JPS6395343A - ガスセンサ - Google Patents
ガスセンサInfo
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- JPS6395343A JPS6395343A JP61240927A JP24092786A JPS6395343A JP S6395343 A JPS6395343 A JP S6395343A JP 61240927 A JP61240927 A JP 61240927A JP 24092786 A JP24092786 A JP 24092786A JP S6395343 A JPS6395343 A JP S6395343A
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- Japan
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Links
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- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 14
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 claims abstract description 9
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 61
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 11
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 7
- JCXJVPUVTGWSNB-UHFFFAOYSA-N nitrogen dioxide Inorganic materials O=[N]=O JCXJVPUVTGWSNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- MGWGWNFMUOTEHG-UHFFFAOYSA-N 4-(3,5-dimethylphenyl)-1,3-thiazol-2-amine Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C=2N=C(N)SC=2)=C1 MGWGWNFMUOTEHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 3
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Landscapes
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Photo Coupler, Interrupter, Optical-To-Optical Conversion Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(概要〕
本発明は、微分計測法を用いた赤外半導体レーザ方式ガ
スセンサにおいて、半導体レーザのバイアス電流に対す
る波長の変化率(以後チューニングレートと記す)の変
動によるガス濃度測定値のゲインドリフトを抑圧するた
め、減圧ガスの吸収スペクトルを用いてチューニングレ
ートを測定し、ゲイン補正を行うことにより、長期間安
定にガス濃度測定が行なえるようにしたものである。
スセンサにおいて、半導体レーザのバイアス電流に対す
る波長の変化率(以後チューニングレートと記す)の変
動によるガス濃度測定値のゲインドリフトを抑圧するた
め、減圧ガスの吸収スペクトルを用いてチューニングレ
ートを測定し、ゲイン補正を行うことにより、長期間安
定にガス濃度測定が行なえるようにしたものである。
本発明は赤外半導体レーザ方式ガスセンサに関し、特に
半導体レーザのチューニングレートの変動を補正して長
期間安定にガス濃度測定を行なうようにしたガスセンサ
に関するものである。
半導体レーザのチューニングレートの変動を補正して長
期間安定にガス濃度測定を行なうようにしたガスセンサ
に関するものである。
ガスセンサは、小型、高感度、短時間測定で、しかも高
信頼性が要求される。赤外半導体レーザ方式ガスセンサ
は可搬型であり、望ましい特徴を備えている。
信頼性が要求される。赤外半導体レーザ方式ガスセンサ
は可搬型であり、望ましい特徴を備えている。
かかる赤外半導体レーザ方式ガスセンサにおいては、特
に長期間にわたって安定にガス濃度測定を行う必要があ
り、それがための方策が要望されている。
に長期間にわたって安定にガス濃度測定を行う必要があ
り、それがための方策が要望されている。
第4図は従来の赤外レーザ方式ガスセンサのブロック図
を示している。
を示している。
第4図において、半導体レーザ1より発光したレーザ光
は、レンズ2により平行光線にされて大気中の微量な被
測定ガス3(例えば、二酸化窒素NO2等の公害ガス)
を通過する。、透過した光はレンズ4によって赤外線セ
ンサ5に集光さる。
は、レンズ2により平行光線にされて大気中の微量な被
測定ガス3(例えば、二酸化窒素NO2等の公害ガス)
を通過する。、透過した光はレンズ4によって赤外線セ
ンサ5に集光さる。
半導体レーザ1は、第5図の掃引特性図に示すように、
バイアス電流を変えることにより連続的に波長を掃引で
きる。すなわち、規定電流を正弦波状に増減させること
によって、第6図Aに示すような、正弦波状に波長が変
化するレーザ光が得られる。
バイアス電流を変えることにより連続的に波長を掃引で
きる。すなわち、規定電流を正弦波状に増減させること
によって、第6図Aに示すような、正弦波状に波長が変
化するレーザ光が得られる。
このレーザ光が被測定ガス3を通過する場合、被測定ガ
ス3の吸収スペクトルは、第6図Bで表わされ、その透
過パワーは、レーザ光の掃引中心波長で最小となり、最
長波長および最短波長との間にhの減衰によるパワーの
差が発生する。この減衰によるパワーの差りは被測定ガ
スの濃度にほぼ比例する。
ス3の吸収スペクトルは、第6図Bで表わされ、その透
過パワーは、レーザ光の掃引中心波長で最小となり、最
長波長および最短波長との間にhの減衰によるパワーの
差が発生する。この減衰によるパワーの差りは被測定ガ
スの濃度にほぼ比例する。
被測定ガス3を通過したレーザ光は、第6図Cに示すよ
うに、hの振幅を持った掃引周波数の2倍の周波数とな
って赤外線センサ5に受光されて電気信号に変換され、
信号処理回路6に出力される。信号処理回路6は、第6
図Cの交流を検波して減衰幅りを検出する。
うに、hの振幅を持った掃引周波数の2倍の周波数とな
って赤外線センサ5に受光されて電気信号に変換され、
信号処理回路6に出力される。信号処理回路6は、第6
図Cの交流を検波して減衰幅りを検出する。
一方、レンズ2を通過直後ハーフミラ−7により分割さ
れて図中上方向に進んだレーザ光は、ミラー8を介して
参照セル9を通りレンズ10により赤外線センサ11に
集光される。
れて図中上方向に進んだレーザ光は、ミラー8を介して
参照セル9を通りレンズ10により赤外線センサ11に
集光される。
参照セル9には濃度が既知の被測定ガスを入れておく。
信号処理回路12は、前述した信号処理回路6と同様に
動作して濃度が既知のガスに対する減衰幅h′を検出す
る。
動作して濃度が既知のガスに対する減衰幅h′を検出す
る。
割算器13は、濃度が既知のh゛に対する未知濃度のh
の比を計算して出力する。表示装置14は割算器13の
出力濃度比から被測定ガス3の濃度を換算して表示する
。
の比を計算して出力する。表示装置14は割算器13の
出力濃度比から被測定ガス3の濃度を換算して表示する
。
上記のガスセンサでは、半導体レーザの素子特性が変化
した場合、チューニングレートが変化するので、レーザ
のバイアス電流に重畳する微少交流が同じであっても、
波長振幅が変化し、そのため、第6図の相互関係から明
らかなように透過パワーhが見掛かけ上皮化したことと
なってガス濃度測定値が変動する。
した場合、チューニングレートが変化するので、レーザ
のバイアス電流に重畳する微少交流が同じであっても、
波長振幅が変化し、そのため、第6図の相互関係から明
らかなように透過パワーhが見掛かけ上皮化したことと
なってガス濃度測定値が変動する。
これを防ぐ目的で、参照セルを用い、既知濃度のガスに
対する信号を常に測定し、未知濃度のガスに対する信号
との比を計算することにより、チューニングレートの影
響を避けていた。
対する信号を常に測定し、未知濃度のガスに対する信号
との比を計算することにより、チューニングレートの影
響を避けていた。
しかし、測定対象ガスが二酸化窒素(NO)等反応し易
いガスの場合、例えば、参照セルの材料そのものと反応
してしまうので、参照セル内のガスの濃度が変化してわ
からなくなり、チューニングレートの影響を避けること
ができない欠点が生じた。
いガスの場合、例えば、参照セルの材料そのものと反応
してしまうので、参照セル内のガスの濃度が変化してわ
からなくなり、チューニングレートの影響を避けること
ができない欠点が生じた。
本発明はこのような点に鑑みて創作されたもので、半導
体レーザのチューニングレートが変化しても被測定ガス
の濃度を正確に測定することができるガスセンサを提供
することを目的としている。
体レーザのチューニングレートが変化しても被測定ガス
の濃度を正確に測定することができるガスセンサを提供
することを目的としている。
゛〔問題点を解決するための手段〕
簡単に述べると本発明は、従来のような参照セルの既知
ガス濃度に対応した吸収量を規準とする考え方を改め、
測定時点毎の半導体レーザのチューニングレートを規準
として被測定ガスの濃度測定をなすようにしたものであ
る。
ガス濃度に対応した吸収量を規準とする考え方を改め、
測定時点毎の半導体レーザのチューニングレートを規準
として被測定ガスの濃度測定をなすようにしたものであ
る。
第1図は本発明のガスセンサのブロック図を示している
。
。
上記問題点を解消するため、本発明のガスセンサは、ハ
ーフミラ−7で分割したレーザ光を透過する減圧ガスセ
ル15と、該減圧ガスセル15を透過し、赤外線センサ
11で変換された電気信号より半導体レーザ1のチュー
ニングレートを測定するチューニングレート測定回路1
6と、予めチューニングレートの変動に対応した補正係
数を格納し、チューニングレート測定回路16の出力値
によって該当する補正係数を出力する記憶部17を備え
るとともに、赤外線センサ5と信号処理回路6で得た被
測定ガス3を透過したレーザ光のスペクトルの検出値に
前記補正係数を乗算する乗算器18を設けた構成として
いる。
ーフミラ−7で分割したレーザ光を透過する減圧ガスセ
ル15と、該減圧ガスセル15を透過し、赤外線センサ
11で変換された電気信号より半導体レーザ1のチュー
ニングレートを測定するチューニングレート測定回路1
6と、予めチューニングレートの変動に対応した補正係
数を格納し、チューニングレート測定回路16の出力値
によって該当する補正係数を出力する記憶部17を備え
るとともに、赤外線センサ5と信号処理回路6で得た被
測定ガス3を透過したレーザ光のスペクトルの検出値に
前記補正係数を乗算する乗算器18を設けた構成として
いる。
第2図A、Bは減圧ガスの吸収スペクトルによるチュー
ニングレート測定を説明する図である。
ニングレート測定を説明する図である。
減圧ガスの赤外吸収スペクトルは圧力拡がりが少なくな
るため、強度と中心波長が明瞭になる。一方、例えば、
S02ガスについてみると第2図(alに示すように、
吸収線イ99ロ、ハ大きさと間隔(従って、いま、S0
2を封入した減圧ガスセル15に赤外レーザ光を透過し
た場合の実際の吸収スペクトルを計測し、その吸収線イ
゛9ロ′、ハ′に対応するレーザ電流が第2図山)のよ
うにわかればチューニングレートを求めることができる
。すなわち、SOλガスの場合、第2図(a)のスペク
トルパターンから吸収線イと口の波長間隔はIOAであ
るので、その吸収線に対応するガスセルの吸収線イと口
′の間のレーザ電流の変化量5a+Aの関係からチュー
ニングレートは2A/a+Aということがわかる。
るため、強度と中心波長が明瞭になる。一方、例えば、
S02ガスについてみると第2図(alに示すように、
吸収線イ99ロ、ハ大きさと間隔(従って、いま、S0
2を封入した減圧ガスセル15に赤外レーザ光を透過し
た場合の実際の吸収スペクトルを計測し、その吸収線イ
゛9ロ′、ハ′に対応するレーザ電流が第2図山)のよ
うにわかればチューニングレートを求めることができる
。すなわち、SOλガスの場合、第2図(a)のスペク
トルパターンから吸収線イと口の波長間隔はIOAであ
るので、その吸収線に対応するガスセルの吸収線イと口
′の間のレーザ電流の変化量5a+Aの関係からチュー
ニングレートは2A/a+Aということがわかる。
チェーモングレーIJ定回路16はこのようにして半導
体レーザ1のチューニングレートを測定し、その測定値
を記憶部17に出力する。
体レーザ1のチューニングレートを測定し、その測定値
を記憶部17に出力する。
記憶部17は、チューニングレート測定回路16の出力
値に対応した補正係数を乗算器18に出力し、乗算器1
8において被測定ガスの濃度を補正して正しい濃度を出
力する。
値に対応した補正係数を乗算器18に出力し、乗算器1
8において被測定ガスの濃度を補正して正しい濃度を出
力する。
第3図は本発明の一実施例のガスセンサのブロック図を
示しており、説明を容易とするために第1図、第4図と
同一部位は同一符号をもって示し ゛ている。
示しており、説明を容易とするために第1図、第4図と
同一部位は同一符号をもって示し ゛ている。
第3図に示すように、一実施例のガスセンサは、レーザ
光を発生する半導体レーザ1と、半導体レーザ1の出力
レーザ光を分離するハーフミラ−7と、ハーフミラ−7
で分離された一方向のレーザ光を透過する長光路セル2
0と、長光路セル20を通過したレーザ光を検知して電
気信号に変換する赤外線センサ5と赤外線センサ5の出
力信号を検波する信号処理回路6とを備えている。
光を発生する半導体レーザ1と、半導体レーザ1の出力
レーザ光を分離するハーフミラ−7と、ハーフミラ−7
で分離された一方向のレーザ光を透過する長光路セル2
0と、長光路セル20を通過したレーザ光を検知して電
気信号に変換する赤外線センサ5と赤外線センサ5の出
力信号を検波する信号処理回路6とを備えている。
また、ハーフミラ−7で分離された他の一方向のレーザ
光を透過する減圧ガスセル15と、減圧ガスセル15を
透過したレーザ光を検知して電気信号に変換する赤外線
センサ11と、赤外線センサ11の出力信号より半導体
レーザlのチューニングレートを測定するチューニング
レート測定回路16と、予めチューニングレートに応じ
た補正係数を格納し、チューニングレート測定回路16
の出力信号によって該当する補正係数を出力する記憶部
(ROM) 17を備えるとともに、信号処理回路6で
得た検波出力に前記補正係数を乗算する乗算器18を設
け、該乗算器18の出力を表示装置14で表示する構成
としている。
光を透過する減圧ガスセル15と、減圧ガスセル15を
透過したレーザ光を検知して電気信号に変換する赤外線
センサ11と、赤外線センサ11の出力信号より半導体
レーザlのチューニングレートを測定するチューニング
レート測定回路16と、予めチューニングレートに応じ
た補正係数を格納し、チューニングレート測定回路16
の出力信号によって該当する補正係数を出力する記憶部
(ROM) 17を備えるとともに、信号処理回路6で
得た検波出力に前記補正係数を乗算する乗算器18を設
け、該乗算器18の出力を表示装置14で表示する構成
としている。
第3図において、赤外線半導体レーザ1はヘリウム循環
式冷凍機19によって冷却され、赤外レーザ光を出力す
る。この出力レーザ光は、レンズ2で平行光となり、ハ
ーフミラ−7で分離される。
式冷凍機19によって冷却され、赤外レーザ光を出力す
る。この出力レーザ光は、レンズ2で平行光となり、ハ
ーフミラ−7で分離される。
ハーフミラ−7で分離された一方向のレーザ光は減圧ガ
スセル15を通過し、レンズ10を介して赤外線センサ
11で受光され、電気信号に変換されてチューニングレ
ート測定回路16に出力される。
スセル15を通過し、レンズ10を介して赤外線センサ
11で受光され、電気信号に変換されてチューニングレ
ート測定回路16に出力される。
チューニングレート測定回路16は、赤外線センサ11
の出力を受けてレーザのチューニングレート、例えば第
2図に示す、Souを封入した減圧ガスセル15を透過
した場合のチューニングレー1−2A/1を測定して記
憶部17に出力する。
の出力を受けてレーザのチューニングレート、例えば第
2図に示す、Souを封入した減圧ガスセル15を透過
した場合のチューニングレー1−2A/1を測定して記
憶部17に出力する。
記憶部17には予めチューニングレートに対応した補正
係数が格納されており、チューニングレート測定回路1
6より出力されるチューニングレートに対応した補正係
数を乗算器18に出力する。
係数が格納されており、チューニングレート測定回路1
6より出力されるチューニングレートに対応した補正係
数を乗算器18に出力する。
ハーフミラ−7で分離された他の一方向のレーザ光は、
球面ui3個で形成された長光路セル20を通過し、大
気中の測定対称ガスによって吸収を受けた、第6図(C
1に示すような、掃引周波数の2倍の周波数で被測定ガ
ス濃度にほぼ比例した大きさ振幅りを持った光となって
赤外線センサ5で受光され、電気信号に変換された後、
信号処理回路6によって検波されて検波値りを得、乗算
器18に出力する。
球面ui3個で形成された長光路セル20を通過し、大
気中の測定対称ガスによって吸収を受けた、第6図(C
1に示すような、掃引周波数の2倍の周波数で被測定ガ
ス濃度にほぼ比例した大きさ振幅りを持った光となって
赤外線センサ5で受光され、電気信号に変換された後、
信号処理回路6によって検波されて検波値りを得、乗算
器18に出力する。
乗算器18は、信号処理回路6より出力される被測定ガ
スの検波値りに記憶部17より出力される補正係数を乗
じ、被測定ガスの正しい濃度を算出して表示装置14を
介して濃度表示を行う。
スの検波値りに記憶部17より出力される補正係数を乗
じ、被測定ガスの正しい濃度を算出して表示装置14を
介して濃度表示を行う。
以上説明したように本発明によれば、半導体レーザのチ
ューニングレートの変動によるガス濃度測定値のゆらぎ
が抑圧されるので、二酸化窒素(NOx)等圧応し易い
気体に対しても長期間安定に測定できる高信頼度のガス
センサを得ることが可能となる。
ューニングレートの変動によるガス濃度測定値のゆらぎ
が抑圧されるので、二酸化窒素(NOx)等圧応し易い
気体に対しても長期間安定に測定できる高信頼度のガス
センサを得ることが可能となる。
第1図は本発明のガスセンサのブロック図、第2図は減
圧スペクトルによるチューニングレート測定の説明図、 第3図は一実施例のガスセンサのブロック図、第4図は
従来のガスセンサのブロック図、第5図は半導体レーザ
の掃引特性図、 第6図は吸収スペクトルを説明するための図である。 図において、1は赤外線半導体レーザ、2.4゜10は
レンズ、3は被測定ガス、5.11は赤外線センサ、6
.12は信号処理回路、7はハーフミラ−18はミラー
、9は参照セル、13は割算器、14は表示装置、15
は減圧ガスセル、16はチューニングレート測定回路、
17は記憶部、1日は乗算器、19は冷凍機、20は長
光路セルを示している。 ヨ或氏ス〆クト)しく二より一二ニグレート采“」±1
.のきり日g図第2図 −゛契施づダIJのがズロニ丈ψブb、ツク図第3囚 従来めがズe>−リ“のプロ・・lフ図第 4 図 第5図
圧スペクトルによるチューニングレート測定の説明図、 第3図は一実施例のガスセンサのブロック図、第4図は
従来のガスセンサのブロック図、第5図は半導体レーザ
の掃引特性図、 第6図は吸収スペクトルを説明するための図である。 図において、1は赤外線半導体レーザ、2.4゜10は
レンズ、3は被測定ガス、5.11は赤外線センサ、6
.12は信号処理回路、7はハーフミラ−18はミラー
、9は参照セル、13は割算器、14は表示装置、15
は減圧ガスセル、16はチューニングレート測定回路、
17は記憶部、1日は乗算器、19は冷凍機、20は長
光路セルを示している。 ヨ或氏ス〆クト)しく二より一二ニグレート采“」±1
.のきり日g図第2図 −゛契施づダIJのがズロニ丈ψブb、ツク図第3囚 従来めがズe>−リ“のプロ・・lフ図第 4 図 第5図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 半導体レーザ(1)のバイアス電流を所定範囲変化させ
て所定の幅内で波長の変化する赤外レーザ光を作成し、
該レーザ光を被測定ガス(3)内を透過してその吸収ス
ペクトルを赤外線センサ(5)と信号処理回路(6)で
検出し、該検出値より前記被測定ガス(3)の濃度測定
を行うガスセンサにおいて、 前記赤外レーザ光を透過する減圧ガスセル(15)と、
該減圧ガスセル(15)に封入した特定ガスの赤外光に
対する吸収スペクトルから前記半導体レーザ(1)のバ
イアス電流に対する波長の変化率を測定するチューニン
グレート測定回路(16)と、前記チューニングレート
測定回路(16)の測定結果をアドレスとし、チューニ
ングレートに対して予め定めた補正係数をデータとする
記憶部(17)と、前記信号処理回路(6)の検出値に
前記補正係数を乗算する乗算回路(18)を備えて成る
ことを特徴とするガスセンサ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61240927A JPS6395343A (ja) | 1986-10-09 | 1986-10-09 | ガスセンサ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61240927A JPS6395343A (ja) | 1986-10-09 | 1986-10-09 | ガスセンサ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6395343A true JPS6395343A (ja) | 1988-04-26 |
Family
ID=17066715
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61240927A Pending JPS6395343A (ja) | 1986-10-09 | 1986-10-09 | ガスセンサ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6395343A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1995026497A1 (fr) * | 1994-03-25 | 1995-10-05 | Nippon Sanso Corporation | Analyse de gaz par spectrochimie infrarouge et appareil utilise |
US6710295B1 (en) | 2000-06-15 | 2004-03-23 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands, B.V. | Slider curvature modification by substrate melting effect produced with a pulsed laser beam |
JP2008513755A (ja) * | 2004-09-15 | 2008-05-01 | ヴァイサラ オーワイジェー | ガス濃度の光学的測定を改善するための方法 |
-
1986
- 1986-10-09 JP JP61240927A patent/JPS6395343A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1995026497A1 (fr) * | 1994-03-25 | 1995-10-05 | Nippon Sanso Corporation | Analyse de gaz par spectrochimie infrarouge et appareil utilise |
US6710295B1 (en) | 2000-06-15 | 2004-03-23 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands, B.V. | Slider curvature modification by substrate melting effect produced with a pulsed laser beam |
US6831249B2 (en) | 2000-06-15 | 2004-12-14 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Slider produced by slider curvature modification by substrate melting produced with a pulsed laser beam |
JP2008513755A (ja) * | 2004-09-15 | 2008-05-01 | ヴァイサラ オーワイジェー | ガス濃度の光学的測定を改善するための方法 |
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