JPS63113346A - ガスセンサ - Google Patents
ガスセンサInfo
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- JPS63113346A JPS63113346A JP26020986A JP26020986A JPS63113346A JP S63113346 A JPS63113346 A JP S63113346A JP 26020986 A JP26020986 A JP 26020986A JP 26020986 A JP26020986 A JP 26020986A JP S63113346 A JPS63113346 A JP S63113346A
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- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 13
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 claims description 3
- 238000000411 transmission spectrum Methods 0.000 claims 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 47
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 12
- MGWGWNFMUOTEHG-UHFFFAOYSA-N 4-(3,5-dimethylphenyl)-1,3-thiazol-2-amine Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C=2N=C(N)SC=2)=C1 MGWGWNFMUOTEHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
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- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Landscapes
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
本発明は、微分計測法を用いた赤外半導体レーザ方式ガ
スセンサにおいて、半導体レーザのバイアス電流に対す
る波長の変化率(以後チューニングレートと記す)の変
動によるガス濃度測定値のゲインドリフトを抑圧するた
め、エタロン板を用いてチューニングレートを測定し、
ゲインの補正を行うことにより、長期間安定にガス濃度
測定が行えるようにしたものである。
スセンサにおいて、半導体レーザのバイアス電流に対す
る波長の変化率(以後チューニングレートと記す)の変
動によるガス濃度測定値のゲインドリフトを抑圧するた
め、エタロン板を用いてチューニングレートを測定し、
ゲインの補正を行うことにより、長期間安定にガス濃度
測定が行えるようにしたものである。
(産業上の利用分野〕
本発明は赤外半導体レーザ方式ガスセンサに関し、特に
半導体レーザのチューニングレートの変動を補正して長
期間安定にガス濃度測定を行なうようにしたガスセンサ
に関するものである。
半導体レーザのチューニングレートの変動を補正して長
期間安定にガス濃度測定を行なうようにしたガスセンサ
に関するものである。
ガスセンサは、小型、高感度、短時間測定で、しかも高
信頼性が要求される。赤外半導体レーザ方式ガスセンサ
は可搬型であり、望ましい特徴を備えている。
信頼性が要求される。赤外半導体レーザ方式ガスセンサ
は可搬型であり、望ましい特徴を備えている。
かかる赤外半導体レーザ方式ガスセンサにおいては、特
に長期間にわたって安定にガス濃度測定を行う必要があ
り、それがための方策が要望されている。
に長期間にわたって安定にガス濃度測定を行う必要があ
り、それがための方策が要望されている。
第4図は従来の赤外レーザ方式ガスセンサのブロック図
を示している。
を示している。
第4図において、半導体レーザ1より発光したレーザ光
はレンズ2により平行光線にされて大気中の微Hな被測
定ガス3(例えば、二酸化窒素NO2等の公害ガス)を
通過する。透過した光はレンズ4により、赤外線センサ
5に集光される。
はレンズ2により平行光線にされて大気中の微Hな被測
定ガス3(例えば、二酸化窒素NO2等の公害ガス)を
通過する。透過した光はレンズ4により、赤外線センサ
5に集光される。
半導体レーザ1は、第5図の掃引特性図に示すように、
バイアス電流を変えることにより連続的に波長を掃引で
きる。すなわち、バイアス電流を所定値1oから正弦波
状に増減する形で変化させることによって、第6図Aに
示すような、波長λDを中心に正弦波状に波長が変化す
るレーザ光が得られる。
バイアス電流を変えることにより連続的に波長を掃引で
きる。すなわち、バイアス電流を所定値1oから正弦波
状に増減する形で変化させることによって、第6図Aに
示すような、波長λDを中心に正弦波状に波長が変化す
るレーザ光が得られる。
このレーザ光が被測定ガス3を通過する場合、被測定ガ
ス3の吸収スペクトルは、第6図Bで表わされ、その透
過パワーは、レーザ光の掃引中心波長λ0で最小となり
、最長波長および最短波長との間にhの減衰によるパワ
ーの差が発生する。
ス3の吸収スペクトルは、第6図Bで表わされ、その透
過パワーは、レーザ光の掃引中心波長λ0で最小となり
、最長波長および最短波長との間にhの減衰によるパワ
ーの差が発生する。
この減衰によるパワーの差りは被測定ガスの濃度にほぼ
比例する。
比例する。
被測定ガス3を通過したレーザ光は、第6図Cに示すよ
うに、hの振幅を持った掃引周波数の2倍の周波数とな
って赤外線センサ5で受光され、電気信号に変換されて
信号処理回路6に出力される。信号処理回路6は、第6
図Cの交流を検波して吸収パワーの差りを検出する。
うに、hの振幅を持った掃引周波数の2倍の周波数とな
って赤外線センサ5で受光され、電気信号に変換されて
信号処理回路6に出力される。信号処理回路6は、第6
図Cの交流を検波して吸収パワーの差りを検出する。
一方、レンズ2を通過直後、ハーフミラ−7により分割
されて図中上方向に進んだレーザ光は、ミラー8を介し
て参照セル9を通りレンズ10により赤外線センサ11
に集光される。
されて図中上方向に進んだレーザ光は、ミラー8を介し
て参照セル9を通りレンズ10により赤外線センサ11
に集光される。
参照セル9には濃度が既知、の被測定ガスを入れておく
。
。
信号処理回路12は、前述した信号処理回路6と同様に
動作して濃度が既知のガスに対する減衰による信号h′
を検出する。
動作して濃度が既知のガスに対する減衰による信号h′
を検出する。
割算器13は、濃度が既知のh′に対する未知濃度のh
の比を計算して出力する。表示装置14は割算器13の
出力濃度比から被測定ガス3の濃度を換算して表示する
。
の比を計算して出力する。表示装置14は割算器13の
出力濃度比から被測定ガス3の濃度を換算して表示する
。
上記のガスセンサでは、半導体レーザの素子特性が変化
した場合、チューニングレートが変化するので、レーザ
のバイアス電流に重畳する微少交流が同じであっても、
波長1辰幅が変化し、そのため、第6図の相互関係から
明らかなように透過パワーhが見掛は上変化したことに
なってガス濃度測定値が変動する。
した場合、チューニングレートが変化するので、レーザ
のバイアス電流に重畳する微少交流が同じであっても、
波長1辰幅が変化し、そのため、第6図の相互関係から
明らかなように透過パワーhが見掛は上変化したことに
なってガス濃度測定値が変動する。
これを防ぐ目的で、参照セルを用い、既知濃度のガスに
対する信号を常に測定し、未知濃度のガスに対する信号
との比を計算することにより、チューニングレートの影
響を避けていた。
対する信号を常に測定し、未知濃度のガスに対する信号
との比を計算することにより、チューニングレートの影
響を避けていた。
しかし、測定対称ガスが二酸化窒素(NO2)等反応し
易いガスの場合、例えば、参照セルの材料そのものと反
応してしまうので、参照セル内のガスの濃度が変化して
わからなくなり、チューニングレートの影響を避けるこ
とができない欠点が生じた。
易いガスの場合、例えば、参照セルの材料そのものと反
応してしまうので、参照セル内のガスの濃度が変化して
わからなくなり、チューニングレートの影響を避けるこ
とができない欠点が生じた。
本発明はこのような点に鑑みて創作されたもので、半導
体レーザのチューニングレートが変化しても被測定ガス
の濃度を正確に測定することができるガスセンサを提供
することを目的としている。
体レーザのチューニングレートが変化しても被測定ガス
の濃度を正確に測定することができるガスセンサを提供
することを目的としている。
簡単に述べると本発明は、従来のような参照セルの既知
ガス濃度に対応した吸収量を規準とする考え方を改め、
測定時点毎に半導体レーザのチューニングレートを規準
として被測定ガスの濃度測定をなすようにしたものであ
る。
ガス濃度に対応した吸収量を規準とする考え方を改め、
測定時点毎に半導体レーザのチューニングレートを規準
として被測定ガスの濃度測定をなすようにしたものであ
る。
第1図は本発明のガスセンサのブロック図を示している
。
。
上記問題点を解消するため、本発明のガスセンサは、ハ
ーフミラ−7で分光したレーザ光を透過するエタロン板
15と、該エタロン板15を透過し、赤外線センサ11
で変換された電気信号より半導体レーザ1のチューニン
グレートを測定するチューニングレート測定回路16と
、予めチューニングレートの変動に対応した補正係数を
格納し、チューニングレート測定回路1Bの出力値によ
って該当する補正係数を出力する記憶部17を備えると
ともに、赤外線センサ5と信号処理回路6で得た被測定
ガス3を透過したレーザ光のスペクトラムの検出値に前
記補正係数を乗算する乗算器18を設けた構成としてい
る。
ーフミラ−7で分光したレーザ光を透過するエタロン板
15と、該エタロン板15を透過し、赤外線センサ11
で変換された電気信号より半導体レーザ1のチューニン
グレートを測定するチューニングレート測定回路16と
、予めチューニングレートの変動に対応した補正係数を
格納し、チューニングレート測定回路1Bの出力値によ
って該当する補正係数を出力する記憶部17を備えると
ともに、赤外線センサ5と信号処理回路6で得た被測定
ガス3を透過したレーザ光のスペクトラムの検出値に前
記補正係数を乗算する乗算器18を設けた構成としてい
る。
第2図はエタロン板15によるチューニングレート測定
を説明する図である。半導体レーザ1のバイアス電流を
掃引することにより、エタロン板15の透過光強度は、
第2図に示すように、一定の周期を持って波形を形成す
る。この波形の山と山。
を説明する図である。半導体レーザ1のバイアス電流を
掃引することにより、エタロン板15の透過光強度は、
第2図に示すように、一定の周期を持って波形を形成す
る。この波形の山と山。
谷と谷の波長間隔はエタロンに固有なものであるので、
山と山の電流間隔Iを測定することによりチューニング
レートがわかる。
山と山の電流間隔Iを測定することによりチューニング
レートがわかる。
チューニングレート測定回路16は上記の要領により半
導体レーザ1のチューニングレートを測定し、その測定
値を記憶部17に出力する。
導体レーザ1のチューニングレートを測定し、その測定
値を記憶部17に出力する。
記憶部17は、チューニングレート測定回路16の出力
値に対応した補正係数を乗算器18に出力し、乗算器1
8において被測定ガスの濃度を補正して正しい濃度を計
算し、表示装置14で濃度表示を行う。
値に対応した補正係数を乗算器18に出力し、乗算器1
8において被測定ガスの濃度を補正して正しい濃度を計
算し、表示装置14で濃度表示を行う。
第3図は本発明の一実施例のガスセンサのブロック図を
示しており、説明を容易とするために第1図、第4図と
同一部位は同一符号をもって示している。
示しており、説明を容易とするために第1図、第4図と
同一部位は同一符号をもって示している。
第3図に示すように、一実施例のガスセンサはレーザ光
を発生する半導体レーザ1と、半導体レーザ1の出力レ
ーザ光を分離するハーフミラ−7と、ハーフミラ−7で
分離された一方向のレーザ光を透過する長光路セル20
と、長光路セル20を通過したレーザ光を検知して電気
信号に変換する赤外線センサ5と赤外線センサ5の出力
信号を検波する信号処理回路6とを備えている。
を発生する半導体レーザ1と、半導体レーザ1の出力レ
ーザ光を分離するハーフミラ−7と、ハーフミラ−7で
分離された一方向のレーザ光を透過する長光路セル20
と、長光路セル20を通過したレーザ光を検知して電気
信号に変換する赤外線センサ5と赤外線センサ5の出力
信号を検波する信号処理回路6とを備えている。
また、ハーフミラ−7で分離された他の一方向のレーザ
光を透過するエタロン板15と、エタロン板15を透過
したレーザ光をヰ★知して電気信号に変換する赤外線セ
ンサ11と、赤外線センサ11の出力信号より半導体レ
ーザ1のチューニングレートを測定するチューニングレ
ート測定回路16と、予めチューニングレートに応じた
補正係数を格納し、チューニングレート測定回路1Bの
出力信号によって該当する補正係数を出力する記憶部(
ROM) 17を備えるとともに、信号処理回路6で得
た検波出力に前記補正係数を乗算する乗算器18を設け
、該乗算器18の出力を表示装置14で表示する構成と
している。
光を透過するエタロン板15と、エタロン板15を透過
したレーザ光をヰ★知して電気信号に変換する赤外線セ
ンサ11と、赤外線センサ11の出力信号より半導体レ
ーザ1のチューニングレートを測定するチューニングレ
ート測定回路16と、予めチューニングレートに応じた
補正係数を格納し、チューニングレート測定回路1Bの
出力信号によって該当する補正係数を出力する記憶部(
ROM) 17を備えるとともに、信号処理回路6で得
た検波出力に前記補正係数を乗算する乗算器18を設け
、該乗算器18の出力を表示装置14で表示する構成と
している。
第3図において、ヘリウム循環式冷凍機19によって冷
却された半導体レーザ1は、バイアス電流を変えること
により規定幅の波長を連続的に掃引したレーザ光を出力
する。この出力レーザ光は、レンズ2で平行光となり、
ハーフミラ−7で分離される。
却された半導体レーザ1は、バイアス電流を変えること
により規定幅の波長を連続的に掃引したレーザ光を出力
する。この出力レーザ光は、レンズ2で平行光となり、
ハーフミラ−7で分離される。
ハーフミラ−7で分離された一方向のレーザ光は、例え
ば、ゲルマニウムの平行平面板、つまりエタロン板15
を通過する。この通過レーザ光は、ゲルマニウム板の平
行面の間隔とゲルマ材の屈折率等によって規定される、
第2図に示すような、山と山、谷と谷の間隔が固有な波
形となって赤外線センサ11で受光され電気信号に変換
される。
ば、ゲルマニウムの平行平面板、つまりエタロン板15
を通過する。この通過レーザ光は、ゲルマニウム板の平
行面の間隔とゲルマ材の屈折率等によって規定される、
第2図に示すような、山と山、谷と谷の間隔が固有な波
形となって赤外線センサ11で受光され電気信号に変換
される。
チューニングレート測定回路16は、赤外線センサ11
の出力を受けてレーザ光の山と山との間の電流を計測し
、半導体レーザ1のチューニングレートを測定して記憶
部17に出力する。
の出力を受けてレーザ光の山と山との間の電流を計測し
、半導体レーザ1のチューニングレートを測定して記憶
部17に出力する。
記憶部17には予めチューニングレートに対応した補正
係数が格納されており、チューニングレート測定回路1
6より出力されるチューニングレートをアドレスとして
それに対応した補正係数を乗算器18に出力する。
係数が格納されており、チューニングレート測定回路1
6より出力されるチューニングレートをアドレスとして
それに対応した補正係数を乗算器18に出力する。
ハーフミラ−7で分離された他の一方向のレーザ光は、
球面鏡3個で形成された長光路セル20を通過する。こ
の通過によって長光路セル20に存在する大気中の測定
対象ガスの吸収を受け、第6図(C1に示すような、掃
引周波数の2倍の周波数で被測定ガス濃度にほぼ比例し
た大きさ振幅りを持った波形となる。
球面鏡3個で形成された長光路セル20を通過する。こ
の通過によって長光路セル20に存在する大気中の測定
対象ガスの吸収を受け、第6図(C1に示すような、掃
引周波数の2倍の周波数で被測定ガス濃度にほぼ比例し
た大きさ振幅りを持った波形となる。
赤外線センサ5は上記のレーザ光を受光し電気信号に変
換して信号処理回路6に出力する。信号処理回路6は入
力レーザ光に対する信号を検波して検波値りを得、乗算
器18に出力する。
換して信号処理回路6に出力する。信号処理回路6は入
力レーザ光に対する信号を検波して検波値りを得、乗算
器18に出力する。
乗算器18は、信号処理回路6より出力される被測定ガ
スの検波値りに記憶部17より出力される補正係数を乗
じ、被測定ガスの正しい濃度を算出して表示装置14を
介して濃度表示を行う。
スの検波値りに記憶部17より出力される補正係数を乗
じ、被測定ガスの正しい濃度を算出して表示装置14を
介して濃度表示を行う。
以上説明したように本発明によれば、半導体レーザのチ
ューニングレートの変動によるガス濃度測定値のゆらぎ
が抑圧されるので、二酸化窒素(NO7り等反応し易い
気体に対しても長期間安定に測定することができる高信
頼度のガスセンサが得られる。
ューニングレートの変動によるガス濃度測定値のゆらぎ
が抑圧されるので、二酸化窒素(NO7り等反応し易い
気体に対しても長期間安定に測定することができる高信
頼度のガスセンサが得られる。
第1図は本発明のガスセンサのブロック図、第2図はエ
タロン板によるチューニングレート測定の説明図、 第3図は本発明の一実施例のガスセンサのブロック図、 第4図は従来のガスセンサのブロック図、第5図は半導
体レーザの掃引特性図、 第6図は吸収スペクトルを説明するための図である。 図において、1は半導体レーザ、2.4.10はレンズ
、3は被測定ガス、5.11は赤外線センサ、6.12
は信号処理回路、7はハーフミラ−18はミラー、9は
参照セル、13は割算器、14は表示装置、15はエタ
ロン板、16はチューニングレート測定回路、17は記
憶部、18は乗算器、19は冷凍機、20は長光路セル
をそれぞれ示している。 、杢iト叫d7でシプーフ“a、nガ 第1図 第2図 −吏坊色?1肖π°ズ1>−ケiフ″ロー/7回第3図 ぞL粗め力”スセソ丈句7−Dv、7ffl第4図 1ζl停し −1r゛つノ1−ラ1婁牛すt口第5図
タロン板によるチューニングレート測定の説明図、 第3図は本発明の一実施例のガスセンサのブロック図、 第4図は従来のガスセンサのブロック図、第5図は半導
体レーザの掃引特性図、 第6図は吸収スペクトルを説明するための図である。 図において、1は半導体レーザ、2.4.10はレンズ
、3は被測定ガス、5.11は赤外線センサ、6.12
は信号処理回路、7はハーフミラ−18はミラー、9は
参照セル、13は割算器、14は表示装置、15はエタ
ロン板、16はチューニングレート測定回路、17は記
憶部、18は乗算器、19は冷凍機、20は長光路セル
をそれぞれ示している。 、杢iト叫d7でシプーフ“a、nガ 第1図 第2図 −吏坊色?1肖π°ズ1>−ケiフ″ロー/7回第3図 ぞL粗め力”スセソ丈句7−Dv、7ffl第4図 1ζl停し −1r゛つノ1−ラ1婁牛すt口第5図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 半導体レーザ(1)のバイアス電流を所定範囲変化させ
て所定の幅内で波長の変化する赤外レーザ光を作成し、
該レーザ光を被測定ガス(3)内を透過してその吸収ス
ペクトルを赤外線センサ(5)と信号処理回路(6)で
検出し、該検出値より前記被測定ガス(3)の濃度測定
を行うガスセンサにおいて、 前記レーザ光を透過するエタロン板(15)と、該エタ
ロン板(15)の透過スペクトルから前記半導体レーザ
(1)のバイアス電流に対する波長の変化率を測定する
チューニングレート測定回路(16)と、前記チューニ
ングレート測定回路(16)の測定結果に対応して予め
定めた補正係数を記憶する記憶部(17)と、前記信号
処理回路(6)の検出値に前記補正係数を乗算する乗算
回路(18)を備えて成ることを特徴とするガスセンサ
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26020986A JPS63113346A (ja) | 1986-10-30 | 1986-10-30 | ガスセンサ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26020986A JPS63113346A (ja) | 1986-10-30 | 1986-10-30 | ガスセンサ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63113346A true JPS63113346A (ja) | 1988-05-18 |
Family
ID=17344858
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26020986A Pending JPS63113346A (ja) | 1986-10-30 | 1986-10-30 | ガスセンサ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63113346A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003513228A (ja) * | 1999-08-03 | 2003-04-08 | コリア アドバンスト インスティテュート オブ サイエンス アンド テクノロジー | 光繊維構造物変形感知システム |
CN103163090A (zh) * | 2013-02-02 | 2013-06-19 | 中国科学院合肥物质科学研究院 | 一种用于反应堆厂房内部的钋气溶胶浓度检测系统 |
CN103868877A (zh) * | 2014-03-14 | 2014-06-18 | 刘永平 | 一种红外气体传感器及检测方法 |
JP2018190868A (ja) * | 2017-05-09 | 2018-11-29 | 日本電信電話株式会社 | 光源装置 |
-
1986
- 1986-10-30 JP JP26020986A patent/JPS63113346A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003513228A (ja) * | 1999-08-03 | 2003-04-08 | コリア アドバンスト インスティテュート オブ サイエンス アンド テクノロジー | 光繊維構造物変形感知システム |
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