JPS649297B2 - - Google Patents
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- 150000004996 alkyl benzenes Chemical class 0.000 claims description 24
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 24
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 claims description 18
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 9
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical group Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 claims description 9
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 claims description 9
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 claims description 9
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 claims description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 6
- 125000006575 electron-withdrawing group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 4
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 claims description 2
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 239000000047 product Substances 0.000 description 11
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 10
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 7
- NPDACUSDTOMAMK-UHFFFAOYSA-N 4-Chlorotoluene Chemical compound CC1=CC=C(Cl)C=C1 NPDACUSDTOMAMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N cumene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1 RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- DAMJCWMGELCIMI-UHFFFAOYSA-N benzyl n-(2-oxopyrrolidin-3-yl)carbamate Chemical compound C=1C=CC=CC=1COC(=O)NC1CCNC1=O DAMJCWMGELCIMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012320 chlorinating reagent Substances 0.000 description 3
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 3
- -1 oxides Chemical class 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical compound Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 2
- LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N antimony pentoxide Chemical compound O=[Sb](=O)O[Sb](=O)=O LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N antimony trioxide Chemical compound O=[Sb]O[Sb]=O ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N hypochlorite Chemical compound Cl[O-] WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 2
- AHBGXHAWSHTPOM-UHFFFAOYSA-N 1,3,2$l^{4},4$l^{4}-dioxadistibetane 2,4-dioxide Chemical compound O=[Sb]O[Sb](=O)=O AHBGXHAWSHTPOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFDISMSWWNOGFW-UHFFFAOYSA-N 1-(4-ethoxy-3-fluorophenyl)ethanamine Chemical compound CCOC1=CC=C(C(C)N)C=C1F OFDISMSWWNOGFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODNBVEIAQAZNNM-UHFFFAOYSA-N 1-(6-chloroimidazo[1,2-b]pyridazin-3-yl)ethanone Chemical compound C1=CC(Cl)=NN2C(C(=O)C)=CN=C21 ODNBVEIAQAZNNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNEMUWDQJSRDMQ-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-propan-2-ylbenzene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1Cl RNEMUWDQJSRDMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNNZINNZIQVULG-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethylbenzene Chemical compound ClCCC1=CC=CC=C1 MNNZINNZIQVULG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUNJVIDCYZYFGV-UHFFFAOYSA-K Antimony trifluoride Inorganic materials F[Sb](F)F GUNJVIDCYZYFGV-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBMLMWLHJBBADN-UHFFFAOYSA-N Ferrous sulfide Chemical compound [Fe]=S MBMLMWLHJBBADN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003905 agrochemical Substances 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000411 antimony tetroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003435 aroyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 1
- NFMAZVUSKIJEIH-UHFFFAOYSA-N bis(sulfanylidene)iron Chemical compound S=[Fe]=S NFMAZVUSKIJEIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 150000001728 carbonyl compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 1
- 229960002089 ferrous chloride Drugs 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 125000004216 fluoromethyl group Chemical group [H]C([H])(F)* 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910000042 hydrogen bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L iron dichloride Chemical compound Cl[Fe]Cl NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000339 iron disulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N iron oxide Inorganic materials [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910052981 lead sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940056932 lead sulfide Drugs 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- NDLPOXTZKUMGOV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoferriooxy)iron hydrate Chemical compound O.O=[Fe]O[Fe]=O NDLPOXTZKUMGOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIYKJALVRPGQTR-UHFFFAOYSA-M oxostibanylium;chloride Chemical compound [Cl-].[Sb+]=O LIYKJALVRPGQTR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 150000004763 sulfides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
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- Catalysts (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
本発明は、選択性よくアルキルベンゼンのp―
位の核塩素化物を連続的に製造する方法に関する
ものである。 アルキルベンゼンの核塩素化物は、医薬、農薬
をはじめ各種有機合成化学の原料として有用であ
る。特にp―クロロトルエンなどのアルキルベン
ゼンのp―位の核塩素化物の需要量が多い。 本発明者は、すでにアルキルベンゼンのp―位
の核塩素化物を選択性よく製造する方法として、
アルキルベンゼンをルイス酸及び一般式 (式中のX1,X2,X3及びX4はそれぞれ同一か
あるいは相異なる水素原子、電子吸引性基又は電
子供与性基を示す) で表わされるフエノキサチン化合物からなる触媒
の存在下に塩素により核塩素化する方法を開発し
た。 この方法は、触媒の安定性がよいので、触媒を
追加したり取り替えたりすることなくアルキルベ
ンゼンの核塩素化を5〜6回繰返し収率よく行う
ことが可能であるが、これ以上アルキルベンゼン
の核塩素化の回数を重ねるとp―位に対する塩素
化の選択性が悪化する。これはアルキルベンゼン
のアルキル基に対するo―位の核塩素化物とp―
位の核塩素化物との比いわゆるo/p比が増大す
ることによつて示される。 本発明者は、前記触媒を用いてアルキルベンゼ
ンの核塩素化をさらに繰返して行つてもp―位の
核塩素化の選択性が低下しない方法を開発すべく
鋭意研究を重ねた結果、核塩素化を行つた後、目
的生成物である核塩素化物を例えば蒸留などによ
つて分離したあとの触媒を含む残留物をハロゲン
化水素で処理した場合には、この触媒を用いてさ
らに繰返しアルキルベンゼンの核塩素化を行つて
もo/p比は増大せず、高収率でp―塩素化物が
製造できることを見いだし、この知見に基づいて
本発明をなすに至つた。 すなわち、本発明は、アルキルベンゼンをルイ
ス酸及び一般式() (式中のX1,X2,X3及びX4はそれぞれ同一か
あるいは相異なる水素原子、電子吸引性基又は電
子供与性基を示す) で表わされるフエノキサチン化合物からなる触媒
の存在下に核塩素化し、次いで目的生成物である
核塩素化物を分離し、触媒を含む残留物に新たに
アルキルベンゼンを加えて塩素により核塩素化を
行うことによりアルキルベンゼンの核塩素化物を
連続的に製造するに当り、任意の段階で前記触媒
を含む残留物にハロゲン化水素を導入し触媒を活
性化することを特徴とするアルキルベンゼンの核
塩素化物の製造方法を提供するものである。 本発明において塩素化されるアルキルベンゼン
としては、各種の直鎖状及び分枝鎖状アルキルベ
ンゼン及び置換アルキルベンゼンをあげることが
できるが、特にアルキル基の炭素数が1〜4のも
のが適当である。 本発明において用いられるルイス酸は、通常の
意味のルイス酸ばかりでなく、核塩素化反応中に
ルイス酸を形成するか、あるいはルイス酸として
の機能をなす金属又は化合物を含むものであつ
て、例えばアンチモン、鉄、スズ、鉛、アルミニ
ウム、モリブデン、テルルなどの金属、これらの
ハロゲン化物、酸化物、硫化物、カルボニル化合
物などがあげられ、特に好ましい例としては、三
塩化アンチモン、三フツ化アンチモン、塩化第一
鉄、塩化第二鉄、四塩化テルル、オキシ塩化アン
チモン、三酸化アンチモン、四酸化アンチモン、
五酸化アンチモン、酸化第二鉄、硫化鉛、硫化第
一鉄、二硫化鉄、モリブデンヘキサカルボニル、
鉄ペンタカルボニルなどをあげることができる。 また、一般式()で表わされるフエノキサチ
ン化合物としては、一般式()におけるX1,
X2,X3及びX4は水素原子、電子吸引性基又は電
子供与性基であつて、これらは各々同一であつて
も相異なつていてもよい。ここで電子吸引性基と
しては、塩素原子、臭素原子、フツ素原子のよう
なハロゲン原子、アセチル基のようなアルカノイ
ル基、ベンゾイル基のようなアロイル基、ニトロ
基、スルホニル基、シアノ基、トリフルオロメチ
ル基などをあげることができ、電子供与性基とし
ては、アルキル基、アルコキシ基などをあげるこ
とができる。 本発明において、一般式()で表わされるフ
エノキサチン化合物は単独で用いても混合して用
いてもよい。 本発明において、ルイス酸とフエノキサチン化
合物は、モル比で0.1〜10:1、好ましくは0.25
〜4:1の割合で用いられる。 また、本発明によりアルキルベンゼンの核塩素
化を行うには、ルイス酸とフエノキサチン化合物
の総量で、アルキルベンゼンの量の0.001〜5.0重
量%、好ましくは0.01〜1.0重量%の割合で触媒
を存在させ、反応混合物の沸点以下の温度で塩素
化剤を導入する。温度があまり高い場合には、多
塩素化物の生成量が多くなり、p―塩素化物の収
率が減り好ましくない、一方、マイナス数10℃以
下の低温でも反応は行え、p―塩素化物の選択率
は高くなるが、反応速度が遅くなり経済的でない
ので、通常は0〜80℃の温度で、工業的には20〜
70℃の温度で行うのが適切である。この際の塩素
化剤としては塩化チオニル、次亜塩素酸塩などの
慣用されている塩素化剤を用いることができる
が、特に好ましいのは塩素ガスである。この塩素
ガスを用いる場合には、減圧、加圧のいずれでも
よいが通常は常圧で行う。 本発明において、触媒の活性化は目的生成物で
ある核塩素化物を例えば蒸留などにより分離した
後の触媒を含む残留物に任意の段階でハロゲン化
水素を導入して処理することにより行う。ここで
用いるハロゲン化水素としては、フツ化水素、塩
化水素、臭化水素などがあげられる。また、ハロ
ゲン化水素の導入量及び導入時間に特に制限はな
いが、好ましくは20〜1000ml/minで10分〜24時
間の範囲である。 本発明において、核塩素化反応及び触媒の活性
化の際に溶媒を特に使用する必要はないが、反応
を円滑に行う目的で不活性溶媒を用いてもよく、
原料であるアルキルベンゼンを溶媒として用いて
もよい。 また触媒を活性化させるに際し、塩素化される
べきアルキルベンゼンが残存していてもよい。 本発明において、触媒の活性化に用いるハロゲ
ン化水素は、アルキルベンゼンの核塩素化に際し
て副生する塩化水素を用いることができるので非
常に経済的である。 本発明により、p―クロロアルキルベンゼンを
選択性よく繰返し製造することができ、m―クロ
ロ体及びポリクロロ体の生成を極めて少なくする
ことができる。また、触媒を繰返し使用できるの
で、生成p―クロロアルキルベンゼン当りの触媒
量を大巾に減少できるばかりでなく、廃液及び残
渣の量が軽減できるので廃棄物処理の面からも好
ましく、本発明の工業的価値は極めて高い。 次に、実施例により本発明をさらに詳細に説明
する。 実施例 1 かきまぜ機、温度計、ガス吹込み管及び還流コ
ンデンサーを具備した1四つ口フラスコに、ト
ルエン368g、三塩化アンチモン0.1g及び2,
3,7,8―テトラクロロフエノキサチン0.14g
を仕込み、かきまぜながら温度が50℃になるまで
加熱し、温度を50〜55℃に保ちながら塩素ガスを
300ml/minの速度で導入し5時間反応させた。
反応終了後、蒸留してトルエンの核塩素化物を分
離し、触媒を含む残留物にあらたにトルエンを加
えて再び塩素ガスを導入して前記と同様に塩素化
反応を行つた。このようにして塩素化反応を6回
繰返して行つた。6回目の反応混合物から、トル
エンの核塩素化物を分離したのち、触媒を含む残
留物にかきまぜながら塩化水素を100ml/minで
1時間導入して処理した。次いで、あらたにトル
エンを加えて前記と同様の塩素化反応を繰返して
さらに7回、合計13回行つた。 生成したモノクロロトルエンはいずれの回も
o/p比は0.85〜0.87で、枝塩素化物は認められ
なかつた。 また、6回目終了後の残留物を分析したとこ
ろ、使用した2,3,7,8―テトラクロロフエ
ノキサチンの52%が10―オキシ体に酸化されてい
たが、塩化水素で処理したあとではその80%が
2,3,7,8―テトラクロロフエノキサチンと
なつていることがわかつた。 また、2,3,7,8―テトラクロロフエノキ
サチンの絶対量は、初回から13回目まで変化な
く、10―オキシ体に酸化されぬ以外は分解などの
化学変化を受けていないことが判明した。 比較例 1 7回目の塩素化反応の前に塩化水素処理を行わ
ない以外は実施例1と同様にしてトルエンの塩素
化反応を9回繰返して行つた。 生成したモノクロロトルエンのo/p比は初回
から6回目までは0.86と変化がなく枝塩素化物も
認められなかつたが、7回目ではo/p比が
0.95、8回目ではo/p比が1.30となり、9回目
で生成したモノクロロトルエンのo/p比は1.5
で、枝塩素化物も多量に検出された。 また、9回目終了後には、2,3,7,8―テ
トラクロロフエノキサチンは10%しか存在せず、
残りは10―オキシ体であつた。 実施例 2 トルエンの塩素化を触媒の種類及び触媒量を変
化させる以外は実施例1と同様に行つた。塩化水
素処理も実施例1と同様に7回目の反応を始める
前に行つた。 結果を第1表に示す。
位の核塩素化物を連続的に製造する方法に関する
ものである。 アルキルベンゼンの核塩素化物は、医薬、農薬
をはじめ各種有機合成化学の原料として有用であ
る。特にp―クロロトルエンなどのアルキルベン
ゼンのp―位の核塩素化物の需要量が多い。 本発明者は、すでにアルキルベンゼンのp―位
の核塩素化物を選択性よく製造する方法として、
アルキルベンゼンをルイス酸及び一般式 (式中のX1,X2,X3及びX4はそれぞれ同一か
あるいは相異なる水素原子、電子吸引性基又は電
子供与性基を示す) で表わされるフエノキサチン化合物からなる触媒
の存在下に塩素により核塩素化する方法を開発し
た。 この方法は、触媒の安定性がよいので、触媒を
追加したり取り替えたりすることなくアルキルベ
ンゼンの核塩素化を5〜6回繰返し収率よく行う
ことが可能であるが、これ以上アルキルベンゼン
の核塩素化の回数を重ねるとp―位に対する塩素
化の選択性が悪化する。これはアルキルベンゼン
のアルキル基に対するo―位の核塩素化物とp―
位の核塩素化物との比いわゆるo/p比が増大す
ることによつて示される。 本発明者は、前記触媒を用いてアルキルベンゼ
ンの核塩素化をさらに繰返して行つてもp―位の
核塩素化の選択性が低下しない方法を開発すべく
鋭意研究を重ねた結果、核塩素化を行つた後、目
的生成物である核塩素化物を例えば蒸留などによ
つて分離したあとの触媒を含む残留物をハロゲン
化水素で処理した場合には、この触媒を用いてさ
らに繰返しアルキルベンゼンの核塩素化を行つて
もo/p比は増大せず、高収率でp―塩素化物が
製造できることを見いだし、この知見に基づいて
本発明をなすに至つた。 すなわち、本発明は、アルキルベンゼンをルイ
ス酸及び一般式() (式中のX1,X2,X3及びX4はそれぞれ同一か
あるいは相異なる水素原子、電子吸引性基又は電
子供与性基を示す) で表わされるフエノキサチン化合物からなる触媒
の存在下に核塩素化し、次いで目的生成物である
核塩素化物を分離し、触媒を含む残留物に新たに
アルキルベンゼンを加えて塩素により核塩素化を
行うことによりアルキルベンゼンの核塩素化物を
連続的に製造するに当り、任意の段階で前記触媒
を含む残留物にハロゲン化水素を導入し触媒を活
性化することを特徴とするアルキルベンゼンの核
塩素化物の製造方法を提供するものである。 本発明において塩素化されるアルキルベンゼン
としては、各種の直鎖状及び分枝鎖状アルキルベ
ンゼン及び置換アルキルベンゼンをあげることが
できるが、特にアルキル基の炭素数が1〜4のも
のが適当である。 本発明において用いられるルイス酸は、通常の
意味のルイス酸ばかりでなく、核塩素化反応中に
ルイス酸を形成するか、あるいはルイス酸として
の機能をなす金属又は化合物を含むものであつ
て、例えばアンチモン、鉄、スズ、鉛、アルミニ
ウム、モリブデン、テルルなどの金属、これらの
ハロゲン化物、酸化物、硫化物、カルボニル化合
物などがあげられ、特に好ましい例としては、三
塩化アンチモン、三フツ化アンチモン、塩化第一
鉄、塩化第二鉄、四塩化テルル、オキシ塩化アン
チモン、三酸化アンチモン、四酸化アンチモン、
五酸化アンチモン、酸化第二鉄、硫化鉛、硫化第
一鉄、二硫化鉄、モリブデンヘキサカルボニル、
鉄ペンタカルボニルなどをあげることができる。 また、一般式()で表わされるフエノキサチ
ン化合物としては、一般式()におけるX1,
X2,X3及びX4は水素原子、電子吸引性基又は電
子供与性基であつて、これらは各々同一であつて
も相異なつていてもよい。ここで電子吸引性基と
しては、塩素原子、臭素原子、フツ素原子のよう
なハロゲン原子、アセチル基のようなアルカノイ
ル基、ベンゾイル基のようなアロイル基、ニトロ
基、スルホニル基、シアノ基、トリフルオロメチ
ル基などをあげることができ、電子供与性基とし
ては、アルキル基、アルコキシ基などをあげるこ
とができる。 本発明において、一般式()で表わされるフ
エノキサチン化合物は単独で用いても混合して用
いてもよい。 本発明において、ルイス酸とフエノキサチン化
合物は、モル比で0.1〜10:1、好ましくは0.25
〜4:1の割合で用いられる。 また、本発明によりアルキルベンゼンの核塩素
化を行うには、ルイス酸とフエノキサチン化合物
の総量で、アルキルベンゼンの量の0.001〜5.0重
量%、好ましくは0.01〜1.0重量%の割合で触媒
を存在させ、反応混合物の沸点以下の温度で塩素
化剤を導入する。温度があまり高い場合には、多
塩素化物の生成量が多くなり、p―塩素化物の収
率が減り好ましくない、一方、マイナス数10℃以
下の低温でも反応は行え、p―塩素化物の選択率
は高くなるが、反応速度が遅くなり経済的でない
ので、通常は0〜80℃の温度で、工業的には20〜
70℃の温度で行うのが適切である。この際の塩素
化剤としては塩化チオニル、次亜塩素酸塩などの
慣用されている塩素化剤を用いることができる
が、特に好ましいのは塩素ガスである。この塩素
ガスを用いる場合には、減圧、加圧のいずれでも
よいが通常は常圧で行う。 本発明において、触媒の活性化は目的生成物で
ある核塩素化物を例えば蒸留などにより分離した
後の触媒を含む残留物に任意の段階でハロゲン化
水素を導入して処理することにより行う。ここで
用いるハロゲン化水素としては、フツ化水素、塩
化水素、臭化水素などがあげられる。また、ハロ
ゲン化水素の導入量及び導入時間に特に制限はな
いが、好ましくは20〜1000ml/minで10分〜24時
間の範囲である。 本発明において、核塩素化反応及び触媒の活性
化の際に溶媒を特に使用する必要はないが、反応
を円滑に行う目的で不活性溶媒を用いてもよく、
原料であるアルキルベンゼンを溶媒として用いて
もよい。 また触媒を活性化させるに際し、塩素化される
べきアルキルベンゼンが残存していてもよい。 本発明において、触媒の活性化に用いるハロゲ
ン化水素は、アルキルベンゼンの核塩素化に際し
て副生する塩化水素を用いることができるので非
常に経済的である。 本発明により、p―クロロアルキルベンゼンを
選択性よく繰返し製造することができ、m―クロ
ロ体及びポリクロロ体の生成を極めて少なくする
ことができる。また、触媒を繰返し使用できるの
で、生成p―クロロアルキルベンゼン当りの触媒
量を大巾に減少できるばかりでなく、廃液及び残
渣の量が軽減できるので廃棄物処理の面からも好
ましく、本発明の工業的価値は極めて高い。 次に、実施例により本発明をさらに詳細に説明
する。 実施例 1 かきまぜ機、温度計、ガス吹込み管及び還流コ
ンデンサーを具備した1四つ口フラスコに、ト
ルエン368g、三塩化アンチモン0.1g及び2,
3,7,8―テトラクロロフエノキサチン0.14g
を仕込み、かきまぜながら温度が50℃になるまで
加熱し、温度を50〜55℃に保ちながら塩素ガスを
300ml/minの速度で導入し5時間反応させた。
反応終了後、蒸留してトルエンの核塩素化物を分
離し、触媒を含む残留物にあらたにトルエンを加
えて再び塩素ガスを導入して前記と同様に塩素化
反応を行つた。このようにして塩素化反応を6回
繰返して行つた。6回目の反応混合物から、トル
エンの核塩素化物を分離したのち、触媒を含む残
留物にかきまぜながら塩化水素を100ml/minで
1時間導入して処理した。次いで、あらたにトル
エンを加えて前記と同様の塩素化反応を繰返して
さらに7回、合計13回行つた。 生成したモノクロロトルエンはいずれの回も
o/p比は0.85〜0.87で、枝塩素化物は認められ
なかつた。 また、6回目終了後の残留物を分析したとこ
ろ、使用した2,3,7,8―テトラクロロフエ
ノキサチンの52%が10―オキシ体に酸化されてい
たが、塩化水素で処理したあとではその80%が
2,3,7,8―テトラクロロフエノキサチンと
なつていることがわかつた。 また、2,3,7,8―テトラクロロフエノキ
サチンの絶対量は、初回から13回目まで変化な
く、10―オキシ体に酸化されぬ以外は分解などの
化学変化を受けていないことが判明した。 比較例 1 7回目の塩素化反応の前に塩化水素処理を行わ
ない以外は実施例1と同様にしてトルエンの塩素
化反応を9回繰返して行つた。 生成したモノクロロトルエンのo/p比は初回
から6回目までは0.86と変化がなく枝塩素化物も
認められなかつたが、7回目ではo/p比が
0.95、8回目ではo/p比が1.30となり、9回目
で生成したモノクロロトルエンのo/p比は1.5
で、枝塩素化物も多量に検出された。 また、9回目終了後には、2,3,7,8―テ
トラクロロフエノキサチンは10%しか存在せず、
残りは10―オキシ体であつた。 実施例 2 トルエンの塩素化を触媒の種類及び触媒量を変
化させる以外は実施例1と同様に行つた。塩化水
素処理も実施例1と同様に7回目の反応を始める
前に行つた。 結果を第1表に示す。
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
実施例 3
トルエン368gの代りにエチルベンゼン424gを
仕込む以外は実施例1と同様にして、13回繰返し
エチルベンゼンの塩素化反応を行つた。7回目の
反応を行う前に実施例1と同様に残留物の塩化水
素処理を行つた。 生成したモノクロロエチルベンゼンはいずれの
回もo/p比は0.60〜0.64で、枝塩素化物は認め
られなかつた。 実施例 4 トルエン368gの代りにクメン480gを仕込む以
外は実施例1と同様にして、13回繰返してクメン
の塩素化を行つた。7回目の反応を行う前に実施
例1と同様に残留物の塩化水素処理を行つた。 生成したモノクロロクメンはいずれの回もo/
p比は0.45〜0.48で、枝塩素化物は認められなか
つた。
仕込む以外は実施例1と同様にして、13回繰返し
エチルベンゼンの塩素化反応を行つた。7回目の
反応を行う前に実施例1と同様に残留物の塩化水
素処理を行つた。 生成したモノクロロエチルベンゼンはいずれの
回もo/p比は0.60〜0.64で、枝塩素化物は認め
られなかつた。 実施例 4 トルエン368gの代りにクメン480gを仕込む以
外は実施例1と同様にして、13回繰返してクメン
の塩素化を行つた。7回目の反応を行う前に実施
例1と同様に残留物の塩化水素処理を行つた。 生成したモノクロロクメンはいずれの回もo/
p比は0.45〜0.48で、枝塩素化物は認められなか
つた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 アルキルベンゼンをルイス酸及び一般式 (式中のX1,X2,X3及びX4はそれぞれ同一か
あるいは相異なる水素原子、電子吸引性基又は電
子供与性基を示す) で表わされるフエノキサチン化合物からなる触媒
の存在下に核塩素化し、次いで目的生成物である
核塩素化物を分離し、触媒を含む残留物に新たに
アルキルベンゼンを加えて核塩素化を行うことに
よりアルキルベンゼンの核塩素化物を連続的に製
造するに当り、任意の段階で前記触媒を含む残留
物にハロゲン化水素を導入し触媒を活性化するこ
とを特徴とするアルキルベンゼンの核塩素化物の
製造方法。 2 ハロゲン化水素が塩化水素である特許請求の
範囲第1項記載の方法。
Priority Applications (10)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP731980A JPS56104827A (en) | 1980-01-24 | 1980-01-24 | Preparation of nucleus-chlorinated alkylbenzene |
US06/152,817 US4289916A (en) | 1979-06-28 | 1980-05-23 | Process for producing p-chloroalkylbenzene |
NL8003404A NL191313C (nl) | 1979-06-28 | 1980-06-12 | Werkwijze voor de bereiding van p-chlooralkylbenzeen. |
CA354,382A CA1123861A (en) | 1979-06-28 | 1980-06-19 | Process for producing p-chloroalkylbenzene |
DE19803023437 DE3023437A1 (de) | 1979-06-28 | 1980-06-23 | Verfahren zur herstellung von p-chloralkylbenzol |
FR8014123A FR2460281A1 (fr) | 1979-06-28 | 1980-06-25 | Procede de production de p-chloroalkylbenzene par chloration d'un alkylbenzene |
IT8023087A IT1131397B (it) | 1979-06-28 | 1980-06-26 | Procedimento per la produzione di p-cloroalchilbenzene |
CH4983/80A CH648817A5 (de) | 1979-06-28 | 1980-06-27 | Verfahren zur herstellung von p-chloralkylbenzol. |
NO801934A NO152897C (no) | 1979-06-28 | 1980-06-27 | Fremgangsmaate for fremstilling av ringklorert alkylbenzen. |
GB8021112A GB2054571B (en) | 1979-06-28 | 1980-06-27 | Process for producing p-chloroalkylbenzene |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP731980A JPS56104827A (en) | 1980-01-24 | 1980-01-24 | Preparation of nucleus-chlorinated alkylbenzene |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS56104827A JPS56104827A (en) | 1981-08-20 |
JPS649297B2 true JPS649297B2 (ja) | 1989-02-16 |
Family
ID=11662656
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP731980A Granted JPS56104827A (en) | 1979-06-28 | 1980-01-24 | Preparation of nucleus-chlorinated alkylbenzene |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS56104827A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56110630A (en) * | 1980-02-07 | 1981-09-01 | Hodogaya Chem Co Ltd | Preparation of chlorinated toluene |
US4444983A (en) * | 1981-04-21 | 1984-04-24 | Hodogaya Chemical Co., Ltd. | Process for the nuclear chlorination of toluene |
-
1980
- 1980-01-24 JP JP731980A patent/JPS56104827A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS56104827A (en) | 1981-08-20 |
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