JPS64377B2 - - Google Patents
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- JPS64377B2 JPS64377B2 JP59141073A JP14107384A JPS64377B2 JP S64377 B2 JPS64377 B2 JP S64377B2 JP 59141073 A JP59141073 A JP 59141073A JP 14107384 A JP14107384 A JP 14107384A JP S64377 B2 JPS64377 B2 JP S64377B2
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- methyl
- reaction
- buten
- butene
- water
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は不飽和アセタールの製造方法に関し、
詳しくは3―メチル―2―ブテン―1―アールと
3―メチル―2―ブテン―1―オールとから式
() で示される不飽和アセタール〔以下、これを不飽
和アセタール()と称す〕を製造する方法に関
する。
詳しくは3―メチル―2―ブテン―1―アールと
3―メチル―2―ブテン―1―オールとから式
() で示される不飽和アセタール〔以下、これを不飽
和アセタール()と称す〕を製造する方法に関
する。
本発明の方法により製造される不飽和アセター
ル()は香料、ビタミン類の合成中間体である
シトラールの原料として、またオレフインの重合
触媒の変性剤であるジイソアミルエーテルの原料
として有用な化合物である。
ル()は香料、ビタミン類の合成中間体である
シトラールの原料として、またオレフインの重合
触媒の変性剤であるジイソアミルエーテルの原料
として有用な化合物である。
アルデヒドとアルコールをp―トルエンスルホ
ン酸、塩化水素、臭化水素などの酸性触媒の存在
下に反応させた場合に対応するアセタールが得ら
れることは一般に知られている。しかしながら、
不飽和アセタール()を製造する際に通常の酸
性触媒を使用するアセタール合成法を適用した場
合、その原料である3―メチル―2―ブテン―1
―アールと3―メチル―2―ブテン―1―オール
及び生成する不飽和アセタール()が酸性条件
下で極めて不安定であり、かつ反応の平衡が原料
側に著しく片寄つているため、不飽和アセタール
()は低い収率でしか得られない。このため、
従来3―メチル―2―ブテン―1―アールと3―
メチル―2―ブテン―1―オールを反応させて不
飽和アセタール()を製造する方法が種々提案
されている。例えば、特開昭49―125314号明細書
には、3―メチル―2―ブテン―1―オールなど
のアルコールと3―メチル―2―ブテン―1―ア
ールなどのアルデヒドとを硫酸カルシウム、硫酸
アンモニウムなどの縮合剤及びモレキユラ・シー
ブ、硫酸マグネシウム、塩化カルシウムなどの脱
水剤の存在下に反応させて不飽和アセタール
()などのアセタールを製造する方法〔以下、
従来法(i)と称す〕が記載されている。また特開昭
49―133312号明細書又は特開昭50―12010号明細
書には、n―ヘプタン又はトルエンを溶媒として
用い、常圧下で各々の溶媒の還流下に3―メチル
―2―ブテン―1―アールと3―メチル―2―ブ
テン―1―オールとを生成する水を留去させなが
ら反応させることにより不飽和アセタール()
を製造する方法〔以下、従来法(ii)と称す〕が開示
されている。さらに特開昭52―148009号明細書に
は、水の系外除去装置を頂部に備えた精留塔内で
3―メチル―2―ブテン―1―アールなどのアル
デヒドと3―メチル―2―ブテン―1―オールな
どのアルコールとを硝酸などの蒸留可能な酸の存
在下に反応させることにより不飽和アセタール
()などのアセタールを製造する方法〔以下、
従来法(iii)と称す〕が記載されている。
ン酸、塩化水素、臭化水素などの酸性触媒の存在
下に反応させた場合に対応するアセタールが得ら
れることは一般に知られている。しかしながら、
不飽和アセタール()を製造する際に通常の酸
性触媒を使用するアセタール合成法を適用した場
合、その原料である3―メチル―2―ブテン―1
―アールと3―メチル―2―ブテン―1―オール
及び生成する不飽和アセタール()が酸性条件
下で極めて不安定であり、かつ反応の平衡が原料
側に著しく片寄つているため、不飽和アセタール
()は低い収率でしか得られない。このため、
従来3―メチル―2―ブテン―1―アールと3―
メチル―2―ブテン―1―オールを反応させて不
飽和アセタール()を製造する方法が種々提案
されている。例えば、特開昭49―125314号明細書
には、3―メチル―2―ブテン―1―オールなど
のアルコールと3―メチル―2―ブテン―1―ア
ールなどのアルデヒドとを硫酸カルシウム、硫酸
アンモニウムなどの縮合剤及びモレキユラ・シー
ブ、硫酸マグネシウム、塩化カルシウムなどの脱
水剤の存在下に反応させて不飽和アセタール
()などのアセタールを製造する方法〔以下、
従来法(i)と称す〕が記載されている。また特開昭
49―133312号明細書又は特開昭50―12010号明細
書には、n―ヘプタン又はトルエンを溶媒として
用い、常圧下で各々の溶媒の還流下に3―メチル
―2―ブテン―1―アールと3―メチル―2―ブ
テン―1―オールとを生成する水を留去させなが
ら反応させることにより不飽和アセタール()
を製造する方法〔以下、従来法(ii)と称す〕が開示
されている。さらに特開昭52―148009号明細書に
は、水の系外除去装置を頂部に備えた精留塔内で
3―メチル―2―ブテン―1―アールなどのアル
デヒドと3―メチル―2―ブテン―1―オールな
どのアルコールとを硝酸などの蒸留可能な酸の存
在下に反応させることにより不飽和アセタール
()などのアセタールを製造する方法〔以下、
従来法(iii)と称す〕が記載されている。
上記の従来法(i)は実際には大量の脱水剤を使用
し室温付近の温度で長時間反応させることにより
行なわれており、この大量の脱水剤を繰返し使用
するにはその再生処理が必要となるため、工業的
には採用し難い。従来法(ii)では目的とするアセタ
ールへの選択率が非常に低い。また従来法(iii)では
精留塔内に一定の濃度で蒸留可能な酸を存在させ
て精留条件下に反応を実施し、かつ生成したアセ
タールを含む塔底液に上記の酸が存在しないよう
に調節する必要があり、これらの操作を工業的に
実施するには難点がある。
し室温付近の温度で長時間反応させることにより
行なわれており、この大量の脱水剤を繰返し使用
するにはその再生処理が必要となるため、工業的
には採用し難い。従来法(ii)では目的とするアセタ
ールへの選択率が非常に低い。また従来法(iii)では
精留塔内に一定の濃度で蒸留可能な酸を存在させ
て精留条件下に反応を実施し、かつ生成したアセ
タールを含む塔底液に上記の酸が存在しないよう
に調節する必要があり、これらの操作を工業的に
実施するには難点がある。
本発明の目的は、上記のごとき従来法の問題点
を解決し、3―メチル―2―ブテン―1―アール
と3―メチル―2―ブテン―1―オールとを反応
させて不飽和アセタール()を高選択率で製造
するための改良された方法を提供するにある。
を解決し、3―メチル―2―ブテン―1―アール
と3―メチル―2―ブテン―1―オールとを反応
させて不飽和アセタール()を高選択率で製造
するための改良された方法を提供するにある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明によれば、上記の目的は、3―メチル―
2―ブテン―1―アールと3―メチル―2―ブテ
ン―1―オールを硫酸マグネシウムの存在下に
110℃以下の温度で生成する水を留去させながら
反応させることを特徴とする不飽和アセタール
()の製造方法を提供することによつて達成さ
れる。
2―ブテン―1―アールと3―メチル―2―ブテ
ン―1―オールを硫酸マグネシウムの存在下に
110℃以下の温度で生成する水を留去させながら
反応させることを特徴とする不飽和アセタール
()の製造方法を提供することによつて達成さ
れる。
本発明に従う3―メチル―2―ブテン―1―ア
ールと3―メチル―2―ブテン―1―オールとの
反応において反応系内に存在させる硫酸マグネシ
ウムは無水物又は水和物のいずれでもよい。硫酸
マグネシウムは通常原料の3―メチル―2―ブテ
ン―1―アールに対して約0.1〜20重量%の量使
用される。硫酸マグネシウムは反応混合液中には
殆んど溶解しないため、反応終了後は反応混合物
を過することにより容易に分離することが可能
である。回収された硫酸マグネシウムはそのまま
再使用することができる。
ールと3―メチル―2―ブテン―1―オールとの
反応において反応系内に存在させる硫酸マグネシ
ウムは無水物又は水和物のいずれでもよい。硫酸
マグネシウムは通常原料の3―メチル―2―ブテ
ン―1―アールに対して約0.1〜20重量%の量使
用される。硫酸マグネシウムは反応混合液中には
殆んど溶解しないため、反応終了後は反応混合物
を過することにより容易に分離することが可能
である。回収された硫酸マグネシウムはそのまま
再使用することができる。
本発明の方法においては、反応を110℃以下の
温度で行なうことが必要である。反応温度が110
℃を越えると原料の3―メチル―2―ブテン―1
―オール及び生成する不飽和アセタール()の
分解が顕著に起り、不飽和アセタール()の収
率が大幅に低下する。反応温度の下限は反応上特
に制限されないが、本発明の方法では生成する水
を留去させながら反応を行なう必要上、40℃を越
える温度であることが好ましい。
温度で行なうことが必要である。反応温度が110
℃を越えると原料の3―メチル―2―ブテン―1
―オール及び生成する不飽和アセタール()の
分解が顕著に起り、不飽和アセタール()の収
率が大幅に低下する。反応温度の下限は反応上特
に制限されないが、本発明の方法では生成する水
を留去させながら反応を行なう必要上、40℃を越
える温度であることが好ましい。
また本発明の方法においては、反応を生成する
水を留去させながら行なうことが必要である。不
飽和アセタール()の生成反応は下記の反応式
で示すとおり平衡反応であり、しかもその平衡は
原料側に著しく片寄つているため、水を反応系外
に除去しない場合には原料の転化率は極めて低
い。
水を留去させながら行なうことが必要である。不
飽和アセタール()の生成反応は下記の反応式
で示すとおり平衡反応であり、しかもその平衡は
原料側に著しく片寄つているため、水を反応系外
に除去しない場合には原料の転化率は極めて低
い。
本発明に従う反応において溶媒は用いても用い
なくともよい。溶媒としてはn―ヘキサン、n―
ヘプタンなどの脂肪族炭化水素;クメン、シクロ
ヘキサンなどの脂環式炭化水素;エチルベンゼ
ン、キシレンなどの芳香族炭化水素など、反応条
件下で実質的に変化せず水と共沸しかつ水と相分
離するような溶媒を使用するのが好ましい。この
ような溶媒を使用した場合、留出物を相分離した
のち、溶媒層をそのまま蒸留塔の塔頂に還流とし
て戻すことができる。溶媒の使用及び使用する溶
媒の種類は、上記の110℃以下の温度で生成する
水を留去させながら反応を行なう条件下において
採用する反応圧力との関係において適宜選択され
る。例えば、溶媒の不存在下に反応を行ない、生
成する水を原料の3―メチル―2―ブテン―1―
アール及び3―メチル―2―ブテン―1―オール
との共沸により系外に留去させる場合、及びクメ
ン、エチルベンゼン、キシレンなどの沸点が110
℃を越える溶媒の存在下に反応を行ない、生成す
る水を溶媒との共沸により系外に留去させる場合
には、減圧下に反応を行なう。また、n―ヘキサ
ン、n―ヘプタン、シクロヘキサンなどの低沸点
溶媒の存在下に反応を行なう場合には、常圧下で
反応を行なうことができる。生成する水を留去さ
せるために用いる蒸留塔の段数は、留出する有機
相への水の溶解度、水と原料又は溶媒との共沸混
合物の組成、蒸気圧を考慮して決められる。
なくともよい。溶媒としてはn―ヘキサン、n―
ヘプタンなどの脂肪族炭化水素;クメン、シクロ
ヘキサンなどの脂環式炭化水素;エチルベンゼ
ン、キシレンなどの芳香族炭化水素など、反応条
件下で実質的に変化せず水と共沸しかつ水と相分
離するような溶媒を使用するのが好ましい。この
ような溶媒を使用した場合、留出物を相分離した
のち、溶媒層をそのまま蒸留塔の塔頂に還流とし
て戻すことができる。溶媒の使用及び使用する溶
媒の種類は、上記の110℃以下の温度で生成する
水を留去させながら反応を行なう条件下において
採用する反応圧力との関係において適宜選択され
る。例えば、溶媒の不存在下に反応を行ない、生
成する水を原料の3―メチル―2―ブテン―1―
アール及び3―メチル―2―ブテン―1―オール
との共沸により系外に留去させる場合、及びクメ
ン、エチルベンゼン、キシレンなどの沸点が110
℃を越える溶媒の存在下に反応を行ない、生成す
る水を溶媒との共沸により系外に留去させる場合
には、減圧下に反応を行なう。また、n―ヘキサ
ン、n―ヘプタン、シクロヘキサンなどの低沸点
溶媒の存在下に反応を行なう場合には、常圧下で
反応を行なうことができる。生成する水を留去さ
せるために用いる蒸留塔の段数は、留出する有機
相への水の溶解度、水と原料又は溶媒との共沸混
合物の組成、蒸気圧を考慮して決められる。
原料として用いられる3―メチル―2―ブテン
―1―アールと3―メチル―2―ブテン―1―オ
ールとのモル比については特に制限はないが、反
応効率の点から前者対後者のモル比が1対2に近
い値であるのが好ましい。また原料のどちらか一
方を過剰に用いることもできるが、この場合には
反応効率が悪い。原料の転化率を高くすることも
可能であるが、この場合には、転化率が上昇する
に従い不飽和アセタール()の生成速度が遅く
なり、エネルギーの使用量が増加して操業上不利
となる。この観点から、原料の3―メチル―2―
ブテン―1―アールと3―メチル―2―ブテン―
1―オールのモル比がほぼ1対2の場合には、原
料の転化率を30〜70%に抑えるのが好ましい。
―1―アールと3―メチル―2―ブテン―1―オ
ールとのモル比については特に制限はないが、反
応効率の点から前者対後者のモル比が1対2に近
い値であるのが好ましい。また原料のどちらか一
方を過剰に用いることもできるが、この場合には
反応効率が悪い。原料の転化率を高くすることも
可能であるが、この場合には、転化率が上昇する
に従い不飽和アセタール()の生成速度が遅く
なり、エネルギーの使用量が増加して操業上不利
となる。この観点から、原料の3―メチル―2―
ブテン―1―アールと3―メチル―2―ブテン―
1―オールのモル比がほぼ1対2の場合には、原
料の転化率を30〜70%に抑えるのが好ましい。
本発明における反応は連続式、回分式のいずれ
でも実施することができる。
でも実施することができる。
反応終了後、反応混合液から過、遠心分離又
はデカンテーシヨンにより硫酸マグネシウムを分
離したのち、その残液を減圧蒸留に付することに
より未反応の3―メチル―2―ブテン―1―アー
ルと3―メチル―2―ブテン―1―オールを留去
しかつ必要に応じて溶媒を留去し、その残液とし
て高純度の不飽和アセタール()を取得するこ
とができる。さらに高純度の不飽和アセタール
()が所望される場合には、上記の不飽和アセ
タール()からなる残液をさらに減圧蒸留に付
する。減圧蒸留を行なうに際しては、蒸留原液に
混入してくる極微量の硫酸マグネシウムに起因す
る不飽和アセタール()の分解を避けるため、
予め蒸留原液にこれに対して0.005〜0.05重量%
の炭酸ナトリウムなどの弱塩基性物質を添加して
おくことが好ましい。
はデカンテーシヨンにより硫酸マグネシウムを分
離したのち、その残液を減圧蒸留に付することに
より未反応の3―メチル―2―ブテン―1―アー
ルと3―メチル―2―ブテン―1―オールを留去
しかつ必要に応じて溶媒を留去し、その残液とし
て高純度の不飽和アセタール()を取得するこ
とができる。さらに高純度の不飽和アセタール
()が所望される場合には、上記の不飽和アセ
タール()からなる残液をさらに減圧蒸留に付
する。減圧蒸留を行なうに際しては、蒸留原液に
混入してくる極微量の硫酸マグネシウムに起因す
る不飽和アセタール()の分解を避けるため、
予め蒸留原液にこれに対して0.005〜0.05重量%
の炭酸ナトリウムなどの弱塩基性物質を添加して
おくことが好ましい。
以下、実施例により本発明を説明するが、本発
明はこれらの実施例により限定されるものではな
い。
明はこれらの実施例により限定されるものではな
い。
実施例 1
水分定量受器を塔頂部に付けたマクマホン充て
ん塔(内径20mm、高さ1000mm)に接続した内容量
2の三つ口フラスコを反応装置として用いた。
三つ口フラスコに3―メチル―2―ブテン―1―
アール460.0g、3―メチル―2―ブテン―1―
オール942.6g及び無水硫酸マグネシウム7.0gを
入れ、70〜60Torrの圧力下80〜82℃で、生成す
る水を3―メチル―2―ブテン―1―アール及び
3―メチル―2―ブテン―1―オールと共に留出
させながら7時間反応させた。この間、留出した
3―メチル―2―ブテン―1―アール及び3―メ
チル―2―ブテン―1―オールは水分定量受器よ
りオーバーフローさせ、塔頂部に還流させた。反
応終了後、三つ口フラスコ中の反応混合液及び水
分定量受器中の液をガスクロマトグラフイーによ
り定量した。また、充てん塔内の残存液をアセト
ンにより洗い流したのち、ガスクロマトグラフイ
ーにより定量した。反応成績は次に示すとおりで
あつた。
ん塔(内径20mm、高さ1000mm)に接続した内容量
2の三つ口フラスコを反応装置として用いた。
三つ口フラスコに3―メチル―2―ブテン―1―
アール460.0g、3―メチル―2―ブテン―1―
オール942.6g及び無水硫酸マグネシウム7.0gを
入れ、70〜60Torrの圧力下80〜82℃で、生成す
る水を3―メチル―2―ブテン―1―アール及び
3―メチル―2―ブテン―1―オールと共に留出
させながら7時間反応させた。この間、留出した
3―メチル―2―ブテン―1―アール及び3―メ
チル―2―ブテン―1―オールは水分定量受器よ
りオーバーフローさせ、塔頂部に還流させた。反
応終了後、三つ口フラスコ中の反応混合液及び水
分定量受器中の液をガスクロマトグラフイーによ
り定量した。また、充てん塔内の残存液をアセト
ンにより洗い流したのち、ガスクロマトグラフイ
ーにより定量した。反応成績は次に示すとおりで
あつた。
3―メチル―2―ブテン―1―アールの転化率
43.2% 3―メチル―2―ブデン―1―オールの転化率
42.8% 不飽和アセタール()への選択率 3―メチル―2―ブテン―1―アールを基準と
した場合 96.8% 3―メチル―2―ブテン―1―オールを基準と
した場合 97.6% 実施例 2 水分定量受器を塔頂部に付けたビグリユーカラ
ムに接続した内容量300mlの三つ口フラスコを反
応装置として用いた。三つ口フラスコに3―メチ
ル―2―ブテン―1―アール30.82g、3―メチ
ル―2―ブテン―1―オール63.51g、シクロヘ
キサン43.68g及び硫酸マグネシウム1.00gを仕
込み、また水分定量受器には予めシクロヘキサン
16.65gを仕込んで、常圧下に生成する水をシク
ロヘキサンと共に留出させながら94〜98℃で4時
間反応を行なつた。この間、留出したシクロヘキ
サンは水分定量受器よりオーバーフローさせ、塔
頂部に還流させた。反応終了後、三つ口フラスコ
中の反応混合液及び水分定量受器中の液をガスク
ロマトグラフイーにより定量した。反応成績は次
に示すとおりであつた。
43.2% 3―メチル―2―ブデン―1―オールの転化率
42.8% 不飽和アセタール()への選択率 3―メチル―2―ブテン―1―アールを基準と
した場合 96.8% 3―メチル―2―ブテン―1―オールを基準と
した場合 97.6% 実施例 2 水分定量受器を塔頂部に付けたビグリユーカラ
ムに接続した内容量300mlの三つ口フラスコを反
応装置として用いた。三つ口フラスコに3―メチ
ル―2―ブテン―1―アール30.82g、3―メチ
ル―2―ブテン―1―オール63.51g、シクロヘ
キサン43.68g及び硫酸マグネシウム1.00gを仕
込み、また水分定量受器には予めシクロヘキサン
16.65gを仕込んで、常圧下に生成する水をシク
ロヘキサンと共に留出させながら94〜98℃で4時
間反応を行なつた。この間、留出したシクロヘキ
サンは水分定量受器よりオーバーフローさせ、塔
頂部に還流させた。反応終了後、三つ口フラスコ
中の反応混合液及び水分定量受器中の液をガスク
ロマトグラフイーにより定量した。反応成績は次
に示すとおりであつた。
3―メチル―2―ブテン―1―アールの転化率
46.1% 3―メチル―2―ブテン―1―オールの転化率
46.3% 不飽和アセタール()への選択率 3―メチル―2―ブテン―1―アールを基準と
した場合 98.1% 3―メチル―2―ブテン―1―オールを基準と
した場合 97.1% 実施例 3 実施例2で用いたのと同様の反応装置を用い
た。三つ口フラスコに3―メチル―2―ブテン―
1―アール31.74g、3―メチル―2―ブテン―
1―オール65.14g、n―ヘプタン50.10g及び硫
酸マグネシウム1.02gを仕込み、また水分定量受
器にはn―ヘプタンを17.02g仕込んで、常圧下
に生成する水をn―ヘプタンと共に留出させなが
ら101〜106℃で4時間反応を行なつた。この間、
留出したn―ヘプタンは水分定量受器よりオーバ
ーフローさせ、塔頂部に還流させた。反応終了
後、実施例2と同様の方法で反応成績を求めた。
その結果を次に示す。
46.1% 3―メチル―2―ブテン―1―オールの転化率
46.3% 不飽和アセタール()への選択率 3―メチル―2―ブテン―1―アールを基準と
した場合 98.1% 3―メチル―2―ブテン―1―オールを基準と
した場合 97.1% 実施例 3 実施例2で用いたのと同様の反応装置を用い
た。三つ口フラスコに3―メチル―2―ブテン―
1―アール31.74g、3―メチル―2―ブテン―
1―オール65.14g、n―ヘプタン50.10g及び硫
酸マグネシウム1.02gを仕込み、また水分定量受
器にはn―ヘプタンを17.02g仕込んで、常圧下
に生成する水をn―ヘプタンと共に留出させなが
ら101〜106℃で4時間反応を行なつた。この間、
留出したn―ヘプタンは水分定量受器よりオーバ
ーフローさせ、塔頂部に還流させた。反応終了
後、実施例2と同様の方法で反応成績を求めた。
その結果を次に示す。
3―メチル―2―ブテン―1―アールの転化率
49.1% 3―メチル―2―ブテン―1―オールの転化率
50.0% 不飽和アセタール()への選択率 3―メチル―2―ブテン―1―アールを基準と
した場合 95.7% 3―メチル―2―ブテン―1―オールを基準と
した場合 94.3% 比較例 1 実施例2で用いたのと同様の反応装置を用い
た。三つ口フラスコに3―メチル―2―ブテン―
1―アール30.58g、3―メチル―2―ブテン―
1―オール63.21g、トルエン67.1g及び硫酸マ
グネシウム1.02gを仕込み、また水分定量受器に
トルエン19.1gを仕込んで、常圧下に生成する水
をトルエンと共に留去させながら119〜122℃で4
時間反応を行なつた。この間、留出したトルエン
は水分定量受器よりオーバーフローさせ、塔頂部
に還流させた。反応終了後、実施例2と同様の方
法で反応成績を求めた。その結果を次に示す。
49.1% 3―メチル―2―ブテン―1―オールの転化率
50.0% 不飽和アセタール()への選択率 3―メチル―2―ブテン―1―アールを基準と
した場合 95.7% 3―メチル―2―ブテン―1―オールを基準と
した場合 94.3% 比較例 1 実施例2で用いたのと同様の反応装置を用い
た。三つ口フラスコに3―メチル―2―ブテン―
1―アール30.58g、3―メチル―2―ブテン―
1―オール63.21g、トルエン67.1g及び硫酸マ
グネシウム1.02gを仕込み、また水分定量受器に
トルエン19.1gを仕込んで、常圧下に生成する水
をトルエンと共に留去させながら119〜122℃で4
時間反応を行なつた。この間、留出したトルエン
は水分定量受器よりオーバーフローさせ、塔頂部
に還流させた。反応終了後、実施例2と同様の方
法で反応成績を求めた。その結果を次に示す。
3―メチル―2―ブテン―1―アールの転化率
42.3% 3―メチル―2―ブテン―1―オールの転化率
47.8% 不飽和アセタール()への選択率 3―メチル―2―ブテン―1―アールを基準と
した場合 76.9% 3―メチル―2―ブテン―1―オールを基準と
した場合 67.4% 〔発明の効果〕 本発明の方法によれば上記の実施例から明らか
なとおり高選択率で不飽和アセタール()を製
造することができる。
42.3% 3―メチル―2―ブテン―1―オールの転化率
47.8% 不飽和アセタール()への選択率 3―メチル―2―ブテン―1―アールを基準と
した場合 76.9% 3―メチル―2―ブテン―1―オールを基準と
した場合 67.4% 〔発明の効果〕 本発明の方法によれば上記の実施例から明らか
なとおり高選択率で不飽和アセタール()を製
造することができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 3―メチル―2―ブテン―1―アールと3―
メチル―2―ブテン―1―オールを硫酸マグネシ
ウムの存在下に110℃以下の温度で生成する水を
留去させながら反応させることを特徴とする式 で示される不飽和アセタールの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59141073A JPS6122037A (ja) | 1984-07-06 | 1984-07-06 | 不飽和アセタ−ルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59141073A JPS6122037A (ja) | 1984-07-06 | 1984-07-06 | 不飽和アセタ−ルの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6122037A JPS6122037A (ja) | 1986-01-30 |
| JPS64377B2 true JPS64377B2 (ja) | 1989-01-06 |
Family
ID=15283598
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59141073A Granted JPS6122037A (ja) | 1984-07-06 | 1984-07-06 | 不飽和アセタ−ルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6122037A (ja) |
-
1984
- 1984-07-06 JP JP59141073A patent/JPS6122037A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6122037A (ja) | 1986-01-30 |
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