JPS6388455A - 固相化試薬製造装置における排液装置 - Google Patents

固相化試薬製造装置における排液装置

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JPS6388455A
JPS6388455A JP23343086A JP23343086A JPS6388455A JP S6388455 A JPS6388455 A JP S6388455A JP 23343086 A JP23343086 A JP 23343086A JP 23343086 A JP23343086 A JP 23343086A JP S6388455 A JPS6388455 A JP S6388455A
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JP
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liquid
cleaning liquid
nozzle
tank
magazine
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Pending
Application number
JP23343086A
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English (en)
Inventor
Masao Agawa
阿川 正夫
Yutaka Goto
豊 後藤
Kazutomo Takahashi
一友 高橋
Kiyoshi Takao
潔 高尾
Katsuaki Takano
高野 克明
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、固相化試薬製造装置における排液装置に係り
、より具体的には、試薬固相容器に自動的に試薬を分注
して試薬固相容器内壁部に試薬を固相化し得るようにし
だ固相化試薬XJ W装置における排液装りに関する。
[従来の技術] 後天性免疫不全症候群(A I D S)患者は、最近
、多くの国で確認されている。そして、患者の認定と発
症の原因物質の究明に多くの努力が費され、疫学的デー
タによると、AIDSは感染性の物質が血液等の体液を
媒体として水平感染することが示唆されている。
AIDSにかかると免疫機能が著しく低下し、感染症や
ガンの一種であるカポシ肉種、カビによるニューモニス
カリー二肺炎等が原因で死亡する。AIDS患者の死亡
率は既知のごとく極めて高く、又、患者を媒体として感
染するところから=AIDS、4g者の早期発見が急務
である。最近、米国特許4,520,113がR,CG
a11o笠に対して付与(発行)されたが、このGa1
loiの特許は、エリザ法(ELISA。
英語の専門語、Enzyme  LinkedImmu
no  5orbent  As5ayの頭文字)又は
、ウェスタンブロッティング法もしくは間接免疫傾向法
に基づくストリップRIAにおける抗原として、H9/
HTLV−IIIと命名された細胞の断片を使用するこ
とにより、AIDS及びPre−AIDS患者の血清中
の抗体を検出する方法である。より具体的には、AID
Sウィルス抗原を使用し、このAIDSウィルス抗原を
プラスチックで作ったプレートの穴の底に固定化してお
き、検査する各血清を穴の底に入れ、是色反 。
応を見ることにより、AIDSウィルスに対する抗体の
存在を検出するものである。
この方法によれば、血清がAIDSウィルスに対する抗
体を含んでいれば、それは固定化された抗原の上に結合
され、数回操作後の呈色反応により抗AIDSウィルス
抗体の存在が検出できる。
これにより、AIDS患者か否かの確認を行なうことが
でき、AIDS患者の感染を防止することが可能となる
又、その他の方法として、固相法(ビーズ)を利用した
EIA (Enzyme  I mm u n 。
assay)により、検体(血清又は血漿)中のHTL
V−III抗体を検出する方法がある。
[発明が解決しようとする問題点コ 上記従来技術においては、プラスチックで製作したプレ
ートの穴に1作業者がいわゆる用手法にてAIDSウェ
イルス抗原を入れ、このAIDSウィルス抗原をプレー
トの穴の底に固定化(コーティング)させて試薬を製造
していたので、均一の試薬を製造することができず、そ
のために試薬の品質が著しく低下し、試薬としての信頼
性が極めて低いものとなっていた。又、用手法による場
合には、プレートの穴の底にコーティングされる被膜の
厚さが一定化しないので、検出の信頼性が低く、又、用
手法においては試薬を多量に製造できないので、生産性
が著しく低いものとなっていた。
又、試薬としてAIDSウィルス抗原(HTLv−m)
を使用しているので、試薬を製造するための準備段階に
おいて極度な警戒を必要とし、健康な研究所作業員にと
って非常に危険である。
又、たとえ不活性化されたウィルスを使用したとしても
不活性化されたウィルスへの接触は健康な作業員の抗体
産生の原因となりうるし、もし抗体が産生された場合、
彼等はAIDS、ARC(AIDS    Re1at
ed    Complex)あるいはPre−AID
Sであると誤診断されるおそれがある。さらに、試薬に
おけるH9細胞又は大腸菌(E、Co11)の細胞内物
質の存在は、大腸菌(E、Co11)又はH9細胞に対
する抗体を有する個人から、HTLV−III抗体スク
リーニング試験においてまちがった結果を引き出す可能
性がある。これらまちがった陽性反応は、好庚な個人及
びその家族に対する苛酷な心配をもたらし、又、AID
Sに感染しているとして誤って診断される可能性があり
、それらの人は通常な社会的活動から追放されるおそれ
がある。
本発明は、L記従来技術の問題点に鑑みなされたもので
あって1体液内のHTLV−IIIに対する抗体の存在
検出用の試薬又はAFPCN3児性抗原)、IgE(イ
ムノグロブリンE)等を自動的にプレート上の多数の各
マイクロウェル内にコーティング(被膜化)し得るよう
にして、作業者に安全な、かつ均一な固相化試薬が製造
できるようにしだ固相化試薬製造装置における排液装置
を提供することを目的とする。
[問題点を解決するための手段及び作用]本発明は、試
薬固相容器内に自動的に試薬を分注して前記容器内壁部
に試薬を固相化させるように構成してなる固相化試薬製
造装置において、前記試薬固相容器内の残液をノズルと
協働して吸引するための吸引装置と、前記吸引装置を介
して吸引された排液を一時的に貯蔵するためのバキュー
ムタンクと、前記バキュームタンク内の排液を吸引して
排液タンク内に排出するためのチューブポンプとより構
成することにより、高い吸引応答性にて排液を排液タン
ク内に自動的に排液し得るようにしたものである。
[実施例] 以下、図面を用いて本発明の実施例について説明するが
、その前に、本発明に係る排液装置を含む固相化試薬製
造装置の概略構成について第1図を用いて説明する。
第1図は、本発明に係る排液装置を含む固相化試薬製造
装置2の全体構成図であり、図中において各構成部を連
結する矢印は工程の順序を示すものである。
図に示すごとく固相化試薬製造装置2は、供給マガジン
3から供給、搬送されてくるマイクロプレート4上の各
ウェル5内に試薬を分注して各ウェル5の内壁面に試薬
被膜をコーティングするための試薬コーティング装21
1.各ウェル5内に分注、コーティングされた試薬を培
養(インキュベート)するための第1のインキュベート
装置(培養装置i!り6.各ウェル5内の余分の試薬溶
液を排出するとともに各ウェル内を洗浄するための第1
の洗浄装置(固相容器洗浄装置)7.各ウェルの5内壁
及び底面にコーティングされている試薬に対してゼラチ
ンをコーティングし、ピンホール等を被覆するためのゼ
ラチンコーティング装置8、ゼラチンコーテイング後の
試薬を再び培養するための第2のインキュベート装置9
 第2のインキュベート装置9を介してインキュベート
された試薬を洗浄するための第2の洗浄装置(固相容器
洗浄装置)10、洗浄された試薬を所要の温度雰囲気中
にて完全乾燥するための乾炊装置11とより構成してな
るものである。
本発明に係る排液装置は、第3及び第6の工程部に属す
るものであり、以下、本発明に係る試薬固相容盗洗浄装
この1実施例について詳細に説明する。なお、洗M、装
置7と洗浄装2110とは同一構成であるので、洗浄装
置7について説明し、他側の説明は省略する。
第2図a、b、cは1本発明に係る排液装置を含む試薬
固相容器洗浄装置7の実施例を示す平面図、正面図及び
側面図である。第1図において示したように、試薬固相
容器洗浄装置7は、試薬溶液を分注され、コーティング
されたマイクロウェル(以下、単にウェルという)5を
有する(装備した)マイクロプレート4を収納する供給
マガジン3.マイクロプレート4を一定ピッチで搬送す
るためのプレート搬送機構部12.各ウェル(固相容器
)5内の余分の試薬溶液を吸引、排出するとともに各ウ
ェル5に対して洗浄液を分注、排出するための洗浄液ノ
ズルアーム部13.洗浄液を貯溜するための洗浄液棚部
14.洗浄液ノズルアーム部13における液面検知用電
極(第1図においては図示省略)を洗浄するための電極
洗浄棚部16.洗浄溶液を3回分注する量分だけ吸引し
、吸引した洗浄液を3回に分けて各ウェル5に対して分
注するための洗浄液分注ユニット部46、及び各ウェル
の洗浄が完了したマイクロプレート4を収納するための
排出マガジン17等より構成しである。なお、洗浄が完
了したマイクロプレート4を連続的に直接次工程に搬送
する場合には、排出マガジン17を不要化してもよい。
コーティング工程、インキュベート工程を経たマイクロ
プレート4を収納する供給マガジン3は、第3図aにて
示すごとく中空状の容素に構成してあり、その内周面の
対向面にはマイクロプレート4を係止保持するための溝
状段部18が形設しである。溝状段部18は、一定ピツ
チにて上下方向に10個(10個に限定されない)形設
してあり、従って、供給マガジン3内にはマイクロプレ
ート4が10枚内蔵されるようになっている。供給マガ
ジン3の下面部(底面部)には、位置決め用の孔19が
貫設してあり、この孔19とマガジン昇降装置20側の
位置決めピン21とが係合することにより、供給マガジ
ン3の位置決めがなされるように設定しである。供給マ
ガジン3における溝状段部18は、マイクロプレート4
を位n方向側から挿入した場合にのみ挿入可能となるよ
うに形設してあり、他方向側から挿入した場合には挿入
できないように構成して収納されるマイクロプレート4
が常に一定の方向性を保持するように設定しである。2
2で示すのは把手である。
供給マガジン3は、装置本体内に配備されたマガジン昇
降装芒20(第3図参照)を介して昇降自在の構成とな
っており、このマガジン昇降装置20の構成について第
3図す、c、dを用いて説明する。図において23で示
すのは、供給マガジン3を載置支持するための支持ベー
スで、モーター24を介して昇降駆動される昇降杆25
の上端部に固定ねじ26を介して固定されてしする。
モーター24は、回転運動を直線運動に変換するモータ
ーにて構成しである。モーター24は、装置本体の中間
部位に配置された中間ベース27上に固設されており、
この中間ベース27上には、支持ベース23に回転自在
に支持されたガイド 。
ローラー28をガイドするためのガイドレール板29が
固設されている。ガイドレール板29は、支持ポスト3
0を介して中間ベース27に固定されている。31で示
すのは固定ねじである。ガイドローラー28は、第3図
Cにて示すごとく、ガイドレール板29のガイド面を挟
持するごとくに配設されており、2対のガイドローラー
28にて安定的にガイドしうるように構成しである。各
ガイドローラー28には、7字形状のガイド溝32が形
設してあり、このガイド溝32と係合するガイドレール
板29の係合部はガイドv!I32と嵌合するV字形状
に形設しである。33で示すのは。
ガイドローラー28の支持ピンである。34で示すのは
、支持ベース23に固設されたセンサー35と協働して
支持ベース23の移動量、即ち供給マガジン3の昇降作
動量を制御するためのセンサー板で、昇降杆25と平行
に配設しである。センサー35は、投光部と受光部とを
有するセンサーで、支持板36を介して支持ベース23
に固設しである。センサー板34には、一定ピツチで切
欠き37が形設してあり、支持ベース23を下降させる
際にセンサー35が切欠き37と対応する位置に至ると
、センサー35の受光部が投光部からの光を受光し、支
持ベース23の下降を停止制御するように設定しである
。切欠き37は、供給マガジン3内に収納されるマイク
ロプレート4の枚数と同一の数(本実施例では10個)
だけ形設しである。38で示すのは、供給マガジン3内
に収納されたマイクロプレート4の存在検出用のセンサ
ーで、ブラケット39を介して支持ポスト30の上端部
に固定しである。40で示すのは、支持ポスト30に固
設されたセンサー41.42と協働して支持ベース23
の昇降作動の上限、下限位置を規制するためのセンサー
板で、支持ベース23に固設しである。43.44で示
すのは、センサー41.42の支持板、45で示すのは
センサー板34が固定されている支持ポストである。マ
イクロプレート4を10枚収納した供給マガジン3は、
第2図す、cにて示すごとく、第3図にて示すマガジン
昇降装2120を介して上昇した位とにセットされてい
る。
排出マガジン17(第1図、第2図参照)の構成を第3
図eに示すが、図に示すように排出マガジン17は供給
マガジン3と同一構成となっている。そして、排出マガ
ジン17は、第2図す、cにて示すごとく、第3図eに
て示すマガジン昇降装置20を介して下降した位置にセ
ットされており、第3図eにて示すごとく空状態でセッ
トされている排出マガジン17内に、洗浄作業が完了し
たマイクロプレート4が上段から順に収納されるように
なっている。
プレート搬送機構部12は、供給マガジン3からマイク
ロプレート4を一枚ずつ取り出し、一定ピツチで洗浄液
ノズルアーム部13方向に搬送するとともに、洗浄液ノ
ズルアーム部13を介して洗浄されたマイクロプレート
4を排出マガジン17に収納させるためのものであり、
このプレート搬送機構部12の構成について第4図、第
5図及び第6図を用いて説明する。
第4図は、プレート搬送機構部12周辺の斜視図であり
、第5図aはプレート搬送機構部12の斜視図である。
又、第5図す、cは第5図aの要部の拡大図であり、第
6図a、b、cは第5図の平面図、正断面図及び一部を
破断した側面図である6図において50で示すのは、マ
イクロプレート4の受は台51を固定装備した受は台支
持枠で、受は台51上にブイクロプレート4を載置支持
してマイクロプレート4を一定ピッチずつ搬送するため
のものである。受は台51は、2個を一対として4対、
合計8個配設してあり、6対の中心52間の距蕩(ピッ
チ)Pは同一寸法に設定しである。53で示すのは、受
は台51の固定ねじである、受は台支持枠50の下面に
は、プレート(台板)54が配設してあり、プレート5
4は固定ねじ53を介して受は台支持枠50に固定され
ている。プレート54の下方位置には、逆り字形状のス
ライドベース55が配設してあり、スライドベース55
は、装置本体の固定フレーム56に横架されたスライド
杆57に:56図すにおいて左右方向にスライド自在に
支持されている。スライドベース55の水平部55aの
下面には、4個のポールブツシュ58が固定してあり、
プレート54の下面に垂設固定したスライド軸59がこ
のポールブツシュ58内に上下動自在に貫挿しである。
即ち、プレート54及び受は台支持枠50は、スライド
軸59.ポールブツシュ58を介してスライドベース5
5の水平部55’aに対して上下動(昇降)自在の構成
となっている。4個のポールブツシュ58に貫挿された
4本のスライド軸59のうち、第6図aにおいて右側に
位置するスライド軸59の下端部は、連結板60を介し
て連結されている。61で示すのは、連結板60の固定
ねじである。連結板60のほぼ中央部には、第6図Cに
て示すごとく長孔61が設けてあり、この長孔61内に
はカム駆動装置62のカム63と係合するカムフォロア
(ローラフォロア)64が支軸64aを介して回転自在
に支持されている。カム駆動部2162は、カムフォロ
ア64と係合するカム63を回転駆動するためのもので
、ギアヘッド付きのモーター65、モーター65の駆動
軸(出力軸)66にカップリング67を介して連結され
たカム軸68、カム軸68にキー69を介して固定され
たカム63等より構成しである。
モーター65は、スライドベース55の水平部55aに
一体的に垂設されたモーターベース70に固定しである
。又、カム軸68は、スライドベース55の水平部55
aに垂設したカム軸支持板71.71に嵌着した軸受7
2を介して回転自在に支持構成しである。スライドベー
ス55の水平部55aには、受は台支持枠50を常時上
方向に押圧付勢するための支持枠上動装置;!173が
装着しである。支持枠上動装置73は、プレート54の
下面と当接する上動ビン74と、上動ピン74を収納す
るビン収納部75、及び上動ピン74を常時上方向に付
勢するための付勢部材(例えばコイルスプリング)76
とより構成してあり、付勢部材76を介して上動付勢さ
れる上動ピン74により、受は台支持枠50が常時上動
されるようになっている。カム63は偏心カムにて構成
してあり、カム駆動装置62を介してカム63を回転駆
動した際には、カム63がカムフォロア64と形設して
カムフォロア64を下方向に押圧し、支持枠上動装置7
3を介して上動されている受は台支持枠50が下動せし
められるようになっている。
スライド軸59の下部には、上下方向に適宜隔てて2個
の検知部材77.78が固設してり、他方、スライドベ
ース55の水平部55aには、検知部材77.78を検
出する2個のセンサー79.80が支持板81を介して
取り付けである。そして、この検知部材77 、78 
、センサー79.80の協働作用により、受は台支持枠
50の上下作動が検出されるようになっている。82で
示すのは間座である。
スライドベース55における水平部55aの上方位置に
は、受は台支持枠50が上動した際に、受は台51上に
a2tされたマイクロプレート4のウェル5上面と当接
してマイクロプレート4の位り決めを行うためのストッ
パープレート83が配設しである。ストッパープレート
83は、支柱84を介してスライドベース55の水平部
55aに固定しである。ストッパープレート83の一側
面部には、マイクロプレート4内のマイクロウェルモジ
ュール検知用のマイクロウェルモジュール検知装置85
が装備しである。マイクロプレート4内には、第5図d
、e、fにて示すごとく複数枚ノマイクロウェルモジュ
ール86が装着してあり、マイクロイニルモジュール検
知装置85は、このマイクロウェルモジュール86の有
無を検知するためのものである。マイクロウェルモジュ
ール検知装置85は、第5図す、cにて示すごとくスイ
ッチベース87と、検知用スイッチ88を複数個装備し
たスイッチ板89.検知用スイッチ88を作動用の板ば
ね90等より構成してあり、板ばね90は、複数のスイ
ッチ88を個別的に0N−OFFI、得るように設定構
成しである。そして、板ばね90は、マイクロプレート
4内のマイクロウェルモジュール86のフランジ部86
aと当接自在の構成となっており、受は台51上のマイ
クロプレート4が上動した際にマイクロプレート4のフ
ランジ部86aが板ばね90を押圧し、スイッチ88が
作動されるようになっている。従って、スイッチ88が
全部作動しないときにはマイクロプレート4がないとき
であり、又、一部のスイッチ88が作動しないときには
、−・部のマイクロウェルモジュール86が不足してい
るものと判定されることとなる。91で示すのはマイク
ロプレート4保持用の板ばね、92で示すのはスイッチ
88の配線処理用のダクトである。
第6図において93で示すのは、スライドベース55を
スライド杆57に沿って移動制御するためのパルスモー
タ−で、装置本体の固定フレーム56に固設されている
。受は台支持枠50は、パルスモータ−93を介して4
対の受は台51の各月の中心52間のピッチPだけ進退
移動制御されるように制御構成されている。即ち、一対
の受は台51上に載置支持されるマイクロプレート4は
、パルスモータ−93により移動制御される受は台支持
枠50を介して1ピツチPずつ移動制御されるようにな
っている。又、一対の受は台51.51上に載置される
マイクロプレート4は、パルスモータ−93を介して1
ピツチP内の範囲内において一定の小ピツチずつ移動制
御されるようになっており、第1図にて示す洗浄液ノズ
ルアーム13を介してマイクロプレート4の各ウェル5
内に対して洗浄液を分注、排出し得るようになっている
。94で示すのは、固定受は台で供給マガジン3内から
搬送されてくるマイクロプレート4を一時的に支持する
ためのものである。
即ち、受は台支持枠50は、カム63を介して下降され
た状態でパルスモータ−93を介して第6図aの左方向
に1ピツチP分だけ移動制御されるようになっているが
、この際には、供給マガジン3(第1図#照)内に侵入
されるようになっており、この状態でカム63を解除す
る方向に回動して受は台支持枠50を上動せしめた際に
は、供給マガジン3内のマイクロプレート4が1枚だけ
左端側の一対の受は台51上にaF11支持されるよう
になっている。この状態では、マイクロプレート4は、
固定受は台94の上面よりもL動せしめられるように設
定してあり、この固定受は台94よりもと動された状態
で受は台支持枠50はパルスモータ−93を介してlピ
ッチPだけ右方向に移動3ノ御されるようになっている
。そして、1ピツチだけ右方向に移動された状態で受は
台支持枠50はカム63を介して固定受は台94よりも
下方位置に下動せしめられるようになっており、この際
に、受は台51上に載置されていたマイクロプレート4
は固定受は台94上に一時的に載置されるようになって
いる。この状態で再び受は台支持枠50がパルスモータ
−93を介して供給マガジン3内に侵入され、前記と同
様の操作にて供給マカ゛ジン内のマイクロプレート4を
t114合マカ゛ジン3外に搬出し、このようにして次
々に供給マガジン3内のマイクロプレート4を搬出、搬
送しうるようになっている。
受は台51には、第6図す、cにて示すごとく、マイク
ロプレート4の嵌合部と嵌合するテーパー嵌合面51a
、51bが形設してあり、マイクロプレート4の位置決
めがなされるように設定しである。
洗浄液ノズルアーム部13は、洗浄液をマイクロプレー
ト4の各ウェル5内に対して分注、排出するとともに各
ウェル5内に分注された洗浄液の液面検知を行なうため
のもので、第7図、第8図にて示すごとくアーム本体部
100と、アーム本体部100を支持するアーム軸10
1、及びアーム本体部100を昇降作動させるとともに
旋回させるためのアーム駆動部102笠より構成しであ
る。
アーム本体fi100は、第7図aにて示すごとくアー
ム軸101に固定されたアームベース103、アームベ
ース103に延設的に設けられた洗浄液分注アーム10
4及び液面検知用アーム105とより構成しである。洗
浄液分注アーム104と液面検知用アーム105とは、
互いに直交配置してあり、各アーム104,105は、
アーム駆動部102を介して90’旋回可能に構成しで
ある。洗浄液分注アーム104は、洗浄液棚部14(第
1図参照)から洗浄液を3回分注する量だけ吸引し、洗
浄液を3回に分けて各ウェル′5内に分注するためのノ
ズル部106と、ノズル部lO6支持用のノズル支持ベ
ース107、及びノズル押え108とより構成しである
。ノズル支持ベース107は、第7図aにて示すごとく
2枚に分割構成されており、各ノズル支持ベース107
の外側面には、第7図Cにて示すごとく長く垂下させた
第1のノズル106aが固定しである。又、各ノズル支
持ベース107の内側面には、第1のノズル106aよ
りも短く設定された第2のノズル106bが固定しであ
る。第2のノズル106bは、第7図dにて示すごとく
第1のノズル106a側に傾斜配設してあり、第2のノ
ズル106b先端から分注される洗浄液を介して第1の
ノズル106aを洗浄し得るように設定構成しである。
そして、第7図fにて示すごとく、長短一対のノズル1
06a、106bが一組となって各ウェル5内に望むよ
うに配ご構成してあり、この長短一対のノズル106a
、106bは24対(片側12対×2列)配設しである
。各ノズル106a、106bは、ノズル押え108.
固定ねじ109を介して固定保持しである。液面検知用
アーム105は、液面検知用の電極110と、電極11
0支持用の電極ベース111とより構成しである。電極
110は、第7図りにて示すごとく、電極ベース111
に形設された凹部112内に収納されるとともに、電極
押え板113を介して保持されるようになっている。電
極110は、第7図り、iにて示すごとく電極針114
と、鍔部115を有する外筒116とより構成してあり
、電極針114と外筒116とは7字形状の保合部11
7を介して互いに連結されるようになっている。電極針
114にはばね作用を有する機構部が装備されており、
針先端を押圧した際の針先端の移動量を吸収しうるよう
に設定されている。
ノズル106は、24本(12本×2列)配備されてお
り、又、電極110は、24セツト(12セット×2列
)配備されている。
アーム駆動部102は、第8図a、bにて示すごとく、
アーム軸101を旋回及び上下動するための駆動部11
8により構成しである。アーム軸101を旋回、上下動
させる駆動部118の機構は、第8図a、bにて示すご
とく回転駆動される2枚のカム120,121と、各カ
ム120゜121と係合するカムフォロアI22,12
3、及び、各カム120,121.カムフオロア122
.123を介して作動される上下作動用アーム124.
旋回作動用アーム125等より構成しである。各カム1
20,121はカム軸126に固設してあり、カム軸1
26はモーター(図示省略)により回転駆動されるよう
になっている。そして、各カム120,121を回転さ
せ1・・・し2・・シーL11.−−−シ;゛−シヘ「
ゴ+thm−y−ノ+QAT+門1メ71νこ、;Ti
11作動用アーム125を介してアーム軸101を上下
作動又は手回作動(90’)L得るように設定構成しで
ある。128で示すのはカバーである。
洗浄液棚部14は、洗浄液を貯溜するためのもので、第
9図a、bにて示すごとく構成しである。図に示すごと
く洗浄液洗油液棚部14は、洗浄液147を貯溜するた
めの洗浄液容器148゜オーバーフロー受皿149、及
び洗浄液供給ユニット部150等より構成しである。洗
浄液供給ユニット部150は、洗浄液供給タンク151
、チュービングポンプ152、及び供給ホース153等
より構成してあり、洗浄液147を洗浄液台$148内
に自動供給し得るように設定構成しである。153で示
すのは、下限検知用のセンサーである。154,155
で示すのは、洗浄液147の上限、下限検知用の検知部
材で、洗浄液147の残F−二が下限を越えた際にラン
プが点燈し、ブザーが鳴るように設定しである。
洗浄液容器148内の洗浄液147は、洗浄液ノズル部
−1、部13のノズル部106を介して吸引され、所定
位置に停止制御せしめられているマイクロプレート4の
各ウェル5内に3回に分けて分注されるようになってい
るが、この洗浄液147を吸引2分注する操作は洗浄液
分注ユニット部46を介して行なわれるようになってい
る。
洗浄液分注ユニット46は、第10図a、b。
c、d、eにて示すごとく、洗浄液147を吸引1分注
するためのシリンジ170.シリンジ170の可動軸1
71を昇降駆動せしめるためのパルスモータ−172、
及びシリンジ170.パルスモータ−172を支持する
ための支持フレーム173等より構成しである。シリン
ジ170は、第10図fにて示すごとく、シリンダ一部
174、シリンダ一部174内に摺動自在に挿通された
可動軸171、可動軸171の内端部に固装されたピス
トン175.シリンダーヘッド176、及びチューブ連
結部177等より構成しである。シリンジ170は、洗
浄液を吸引、排出するための短いノズル106b (第
7図参照)の配設数24木と対応させて24本配設しで
ある。
そして、24木のシリンジ170は、第1O図す、c、
dにて示すごとく、2枚に分割構成された支持フレーム
173,173に12本ずつ分割されて配設しである。
又、各支持フレーム173に配備された12本のシリン
ジ170は、第10図すにて示すごとくさらに6本づつ
の2列に配設してあり、前後2列に配設された各シリン
ジ、170は、いわゆる千、Ω状に交互にずらして配置
しである。各シリンジ170の可動軸171の下端部に
は、フランジ178を有するボス部179が固設してあ
り、ボス部179は、第10図g。
hにて示すごとく複数の段部180a、180b 、1
80cを有する可動軸支持部材180の段部180b 
、180cc7)係止凹部181.182に係止されて
いる。183で示すのは、可動軸171固定用のねじで
、可動軸支持部材18に螺着されている。シリンダーヘ
ッド176の上部には、係合凹部184を有するねじ1
85が固着してあり、この係合凹部184には、上部ベ
ース186に螺着した固定ねじ187の下端部が保合し
ている。上部ベース186は、連結部材188を介して
支持フレーム173に固定されている。
シリンジ170におけるシリンダ一部174の下部には
、フランジ部189aを有する部材189が設けてあり
、シリンダ一部174は、第10図gにて示すごとくこ
のフランジ部189aを介してクランク状のシリンジ保
持部材190に保持されている。第10図iにて示す1
91,192は、フランジ部189aと係合する係合凹
部である。可動軸支持部材180は、固定ねじ190a
を介して可動ブロック192に固定されており、可動フ
ロック192は、パルスモータ−172、ガイド杆19
3を介して昇降制御されるように構成されている。即ち
、シリンジ170の可動軸171はパルスモータ−17
2を介して昇降作動されるようになっており、これによ
り、ピストン175を介してシリンダ一部174内の空
気を汲引、吐出し得るようになっている。チューブ連結
部177には、吸引、吐出用のチューブ194が連結さ
れており、各シリンジ170のチューブ194は、第1
0図1 、 m 、 nにて示すごとく、液溜り部15
6を介して洗浄液ノズルアーム部13の各短いノズル(
洗浄液の吸引、排出用ノズル)106bと連結されてい
る。液溜り部156は、第10図m、nにて示すごとく
、液溜り本体部157と、液溜り空間部158、及び液
溜り空間部158の両端部に配備された継手159゜1
60.161とより構成しである。液溜り空間部158
は、洗浄液の吸、併用ノズル106bと同数だけ設けて
あり、各シリンジ170と各洗浄液吸、排用ノズル10
6bとが液溜り空間部158を介して連通接続されるよ
うになっている。液溜り空間部158の内径は、チュー
ブ194の内径より大径に形設してあり、液溜り空間部
158の容積はチューブ194に溜りうる洗浄液の岸を
上の吸収しうる容積に設定しである。
又、液溜り空間部158における継f−161側、即ち
、洗浄液吸、排用ノズル106b側にはテーパ一部16
2が形設してあり、泡切れし易いように構成しである。
液溜り部156は、第10図1にて示すごとく、アーム
ベース103に立設された多チヤンネル継手部260に
固定保持しである。195で示すのはチューブ保持部材
で、チューブ貫挿用の孔196が貫設しである。197
で示すのは支持部材である。198で示すのはカバー、
199で示すのはベース台である。アームベース103
に立設された多チヤンネル継手部260は、ノズル部1
06の長いノズル(残液排出用ノズル)106aと残液
排出装g!1261(第10図q参照)とをvi続する
だめのもので、第10図o、pにて示すごとく前後に配
設された2枚の透明アクリル板262.263と、アク
リル板262.263間に開設されたパツキン(例えば
、厚さJam)264等より構成しである。前部アクリ
ル板262には、ステンレスパイプ265が貫挿してあ
り、ステンレスバイブ265は、ノズル106aの数と
同数配設しである。各ステンレスパイプ265は、チュ
ーブコネクター266、チューブ267を介してノズル
106aと接続しである。パツキン264には、第10
図pにて示すごとく各ステンレスバイブ265と連通す
る大きな空室267が形設しである。又、後部アクリル
板263には、パツキン264の空室267と連通する
1本の継手268が装置してあり、多チヤンネル継手部
260はこの継手268を介して残液排出装置261と
接続構成しである。残液排出装21261は、第10図
q、rにて示すごとくバキュームタンク269、真空電
磁弁270.真空ポンプ271.排液ホース272.チ
ュービングポンプ(2連ヘツド)273、及び排液タン
ク274等より構成してあり、各ウェル5内の残液を排
液タンク274内に排液275として排液し得るように
設定しである。276で示すのは、排液275の上限量
を検出するためのセンサーである。
電極洗浄棚部16は、洗浄液ノズルアーム部13の電極
11Oを洗浄するためのもので、洗浄液ノズルアーム部
13の液面検知用アーム105が電極洗浄棚部16の上
方位置まで回動された際、即ち、各ウェル5内に分注さ
れた洗浄液の液面検知作業を完了したたび毎に電極11
0を流水洗浄するためのものである。以下、その構成に
ついて第4図及び第11図を用いて説明する。
図において210で示すのは、受皿211内に配置され
た洗浄液流水部材で、洗浄液を上方に流水させるための
多数の洗浄液流木孔212と、各洗浄液流水孔212と
連通ずる洗浄液供給孔213とより構成してあり、洗浄
液供給孔213は供給ホース214を介して洗浄液供給
装置215と連通接続されている。洗浄液流水部材21
0は、4辺を固定ねじ216を介して固定されるととも
に、固定ねじ216を介して所定位置に位置出し調節可
能に構成しである。洗浄液流水孔212は、電極110
に対応して24個設けてあり、洗浄液流水孔212は第
4図にて示すごとく12個ずつ2列形設しである。そし
て、各洗浄液流水孔212は、各電極110と対応する
位置に形設しである。各洗浄液流水孔212は、第4図
にて示すごとく、孔の中心部を境界にして内側+−−#
/71!/lI+1+、/IC/+40+’%)&rJ
?If+−−jLll−部側の孔部212aから上方に
流出した洗浄液が洗浄終了後に下部側の孔部212bか
ら受皿211に排出されるようになっている。即ち、洗
浄後の排液が洗浄の終了した電極110に付刃しないよ
うになっており、クリーン(清潔)状態が保持されるよ
うになっている。洗浄液供給装置215は、洗打奢液2
17を貯蔵する供給タンク218と、供給タンク218
から洗浄液217を吸引し、自動的に洗浄液217を供
給するだめのマグネットギヤポンプ219と、流量調節
弁220及び逆止弁221とよりなる流量調節部222
とより構成しである。223で示すのは。
洗浄終了後の排液を貯留するための排液タンクで、受皿
211下部に設けた排液管224から排液が流入するよ
うになっている。225で示すのは上限検知用のセンサ
ー、226で示すのは下限検知用のセンサーである。洗
浄液217は、24個の4孔212から同時に流出して
洗n1するように設定してあり、流水速度は流量調節ゴ
C220にて1箱しろ不上らにか。でいス−七ソサー2
25.226は、+Sj電容量式のセンサーにて構成し
てあり、下限検知用のセンサー226がOFFのとき、
又は上限検知用のセンサー225はONのときにランプ
及びブザーが警報を発するように設定しである。
第4図において250で示すのは、マイクロウェルモジ
ュール検出装置85.液面検知用アーム105の各電極
110と接続構成された表示部 ・で、マイクロプレー
ト4のウェル数(96個)と等数の表示灯(ランプ)2
51が配設してあり、各マイクロウェルモジュール86
や各ウェル5内の液面検知の検出結果が各表示灯251
に表示されるようになっている。
次に、上記構成に基づいてマイクロプレート4の各ウェ
ル5内を洗浄する作用について説Illする。
まず、試薬溶液を分注、コーティングされたウェル5を
有するマイクロプレート4を10枚収納した供給マガジ
ン3を、プレート搬送機構部12の始端側(第1図にお
いて左側)の所定位置に・11i、置してセットする。
又、プレート搬送機構部12の終端側の所定位置に空の
排出マガジン17をセットする。供給マガジン3は、マ
ガジン昇降装置20を介して最も上昇した位置にセット
されており、他方、排出マガジン17は最も下降した位
置にセットしである。なお、第1の洗浄装と7とゼラチ
ンコーティング装置8とを連結して、洗浄されたマイク
ロプレート4を直接ゼラチンコーティング装置8に供給
しうるようにすることにより、排出マガジン17を不要
化することも可能である。各マガジン3,17は、位置
決めピン21を介して所定のセット状態に位置決めされ
る。
次に、プレート搬送機構部12を介して供給マガジン3
内の、マイクドブレート4を−&fつ搬送するのである
が、この搬送手順について第12図、第13図を用いて
説明する。まず、支持枠上動装置73を介して上動せし
められている受は台支持枠50を、カム駆動装置62を
介して下動させる、即ち、モーター65を駆動してカム
63を回動させることにより、カムフォロア64を介し
て受は台支持枠50を下動せしめる。
次に、パルスモータ−93を駆動させて受は台支持枠5
0を1ピツチPだけ供給マガジン3方向に移動させる。
この状態を第12図aに示す、この状態においては、受
は台支持枠50上の4対の受は台51のうち最も供給マ
ガジン3に近接した位置の一対の受は台51が第12図
aにて示すごとく、供給フカジン3内の最下段のマイク
ロプレート4の下方に侵入する。
次に、モーター65を介してカム63を回動じ、カム6
3とカムフォロア64との係合を解除する。すると、受
は台支持枠50は、支持枠上動装置73のL動ピン74
を介して上動せしめられ、この駆動の際に、供給マガジ
ン3の最下段位置に収納さ、れているマイクロプレート
4を受は台51にて支持して−E動する。この状態を第
12図すにて示すが、図に示すごとくこの状態において
は、受は台支持枠50は固定受は台94の上面よりもL
動する。
次に、パルスモータ−93を介して受は台支持枠50を
1ピツチPだけ排出マガジン17側に移動せしめる。こ
の際には、供給マガジン3内の最下段に収納されていた
マイクロプレート4が1枚供給マガジン3外に排出され
る。この状態を第12図Cに示す。
次に、モーター65を介してカム63を回動せしめ。L
動せしめられている受は台支持枠50を下切せしめる。
この下動時には、受は台支持枠50は固定受は台94よ
りも下方位置に下切せしめられ、従って、受は台51上
に支持されていたマイクロプレート4は固定受は台94
上−に・代置される。この状態を第12図dに示す。
次に、マガジン昇降装7120を介して供給マガジン3
を一定ピッチだけ下降せしめる。この下降の際には、セ
ンサー板34とセンサー35との協働作用により、供給
マガジン3を一定ピッチ下降せしめて停止制御させ、1
0枚収納されていたマイクロプレート4の上から9枚目
のマイクロプレート4がすでに搬出されたマイクロプレ
ートのもとの収納位置と同一位置となるようにf降制御
する。供給マガジン3の下降操作は、モーター(電磁ブ
レーキ付スピードコントロールモーター)24を駆動し
、昇降杆25を介して支持ベース23を下降させること
により行なう。この状態を第12図eに示す。
次に、受は台支持枠50をパルスモータ−93を介して
供給マガジン17方向に移動せしめ、供給マガジン3に
最も近接した位置の一対の受は台51が供給マガジン3
内の最下段のマイクロプレート4、即ち、上から9枚目
のマイクロプレート4の下方に侵入する。この状態を第
12図fに示す。この第12図fは、第12図aと同様
の状yEとなり、以下、第12図b−eの手順をIri
次繰り返し、供給マガジン3内のマイクロプレート4が
次々に搬出される。そして、この作業は10枚のマイク
ロプレート4が全て供給マガジン3外に搬出されるまで
縁り返され、各マイクロプレート4は、第13図にて示
すごとく作業部227にて洗浄された後、排出マガジン
17内に1枚ずつ搬入(収納)される。排出マガジン1
7は、供給マガジン3と同一ピッチにて上昇制御され、
空の排出マガジン17内に洗浄作業の完了した10枚の
マイクロプレート4が1枚ずつ次々に収納されるように
なっている。
第14図aにて示すごとく。固定受は台94にマイクロ
プレート4が2枚搬送された際には、岐先に搬送された
マイクロプレート4は作業部227位置に達する。ここ
で、3枚[1のマイクロプレート4を搬出すべく受は台
支持枠50をL動させると、第14図すにて示すごとく
、マイクロプレート40マイクロウエルモジユール86
のフランジ部86a(第5図f参照)の上面がストッパ
ープレート83の下面に当接し、作業部227位置のマ
イクロプレート4の各マイクロウェルモジュール86は
、受は台51とストッパープレート83に挟持されて位
置決め固定される。そして、作業部227位置に固定さ
れたマイクロプレート4の各ウェル5内の残液(コーテ
ィング作業部に分注された残液)をノズル106aを介
して排出する。次に、ノズル106bを介して洗n1液
を3回分注する量だけ吸引する。この吸引時には、液溜
り部156の作用により泡立ちし易い洗浄液であっても
泡切りされ、シリンジ170への液の侵入が防止される
。次に、ノズル106bから洗浄液を300壓文だけ各
ウェル5内に分注する。ノズル106bは、ノズル10
6a方向に傾斜されているので、ノズル106bから洗
浄液を分注する際にノズル106aを洗浄することがで
きる。又、洗浄液がノズル106aに放水されるので、
ウェル5内壁にコーティングされた洗浄液をノズル10
6aを介して排出し、再度洗浄液をノズル106aを介
して排出し、1−11度洗浄液をノズル106bを介し
て300μ文各ウェル5内に分注する。このようにして
、洗h1液の分注、排出作業を3回繰り返して、各ウェ
ル5内をコーティング部を傷めることなく洗浄する。な
お、洗浄液の”A ’31 :iや3回り分注、rl:
、は、パルスモータ−172奢介して行われ、シリンジ
170の可動軸171のストロークを制御することによ
り所望の各分注にはそれぞれ各別に設定:A整すること
ができ、各分注ij、のバラツキを補正することができ
る。なお、固定受は台94に取り付けられたマイクロウ
ェルモジュール検出装置85は、固定受は台94と供給
マガジン3との間に位置するアイドルステーション22
8の受は台51−4二にマイクロウェルモジュール86
があるかどうかを検知し、マイクロウェルモジュール8
6がないときには1機械を停止して欠品部のマイクロウ
ェルモジュール86を補充する。
作業部227に固定されているマイクロプレート4の各
ウェル5に対して洗浄液を分注、IA出する作業におい
ては、まず、洗浄液ノズルアーへ部13のアーム本体部
lOOを旋回、V、ド作動用駆動部118を介して一ヒ
動せしめ1次に、洗浄液分注アーム104が洗浄液棚部
I・tの真に位置に位置するように旋回作動させる。次
に、アーム人体部100をf動せしめ、洗油液分注アー
ムl O4の1対のノズル部106を洗浄液棚部14の
洗浄摘147内ML番有大ナス 次に、洗浄液吸排用の各ノズル106bと連通接続され
たシリンジ170の可動軸171をパルスモータ−17
2を介して下動せしめ、このシリンジ170の吸引作用
を介して洗浄液147を各ノズル106b内に3回分性
hi:だけ吸引する0次に、アーム本体部100を上動
せしめ、しかる後に、旋回、上下作動用駆動部118を
介してアーム本体部100を反時計方向に90’旋回せ
しめる。この際には、洗浄液分注アーム104が作業部
227のマイクロプレート4の上方位置にセットされ、
液面検知用アーム105は電極洗浄棚部16の上方位置
にセットされる。次に、アーム本体部100を下動せし
める。この際には、アーム本体部100の一対のノズル
部106が各ウェル5内に挿入される。次に、シリンジ
170の可動軸171をパルスモータ−172を介して
上動せしめ。シリンジ170内の空気の圧縮を介してノ
ズル106b内に吸引されている洗浄液を各ウェル5内
に3001tlずつ3回に分けて分注、排出させて洗浄
する。この作業は、第15図a、bにて示すごと<、A
−Fの8列あるウェル5の2列(A列とE列)にまず行
なう0次いで、アーム本体部100を上動せしめ、マイ
クロプレート4を受は台支持枠50を介して1ウ工ル分
だけ矢印229方向に移動せしめる。そして、再びアー
ム本体部100を下動せしめ、B列とF列の各ウェル5
内に洗浄液を300ル旦ずつ3@分注、排出′ する、
このような作業を3回繰り返し、0列とG列及びD列と
F列の各ウェル5内に洗浄液を300 p、lずつ3回
分性、排出する。これにより、各ウェル5内の洗浄が完
了する。
洗浄液の分注作業が終了したら、アーム本体部100を
上動せしめ、90°時計方向に旋回する。そして、アー
ム本体部100を下動せしめ、24木の各ノズル106
bに試薬溶液147を前記と同様の作業にて必要量(3
@分注量)だけ吸引する。このとき、液面検知用アーム
105の電極11Oが分注の完了した各ウェル5内に挿
入され、各ウェル5内に挿入される2木の電極110(
第7図C参照)のインピーダンスの変化により分注され
た洗浄液の液面を検知し、液量検知が行われる。
ノズル106bにて洗浄液を吸引し、電極110による
液面検知が完了すると、アーム本体部100が上動せし
められ、再びアーム本体部100が90’旋回せしめら
れる。このときには洗浄されていない次のマイクロプレ
ート4が第12図a−fにて示す一連の動作にてアーム
本体部100の下方位置に搬送され、セット(位置決め
固定)される9次に、アーム本体部100がド動し、2
4木の各ノズル106b内に吸引した洗浄液をマイクロ
プレート4の各ウェル5内に分注する。この分注作業に
ついては前述したものと同一であるので、その説明を省
略する。ノズル106bによる洗浄液の分注、排出作業
時には、各電極110の下部が電極洗浄棚部16の洗浄
液流水孔212の北方位置に配置され、洗浄液供給装置
215を介して供給される洗浄液217を各電極110
に流水して各電極110を流水洗浄すブー=n)lk:
H+rア)シYt−1−)1リニ9す’+協:L’tk
了1’?+9yMり段に形設されているので洗浄後の汚
れた洗浄液が各電極110に付着することなく排液タン
ク223に排液される。
各ノズル106bによる各ウェル5への洗n1液の分注
作業、及び各電極110の洗浄作業が完了すると、アー
ム本体部100が上動し、再び反時計方向に90°旋回
する。そして、アーム本体部100が下動し、各ノズル
106bが洗浄液を必要量だけ吸引するとともに、各電
極110が分注の完rしたした各ウェル5の液面検知を
行う。
以上の作業を繰り返して、供給マガジン3がら次々に搬
送されてくるマイクロプレート4の各ウェル5内を洗浄
する。この作業は、供給マガジン3内の10枚のマイク
ロプレート4が空になるまで連続して行なわれる。作業
中に、マイクロウェルモジュール検出装置85によりマ
イクロウェルモジュール86が欠品状態にあるときには
、@械を停止し、欠品部にマイクロウェルモジュール8
6を充填する。これにより、マイクロウェルモジュール
86が欠品状態で作業部227位置まで搬送され、マイ
クロウェルモジュール86の欠品部に洗浄液が供給され
て洗浄液が機械に飛散するのを防止することができる。
各ウェル5内を洗浄されたマイクロプレート4は、第1
2図a −fにて示す受は台支持枠50の搬送作用によ
り排出マガジン17内に俳人される。そして、受は台支
持枠50がカム63を介して下動せしめられた際に、排
出マガジン17内に′搬入されたマイクロプレート4が
、第13図にて示すごとく空状態にある排出マガジン1
7の最上段収納部(支持部)に収納される。そして、受
は台支持枠50が供給マガジン3方向に移動せしめられ
、排出マガジン17外に移動すると、排出マガジン17
をマガジン昇降装置20を介して定ピツチ上動させ、次
のマイクロプレート4が搬入されてくるのを待機する。
排出マガジン17の北方向への定ピッチ送り制御作用は
、供給マガジン3側と同一であるので、その説明を省略
する。
排出マガジン17内に、洗浄が完了したマイクロプレー
ト4が10枚収納されると、排出でガジン17を取り出
し、この排出マガジン17を第1図にて示すごとく次工
程のゼラチンコーティング装置8のマガジン供給部に供
給するのである。。
そして、第1図にて示すごとく、ゼラチンコーティング
装置8.第2のインキュベート装置9゜第2の洗浄部’
a 10 、及び乾燥袋2?11を経て固相試薬の製造
が完了する。
洗浄液の残量が下限検知用の検知部材155の丁端より
も低くなるとブザーが警報を発するので、この場合には
、洗浄液を補給すればよい。
特に1本実施例に係る残液排出装置261においては、
各ウェル5内に分注された洗浄液の残液を真空ポンプ2
71の真空力により吸引し、吸引した排液を一時的にバ
キュームタンク269内に貯蔵するとともにバキューム
タンク269内の排液をチューブポンプ273を介して
排液タンク274内に排出する構成であるので、真空ポ
ンプ271を排液タンク274から離隔した位置に配設
でき都合がよい。又、真空ポンプ271とバキュームタ
ンク269の間に配置された電磁弁270は、1回の吸
引が終ると切り替りバキュームタンク269を大気に開
放するので、吸引の応答性が高くなり、液だれを防止で
きる。その結果、電磁弁270の寿命を延命化できる。
又、排液タンク274内を直接真空にするのではないの
で、排液タンク274をポリタンク等の柔らかい材質に
て構成できる。又、電磁弁270により、残圧による真
空ポンプ271への排液の侵入と。
洗浄液の分注作業間における洗浄液の吸引を防+hする
ことができる。又、バキュームタンク269にはフィル
ター(図示省略)が内装してあり、排液中の泡切りを行
なって真空ポンプ271への泡の侵入を防止できる。
又、全体的な効果としては、多数のノズル106a、1
06bの多数の電8iiioとを−・体的に構成してい
るので、多数のウェル5に対して同時に作業でき、ロス
タイムを防It して高能率的に作業できる。
又、電極110の洗浄部を2段構成にし、洗浄後の汚水
が他に混入しないようにしであるので、清潔に保持され
、製品の品質の向上が図れる。
又、各ウェル5内の液面検知毎に電8illoを流水洗
浄しているので、清潔状態が保持され、製品の向上が図
れる。
又、電極110がクッション構造を有するので、電極1
10の先端が外の部位と干渉することがあっても位置ず
れをすることがない利点がある。
[発明の効果] 以上のように本発明によれば、試薬固相容器内の残液を
排出する際の吸引応答性を高めることができるとともに
効率よく排液し得るものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は1本発明に係る装置の1実施例を含む固相化試
薬製造装置のレイアウト図、 第2図a、b、cは、本発明に係る装置を含む洗浄装置
の一天施例の乎面図、正面図、側面閃、 第3図a、b、c、d、eは、マイクロプレートを収納
するマガジンの説明図、 第4図は、本実施例の要部を示す斜視図。 第5図a、b、c、d、e、fは、本実施例の要部の説
明図、 第6図はa、b、cは、マイクロプレ−11送部及び電
極部の説明図、 第8図a、bは、アーム駆動部の説明図、第9図は、洗
浄液貯蔵部の説明図、 第10図a、b、c、d、e、f、g、h、ij、に、
l、m、n、O,P、q+rは、洗浄液分注装置部の説
明図、 第111Nは、洗浄部の説明図、 第12図a、b、c、d、e、f、第13図及び第14
図a、bは、本実施例の要部の作用説明図、 第15図a、bは、マイクロプレートへの分注作用説明
図である。 3・・・供給マガジン 4・・・マイクロプレート 5・・・マイクロウェル(試薬固相容器)12・・・プ
レート搬送機構部 14・・・棚部 17・・・搬出マガジン 150・・・洗浄液供給ユニット部 261・・・残液排出装置 第3図(a) 第3図(d) 第3図(e) 第5図 第6図(c) 第7囲包) t 06a 第8図 第8図 第10図(d) lE 第10図(f) 第10図 第10図 第10図(1<) 第10図(1) (m) 第12図 第12図 第14図 第15図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 試薬固相容器内に自動的に試薬を分注して前記容器内壁
    部に試薬を固相化させるように構成してなる固相化試薬
    製造装置において、 前記試薬固相容器内の残液をノズルと協働して吸引する
    ための吸引装置と、前記吸引装置を介して吸引された排
    液を一時的に貯蔵するためのバキュームタンクと、前記
    バキュームタンク内の排液を吸引して排液タンク内に排
    出するためのチューブポンプとより構成したことを特徴
    とする固相化試薬製造装置における排液装置。
JP23343086A 1986-10-01 1986-10-01 固相化試薬製造装置における排液装置 Pending JPS6388455A (ja)

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