JPH09204702A - Magneto-optical recording medium and its recording or reproducing method - Google Patents

Magneto-optical recording medium and its recording or reproducing method

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Publication number
JPH09204702A
JPH09204702A JP31314895A JP31314895A JPH09204702A JP H09204702 A JPH09204702 A JP H09204702A JP 31314895 A JP31314895 A JP 31314895A JP 31314895 A JP31314895 A JP 31314895A JP H09204702 A JPH09204702 A JP H09204702A
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JP
Japan
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layer
magneto
reproducing
recording medium
optical recording
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Application number
JP31314895A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kenji Tanase
健司 棚瀬
Yoshihisa Suzuki
誉久 鈴木
Atsushi Yamaguchi
山口  淳
Satoshi Washimi
聡 鷲見
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanyo Electric Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Electric Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide the magneto-optical recording medium in which a high density recording/reproducing is conducted, the recording is accomplished using a small applied magnetic field, a magnetic modulation system is optimally used and the CNR during a reproducing is satisfactory. SOLUTION: The composition ratio of Co in a reproducing layer is made to 12 to 50at%. After forming a substrate, an etching process is performed for the surface layer and a reproducing layer is formed, or, the magneto-optical recording medium is manufactured by lowering the sputtering gas pressure of the reproducing layer to the level of 3mTorr or providing a heat radiation layer made of a metal or a metallic alloy on the recording layer. During a recording, the laser beam is made pulsive, the phase difference between the pulsed magnetic field and the pulsed laser beam is set to zero to 60nsec and the recording of information is performed. Furthermore, during a reproducing, the power of the laser beam is set to 2.0 to 3.0mW, With the use of these methods, the temperature coefficient of the Kerr rotational angle is set larger than 8.0 and translucent polycarbonate resin is used for the substrate.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、垂直磁化膜である
記録層と室温で面内磁化膜である再生層とから成る交換
結合磁性層を備え、記録層の磁化の方向を磁性層に転写
して読み出すようにすることで高密度記録化を達成した
光磁気記録媒体及びその記録又は再生方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention comprises an exchange coupling magnetic layer composed of a recording layer which is a perpendicular magnetization film and a reproducing layer which is an in-plane magnetization film at room temperature, and the magnetization direction of the recording layer is transferred to the magnetic layer. The present invention relates to a magneto-optical recording medium that achieves high-density recording by reading and writing the same and a recording or reproducing method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】光磁気記録媒体は、書き換え可能で、記
憶容量が大きく、且つ、信頼性の高い記録媒体として注
目されており、コンピュータメモリ等として実用化され
始めている。しかし、情報量の増大と装置のコンパクト
化に伴い、より一層の高密度記録再生技術が要請されて
いる。
2. Description of the Related Art Magneto-optical recording media have attracted attention as rewritable, large-capacity, and highly reliable recording media, and have begun to be put to practical use as computer memories and the like. However, with the increase in the amount of information and the downsizing of the apparatus, a higher density recording / reproducing technique is required.

【0003】高密度記録再生技術は、装置側の技術と媒
体側の技術とから成る。前者の技術としては、レーザー
光の回折限界を超える集光スポットを得る光学的超解像
手法や、レーザ光の短波長化などがある。後者の技術と
しては、媒体の狭ピッチ化や、磁気多層膜による再生分
解能の向上化などの技術がある。ここで、磁気多層膜に
よる再生分解能の向上化技術は、レーザスポットの温度
分布が中心付近にて最高となるガウス分布を成すことを
利用して、記録層の状態を再生層に選択的に転写して、
該再生層の状態を読み出すようにした技術である。
[0003] The high-density recording / reproducing technology includes a device-side technology and a medium-side technology. The former techniques include an optical super-resolution method for obtaining a focused spot that exceeds the diffraction limit of laser light, and shortening of the wavelength of laser light. As the latter technique, there are techniques such as narrowing the pitch of the medium and improving the reproduction resolution by the magnetic multilayer film. Here, the technology for improving the reproduction resolution by the magnetic multilayer film utilizes the fact that the temperature distribution of the laser spot has the highest Gaussian distribution near the center to selectively transfer the state of the recording layer to the reproduction layer. do it,
This is a technique for reading the state of the reproduction layer.

【0004】また、従来の光学的超解像手法に用いる光
磁気記録媒体においては、通常、垂直磁化膜からなる記
録層が用いられていた。また、光磁気記録媒体用基板と
しては、通常、ガラス基板が用いられていた。
Further, in the conventional magneto-optical recording medium used in the optical super-resolution method, a recording layer made of a perpendicular magnetization film is usually used. A glass substrate is usually used as the substrate for the magneto-optical recording medium.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】再生層をキュリー温度
以上に昇温するためにはレーザパワーを大きくする必要
があり、昇温が不十分な場合には記録信号のCNRが悪
化する。また、昇温が不十分な再生層の磁化の向きを外
部磁界の向きに揃えるためには大きな印加磁界を必要と
し、その場合でも記録信号のCNRの悪化を免れない。
さらに、磁界変調方式の記録では、印加磁界が小さいこ
とが望まれるという事情もある。
In order to raise the temperature of the reproducing layer to the Curie temperature or higher, it is necessary to increase the laser power, and if the temperature rise is insufficient, the CNR of the recording signal deteriorates. Further, a large applied magnetic field is required to align the magnetization direction of the reproducing layer with insufficient temperature rise with the direction of the external magnetic field, and even in that case, the deterioration of the CNR of the recording signal cannot be avoided.
Further, in the magnetic field modulation recording, there is also a situation that it is desired that the applied magnetic field is small.

【0006】記録層のキュリー温度が低く再生層のキュ
リー温度との温度差が大きい場合には、記録時の降温過
程で記録層のキュリー温度以下となって再生層の磁化の
向きが記録層に転写され始める際に、既に再生層の磁化
の一部が面内方向を向き始めており、これが、再生層か
ら記録層に転写される信号のノイズとなって記録信号の
CNRが低下するという問題がある。
When the Curie temperature of the recording layer is low and the temperature difference from the Curie temperature of the reproducing layer is large, the Curie temperature of the recording layer becomes lower than the Curie temperature of the recording layer during recording, and the magnetization direction of the reproducing layer becomes When the transfer is started, a part of the magnetization of the reproducing layer has already started to face the in-plane direction, which becomes noise of the signal transferred from the reproducing layer to the recording layer, and the CNR of the recording signal decreases. is there.

【0007】また、記録層の状態を再生層に転写して読
み出す技術では、レーザスポットによって昇温される再
生層の温度分布が所望の分布を成すことが要求される。
これは、温度分布が所望の分布から外れると、磁化方向
が無秩序であることに起因するノイズや、レーザスポッ
トの非中心部分(周辺の低温であるべき部分)の状態ま
で読み出してしまうことに起因するクロストークノイズ
が増加するためである。
Further, in the technique of transferring the state of the recording layer to the reproducing layer and reading the same, it is required that the temperature distribution of the reproducing layer heated by the laser spot has a desired distribution.
This is because when the temperature distribution deviates from the desired distribution, noise due to the disordered magnetization direction and even the non-central portion of the laser spot (the peripheral low-temperature portion) are read out. This is because the crosstalk noise that occurs increases.

【0008】また、磁性層を光が透過する透過型の光磁
気記録媒体では、レーザスポットの照射による熱の蓄積
は無視できる。しかし、磁性層からの反射レーザ光を検
出するタイプの光磁気記録媒体では、膜厚が例えば40
0Å以上であり、蓄積された熱が再生層の温度分布に影
響を与えるようになるため、上記のノイズが増加する。
Further, in a transmission type magneto-optical recording medium in which light is transmitted through the magnetic layer, heat accumulation due to irradiation of a laser spot can be ignored. However, in a magneto-optical recording medium of the type that detects reflected laser light from the magnetic layer, the film thickness is, for example, 40
Since it is 0 Å or more and the accumulated heat affects the temperature distribution of the reproducing layer, the above noise increases.

【0009】また、従来の光磁気記録媒体への記録は一
定強度のレーザ光を照射した状態で記録を行っていたた
めに、記録層における昇温領域がレーザスポットより大
きくなっていた。この結果、記録スポットが大きくな
り、高密度化が困難であるという問題があった。記録層
の状態を再生層に転写して読み出す技術では、レーザス
ポットによって昇温される再生層の温度分布が所望の分
布を成すことが要求される。これは、温度分布が所望の
分布からはずれると、磁化方向が無秩序であることに起
因するノイズや、レーザスポットの非中心部分(周辺の
低温であるべき部分)の状態まで読み出してしまうこと
に起因するクロストークノイズが増加するためである。
Further, in the conventional recording on the magneto-optical recording medium, since the recording was carried out under the condition that the laser light of a constant intensity was irradiated, the temperature rising region in the recording layer was larger than the laser spot. As a result, there is a problem that the recording spot becomes large and it is difficult to increase the density. In the technique of transferring the state of the recording layer to the reading layer and reading it, it is required that the temperature distribution of the reading layer heated by the laser spot has a desired distribution. This is because when the temperature distribution deviates from the desired distribution, noise due to the disordered magnetization direction and even the state of the non-central portion of the laser spot (the peripheral low temperature portion) are read. This is because the crosstalk noise that occurs increases.

【0010】また、磁性層を光が透過する透過型の光磁
気記録媒体では、レーザスポットの照射による熱の蓄積
は無視できる。しかし、磁性層からの反射レーザ光を検
出するタイプの光磁気記録媒体では、膜厚が例えば40
0Å以上であり、蓄積された熱が再生層の温度分布に影
響を与えるようになるため、上記のノイズが増加する。
Further, in a transmission type magneto-optical recording medium in which light is transmitted through the magnetic layer, heat accumulation due to irradiation of a laser spot can be ignored. However, in a magneto-optical recording medium of the type that detects reflected laser light from the magnetic layer, the film thickness is, for example, 40
Since it is 0 Å or more and the accumulated heat affects the temperature distribution of the reproducing layer, the above noise increases.

【0011】また、基板としてガラスを用いた場合には
以下のような問題がある。 1)光磁気記録媒体の重量が重くなる。 2)誤って落下させた場合に破損する虞がある。 3)高速回転に耐えない。 4)表面を研磨する必要があるため高価になる。
Further, when glass is used as the substrate, there are the following problems. 1) The weight of the magneto-optical recording medium becomes heavy. 2) It may be damaged if dropped by mistake. 3) It cannot withstand high speed rotation. 4) It becomes expensive because it is necessary to polish the surface.

【0012】5)レーザービームのトラッキングに用い
る案内溝を直接形成することが困難である。 また、従来型のCAD方式では、再生層での面内磁化膜
から垂直磁化膜への変換が、数十度から百度付近の広範
囲で行われること、記録層から再生層への磁気的影響に
より再生層での面内磁化の保持が完全でなく、マスク効
果が低下することから転写領域が明確でなく、再生雑音
が大きく、しかも大きなMSR効果が得られなかった。
また、転写のための明確なしきい値を持たないため転写
温度が材料の作成条件に依存しやすく、均一な特性が得
られなかった。
5) It is difficult to directly form the guide groove used for tracking the laser beam. Further, in the conventional CAD method, the conversion from the in-plane magnetized film to the perpendicular magnetized film in the reproducing layer is performed in a wide range from several tens to 100 degrees, and due to the magnetic influence from the recording layer to the reproducing layer. Since the in-plane magnetization is not completely retained in the reproducing layer and the masking effect is lowered, the transfer region is not clear, the reproducing noise is large, and the large MSR effect cannot be obtained.
In addition, since there is no clear threshold value for transfer, the transfer temperature is likely to depend on the preparation conditions of the material, and uniform characteristics could not be obtained.

【0013】本発明は、磁性層からの反射レーザ光を検
出するタイプの光磁気記録媒体に於いて、熱の蓄積を無
視できる程度にすることにより、上記のノイズを低減す
ることを目的とする。また、本発明は、印加磁界が小さ
くとも記録でき、磁界変調方式にも最適に用いることが
できる光磁気記録媒体の提供を目的とする。また、良好
なCNRで記録できる光磁気記録媒体の提供を目的とす
る。
It is an object of the present invention to reduce the above noise in a magneto-optical recording medium of the type that detects reflected laser light from a magnetic layer, by making heat accumulation negligible. . It is another object of the present invention to provide a magneto-optical recording medium that can record even when the applied magnetic field is small and can be optimally used in a magnetic field modulation system. Another object of the present invention is to provide a magneto-optical recording medium capable of recording with good CNR.

【0014】また、本発明は、記録/再生時における均
熱領域を小さくすることにより光磁気記録媒体における
高密度な記録・再生を実現するとともに取り扱いが簡便
な光磁気記録媒体を提供することを目的とする。また、
本発明は、上記の問題点を解決するもので、再生層では
なく記録層自体に磁気転写機能を持たせることにより転
写温度を明確にして再生雑音が低く、MSR効果の大き
い、均一性に優れた光磁気記録媒体を得ようとするもの
である。
The present invention also provides a magneto-optical recording medium which realizes high-density recording / reproducing in a magneto-optical recording medium by reducing the soaking area during recording / reproducing and is easy to handle. To aim. Also,
The present invention solves the above-mentioned problems. By providing a magnetic transfer function to the recording layer itself, not to the reproducing layer, the transfer temperature is made clear, the reproduction noise is low, the MSR effect is large, and the uniformity is excellent. It is intended to obtain a magneto-optical recording medium.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】本発明は、透光性基板
と、透光性基板上に形成された下地層と、下地層上に形
成された室温で面内磁化膜である再生層と、再生層上に
形成され、所定の温度まで昇温されることで再生層へ磁
化方向を転写する記録層とを配して成る光磁気記録媒体
において、カー回転角の温度係数が8.0以上であるこ
とを特徴とする。
According to the present invention, there is provided a translucent substrate, an underlayer formed on the translucent substrate, and a reproducing layer which is an in-plane magnetized film at room temperature formed on the underlayer. , A recording layer formed on the reproducing layer and transferring the magnetization direction to the reproducing layer when heated to a predetermined temperature, a magneto-optical recording medium having a Kerr rotation angle temperature coefficient of 8.0. The above is characterized.

【0016】また、本発明は、記録層は室温で垂直磁化
膜であることを特徴とする。また、本発明は、再生層が
コバルト(Co)を含む遷移金属と希土類から成り、再
生層中のCoの組成比が12at%〜50at%の範囲
にあることを特徴とする。また、本発明は、再生層がG
dとFeを含むことを特徴とする。
Further, the present invention is characterized in that the recording layer is a perpendicular magnetization film at room temperature. Further, the present invention is characterized in that the reproducing layer is composed of a transition metal containing cobalt (Co) and a rare earth, and the composition ratio of Co in the reproducing layer is in the range of 12 at% to 50 at%. In the present invention, the reproducing layer is G
It is characterized by containing d and Fe.

【0017】また、本発明は、下地層が干渉層として機
能するSiNを600Å〜800Åの範囲に成膜して成
ることを特徴とする。また、本発明は、再生層の膜厚が
800Å〜1200Åの範囲にあることを特徴とする。
また、本発明は、記録層が記録層中のCoの含有率が1
0at%〜16at%の範囲であるTbFeCoを成膜
して成ることを特徴とする。
Further, the present invention is characterized in that the underlayer is formed by depositing SiN which functions as an interference layer in a range of 600Å to 800Å. Further, the present invention is characterized in that the thickness of the reproducing layer is in the range of 800Å to 1200Å.
In the present invention, the recording layer has a Co content of 1
It is characterized by forming a film of TbFeCo in the range of 0 at% to 16 at%.

【0018】また、本発明は、再生層が再生層中のGd
の含有率が30at%〜36at%の範囲であるGdF
eCoを成膜して成ることを特徴とする。また、本発明
は、干渉層の表面を、0.02W/cm2〜0.08W/
cm2の範囲のエッチングパワーでエッチング処理した
後、再生層と記録層を成膜して成ることを特徴とする。
Further, according to the present invention, the reproducing layer has a Gd in the reproducing layer.
Content of GdF in the range of 30 at% to 36 at%
It is characterized in that it is formed by forming a film of eCo. Further, in the present invention, the surface of the interference layer is 0.02 W / cm 2 to 0.08 W /
The present invention is characterized in that a reproducing layer and a recording layer are formed after an etching treatment with an etching power in a range of cm 2 .

【0019】また、本発明は、再生層が2〜7mTor
rの範囲のスパッタガス圧で成膜して成ることを特徴と
する。また、本発明は、透光性基板がポリカーボネート
樹脂であることを特徴とする。また、本発明は、記録層
がTdFeCoであり、再生層がGdFeCoCr又は
GdFeCoNi又はGdFeCoTi又はGdFeC
oAl又はGdFeCoMn又はGdFeCoNiCr
又はGdFeCoAlTiであることを特徴とする。
Further, according to the present invention, the reproducing layer has a thickness of 2 to 7 mTorr.
It is characterized in that the film is formed at a sputtering gas pressure in the range of r. Further, the present invention is characterized in that the translucent substrate is a polycarbonate resin. In the present invention, the recording layer is TdFeCo, and the reproducing layer is GdFeCoCr, GdFeCoNi, GdFeCoTi, or GdFeC.
oAl or GdFeCoMn or GdFeCoNiCr
Alternatively, it is characterized by being GdFeCoAlTi.

【0020】また、本発明は、記録層上に放熱層を形成
したことを特徴とする。また、本発明は、放熱層がAl
又はAu又はPt又はTi又はV又はCr又はMn又は
Fe又はCo又はNi又はCu又はZn又はMo又はA
g又はSn又はSb又はWであることを特徴とする。ま
た、本発明は、放熱層の膜厚が200〜1000Åであ
ることを特徴とする。
Further, the present invention is characterized in that a heat dissipation layer is formed on the recording layer. In the present invention, the heat dissipation layer is made of Al.
Or Au or Pt or Ti or V or Cr or Mn or Fe or Co or Ni or Cu or Zn or Mo or A
g or Sn or Sb or W. Further, the present invention is characterized in that the film thickness of the heat dissipation layer is 200 to 1000Å.

【0021】また、本発明は、下地層の表面を、0.0
2W/cm2〜0.08W/cm2の範囲のエッチングパ
ワーでエッチング処理した後、再生層と記録層を成膜し
て成ることを特徴とする。また、本発明は、放熱層はR
Fマグネトロンスパッタ法により100〜1000Wの
RFパワー、1〜10mTorrのアルゴン圧力で形成
したことを特徴とする。
Further, according to the present invention, the surface of the underlayer is set to 0.0.
After etching with 2W / cm 2 ~0.08W / cm 2 in the range etching power, characterized in that formed by forming the recording layer and the reproducing layer. In the present invention, the heat dissipation layer is R
It is characterized by being formed by an F magnetron sputtering method with an RF power of 100 to 1000 W and an argon pressure of 1 to 10 mTorr.

【0022】また、本発明は、透光性ポリカーボネート
基板は複屈折が20〜25nmであり、複屈折の周方向
の変動が6〜10nmであり、グルーブとランドのコー
ナーでの曲率半径が35〜50nmであることを特徴と
する。また、本発明は、透光性ポリカーボネート基板の
表面粗さが100〜500Åであることを特徴とする。
According to the present invention, the translucent polycarbonate substrate has a birefringence of 20 to 25 nm, a birefringence variation of 6 to 10 nm in the circumferential direction, and a radius of curvature of 35 to 35 at the corner of the groove and the land. It is characterized by being 50 nm. Further, the present invention is characterized in that the surface roughness of the translucent polycarbonate substrate is 100 to 500 Å.

【0023】また、本発明は、記録層が反強磁性から強
磁性への一次転換点を50℃以上に設定する磁性層であ
ることを特徴とする。また、本発明は、記録層が(Mn
(100-x)x2Sb(M=Cr,V,Co,Cu,Z
n,Ge,As)であることを特徴とする。また、本発
明は、(Mn(100-x)Crx)2Sb、x=10〜30at%
であることを特徴とする。
Further, the present invention is characterized in that the recording layer is a magnetic layer whose primary transition point from antiferromagnetism to ferromagnetism is set to 50 ° C. or higher. Further, in the present invention, the recording layer has (Mn
(100-x) M x ) 2 Sb (M = Cr, V, Co, Cu, Z
n, Ge, As). The present invention also provides (Mn (100-x) Cr x ) 2 Sb, x = 10 to 30 at%
It is characterized by being.

【0024】また、本発明は、記録時の外部印加磁界が
50〜200Oeであることを特徴とする。また、本発
明は、記録時のレーザパルスのデューティを20〜60
%に、パルス磁界とレーザパルスの位相差を0〜60n
secに設定したことを特徴とする。
The present invention is also characterized in that the externally applied magnetic field during recording is 50 to 200 Oe. Further, according to the present invention, the duty of the laser pulse during recording is set to 20 to 60.
%, The phase difference between the pulse magnetic field and the laser pulse is 0 to 60n.
It is characterized in that it is set to sec.

【0025】また、本発明は、光磁気記録媒体の再生に
おいて、1.1〜1.3m/secの再生線速度において
再生パワーを1.5〜2.2mWに、1.5〜1.7m/s
ecの再生線速度において再生パワーを1.8〜2.7m
Wに、1.9〜2.1m/secの再生線速度において再
生パワーを2.0〜3.0mWに、2.9〜3.1m/se
cの再生線速度において再生パワーを2.4〜3.7mW
に、4.9〜5.1m/secの再生線速度において再生
パワーを3.2〜4.5mWに、8.9〜9.1m/sec
の再生線速度において再生パワーを4.0〜6.0mW
に、それぞれ設定したことを特徴とする。
Further, according to the present invention, in reproducing the magneto-optical recording medium, the reproducing power is 1.5 to 2.2 mW and the reproducing power is 1.5 to 1.7 m at the reproducing linear velocity of 1.1 to 1.3 m / sec. / S
The reproduction power is 1.8 to 2.7 m at the reproduction linear velocity of ec.
The reproducing power is 2.0 to 3.0 mW and the reproducing power is 2.9 to 3.1 m / se at the reproducing linear velocity of 1.9 to 2.1 m / sec.
The reproducing power is 2.4 to 3.7 mW at the reproducing linear velocity of c.
At a reproducing linear velocity of 4.9 to 5.1 m / sec, a reproducing power of 3.2 to 4.5 mW, and a reproducing power of 8.9 to 9.1 m / sec.
The reproducing power is 4.0-6.0mW at the reproducing linear velocity of
It is characterized in that they are set respectively.

【0026】また、本発明は、下地層を成膜後、下地層
表面にスパッタエッチング処理を施し、その後に、Co
を12at%〜50at%含む再生層を成膜することを
特徴とする。また、本発明は、下地層を成膜後、下地層
表面に0.02W/cm2〜0.08W/cm2の範囲のエ
ッチングパワーでスパッタエッチング処理を施し、その
後に、Coを12at%〜50at%含む再生層を成膜
することを特徴とする。
Further, according to the present invention, after forming the underlayer, the surface of the underlayer is subjected to sputter etching treatment, and then Co
Is characterized in that a reproducing layer containing 12 at% to 50 at% is formed. Further, the present invention after formation of the base layer is subjected to sputter etching treatment in etching power in a range of 0.02W / cm 2 ~0.08W / cm 2 on the base layer surface, then, 12at% ~ the Co It is characterized in that a reproducing layer containing 50 at% is formed.

【0027】また、本発明は、記録層を、Coの含有率
が10at%〜16at%の範囲であるTbFeCoで
成膜することを特徴とする。また、本発明は、再生層
を、Gdの含有率が30at%〜36at%の範囲であ
るGdFeCoで成膜することを特徴とする。また、本
発明は、再生層を、2〜7mTorrの範囲のスパッタ
ガス圧で成膜することを特徴とする。
The present invention is also characterized in that the recording layer is formed of TbFeCo having a Co content in the range of 10 at% to 16 at%. Further, the present invention is characterized in that the reproducing layer is formed of GdFeCo having a Gd content ratio of 30 at% to 36 at%. Further, the present invention is characterized in that the reproduction layer is formed at a sputtering gas pressure in the range of 2 to 7 mTorr.

【0028】[0028]

【発明の実施の形態】本発明は、記録層と該記録層から
磁化が転写される室温で面内磁化膜である再生層からな
る光磁気記録媒体に関するものであり、該光磁気記録媒
体の断面構造は図17に示す如くである。即ち、透光性
基板1上に干渉層2、再生層3、記録層4、保護層5、
放熱層6、紫外線硬化樹脂7を順次積層した構造であ
る。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention relates to a magneto-optical recording medium comprising a recording layer and a reproducing layer which is an in-plane magnetized film at room temperature to which magnetization is transferred from the recording layer. The sectional structure is as shown in FIG. That is, on the transparent substrate 1, the interference layer 2, the reproducing layer 3, the recording layer 4, the protective layer 5,
This is a structure in which the heat dissipation layer 6 and the ultraviolet curable resin 7 are sequentially laminated.

【0029】本発明は、上記構造において、透光性基板
1、干渉層2、再生層3、記録層4、放熱層6及び光磁
気記録媒体の記録又は再生方法に関する技術を開示する
ものである。 実施例1 図1は実施例1の光磁気記録媒体の断面構造を示す模式
図である。図示の光磁気記録媒体では、ポリカーボネー
ト(PC)製の基板上に、該基板側から順に、厚さ80
0ÅのSiNから成る干渉層、厚さ500ÅのGdFe
Coから成る再生層、厚さ500ÅのTbFeCoから
成る記録層、厚さ800ÅのSiNから成る酸化防止層
が形成されており、さらに、不図示の紫外線硬化樹脂層
が厚さ約20μmで保護層として塗布形成されている。
なお、図示の各層は従来より公知のスパッタリング法等
によって作成することができる。
The present invention discloses a technique relating to the recording or reproducing method of the transparent substrate 1, the interference layer 2, the reproducing layer 3, the recording layer 4, the heat dissipation layer 6 and the magneto-optical recording medium in the above structure. . Example 1 FIG. 1 is a schematic diagram showing a cross-sectional structure of a magneto-optical recording medium of Example 1. In the illustrated magneto-optical recording medium, a thickness of 80 is formed on a polycarbonate (PC) substrate in order from the substrate side.
Interference layer consisting of 0Å SiN, GdFe with a thickness of 500Å
A reproducing layer made of Co, a recording layer made of TbFeCo having a thickness of 500 Å, an oxidation preventing layer made of SiN having a thickness of 800 Å are formed, and an ultraviolet curable resin layer (not shown) has a thickness of about 20 μm as a protective layer It is formed by coating.
The illustrated layers can be formed by a conventionally known sputtering method or the like.

【0030】再生層の組成は「Gd:Fe:Co=3
1:47:22at%」であり、記録層の組成は「T
b:Fe:Co=26:66:8at%」である。この
組成の記録層と再生層について残留カー回転角を測定し
た結果を、温度を横軸として図2に示す。図示のよう
に、再生層が垂直磁化膜になる温度は140℃であり、
キュリー温度は300℃である。また、記録層のキュリ
ー温度は230℃であり、補償温度は室温である。な
お、再生は、上記140℃の転写温度まで昇温して記録
層の磁化の向きを再生層に転写して読み出すことで行わ
れる。
The composition of the reproducing layer is "Gd: Fe: Co = 3.
1:47:22 at% ”, and the composition of the recording layer is“ T
b: Fe: Co = 26: 66: 8 at% ”. The results of measuring the residual Kerr rotation angle of the recording layer and the reproducing layer having this composition are shown in FIG. As shown, the temperature at which the reproducing layer becomes a perpendicularly magnetized film is 140 ° C.
The Curie temperature is 300 ° C. The Curie temperature of the recording layer is 230 ° C. and the compensation temperature is room temperature. The reproduction is performed by raising the temperature of the transfer to 140 ° C. and transferring the magnetization direction of the recording layer to the reproducing layer to read it.

【0031】記録時には、図3に示すようにレーザパワ
ーが3.5[mW]以上でCNRが飽和しており、この
時、再生層はキュリー温度以上に昇温されている。この
ため、図4に示すように外部印加磁界も50[Oe]と
いう低磁界から記録可能であり、200[Oe]以上で
はCNRが飽和している。従来は500[Oe]以上の
外部磁界を印加する必要があった(Optical D
ata storage 1994,Technica
l Digest Series Volume 1
0, p128−129)ことを考慮すると、本光磁気
記録媒体が極めて小さな外部印加磁界で記録できること
がわかる。 実施例2 実施例2の断面構造は前記実施例1と同じである。実施
例2が前記実施例1と異なる点は、再生層の組成が「G
d:Fe:Co=31:44:25at%」で、記録層
の組成が「Tb:Fe:Co=26:59:125at
%」だという点である。
At the time of recording, as shown in FIG. 3, the CNR is saturated when the laser power is 3.5 [mW] or more, and at this time, the reproducing layer is heated to the Curie temperature or higher. Therefore, as shown in FIG. 4, the externally applied magnetic field can be recorded even from a low magnetic field of 50 [Oe], and the CNR is saturated at 200 [Oe] or more. Conventionally, it was necessary to apply an external magnetic field of 500 [Oe] or more (Optical D
ata storage 1994, Technica
l Digest Series Volume 1
0, p128-129), it can be seen that the present magneto-optical recording medium can be recorded with an extremely small externally applied magnetic field. Example 2 The sectional structure of Example 2 is the same as that of Example 1 described above. Example 2 is different from Example 1 in that the composition of the reproducing layer is “G”.
d: Fe: Co = 31: 44: 25 at% "and the composition of the recording layer is" Tb: Fe: Co = 26: 59: 125 at. "
% ”.

【0032】上記組成の記録層と再生層の残留カー回転
角の温度特性を図5に示す。図示のように、再生層が垂
直磁化膜になる温度は140℃であり、キュリー温度は
320℃である。また、記録層のキュリー温度は290
℃であり、補償温度は室温である。即ち、記録層と再生
層のキュリー温度差は30℃と小さい。このため、記録
時の降温過程でキュリー温度を下回ったとき、再生層は
転写温度の磁化の一部が面内方向を向いているというこ
とはない。したがって、再生層から記録層に転写される
磁化の向きも垂直方向となり、CNRが良好となる。
FIG. 5 shows the temperature characteristics of the residual Kerr rotation angle of the recording layer and the reproducing layer having the above composition. As shown in the figure, the temperature at which the reproducing layer becomes a perpendicular magnetization film is 140 ° C., and the Curie temperature is 320 ° C. The Curie temperature of the recording layer is 290
° C and the compensation temperature is room temperature. That is, the Curie temperature difference between the recording layer and the reproducing layer is as small as 30 ° C. Therefore, when the temperature falls below the Curie temperature during the temperature lowering process during recording, in the reproducing layer, part of the magnetization at the transfer temperature does not face the in-plane direction. Therefore, the direction of the magnetization transferred from the reproducing layer to the recording layer is also the vertical direction, and the CNR is good.

【0033】本実施例2の場合は、図6に〔B〕として
示すように、外部印加磁界が100[Oe]という低磁
界から記録可能であり、CNRは250[Oe]以上で
飽和している。なお、図中〔A〕は、再生層の組成が
「Gd:Fe:Co=31:34:35at%」でキュ
リー温度が360℃、記録層の組成が「Tb:Fe:C
o=26:66:8at%」でキュリー温度が230℃
の従来の光磁気記録媒体の特性図である。図示のように
従来は500[Oe]以上の外部印加磁界が必要であ
り、これと比較すると、本光磁気記録媒体が極めて小さ
な外部印加磁界で記録できることがわかる。 実施例3 図7は実施例3の光磁気記録媒体の断面構造を示す模式
図である。図示の光磁気記録媒体では、ポリカーボネー
ト(PC)製の基板上に、該基板側から順に、厚さ80
0ÅのSiNから成る高屈折率層、厚さ500ÅのGd
FeCoから成る再生層、厚さ500ÅのTbFeCo
から成る記録層、厚さ800ÅのSiNから成る酸化防
止層、厚さ200ÅのAlから成る放熱層が形成されて
おり、さらに、厚さ約20μmの紫外線硬化樹脂から成
る保護層が塗布形成されている。なお、保護層以外の各
層は、従来より公知のスパッタリング法等によって形成
することができる。
In the case of the second embodiment, as shown as [B] in FIG. 6, recording can be performed from a low magnetic field of 100 [Oe] of externally applied magnetic field, and CNR is saturated at 250 [Oe] or more. There is. In the figure [A], the composition of the reproducing layer is “Gd: Fe: Co = 31: 34: 35 at%”, the Curie temperature is 360 ° C., and the composition of the recording layer is “Tb: Fe: C”.
o = 26: 66: 8 at% ”and the Curie temperature is 230 ° C.
FIG. 11 is a characteristic diagram of the conventional magneto-optical recording medium of FIG. As shown in the figure, conventionally, an externally applied magnetic field of 500 [Oe] or more is required. By comparison with this, it is understood that the present magneto-optical recording medium can be recorded with an extremely small externally applied magnetic field. Example 3 FIG. 7 is a schematic diagram showing a cross-sectional structure of a magneto-optical recording medium of Example 3. In the illustrated magneto-optical recording medium, a thickness of 80 is formed on a polycarbonate (PC) substrate in order from the substrate side.
High refractive index layer consisting of 0Å SiN, Gd with a thickness of 500Å
Reproducing layer made of FeCo, TbFeCo of 500 Å thickness
A recording layer made of Si, an oxidation layer made of SiN having a thickness of 800Å, a heat dissipation layer made of Al having a thickness of 200Å, and a protective layer made of an ultraviolet curable resin having a thickness of about 20 μm is formed by coating. There is. Each layer other than the protective layer can be formed by a conventionally known sputtering method or the like.

【0034】また、上記に於いて、Alから成る放熱層
の膜厚200Åを、300Å、400Å、800Åに代
えた光磁気記録媒体も各々製造した。これらの各光磁気
記録媒体は何れも交換結合磁性層(記録層と再生層を意
味し、交換結合力により記録層から再生層へ磁化が転写
されることを意味する)の総膜厚が1000Åであるた
め、光を十分に透過させないタイプ、即ち、磁性層から
の反射光を検出するタイプである。
Further, magneto-optical recording media in which the film thickness 200 Å of the heat dissipation layer made of Al is replaced with 300 Å, 400 Å, 800 Å in the above, respectively were also manufactured. In each of these magneto-optical recording media, the total film thickness of the exchange-coupling magnetic layer (meaning the recording layer and the reproducing layer, meaning that the magnetization is transferred from the recording layer to the reproducing layer by the exchange-coupling force) is 1000Å. Therefore, it is a type that does not sufficiently transmit light, that is, a type that detects reflected light from the magnetic layer.

【0035】上記各光磁気記録媒体では、基板側からレ
ーザスポットを入射して再生層を所定の転写温度(実施
例1では140℃まで昇温させると、該転写温度を越え
た部位において記録層の磁化の方向が再生層に転写され
る。この現象を利用して記録層の情報が読み出される。
なお、記録層の自発磁化の消滅する温度は250℃であ
るため、上記転写温度では記録層の情報は保持されてい
る。
In each of the magneto-optical recording media described above, when a laser spot is incident from the substrate side to raise the reproducing layer to a predetermined transfer temperature (140 ° C. in the first embodiment), the recording layer is exposed at a portion exceeding the transfer temperature. The magnetization direction is transferred to the reproducing layer, and this phenomenon is used to read the information in the recording layer.
Since the temperature at which the spontaneous magnetization of the recording layer disappears is 250 ° C., the information of the recording layer is retained at the above transfer temperature.

【0036】また、この例では、再生層の転写温度14
0℃と自発磁化の消滅する温度400℃は「Gd:Fe
Co=32:68at%」に設定することで実現し、記
録層の自発磁化の消滅する温度250℃は「Td:Fe
Co=25:75at%」に設定することで実現してい
る。実施例3の各光磁気記録媒体(放熱層の厚さが、2
00Å、300Å、400Å、800Åの各光磁気記録
媒体)の記録情報を読み出して各々CNRを測定し、従
来の記録媒体(図7で放熱層の無い記録媒体)と比較し
たところ、何れの場合も従来より良好であった。また、
実施例1の各光磁気記録媒体どうしの比較では、200
Åより300Åの方が良好であったが、300Å、40
0Å、800Åでは略同程度であった。これより、Al
の放熱層の膜としては200Åでも良いが、300Å以
上が特に好適である。
In this example, the transfer temperature of the reproducing layer is 14
The temperature of 0 ° C and the temperature of 400 ° C at which the spontaneous magnetization disappears are “Gd: Fe
Co = 32: 68 at% ”, and the temperature of 250 ° C. at which the spontaneous magnetization of the recording layer disappears is“ Td: Fe ”.
It is realized by setting “Co = 25: 75 at%”. Each magneto-optical recording medium of Example 3 (the thickness of the heat dissipation layer is 2
The recorded information of each of the 00 Å, 300 Å, 400 Å, and 800 Å magneto-optical recording mediums) was read out, and the CNR was measured for each. It was better than before. Also,
The comparison between the magneto-optical recording media of Example 1 is 200
300Å was better than Å, but 300Å, 40
At 0Å and 800Å, they were about the same. From this, Al
The thickness of the heat dissipation layer may be 200 Å, but 300 Å or more is particularly suitable.

【0037】図8は、実施例3の光磁気記録媒体(放熱
層の膜厚400Å)と、従来の光磁気記録媒体の再生信
号のCNRの測定結果を、記録ドメイン長を横軸として
示すグラフである。図示のように、記録ドメイン長が
0.8μm以上と0.4μm以下で特に改善されているこ
とがわかる。これは、再生層の熱が放熱層に流れて温度
分布が良好となり、その結果、磁化方向が無秩序である
ことに起因するノイズや、レーザスポットの非中心部分
(周辺の低温であるべき部分)の状態まで読み出してし
まうことによりノイズが減少したためであると考えられ
る。
FIG. 8 is a graph showing the measurement results of the CNR of the reproduction signal of the magneto-optical recording medium of Example 3 (film thickness of the heat dissipation layer 400Å) and the conventional magneto-optical recording medium with the recording domain length as the horizontal axis. Is. As shown in the figure, it can be seen that the recording domain length is particularly improved when the recording domain length is 0.8 μm or more and 0.4 μm or less. This is because the heat of the reproducing layer flows to the heat dissipation layer and the temperature distribution becomes good. As a result, noise due to disordered magnetization direction and non-central portion of the laser spot (the peripheral low temperature portion) It is considered that this is because the noise was reduced by reading out to the state.

【0038】図7の実施例3の構造において、再生層の
組成比を、Gd=30at%(この場合の転写温度は約
70℃)から、Gd=33at%(この場合の転写温度
は約160℃)の範囲で変えた記録媒体を作成し、上記
と同様にCNRを測定したところ同様の結果を得られ
た。さらに、Alに代えて、熱伝導性の良好なAg,C
u,Au,W,Mgを放熱層として用いた場合にも同様
の結果を得られた。 実施例4 図9は実施例4の光磁気記録媒体の断面構造を示す模式
図である。
In the structure of Example 3 in FIG. 7, the composition ratio of the reproducing layer is changed from Gd = 30 at% (transfer temperature in this case is about 70 ° C.) to Gd = 33 at% (transfer temperature in this case is about 160 ° C.). The same results were obtained when a recording medium having different temperature ranges was prepared and CNR was measured in the same manner as above. Further, instead of Al, Ag, C having good thermal conductivity
Similar results were obtained when u, Au, W, and Mg were used as the heat dissipation layer. Example 4 FIG. 9 is a schematic view showing the cross-sectional structure of the magneto-optical recording medium of Example 4.

【0039】実施例2の光磁気記録媒体は、SiNから
成る高屈折率層とGdFeCoから成る再生層との間に
厚さ500ÅのNiOから成る面内磁化膜磁性層を設け
た点が前記実施例1と異なり、それ以外の構造について
は前記実施例1と同じである。なお、放熱層は、膜厚が
400ÅのAlとした。上記面内磁化膜磁性層は、室温
からネール温度(この例では100℃)までの範囲で磁
化の向きが面内に存在する層である。また、500Åの
NiOであるため、基板側から入射して再生層で反射さ
れたレーザ光が基板まで戻るのに十分な透光性を有す
る。この面内磁化膜磁性層は、再生層の初期状態での磁
化方向を揃えてCNRを改善する目的で設けたものであ
る。即ち、再生層の初期状態の磁化の方向は、記録層が
垂直磁化膜であることによる磁気的結合の影響のため、
完全な面内方向にはならない。ところが、信号再生時に
再生層の磁化が面内方向から垂直方向へ変化する過程に
対して再生層の初期状態が影響するという事情がある。
このため、面内磁化膜磁性層を設けることにより、磁化
方向が無秩序であることに起因するノイズや、低温部分
からの信号まで読み込んでしまうことによるクロストー
クノイズを低減させているのである。また、キュリー温
度或いはネール温度を適当に選択することで、上記効果
を一層高めることができる。なお、面内磁化膜磁性層と
しては、上記NiO以外に、CoNiO、CoO、Mn
Fe、FeCr、FeNi、PtCo、PdCoを用い
ることができる。
The magneto-optical recording medium of Example 2 is different from the magneto-optical recording medium in that the in-plane magnetic film magnetic layer made of NiO having a thickness of 500Å was provided between the high refractive index layer made of SiN and the reproducing layer made of GdFeCo. Different from Example 1, the other structures are the same as those in Example 1. The heat dissipation layer was made of Al with a film thickness of 400Å. The in-plane magnetic film magnetic layer is a layer in which the magnetization direction is in-plane in the range from room temperature to Neel temperature (100 ° C. in this example). Moreover, since it is 500 Å NiO, it has sufficient translucency so that the laser light that enters from the substrate side and is reflected by the reproducing layer returns to the substrate. This in-plane magnetic film magnetic layer is provided for the purpose of improving the CNR by aligning the magnetization direction in the initial state of the reproducing layer. That is, the direction of magnetization in the initial state of the reproducing layer is due to the influence of magnetic coupling due to the recording layer being a perpendicularly magnetized film.
It is not a perfect in-plane direction. However, there is a circumstance that the initial state of the reproducing layer affects the process in which the magnetization of the reproducing layer changes from the in-plane direction to the vertical direction during signal reproduction.
Therefore, by providing the in-plane magnetic film magnetic layer, noise due to the disordered magnetization direction and crosstalk noise due to reading a signal from a low temperature portion are reduced. Moreover, the above effect can be further enhanced by appropriately selecting the Curie temperature or the Neel temperature. As the in-plane magnetic film magnetic layer, other than NiO, CoNiO, CoO, Mn
Fe, FeCr, FeNi, PtCo, PdCo can be used.

【0040】本実施例4の光磁気記録媒体について前記
実施例3と同様に再生信号のCNRを測定した結果、良
好なCNRを得られた。また、図9で放熱層の無い構造
の記録媒体を作成して比較したところ、該放熱層の無い
構造の記録媒体よりも実施例4の記録媒体の方が、良好
なCNRを得られた。 実施例5 図10は実施例5の光磁気記録媒体の断面構造を示す模
式図である。
With respect to the magneto-optical recording medium of the present Example 4, the CNR of the reproduced signal was measured in the same manner as in Example 3, and as a result, a good CNR was obtained. Further, when a recording medium having a structure without a heat dissipation layer was prepared and compared in FIG. 9, a better CNR was obtained with the recording medium of Example 4 than with the recording medium having a structure without the heat dissipation layer. Fifth Embodiment FIG. 10 is a schematic diagram showing the cross-sectional structure of the magneto-optical recording medium of the fifth embodiment.

【0041】実施例5の光磁気記録媒体は、前記実施例
2においてNiOの面内磁化膜磁性層が無く、且つ、G
dFeCoから成る再生層とTbFeCoから成る記録
層との間に厚さ300ÅのTbFeCoAlから成る遮
断磁性層を設けた点が前記実施例2と異なる。それ以外
の構造は前記実施例4と同じであり、放熱層としても前
記実施例4と同様に膜厚が400ÅのAlを用いてい
る。
The magneto-optical recording medium of Example 5 does not have the NiO in-plane magnetic film magnetic layer of Example 2, and G
It differs from the second embodiment in that a blocking magnetic layer made of TbFeCoAl having a thickness of 300 Å is provided between the reproducing layer made of dFeCo and the recording layer made of TbFeCo. The other structure is the same as that of the fourth embodiment, and Al having a film thickness of 400 Å is used as the heat dissipation layer as in the fourth embodiment.

【0042】上記遮断磁性層は、自発磁化の消滅する温
度が190℃であり、記録の自発磁化の消滅する温度よ
りも低温に設定されている。本実施例では、Al含有量
を17at%にすることで、上記温度190℃を実現し
ている。この遮断磁性層は、記録層への情報の記録を再
生層の熱磁気特性に影響されないようにする目的で設け
たものである。即ち、情報の記録時に於いて、記録パワ
ーのレーザスポットの照射で昇温された部位が冷却過程
で250℃(記録層の自発磁化が消滅する温度)以下に
なった時、この250℃では遮断磁性層の磁化が0であ
るため、記録層の磁化の向きは再生層と独立に外部印加
磁界の方向に向く。さらに降温されて190℃(遮断磁
性層の自発磁化の消滅する温度)以下になると、遮断磁
性層の磁化の向きが記録層の磁化の向きに従う。このた
め、190℃以下である再生時の転写温度140℃強で
は、遮断磁性層は記録層と同じに振る舞う。なお、遮断
磁性層としては、上記TbFeCoAl以外に、TbF
eCoNb、TbFeCoCr、TbFeCoNiを用
いることができる。
The blocking magnetic layer has a spontaneous magnetization extinction temperature of 190 ° C., which is set to a temperature lower than the spontaneous magnetization extinction temperature of recording. In this embodiment, the temperature of 190 ° C. is realized by setting the Al content to 17 at%. The blocking magnetic layer is provided for the purpose of recording information on the recording layer so as not to be affected by the thermomagnetic characteristics of the reproducing layer. That is, at the time of recording information, when the temperature of the portion heated by the irradiation of the laser spot of the recording power becomes 250 ° C. or less (the temperature at which the spontaneous magnetization of the recording layer disappears) during the cooling process, the temperature is cut off at 250 ° C. Since the magnetization of the magnetic layer is 0, the magnetization of the recording layer is oriented in the direction of the externally applied magnetic field independently of the reproducing layer. When the temperature is further lowered to 190 ° C. (temperature at which spontaneous magnetization of the blocking magnetic layer disappears) or less, the magnetization direction of the blocking magnetic layer follows the magnetization direction of the recording layer. Therefore, at a transfer temperature of 140 ° C. or more at the time of reproduction, which is 190 ° C. or less, the blocking magnetic layer behaves similarly to the recording layer. As the blocking magnetic layer, other than TbFeCoAl, TbF
eCoNb, TbFeCoCr, TbFeCoNi can be used.

【0043】本第5実施例の光磁気記録媒体について前
記実施例3と同様に再生信号のCNRを測定した結果、
良好なCNRを得られた。また、図10で放熱層の無い
構造の記録媒体を作成して比較したところ、該放熱層の
無い構造の記録媒体よりも本実施例5の記録媒体の方
が、良好なCNRを得られた。再生層等の組成等につい
て説明する。
With respect to the magneto-optical recording medium of the fifth embodiment, the CNR of the reproduced signal was measured in the same manner as in the third embodiment.
A good CNR was obtained. Further, when a recording medium having a structure without a heat dissipation layer was prepared and compared in FIG. 10, a better CNR was obtained with the recording medium of Example 5 than with the recording medium having a structure without the heat dissipation layer. . The composition of the reproduction layer and the like will be described.

【0044】まず、比較例(従来例)、実施例6〜実施
例14の組成等を示す。 比か憂い(従来例) 比較例では、干渉層2が800Å、再生層3が500
Å、記録層4が500Å、保護層5が800Åの膜厚に
各々成膜されている。また、再生層3の組成は、 Gd:Fe:Co=23:65.5:11.5at% であり、記録層4の組成は、 Tb:Fe:Co=26:66:8at% である。 実施例6 実施例6では、干渉層2が800Å、再生層3が500
Å、記録層4が500Å、保護層5が800Åの膜厚に
各々成膜されている。
First, the compositions of the comparative example (conventional example) and Examples 6 to 14 will be shown. In the comparative example, the interference layer 2 is 800 Å and the reproducing layer 3 is 500.
Å, the recording layer 4 is formed in a thickness of 500 Å, and the protective layer 5 is formed in a thickness of 800 Å. The composition of the reproducing layer 3 is Gd: Fe: Co = 23: 65.5: 11.5 at%, and the composition of the recording layer 4 is Tb: Fe: Co = 26: 66: 8 at%. Example 6 In Example 6, the interference layer 2 is 800 Å and the reproduction layer 3 is 500.
Å, the recording layer 4 is formed in a thickness of 500 Å, and the protective layer 5 is formed in a thickness of 800 Å.

【0045】また、再生層3の組成は、 Gd:Fe:Co=31:46:23at% であり、記録層4の組成は、 Tb:Fe:Co=26:66:8at% である。The composition of the reproducing layer 3 is Gd: Fe: Co = 31: 46: 23 at%, and the composition of the recording layer 4 is Tb: Fe: Co = 26: 66: 8 at%.

【0046】即ち、実施例6は、再生層3の組成が、比
較例と異なる。 実施例7 実施例7は、干渉層2、再生層3、記録層4、保護層5
の各膜厚、再生層3の組成、及び記録層4の組成は、実
施例6と同じである。実施例7が実施例6と異なる点
は、干渉層2を成膜した後、その表面をエッチング処理
し、その後に再生層3を成膜している点である。
That is, in Example 6, the composition of the reproducing layer 3 is different from that of the comparative example. Example 7 In Example 7, the interference layer 2, the reproducing layer 3, the recording layer 4, and the protective layer 5 were used.
The respective film thicknesses, the composition of the reproducing layer 3 and the composition of the recording layer 4 are the same as in Example 6. Example 7 is different from Example 6 in that after the interference layer 2 is formed, the surface of the interference layer 2 is etched, and then the reproducing layer 3 is formed.

【0047】エッチング条件は、逆スパッタリング圧力
1.2mTorr、投入電力100W、エッチング時間
20minである。実施例8は、再生層3、記録層4、
保護層5の各膜厚、再生層3の組成、及び記録層4の組
成は、実施例6と同じである。実施例8は、干渉層2の
膜厚が700Åである点で、実施例6と異なる。 実施例9 実施例9は、干渉層2、記録層4、保護層5の各膜厚、
再生層3の組成、及び記録層4の組成は、実施例8と同
じである。
The etching conditions are reverse sputtering pressure of 1.2 mTorr, input power of 100 W and etching time of 20 min. In Example 8, the reproducing layer 3, the recording layer 4,
The respective film thicknesses of the protective layer 5, the composition of the reproducing layer 3, and the composition of the recording layer 4 are the same as in Example 6. Example 8 is different from Example 6 in that the film thickness of the interference layer 2 is 700Å. Example 9 In Example 9, the film thicknesses of the interference layer 2, the recording layer 4, and the protective layer 5 were
The composition of the reproducing layer 3 and the composition of the recording layer 4 are the same as in Example 8.

【0048】実施例9は、再生層3の膜厚が1000Å
である点で、実施例8と異なる。 実施例10 実施例10は、干渉層2、再生層3、記録層4、保護層
5の各膜厚、及び再生層3の組成は、実施例9と同じで
ある。実施例10は、記録層の組成が、 Tb:Fe:Co=25:62:13at% である点で、実施例9と異なる。 実施例11 実施例11は、干渉層2、再生層3、記録層4、保護層
5の各膜厚、及び記録層4の組成は、実施例10と同じ
である。
In Example 9, the thickness of the reproducing layer 3 was 1000Å.
Is different from Example 8. Example 10 In Example 10, the film thicknesses of the interference layer 2, the reproducing layer 3, the recording layer 4, the protective layer 5, and the composition of the reproducing layer 3 are the same as in Example 9. Example 10 differs from Example 9 in that the composition of the recording layer is Tb: Fe: Co = 25: 62: 13 at%. Example 11 In Example 11, the film thicknesses of the interference layer 2, the reproducing layer 3, the recording layer 4 and the protective layer 5, and the composition of the recording layer 4 are the same as in Example 10.

【0049】実施例11は、再生層の組成が、 Gd:Fe:Co=34:44:22at% である点で、実施例10と異なる。 実施例12 実施例12は、干渉層2、再生層3、記録層4、保護層
5の各膜厚、再生層3の組成、及び記録層4の組成は、
実施例11と同じである。
Example 11 differs from Example 10 in that the composition of the reproducing layer is Gd: Fe: Co = 34: 44: 22 at%. Example 12 In Example 12, the thicknesses of the interference layer 2, the reproducing layer 3, the recording layer 4, and the protective layer 5, the composition of the reproducing layer 3, and the composition of the recording layer 4 were as follows.
Same as Example 11.

【0050】実施例12が実施例11と異なる点は、干
渉層2を成膜した後、その表面をエッチング処理し、そ
の後に再生層3を成膜している点である。エッチングパ
ワーは、0.05W/cm2である。 実施例13 実施例13は、干渉層2、再生層3、記録層4、保護層
5の各膜厚、再生層3の組成、記録層4の組成、及び、
0.05W/cm2のエッチングパワーで干渉層2の表面
をエッチング処理した後に再生層3を成膜している点
は、実施例12と同じである。
The difference of Example 12 from Example 11 is that after the interference layer 2 is formed, the surface of the interference layer 2 is etched, and then the reproducing layer 3 is formed. The etching power is 0.05 W / cm 2 . Example 13 In Example 13, the film thicknesses of the interference layer 2, the reproducing layer 3, the recording layer 4, and the protective layer 5, the composition of the reproducing layer 3, the composition of the recording layer 4, and
As in Example 12, the reproducing layer 3 was formed after the surface of the interference layer 2 was etched with an etching power of 0.05 W / cm 2 .

【0051】実施例13が実施例12と異なる点は、保
護層5の上に、200Åの厚さでAlの放熱層を設けて
いる点である。 実施例14 実施例14は、干渉層2、再生層3、記録層4、保護層
5の各膜厚、再生層3の組成、及び記録層4の組成は、
実施例11と同じである。
The thirteenth embodiment differs from the twelfth embodiment in that an Al heat dissipation layer having a thickness of 200 Å is provided on the protective layer 5. Example 14 In Example 14, the film thicknesses of the interference layer 2, the reproducing layer 3, the recording layer 4, and the protective layer 5, the composition of the reproducing layer 3, and the composition of the recording layer 4 were as follows.
Same as Example 11.

【0052】実施例14が実施例11と異なる点は、実
施例14の再生層3の成膜時のスパッタガス圧力が3.
5mTorrであるのに対して、実施例11の再生層3
の成膜時のスパッタガス圧力が7mTorrである点で
ある。次に、上述の比較例と、実施例6〜実施例14の
各光磁気記録媒体について、種々の特性を比較して示
す。 実施例6と比較例 図12は、比較例と実施例6のカー回転角の温度特性図
である。
Example 14 is different from Example 11 in that the sputtering gas pressure at the time of forming the reproduction layer 3 of Example 14 is 3.
The reproduction layer 3 of Example 11 is 5 mTorr.
The point is that the sputtering gas pressure during film formation is 7 mTorr. Next, various characteristics of the magneto-optical recording media of Examples 6 to 14 will be compared and shown. Example 6 and Comparative Example FIG. 12 is a temperature characteristic diagram of the Kerr rotation angle of Comparative Example and Example 6.

【0053】実施例6の光磁気記録媒体の再生層が垂直
磁化膜になる温度(転写温度)は140℃、キュリー温
度は350℃であった。これに対して、比較例のキュリ
ー温度は300℃であった。基板1側からレーザスポッ
トを入射させて再生層3を転写温度まで昇温させると、
該転写温度(実施例では140℃)をこえた部位で、記
録層4の磁化の方向が再生層3に転写される。
The temperature (transfer temperature) at which the reproducing layer of the magneto-optical recording medium of Example 6 became a perpendicular magnetic film was 140 ° C., and the Curie temperature was 350 ° C. On the other hand, the Curie temperature of the comparative example was 300 ° C. When a laser spot is made incident from the substrate 1 side to raise the temperature of the reproducing layer 3 to the transfer temperature,
The direction of the magnetization of the recording layer 4 is transferred to the reproducing layer 3 at a portion exceeding the transfer temperature (140 ° C. in the embodiment).

【0054】図13は、実施例6と比較例の各キュリー
温度付近でのカーループを示す。図示のように、比較例
の280℃の温度下での飽和磁界は約500Oeであ
り、実施例6の330℃の温度下での飽和磁界は約10
0Oeである。キュリー温度より若干低い温度(実施例
6では330℃、比較例では280℃)での飽和磁界の
大きさは、記録時に必要な外部印加磁界の大きさに関連
する。即ち、飽和磁界が大きくなるほど、記録時に必要
な外部印加磁界も大きくなってくる。
FIG. 13 shows the Kerr loops around Curie temperatures of Example 6 and Comparative Example. As illustrated, the saturation magnetic field at a temperature of 280 ° C. of the comparative example is about 500 Oe, and the saturation magnetic field at a temperature of 330 ° C. of Example 6 is about 10
It is 0 Oe. The magnitude of the saturation magnetic field at a temperature slightly lower than the Curie temperature (330 ° C. in Example 6 and 280 ° C. in Comparative Example) is related to the magnitude of the externally applied magnetic field required for recording. That is, as the saturation magnetic field increases, the externally applied magnetic field required for recording also increases.

【0055】図14は、実施例6と比較例の磁界変調記
録特性図である。図示のように、比較例では、500O
e以上の外部磁界を印加しなければ記録を行うことがで
きなかった。これに対して、実施例6では、外部印加磁
界が±200Oe程度でCNRを飽和させることができ
た。また、外部印加磁界が±80Oe程度と低い場合で
も記録が可能であった。
FIG. 14 is a magnetic field modulation recording characteristic diagram of Example 6 and a comparative example. As shown, in the comparative example, 500O
Recording could not be performed unless an external magnetic field of e or more was applied. On the other hand, in Example 6, the CNR could be saturated when the externally applied magnetic field was about ± 200 Oe. Recording was possible even when the externally applied magnetic field was as low as about ± 80 Oe.

【0056】実施例6において、再生層中のCo組成比
を50at%より大きくすると、温度を上昇させても垂
直磁化膜にならず、本発明の目的を達成することはでき
なかった。また、実施例6では再生層をGdFeCoで
構成しているが、再生層を他の元素、例えば、GdFe
CoCr,GdFeCoNi,GdFeCoTi,Gd
FeCoAl,GdFeCoMn等の4元系材料で構成
した場合や、GdFeCoNiCr、GdFeCoAl
Ti等の5元系材料で構成した場合も、実施例6と同様
の効果を得ることができた。 実施例6と実施例7 図15は、実施例6と実施例7の干渉層(下地層)2の
各表面を、各々原子間力顕微鏡で観察した像である。実
施例7の場合、干渉層2の表面が実施例6よりも平滑化
されているのが判る。このため、逆スパッタリングのエ
ッチング処理により平滑化された表面上に成膜される再
生層3と記録層4のピンニング力が低下して、磁壁が動
き易くなっている。
In Example 6, if the Co composition ratio in the reproducing layer was set to be greater than 50 at%, a perpendicularly magnetized film was not formed even if the temperature was raised, and the object of the present invention could not be achieved. Although the reproducing layer is made of GdFeCo in Example 6, the reproducing layer is made of another element such as GdFe.
CoCr, GdFeCoNi, GdFeCoTi, Gd
When composed of a quaternary material such as FeCoAl, GdFeCoMn, or GdFeCoNiCr, GdFeCoAl
The same effect as in Example 6 could be obtained even when the material was made of a quinary material such as Ti. Example 6 and Example 7 FIG. 15 is an image of each surface of the interference layer (underlayer) 2 of Example 6 and Example 7 observed by an atomic force microscope. In the case of Example 7, it can be seen that the surface of the interference layer 2 is smoother than that of Example 6. For this reason, the pinning force of the reproducing layer 3 and the recording layer 4 formed on the surface smoothed by the etching process of the reverse sputtering is reduced, and the domain wall is easily moved.

【0057】図16は、実施例6と実施例7の磁界変調
記録特性図(外部印加磁界に対する際栄信号のCNR)
である。図示のように、実施例6では、外部印加磁界が
±80Oe程度から記録を行うことができるのに対し
て、実施例7では、外部印加磁界が±50Oeと、更に
低い外部印加磁界で記録が可能となっているのが判る。
これは、下地層2の表面をエッチング処理で平滑化した
後に、再生層を成膜したことによる効果であると考えら
れる。 実施例6と実施例8 図40は、実施例6と実施例8の磁界変調記録特性図
(外部印加磁界に対する再生信号のCNR)である。図
示のように、実施例8では、実施例6と同様に、外部印
加磁界が±80Oe程度から記録を行うことができるの
に加えて、記録特性が更に向上しているのが判る。これ
は、干渉層2を実施例6よりも若干薄く形成したことに
よる効果であると考えられる。なお、干渉層2の膜厚が
600Å〜800Åの範囲で、良好な特性を示すことが
確認された。 実施例8と実施例9 図41は、実施例8と実施例9の再生特性図(再生レー
ザパワーに対する再生信号のCNR)である。図示のよ
うに、再生時のレーザパワー=1.5mW付近を境とし
て、実施例9ではCNRが急峻に変化しており、実施例
8の場合よりも厚い1000Åに設定したことによる効
果でると考えられる。このように、再生信号のCNR
が、再生時のレーザパワーの或る値(実施例9では1.
5mW付近)を境として急峻に変化する効果は、再生層
3の膜厚を800Å〜1200Åの範囲に設定した場合
に、十分に得られることが確認された。 実施例9と実施例10 図42は、実施例9と実施例10の記録特性図(記録レ
ーザパワーに対する再生信号のCNR)であり、再生信
号のレーザパワーは1.5mWである。図示のように、
記録層4のCoの組成を変えた実施例10では、記録信
号のレーザパワーが3mW(≫1.5mW=再生レーザ
パワー)より低くなると、再生信号のCNRが十分に低
下する。これに対して、実施例9では、記録信号のレー
ザパワーが2mW(>1.5mW=再生レーザパワー)
より低くなって、初めて、再生信号のCNRが十分に低
下する。つまり、再生用レーザパワーの照射によって既
記録の信号に悪影響が現れてしまう可能性は、実施例1
0の方が実施例9よりも小さい。これは、実施例10の
方が、実施例9よりも、記録層4のCoの組成を大きく
設定したことによる効果であると考えられる。なお、こ
のような効果は、記録層4のCoの組成を10at%〜
16at%の範囲に設定した場合について、十分に得ら
れることが確認された。 実施例10と実施例11 図43は、実施例10と実施例11の再生特性図(再生
レーザパワーに対する再生信号のCNR)である。図示
のように、再生時のレーザパワー=1.5mW付近を境
として、実施例11ではCNRが急峻に変化しており、
実施例10よりも良好な特性を示している。これは、再
生層3のGdの組成を、実施例10の場合よりも大きい
34at%に設定したことによる効果であると考えられ
る。このように、再生信号のCNRが、再生時のレーザ
パワーの或る値(実施例9では1.5mW付近)を境と
して急峻に変化する効果は、再生層3のGdの組成を3
0at%〜36at%の範囲に設定した場合に、十分に
得られることが確認された。 エッチングパワー 図44は、干渉層2の表面にエッチング処理を施す場合
について、エッチングパワーを変えて、表面の平滑さを
比較した特性図である。図示のように、エッチングパワ
ーを、0.05W/cm2にすると、10min以上エッ
チング処理を行うことで、所望の平滑さを得ることが確
認された。 実施例11と実施例12 図45は、実施例11と実施例12について、記録ドメ
イン長に対する再生信号のCNRを示す特性図である。
図示のように、実施例12では、記録ドメイン長が一層
短い場合でも、良好なCNRを得られた。これは、エッ
チング処理により干渉層2の表面が平滑化された結果、
磁壁の移動が容易となって、実施例11の場合よりも安
定したドメインが形成されたためと考えられる。 実施例13 図46は、実施例12の光磁気記録媒体について保護層
5の上にAlの放熱層を設け、その放熱層の厚さに対す
る再生信号のCNRを測定した特性図である。なお、記
録ドメイン長は、0.5μm、1.5μmとした。図示の
ように、Alの放熱層の厚さを、200Å〜500Åの
範囲に設定することで、良好な特性を得られることが判
る。なお、200Åの放熱層は、実施例13に相当す
る。 実施例11と実施例14 図47は、実施例11と実施例14の再生特性図(再生
レーザパワーに対する再生信号のCNR)である。図示
のように、再生時のレーザパワー=1.5mW付近を境
として、何れも再生信号のCNRが急峻に変化してお
り、良好な特性が得られていることが判る。このような
良好な特性は、再生層3の成膜時のスパッタガス圧力を
2mTorr〜7mTorrの範囲に設定した場合に、
十分に得られることが確認された。
FIG. 16 is a characteristic diagram of magnetic field modulation recording of Example 6 and Example 7 (CNR of honor signal with respect to externally applied magnetic field).
It is. As shown in the figure, in Example 6, recording can be performed from an externally applied magnetic field of about ± 80 Oe, whereas in Example 7, recording can be performed with an externally applied magnetic field of ± 50 Oe, which is lower. You can see that it is possible.
This is considered to be due to the effect of forming the reproduction layer after smoothing the surface of the underlayer 2 by etching. Example 6 and Example 8 FIG. 40 is a magnetic field modulation recording characteristic diagram (CNR of a reproduced signal with respect to an externally applied magnetic field) of Example 6 and Example 8. As shown in the figure, in Example 8, as in Example 6, it is possible to perform recording from an externally applied magnetic field of about ± 80 Oe and further improve the recording characteristics. This is considered to be due to the fact that the interference layer 2 was formed to be slightly thinner than that of Example 6. It was confirmed that the interference layer 2 showed good characteristics when the film thickness was in the range of 600Å to 800Å. Example 8 and Example 9 FIG. 41 is a reproduction characteristic diagram (CNR of a reproduced signal with respect to reproduction laser power) of Example 8 and Example 9. As shown in the figure, the CNR sharply changes in Example 9 when the laser power at the time of reproduction is around 1.5 mW, which is considered to be due to the effect of setting 1000 Å, which is thicker than that in Example 8. To be In this way, the CNR of the reproduced signal
However, a certain value of laser power during reproduction (1.
It was confirmed that the effect of abruptly changing at a boundary of about 5 mW) was sufficiently obtained when the thickness of the reproducing layer 3 was set in the range of 800 Å to 1200 Å. Example 9 and Example 10 FIG. 42 is a recording characteristic diagram (CNR of reproduced signal with respect to recording laser power) of Example 9 and Example 10, and the laser power of the reproduced signal was 1.5 mW. As shown,
In Example 10 in which the Co composition of the recording layer 4 was changed, when the laser power of the recording signal was lower than 3 mW (>> 1.5 mW = reproducing laser power), the CNR of the reproducing signal was sufficiently lowered. On the other hand, in Example 9, the laser power of the recording signal was 2 mW (> 1.5 mW = reproducing laser power).
Only then does the CNR of the reproduced signal drop sufficiently. That is, there is a possibility that irradiation of the reproducing laser power may adversely affect the recorded signal.
0 is smaller than that in Example 9. This is considered to be the effect of setting the Co composition of the recording layer 4 to be larger in Example 10 than in Example 9. In addition, such an effect is obtained by changing the composition of Co of the recording layer 4 from 10 at% to
It was confirmed that sufficient results were obtained when the range was set to 16 at%. Example 10 and Example 11 FIG. 43 is a reproduction characteristic diagram (CNR of a reproduction signal with respect to reproduction laser power) of Example 10 and Example 11. As shown in the drawing, the CNR sharply changes in Example 11 with the laser power at the time of reproduction being close to 1.5 mW as a boundary,
The characteristics are better than those of Example 10. This is considered to be due to the effect of setting the Gd composition of the reproducing layer 3 to 34 at%, which is larger than that in the tenth embodiment. As described above, the effect that the CNR of the reproduction signal sharply changes at a certain value of the laser power at the time of reproduction (around 1.5 mW in Example 9) is due to the composition of Gd of the reproduction layer 3 being 3
It was confirmed that when it was set in the range of 0 at% to 36 at%, it was sufficiently obtained. Etching Power FIG. 44 is a characteristic diagram comparing the smoothness of the surface by changing the etching power in the case where the surface of the interference layer 2 is etched. As shown in the figure, it was confirmed that when the etching power was set to 0.05 W / cm 2 , the desired smoothness was obtained by performing the etching treatment for 10 minutes or longer. Example 11 and Example 12 FIG. 45 is a characteristic diagram showing the CNR of a reproduced signal with respect to the recording domain length for Example 11 and Example 12.
As shown, in Example 12, good CNR was obtained even when the recording domain length was shorter. This is because the surface of the interference layer 2 is smoothed by the etching process.
It is considered that the domain walls were easily moved, and more stable domains were formed than in the case of Example 11. Example 13 FIG. 46 is a characteristic diagram of the magneto-optical recording medium of Example 12 in which a heat dissipation layer of Al was provided on the protective layer 5 and the CNR of the reproduction signal with respect to the thickness of the heat dissipation layer was measured. The recording domain length was 0.5 μm and 1.5 μm. As shown in the figure, it can be seen that good characteristics can be obtained by setting the thickness of the Al heat dissipation layer in the range of 200Å to 500Å. The 200 Å heat dissipation layer corresponds to Example 13. Example 11 and Example 14 FIG. 47 is a reproduction characteristic diagram (CNR of a reproduction signal with respect to reproduction laser power) of Example 11 and Example 14. As shown in the figure, the CNR of the reproduced signal changes sharply in all cases, with the laser power at the time of reproduction being around 1.5 mW, and it can be seen that good characteristics are obtained. Such good characteristics are obtained when the sputtering gas pressure at the time of forming the reproduction layer 3 is set in the range of 2 mTorr to 7 mTorr.
It was confirmed that it was sufficiently obtained.

【0058】このように、先述の実施例6の効果は、干
渉層2の表面状態を0.02W/cm2〜0.08W/c
2の範囲のエッチングパワーのエッチング処理により
平滑化したり、干渉層2の膜厚を600Å〜800Åの
範囲で変えたり、再生層の膜厚を800Å〜1200Å
の範囲で変えたり、記録層の組成においてCoの含有率
を10at%〜16at%の範囲で変えたり、再生層の
組成においてGdの含有率を30at%〜36at%の
範囲で変えたり、保護層5の上にAlの放熱層を200
Å〜500Åの範囲で形成したり、再生層成膜時のスパ
ッタガス圧力を2mTorr〜7mTorrの範囲で変
えた場合にも、同様に、若しくは、より優れて、得るこ
とができる。 実施例15 本実施例においては、光磁気記録媒体用の基板、記録条
件等について、図及び表を参照しつつ説明する。本発明
に係る光磁気ディスクは磁性層が垂直磁化膜である記録
層と室温で面内磁化膜である再生層から成り、レーザ光
照射時に記録層の磁化が再生層へ転写されることにより
記録情報の再生が可能な光磁気記録媒体(以下、超解像
光磁気記録媒体という)に関するものであり、高密度な
記録・再生が可能な光磁気記録媒体である。図17は本
実施例における光磁気記録媒体11の断面構造を示した
図であり、透光性ポリカーボネート基板1上に干渉層2
を形成し、該干渉層2上に再生層3、記録層4、保護層
5、放熱層6、紫外線硬化樹脂7を順次堆積した構造で
ある。
As described above, the effect of Example 6 is that the surface state of the interference layer 2 is 0.02 W / cm 2 to 0.08 W / c.
Smoothing by etching treatment with an etching power in the range of m 2 , changing the film thickness of the interference layer 2 in the range of 600Å to 800Å, and changing the film thickness of the reproducing layer from 800Å to 1200Å
The content of Co in the composition of the recording layer in the range of 10 at% to 16 at%, the content of Gd in the composition of the reproducing layer in the range of 30 at% to 36 at%, and the protective layer. Al heat dissipation layer on top of 5
The same or even better can be obtained when the film is formed in the range of Å to 500 Å, or when the sputtering gas pressure during film formation of the reproducing layer is changed in the range of 2 mTorr to 7 mTorr. Example 15 In this example, a substrate for a magneto-optical recording medium, recording conditions and the like will be described with reference to the drawings and tables. The magneto-optical disk according to the present invention comprises a recording layer whose magnetic layer is a perpendicularly magnetized film and a reproducing layer which is an in-plane magnetized film at room temperature, and the magnetization of the recording layer is transferred to the reproducing layer at the time of laser light irradiation for recording. The present invention relates to a magneto-optical recording medium capable of reproducing information (hereinafter referred to as a super-resolution magneto-optical recording medium), and is a magneto-optical recording medium capable of high-density recording / reproducing. FIG. 17 is a view showing a cross-sectional structure of the magneto-optical recording medium 11 in this example, in which the interference layer 2 is formed on the translucent polycarbonate substrate 1.
And a reproducing layer 3, a recording layer 4, a protective layer 5, a heat dissipation layer 6, and an ultraviolet curable resin 7 are sequentially deposited on the interference layer 2.

【0059】まず、光磁気ディスク11の作製について
述べる。本発明の光磁気ディスクの作製工程を図18に
示す。透光性ポリカーボネート基板1を射出成形し、該
透光性ポリカーボネート基板1上にSiNを堆積した
後、該SiNをプラズマによりエッチングする。その後
は上記のように再生層3等を順次堆積する。本実施例に
おいては、従来、超解像光磁気記録媒体用基板として通
常用いられていたガラス基板に替えてポリカーボネート
基板を用いている。そこで、透光性ポリカーボネート基
板の射出成形について述べる。透光性ポリカーボネート
基板の射出成形には図19に示すように金型温度1t、
型締圧力2p、樹脂射出速度3v、加熱筒温度4t、及
び冷却時間が大きな影響を与えるが、本実施例では、ト
ラックピッチ1.4、1.2、1.0、0.8μm、グルー
ブとランドの幅を1:1とし、それぞれ図11の実施例
1、2、3及び4の条件で成形した。即ち、金型温度:
118〜125℃、型締圧力:180〜220kg/c
2、樹脂射出速度150〜200(mm/s)、加熱筒
温度:310〜340℃、冷却時間:9〜13秒の条件
で射出成形を行った。成形した基板の転写率をスタンパ
のグルーブ深さに対する透光性ポリカーボネート基板の
グルーブの深さの比で表すと、いずれの条件においても
90%以上と高い転写率が得られた。各条件で成形した
基板の表面状態を原子間力電子顕微鏡(AFM)で測定
し、AFMデータよりグルーブとランドのコーナーでの
曲率半径等を算出した結果を図28に示す。その結果、
各トラックピッチにおいて曲率半径は35〜50nmで
あり、複屈折の絶対値の最大値は20〜25nmであ
り、複屈折の変動は8〜10nmと良好であった。ま
た、成形したポリカーボネート基板の表面粗さは10〜
50nmと良好であった。特に、本実施例で用いている
1.4μmのトラックピッチにおいては、曲率半径が3
5nm、複屈折の絶対値の最大値は22nmであり、且
つ、周方向の変動は8nmと良好であった。尚、複屈折
は波長633nmのHe−Neレーザを用いてダブルパ
スで測定した。
First, the production of the magneto-optical disk 11 will be described. FIG. 18 shows the manufacturing process of the magneto-optical disk of the present invention. The transparent polycarbonate substrate 1 is injection-molded, SiN is deposited on the transparent polycarbonate substrate 1, and then the SiN is etched by plasma. After that, the reproduction layer 3 and the like are sequentially deposited as described above. In this embodiment, a polycarbonate substrate is used in place of the glass substrate that is conventionally used as a substrate for super-resolution magneto-optical recording medium. Therefore, the injection molding of the translucent polycarbonate substrate will be described. For injection molding of the translucent polycarbonate substrate, as shown in FIG.
The mold clamping pressure 2p, resin injection speed 3v, heating cylinder temperature 4t, and cooling time have great influences, but in this embodiment, the track pitch is 1.4, 1.2, 1.0, 0.8 μm, and groove. The width of the land was set to 1: 1 and molding was performed under the conditions of Examples 1, 2, 3 and 4 in FIG. That is, mold temperature:
118 to 125 ° C, mold clamping pressure: 180 to 220 kg / c
Injection molding was performed under the conditions of m 2 , resin injection speed of 150 to 200 (mm / s), heating cylinder temperature: 310 to 340 ° C., cooling time: 9 to 13 seconds. When the transfer rate of the molded substrate was expressed by the ratio of the groove depth of the translucent polycarbonate substrate to the groove depth of the stamper, a high transfer rate of 90% or more was obtained under any condition. The surface state of the substrate molded under each condition was measured by an atomic force electron microscope (AFM), and the radius of curvature at the corner of the groove and the land was calculated from the AFM data. The results are shown in FIG. as a result,
At each track pitch, the radius of curvature was 35 to 50 nm, the maximum absolute value of birefringence was 20 to 25 nm, and the fluctuation of birefringence was 8 to 10 nm, which was good. The surface roughness of the molded polycarbonate substrate is 10 to 10.
It was as good as 50 nm. Particularly, at the track pitch of 1.4 μm used in this embodiment, the radius of curvature is 3
5 nm, the maximum absolute value of birefringence was 22 nm, and the fluctuation in the circumferential direction was 8 nm, which was good. The birefringence was measured by a double pass using a He-Ne laser with a wavelength of 633 nm.

【0060】次に、射出成形した前記ポリカーボネート
基板上に干渉層2としてSiN膜をRFスパッタ法によ
り図34に示す条件で700Å堆積した。該SiN堆積
後、プラズマエッチングによるSiN膜表面の平坦化の
後、再生層3としてGdxFe 100-(x+y)Coyを1000
Å、記録層4としてTbxFe100-(x+y)Coyを500
Å、保護膜5としてSiN膜を800Å、放熱層6とし
てAlを500Å、紫外線硬化樹脂7を10μm堆積し
た。
Next, the injection-molded polycarbonate
A SiN film is formed as an interference layer 2 on the substrate by the RF sputtering method.
700 Å was deposited under the conditions shown in FIG. The SiN deposition
After that, the surface of the SiN film is planarized by plasma etching.
After that, Gd is used as the reproduction layer 3.xFe 100- (x + y)CoyTo 1000
Å, Tb as recording layer 4xFe100- (x + y)CoyTo 500
Å, SiN film is 800 Å as the protective film 5, and heat dissipation layer 6 is
And Al of 500Å and UV curable resin 7 of 10 μm are deposited.
Was.

【0061】干渉層2としてのSiNは図34に示す条
件のうちRFパワー:500W、Ar圧力:5mTor
rの条件がより望ましい。前記再生層3としてのGdxF
100-(x+y)CoyはRF2元マグネトロンスパッタ法に
より図31に示す条件で堆積した。図31のうち、RF
パワー:Gd;70W、FeCo;200W、Ar圧
力:7mTorrの条件がより望ましい。また、GdxF
100-(x+y)Coyの組成はx:25〜35、y:0〜4
0の範囲で本発明による光磁気記録媒体に適しており、
望ましくはx:30、y:40である。
SiN as the interference layer 2 is RF power: 500 W, Ar pressure: 5 mTor under the conditions shown in FIG.
The condition of r is more desirable. Gd x F as the reproduction layer 3
e100- (x + y) Co y was deposited under the conditions shown in FIG. 31 by the RF binary magnetron sputtering method. RF in FIG. 31
The conditions of power: Gd; 70 W, FeCo; 200 W, Ar pressure: 7 mTorr are more desirable. Also, Gd x F
The composition of e 100- (x + y) Co y is x: 25 to 35, y: 0 to 4
The range of 0 is suitable for the magneto-optical recording medium according to the present invention,
Desirably, it is x: 30 and y: 40.

【0062】前記記録層4としてのTbxFe100-(x+y)C
yはRFマグネトロンスパッタ法により図30に示す
条件で堆積した。図30に示す条件のうち、RFパワ
ー:500W、Ar圧力:5mTorrの条件がより望
ましい。また、TbxFe100-(x +y)Coyの組成はx:1
5〜35、y:5〜30の範囲で本発明による光磁気記
録媒体に適しており、望ましくはx:22.5、y:1
4.5である。 前記保護膜5としてのSiNはRFマ
グネトロンスパッタ法により図34に示す条件で堆積し
た。図34に示す条件のうち、RFパワー:500W、
Ar圧力:5mTorrの条件がより望ましい。
Tb x Fe 100- (x + y) C as the recording layer 4
O y was deposited by the RF magnetron sputtering method under the conditions shown in FIG. Among the conditions shown in FIG. 30, the condition of RF power: 500 W and Ar pressure: 5 mTorr is more desirable. The composition of Tb x Fe 100- (x + y) Co y is x: 1.
The range of 5 to 35 and y: 5 to 30 is suitable for the magneto-optical recording medium according to the present invention, preferably x: 22.5, y: 1.
It is 4.5. SiN as the protective film 5 was deposited by the RF magnetron sputtering method under the conditions shown in FIG. Of the conditions shown in FIG. 34, RF power: 500 W,
Ar pressure: more preferably 5 mTorr.

【0063】前記放熱層6としてのAlはRFマグネト
ロンスパッタ法によりAl−Ti若しくはAl−Mn若
しくはAl−Nb等のAl合金をターゲットとして図2
9に示す条件で堆積した。図29に示す条件のうちRF
パワー:800W、Ar圧力:5mTorrの条件がよ
り望ましい。このとき、Alの成膜レートは100Å/
分程度である。また、本実施例における前記放熱層6と
してしてはAlに限られるものではなくAu、Pt、T
i、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、
Mo、Ag、Sn、Sb、Wであってもよい。また、前
記元素の単体のみならず、任意の組み合わせの合金を用
いても良い。
As the heat dissipation layer 6, Al is a target of an Al alloy such as Al-Ti, Al-Mn, or Al-Nb by the RF magnetron sputtering method.
It was deposited under the conditions shown in FIG. RF among the conditions shown in FIG.
The conditions of power: 800 W and Ar pressure: 5 mTorr are more desirable. At this time, the deposition rate of Al is 100Å /
Minutes. Further, the heat dissipation layer 6 in the present embodiment is not limited to Al, but Au, Pt, T
i, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn,
It may be Mo, Ag, Sn, Sb, or W. Further, not only the simple substance of the above elements, but also an alloy of any combination may be used.

【0064】前記保護層6上には紫外線硬化樹脂7を通
常の方法で形成する。次に、上記の如く作成した光磁気
記録媒体の記録/再生について述べる。従来の一定強度
のレーザ光を照射した記録方式に替えて図20に示すよ
うにレーザ光をパルス化したパルス変調方式を採用し
た。図21に記録装置のブロック図を示す。記録信号は
同期パルス発生/位相遅延回路20に入り、まず、記録
信号に同期するデューティ:50%の信号に変換され、
次に、位相を0〜60ns遅らせたパルス信号に変換さ
れる。該パルス信号はパルス幅変更回路19に入り、デ
ューティ:20〜60%のパルス信号に変更された後、
半導体レーザ駆動回路18に導入される。該半導体レー
ザ駆動回路18は所定のデューティに変更されたパルス
信号により半導体レーザ15をON/OFFし、パルス
化されたレーザ光がミラー14、対物レンズ21を介し
て光磁気記録媒体11に照射される。また、記録信号は
そのまま磁気ヘッド駆動回路17へ送られ、該磁気ヘッ
ド駆動回路17は入力された記録信号に応じて磁気ヘッ
ドを駆動させ、各記録信号が光磁気記録媒体に記録され
る。
An ultraviolet curable resin 7 is formed on the protective layer 6 by a usual method. Next, recording / reproducing of the magneto-optical recording medium prepared as described above will be described. Instead of the conventional recording method of irradiating a constant intensity laser beam, a pulse modulation method of pulsing the laser beam as shown in FIG. 20 was adopted. FIG. 21 shows a block diagram of the recording apparatus. The recording signal enters the synchronization pulse generation / phase delay circuit 20, and is first converted into a signal having a duty of 50% in synchronization with the recording signal.
Next, it is converted into a pulse signal whose phase is delayed by 0 to 60 ns. The pulse signal enters the pulse width changing circuit 19 and is changed into a pulse signal with a duty ratio of 20 to 60%.
It is introduced into the semiconductor laser drive circuit 18. The semiconductor laser drive circuit 18 turns on / off the semiconductor laser 15 by a pulse signal changed to a predetermined duty, and the pulsed laser light is applied to the magneto-optical recording medium 11 via the mirror 14 and the objective lens 21. It The recording signal is sent to the magnetic head drive circuit 17 as it is, the magnetic head drive circuit 17 drives the magnetic head according to the input recording signal, and each recording signal is recorded on the magneto-optical recording medium.

【0065】本実施例においては、レーザ光をパルス化
することにより記録信号に対応する印加磁界とパルス化
されたレーザ光の関係は図20に示すようにレーザが2
回ONする間に信号が記録されるという関係になる。従
って、図22に定性的に示すように一定強度のレーザ光
が常時照射された状態で記録する従来の方式(図22
(a))に比べて記録層における均熱領域が狭くなる
(図22(b))。この効果は、レーザ光をパルス化す
る他には記録層の上に放熱層としてAlを堆積すること
によっても得られる(図22(b))。また、放熱層の
形成とレーザ光のパルス化を行うことにより、上記効果
は更に顕著に現れ、均熱領域が狭くなる(図22
(c))。
In the present embodiment, the relationship between the pulsed laser light and the applied magnetic field corresponding to the recording signal by pulsing the laser light is shown in FIG.
The signal is recorded during turning ON. Therefore, as qualitatively shown in FIG. 22, the conventional method of recording while constantly irradiating the laser light of constant intensity (see FIG.
The soaking area in the recording layer is narrower than that in (a)) (FIG. 22 (b)). This effect can be obtained not only by pulsing the laser light but also by depositing Al as a heat dissipation layer on the recording layer (FIG. 22B). Further, by forming the heat dissipation layer and pulsing the laser light, the above effect becomes more remarkable and the soaking area becomes narrower (FIG. 22).
(C)).

【0066】本実施例において光磁気記録媒体への記録
は、図32に示す条件で行った。レーザ波長:680n
m、対物レンズの開口数:0.55、記録線速度:2.0
m/s、記録周波数:2.0MHzは一定である。記録磁
界、記録パワー、光パルスのデューティについては図3
2の条件のうち、それぞれ±200Oe、6mW、40
%が望ましい。
In this example, recording on the magneto-optical recording medium was performed under the conditions shown in FIG. Laser wavelength: 680n
m, numerical aperture of objective lens: 0.55, recording linear velocity: 2.0
m / s, recording frequency: 2.0 MHz is constant. The recording magnetic field, recording power, and duty of the optical pulse are shown in FIG.
Of the two conditions, ± 200 Oe, 6 mW, 40 respectively
% Is desirable.

【0067】放熱層の形成とレーザ光のパルス化によ
り、0.5μmのドメイン長で高密度記録を行った光磁
気記録媒体の再生は図33に示す条件で行った。レーザ
波長:680nm、対物レンズの開口数:0.55、再
生線速度:2.0(±0.1)m/secは一定である。
再生パワーは図33の条件のうち、2.0mW以上が望
ましい。この2.0mW以上の再生パワーは図25に示
す再生パワーと再生時のCNRの関係において、高いC
NRが得られる再生パワーとして決定された。即ち、図
25によれば、再生パワーの上昇とともに再生時のCN
Rは向上し、2.0mW以上では42〜44dBのほぼ
一定のCNRが得られることから2.0mW以上のレー
ザパワーを高CNRが得られる再生パワーとして決定し
た。また、異なる再生線速度においても、同様にして良
好な再生パワーを決定した結果、1.1〜1.3m/se
cの再生線速度においては1.5〜2.2mWの再生パワ
ーが、また、1.5〜1.7m/secの再生線速度にお
いては1.8〜2.7mWの再生パワーが、また、2.9
〜3.1m/secの再生線速度においては2.4〜3.
7mWの再生パワーが、また、4.9〜5.1m/sec
の再生線速度においては3.2〜4.5mWの再生パワー
が、また、8.9〜9.1m/secの再生線速度におい
ては4.0〜6.0mWの再生パワーが、それぞれ、適し
ていることがわかった。また、この記録条件は、上記実
施例1〜実施例14記載の光磁気記録媒体においても適
している。
Reproduction of a magneto-optical recording medium on which high density recording was performed with a domain length of 0.5 μm by forming a heat dissipation layer and pulsing laser light was performed under the conditions shown in FIG. The laser wavelength is 680 nm, the numerical aperture of the objective lens is 0.55, and the reproducing linear velocity is 2.0 (± 0.1) m / sec.
Of the conditions shown in FIG. 33, the reproducing power is preferably 2.0 mW or more. This reproducing power of 2.0 mW or higher has a high C in the relation between the reproducing power and the CNR at the time of reproducing shown in FIG.
The NR was determined as the reproduction power to be obtained. That is, according to FIG. 25, as the reproduction power increases, the CN
Since the R is improved and a CNR of 42 to 44 dB which is almost constant is obtained at 2.0 mW or more, a laser power of 2.0 mW or more was determined as the reproducing power for obtaining a high CNR. Also, as a result of similarly determining good reproduction power at different reproduction linear velocities, 1.1 to 1.3 m / se
At a reproducing linear velocity of c, a reproducing power of 1.5 to 2.2 mW, and at a reproducing linear velocity of 1.5 to 1.7 m / sec, a reproducing power of 1.8 to 2.7 mW, 2.9
At a reproducing linear velocity of up to 3.1 m / sec, 2.4 to 3.
Reproduction power of 7mW, 4.9-5.1m / sec
The reproducing power of 3.2 to 4.5 mW is suitable for the reproducing linear velocity of, and the reproducing power of 4.0 to 6.0 mW is suitable for the reproducing linear velocity of 8.9 to 9.1 m / sec. I found out. Further, this recording condition is also suitable for the magneto-optical recording media described in Examples 1 to 14 above.

【0068】図23、24に上記高密度記録の光磁気記
録媒体の再生特性を示す。図23は、レーザ波長:68
0nm、対物レンズの開口数:0.55、パルス磁界の
パルス幅:500nsec、パルス化したレーザ光のパ
ルス回数:4回の場合の記録時における位相差(パルス
磁界とパルス化したレーザ光との位相差)と再生時のC
NR(キャリアとノイズの比)の関係を示す。パラメー
ターとして記録時のレーザパワーを5.0、5.5、6.
0、6.5mWと変化させた。記録時における位相差0
〜33nsecの範囲において、記録時のレーザパワー
が5.0mWから5.5mWに増加するとCNRが0から
37〜40dBと急激に向上し、記録時のレーザパワー
が5.5から6.5mWへ増加するとともにCNRが徐々
に向上する。記録時のレーザパワー:6.5mWにおい
て43dB程度のCNRが得られた。
23 and 24 show the reproducing characteristics of the above-mentioned magneto-optical recording medium for high density recording. FIG. 23 shows a laser wavelength: 68
0 nm, numerical aperture of objective lens: 0.55, pulse width of pulsed magnetic field: 500 nsec, pulse number of pulsed laser light: 4 phase difference at the time of recording (the difference between the pulsed magnetic field and the pulsed laser light) Phase difference) and C during playback
The relationship of NR (ratio of carrier and noise) is shown. Laser power at the time of recording as a parameter is 5.0, 5.5, 6.
It was changed to 0 and 6.5 mW. No phase difference during recording
In the range of up to 33 nsec, when the recording laser power increases from 5.0 mW to 5.5 mW, the CNR sharply improves from 0 to 37 to 40 dB, and the recording laser power increases from 5.5 to 6.5 mW. As a result, the CNR gradually improves. At the recording laser power: 6.5 mW, a CNR of about 43 dB was obtained.

【0069】また、図24はレーザ波長:680nm、
対物レンズの開口数:0.55、パルス磁界のパルス
幅:500nsec、パルス化したレーザ光のパルス回
数:2回の場合の記録時における位相差(パルス磁界と
パルス化したレーザ光との位相差)と再生時のCNRの
関係を示す。パラメーターとして記録時のレーザパワー
を4.5、5.0、5.5、6.0mWと変化させた。記録
時における位相差0〜60nsecの範囲において、記
録時のレーザパワーが4.5mWから5.0mWに増加す
るとCNRが0から35dB程度に急激に向上し、記録
時のレーザパワーが5.0から6.0mWへ増加するとと
もにCNRが徐々に向上する。記録時のレーザパワー:
6.0mWにおいて最大45dBのCNRが得られた。
Further, FIG. 24 shows a laser wavelength: 680 nm,
Numerical aperture of objective lens: 0.55, pulse width of pulsed magnetic field: 500 nsec, pulse number of pulsed laser light: phase difference at the time of recording (phase difference between pulsed magnetic field and pulsed laser light) ) And CNR at the time of reproduction are shown. As a parameter, the laser power during recording was changed to 4.5, 5.0, 5.5, and 6.0 mW. When the laser power during recording increases from 4.5 mW to 5.0 mW in the phase difference range of 0 to 60 nsec during recording, the CNR sharply improves from 0 to 35 dB, and the laser power during recording increases from 5.0 to 5.0 dB. The CNR gradually improves with an increase to 6.0 mW. Laser power during recording:
A CNR of up to 45 dB was obtained at 6.0 mW.

【0070】図23と図24の比較により、図24は記
録時のレーザ光のパルス回数を4回から2回に減少する
ことにより、再生時に良好なCNRを示す記録時のレー
ザパワーを5.5mWから5.0mWまで低減できること
を示す。再生における前記放熱層の効果は、図26に示
すCNRとドメイン長の関係における従来と本発明の比
較から明らかである。即ち、ドメイン長:0.4〜1.5
μmの範囲において再生時のCNRは本発明において1
〜3dB程度向上する。CNRの向上はドメイン長が短
い方がより顕著であることから、ドメイン長が0.4μ
m以下においても同様の結果が得られる。また、前記記
録層上に前記放熱層を設けることは、ドメイン長の短
い、即ち、高密度光磁気記録媒体の再生に効果があるこ
とがわかった。
By comparing FIG. 23 and FIG. 24, in FIG. 24, the number of laser light pulses at the time of recording is reduced from four to two, so that the laser power at the time of recording showing a good CNR is 5. It shows that it can be reduced from 5 mW to 5.0 mW. The effect of the heat dissipation layer in reproduction is clear from the comparison between the conventional and the present invention in the relationship between CNR and domain length shown in FIG. That is, domain length: 0.4 to 1.5
In the present invention, the CNR during reproduction in the μm range is 1 in the present invention.
About 3 dB. The improvement of CNR is more remarkable when the domain length is shorter, so the domain length is 0.4μ.
Similar results are obtained when m or less. Further, it has been found that providing the heat dissipation layer on the recording layer is effective for reproducing a short domain length, that is, a high density magneto-optical recording medium.

【0071】また、前記放熱層6としてのAlの膜厚
は、500Åに限定されるものではなく、200Å〜1
000Åの範囲であれば良い。この膜厚の範囲は図35
に示すAlの膜厚と再生分解能との関係から決定した。
即ち、Alの膜厚の増加とともに再生分解能が向上し、
200Å以上でほぼ一定となることから決定した。 実施例16 本実施例においては、光磁気記録媒体の前記記録層4に
ついて、図36,図37,図38,図39,図49を参
照しつつ説明する。図36は本実施例の光磁気ディスク
の断面構造を示す。その作製は、次の工程により行っ
た。まず、ポリカーボネート基板31上に通常の光磁気
ディスクと同じくSiN層32を保護膜と光学エンハン
スを兼ねて800Åスパッタ成膜した後、Gd30Fe55C
1533を500Å、Mnターゲット上にCrとSbチッ
プを載せた複合ターゲットにより(Mn80Cr20)2Sb3
4を1000Åスパッタして形成した。次に、その上に
保護層としてSiN35を800Åスパッタ成膜した
後、さらに紫外線硬化樹脂36を10μmスピンコート
して形成した。これらの各層のスパッタ条件を表1に示
す。図49に示した条件の中で、SiN層32を形成す
るにはアルゴンガス圧力:0.4Pa,投入電力:30
0Wの条件、Gd30Fe55Co1533を形成するにはアルゴ
ンガス圧力:0.67Pa,投入電力:400Wの条
件、(Mn80Cr20) 2Sb34を形成するにはアルゴンガ
ス圧力:0.67Pa,投入電力:350Wの条件、S
iN35を形成するにはアルゴンガス圧力:0.4P
a,投入電力:300Wの条件がそれぞれ最適である。
また、紫外線硬化樹脂36は、滴下量:5cc,スピン
条件(中速:100rpm,2秒、高速:900rp
m,3秒)、露光時間:ハロゲン1kW,5秒の条件の
みでスピンコートした。作製した(Mn80Cr20)2Sb3
4は反強磁性から強磁性への転移を有する磁性膜であ
り、Gd30Fe55Co1533は室温で面内磁化膜である。
Further, the film thickness of Al as the heat dissipation layer 6
Is not limited to 500Å, but 200Å ~ 1
It may be in the range of 000Å. This film thickness range is shown in FIG.
It was determined from the relationship between the Al film thickness and the reproduction resolution shown in.
That is, as the Al film thickness increases, the reproduction resolution improves,
It was decided because it becomes almost constant above 200Å. Example 16 In this example, the recording layer 4 of the magneto-optical recording medium was formed.
See FIGS. 36, 37, 38, 39, and 49.
I will explain while illuminating FIG. 36 shows the magneto-optical disk of this embodiment.
The cross-sectional structure of The production is performed by the following steps
Was. First, a normal magneto-optical image is formed on the polycarbonate substrate 31.
Like the disc, the SiN layer 32 is used as a protective film and optical enhancer.
After forming a 800 Å sputter film as a double layer, Gd30Fe55C
oFifteen33 Å 500 Å, Cr and Sb on the Mn target
(Mn80Cr20)TwoSb3
4 was formed by sputtering 1000 Å. Then on it
SiN35 was deposited as a protective layer by 800Å sputtering.
After that, the UV curable resin 36 is further spin-coated to 10 μm
Formed. Table 1 shows the sputtering conditions for each of these layers.
You. The SiN layer 32 is formed under the conditions shown in FIG.
Argon gas pressure: 0.4 Pa, input power: 30
0W condition, Gd30Fe55CoFifteenArgo to form 33
Gas pressure: 0.67 Pa, input power: 400 W
, (Mn80Cr20) TwoArgon gas to form Sb34
Pressure: 0.67 Pa, input power: 350 W, S
Argon gas pressure for forming iN35: 0.4P
a, input power: 300 W is optimal.
Further, the ultraviolet curable resin 36 is a dripping amount: 5 cc, spin
Conditions (medium speed: 100 rpm, 2 seconds, high speed: 900 rp
m, 3 seconds), exposure time: 1 kW of halogen, 5 seconds
I spin-coated it. Produced (Mn80Cr20)TwoSb3
4 is a magnetic film having a transition from antiferromagnetism to ferromagnetism
Gd30Fe55CoFifteen33 is an in-plane magnetized film at room temperature.

【0072】作製した記録層である(Mn100-xCrx)2S
b34の磁化の温度依存性をCr濃度をパラメータにし
て調べた結果を図37に示す。Cr濃度の増加により
(Mn 100-xCrx)2Sb34の反強磁性から強磁性への転
移点は高温側へシフトし、しかも転移後の磁化は急激に
増加することがわかる。また、この磁化の立ち上がりは
従来例よりも急峻であることから、(Mn100-xCrx)2S
bが従来のDyFeCoより40〜200℃の範囲で明
確な転写温度を有し、MSR技術を用いた光磁気記録媒
体の材料として適している。
The prepared recording layer (Mn100-xCrx)TwoS
The temperature dependence of the magnetization of b34 with Cr concentration as a parameter
The result of the investigation is shown in FIG. By increasing the Cr concentration
(Mn 100-xCrx)TwoSb34 conversion from antiferromagnetism to ferromagnetism
The transition point shifts to the high temperature side, and the magnetization after the transition suddenly increases.
You can see that it will increase. Also, the rise of this magnetization
Since it is steeper than the conventional example, (Mn100-xCrx)TwoS
b is brighter than conventional DyFeCo in the range of 40 to 200 ° C.
Magneto-optical recording medium with accurate transfer temperature and using MSR technology
Suitable as a body material.

【0073】(Mn80Cr20)2Sb34のキューリ温度を
調べた結果、Cr濃度によらず一定で230℃付近であ
ったので、情報の記録は媒体を230℃以上に加熱し、
波長780nmのビームを用い、トラックピッチ1.6
μm,記録線速度5m/secで行った。再生は、(M
80Cr20)2Sb34のキューリ温度が230℃であるこ
とから100℃程度にすることが望ましく、本発明では
Cr濃度を20at%とした。図3に示すように。再生
ビーム66が上記光磁気記録媒体に照射されると、記録
層62が加熱され、加熱領域65では反強磁性から強磁
性への転移が起こり、磁化が発現する。記録層62で磁
化が発現すると、面内磁化膜である再生層61へは磁化
が転写されず、この領域では面内磁化膜の状態を保持
し、マスクとして機能する。従って、加熱領域65の情
報のみが再生されることになり、照射されたビーム径よ
り小さい領域での再生、即ちMSR再生が可能となる。
再生パワー1.5mW以上で急激に再生信号が現れ、M
SR再生が行われていることがわかった。また、再生パ
ワー2.5mWでドメイン0.3μmのCNRは40dB
であった。これにより、100℃以上で記録層の情報が
再生層に明確に転写され、再生領域以外では(Mn80C
20)2Sb34からGd30Fe55Co1533への磁気的影響
がないことから、マスク効果が一層向上し、再生雑音が
低く、MSR効果の大きい、均一性に優れたMSR再生
が可能である。
[0073] (Mn 80 Cr 20) 2 Sb34 results of examining the Curie temperature of, so was around constant at 230 ° C. irrespective of the Cr concentration, recorded information by heating the medium above 230 ° C.,
Track pitch 1.6 using beam of wavelength 780nm
The recording linear velocity was 5 m / sec. Playback is (M
desirably set to about 100 ° C. Since the Curie temperature of the n 80 Cr 20) 2 Sb34 is 230 ° C., in the present invention it was 20at% of Cr concentration. As shown in FIG. When the reproducing beam 66 is applied to the magneto-optical recording medium, the recording layer 62 is heated, and in the heating region 65, a transition from antiferromagnetism to ferromagnetism occurs and magnetization is expressed. When the magnetization is developed in the recording layer 62, the magnetization is not transferred to the reproducing layer 61, which is the in-plane magnetized film, and the state of the in-plane magnetized film is retained in this region, which functions as a mask. Therefore, only the information of the heating area 65 is reproduced, and reproduction in an area smaller than the irradiated beam diameter, that is, MSR reproduction is possible.
A reproduction signal suddenly appears at a reproduction power of 1.5 mW or more, and M
It turned out that SR playback is being performed. Also, with a reproducing power of 2.5 mW, the CNR of the domain 0.3 μm is 40 dB.
Met. As a result, the information in the recording layer is clearly transferred to the reproducing layer at 100 ° C. or higher, and (Mn 80 C
Since there is no magnetic influence from r 20 ) 2 Sb 34 to Gd 30 Fe 55 Co 15 33, the mask effect is further improved, the reproduction noise is low, the MSR effect is large, and the MSR reproduction with excellent uniformity is possible. is there.

【0074】また、本発明では、図37に示すように
(Mn100-xCrx)2SbのCr濃度が10〜30at%の
範囲で明確な反強磁性から強磁性への転移を生じるの
で、この範囲のCr濃度を有する(Mn100-xCrx)2Sb
を記録層に適用することにより上記と同様のMSR再生
ができる。さらに、本発明では再生層として室温で面内
磁化膜であるGd30Fe55Co15を用いたが、これに限る
ものではなく、記録層の磁化が転写される材料であれば
よく、例えば、再生層の磁化方向を揃える初期化磁界を
用いれば、垂直磁化膜であるTbFe,GdCo,Tb
Co,TbFeCo等も可能である。この場合には、図
39に示すように初期化磁界70を印加して、再生層6
1’の磁化が記録層62’へ向くように、予め再生層の
磁化方向を揃えてからレーザービーム66’を照射して
再生を行う。高温領域65’では、記録層62’に磁化
が発現するので交換結合力によって、記録層62’へ向
いていた磁化が記録層62’に磁化と同じ方向に反転
し、記録層62’の情報が再生層61’に転写されるの
で高温領域65’でのみ情報の再生が可能になる。ま
た、保磁力1kOe以下の垂直磁化膜を用いれば転写さ
れる磁区は自己消滅するのでビームの後方にもマスクが
形成されMSR再生が可能である。
[0074] In the present invention, since the Cr concentration as (Mn 100-x Cr x) 2 Sb shown in FIG. 37 results in a transition to a ferromagnetic from clear antiferromagnetic in the range of 10~30At% , Having a Cr concentration in this range (Mn 100-x Cr x ) 2 Sb
By applying to the recording layer, MSR reproduction similar to the above can be performed. Further, in the present invention, Gd 30 Fe 55 Co 15 which is an in-plane magnetized film at room temperature is used as the reproducing layer, but the present invention is not limited to this, and any material that transfers the magnetization of the recording layer may be used. If an initializing magnetic field that aligns the magnetization directions of the reproducing layers is used, the perpendicularly magnetized films of TbFe, GdCo, and Tb are formed.
Co, TbFeCo, etc. are also possible. In this case, an initialization magnetic field 70 is applied as shown in FIG.
The reproduction is performed by irradiating the laser beam 66 'with the magnetization direction of the reproduction layer aligned in advance so that the magnetization 1'is directed to the recording layer 62'. In the high temperature region 65 ′, the magnetization appears in the recording layer 62 ′, so that the exchange coupling force reverses the magnetization toward the recording layer 62 ′ in the same direction as the magnetization in the recording layer 62 ′. Is transferred to the reproduction layer 61 ', information can be reproduced only in the high temperature region 65'. Further, if a perpendicularly magnetized film having a coercive force of 1 kOe or less is used, the transferred magnetic domains are self-erased, so that a mask is formed behind the beam and MSR reproduction is possible.

【0075】一方、記録層も一次転移点を持つものであ
れば、(Mn80Cr20)2Sbに限られるものではなく、M
n2SbにV,Co,Cu,Zn,Ge,Asを加えた
磁性体でも良く、最良の結果を示す各材料の組成は(M
93V7)2Sb,(Mn75Co25)2Sb,(Mn90Cu10)2S
b,(Mn90Zn10)2Sb, (Mn90Ge10)2Sb,(M
80As20)2Sbである。
On the other hand, if the recording layer also has a first-order transition point, it is not limited to (Mn 80 Cr 20 ) 2 Sb, but M
A magnetic material obtained by adding V, Co, Cu, Zn, Ge, and As to n2Sb may be used, and the composition of each material showing the best result is (M
n 93 V 7 ) 2 Sb, (Mn 75 Co 25 ) 2 Sb, (Mn 90 Cu 10 ) 2 S
b, (Mn 90 Zn 10 ) 2 Sb, (Mn 90 Ge 10 ) 2 Sb, (M
n 80 As 20 ) 2 Sb.

【0076】上記実施例に開示した光磁気記録媒体にお
けるカー回転角の温度依存性を図48に示す。図48の
各曲線はTcに比例している(T:温度)。図48よ
り、 1)再生層の膜厚を1000Åにすること 2)下地層のエッチングをすること 3)再生層のCo組成を20at%にすること 4)スパッタリングガス圧力を3.5mTorrにする
こと により各曲線の立ち上がりが急峻になっており、各曲線
において、カー回転角の温度係数Cを求めると、それぞ
れ、8.99、9.69、10.9、11.0となる。従っ
て、これらの光磁気記録媒体を用いた記録/再生におい
ては、従来より高密度な記録/再生が可能となる。
FIG. 48 shows the temperature dependence of the Kerr rotation angle in the magneto-optical recording medium disclosed in the above embodiment. Each curve in FIG. 48 is proportional to T c (T: temperature). From FIG. 48, 1) the thickness of the reproducing layer should be 1000 Å 2) the underlayer should be etched 3) the Co composition of the reproducing layer should be 20 at% 4) the sputtering gas pressure should be 3.5 mTorr Thus, the rise of each curve is steep, and the temperature coefficient C of the Kerr rotation angle in each curve is 8.99, 9.69, 10.9, 11.0, respectively. Therefore, in recording / reproducing using these magneto-optical recording media, higher density recording / reproducing than in the past can be performed.

【0077】[0077]

【発明の効果】本発明によれば、キュリー温度が230
〜350℃の範囲で比較的低温な発明では、小さなレー
ザパワーでキュリー温度以上に昇温度できるため、外部
印加磁界が小さくとも良好なCNRを得ることができ
る。したがって、磁界変調方式の記録媒体としても最適
に用いることができる。
According to the present invention, the Curie temperature is 230.
In the invention in which the temperature is relatively low in the range of up to 350 ° C., it is possible to raise the temperature above the Curie temperature with a small laser power, so that a good CNR can be obtained even with a small externally applied magnetic field. Therefore, it can be optimally used also as a magnetic field modulation type recording medium.

【0078】また、本発明によれば、再生層と記録層の
キュリー温度差が小さい発明では、記録時に於いて再生
層から記録層に磁化の向きが転写される際、再生層の磁
化の向きが垂直方向を向いており、磁化の一部が面内方
向を向き始めているということがないため、該面内方向
の磁化がノイズとなることが防止され、その結果、良好
なCNRを得ることができる。
According to the present invention, in the invention in which the Curie temperature difference between the reproducing layer and the recording layer is small, when the magnetization direction is transferred from the reproducing layer to the recording layer during recording, the magnetization direction of the reproducing layer is Is oriented in the vertical direction, and a part of the magnetization does not start in the in-plane direction, so that the in-plane magnetization is prevented from becoming noise, and as a result, a good CNR is obtained. You can

【0079】また、本発明によれば、熱伝導性の良い放
熱層を設けて交換結合磁性層の熱を逃がしているため、
再生層の温度分布を所望の分布にすることができ、この
ため、磁化方向が無秩序であることに起因するノイズ
や、レーザスポットの非中心部分(周辺の低温であるべ
き部分)の状態まで読み出してしまうことに起因するク
ロストークノイズを低減できるという効果がある。
Further, according to the present invention, since the heat dissipation layer having good thermal conductivity is provided to release the heat of the exchange coupling magnetic layer,
The temperature distribution of the reproducing layer can be set to a desired distribution, so that noise due to the disordered magnetization direction and the state of the non-central part of the laser spot (the part where the temperature should be low in the periphery) can be read. There is an effect that the crosstalk noise due to the loss can be reduced.

【0080】また、本発明によれば、再生層のCoの組
成比を12at%〜50at%の範囲内とすることで、
外部印加磁界が小さくとも良好な記録をすることができ
た。また、再生時のCNRも良好であった。また、外部
印加磁界が小さくとも記録できるため、記録装置の負担
も小さくなった。さらに、この効果、再生層の成膜前に
下地層をエッチング処理することで、より一層改善され
た。
Further, according to the present invention, by setting the composition ratio of Co in the reproducing layer within the range of 12 at% to 50 at%,
Good recording was possible even when the externally applied magnetic field was small. The CNR during reproduction was also good. Further, since the recording can be performed even when the externally applied magnetic field is small, the burden on the recording apparatus is also reduced. Further, this effect was further improved by etching the underlayer before forming the reproducing layer.

【0081】また、本発明によれば、光磁気記録媒体の
記録層上に放熱層を設けること又は記録時のレーザ光を
パルス化することにより、記録用レーザ照射時の均熱領
域を狭くすることができ、高密度記録が可能となる。ま
た、本発明によれば、記録層上に放熱層を設けるにより
再生用レーザ照射時の均熱領域を狭くすることができ、
高密度再生が可能となる。
Further, according to the present invention, the heat radiation layer is provided on the recording layer of the magneto-optical recording medium or the laser beam at the time of recording is pulsed, so that the soaking area at the time of irradiation of the recording laser is narrowed. Therefore, high-density recording becomes possible. Further, according to the present invention, by providing the heat dissipation layer on the recording layer, it is possible to narrow the soaking area at the time of irradiating the reproducing laser,
High-density reproduction becomes possible.

【0082】また、本発明によれば、ポリカーボネート
樹脂を基板に用いた光磁気記録媒体を作製できる。ま
た、本発明によれば、壊れにくい、取り扱いが簡便な光
磁気記録媒体を作製することができる。また、本発明に
よれば、CN比が高い再生が可能となる。
Further, according to the present invention, a magneto-optical recording medium using a polycarbonate resin as a substrate can be manufactured. Further, according to the present invention, it is possible to manufacture a magneto-optical recording medium which is hard to break and easy to handle. Further, according to the present invention, reproduction with a high CN ratio is possible.

【0083】また、本発明によれば、再生時における磁
化の発現と転写の温度を明確にすることができ、再生雑
音が低く、均一性に優れた光磁気記録媒体を得ることが
できる。また、記録層では常温で磁化が発生していない
ので再生層への磁気的な影響がなく、再生層では面内磁
化が従来より一層保持されるのでマスク効果が向上し、
MSR効果を大きくすることができる。従って、高密度
記録の光磁気記録媒体を使用することができる。さら
に、磁化の転写温度が明確なため、作製が容易となり低
コストな媒体を提供することができる。
Further, according to the present invention, the manifestation of magnetization and the temperature of transfer during reproduction can be clarified, and a magneto-optical recording medium having low reproduction noise and excellent uniformity can be obtained. In addition, since the recording layer has no magnetization at room temperature, there is no magnetic influence on the reproducing layer, and the in-plane magnetization is further retained in the reproducing layer compared to the conventional case, so that the mask effect is improved.
The MSR effect can be increased. Therefore, a high-density recording magneto-optical recording medium can be used. Furthermore, since the transfer temperature of the magnetization is clear, it is possible to provide a medium that is easy to manufacture and low in cost.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】実施例の光磁気記録媒体の断面構造を示す模式
図。
FIG. 1 is a schematic diagram showing a cross-sectional structure of a magneto-optical recording medium of an example.

【図2】第1実施例の光磁気記録媒体の記録層と再生層
の残留カー回転角を温度を横軸として示すグラフ。
FIG. 2 is a graph showing the residual Kerr rotation angle of the recording layer and the reproducing layer of the magneto-optical recording medium of the first embodiment with temperature as the horizontal axis.

【図3】第1実施例の光磁気記録媒体の記録時のレーザ
パワーとノイズの関係を示す特性図。
FIG. 3 is a characteristic diagram showing the relationship between laser power and noise during recording on the magneto-optical recording medium of the first embodiment.

【図4】第1実施例の光磁気記録媒体の記録時の外部印
加磁界とノイズの関係を示す特性図。
FIG. 4 is a characteristic diagram showing a relationship between an externally applied magnetic field and noise during recording in the magneto-optical recording medium of the first embodiment.

【図5】第2実施例の光磁気記録媒体の記録層と再生層
の残留カー回転角を温度を横軸として示すグラフ。
FIG. 5 is a graph showing the residual Kerr rotation angle of the recording layer and the reproducing layer of the magneto-optical recording medium of the second embodiment with temperature as the horizontal axis.

【図6】第2実施例の光磁気記録媒体〔B〕と従来の光
磁気記録媒体〔A〕の記録時の外部印加磁界とCNRの
関係を示す特性図。
FIG. 6 is a characteristic diagram showing a relationship between an externally applied magnetic field and CNR at the time of recording in the magneto-optical recording medium [B] of the second example and the conventional magneto-optical recording medium [A].

【図7】第3実施例の光磁気記録媒体の断面構造を示す
模式図。
FIG. 7 is a schematic diagram showing a cross-sectional structure of a magneto-optical recording medium of a third embodiment.

【図8】第3実施例の光磁気記録媒体の再生信号のCN
Rを示すグラフ。
FIG. 8 is a CN of a reproduction signal of the magneto-optical recording medium of the third embodiment.
The graph which shows R.

【図9】第4実施例の光磁気記録媒体の断面構造を示す
模式図。
FIG. 9 is a schematic diagram showing a cross-sectional structure of a magneto-optical recording medium of a fourth example.

【図10】第5実施例の光磁気記録媒体の断面構造を示
す模式図。
FIG. 10 is a schematic diagram showing a cross-sectional structure of a magneto-optical recording medium of a fifth example.

【図11】第6、7実施例の光磁気記録媒体の模式的断
面図。
FIG. 11 is a schematic sectional view of a magneto-optical recording medium according to sixth and seventh embodiments.

【図12】第6実施例と従来例のカー回転角の温度依存
性。
FIG. 12 shows the temperature dependence of the Kerr rotation angle in the sixth example and the conventional example.

【図13】第6実施例と従来例のキュリー温度付近のカ
ーループ。
FIG. 13 is a Kerr loop near the Curie temperature of the sixth example and the conventional example.

【図14】第6実施例と従来例の磁界変調記録の記録磁
界特性。
FIG. 14 is a recording magnetic field characteristic of the magnetic field modulation recording of the sixth example and the conventional example.

【図15】第7実施例と第6実施例の干渉層の表面を原
子間力顕微鏡で観察した図。
FIG. 15 is a diagram in which the surfaces of the interference layers of the seventh example and the sixth example are observed with an atomic force microscope.

【図16】第7実施例と第6実施例の磁界変調記録の記
録磁界特性。
FIG. 16 is a recording magnetic field characteristic of the magnetic field modulation recording of the seventh embodiment and the sixth embodiment.

【図17】本発明の光磁気記録媒体の断面構造図であ
る。
FIG. 17 is a sectional structural view of a magneto-optical recording medium of the present invention.

【図18】本発明の光磁気記録媒体の作製工程を示す図
である。
FIG. 18 is a diagram showing a manufacturing process of the magneto-optical recording medium of the present invention.

【図19】本発明の光磁気記録媒体用の透光性ポリカー
ボネート基板の射出成形装置を示す図である。
FIG. 19 is a view showing an injection molding apparatus for a translucent polycarbonate substrate for a magneto-optical recording medium of the present invention.

【図20】本発明の光磁気記録媒体の記録における印加
磁界とパルスレーザの関係を示した図である。
FIG. 20 is a diagram showing a relationship between an applied magnetic field and a pulse laser in recording on the magneto-optical recording medium of the present invention.

【図21】本発明の光磁気記録媒体の記録ブロックであ
る。
FIG. 21 is a recording block of the magneto-optical recording medium of the present invention.

【図22】本発明における放熱層とレーザ光のパルス化
の効果を定性的に示した図である。
FIG. 22 is a diagram qualitatively showing the effect of pulsing the heat radiation layer and the laser beam in the present invention.

【図23】本発明の光磁気記録媒体の記録時の位相差
(パルス磁界とパルス化したレーザ光の位相差)と再生
時のCN比の関係を示す図である。
FIG. 23 is a diagram showing the relationship between the phase difference at the time of recording (the phase difference between the pulsed magnetic field and the pulsed laser light) and the CN ratio at the time of reproduction of the magneto-optical recording medium of the present invention.

【図24】本発明の光磁気記録媒体の記録時の位相差
(パルス磁界とパルス化したレーザ光の位相差)と再生
時のCN比の関係を示す図である。
FIG. 24 is a diagram showing the relationship between the phase difference during recording (phase difference between the pulsed magnetic field and the pulsed laser light) and the CN ratio during reproduction of the magneto-optical recording medium of the present invention.

【図25】本発明の光磁気記録媒体の再生時のCN比と
再生パワーの関係を示す図である。
FIG. 25 is a diagram showing the relationship between the CN ratio and the reproducing power when reproducing from the magneto-optical recording medium of the present invention.

【図26】本発明の光磁気記録媒体の放熱層の効果を示
す図である。
FIG. 26 is a diagram showing the effect of the heat dissipation layer of the magneto-optical recording medium of the present invention.

【図27】本発明の透光性ポリカーボネート基板の射出
成形条件である。
FIG. 27 shows the injection molding conditions for the translucent polycarbonate substrate of the present invention.

【図28】本発明の透光性ポリカーボネート基板の特性
である。
FIG. 28 shows the characteristics of the translucent polycarbonate substrate of the present invention.

【図29】本発明のAlの成膜条件である。FIG. 29 shows Al film forming conditions of the present invention.

【図30】本発明の記録層の形成条件である。FIG. 30 shows conditions for forming the recording layer of the present invention.

【図31】本発明の再生層の形成条件である。FIG. 31 shows conditions for forming the reproducing layer of the present invention.

【図32】本発明の光磁気記録媒体の記録条件である。FIG. 32 shows recording conditions of the magneto-optical recording medium of the present invention.

【図33】本発明の光磁気記録媒体の再生条件である。FIG. 33 shows reproduction conditions of the magneto-optical recording medium of the present invention.

【図34】本発明のSiN膜の成膜条件である。FIG. 34 is a film forming condition of the SiN film of the present invention.

【図35】本発明のAl膜厚と再生分解能の関係であ
る。
FIG. 35 is a relationship between the Al film thickness and the reproduction resolution according to the present invention.

【図36】実施例16の光磁気記録媒体の断面図であ
る。
FIG. 36 is a sectional view of a magneto-optical recording medium of Example 16.

【図37】実施例16の記録層の特性である。FIG. 37 is a characteristic of the recording layer of Example 16.

【図38】実施例16における再生時の模式図である。FIG. 38 is a schematic diagram at the time of reproduction in Example 16.

【図39】実施例16における再生時の模式図である。FIG. 39 is a schematic diagram at the time of reproduction in Example 16.

【図40】実施例6と実施例8について、外部印加磁界
に対する再生信号のCNRを示す特性図である。
FIG. 40 is a characteristic diagram showing the CNR of a reproduced signal with respect to an externally applied magnetic field in Examples 6 and 8.

【図41】実施例8と実施例9について、再生レーザパ
ワーに対する再生信号のCNRを示す特性図である。
FIG. 41 is a characteristic diagram showing the CNR of the reproduction signal with respect to the reproduction laser power in the eighth and ninth embodiments.

【図42】実施例9と実施例10について、記録レーザ
パワーに対する再生信号のCNRを示す特性図である。
FIG. 42 is a characteristic diagram showing the CNR of the reproduced signal with respect to the recording laser power in the ninth and tenth embodiments.

【図43】実施例10と実施例11について、再生レー
ザパワーに対する再生信号のCNRを示す特性図であ
る。
FIG. 43 is a characteristic diagram showing the CNR of the reproduction signal with respect to the reproduction laser power in the tenth and eleventh embodiments.

【図44】干渉層2の表面にエッチング処理を施す場合
についてエッチングパワーを変えて表面の平滑さを比較
した特性図である。
FIG. 44 is a characteristic diagram comparing the surface smoothness by changing the etching power when the surface of the interference layer 2 is etched.

【図45】実施例11と実施例12について、記録ドメ
イン長に対する再生信号のCNRを示す特性図である。
FIG. 45 is a characteristic diagram showing the CNR of the reproduced signal with respect to the recording domain length for Examples 11 and 12;

【図46】実施例12の光磁気記録媒体について保護層
5の上にAlの放熱層を設け、その放熱層の厚さに対す
る再生信号のCNRを測定した特性図である。
46 is a characteristic diagram of the magneto-optical recording medium of Example 12, in which a heat dissipation layer of Al is provided on the protective layer 5, and the CNR of the reproduction signal with respect to the thickness of the heat dissipation layer is measured.

【図47】実施例11と実施例14について、再生レー
ザパワーに対する再生信号のCNRを示す特性図であ
る。
FIG. 47 is a characteristic diagram showing CNR of a reproduction signal with respect to reproduction laser power in Examples 11 and 14;

【図48】カー回転角の温度特性図である。FIG. 48 is a temperature characteristic diagram of Kerr rotation angle.

【図49】実施例16における記録層、再生層及び保護
層の形成条件
FIG. 49 Conditions for forming recording layer, reproducing layer and protective layer in Example 16

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・ポリカーボネート基板 2・・・干渉層 3・・・再生層 4・・・記録層 5・・・保護層 6・・・放熱層 7・・・紫外線硬化樹脂 1t・・・金型温度 2p・・・型締圧力 3v・・・樹脂射出圧力 4t・・・加熱筒温度 11・・・光磁気記録媒体 13・・・光学ヘッド 14・・・ミラー 15・・・半導体レーザ 16・・・磁気ヘッド 17・・・磁気ヘッド駆動回路 18・・・半導体レーザ駆動回路 19・・・パルス幅変更回路 20・・・同期パルス発生/位相遅延回路 21・・・対物レンズ 1 ... Polycarbonate substrate 2 ... Interference layer 3 ... Reproducing layer 4 ... Recording layer 5 ... Protective layer 6 ... Heat dissipation layer 7 ... UV curable resin 1t ... Mold temperature 2p ... Mold clamping pressure 3v ... Resin injection pressure 4t ... Heating cylinder temperature 11 ... Magneto-optical recording medium 13 ... Optical head 14 ... Mirror 15 ... Semiconductor laser 16 ... Magnetic head 17 ... Magnetic head drive circuit 18 ... Semiconductor laser drive circuit 19 ... Pulse width changing circuit 20 ... Synchronous pulse generation / phase delay circuit 21 ... Objective lens

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G11B 11/10 511 9075−5D G11B 11/10 511A 521 9075−5D 521C 9075−5D 521F 586 9296−5D 586B 9296−5D 586C (31)優先権主張番号 特願平7−224387 (32)優先日 平7(1995)8月31日 (33)優先権主張国 日本(JP) (31)優先権主張番号 特願平7−304345 (32)優先日 平7(1995)11月22日 (33)優先権主張国 日本(JP) (31)優先権主張番号 特願平7−329915 (32)優先日 平7(1995)11月24日 (33)優先権主張国 日本(JP) (72)発明者 鷲見 聡 大阪府守口市京阪本通2丁目5番5号 三 洋電機株式会社内─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical display location G11B 11/10 511 9075-5D G11B 11/10 511A 521 9075-5D 521C 9075-5D 521F 586 9296- 5D 586B 9296-5D 586C (31) Priority claim number Japanese Patent Application No. 7-224387 (32) Priority date Hei 7 (1995) August 31 (33) Priority claim country Japan (JP) (31) Priority claim Number Japanese Patent Application No. 7-304345 (32) Priority Date No. 7 (1995) November 22 (33) Country of priority claim Japan (JP) (31) Priority claim number Japanese Patent Application No. 7-329915 (32) Priority Date Hei 7 (1995) November 24 (33) Priority claiming country Japan (JP) (72) Inventor Satoshi Washimi 2-5-5 Keihan Hondori, Moriguchi City, Osaka Sanyo Electric Co., Ltd.

Claims (30)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透光性基板と、 該透光性基板上に形成された下地層と、 該下地層上に形成された室温で面内磁化膜である再生層
と、 該再生層上に形成され、所定の温度まで昇温されること
で前記再生層へ磁化方向を転写する記録層とを配して成
る光磁気記録媒体において、 カー回転角の温度係数が8.0以上であることを特徴と
する光磁気記録媒体。
1. A transparent substrate, an underlayer formed on the transparent substrate, a reproducing layer which is an in-plane magnetized film at room temperature formed on the underlying layer, and a reproducing layer on the reproducing layer. A magneto-optical recording medium having a recording layer which is formed and is heated to a predetermined temperature to transfer the magnetization direction to the reproducing layer, and has a Kerr rotation angle temperature coefficient of 8.0 or more. A magneto-optical recording medium characterized by:
【請求項2】 請求項1において、 前記記録層は室温で垂直磁化膜であることを特徴とする
光磁気記録媒体。
2. The magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein the recording layer is a perpendicular magnetization film at room temperature.
【請求項3】 請求項1又は2において、 前記再生層がコバルト(Co)を含む遷移金属と希土類
から成り、該再生層中のCoの組成比が12at%〜5
0at%の範囲にあることを特徴とする光磁気記録媒
体。
3. The reproduction layer according to claim 1, wherein the reproduction layer is composed of a transition metal containing cobalt (Co) and a rare earth, and the composition ratio of Co in the reproduction layer is 12 at% to 5 at.
A magneto-optical recording medium characterized by being in the range of 0 at%.
【請求項4】 請求項3において、 前記再生層はGdとFeを含むことを特徴とする光磁気
記録媒体。
4. The magneto-optical recording medium according to claim 3, wherein the reproducing layer contains Gd and Fe.
【請求項5】 請求項3又は4において、 前記下地層は、干渉層として機能するSiNを600Å
〜800Åの範囲に成膜して成ることを特徴とする光磁
気記録媒体。
5. The underlayer according to claim 3, wherein the underlayer is made of SiN which functions as an interference layer.
A magneto-optical recording medium characterized by being formed into a film in the range of up to 800 Å.
【請求項6】 請求項5において、 前記再生層の膜厚は800Å〜1200Åの範囲にある
ことを特徴とする光磁気記録媒体。
6. The magneto-optical recording medium according to claim 5, wherein the thickness of the reproducing layer is in the range of 800Å to 1200Å.
【請求項7】 請求項3から6において、 前記記録層は、該記録層中のCoの含有率が10at%
〜16at%の範囲であるTbFeCoを成膜して成る
ことを特徴とする光磁気記録媒体。
7. The recording layer according to claim 3, wherein the content of Co in the recording layer is 10 at%.
A magneto-optical recording medium comprising a film of TbFeCo in the range of ˜16 at%.
【請求項8】 請求項3から7において、 前記再生層は、該再生層中のGdの含有率が30at%
〜36at%の範囲であるGdFeCoを成膜して成る
ことを特徴とする光磁気記録媒体。
8. The reproducing layer according to claim 3, wherein the content of Gd in the reproducing layer is 30 at%.
A magneto-optical recording medium comprising a film of GdFeCo in the range of ˜36 at%.
【請求項9】 請求項5から8において、 前記干渉層の表面を、0.02W/cm2〜0.08W/
cm2の範囲のエッチングパワーでエッチング処理した
後、前記再生層と前記記録層を成膜して成ることを特徴
とする光磁気記録媒体。
9. The surface of the interference layer according to claim 5, wherein the surface of the interference layer is 0.02 W / cm 2 to 0.08 W / 0.08 W / cm 2 .
A magneto-optical recording medium, characterized in that the reproducing layer and the recording layer are formed after an etching treatment with an etching power in the range of cm 2 .
【請求項10】 請求項8において、 前記再生層は、2〜7mTorrの範囲のスパッタガス
圧で成膜して成ることを特徴とする光磁気記録媒体。
10. The magneto-optical recording medium according to claim 8, wherein the reproducing layer is formed at a sputtering gas pressure in the range of 2 to 7 mTorr.
【請求項11】 請求項1から10において、 前記透光性基板は、ポリカーボネート樹脂であることを
特徴とする光磁気記録媒体。
11. The magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein the translucent substrate is a polycarbonate resin.
【請求項12】 請求項1又は2又は11において、 前記記録層は、TdFeCoであり、 前記再生層は、GdFeCoCr又はGdFeCoNi
又はGdFeCoTi又はGdFeCoAl又はGdF
eCoMn又はGdFeCoNiCr又はGdFeCo
AlTiであることを特徴とする光磁気記録媒体。
12. The recording layer according to claim 1, 2 or 11, wherein the recording layer is TdFeCo, and the reproducing layer is GdFeCoCr or GdFeCoNi.
Or GdFeCoTi or GdFeCoAl or GdF
eCoMn or GdFeCoNiCr or GdFeCo
A magneto-optical recording medium characterized by being AlTi.
【請求項13】 請求項1から12において、 前記記録層上に放熱層を形成したことを特徴とする光磁
気記録媒体。
13. The magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein a heat dissipation layer is formed on the recording layer.
【請求項14】 請求項13において、 前記放熱層がAl又はAu又はPt又はTi又はV又は
Cr又はMn又はFe又はCo又はNi又はCu又はZ
n又はMo又はAg又はSn又はSb又はWであること
を特徴とする光磁気記録媒体。
14. The heat dissipation layer according to claim 13, wherein the heat dissipation layer is Al, Au, Pt, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu or Z.
A magneto-optical recording medium characterized by being n, Mo, Ag, Sn, Sb, or W.
【請求項15】 請求項13又は14において、 前記放熱層の膜厚が200〜1000Åであることを特
徴とする光磁気記録媒体。
15. The magneto-optical recording medium according to claim 13, wherein the heat dissipation layer has a film thickness of 200 to 1000 Å.
【請求項16】 請求項15において、 前記下地層の表面を、0.02W/cm2〜0.08W/
cm2の範囲のエッチングパワーでエッチング処理した
後、前記再生層と前記記録層を成膜して成ることを特徴
とする光磁気記録媒体。
16. The surface of the underlayer according to claim 15, wherein the surface of the underlayer is 0.02 W / cm 2 to 0.08 W / 0.08 W / cm 2 .
A magneto-optical recording medium, characterized in that the reproducing layer and the recording layer are formed after an etching treatment with an etching power in the range of cm 2 .
【請求項17】 請求項13から15において、 前記放熱層はRFマグネトロンスパッタ法により100
〜1000WのRFパワー、1〜10mTorrのアル
ゴン圧力で形成したことを特徴とする光磁気記録媒体。
17. The heat-dissipating layer according to claim 13, wherein the heat-dissipating layer is formed by RF magnetron sputtering.
A magneto-optical recording medium formed with an RF power of up to 1000 W and an argon pressure of 1 to 10 mTorr.
【請求項18】 請求項11において、 前記透光性ポリカーボネート基板は、 複屈折が20〜25nmであり、 該複屈折の周方向の変動が6〜10nmであり、 グルーブとランドのコーナーでの曲率半径が35〜50
nmであることを特徴とする光磁気記録媒体。
18. The translucent polycarbonate substrate according to claim 11, wherein the birefringence is 20 to 25 nm, the fluctuation of the birefringence in the circumferential direction is 6 to 10 nm, and the curvature at the corner of the groove and the land. Radius is 35-50
A magneto-optical recording medium having a thickness of nm.
【請求項19】 請求項11又は18において、 前記透光性ポリカーボネート基板は、表面粗さが100
〜500Åであることを特徴とする光磁気記録媒体。
19. The surface roughness of the translucent polycarbonate substrate according to claim 11 or 18,
A magneto-optical recording medium characterized by having a thickness of up to 500 Å.
【請求項20】 請求項1において、 前記記録層は、反強磁性から強磁性への一次転換点を5
0℃以上に設定する磁性層であることを特徴とする光磁
気記録媒体。
20. The recording layer according to claim 1, wherein the primary conversion point from antiferromagnetism to ferromagnetism is 5
A magneto-optical recording medium having a magnetic layer set at 0 ° C. or higher.
【請求項21】 請求項20において、 前記記録層は、(Mn(100-x)x2Sb(M=Cr,
V,Co,Cu,Zn,Ge,As)であることを特徴
とする光磁気記録媒体。
21. The method of claim 20, wherein the recording layer, (Mn (100-x) M x) 2 Sb (M = Cr,
V, Co, Cu, Zn, Ge, As).
【請求項22】 請求項21において、 M=Cr、x=10〜30at%であることを特徴とす
る光磁気記録媒体。
22. The magneto-optical recording medium according to claim 21, wherein M = Cr and x = 10 to 30 at%.
【請求項23】 請求項1から19記載の光磁気記録媒
体において、 記録時の外部印加磁界が50〜200Oeであることを
特徴とする光磁気記録媒体の記録方法。
23. The recording method of a magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein an externally applied magnetic field at the time of recording is 50 to 200 Oe.
【請求項24】 請求項1から23記載の光磁気記録媒
体の記録において、 記録時のレーザパルスのデューティを20〜60%に、 パルス磁界とレーザパルスの位相差を0〜60nsec
に設定したことを特徴とする光磁気記録媒体の記録方
法。
24. In recording on the magneto-optical recording medium according to claim 1, the duty of the laser pulse at the time of recording is set to 20 to 60%, and the phase difference between the pulse magnetic field and the laser pulse is set to 0 to 60 nsec.
A recording method for a magneto-optical recording medium, characterized in that
【請求項25】 請求項24記載の記録方法で記録した
光磁気記録媒体の再生において、 1.1〜1.3m/secの再生線速度において再生パワ
ーを1.5〜2.2mWに、 1.5〜1.7m/secの再生線速度において再生パワ
ーを1.8〜2.7mWに、 1.9〜2.1m/secの再生線速度において再生パワ
ーを2.0〜3.0mWに、 2.9〜3.1m/secの再生線速度において再生パワ
ーを2.4〜3.7mWに、 4.9〜5.1m/secの再生線速度において再生パワ
ーを3.2〜4.5mWに、 8.9〜9.1m/secの再生線速度において再生パワ
ーを4.0〜6.0mWに、それぞれ設定したことを特徴
とする光磁気記録媒体の再生方法。
25. When reproducing the magneto-optical recording medium recorded by the recording method according to claim 24, at a reproducing linear velocity of 1.1 to 1.3 m / sec, the reproducing power is 1.5 to 2.2 mW, and The reproducing power is 1.8 to 2.7 mW at the reproducing linear velocity of 0.5 to 1.7 m / sec, and the reproducing power is 2.0 to 3.0 mW at the reproducing linear velocity of 1.9 to 2.1 m / sec. , A reproducing power of 2.4 to 3.7 mW at a reproducing linear velocity of 2.9 to 3.1 m / sec, and a reproducing power of 3.2 to 4.2 at a reproducing linear velocity of 4.9 to 5.1 m / sec. A reproducing method of a magneto-optical recording medium, wherein the reproducing power is set to 5 mW and the reproducing power is set to 4.0 to 6.0 mW at a reproducing linear velocity of 8.9 to 9.1 m / sec.
【請求項26】 請求項3記載の光磁気記録媒体を製造
する方法において、 前記下地層を成膜後、該下地層表面にスパッタエッチン
グ処理を施し、 その後に、前記Coを12at%〜50at%含む再生
層を成膜することを特徴とする光磁気記録媒体の製造方
法。
26. The method of manufacturing a magneto-optical recording medium according to claim 3, wherein after forming the underlayer, the surface of the underlayer is subjected to a sputter etching treatment, and thereafter, the Co content is 12 at% to 50 at%. A method of manufacturing a magneto-optical recording medium, comprising forming a reproducing layer containing the same.
【請求項27】 請求項26において、 前記下地層を成膜後、該下地層表面に0.02W/cm2
〜0.08W/cm2の範囲のエッチングパワーでスパッ
タエッチング処理を施し、 その後に、前記Coを12at%〜50at%含む再生
層を成膜することを特徴とする光磁気記録媒体の製造方
法。
27. In claim 26, after forming the underlayer, 0.02 W / cm 2 is formed on the surface of the underlayer.
A method for manufacturing a magneto-optical recording medium, which comprises performing a sputter etching process with an etching power in the range of up to 0.08 W / cm 2 , and then forming a reproducing layer containing 12 at% to 50 at% of Co.
【請求項28】 請求項27において、 前記記録層を、Coの含有率が10at%〜16at%
の範囲であるTbFeCoで成膜することを特徴とする
光磁気記録媒体の製造方法。
28. The Co content of the recording layer according to claim 27, wherein the content of Co is 10 at% to 16 at%.
A method of manufacturing a magneto-optical recording medium, characterized in that the film is formed of TbFeCo within the range of.
【請求項29】 請求項27において、 前記再生層を、Gdの含有率が30at%〜36at%
の範囲であるGdFeCoで成膜することを特徴とする
光磁気記録媒体の製造方法。
29. The reproduction layer according to claim 27, wherein the content of Gd is 30 at% to 36 at%.
A method of manufacturing a magneto-optical recording medium, characterized in that the film is formed of GdFeCo within the range of.
【請求項30】 請求項29において、 前記再生層を、2〜7mTorrの範囲のスパッタガス
圧で成膜することを特徴とする光磁気記録媒体の製造方
法。
30. The method of manufacturing a magneto-optical recording medium according to claim 29, wherein the reproducing layer is formed at a sputtering gas pressure in the range of 2 to 7 mTorr.
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