JPS6398628U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6398628U JPS6398628U JP19370986U JP19370986U JPS6398628U JP S6398628 U JPS6398628 U JP S6398628U JP 19370986 U JP19370986 U JP 19370986U JP 19370986 U JP19370986 U JP 19370986U JP S6398628 U JPS6398628 U JP S6398628U
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- JP
- Japan
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- slit
- substrate
- electron beam
- apertures
- beam lithography
- Prior art date
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- Granted
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 9
- 238000000609 electron-beam lithography Methods 0.000 claims description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
Description
第１図は本考案に係る電子ビーム描画装置のス
リツト装置の概略平面図であり、第２図は第１図
中線―に沿つた断面図であり、第３ａ図は本
考案に係るスリツト基板およびスリツト台の平面
図であり、第３ｂ図は第３ａ図中線・ｂ―・
ｂに沿つた断面図であり、第３ｃ図は第３ａ図の
スリツト台の底面図であり、第３ｄ図は第３ａ図
のスリツト基板およびスリツト台の側面であり、
第４ａ図は従来のスリツト基板およびスリツト台
の平面図であり、第４ｂ図は第４ａ図線ｂ―
ｂに沿つた断面図であり、第４ｃ図は第４ａ図の
スリツト台の底面図であり、第４ｄ図は第４ａ図
のスリツト基板およびスリツト台の側面図である
。第５図は従来の電子ビーム描画装置のスリツト
装置の概略平面図であり、第６図は耐５図中線
―に沿つた断面図である。 ４……可動台、５……透孔、９，１０……駆動
器、２１……スリツト台、２２……スリツト基板
、２４……アパーチヤ、２６，２７……駆動器。
リツト装置の概略平面図であり、第２図は第１図
中線―に沿つた断面図であり、第３ａ図は本
考案に係るスリツト基板およびスリツト台の平面
図であり、第３ｂ図は第３ａ図中線・ｂ―・
ｂに沿つた断面図であり、第３ｃ図は第３ａ図の
スリツト台の底面図であり、第３ｄ図は第３ａ図
のスリツト基板およびスリツト台の側面であり、
第４ａ図は従来のスリツト基板およびスリツト台
の平面図であり、第４ｂ図は第４ａ図線ｂ―
ｂに沿つた断面図であり、第４ｃ図は第４ａ図の
スリツト台の底面図であり、第４ｄ図は第４ａ図
のスリツト基板およびスリツト台の側面図である
。第５図は従来の電子ビーム描画装置のスリツト
装置の概略平面図であり、第６図は耐５図中線
―に沿つた断面図である。 ４……可動台、５……透孔、９，１０……駆動
器、２１……スリツト台、２２……スリツト基板
、２４……アパーチヤ、２６，２７……駆動器。
Claims (1)
- スリツト基板、該スリツト基板が固定されてい
るスリツト台、および該スリツト台を搭載する可
動台からなるスリツト装置を有する電子ビーム描
画装置において、前記スリツト基板２２には複数
のアパーチヤ２４が形成され、これらアパーチヤ
に対応する透孔２３が前記スリツト台２１に形成
されており、かつ該スリツト台２１を前記可動台
４上で移動させる駆動機２６，２７が設けられて
いることを特徴とする電子ビーム描画装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986193709U JPH0644092Y2 (ja) | 1986-12-18 | 1986-12-18 | 電子ビ−ム描画装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986193709U JPH0644092Y2 (ja) | 1986-12-18 | 1986-12-18 | 電子ビ−ム描画装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6398628U true JPS6398628U (ja) | 1988-06-25 |
| JPH0644092Y2 JPH0644092Y2 (ja) | 1994-11-14 |
Family
ID=31149987
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1986193709U Expired - Lifetime JPH0644092Y2 (ja) | 1986-12-18 | 1986-12-18 | 電子ビ−ム描画装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0644092Y2 (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53143175A (en) * | 1977-05-20 | 1978-12-13 | Hitachi Ltd | Electron beam drawing apparatus |
| JPS59111326A (ja) * | 1982-12-17 | 1984-06-27 | Hitachi Ltd | 電子ビ−ム整形用アパ−チヤマスク |
-
1986
- 1986-12-18 JP JP1986193709U patent/JPH0644092Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53143175A (en) * | 1977-05-20 | 1978-12-13 | Hitachi Ltd | Electron beam drawing apparatus |
| JPS59111326A (ja) * | 1982-12-17 | 1984-06-27 | Hitachi Ltd | 電子ビ−ム整形用アパ−チヤマスク |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0644092Y2 (ja) | 1994-11-14 |