradiation (FIG. 3B).
Next, after the photoresist layer is deteriorated by irradiating the photoresist layer with ultraviolet rays (wavelength: 255 nm) from the temporary substrate side, the temporary substrate and the photoresist are removed from the structure including the soft magnetic part and the base material. The layers were separated (Figure 3C).
Next, ashing with oxygen plasma was performed on the exposed surface of the soft magnetic part using an ashing device.
As described above, the magneto-optical recording medium substrate of this example having the pre-groove surface at the soft magnetic part was produced.

上述の第２の実施形態に準じて光磁気記録媒体用の基板を作製した。本実施例においては、まず、所定表面にてランドグルーブ形状（渦巻き状、ランド幅：０．３μｍ、グルーブ幅：０．３μｍ、トラックピッチ：０．３μｍ、グルーブ深さ：５０ｎｍ）を有する仮基板（ポリカーボネート製）の上に、スパッタリング法により、密着層としての酸化亜鉛膜（厚さ：５ｎｍ）を形成した（図５Ｂ）。この酸化亜鉛膜の露出面はプリグルーブ型面を構成する。本スパッタリングでは、ＺｎＯターゲットを用い、スパッタガスとして、アルゴンと酸素との混合ガスを使用し、スパッタガス圧力を０．５Ｐａとし、放電電力を１ｋＷとした。
次に、実施例１と同様にして、プリグルーブ型面上にＣｏＦｅＮｉ軟磁性部（最大厚さ：５００ｎｍ）を形成した（図５Ｃ）。
次に、軟磁性部に対し、紫外線硬化性樹脂を介して平坦な基材（ポリカーボネート製）を貼り合せた後、紫外線照射により当該紫外線硬化性樹脂を硬化させた（図６Ａ）。
次に、仮基板およびポリカーボネート基板が一体となった構造体を５％希釈塩酸（４５℃）に３分間浸漬することにより当該酸化亜鉛膜を溶解ないし劣化させた後、軟磁性部および基材を含む構造体から、仮基板およびフォトレジスト層を分離した（図６Ｂ）。
次に、アッシング装置を使用して、軟磁性部の露出面に対して酸素プラズマによるアッシングを施した。
以上のようにして、プリグルーブ面を軟磁性部にて有する本実施例の光磁気記録媒体基板を作製した。A substrate for a magneto-optical recording medium was fabricated according to the second embodiment described above. In this embodiment, first, a temporary substrate having a land-groove shape (spiral, land width: 0.3 μm, groove width: 0.3 μm, track pitch: 0.3 μm, groove depth: 50 nm) on a predetermined surface. A zinc oxide film (thickness: 5 nm) as an adhesion layer was formed on (made of polycarbonate) by sputtering (FIG. 5B). The exposed surface of the zinc oxide film constitutes a pregroove type surface. In this sputtering, a ZnO target was used, a mixed gas of argon and oxygen was used as the sputtering gas, the sputtering gas pressure was 0.5 Pa, and the discharge power was 1 kW.
Next, a CoFeNi soft magnetic part (maximum thickness: 500 nm) was formed on the pre-groove surface in the same manner as in Example 1 (FIG. 5C).
Next, a flat substrate (made of polycarbonate) was bonded to the soft magnetic part via an ultraviolet curable resin, and then the ultraviolet curable resin was cured by ultraviolet irradiation (FIG. 6A).
Next, the structure in which the temporary substrate and the polycarbonate substrate are integrated is immersed in 5% diluted hydrochloric acid (45 ° C.) for 3 minutes to dissolve or degrade the zinc oxide film. The temporary substrate and the photoresist layer were separated from the included structure (FIG. 6B).
Next, ashing with oxygen plasma was performed on the exposed surface of the soft magnetic part using an ashing device.
As described above, the magneto-optical recording medium substrate of this example having the pre-groove surface at the soft magnetic part was produced.

上述の第３の実施形態に準じて光磁気記録媒体用の基板を作製した。本実施例においては、まず、所定表面にてランドグルーブ形状（渦巻き状、ランド幅：０．３μｍ、グルーブ幅：０．３μｍ、トラックピッチ：０．３μｍ、グルーブ深さ：５０ｎｍ）を有する仮基板（ポリカーボネート製）を、いわゆる２色成形法により、作製した。仮基板構成材料としてはポリビニルアルコールを採用した。この仮基板は、相対的に高分子量の樹脂により構成されるコア部と、相対的に低分子量の樹脂により構成される外皮部とからなり、当該外皮部にてプリグルーブ型面を有する（図７Ａ）。
次に、実施例１と同様にして、プリグルーブ型面上にＣｏＦｅＮｉ軟磁性部（最大厚さ：５００ｎｍ）を形成した（図７Ｂ）。
次に、軟磁性部に対し、紫外線硬化性樹脂を介して平坦な基材（ポリカーボネート製）を貼り合せた後、紫外線照射により当該紫外線硬化性樹脂を硬化させた（図８Ａ）。
次に、仮基板および基材が一体となった構造体をアセトン（３５℃）に５分間浸漬することにより、仮基板の外皮部を溶解ないし劣化させた後、軟磁性部および基材を含む構造体から、仮基板を分離した（図８Ｂ）。
次に、アッシング装置を使用して、軟磁性部の露出面に対して酸素プラズマによるアッシングを施した。
以上のようにして、プリグルーブ面を軟磁性部にて有する本実施例の光磁気記録媒体基板を作製した。A substrate for a magneto-optical recording medium was fabricated according to the third embodiment described above. In this embodiment, first, a temporary substrate having a land-groove shape (spiral, land width: 0.3 μm, groove width: 0.3 μm, track pitch: 0.3 μm, groove depth: 50 nm) on a predetermined surface. (Made of polycarbonate) was produced by a so-called two-color molding method. Polyvinyl alcohol was adopted as a temporary substrate constituent material. This temporary substrate is composed of a core portion made of a relatively high molecular weight resin and an outer skin portion made of a relatively low molecular weight resin, and has a pre-groove surface at the outer skin portion (see FIG. 7A).
Next, a CoFeNi soft magnetic part (maximum thickness: 500 nm) was formed on the pre-groove mold surface in the same manner as in Example 1 (FIG. 7B).
Next, a flat substrate (made of polycarbonate) was bonded to the soft magnetic part via an ultraviolet curable resin, and then the ultraviolet curable resin was cured by ultraviolet irradiation (FIG. 8A).
Next, the structure in which the temporary substrate and the base material are integrated is immersed in acetone (35 ° C.) for 5 minutes to dissolve or deteriorate the outer skin portion of the temporary substrate, and then the soft magnetic portion and the base material are included. The temporary substrate was separated from the structure (FIG. 8B).
Next, ashing with oxygen plasma was performed on the exposed surface of the soft magnetic part using an ashing device.
As described above, the magneto-optical recording medium substrate of this example having the pre-groove surface at the soft magnetic part was produced.

上述の第４の実施形態に準じて光磁気記録媒体用の基板を作製した。具体的には、まず、実施例１と同様にして、仮基板上へのフォトレジスト層の形成、フォトレジスト層へのプリグルーブ型面の形成、プリグルーブ型面上への軟磁性部の形成（めっき浴温度：６０℃）、および、軟磁性部への基材の接合を行い、図３Ｂに示すような構造体を作製した。次に、当該構造体を、６０℃および相対湿度９５％の環境下に１時間放置した後、軟磁性部および基材を含む構造体から、密着層および仮基板を分離した。このとき、剥離不良の発生率は０％であった。
以上のようにして、プリグルーブ面を軟磁性部にて有する本実施例の光磁気記録媒体基板を作製した。
なお、分離する前の放置時における環境条件を３０℃および相対湿度５０％とした以外は本実施例と同様にして基板を作製したところ、当該分離工程における剥離不良の発生率は３０％程度であった。
一方、実施例３と同様にして作製した図６Ａに示すような構造体、および、実施例４と同様にして作製した図８Ａに示すような構造体についても、６０℃および相対湿度９５％の環境下に１時間放置した後、軟磁性部および基材を含む構造体から、密着層および仮基板を分離したところ、剥離不良の発生率は０％であった。A substrate for a magneto-optical recording medium was produced according to the above-described fourth embodiment. Specifically, first, in the same manner as in Example 1, formation of a photoresist layer on a temporary substrate, formation of a pregroove type surface on the photoresist layer, formation of a soft magnetic portion on the pregroove type surface (Plating bath temperature: 60 ° C.) And the base material was joined to the soft magnetic part to produce a structure as shown in FIG. 3B. Next, the structure was allowed to stand in an environment of 60 ° C. and a relative humidity of 95% for 1 hour, and then the adhesion layer and the temporary substrate were separated from the structure including the soft magnetic part and the base material. At this time, the occurrence rate of peeling failure was 0%.
As described above, the magneto-optical recording medium substrate of this example having the pre-groove surface at the soft magnetic part was produced.
Note that when the substrate was fabricated in the same manner as in this example except that the environmental conditions at the time of leaving before separation were 30 ° C. and relative humidity 50%, the rate of occurrence of peeling failure in the separation step was about 30%. there were.
On the other hand, the structure as shown in FIG. 6A manufactured in the same manner as in Example 3 and the structure as shown in FIG. 8A manufactured as in Example 4 also had a temperature of 60 ° C. and a relative humidity of 95%. After leaving in the environment for 1 hour, the adhesion layer and the temporary substrate were separated from the structure including the soft magnetic part and the base material. As a result, the occurrence rate of peeling failure was 0%.

上述の第５の実施形態に準じて光磁気記録媒体用の基板を作製した。本実施例においては、まず、基板（ポリカーボネート製）の上に、スパッタリング法により、密着層としてのチタン層（厚さ：１０ｎｍ）を形成した（図１１Ｂ）。本スパッタリングでは、チタンターゲットを用い、スパッタガスとしてＡｒガスを使用し、スパッタガス圧力を０．５Ｐａとし、放電電力を１ｋＷとした。
次に、スパッタリング法により、チタン層上に所定組成のＣｏＦｅＮｉを成膜することによって、厚さ３０ｎｍの軟磁性薄膜を形成した。本スパッタリングでは、ＣｏＦｅＮｉターゲットを用い、スパッタガスとしてＡｒガスを使用し、スパッタガス圧力を０．５Ｐａとし、放電電力を１ｋＷとした。
次に、無電解めっき法により、所定組成のＣｏＦｅＮｉを軟磁性薄膜上に成膜させることによって、厚さ５００ｎｍに至るまで軟磁性膜を成長させた（図１１Ｃ）。
次に、当該軟磁性膜上に、所定の開口部を有するレジストパターンを形成した（図１２Ａ）。具体的には、まず、スピンコート法により、フォトレジストを５００ｎｍの厚さに塗布した。次に、当該フォトレジスト膜を、プリベークした後、露光処理および現像処理を施すことにより、レジストパターンを形成した。
次に、無電解めっき法により、レジストパターンの開口部内に軟磁性材料を堆積することによって、表面にプリグルーブ面を有する軟磁性部を完成した（図１２Ｂ）。本工程では、所定組成のＣｏＦｅＮｉめっき浴を使用し、当該めっき浴の温度は６０℃とした。
次に、レジストパターンに対して剥離液としてアセトンを作用させることにより、軟磁性部からレジストパターンを除去した（図１２Ｃ）。
以上のようにして、プリグルーブ面を軟磁性部にて有する本実施例の光磁気記録媒体基板を作製した。A substrate for a magneto-optical recording medium was fabricated according to the fifth embodiment described above. In this example, first, a titanium layer (thickness: 10 nm) as an adhesion layer was formed on a substrate (made of polycarbonate) by sputtering (FIG. 11B). In this sputtering, a titanium target was used, Ar gas was used as the sputtering gas, the sputtering gas pressure was 0.5 Pa, and the discharge power was 1 kW.
Next, a CoFeNi film having a predetermined composition was formed on the titanium layer by sputtering, thereby forming a soft magnetic thin film having a thickness of 30 nm. In this sputtering, a CoFeNi target was used, Ar gas was used as the sputtering gas, the sputtering gas pressure was 0.5 Pa, and the discharge power was 1 kW.
Next, a soft magnetic film was grown to a thickness of 500 nm by depositing CoFeNi having a predetermined composition on the soft magnetic thin film by electroless plating (FIG. 11C).
Next, a resist pattern having a predetermined opening was formed on the soft magnetic film (FIG. 12A). Specifically, first, a photoresist was applied to a thickness of 500 nm by spin coating. Next, after prebaking the photoresist film, a resist pattern was formed by performing an exposure process and a development process.
Next, a soft magnetic material having a pregroove surface on the surface was completed by depositing a soft magnetic material in the opening of the resist pattern by electroless plating (FIG. 12B). In this step, a CoFeNi plating bath having a predetermined composition was used, and the temperature of the plating bath was 60 ° C.
Next, the resist pattern was removed from the soft magnetic part by applying acetone as a stripping solution to the resist pattern (FIG. 12C).
As described above, the magneto-optical recording medium substrate of this example having the pre-groove surface at the soft magnetic part was produced.

Claims (16)

プリグルーブ型面を有する密着層を第１基板上に形成するための密着層形成工程と、
前記プリグルーブ型面上に軟磁性材料を成長させることにより、当該プリグルーブ型面の凹凸形状が転写されたプリグルーブ面を有する軟磁性部を前記密着層上に形成するための工程と、
前記軟磁性部および第２基板を一体化するための工程と、
前記軟磁性部および前記密着層の間に作用する密着力を低下させ、前記軟磁性部から前記密着層および前記第１基板を分離するための分離工程と、を含む、光磁気記録媒体基板の製造方法。An adhesion layer forming step for forming an adhesion layer having a pre-groove type surface on the first substrate;
Forming a soft magnetic part on the adhesion layer by growing a soft magnetic material on the pre-groove mold surface and having a pre-groove surface to which the concavo-convex shape of the pre-groove mold surface is transferred;
A step for integrating the soft magnetic part and the second substrate;
A separation step for reducing an adhesion force acting between the soft magnetic part and the adhesion layer and separating the adhesion layer and the first substrate from the soft magnetic part. Production method. 前記分離工程では、前記密着層を劣化させるための液体を当該密着層に作用させる、請求項１に記載の光磁気記録媒体基板の製造方法。The method for manufacturing a magneto-optical recording medium substrate according to claim 1, wherein in the separation step, a liquid for deteriorating the adhesion layer is applied to the adhesion layer. 前記分離工程では、前記密着層を劣化させるための電磁波を当該密着層に照射する、請求項１に記載の光磁気記録媒体基板の製造方法。The method for manufacturing a magneto-optical recording medium substrate according to claim 1, wherein in the separation step, the adhesion layer is irradiated with an electromagnetic wave for degrading the adhesion layer. 前記第１基板は平坦面を有し、前記密着層形成工程では、前記密着層を構成するための材料を前記平坦面上に成長させて材料膜を形成した後、当該材料膜における前記第１基板とは反対の側にて前記プリグルーブ型面を形成する、請求項１に記載の光磁気記録媒体基板の製造方法。The first substrate has a flat surface, and in the adhesion layer forming step, a material for forming the adhesion layer is grown on the flat surface to form a material film, and then the first film in the material film is formed. 2. The method of manufacturing a magneto-optical recording medium substrate according to claim 1, wherein the pregroove mold surface is formed on a side opposite to the substrate. 前記第１基板は凹凸面を有し、前記密着層形成工程では、前記密着層を構成するための材料を前記凹凸面上に成長させることにより、成長端にて前記プリグルーブ型面を有する材料膜を前記密着層として形成する、請求項１に記載の光磁気記録媒体基板の製造方法。The first substrate has a concavo-convex surface, and in the adhesion layer forming step, the material for forming the adhesion layer is grown on the concavo-convex surface to thereby have the material having the pre-groove surface at the growth end. The method for manufacturing a magneto-optical recording medium substrate according to claim 1, wherein a film is formed as the adhesion layer. プリグルーブ型面を有する密着層を第１基板上に形成するための工程、前記プリグルーブ型面上に軟磁性材料を成長させることにより、当該プリグルーブ型面の凹凸形状が転写されたプリグルーブ面を有する軟磁性部を前記密着層上に形成するための工程、前記軟磁性部および第２基板を一体化するための工程、および、前記軟磁性部および前記密着層の間に作用する密着力を低下させ、前記軟磁性部から前記密着層および前記第１基板を分離するための工程、を経て製造された光磁気記録媒体基板と、
記録機能および再生機能を担う記録磁性部を含み、且つ、前記光磁気記録媒体基板の前記プリグルーブ面上に設けられている、材料膜構造部と、を備える光磁気記録媒体。A step for forming an adhesion layer having a pre-groove type surface on the first substrate; a pre-groove in which the uneven shape of the pre-groove type surface is transferred by growing a soft magnetic material on the pre-groove type surface; A step for forming a soft magnetic portion having a surface on the adhesion layer, a step for integrating the soft magnetic portion and the second substrate, and an adhesion acting between the soft magnetic portion and the adhesion layer A magneto-optical recording medium substrate manufactured through a step for reducing the force and separating the adhesion layer and the first substrate from the soft magnetic part;
A magneto-optical recording medium comprising: a recording magnetic part that bears a recording function and a reproducing function; and a material film structure part provided on the pre-groove surface of the magneto-optical recording medium substrate. 高分子量樹脂部と、プリグルーブ型面を有する低分子量樹脂部と、を有する第１基板における前記プリグルーブ型面上に軟磁性材料を成長させることにより、当該プリグルーブ型面の凹凸形状が転写されたプリグルーブ面を有する軟磁性部を前記第１基板上に形成するための工程と、
前記軟磁性部および第２基板を一体化するための工程と、
前記軟磁性部および前記低分子量樹脂部の間に作用する密着力を低下させ、前記軟磁性部から前記第１基板を分離するための分離工程と、を含む、光磁気記録媒体基板の製造方法。By growing a soft magnetic material on the pregroove mold surface of the first substrate having a high molecular weight resin section and a low molecular weight resin section having a pregroove mold surface, the uneven shape of the pregroove mold surface is transferred. Forming a soft magnetic part having a pre-groove surface on the first substrate;
A step for integrating the soft magnetic part and the second substrate;
A method of manufacturing a magneto-optical recording medium substrate, comprising: a separation step for reducing an adhesion force acting between the soft magnetic portion and the low molecular weight resin portion and separating the first substrate from the soft magnetic portion. . 前記分離工程では、前記低分子量樹脂部を劣化させる液体を当該低分子量樹脂部に作用させる、請求項７に記載の光磁気記録媒体基板の製造方法。The method for manufacturing a magneto-optical recording medium substrate according to claim 7, wherein in the separation step, a liquid that degrades the low molecular weight resin portion is allowed to act on the low molecular weight resin portion. 前記分離工程では、前記低分子量樹脂部を劣化させる電磁波を当該低分子量樹脂部に照射する、請求項７に記載の光磁気記録媒体基板の製造方法。The method for manufacturing a magneto-optical recording medium substrate according to claim 7, wherein in the separation step, the low molecular weight resin portion is irradiated with an electromagnetic wave that deteriorates the low molecular weight resin portion. 高分子量樹脂部と、プリグルーブ型面を有する低分子量樹脂部と、を有する第１基板における前記プリグルーブ型面上に軟磁性材料を成長させることにより、当該プリグルーブ型面の凹凸形状が転写されたプリグルーブ面を有する軟磁性部を前記第１基板上に形成するための工程、前記軟磁性部および第２基板を一体化するための工程、および、前記軟磁性部および前記低分子量樹脂部の間に作用する密着力を低下させ、前記軟磁性部から前記第１基板を分離するための工程、を経て製造された光磁気記録媒体基板と、
記録機能および再生機能を担う記録磁性部を含み、且つ、前記光磁気記録媒体基板の前記プリグルーブ面上に設けられている、材料膜構造部と、を備える光磁気記録媒体。By growing a soft magnetic material on the pregroove mold surface of the first substrate having a high molecular weight resin section and a low molecular weight resin section having a pregroove mold surface, the uneven shape of the pregroove mold surface is transferred. A step for forming a soft magnetic part having a pre-groove surface on the first substrate, a step for integrating the soft magnetic part and the second substrate, and the soft magnetic part and the low molecular weight resin. A magneto-optical recording medium substrate manufactured through a step for reducing the adhesion force acting between the portions and separating the first substrate from the soft magnetic portion;
A magneto-optical recording medium comprising: a recording magnetic part that bears a recording function and a reproducing function; and a material film structure part provided on the pre-groove surface of the magneto-optical recording medium substrate. 基板上に軟磁性材料を成長させることにより軟磁性膜を形成するための第１成長工程と、
開口部を有するレジストパターンを前記軟磁性膜上に形成するためのレジストパターン形成工程と、
前記開口部内にて軟磁性材料を成長させることにより、前記基板とは反対の側にプリグルーブ面を有する軟磁性部を形成するための第２成長工程と、を含む、光磁気記録媒体基板の製造方法。A first growth step for forming a soft magnetic film by growing a soft magnetic material on the substrate;
A resist pattern forming step for forming a resist pattern having an opening on the soft magnetic film;
A second growth step for forming a soft magnetic part having a pre-groove surface on a side opposite to the substrate by growing a soft magnetic material in the opening. Production method. 前記第２成長工程より前に、Ｐｄよりもイオン化傾向の大きな元素を含む材料薄膜を前記軟磁性膜上に形成する、請求項１１に記載の光磁気記録媒体基板の製造方法。12. The method of manufacturing a magneto-optical recording medium substrate according to claim 11, wherein a material thin film containing an element having a greater ionization tendency than Pd is formed on the soft magnetic film before the second growth step. 前記第２成長工程より前に、Ｃｏ，Ｆｅ，およびＮｉよりもイオン化傾向の大きな元素を含む材料薄膜を前記軟磁性膜上に形成する、請求項１１に記載の光磁気記録媒体基板の製造方法。12. The method of manufacturing a magneto-optical recording medium substrate according to claim 11, wherein a material thin film containing an element having a higher ionization tendency than Co, Fe, and Ni is formed on the soft magnetic film before the second growth step. . 前記レジストパターン形成工程より前に、前記軟磁性膜上に保護膜を形成する、請求項１１に記載の光磁気記録媒体基板の製造方法。The method of manufacturing a magneto-optical recording medium substrate according to claim 11, wherein a protective film is formed on the soft magnetic film before the resist pattern forming step. 第１温度の下、基板の有するプリグルーブ型面上に軟磁性材料を成長させることにより、当該プリグルーブ型面の凹凸形状が転写されたプリグルーブ面を有する軟磁性部を前記第１基板上に形成するための軟磁性部形成工程と、
前記軟磁性部および第２基板を一体化するための工程と、
第２温度の下、前記軟磁性部から前記第１基板を分離するための分離工程と、を含み、
前記第１温度および前記第２温度の差は１０℃以下である、光磁気記録媒体基板の製造方法。By growing a soft magnetic material on a pregroove mold surface of the substrate under a first temperature, a soft magnetic portion having a pregroove surface to which the concavo-convex shape of the pregroove mold surface is transferred is formed on the first substrate. A soft magnetic part forming step for forming the
A step for integrating the soft magnetic part and the second substrate;
A separation step for separating the first substrate from the soft magnetic part under a second temperature,
The method of manufacturing a magneto-optical recording medium substrate, wherein a difference between the first temperature and the second temperature is 10 ° C. or less. 前記軟磁性部形成工程では、前記軟磁性部は溶液中にて前記第１基板上に形成され、前記分離工程は、相対湿度９０％以上の条件下で行われる、請求項１５に記載の光磁気記録媒体基板の製造方法。The light according to claim 15, wherein in the soft magnetic portion forming step, the soft magnetic portion is formed on the first substrate in a solution, and the separation step is performed under a condition of a relative humidity of 90% or more. A method for manufacturing a magnetic recording medium substrate.
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