JPS6410517B2 - - Google Patents

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JPS6410517B2
JPS6410517B2 JP55064670A JP6467080A JPS6410517B2 JP S6410517 B2 JPS6410517 B2 JP S6410517B2 JP 55064670 A JP55064670 A JP 55064670A JP 6467080 A JP6467080 A JP 6467080A JP S6410517 B2 JPS6410517 B2 JP S6410517B2
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Ciba Geigy AG
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    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/547Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom
    • C07F9/6564Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having phosphorus atoms, with or without nitrogen, oxygen, sulfur, selenium or tellurium atoms, as ring hetero atoms
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    • C08K5/5399Phosphorus bound to nitrogen
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Description

【発明の詳細な説明】
本発明は新規N−置換6−アミノ−ジベンズ
〔d,g〕〔1,3,2〕ジオキサホスホシン、そ
の製造方法及びこれらの化合物を含有する有機物
質用安定剤に関する。 亜燐酸トリエステル類は安定剤として知られて
いる。即ち、例えば置換6−フエノキシ−12H−
ジベンズ〔d,g〕〔1,3,2〕ジオキサホス
ホシンは米国特許第3297631号明細書に記載して
いる。しかしながら、これらの化合物は安定剤が
満足すべき苛酷な要求をすべての観点では満足せ
ず、特に貯蔵寿命、吸水性、加水分解に対する感
受性、加工安定性、着色性、揮発性、移行性、相
溶性及び耐光性における改良の観点で満足しな
い。 本発明の目的は、これらの欠点を有しないか、
又はこれらの欠点を低減した安定剤を提供するこ
とである。 従つて、本発明は次式: 〔式中、R1及びR2は独立して炭素原子数1ない
し8のアルキル基を表わし、Xは硫黄原子または
−CH2−を表わし、並びにAはモルホリノ基、ピ
ペリジン−1−イル基、2,2,6,6−テトラ
−メチル−ピペリジン−1−イル基、ジ(炭素原
子数1ないし4のアルキル)アミノ基または次式 (式中、R1及びR2は上記で定義した意味を有す
る。)で表わされる基を表わす。〕で表わされるN
−置換6−アミノ−ジベンズ〔d,g〕〔1,3,
2〕ジオキサホスホシンに関する。 炭素原子数1乃至18個のアルキル基としての
R1及びR2は、特に炭素原子数1乃至8個の直鎖
若しくは分枝鎖のアルキル基、例えばメチル基、
エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、
sec−ブチル基、tert−ブチル基、tert−ペンチル
基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基又は
1,1,3,3−テトラメチルブチル基である。
R1はα−分枝鎖であるのが好ましい。特に好ま
しい化合物では、R1及びR2は同一であり、例え
ばtert−ブチル基である。 基R2は1位及び11位に存在していてよいが、
2位及び10位に存在するのが好ましい。Xは−
CH2−であるのが好ましい。 式の化合物のうち特に好ましいものは、6−
モルホリノ−2,4,8,10−テトラ−第三ブチ
ル−12H−ジベンズ−〔d,g〕〔1,3,2〕ジ
オキサホスホシンである。 式()の亜燐酸エステルは、自体公知の方
法、特にアミド化又はアミド交換法により、例え
ば式(): 〔式中Yは反応性基を表わし、R1、R2及びXは
前記のものを表わす〕の亜燐酸ジエステルを式: R16A (式中、R16は水素原子、またはNa原子、Li原子
もしくはK原子を表わす。)で表わされるアミン
と反応させることによつて得られる。 反応性基Yは、例えばハロゲン、特に塩素、又
はアルコキシ基、フエノキシ基又は第一級若しく
は第二級アミノ基である。 式()の化合物を得る別法は、式(XII): (Hal)2−P−A (XII) 〔式中Halはハロゲン原子、特に塩素を表わし、
Aは前記のものを表わす〕の亜燐酸アミドを式
(): 〔式中、R1、R2及びXは前記のものを表わす〕
のジフエノールと反応させることより成る。 両種の反応は自体公知の方法で、例えば−5℃
〜80℃の温度範囲で実施するか、又は好ましくは
約80℃以上の温度に、例えば80〜170℃の範囲の
温度に加熱することによつて実施することができ
る。反応は、溶剤なしに又は不活性溶剤、例えば
非プロトン溶剤、例えばリグロイン、トルエン、
キシレン、ヘキサン、シクロヘキサン、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルアセトアミド、スルホラ
ン、アセトニトリル、ジオキサン、ジ−n−ブチ
ルエーテル、1,2−ジクロルエタン、ジメチル
スルホキシド、酢酸エチル、メチルエチルケト
ン、ニトロベンゼン、ニトロメタン、テトラヒド
ロフラン、クロロホルム又はトリクロルエチレン
の存在で実施することができる。しかしながら、
R16Aのアミンを用いて反応を完全に実施するこ
とができ、この場合にこのアミンは酸受容体とし
て作用する。過剰に使用したアミン塩基は、同時
に溶剤として作用する。 式()、(XII)、()の出発物質は公知であ
るか、又はこれが新規である場合には、公知化合
物と同様にして製造することができる。式()
の亜燐酸エステルは、式()の対応するジフ
エノール化合物及びPY3(式中Yは前記のものを
表わす)から製造することができる。−X−が−
CH2−基である式()のジフエノール化合物
は、米国特許第4055539号明細書に記載された方
法と同様の方法により製造することができる。 本発明を実施する際には、式()の化合物
は、プラスチツク及びエラストマーを酸素、光及
び熱の作用により引き起される損傷に対して保護
するための安定剤として使用することができる。
このようなプラスチツクの例は、ドイツ特許出願
公開第2456864号公報の12〜14頁に列挙されてい
るポリマーである。 適当な基質は例えば下記のものである: 1 モノ不飽和炭化水素から誘導されるポリマ
ー、例えばポリオレフイン、例えば架橋或いは
未架橋の低密度及び高密度ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリイソブチレン、ポリメチルブ
テ−1−エン及びポリメチルペンテ−1−エ
ン。 2 1に挙げたホモポリマーの混合物、例えばポ
リプロピレンとポリエチレンとの混合物、ポリ
プロピレンとポリブテ−1−エンとの混合物及
びポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合
物。 3 1に挙げたホモポリマーの基質となるモノマ
ーのコポリマー、例えばエチレン/プロピレン
コポリマー、プロピレン/ブテ−1−エンコポ
リマー、プロピレン/イソブチレンコポリマー
及びエチレン/ブテ−1−エンコポリマー並び
にエチレン及びプロピレンとジエン、例えばヘ
キサジエン、ジシクロペンタジエン又はエチリ
デンノルボルネンとのターポリマー。 4 ポリスチレン及びそのコポリマー、例えば
SAN、ABS、IPS、ASA及びEPで変性された
スチレンコポリマー。 5 ポリアミド。 6 線状ポリエステル。 7 ポリウレタン。 8 ポリカーボネート。 9 エラストマー、例えばポリブタジエン、
SBR、ポリイソプレン、ポリクロロプレン及
びニトリルゴム。 10 熱可塑性エラストマー、例えばSBS、SIS、
及びS−EP−S。 11 ポリ塩化ビニル等。 12 合成潤滑油及び鉱質潤滑油。 従つて、本発明は、式()の化合物のうち少
なくとも一種を含有する有機物質用安定剤にも関
する。本発明の安定剤は、有機物質(ポリマー)
中に配合することにより、有機物質を製造、単
離、加工及び使用中に熱及び酸化によつてひき起
こされる劣化に対して該物質を安定化せしめる。 式()の化合物は、安定化すべき物質に対し
て0.005〜5重量%の濃度で基質中に配合する。 安定化すべき物質に対して好ましくは0.01〜
1.0重量%、最も好ましくは0.02〜0.5重量%の化
合物を安定化すべき物質中に配合する。例えば、
式()の化合物少なくとも1種及び必要に応じ
別の添加剤を、成形前或いは成形中に、この分野
に常用の方法によつて混合するか、又は溶解或い
は分散した化合物をポリマーに適用し、その後必
要に応じ溶剤を蒸発することによつて配合を実施
することができる。 新規化合物を、例えば2.5〜25重量%の濃度で
含むマスターバツチの形で安定化すべきプラスチ
ツクに添加することもできる。 架橋ポリエチレンの場合には、架橋前に化合物
を添加する。 本発明の安定剤の配合により安定化されるプラ
スチツクは、必要に応じ別の添加剤を含んでいて
よく、また極めて多様な形で例えばフイルム、繊
維、リボン或いは形材の形で又はラツカー、接着
剤若しくはバテ用の結合剤として使用することが
できる。 安定剤と一緒に使用しうる別の添加剤は、例え
ば酸化防止剤、紫外線吸収剤及び光安定剤、例え
ば2−(2′−ヒドロキシフエニル)−ベンゾトリア
ゾール、2,4−ビス−(2′−ヒドロキシフエニ
ル)−6−アルキル−s−トリアジン、2−ヒド
ロキシベンゾフエノン、1,3−ビス−(2′−ヒ
ドロキシベンゾイル)−ベンゼン、置換若しくは
未置換安息香酸のエステル及びアクリレート、及
び更にニツケル化合物、立体障害アミン、蓚酸ジ
アミド、金属不活性化剤、ホスフアイト類、過酸
化物を分解する化合物、ポリアミド安定剤、塩基
性補助安定剤、成核剤又はその他の添加剤、例え
ば可塑剤、潤滑剤、乳化剤、充填剤、カーボンブ
ラツク、アスベスト、カオリン、タルク、ガラス
繊維、顔料、螢光増白剤、難燃剤及び帯電防止剤
である。 次に実施例に基づいて本発明を詳述するが、本
発明はこれに限定されるものではない。 例 2,2′−チオ−ビス−(4−メチル−6−tert−
ブチル)−フエノール17.9g、三塩化燐5ml及び
キシレン30mlを90〜100℃に徐々に加熱する。5
時間反応させた後、混合物を室温に冷却する。次
に、トリエチルアミン5.5g及びピペリジン4.5g
を添加し、混合物を還流温度に20時間保持する。
混合物を過し、溶剤を真空中で除去して、融点
200℃の6−ピペリジノ−2,10−ジメチル−4,
8−ジ−tert−ブチル−ジベンズ〔1,3,6,
2〕−ジオキサ−チア−ホスホシン(安定剤1)
を生ずる: メチレンビスフエノールを使用して同じ反応条
件下で下記の安定剤が得られる: 安定剤2:6−ジ−n−ブチルアミノ−2,4,
8,10−テトラ−(1′,1′,3′,3′−テトラメチ
ルブチル)−12H−ジベンズ〔d,g〕〔1,
3,2〕−ジオキサホスホシン(融点113℃) 安定剤3:6−モルホリノ−2,4,8,10−テ
トラ−(1′,1′,3′,3′−テトラメチルブチル)
−12H−ジベンズ〔d,g〕〔1,3,2〕−ジ
オキサホスホシン(融点146℃) 安定剤4:6−モルホリノ−2,4,8,10−テ
トラ−tert−ブチル−12H−ジベンズ〔d,
g〕〔1,3,2〕−ジオキサホスホシン(融点
200℃) 安定剤5:N,N′−ジメチル−N,N′−ジ−
(2,4,8,10−テトラ−tert−ブチル−
12H−ジベンズ〔d,g〕〔1,3,2〕ジオ
キサホスホシン−6−イル)エチレンジアミノ
(融点260℃) 安定剤6:6−N,N−ジ−n−ブチルアミノ−
2,4,8,10−テトラ−tert−ブチル−12H
−ジベンズ〔d,g〕〔1,3,2〕ジオキサ
ホスホシン(融点100〜105℃) 安定剤7:6−モルホリノ−2,10−ジメチル−
4,8−ジ−tert−ブチル−12H−ジベンズ
〔d,g〕〔1,3,2〕ジオキサホスホシン
(融点160℃) 安定剤8:6−(2,2,6,6−テトラメチル
−ピペリジン−1−イル)−2,4,8,10−
テトラメチル−12H−ジベンズ〔d,g〕〔1,
3,2〕ジオキサホスホシン(融点198℃) 安定剤9:6−N,N−ジ−n−ブチルアミノ−
2,10−ジメチル−4,8−ジ−tert−ブチル
−12H−ジベンズ〔d,g〕〔1,3,2〕ジ
オキサホスホシン(融点118〜120℃) 安定剤10:6−(2,2,6,6−テトラメチル
−ピペリジン−1−イル)−2,10−ジメチル
−4,8−ジ−tert−ブチル−12H−ジベンズ
〔d,g〕〔1,3,2〕ジオキサホスホシン
(融点188℃) 例 11 高分子量ポリプロピレン粉末〔ルポーレン
(Lupolen)5260Z;BASFから入入手しうる〕
100部をペンタエリトリツトテトラキス−〔3−
(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフ
エニル)プロピオネート〕0.05部及び第表に挙
げた化合物と混合し、混合物をブラベンダー・プ
ラストグラフ中で220℃で50rpmで混練する。こ
の時間の間に、混練抵抗をトルクとして連続的に
記録する。混練操作の経過中に、ポリマーはかな
りの時間一定に留まつた後架橋結合し始める。ト
ルクの急速な増加から架橋結合を観察することが
できる。安定剤の効果を稠度の持続で示す。
【表】
【表】 例 12 ポリプロピレン粉体〔プロパテン
(Propathene)HF22、ICIから入手しうる〕100
部をステアリン酸カルシウム0.1部、第表に示
した量の化合物7及びペンタエリトリツトテトラ
キス−〔3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒ
ドロキシフエニル)プロピオネート〕(0.05%)
と混合する。 混合物を260℃の最高温度で一本スクリユウ押
出機中に連続して5回及び280℃で同じ押出機で
3回、毎回100rpmで押出す。ポリマーのメルト
インデツクスを、260℃での第1回、第3回及び
第5回の押出後並びに280℃での第1回及び第3
回の押出後に測定する。荷重は2160g、温度は
230℃、測定しうる計量値はg/10分である。
【表】

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 次式: 〔式中、R1及びR2は独立して炭素原子数1ない
    し8のアルキル基を表わし、Xは硫黄原子または
    −CH2−を表わし、並びにAはモルホリノ基、ピ
    ペリジン−1−イル基、2,2,6,6−テトラ
    −メチル−ピペリジン−1−イル基、ジ(炭素原
    子数1ないし4のアルキル)アミノ基または次式 (式中、R1及びR2は上記で定義した意味を有す
    る。)で表わされる基を表わす。〕で表わされる化
    合物。 2 6−モルホリノ−2,4,8,10−テトラ−
    第三ブチル−12H−ジベンズ〔d,g〕〔1,3,
    2〕ジオキサホスホシンである特許請求の範囲第
    1項記載の化合物。 3 次式: 〔式中、R1及びR2は独立して炭素原子数1ない
    し8のアルキル基を表わし、Xは硫黄原子または
    −CH2−を表わし、並びにAはモルホリノ基、ピ
    ペリジン−1−イル基、2,2,6,6−テトラ
    −メチル−ピペリジン−1−イル基、ジ(炭素原
    子数1ないし4のアルキル)アミノ基または次式 (式中、R1及びR2は上記で定義した意味を有す
    る。)で表わされる基を表わす。〕で表わされる化
    合物を含有する有機物質用安定剤。 4 上記物質がポリオレフインである特許請求の
    範囲第3項記載の安定剤。 5 次式: 〔式中、R1及びR2は独立して炭素原子数1ない
    し8のアルキル基を表わし、Xは硫黄原子または
    −CH2−を表わし、並びにAはモルホリノ基、ピ
    ペリジン−1−イル基、2,2,6,6−テトラ
    −メチル−ピペリジン−1−イル基、ジ(炭素原
    子数1ないし4のアルキル)アミノ基または次式 (式中、R1及びR2は上記で定義した意味を有す
    る。)で表わされる基を表わす。〕で表わされる化
    合物を製造する方法において、次式: (式中、Yは反応性基を表わし、R1、R2及びX
    は上記で定義した意味を有する。)で表わされる
    亜燐酸ジエステルをアミンR16A(式中、R16は水
    素原子またはNa原子、Li原子もしくはK原子を
    表わし、並びにAは上記で定義した意味を有す
    る。)と反応させるか、または次式XII: (Hal)2−P−A (XII) (式中、Halはハロゲン原子、特に塩素原子を表
    わし、並びにAは上記で定義した意味を有する。)
    で表わされる亜燐酸アミドを次式: (式中、R1、R2及びXは上記で定義した意味を
    有する。)で表わされるジフエノールと反応させ
    ることよりなる式の化合物の製造方法。
JP6467080A 1979-05-15 1980-05-15 Nnsubstitutedd66aminoodibenz*d*g**1*3*2** dioxaphosphocin* its manufacture and stabilized organic substance Granted JPS565494A (en)

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CH450479 1979-05-15

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JPS565494A JPS565494A (en) 1981-01-20
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US (3) US4322527A (ja)
EP (1) EP0020297B1 (ja)
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