JPS6412254B2 - - Google Patents
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- JPS6412254B2 JPS6412254B2 JP56167323A JP16732381A JPS6412254B2 JP S6412254 B2 JPS6412254 B2 JP S6412254B2 JP 56167323 A JP56167323 A JP 56167323A JP 16732381 A JP16732381 A JP 16732381A JP S6412254 B2 JPS6412254 B2 JP S6412254B2
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- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 10
- -1 aromatic carboxylic acid chlorides Chemical class 0.000 claims description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 6
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 150000003003 phosphines Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims 1
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N phosphine group Chemical group P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 4
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 3
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 3
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012696 Interfacial polycondensation Methods 0.000 description 2
- QMKYBPDZANOJGF-UHFFFAOYSA-N benzene-1,3,5-tricarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=CC(C(O)=O)=C1 QMKYBPDZANOJGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LLEMOWNGBBNAJR-UHFFFAOYSA-N biphenyl-2-ol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 LLEMOWNGBBNAJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Diphenylbenzene Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000041 C6-C10 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- YIIMEMSDCNDGTB-UHFFFAOYSA-N Dimethylcarbamoyl chloride Chemical compound CN(C)C(Cl)=O YIIMEMSDCNDGTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 1
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010406 interfacial reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002531 isophthalic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000010292 orthophenyl phenol Nutrition 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 230000002269 spontaneous effect Effects 0.000 description 1
- 238000010561 standard procedure Methods 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003504 terephthalic acids Chemical class 0.000 description 1
- IFXORIIYQORRMJ-UHFFFAOYSA-N tribenzylphosphane Chemical compound C=1C=CC=CC=1CP(CC=1C=CC=CC=1)CC1=CC=CC=C1 IFXORIIYQORRMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N tributylphosphine Chemical compound CCCCP(CCCC)CCCC TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGNTWNVBGLNYDV-UHFFFAOYSA-N triisopropylphosphine Chemical compound CC(C)P(C(C)C)C(C)C IGNTWNVBGLNYDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
- C07C51/58—Preparation of carboxylic acid halides
- C07C51/60—Preparation of carboxylic acid halides by conversion of carboxylic acids or their anhydrides or esters, lactones, salts into halides with the same carboxylic acid part
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、極めて純粋な、重縮合可能な芳香族
カルボン酸塩化物の単一工程による製造方法に関
するものである。
カルボン酸塩化物の単一工程による製造方法に関
するものである。
脂肪族及び芳香族カルボン酸と塩化チオニルと
の反応は、対応する酸塩化物を生成させる際の有
機化学の標準的方法である。しかしながら、この
工程中、反応生成物として純度96〜99%を有する
暗色に着色したカルボン酸塩化物が得られる。こ
の低純度の芳香族ジカルボン酸二塩化物を高分子
量重縮合体、例えば二相界面重縮合法による芳香
族ポリアミドまたは芳香族ポリエステルの製造に
直接用いることはできない。この目的のためには
少なくとも99.6%の純度が必要である。未反応
の、または一方のみが反応したジカルボン酸が含
まれることにより重縮合工程が妨害され、望まし
くない連鎖の停止が起こり、そして末端にカルボ
キシル基を有する重合体が生じる。かくして生成
された芳香族ジカルボン酸二塩化物は不純物のた
めに暗色の色調であり、加えるにこれらのものは
元素状イオウ及び生じる重縮合体の特性を更にそ
こなわせる結合形態を含んでいる。
の反応は、対応する酸塩化物を生成させる際の有
機化学の標準的方法である。しかしながら、この
工程中、反応生成物として純度96〜99%を有する
暗色に着色したカルボン酸塩化物が得られる。こ
の低純度の芳香族ジカルボン酸二塩化物を高分子
量重縮合体、例えば二相界面重縮合法による芳香
族ポリアミドまたは芳香族ポリエステルの製造に
直接用いることはできない。この目的のためには
少なくとも99.6%の純度が必要である。未反応
の、または一方のみが反応したジカルボン酸が含
まれることにより重縮合工程が妨害され、望まし
くない連鎖の停止が起こり、そして末端にカルボ
キシル基を有する重合体が生じる。かくして生成
された芳香族ジカルボン酸二塩化物は不純物のた
めに暗色の色調であり、加えるにこれらのものは
元素状イオウ及び生じる重縮合体の特性を更にそ
こなわせる結合形態を含んでいる。
塩化チオニル及び触媒としてジメチルホルムア
ミドを用いて酸塩化物を製造する際に(西ドイツ
国特許第1026750号参照)、かなりの量の塩化ジメ
チルカルバミン酸が副生物として生成し、このも
のは生成物を汚染するか、またはおそらく還元さ
れる過剰の塩化チオニル中に著積する。
ミドを用いて酸塩化物を製造する際に(西ドイツ
国特許第1026750号参照)、かなりの量の塩化ジメ
チルカルバミン酸が副生物として生成し、このも
のは生成物を汚染するか、またはおそらく還元さ
れる過剰の塩化チオニル中に著積する。
無色のカルボン酸塩化物を得るために、粗製の
生成物を再結晶または蒸留により精製しなければ
ならない。これらの工程により経費の追加が必要
となり、そして収率が減少し;更に蒸留により自
然分解の危険性が生じる。
生成物を再結晶または蒸留により精製しなければ
ならない。これらの工程により経費の追加が必要
となり、そして収率が減少し;更に蒸留により自
然分解の危険性が生じる。
本発明の目的は、芳香族カルボン酸を塩化チオ
ニルと反応させ、純粋な芳香族カルボン酸塩化物
を製造する単一工程による方法において、触媒と
して第三級ホスフインまたはこのものの塩化チオ
ニル及び/もしくは生じた酸塩化物との反応生成
物を用いることを特徴とする、純粋な芳香族カル
ボン酸塩化物の単一工程による製造方法を得るこ
とにある。かくして得られる芳香族カルボン酸塩
化物は実質的に無色であり、用いた触媒の他に
は、最大0.1%の不純物含有量を有しているにす
ぎないので、無色の高分子量重縮合体を製造する
際に、このものをひき続き精製することなしに用
いることができる。
ニルと反応させ、純粋な芳香族カルボン酸塩化物
を製造する単一工程による方法において、触媒と
して第三級ホスフインまたはこのものの塩化チオ
ニル及び/もしくは生じた酸塩化物との反応生成
物を用いることを特徴とする、純粋な芳香族カル
ボン酸塩化物の単一工程による製造方法を得るこ
とにある。かくして得られる芳香族カルボン酸塩
化物は実質的に無色であり、用いた触媒の他に
は、最大0.1%の不純物含有量を有しているにす
ぎないので、無色の高分子量重縮合体を製造する
際に、このものをひき続き精製することなしに用
いることができる。
本発明により触媒として用いる第三級ホスフイ
ンは、反応が終了した後に、反応混合物を蒸留す
ることにより反応混合物から簡単に除去し得る場
合があるが、生じたカルボン酸塩化物中に残留す
る触媒粒子は、例えば二相界面反応法によりジカ
ルボン酸二塩化物を芳香族ポリエステルに転化さ
せる反応を妨害するものではない。
ンは、反応が終了した後に、反応混合物を蒸留す
ることにより反応混合物から簡単に除去し得る場
合があるが、生じたカルボン酸塩化物中に残留す
る触媒粒子は、例えば二相界面反応法によりジカ
ルボン酸二塩化物を芳香族ポリエステルに転化さ
せる反応を妨害するものではない。
本発明に従つて活性である触媒として、次の一
般構造式()の第三級ホスフインが適してい
る: ここに、R1、R2及びR3は、同一もしくは相異
なることができ、そしてC1〜C8−アルキル、C6
〜C10−アリール、C7〜C20−アルキルアリールま
たはアリールアルキル基を表わす。これらのもの
にはC6〜C10−アリール基、例えばフエニルまた
はC1〜C4−アルキル基の1つもしくはそれ以上
で置換されたフエニルが好ましい。
般構造式()の第三級ホスフインが適してい
る: ここに、R1、R2及びR3は、同一もしくは相異
なることができ、そしてC1〜C8−アルキル、C6
〜C10−アリール、C7〜C20−アルキルアリールま
たはアリールアルキル基を表わす。これらのもの
にはC6〜C10−アリール基、例えばフエニルまた
はC1〜C4−アルキル基の1つもしくはそれ以上
で置換されたフエニルが好ましい。
例えば次のものを適当な触媒として挙げ得る:
トリベンジルホスフイン、トリイソプロピルホス
フイン、トリブチルホスフイン及びトリフエニル
ホスフイン。
トリベンジルホスフイン、トリイソプロピルホス
フイン、トリブチルホスフイン及びトリフエニル
ホスフイン。
本発明に従つて、芳香族カルボン酸を基準とし
て、一般構造式()の第三級ホスフイン0.1〜
5.0重量%、好ましくは0.2〜3重量%を用いる。
て、一般構造式()の第三級ホスフイン0.1〜
5.0重量%、好ましくは0.2〜3重量%を用いる。
本発明の製法で用いる原料の芳香族カルボン酸
としては、次式()の芳香族カルボン酸が適し
ている: ここに、Rは炭素原子1〜6個を有するアルキ
ル基、炭素原子1〜6個を有するハロゲン置換さ
れたアルキル基、アルコキシ基、炭素原子1〜6
個を有するハロゲン置換されたアルコキシ基及び
ハロゲン原子の群から選んだ置換基を表わし;a
は1〜3の整数を表わし;bは0〜5の整数を表
わす。
としては、次式()の芳香族カルボン酸が適し
ている: ここに、Rは炭素原子1〜6個を有するアルキ
ル基、炭素原子1〜6個を有するハロゲン置換さ
れたアルキル基、アルコキシ基、炭素原子1〜6
個を有するハロゲン置換されたアルコキシ基及び
ハロゲン原子の群から選んだ置換基を表わし;a
は1〜3の整数を表わし;bは0〜5の整数を表
わす。
例として次のものを挙げる:フタル酸、イソフ
タル酸、テレフタル酸、イソ−及びテレフタル酸
の混合物、及びトリメシン酸。
タル酸、テレフタル酸、イソ−及びテレフタル酸
の混合物、及びトリメシン酸。
本発明の方法を行うに際し、本発明による触媒
を加えた後、芳香族カルボン酸を、カルボキシル
基1モル当り1〜2モルの塩化チオニルと混和さ
せることができ、そしてこの懸濁液または溶液を
50〜150℃、好ましくは80〜100℃の温度に加熱す
ることができる。
を加えた後、芳香族カルボン酸を、カルボキシル
基1モル当り1〜2モルの塩化チオニルと混和さ
せることができ、そしてこの懸濁液または溶液を
50〜150℃、好ましくは80〜100℃の温度に加熱す
ることができる。
過剰の塩化チオニルを留去し、そして所望の反
応温度で短時間真空に付した後、≧99.9%の芳香
族カルボン酸塩化物からなる残渣が得られる。
応温度で短時間真空に付した後、≧99.9%の芳香
族カルボン酸塩化物からなる残渣が得られる。
この方法は連続的、または非連続的のいずれか
にて行うことができる。
にて行うことができる。
実施例
次のものを、撹拌機、温度計及び還流冷却器を
備えた容量1の三ツ口フラスコに導入し、次に
これらを加熱した:イソフタル酸83g;テレフタ
ル酸83g;塩化チオニル357g;及びトリフエニ
ルホスフイン2g(酸を基準として1.2重量%)。
備えた容量1の三ツ口フラスコに導入し、次に
これらを加熱した:イソフタル酸83g;テレフタ
ル酸83g;塩化チオニル357g;及びトリフエニ
ルホスフイン2g(酸を基準として1.2重量%)。
薄い黄色の懸濁液を60〜70℃に30分間以内で加
熱し、そしてHCl及びSO2の急激な発生が起こつ
た。このガスの発生は約6時間後に止まり、そし
て淡黄色の溶液が生じ、このものから過剰の塩化
チオニルを常圧で、次に真空下で除去した。
熱し、そしてHCl及びSO2の急激な発生が起こつ
た。このガスの発生は約6時間後に止まり、そし
て淡黄色の溶液が生じ、このものから過剰の塩化
チオニルを常圧で、次に真空下で除去した。
触媒に加えて、この残渣は次のものを含んでい
た:酸塩化物≧99.9%、COOH≦0.05%、S≦
0.01%及びCl-≦0.05%。
た:酸塩化物≧99.9%、COOH≦0.05%、S≦
0.01%及びCl-≦0.05%。
連鎖停止剤としてo−フエニルフエノールの存
在下にて、本法の酸塩化物混合物及びビスフエノ
ールAを用いる通常の界面重縮合法により製造し
た芳香族重合体は次の特性を有していた: (a) ηrel=1.54(2モル%連鎖停止剤) (b) ηrel=1.27(5モル%連鎖停止剤)。
在下にて、本法の酸塩化物混合物及びビスフエノ
ールAを用いる通常の界面重縮合法により製造し
た芳香族重合体は次の特性を有していた: (a) ηrel=1.54(2モル%連鎖停止剤) (b) ηrel=1.27(5モル%連鎖停止剤)。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 次式() 式中、Rは炭素原子1〜6個を有するアルキル
基、炭素原子1〜6個を有するハロゲン置換され
たアルキル基、アルコキシ基、炭素原子1〜6個
を有するハロゲン置換されたアルコキシ基及びハ
ロゲン原子の群から選んだ置換基を表わし;aは
1〜3の整数を表わし;bは0〜5の整数を表わ
す、 の芳香族カルボン酸または該芳香族カルボン酸の
混合物を触媒の存在下において塩化チオニルと反
応させる際に、触媒として次式() 式中、R1、R2及びR3は、同一もしくは相異な
ることができ、そしてC1〜C8−アルキル、C6〜
C10−アリール、C7〜C20−アルキルアリールまた
はアリールアルキル基を表わし、但しC6〜C10−
アリール、例えばフエニル、またはC1〜C4−ア
ルキル基の1つもしくはそれ以上で置換されたフ
エニルが好ましい、 の第三級ホスフインを用いる、純粋な芳香族カル
ボン酸塩化物の単一工程による製造方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19803040294 DE3040294A1 (de) | 1980-10-25 | 1980-10-25 | Verfahren zur herstellung von aromatischen carbonsaeurechloriden |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS57108037A JPS57108037A (en) | 1982-07-05 |
JPS6412254B2 true JPS6412254B2 (ja) | 1989-02-28 |
Family
ID=6115174
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56167323A Granted JPS57108037A (en) | 1980-10-25 | 1981-10-21 | Manufacture of aromatic carboxylic acid chloride |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4382041A (ja) |
EP (1) | EP0050783B1 (ja) |
JP (1) | JPS57108037A (ja) |
CA (1) | CA1179686A (ja) |
DE (2) | DE3040294A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4996355A (en) * | 1989-04-14 | 1991-02-26 | Mallinckrodt, Inc. | Novel intermediates for the production of 2,4,5-trifluorobenzoyl fluoride |
CN118451140A (zh) * | 2021-11-30 | 2024-08-06 | 富士胶片株式会社 | 粉体成分、涂布用树脂组合物、涂膜 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1159266A (en) * | 1966-09-29 | 1969-07-23 | Ici Ltd | Preparation of Carboxylic Acid Chlorides |
DE2933148A1 (de) * | 1979-08-16 | 1981-02-26 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von aromatischen dicarbonsaeuredichloriden iv |
-
1980
- 1980-10-25 DE DE19803040294 patent/DE3040294A1/de not_active Withdrawn
-
1981
- 1981-10-12 DE DE8181108198T patent/DE3167734D1/de not_active Expired
- 1981-10-12 EP EP81108198A patent/EP0050783B1/de not_active Expired
- 1981-10-19 US US06/312,223 patent/US4382041A/en not_active Expired - Fee Related
- 1981-10-21 JP JP56167323A patent/JPS57108037A/ja active Granted
- 1981-10-23 CA CA000388625A patent/CA1179686A/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0050783A3 (en) | 1982-06-30 |
US4382041A (en) | 1983-05-03 |
DE3040294A1 (de) | 1982-06-03 |
CA1179686A (en) | 1984-12-18 |
JPS57108037A (en) | 1982-07-05 |
DE3167734D1 (en) | 1985-01-24 |
EP0050783B1 (de) | 1984-12-12 |
EP0050783A2 (de) | 1982-05-05 |
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