JPS6389171A - 誘導加熱素子の温度制御方法 - Google Patents
誘導加熱素子の温度制御方法Info
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- JPS6389171A JPS6389171A JP23347386A JP23347386A JPS6389171A JP S6389171 A JPS6389171 A JP S6389171A JP 23347386 A JP23347386 A JP 23347386A JP 23347386 A JP23347386 A JP 23347386A JP S6389171 A JPS6389171 A JP S6389171A
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Landscapes
- Electrotherapy Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の目的］
（産業上の利用分野）
本発明は温熱治療法として知られるハイパーサーミアに
用いられる誘導加熱素子の加熱温度制生体の治療部位、
例えば癌を所定温度（４３℃前後）で加熱することによ
り病源を死滅させるという温熱治療法が脚光を浴びてい
る。
用いられる誘導加熱素子の加熱温度制生体の治療部位、
例えば癌を所定温度（４３℃前後）で加熱することによ
り病源を死滅させるという温熱治療法が脚光を浴びてい
る。
このような治療部位を局所的に加熱する方法として誘導
加熱素子に高周波磁界を印加して所望の発熱温度を得る
誘導加熱法が行われている。
加熱素子に高周波磁界を印加して所望の発熱温度を得る
誘導加熱法が行われている。
前記誘導加熱法におけるハイパーサーミアでは体内に磁
性体や合金等を植込むか、又は刺入して外部から高周波
磁界を印加してヒステリシス損失や渦電流損失による発
熱を生じさせ、これにより治療部位を局所加温するよう
にしている。従って生体内の治療部位を最適な一定の温
度に保つことが極めて重要な技術となっている。
性体や合金等を植込むか、又は刺入して外部から高周波
磁界を印加してヒステリシス損失や渦電流損失による発
熱を生じさせ、これにより治療部位を局所加温するよう
にしている。従って生体内の治療部位を最適な一定の温
度に保つことが極めて重要な技術となっている。
従来、この温度制御法として外部から照射する高周波磁
界をＯＮ、ＯＦＦ制御することにより制御する方法、ま
たは磁性体のキュリーポイントの設定により制御する方
法が考えられている。
界をＯＮ、ＯＦＦ制御することにより制御する方法、ま
たは磁性体のキュリーポイントの設定により制御する方
法が考えられている。
（発明が解決しようとする問題点）
しかしながら、高周波磁界をＯＮ、ＯＦＦ制御する方法
では高周波出力のスイッチングによるため装置の大型化
、高価格化、そして制御の信頼性が低下するという問題
がある。また、磁性体のキュリーポイントを設定する方
法では、−旦適正な温度設定ができたとしても、使用に
当り複雑な体内における血流の大小１組織の粗密等の敢
然条件の相違により治療温度が変化してしまうという問
題を有する。
では高周波出力のスイッチングによるため装置の大型化
、高価格化、そして制御の信頼性が低下するという問題
がある。また、磁性体のキュリーポイントを設定する方
法では、−旦適正な温度設定ができたとしても、使用に
当り複雑な体内における血流の大小１組織の粗密等の敢
然条件の相違により治療温度が変化してしまうという問
題を有する。
本発明は前記問題点を解決してきわめて簡単に誘導加熱
素子の温度を体外における操作で制御できる方法を提供
することを目的とする。
素子の温度を体外における操作で制御できる方法を提供
することを目的とする。
［発明の構成］
（問題点を解決するための手段及びその作用）前記目的
を達成するために本発明は、誘導加熱素子に印加する高
周波磁界の周波数を変化させることにより加熱温度を制
御するようにしたことを特徴とする。
を達成するために本発明は、誘導加熱素子に印加する高
周波磁界の周波数を変化させることにより加熱温度を制
御するようにしたことを特徴とする。
（実施例）
次に本発明の制御方法が適用される誘導加熱素子につい
てその構成と機能を説明する。
てその構成と機能を説明する。
第１図に示すものは、シリコンゴムのような耐熱性ゴム
１のカプセル内に複数の磁性材微粉末２を混合し、飽和
温度を調節して成る加熱素子の断面図である。内部には
、磁性材料の微粉末化したものを用い、外部はシリコン
ゴム等で構成されているため柔軟で、体内に適合する構
造である。゛第２図は、シリコンのような耐熱性のゴム
の溶剤に、微粉末化した、磁性材料２を混合し、固形化
した加熱素子３である。あらかじめ所望の飽和温度を実
現するために、ゴム材と磁性材料微粉末の混合比、及び
複数の磁性材料を用いて調節がしである。
１のカプセル内に複数の磁性材微粉末２を混合し、飽和
温度を調節して成る加熱素子の断面図である。内部には
、磁性材料の微粉末化したものを用い、外部はシリコン
ゴム等で構成されているため柔軟で、体内に適合する構
造である。゛第２図は、シリコンのような耐熱性のゴム
の溶剤に、微粉末化した、磁性材料２を混合し、固形化
した加熱素子３である。あらかじめ所望の飽和温度を実
現するために、ゴム材と磁性材料微粉末の混合比、及び
複数の磁性材料を用いて調節がしである。
第３図は、複数の磁性微粉末２を用いて一定の飽和温度
となるように調合及び固形状に構成した加熱素子４、そ
の周囲を金メツキ５等を施し、体内に植込むように出来
るようにした加熱素子３である。
となるように調合及び固形状に構成した加熱素子４、そ
の周囲を金メツキ５等を施し、体内に植込むように出来
るようにした加熱素子３である。
本発明は前述の誘導加熱素子を用いて次のようにして温
度制御を行なうものである。
度制御を行なうものである。
例えば前記誘導加熱素子を構成する磁性体を高周波磁界
印加時に所定の温度（４３°Ｃ前後）となるようなキュ
リーポイントを有する材料とした後、これを生体腔内に
挿入した後外部又はリード線を介して高周波磁界を印加
したときに、生体内の放熱条件が予め想定したものとは
異なり、３９℃で温度が飽和してしまったとする。この
ような場合に高周波磁界の周波数を変化させることによ
り前記飽和温度を最適な値（４３°Ｃ前後）に設定制御
する。
印加時に所定の温度（４３°Ｃ前後）となるようなキュ
リーポイントを有する材料とした後、これを生体腔内に
挿入した後外部又はリード線を介して高周波磁界を印加
したときに、生体内の放熱条件が予め想定したものとは
異なり、３９℃で温度が飽和してしまったとする。この
ような場合に高周波磁界の周波数を変化させることによ
り前記飽和温度を最適な値（４３°Ｃ前後）に設定制御
する。
周波数を変更して飽和温度を変更した実験結果を第４図
に示して説明する。
に示して説明する。
この実験例ではフェライト微粉末を試験管に入れて、生
体の体温と血流とを想定して３６℃温風を試験管に絶え
ず当てて飽和温度を実測したものである。ここでは発振
器の進行波出力２００（Ｗ＞で周波数１．０ （ＭＨｚ
）、１．５ （Ｍｌ−１ｚ）いずれの場合も完全に温度
は飽和している。そして、周波数を１．０（ＭＨｚ＞か
ら１．５ （ＭＨｚ）に変更すると明らかに飽和温度が
４０．５℃に変ることを示している。これは磁性体の温
度特性が周波数依存性を有することに基づく。
体の体温と血流とを想定して３６℃温風を試験管に絶え
ず当てて飽和温度を実測したものである。ここでは発振
器の進行波出力２００（Ｗ＞で周波数１．０ （ＭＨｚ
）、１．５ （Ｍｌ−１ｚ）いずれの場合も完全に温度
は飽和している。そして、周波数を１．０（ＭＨｚ＞か
ら１．５ （ＭＨｚ）に変更すると明らかに飽和温度が
４０．５℃に変ることを示している。これは磁性体の温
度特性が周波数依存性を有することに基づく。
尚、前記制御方法の説明では飽和温度を直接測定する場
合と、飽和磁束密度の温度特性の傾きから飽和温度を予
測する場合のいずれを採用してもよい。
合と、飽和磁束密度の温度特性の傾きから飽和温度を予
測する場合のいずれを採用してもよい。
［発明の効果］
以上詳述した本発明によれば、飽和している温度を磁性
体の発熱特性が周波数に依存していることに着目し周波
数の変化で制御しようとするもので、従来のキュリーポ
イントの考えでは飽和温度を十分に制御できなかったの
に対して簡単にかつ確実に制御することができる。
体の発熱特性が周波数に依存していることに着目し周波
数の変化で制御しようとするもので、従来のキュリーポ
イントの考えでは飽和温度を十分に制御できなかったの
に対して簡単にかつ確実に制御することができる。
田
第１図は本発明の制御方法が適用される誘導加熱素子の
構成を示す慨略断面図、第２図及び第３図は上記誘導加
熱素子の他の構成を示す概略断面図及び一部切欠斜祝図
、第４図は本発明制御方法による実験結果を示す特性図
である。 ３・・・加熱素子
構成を示す慨略断面図、第２図及び第３図は上記誘導加
熱素子の他の構成を示す概略断面図及び一部切欠斜祝図
、第４図は本発明制御方法による実験結果を示す特性図
である。 ３・・・加熱素子
Claims (2)
- （１）誘導加熱素子に高周波磁界を印加して所望の温度
の発熱を得る方法において、印加する高周波磁界の周波
数を変化させることにより発熱温度を制御することを特
徴とする誘導加熱素子の温度制御方法。 - （２）誘導加熱素子は磁性材粉末で構成された特許請求
の範囲第１項記載の誘導加熱素子の温度制御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23347386A JPS6389171A (ja) | 1986-09-30 | 1986-09-30 | 誘導加熱素子の温度制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23347386A JPS6389171A (ja) | 1986-09-30 | 1986-09-30 | 誘導加熱素子の温度制御方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6389171A true JPS6389171A (ja) | 1988-04-20 |
Family
ID=16955571
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23347386A Pending JPS6389171A (ja) | 1986-09-30 | 1986-09-30 | 誘導加熱素子の温度制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6389171A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH105267A (ja) * | 1996-06-26 | 1998-01-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 温灸器 |
| JP2006206416A (ja) * | 2005-01-31 | 2006-08-10 | Tdk Corp | 磁性発熱体及びそれに用いるフェライト |
| JP2013115049A (ja) * | 2011-11-28 | 2013-06-10 | Boeing Co:The | 誘導加熱されるサセプタの平衡温度を調整するシステム及び方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5611049A (en) * | 1979-07-06 | 1981-02-04 | Olympus Optical Co | Local heater for tissue in coelom |
| JPS57117872A (en) * | 1980-09-24 | 1982-07-22 | Drolet Roland A | Electromagnetic treatment device and its method |
| JPS6158670A (ja) * | 1984-08-30 | 1986-03-25 | オムロン株式会社 | 高周波温熱治療装置 |
-
1986
- 1986-09-30 JP JP23347386A patent/JPS6389171A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5611049A (en) * | 1979-07-06 | 1981-02-04 | Olympus Optical Co | Local heater for tissue in coelom |
| JPS57117872A (en) * | 1980-09-24 | 1982-07-22 | Drolet Roland A | Electromagnetic treatment device and its method |
| JPS6158670A (ja) * | 1984-08-30 | 1986-03-25 | オムロン株式会社 | 高周波温熱治療装置 |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH105267A (ja) * | 1996-06-26 | 1998-01-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 温灸器 |
| JP2006206416A (ja) * | 2005-01-31 | 2006-08-10 | Tdk Corp | 磁性発熱体及びそれに用いるフェライト |
| JP4492370B2 (ja) * | 2005-01-31 | 2010-06-30 | Ｔｄｋ株式会社 | 磁性発熱体及びそれに用いるフェライト |
| JP2013115049A (ja) * | 2011-11-28 | 2013-06-10 | Boeing Co:The | 誘導加熱されるサセプタの平衡温度を調整するシステム及び方法 |
| US10442120B2 (en) | 2011-11-28 | 2019-10-15 | The Boeing Company | System for adjusting the equilibrium temperature of an inductively-heated susceptor |
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