JPS6388738A - 電子ビ−ム溶接用陰極 - Google Patents
電子ビ−ム溶接用陰極Info
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- JPS6388738A JPS6388738A JP23347686A JP23347686A JPS6388738A JP S6388738 A JPS6388738 A JP S6388738A JP 23347686 A JP23347686 A JP 23347686A JP 23347686 A JP23347686 A JP 23347686A JP S6388738 A JPS6388738 A JP S6388738A
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- cathode
- graphite
- electron beam
- heater
- beam welding
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- Pending
Links
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- 238000003466 welding Methods 0.000 title claims abstract description 15
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- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- 239000010439 graphite Substances 0.000 claims abstract description 20
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Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、圧力容器等の大型構造物の長時間電子ビーム
溶接に適用される場合や、航空機。
溶接に適用される場合や、航空機。
タービン部品などで電子ビーム溶接が適用される構造物
一般の電子ビーム溶接機の陰極に関する。
一般の電子ビーム溶接機の陰極に関する。
電子ビーム溶接は高エネルギー密度熱源であり、高品質
・高能率溶接方法である。
・高能率溶接方法である。
しかし従来用いられているＴａ、Ｗ等の陰極材料では高
温で熱電子放出するため、蒸発速度が大きく陰極寿命が
短い問題があった。
温で熱電子放出するため、蒸発速度が大きく陰極寿命が
短い問題があった。
そこで熱電子放出しゃすいＬａＢ６が陰極として用いら
れるようになったが、電子ビームが不均一になる問題が
あった。
れるようになったが、電子ビームが不均一になる問題が
あった。
前述のように従来のＬａＢＧ製＠極構造では、第３図に
示す円盤状の陰極の裏側から渦巻状のヒータで加熱する
。このため、ヒータに近い部分のみ高温に加熱されるこ
とになり、陰極の熱電子放出面は渦巻状に高温部Ｃの１
５５０°Ｃ域ができ。
示す円盤状の陰極の裏側から渦巻状のヒータで加熱する
。このため、ヒータに近い部分のみ高温に加熱されるこ
とになり、陰極の熱電子放出面は渦巻状に高温部Ｃの１
５５０°Ｃ域ができ。
その周りにＤ部で示す１５００°Ｃ域が、又、その外周
Ｅ部は１４５０°Ｃの低温部とばらつきが出て不安定な
電子ビームとなるため、電子ビーム溶接用陰極よシ熱電
子放出しても安定した電子ビームを得られる陰極を開発
せんとしてなされたものである。
Ｅ部は１４５０°Ｃの低温部とばらつきが出て不安定な
電子ビームとなるため、電子ビーム溶接用陰極よシ熱電
子放出しても安定した電子ビームを得られる陰極を開発
せんとしてなされたものである。
本発明は上記問題点を解決するだめに、電子ビーム溶接
機の陰極において、 ＬａＢ６のような熱電子放出しや
すい材料をグラファイトで囲んでｆｌｆｆｆ接加熱して
安定した電子ビームを得るものであて）。すなわち２間
接加熱型電子ビーム溶接用陰極において、熱電子放出す
る陰極（例えばＬａＢ６など）をグラファイトで囲み、
該グラファイトを衝撃加熱して前記陰極を間接加熱゛す
ることを特徴とする電子ビーム溶接用陰極を提供するも
のである。
機の陰極において、 ＬａＢ６のような熱電子放出しや
すい材料をグラファイトで囲んでｆｌｆｆｆ接加熱して
安定した電子ビームを得るものであて）。すなわち２間
接加熱型電子ビーム溶接用陰極において、熱電子放出す
る陰極（例えばＬａＢ６など）をグラファイトで囲み、
該グラファイトを衝撃加熱して前記陰極を間接加熱゛す
ることを特徴とする電子ビーム溶接用陰極を提供するも
のである。
「−作用〕
本発明の電子ビーム溶接用陰極は上記のような加熱方法
となるので、 ＬａＢ６を・グラフ１イトで囲み、この
グラファイトを加熱してからＬａ Ｂｓを間接的に加熱
すＳことにより）ｉ、ａＢらの温度が均一とムリ、むら
のない安定しまた電子ビームが得らｉｌ、るものである
。
となるので、 ＬａＢ６を・グラフ１イトで囲み、この
グラファイトを加熱してからＬａ Ｂｓを間接的に加熱
すＳことにより）ｉ、ａＢらの温度が均一とムリ、むら
のない安定しまた電子ビームが得らｉｌ、るものである
。
この構造により陰極２の温度が第２図に示すように広域
にわたる内部Ａにおいて１５５０°Ｃと。
にわたる内部Ａにおいて１５５０°Ｃと。
その外周Ｊ３は１５００°Ｃと温度分布は均一となり。
安定した電子ビームが得られる。このとき、外周Ｂ域に
温度差が生じるのは本陰極２の周囲をグラフアイと接す
るため若干の熱が逃げることによるものである。
温度差が生じるのは本陰極２の周囲をグラフアイと接す
るため若干の熱が逃げることによるものである。
又、陰極２を囲む材質とし７ては種々考えられるが９融
点が高いこと、熱伝導度が良い？゛と。
点が高いこと、熱伝導度が良い？゛と。
線膨張係数がＬａＢＧ製陰嫡２に近いことを考はして高
融点柑料からグラファイト３を選定し／こ。
融点柑料からグラファイト３を選定し／こ。
なお２本構造はＬａＢ６に限らず一般の陰極材料にも適
用できるものである。
用できるものである。
以下２本発明を図面に示す実施例に基づいて具体的に説
明する１つ第１図は本発明の一実施例に係る電子ビ・−
ム溶接用陰極の構成を示す断面図、、、第２図は本実施
例に係る第１図のグラフ１イトに囲まれた陰極の温度分
布図。
明する１つ第１図は本発明の一実施例に係る電子ビ・−
ム溶接用陰極の構成を示す断面図、、、第２図は本実施
例に係る第１図のグラフ１イトに囲まれた陰極の温度分
布図。
以下にその説明をする。、３第１図においで電子ビーム
溶接の陰極で間接加熱型では１の隘（ｊ加熱１−一夕に
より、陰極を加熱・し２て電子ビ・−ムを発生させる１
１発生した電子ビーム電流は４のウェネルトにより制御
される。ウエネ）Ｖ ｌ−ば５の外筒に、陰極は６の陰
極支持部に、陰極加熱ヒ・−夕１は７のヒータ支持部に
支持される。なおヒータ支持部は８の絶縁物により分離
されている。そこでＬａ Ｂ （、製陰極２（以下、陰
極２と略す）を熱伝導率の良いグラファイト３で囲み、
陰極加熱ヒ・−タｌでグラファイト３を加熱して均一・
に温度上昇したグラファイト８で陰極２を加勢する構造
とした。
溶接の陰極で間接加熱型では１の隘（ｊ加熱１−一夕に
より、陰極を加熱・し２て電子ビ・−ムを発生させる１
１発生した電子ビーム電流は４のウェネルトにより制御
される。ウエネ）Ｖ ｌ−ば５の外筒に、陰極は６の陰
極支持部に、陰極加熱ヒ・−夕１は７のヒータ支持部に
支持される。なおヒータ支持部は８の絶縁物により分離
されている。そこでＬａ Ｂ （、製陰極２（以下、陰
極２と略す）を熱伝導率の良いグラファイト３で囲み、
陰極加熱ヒ・−タｌでグラファイト３を加熱して均一・
に温度上昇したグラファイト８で陰極２を加勢する構造
とした。
以上、具体的に説明したように本発明における間接加熱
型の電子ビーム溶接の陰極において。
型の電子ビーム溶接の陰極において。
陰部材料（ＬａＢ６など）をグラファイトで囲む構造と
し、グラファイトをヒータで加熱することにより陰σを
間接的に均一に加熱して安定した電子ビームが得られる
ものであり、加工精度の向」−が図れるものである。
し、グラファイトをヒータで加熱することにより陰σを
間接的に均一に加熱して安定した電子ビームが得られる
ものであり、加工精度の向」−が図れるものである。
第１図は本発明の一実施例に係る電子ビ・−ム溶接用陰
極の構成を示ｔ″断面図、第２図は本実施例に係る第１
図のグラファイトに囲まれた陰極の温度分布図、第３図
は従来の陰極の温度分布図である。 Ｌ・・・陰極加熱ヒータ、２・・・陰極（Ｌａ８６など
）。 ３・・・グラファイト、４・・・ウニネル１−１５・・
・外筒。 ６・・・陰極支持部、７・・・ヒータ支持部、８・・・
絶縁物。
極の構成を示ｔ″断面図、第２図は本実施例に係る第１
図のグラファイトに囲まれた陰極の温度分布図、第３図
は従来の陰極の温度分布図である。 Ｌ・・・陰極加熱ヒータ、２・・・陰極（Ｌａ８６など
）。 ３・・・グラファイト、４・・・ウニネル１−１５・・
・外筒。 ６・・・陰極支持部、７・・・ヒータ支持部、８・・・
絶縁物。
Claims (1)
- 間接加熱型電子ビーム溶接用陰極において、熱電子放出
する陰極をグラファイトで囲み、該グラファイトを衝撃
加熱して前記陰極を間接加熱することを特徴とする電子
ビーム溶接用陰極。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23347686A JPS6388738A (ja) | 1986-10-01 | 1986-10-01 | 電子ビ−ム溶接用陰極 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23347686A JPS6388738A (ja) | 1986-10-01 | 1986-10-01 | 電子ビ−ム溶接用陰極 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6388738A true JPS6388738A (ja) | 1988-04-19 |
Family
ID=16955612
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23347686A Pending JPS6388738A (ja) | 1986-10-01 | 1986-10-01 | 電子ビ−ム溶接用陰極 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6388738A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08339774A (ja) * | 1995-06-13 | 1996-12-24 | Hitachi Medical Corp | 電子銃 |
-
1986
- 1986-10-01 JP JP23347686A patent/JPS6388738A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08339774A (ja) * | 1995-06-13 | 1996-12-24 | Hitachi Medical Corp | 電子銃 |
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