JPH0261036A - 感温性アモルファス合金 - Google Patents
感温性アモルファス合金Info
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- JPH0261036A JPH0261036A JP20984488A JP20984488A JPH0261036A JP H0261036 A JPH0261036 A JP H0261036A JP 20984488 A JP20984488 A JP 20984488A JP 20984488 A JP20984488 A JP 20984488A JP H0261036 A JPH0261036 A JP H0261036A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は生体加熱用磁性材料に関し、更に詳しくは癌な
どの悪性腫瘍治療法の1種であるハイパーサーミアにお
いて、局部加熱用インブラント材料として使用し得る感
温性アモルファス合金に関する。
どの悪性腫瘍治療法の1種であるハイパーサーミアにお
いて、局部加熱用インブラント材料として使用し得る感
温性アモルファス合金に関する。
癌などの悪性腫瘍細胞と正常細胞との間に存在する熱感
受性の差異に着目して、腫瘍付近の温度を42℃或いは
それ以上に加熱することによって癌治療を行う手法(ハ
イパーサーミア)が1960年頃から研究され始め、最
近の目ざましい加温技術の進歩により、広範囲な応用が
試みられつつある。
受性の差異に着目して、腫瘍付近の温度を42℃或いは
それ以上に加熱することによって癌治療を行う手法(ハ
イパーサーミア)が1960年頃から研究され始め、最
近の目ざましい加温技術の進歩により、広範囲な応用が
試みられつつある。
ハイパーサーミアは、その加熱手段によって全身温熱療
法と局部温熱療法とに大別される。
法と局部温熱療法とに大別される。
全身温熱療法には、温水や溶融パラフィンが用いられ、
我国では体外循環血液加温法が最も普及している。
我国では体外循環血液加温法が最も普及している。
局所温熱療法では、電磁波を用いるものが多く、マイク
ロ波加温(2,450M)Iz、 915MHz143
4MHz等)、RF誘導加温(27,12M)lz、
13.56M)Iz) 、RP誘電加温(13,56M
Hz、 8M)lz)及び超音波加温(1〜3 MHz
)に基づく種々の外部加温装置が厚生省の製造承認を得
て臨床応用に供されている。中でも皮下脂肪の少ない日
本人に対しては、RF誘電加温装置が主流となっている
。
ロ波加温(2,450M)Iz、 915MHz143
4MHz等)、RF誘導加温(27,12M)lz、
13.56M)Iz) 、RP誘電加温(13,56M
Hz、 8M)lz)及び超音波加温(1〜3 MHz
)に基づく種々の外部加温装置が厚生省の製造承認を得
て臨床応用に供されている。中でも皮下脂肪の少ない日
本人に対しては、RF誘電加温装置が主流となっている
。
マイクロ波加温は原理的に表皮から数センチメートルの
深さまでが加熱限界であり、表在性の腫瘍に対してのみ
有効である。RF誘電加温では電橋周囲や皮下脂肪が選
択的に加温され、患部のみの加温は難しい。また、RF
誘導加温では深部加温が可能であるが、生体内の不均一
インピーダンスによって発熱パターンも乱れやすく、病
巣以外も加温されてしまうという欠点がある。更に超音
波による加温は収束性も良好であり、深部の局所加温に
適してはいるが、骨や空気との境界面で反射されるため
適用部位に制限がある。
深さまでが加熱限界であり、表在性の腫瘍に対してのみ
有効である。RF誘電加温では電橋周囲や皮下脂肪が選
択的に加温され、患部のみの加温は難しい。また、RF
誘導加温では深部加温が可能であるが、生体内の不均一
インピーダンスによって発熱パターンも乱れやすく、病
巣以外も加温されてしまうという欠点がある。更に超音
波による加温は収束性も良好であり、深部の局所加温に
適してはいるが、骨や空気との境界面で反射されるため
適用部位に制限がある。
以上述べてきた方法は加温に関しては何れも非侵襲的で
あるという利点を有するものの、生体深部の局所加温を
確実に実現するのは容易ではない。
あるという利点を有するものの、生体深部の局所加温を
確実に実現するのは容易ではない。
そこで不要な場所での高温領域(flat 5pot)
の発生などを防ぐために、常時温度計測をする必要があ
り、結果として侵襲的となる。更に)lot 5pot
の発生箇所は予測し難く、適切な温度分布計測法は未だ
確立されていない。また一般に電磁波を用いる場合、高
周波化すれば局所加温は可能であるものの深部加温が困
難になり、低周波化すれば深部加温は容易になるが加温
範囲が広くなるという本質的な問題を有している。
の発生などを防ぐために、常時温度計測をする必要があ
り、結果として侵襲的となる。更に)lot 5pot
の発生箇所は予測し難く、適切な温度分布計測法は未だ
確立されていない。また一般に電磁波を用いる場合、高
周波化すれば局所加温は可能であるものの深部加温が困
難になり、低周波化すれば深部加温は容易になるが加温
範囲が広くなるという本質的な問題を有している。
これらの電磁波応用ハイパーサーミアの問題点をカバー
すべく近年開発されつつあるのが、ソフトヒーティング
法と呼ばれる方法である。この方法では感温性磁性材料
を生体内の腫瘍部に埋め込み、高周波交番磁界で励磁す
ることによって発生するヒステリシス損失等を発熱源と
して利用している。
すべく近年開発されつつあるのが、ソフトヒーティング
法と呼ばれる方法である。この方法では感温性磁性材料
を生体内の腫瘍部に埋め込み、高周波交番磁界で励磁す
ることによって発生するヒステリシス損失等を発熱源と
して利用している。
このソフトヒーティング法に使用するインブラント材と
して、従来から検討されて来た感温性磁性材料(フェラ
イト、Ni−3i 、Pe+Cなど)は何れも常温付近
での加温効率が悪く、且つ治療に必要な温度の安定維持
が容易ではない。これらの実用特性を向上すべく、磁性
材料と非磁性材料との組み合せによる複合形発熱体が考
案されているが、不安定要因が多くなり、未だ実用化に
結びつく特性を得るに至っていない。
して、従来から検討されて来た感温性磁性材料(フェラ
イト、Ni−3i 、Pe+Cなど)は何れも常温付近
での加温効率が悪く、且つ治療に必要な温度の安定維持
が容易ではない。これらの実用特性を向上すべく、磁性
材料と非磁性材料との組み合せによる複合形発熱体が考
案されているが、不安定要因が多くなり、未だ実用化に
結びつく特性を得るに至っていない。
最近、ハイパーサーミアのインブラント材としてアモル
ファス合金の粉末を使用することが提案された( r
Biomedical Thermography」、
Vow! 、7、Nα1.7〜10頁、1987年)。
ファス合金の粉末を使用することが提案された( r
Biomedical Thermography」、
Vow! 、7、Nα1.7〜10頁、1987年)。
このインブラント材は寒天ファントムに埋設され、生体
深部の癌患部に挿入されて高周波の磁界により誘導加熱
されるものである。
深部の癌患部に挿入されて高周波の磁界により誘導加熱
されるものである。
しかしながらこのインブラント材に用いられたアモルフ
ァス合金は数百℃と高いキュリー温度を有するために、
外部交番磁界をかけると、温度は約45℃を超えて高く
なりすぎる。従って患部を所望の温度に設定するために
は、外部磁界を制御し、温度調節を行なわなければなら
ない。しかし、患部の位置や状態により加温状態が異な
り、かつ患部の温度を正確に検出しながら調節する必要
があるので、加温療法が複雑になるという問題がある。
ァス合金は数百℃と高いキュリー温度を有するために、
外部交番磁界をかけると、温度は約45℃を超えて高く
なりすぎる。従って患部を所望の温度に設定するために
は、外部磁界を制御し、温度調節を行なわなければなら
ない。しかし、患部の位置や状態により加温状態が異な
り、かつ患部の温度を正確に検出しながら調節する必要
があるので、加温療法が複雑になるという問題がある。
従って本発明の目的は、特別な制御を必要とせずに患部
を常に所定の温度範囲に誘導加温し得るインブラント材
用の感温性アモルファス合金を提供することである。
を常に所定の温度範囲に誘導加温し得るインブラント材
用の感温性アモルファス合金を提供することである。
上記目的に鑑み鋭意研究の結果、本発明者等は、アモル
ファス合金の組成系においてNi量を増加させることに
よりキュリー温度を所望のレベルにまで低下させると、
誘導加温において外部交番磁界を制御しなくてもアモル
ファス合金の加温温度を42〜45℃程度の所望のレベ
ルに常に維持することができることを発見し、本発明を
完成した。
ファス合金の組成系においてNi量を増加させることに
よりキュリー温度を所望のレベルにまで低下させると、
誘導加温において外部交番磁界を制御しなくてもアモル
ファス合金の加温温度を42〜45℃程度の所望のレベ
ルに常に維持することができることを発見し、本発明を
完成した。
すなわち、本発明の温熱療法用感温性アモルファス合金
は、Fe、 Ni及びCoの1種又は2種以上の遷移金
属と、P%C,Si及びBの1種又は2種以上の半金属
とを含有し、42℃乃至90℃のキュIJ −温度を一
有することを特徴とする。
は、Fe、 Ni及びCoの1種又は2種以上の遷移金
属と、P%C,Si及びBの1種又は2種以上の半金属
とを含有し、42℃乃至90℃のキュIJ −温度を一
有することを特徴とする。
本発明を以下詳細に説明する。
本発明のアモルファス合金の基本組成は(Pe、 Ni
、Co) (P、 C,Si、 B)である。
、Co) (P、 C,Si、 B)である。
N1はキュリー温度を低下させる目的で添加する元素で
あり、同時に耐食性も付与する。特にキュリー温度の低
下はソフトヒーティング用磁性材料として重要であり、
悪性腫瘍治療温度への局部加温、及び治療温度の保持を
可能に、するものである。
あり、同時に耐食性も付与する。特にキュリー温度の低
下はソフトヒーティング用磁性材料として重要であり、
悪性腫瘍治療温度への局部加温、及び治療温度の保持を
可能に、するものである。
さらに、上記組成物にAIを添加することにより、キュ
リー温度をさらに低くすることができる。
リー温度をさらに低くすることができる。
従って、AI添加の場合Niの添加量を抑制しても低キ
ユリー温度のアモルファス合金を得ることができる。一
般にNiの添加量を増大するとアモルファス合金の磁束
密度が低下する傾向があるが、上記のようにAA’を添
加することによりN1の添加量を抑制すると、キュリー
温度が低く磁束密度の低下が小さいアモルファス合金を
得ることができる。
ユリー温度のアモルファス合金を得ることができる。一
般にNiの添加量を増大するとアモルファス合金の磁束
密度が低下する傾向があるが、上記のようにAA’を添
加することによりN1の添加量を抑制すると、キュリー
温度が低く磁束密度の低下が小さいアモルファス合金を
得ることができる。
キュリー温度は42〜90℃の範囲である必要がある。
42℃以下では、ハイパーサーミアとして有効な温度域
まで加温出来ず、また90℃以上ではインダクタンス減
少温度が55℃を超え、治療温度域をオーバーして過熱
となるためである。好ましいキュリー温度は60〜75
℃である。このような目的でNiはl添加合金中40〜
50原子%程度であり、A!無添加合金中55〜65原
子%程度である。なおl添加合金の場合、Al2の添加
量は2〜5原子%であるのが好ましい。
まで加温出来ず、また90℃以上ではインダクタンス減
少温度が55℃を超え、治療温度域をオーバーして過熱
となるためである。好ましいキュリー温度は60〜75
℃である。このような目的でNiはl添加合金中40〜
50原子%程度であり、A!無添加合金中55〜65原
子%程度である。なおl添加合金の場合、Al2の添加
量は2〜5原子%であるのが好ましい。
PSCSSi及びB(01種又は2種以上の半金属の含
有量は合金中lO〜30原子%程度である。
有量は合金中lO〜30原子%程度である。
本発明の感温性アモルファス合金はインブラント材とし
て所望の形状に成形し得るように粉末状であるのが好ま
しい。アモルファス合金粉末の粒径が小さくなるに従っ
て加温カーブが緩やかになり、所望の温度に患部を加温
するのに時間を要するようになる。従ってアモルファス
合金粉末が厚さ15〜40μm程度の偏平状である場合
、その平均径(長さ)は297μm以上であるのが好ま
しい。
て所望の形状に成形し得るように粉末状であるのが好ま
しい。アモルファス合金粉末の粒径が小さくなるに従っ
て加温カーブが緩やかになり、所望の温度に患部を加温
するのに時間を要するようになる。従ってアモルファス
合金粉末が厚さ15〜40μm程度の偏平状である場合
、その平均径(長さ)は297μm以上であるのが好ま
しい。
このようなアモルファス合金の粉末は、通常の溶融急冷
法(単一ロール法、ダブルロール法、キャビテーション
法等)により製造したリボン又はフレークを粉砕するこ
とにより得ることができる。
法(単一ロール法、ダブルロール法、キャビテーション
法等)により製造したリボン又はフレークを粉砕するこ
とにより得ることができる。
本発明のアモルファス合金は比較的低いキュリー温度を
有するために、加温治療温度付近において加温カーブが
平準化し、それ以上励磁しても昇温しない性質を有する
。この平準化したときの温度はキュリー温度よりやや低
く、むしろコイル励磁の場合のインダクタンスの急激な
低下温度に対応する。このような性質により、外部励磁
をコントロールしなくても、アモルファス合金の温度は
一定の温度以上には絶対に上昇せず、安定した加温治療
を行うことができる。
有するために、加温治療温度付近において加温カーブが
平準化し、それ以上励磁しても昇温しない性質を有する
。この平準化したときの温度はキュリー温度よりやや低
く、むしろコイル励磁の場合のインダクタンスの急激な
低下温度に対応する。このような性質により、外部励磁
をコントロールしなくても、アモルファス合金の温度は
一定の温度以上には絶対に上昇せず、安定した加温治療
を行うことができる。
本発明を以下の実施例によりさらに詳細に説明する。
実施例I
I’el’1.3 N15o、s S+s、t B12
.4(原子%)の組成を有する溶湯から、キャビテーシ
ョン法により、厚さ15〜25μm、長さ500〜10
000μmの範囲のアモルファスフレークを作製し、粉
砕により63〜1000μmの長さの偏平状粉末を製造
した。得られたアモルファス合金粉末のキュリー温度は
65℃、結晶化温度は520℃であった。
.4(原子%)の組成を有する溶湯から、キャビテーシ
ョン法により、厚さ15〜25μm、長さ500〜10
000μmの範囲のアモルファスフレークを作製し、粉
砕により63〜1000μmの長さの偏平状粉末を製造
した。得られたアモルファス合金粉末のキュリー温度は
65℃、結晶化温度は520℃であった。
この粉末を分級し、下記の粒径範囲のサンプルを得た。
サンプルNIl 粒径(μm)
163〜149
2149〜297
3297〜500
4500〜1000
第1図に示すように、内径D6mm、長さL 50mm
の非磁性パイプ1内に各サンプルを充填し、パイプ1の
外周に50ターンの励磁用コイル2を巻きつけ、周波数
100K)lzで2. OKA/mの交番磁界を印加し
た。各サンプルについての昇温特性を第2図に示す。第
2図から、粒径が大きくなるに従って、反磁場係数の減
少を反映して、昇温速度が早くなり、且つ温度制御特性
も安定化することがわかる。
の非磁性パイプ1内に各サンプルを充填し、パイプ1の
外周に50ターンの励磁用コイル2を巻きつけ、周波数
100K)lzで2. OKA/mの交番磁界を印加し
た。各サンプルについての昇温特性を第2図に示す。第
2図から、粒径が大きくなるに従って、反磁場係数の減
少を反映して、昇温速度が早くなり、且つ温度制御特性
も安定化することがわかる。
ここでの制御温度は41〜44℃であり、キュリー温度
65℃よりも20℃程度低い。
65℃よりも20℃程度低い。
次に第3図は各温度でのインダクタンスを粒度毎に示し
たものであり、インダクタンスの急減、即ちインピーダ
ンスの減少は40〜45℃で起こっていることがわかる
。
たものであり、インダクタンスの急減、即ちインピーダ
ンスの減少は40〜45℃で起こっていることがわかる
。
これより実施例のサンプルの昇温制御特性はキユリ−温
度そのものではなく、インダクタンスの温度変化に大き
く依存していることがわかる。
度そのものではなく、インダクタンスの温度変化に大き
く依存していることがわかる。
実施例2
Pets−x NIM 5IIOB12 (合金A)
、Feeo−X N11lP、、B、、(合金B)及び
Fets−8NIX Pl−B6^l。
、Feeo−X N11lP、、B、、(合金B)及び
Fets−8NIX Pl−B6^l。
(合金C)の組成(原子%)を有するアモルファス合金
粉末を実施例1と同様にして製造した。粉末の粒度は6
3〜1000μmであった。各Ni含有量のサンプルに
ついて、キュリー温度Tcを測定した結果を第4図に示
す。
粉末を実施例1と同様にして製造した。粉末の粒度は6
3〜1000μmであった。各Ni含有量のサンプルに
ついて、キュリー温度Tcを測定した結果を第4図に示
す。
第4図から、N1含有量が増大するにつれて合金のキュ
リー温度Tcが低下することがわかる。Tcが42〜9
0℃の範囲内にあるためには、各県におけるN1含有量
はFe−IJi−3i−B系(合金A)の場合59.0
〜62.3原子%であり、Fe−N1−P−B系(合金
B)の場合60.8〜63.9原子%であり、Fe−N
1−P−13−A R系(合金C)の場合44.3〜
49.4原子%である。つまり、3原子%のAlの添加
によってN1添加量を15〜20原子%低くすることが
できる。これによって、アモルファス合金の飽和磁束密
度の低下を抑制することができる。
リー温度Tcが低下することがわかる。Tcが42〜9
0℃の範囲内にあるためには、各県におけるN1含有量
はFe−IJi−3i−B系(合金A)の場合59.0
〜62.3原子%であり、Fe−N1−P−B系(合金
B)の場合60.8〜63.9原子%であり、Fe−N
1−P−13−A R系(合金C)の場合44.3〜
49.4原子%である。つまり、3原子%のAlの添加
によってN1添加量を15〜20原子%低くすることが
できる。これによって、アモルファス合金の飽和磁束密
度の低下を抑制することができる。
実施例3
(Fe−Co−Ni)7e Sin 814 (原子%
)の組成を有するアモルファス合金粉末を実施例1と同
様にして製造した。粉末の粒度は63〜1000μmで
あった。
)の組成を有するアモルファス合金粉末を実施例1と同
様にして製造した。粉末の粒度は63〜1000μmで
あった。
Fe−Co−Ni三元系について各々Fe、 Coを0
〜50原子%、Niを50〜100原子%の範囲で変化
させたサンプルについてキュリー温度Tcを測定し、等
混線で結んだ結果を第5図に示す。
〜50原子%、Niを50〜100原子%の範囲で変化
させたサンプルについてキュリー温度Tcを測定し、等
混線で結んだ結果を第5図に示す。
第5図から、Niと同様にCOも含有量が増大するにつ
れて合金のキュリー温度Tcが低下することが分る。
れて合金のキュリー温度Tcが低下することが分る。
以上詳述した通り、本発明の感温性アモルファス合金は
Ni添加量の増加により42〜90℃と低いキュリー温
度を有する。またA1を添加することにより、Ni添加
量を抑制してもキュリー温度を低下することができ、そ
れと同時に飽和磁束密度の低下を避けることができる。
Ni添加量の増加により42〜90℃と低いキュリー温
度を有する。またA1を添加することにより、Ni添加
量を抑制してもキュリー温度を低下することができ、そ
れと同時に飽和磁束密度の低下を避けることができる。
このような本発明のアモルファス合金は外部磁界を大き
くしてもキュリー温度とt目間した所定の温度以上に加
温されることはない。従って、特別の制御を必要とする
ことなく、常に癌等の患部の温度を所望のレベルに定つ
ことができ、癌治療等誘導加温式の療法に有効である。
くしてもキュリー温度とt目間した所定の温度以上に加
温されることはない。従って、特別の制御を必要とする
ことなく、常に癌等の患部の温度を所望のレベルに定つ
ことができ、癌治療等誘導加温式の療法に有効である。
第1図は本発明の感温性アモルファス合金粉末の昇温特
性及び磁気特性を測定するための装置を示す概略図であ
り、 第2図は本発明の感温性アモルファス合金粉末の粒径と
昇温特性との関係を示すグラフであり、第3図は本発明
の感温性アモルファス合金粉末のインダクタンスの温度
依存性を示すグラフであり、 第4図は本発明の感温性アモルファス合金粉末のN1含
有量とキュリー温度との関係を示すグラフであり、 第5図は本発明の感温性アモルファス合金粉末のFe−
co−Ni組成比とキュリー温度との関係を示す三角グ
ラフである。 2 ・ ・非磁性バイブ ・励磁コイル 出 願 人 株 式 会 社代 理
人 弁理士 高 石す ケ 橘 馬 ン 第 図 第4図 L 有 量 (at%) 第3図 第5図 C。 (at%)
性及び磁気特性を測定するための装置を示す概略図であ
り、 第2図は本発明の感温性アモルファス合金粉末の粒径と
昇温特性との関係を示すグラフであり、第3図は本発明
の感温性アモルファス合金粉末のインダクタンスの温度
依存性を示すグラフであり、 第4図は本発明の感温性アモルファス合金粉末のN1含
有量とキュリー温度との関係を示すグラフであり、 第5図は本発明の感温性アモルファス合金粉末のFe−
co−Ni組成比とキュリー温度との関係を示す三角グ
ラフである。 2 ・ ・非磁性バイブ ・励磁コイル 出 願 人 株 式 会 社代 理
人 弁理士 高 石す ケ 橘 馬 ン 第 図 第4図 L 有 量 (at%) 第3図 第5図 C。 (at%)
Claims (2)
- (1)Fe、Ni及びCoの1種又は2種以上の遷移金
属と、P、C、Si及びBの1種又は2種以上の半金属
とを含有し、42℃乃至90℃のキュリー温度を有する
ことを特徴とする温熱療法用感温性アモルファス合金。 - (2)請求項1に記載の温熱療法用感温性アモルファス
合金において、少量のAlを添加したものであることを
特徴とする温熱療法用感温性アモルファス合金。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20984488A JPH0261036A (ja) | 1988-08-24 | 1988-08-24 | 感温性アモルファス合金 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20984488A JPH0261036A (ja) | 1988-08-24 | 1988-08-24 | 感温性アモルファス合金 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0261036A true JPH0261036A (ja) | 1990-03-01 |
Family
ID=16579555
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20984488A Pending JPH0261036A (ja) | 1988-08-24 | 1988-08-24 | 感温性アモルファス合金 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0261036A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001031085A3 (en) * | 1999-10-26 | 2001-09-20 | Stuart Energy Sys Corp | Amorphous metal/metallic glass electrodes for electrochemical processes |
US6303015B1 (en) | 1994-06-17 | 2001-10-16 | Steven J. Thorpe | Amorphous metallic glass electrodes for electrochemical processes |
JP2007082690A (ja) * | 2005-09-21 | 2007-04-05 | Nec Tokin Corp | 磁気加温素子及びその温度制御方法 |
US7955387B2 (en) | 2003-06-27 | 2011-06-07 | Zuli Holdings, Ltd. | Amorphous metal alloy medical devices |
US8382821B2 (en) | 1998-12-03 | 2013-02-26 | Medinol Ltd. | Helical hybrid stent |
-
1988
- 1988-08-24 JP JP20984488A patent/JPH0261036A/ja active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6303015B1 (en) | 1994-06-17 | 2001-10-16 | Steven J. Thorpe | Amorphous metallic glass electrodes for electrochemical processes |
US8382821B2 (en) | 1998-12-03 | 2013-02-26 | Medinol Ltd. | Helical hybrid stent |
WO2001031085A3 (en) * | 1999-10-26 | 2001-09-20 | Stuart Energy Sys Corp | Amorphous metal/metallic glass electrodes for electrochemical processes |
US7955387B2 (en) | 2003-06-27 | 2011-06-07 | Zuli Holdings, Ltd. | Amorphous metal alloy medical devices |
US9956320B2 (en) | 2003-06-27 | 2018-05-01 | Zuli Holdings Ltd. | Amorphous metal alloy medical devices |
US10363152B2 (en) | 2003-06-27 | 2019-07-30 | Medinol Ltd. | Helical hybrid stent |
JP2007082690A (ja) * | 2005-09-21 | 2007-04-05 | Nec Tokin Corp | 磁気加温素子及びその温度制御方法 |
JP4727363B2 (ja) * | 2005-09-21 | 2011-07-20 | Necトーキン株式会社 | 磁気加温素子及びその温度制御方法 |
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