JPS6388459A - 固相化試薬製造装置における多チヤンネル継手装置 - Google Patents

固相化試薬製造装置における多チヤンネル継手装置

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JPS6388459A
JPS6388459A JP23508286A JP23508286A JPS6388459A JP S6388459 A JPS6388459 A JP S6388459A JP 23508286 A JP23508286 A JP 23508286A JP 23508286 A JP23508286 A JP 23508286A JP S6388459 A JPS6388459 A JP S6388459A
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JP
Japan
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cleaning liquid
nozzle
magazine
microplate
arm
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JP23508286A
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English (en)
Inventor
Masao Agawa
阿川 正夫
Yutaka Goto
豊 後藤
Kazutomo Takahashi
一友 高橋
Kiyoshi Takao
潔 高尾
Katsuaki Takano
高野 克明
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は、固相化試薬製造装置における多チャンネル継
手装置に係り、より具体的には、試薬固装容器に自動的
に試薬を分注して試薬固相容器内g部に試薬を固相化し
得るようにしだ固相化試薬製造装置における多チャンネ
ル継手装置に関する。
[従来の技術] 後天性免疫不全症候群(AIDS)患者は、最近、多く
の国で確認されている。そして、患者の認定と発症の原
因物質の究明に多くの努力が費され、疫学的データによ
ると、AIDSは感染性の物質が血液笠の体液を媒体と
して水平感染することが示唆されている。
AIDSにかかると免疫機能が著しく低−ドし。
感染症やガンの一種であるカポシ肉種、カビによるニュ
ーモニスカリー二肺炎等が原因で死亡する。A I D
 S ;n者の死亡率は既知のごとく極めて高く、又1
.18者を媒体として感染するところから、AIDI↓
者の5L期発見が急務である。最近、米国特許4,52
0,113がR,CGa l l OJiに対して付’
i−(発行)されたが、このGa1lo等の特許は、エ
リザ法(ELISA、英語の専門語、Enzyme  
LinkedImmuno  5orbent  As
5ayの頭文字)又は、ウェスタンブロッティング法も
しくは間接免疫蛍光法にツ(づくストリップRIAにお
ける抗原として、H9/HTLV−IIIと命名された
細胞の断片を使用することにより、AIDS及びPre
−AIDS、1者の血清中の抗体を検出する方法である
。より具体的には、AIDSウィルス抗原を使用し、こ
のAIDSウィルス抗原をプラスチックで作ったプレー
トの穴の底に固定化しておき、検査する各血清を穴の底
に入れ、呈色反応を見ることにより、AIDSウィルス
に対する抗体の存在を検出するものである。
この方法によれば、血清がAIDSウェイルスに対する
抗体を含んでいれば、それは固定化された抗原の上に結
合され、数回操作後の呈色反応によら抗AIDSウィル
ス抗体の存在が検出できる。これにより、AIDS患者
か否かの確認を行なうことができ、AIDS患者の感染
を防止することが可能となる。
又、その他の方法として、固相法(ビーズ)を利用した
EIA (Enzyme  Immunoassay)
により、検体(血清又は血漿)中のHTLV−III抗
体を検出する方法がある。
[発明が解決しようとする問題点] 上記従来技術においては、プラスチックで製作したプレ
ートの穴に、作業者がいわゆる用手法にてAIDSウェ
イルス抗原を入れ、このAIDSウィルス抗原をプレー
トの穴の底に固定化(コーティング)させて試薬を製造
していたので、均一の試薬を製造することができず、そ
のために試薬の品質が著しく低下し、試薬としての信頼
性が極めて低いものとなっていた。又、用手法による場
合には、プレートの穴の底にコーティングされる被膜の
厚さが一定化しないので、検出の信頼性が低く、又、用
手法においては試薬を多量に!A造できないので、生産
性が著しく低いものとなっていた。
又、試薬としてAIDSウィルス抗原 (H’TLV−m)を使用しているので、試薬を製造す
るための準備段階において極度な警戒を必要とし、U康
な研究所作業員にとって非常に危険である。又、たとえ
不活性化されたウィルスを使用したとしても不活性化さ
れたウィルスへの接触はぜ庚な作業員の抗体産生の原因
となりうるし、もし抗体が産生された場合、彼等はAI
DS。
ARC(AIDS  Re1ated  Comple
x)あるいはPre−AIDSであると誤診断されるお
それがある。さらに、試薬におけるH9細胞又は大腸菌
(E、Co11)の細胞内物質の存在は、大腸菌(E、
Co11)又はH9細胞に対する抗体を有する個人から
、HTLV−III抗体スクリーニング試験においてま
ちがった結果を引き出す可能性がある。これらまちがっ
た陽性反応は、健康な個人及びその家族に対する家酷な
心配をもたらし、又、AIDSに感染しているとして誤
って診断される可能性があり、それらの人は通常な社会
的活動から追放されるおそれがある。
本発明は、上記従来技術の問題点に鑑みなされたもので
あって1体液内のHTLV−Hに対する抗体の存在検出
用の試薬又はAFP (胎児性抗原)、IgE(イムノ
グロブリンE)等を自動的にプレート上の多数の各マイ
クロウェル内にコーティング(被膜化)し得るようにし
て、作業者に安全な、かつ均一な固相化試薬が製造でき
るようにした固相化試薬製造装置における多チャンネル
継手装置を提供することを目的とする。
[問題点を解決するための手段及び作用〕本発明は、試
薬固相容器に自動的に試薬を分注して前記容器内壁部に
試薬を固相化させるように構成してなる固相化試薬製造
装置における多チャンネル継手装置において、 複数の吸引孔を貫設した第1の部材と、真空ポンプ等の
真空源と連通接続自在の1個の真空源連結部を有する第
2部材と、riff記第1の部材と前記真空源連結部と
の間に介設され、前記第1の部材の複数の吸引孔と、i
j記真空源連結部とを連通接続する接続空間部を有する
第3の部材とより構成することにより、吸引操作時の作
動応答性の向上。
保守性の向上、配管経済上のコストダウン化を図り得る
ようにしたものである。
[実施例] 以下、図面を用いて本発明の実施例について説明するが
、その前に1本発明に係る多チャンネル継手装置を含む
固相化試薬造装置の概略構成について第1図を用いて説
明する。
第1図は1本発明に係る多チャンネル継手装置7.10
を含む固相化試薬製造装F!12の全体構成図であり、
図中において各構成部を連結する矢印は工程の順序を示
すものである。
図に示すごとく固相化試薬製造装置2は、供給マガジン
3から供給、搬送されてくるマイクロプレート4上の各
ウェル5内に試薬を分注して各ウェル5の内壁面に試薬
被膜をコーティングするための試薬コーティング装着1
.各ウェル5内に分注、コーティングされた試薬を培養
(インキュベート)するための第1のインキュベート装
置(培養装置)6、各ウェル5内の余分の試薬溶液を排
出するとともに各ウェル内を洗浄するための第1の洗浄
装置(試薬固相容器洗浄装置)7.各ウェルの5内壁及
び底面にコーティングされている試薬に対してゼラチン
をコーティングし、ピンホール等を被覆するためのゼラ
チンコーティング装置8.ゼラチンコーテイング後の試
薬を再び培養するための第2のインキュベート装置9、
第2のインキュベート装置9を介してインキュベートさ
れた試薬を洗浄するための第2の洗浄装置(試薬固相容
器洗浄装置)10、洗浄された試薬を所要の温度雰囲気
中にて完全乾燥するための乾燥装置11とより構成して
なるものである。
本発明に係る多チャンネル継手装置は、第3及び第6の
工程部に属するものであり、以下、本発明に係る装置の
1実施例について詳細に説明する。なお、洗浄装置7と
洗浄装JIOとは同一構成であるので、洗浄装置7につ
いて説明し、他側の説明は省略する。
第2図a、b、cは、本発明に係る多チャンネル継手装
置を含む試薬固相容器洗浄装置7の実施例を示す平面図
、正面図及び側面図である。
第1図において示したように、試薬固相容器洗浄装g!
17は、試薬溶液を分注され、コーティングされたマイ
クロウェル(以下、単にウェルという)5を有する(装
備した)マイクロプレート4を収納する供給マガジン3
.マイクロプレート4を一定ピッチで搬送するためのプ
レート搬送機構部12、各ウェル(固相容器)5内の余
分の試薬溶液を吸引、排出するとともに各ウェル5に対
して洗浄液を分注、排出するための洗浄液ノズルアーム
部13.洗浄液を貯溜するための洗浄液棚部14、洗浄
液ノズルアーム部13における液面検知用電極(:51
図においては図示省略)を洗浄するための電極洗浄棚部
16.洗油溶液を3回分注する量分だけ吸引し、吸引し
た洗浄液を3回に分けて各ウェル5二対して分注するた
めの洗浄液分注ユニット部46、及び各ウェルの洗浄が
完了したマイクロプレート4を収納するための排出マガ
ジン17等より構成しである。なお、洗浄が完了したマ
イクロプレート4を連続的に直接次工程に搬送する場合
には、排出マガジン17を不要化してもよい。
コーティング工程、インキュベート工程を経たマイクロ
プレート4を収納する供給マガジン3は、第3図aにて
示すごとく中空状の容器に構成してあり、その内周面の
対向面にはマイクロプレート4を係止保持するための溝
状段部18が形設しである。溝状段部18は、−・定ピ
ツチにて上下方向に10個(10個に限定されない)形
設してあり、従って、供給マガジン3内にはマイクロプ
レート4が10枚内蔵されるようになっている。供給マ
ガジン3の下面部(底面部)には、位置決め用の孔19
が貫設してあり、この孔19とマガジン昇降装置20側
の位置決めピン21とが“係合することにより、供給マ
ガジン3の位置決めがなされるように設定しである。供
給マガジン3における溝状段部18は、マイクロプレー
ト4を位置力向側から挿入した場合にのみ挿入可能とな
るように形設してあり、他方向側から挿入した場合には
挿入できないように構成して収納されるマイクロプレー
ト4が常に一定の方向性を保持するように設定しである
。22で示すのは把手である。
供給マガジン3は、装置本体内に配備されたマガジン昇
降装置20(第3図参照)を介して昇降自在の構成とな
っており、このマガジン昇降装置20の構成について第
3図す、c、dを用いて説明する0図において23で示
すのは、供給マガジン3をan支持するための支持ベー
スで、モーター24を介して昇降駆動される昇降杆25
の上端部に固定ねじ26を介して固定されている。
モーター24は、回転運動を直線運動に変換するモータ
ーにて構成しである。モーター24は、装置本体の中間
部位に配置された中間ベース27上に固設されており、
この中間ベース27上には、支持ベース23に回転自在
に支持されたガイドローラー28をガイドするためのガ
イドレール板29が固設されている。ガイドレール板2
9は。
支持ボスト30を介して中間ベース27に固定されてい
る。31で示すのは固定ねじである。ガイドローラー2
8は、第3図Cにて示すごとく、ガイドレール板29の
ガイド面を挟持するごとくに配設されており、2対のガ
イドローラー28にて安定的にガイドしうるように構成
しである。各ガイドローラー28には、7字形状のガイ
ド溝32が形設してあり、このガイド溝32と係合する
ガイドレール板29の係合部はガイド溝32と嵌合する
V字形状に形設しである。33で示すのは、ガイドロー
ラー28の支持ピンである。
34で示すのは、支持ベース23に固設されたセンサー
35と協働して支持ベース23の移動量、即ち供給マガ
ジン3の昇降作動量を制御するためのセンサー板で、昇
降杆25と平行に配設しである。センサー35は、投光
部と受光部とを有するセンサーで、支持板36を介して
支持ベース23に固設しである。センサー板34には、
一定ピツチで切欠き37が形設してあり、支持ベース2
3を下降させる際にセンサー35が切欠き37と対応す
る位置に至ると、センサー35の受光部が投光部からの
光を受光し、支持ベース23の下降を停止制御するよう
に設定しである。
切欠き37は、供給マガジン3内に収納されるマイクロ
プレート4の枚数と同一の数(本実施例では10個)だ
け形設しである。38で示すのは、供給マガジン3内に
収納されたマイクロプレート4の存在検出用のセンサー
で、ブラケット39を介して支持ボスト30の上端部に
固定しである。
40で示すのは、支持ボスト30に固設されたセンサー
41.42と協働して支持ベース23の昇降作動の上限
、下限位置を規制するためのセンサー板で、支持ベース
23に固設しである。
43.44で示すのは、センサー41.42の支持板、
45で示すのはセンサー板34が固定されている支持ボ
ストである。マイクロプレート4を10枚収納した供給
マガジン3は、第2図す。
Cにて示すごとく、第3図にて示すマガジン昇降装置2
0を介して上昇した位置にセットされている。
排出マガジン17(第1図、第2図参照)の構成を第3
図eに示すか、図に示すように排出マガジン17は供給
マガジン3と同一構成となっている。そして、排出マガ
ジン17は、第2図す。
Cにて示すごとく、第3図eにて示すマガジン昇降装置
20を介して下降した位置にセットされており、第3図
eにて示すごとく空状態でセットされている排出マガジ
ン17内に、洗浄作業が完了したマイクロプレート4が
上段から順に収納されるようになっている。
プレート搬送機構部12は、供給マガジン3からマイク
ロプレート4を一枚ずつ取り出し、一定ピツチで洗浄液
ノズルアーム部13方向に搬送するとともに、洗浄液ノ
ズルアーム部13を介して洗浄されたマイクロプレート
4を排出マガジン17に収納させるためのものであり、
このプレート搬送機構部12の構成について第4図、第
5図及び第6図を用いて説明する。
第4図は、プレート搬送機構部12周辺の斜視図であり
、第5図3はプレート搬送機構部12の斜視図である。
又、第5図す、cは第5図aの要部の拡大図であり、第
6図a、b、cは:iS5図の平面図、正断面図及び一
部を破断した側面図である0図において50で示すのは
、マイクロプレート4の受は台51を固定装備した受は
台支持枠で、受は台51上にマイクロプレート4をif
!21i支持してマイクロプレート4を一定ピッチずつ
搬送するためのものである。受は台51は、2個を一対
として4対、合計8個配設してあり、6対の中心52間
の距#(ピッチ)Pは同一寸法に設定しである。53で
示すのは、受は台51の固定ねじである。受は台支持枠
50の下面には、プレート(台板)54が配設してあり
、プレート54は固定ねじ53を介して受は台支持枠5
0に固定されている。プレート54の下方位りには、逆
り字形状のスライドベース55が配設してあり、スライ
ドベース55は、装置本体の固定フレーム56に横架さ
れたスライド杆57に第6図すにおいて左右方向にスラ
イド自在に支持されている。スライドベース55の水平
部55aの下面には、4個のポールブツシュ58が固定
してあり、プレート54の下面に垂設固定したスライド
軸59がこのポールブツシュ58内に上下動自在に貫挿
しである。即ち、プレート54及び受は台支持枠50は
、スライド軸59.ポールブツシュ58を介してスライ
ドベース55の水平部55aに対して上下動(昇降)自
在の構成となっている。4個のポールブツシュ58に貫
挿された4本のスライド軸59のうち、第6図aにおい
て右側に位置するスライド軸59の下端部は、連結板6
0を介して連結されている。61で示すのは、連結板6
0の固定ねじである。連結板60のほぼ中央部には、第
6図Cにて示すごと〈長孔61が設けてあり、この長孔
61内にはカム駆動装置62のカム63と係合するカム
フォロア(ローラフォロア)64が支軸64aを介して
回転自在に支持されている。カム駆動装置62は、カム
フォロア64と係合するカム63を回転駆動するための
もので。
ギアヘッド付きのモーター65、モーター65の駆動軸
(出力軸)66にカップリング67を介して連結された
カム軸68、カム軸68にキー69を介して固定された
カム63等より構成しである。モーター65は、スライ
ドベース55の水平部55aに一体的に垂設されたモー
ターベース70に固定しである。又、カム軸68は、ス
ライドベース55の水平部55aに垂設したカム軸支持
板71.71に嵌着した軸受72を介して回転自在に支
持構成しである。スライドベース55の水平部55aに
は、受は台支持枠50を常時上方向に押圧付勢するため
の支持枠上動装置73が装着しである。支持枠上動装置
73は、プレート54の下面と当接する上動ピン74と
、上動ビン74を収納するピン収納部75、及び上動ビ
ン74を常時上方向に付勢するための付勢部材(例えば
コイルスプリング)76とよりM成してあり、付勢部材
76を介して上動付勢される上動ビン74により、受は
台支持枠50が常時上動されるようになっている。カム
63は偏心カムにて構成してあり、カム駆動装置62を
介してカム63を回転駆動した際には、カム63がカム
フォロア64と形設してカムフォロア64を下方向に押
圧し、支持枠上動装置73を介して上動されている受は
台支持枠50が下動せしめられるようになっている。ス
ライド軸59の下部には、上下方向に適宜隔てて24P
Iの検知部材77.78が固設してり、他方、スライド
ベース55の水平部55aには、検知部材77.78を
検出する2個のセンサー79.80が支持板81を介し
て取り付けである。そして、この検知部材77 、7B
 。
センサー79.80の協働作用により、受は台支持枠5
0の上下作動が検出されるようになっている。82で示
すのは間座である。
スライドベース55における水平部55aの上方位置に
は、受は台支持枠50が上動した際に。
受は台51上にa置されたマイクロプレート4のウェル
5上面と当接してマイクロプレート4の位置決めを行う
ためのストッパープレート83が配設しである。ストッ
パープレート83は、支柱84を介してスライドベース
55の水平部55aに固定しである。ストッパープレー
ト83の一側面部には、マイクロプレート4内のマイク
ロウェルモジュール検知用のマイクロウェルモジュール
検知装置85が装備しである。マイクロプレート4内に
は、第5図d、e、fにて示すごとく複数枚のマイクロ
ウェルモジュール86が装着してあり、マイクロイニル
モジュール検知装置85は、このマイクロウェルモジュ
ール86の有無を検知するためのものである。マイクロ
ウェルモジュール検知装置85は、第5図す、cにて示
すごとくスイッチベース87と、検知用スイッ 。
千88を複数個装備したスイッチ板89.検知用スイッ
チ88を作動用の板ばね90等より構成してあり、板ば
ね90は、複数のスイッチ88を個別的に0N−OFF
L得るように設定構成しである。そして、板ばね90は
、マイクロプレート4内のマイクロウェルモジュール8
6のフランジ部86aと当接自在の構成となっており、
受は台51J:のマイクロプレート4が上動した際にマ
イクロプレート4のフランジ部86aが板ばね90を押
圧し、スイッチ88が作動されるようになっている。従
って、スイッチ88が全部作動しないときにはマイクロ
プレート4がないときであり、又、一部のスイッチ88
が作動しないときには、一部のマイクロウェルモジュー
ル86が不足しているものと’4’−1定されることと
なる。91で示すのはマイクロプレート4保持用の板ば
ね、92で示すのはスイッチ88の配線処理用のダクト
である。
第6図において93で示すのは、スライドベース55を
スライド杆57に沿って移動制御するためのパルスモー
タ−で、装置本体の固定フレーム56に固設されている
。受は台支持枠50は、パルスモータ−93を介して4
対の受は台51の6対の中心52間のピッチPだけ進退
移動制御されるように制御構成されている。即ち、一対
の受は台51トに載置支持されるマイクロプレート4は
、パルスモータ−93により移動制御される受は台支持
枠50を介して1ピツチPずつ移動制御されるようにな
っている。又、一対の受は台51.51上に載置される
マイクロプレート4は、パルスモータ−93を介して1
ビーフ千P内の範囲内において一定の小ピツチずつ移動
制御されるようになっており、第1図にて示す洗浄液ノ
ズルアーム13を介してマイクロプレート4の各ウェル
5内に対して洗浄液を分注、排出し得るようになってい
る。94で示すのは、固定受は台で供給マガジン3内か
ら搬送されてくるマイクロプレート4を一時的に支持す
るためのものである。
即ち、受は台支持枠50は、カム63を介して下降され
た状態でパルスモータ−93を介して第6図aの左方向
に1ピツチP分だけ移動制御されるようになっているが
、この際には、供給マガジン3(第1図参照)内に侵入
されるようになっており、この状態でカム63を解除す
る方向に回動して受は台支持枠50を上動せしめた際に
は。
供給マガジン3内のマイクロプレート4が1枚だけ左端
側の一対の受は台511に載置支持されるようになって
いる。この状態では、マイクロプレート4は、固定受は
台94の上面よりも上動せしめられるように設定してあ
り、この固定受は台94よりも上動された状態で受は台
支持枠50はパルスモータ−93を介してlピッチPだ
け右方向に移動制御されるようになっている。そして。
lピッチだけ右方向に移動された状態で受は台支持枠5
0はカム63を介して固定受は台94よりも下方位置に
下動せしめられるようになっており、この際に、受は台
51上に載置されていたマイクロプレート4は固定受は
台94上に一時的に載置されるようになっている。この
状態で再び受は台支持枠50がパルスモータ−93を介
して供給マガジン3内に侵入され、前記と同様の操作に
て供給マガジン内のマイクロプレート4を供給マガジン
3外に搬出し、このようにして次々に供給マガジン3内
のマイクロプレート4を搬出、搬送しうるようになって
いる。
受は台51には、第6図す、cにて示すごとく、マイク
ロプレート4の嵌合部と嵌合するテーパー嵌合面51a
、51bが珍説してあり、マイクロプレート4の位置決
めがなされるように設定しである。
洗浄液ノズルアーム部13は、洗浄液をマイクロプレー
ト4の各ウェル5内に対して分注、排出するとともに各
ウェル5内に分注された洗浄液の液面検知を行なうため
のもので、第7図、第8図にて示すごとくアーム本体部
100と、アーム本体部100を支持するアーム軸lo
t、及びアーム本体部lOOを昇降作動させるとともに
旋回させるためのアーム駆動部102等より構成しであ
る。
アーム本体部lOOは、第7図aにて示すごと ・〈ア
ーム軸101に固定されたアームベース103、アーム
ベース103に延設的に設けられた洗浄液分注アーム1
04及び液面検知用アーム105とより構成しである。
洗浄液分注アーム104と液面検知用アーム105とは
、互いに直交配置してあり、各アーム104,105は
、アーム駆動部102を介して90°旋回可能に構成し
である。洗浄液分注アーム104は、洗浄液棚部14(
第1図参照)から洗浄液を3回分注する量だけ吸引し、
洗浄液を3回に分けて各ウェル5内に分注するためのノ
ズル部106と、ノズル部106支持用のノズル支持ベ
ース107、及びノズル押え108とより構成しである
。ノズル支持ベース107は、第7図aにて示すごとく
2枚に分割構成されており、各ノズル支持ベース107
の外側面には、第7図Cにて示すごとく長く垂下させた
第1のノズル106aが固定しである。又、各ノズル支
持ベース107の内側面には、第1のノズル106aよ
りも短く設定された第2のノズル106bが固定しであ
る。第2のノズル106bは、第7図dにて示すごとく
第1のノズル106a側に傾斜配設してあり、第2のノ
ズル106b先端から分注される洗浄液を介して第1の
ノズル106aを洗浄し得るように設定構成しである。
そして、第7図fにて示すごとく、長短一対のノズル1
06a、106bが一組となって各ウェル5内に望むよ
うに配置構成してあり、この長短一対のノズル106a
、106bは24対(片側12対×2列)配設しである
。各ノズ/Lz106a、106bは、ノズル押え10
8゜固定ねじ109を介して固定保持しである。液面検
知用アーム105は、液面検知用の電極110と、電極
110支持用の電極ベース111とより構成しである。
電極110は、第7図りにて示すごとく、電極ベース1
11に形設された四部112内に収納されるとともに、
電極押え板113を介して保持されるようになっている
。電8illOは、第7図り、iにて示すごとく′市極
針114と、鍔部115を有する外筒116とより構成
してあり、電極針114と外筒116とはV字形状の保
合部117を介して互いに連結されるようになっている
。電極針114にばばね作用を有する機構部が装備され
ており、針先端を押圧した際の針先端の移動量を吸収し
うるように設定されている。ノズル106は、24本(
12本×2列)配備されており、又、電極110は、2
4セント(12セット×2列)配備されている。
アーム駆動部102は、第8図a、bにて示すごとく、
アーム軸101を旋回及びL下動するための駆動部11
8により構成しである。アーム軸101を4台回、−F
下動させる駆動部118の機構は、第8図a、bにて示
すごとく回転駆動される2枚のカム120,121と、
各カム120゜121と係合するカムフォロア122,
123、及び、各カム120,121.カムフオロア1
22.123を介して作動される」二重“作動用アーム
124.旋回作動用アーム125等より構成しである。
各カム120,121はカム軸126に固設してあり、
カム軸126はモーター(図示省略)により回転駆動さ
れるようになっている。そして、各カム120,121
を回転させることにより、F不作動用アーム124及び
旋回作動用アーム125を介してアーム軸101をL不
作動又は下回作動(90°)し得るように設定構成しで
ある。128で示すのはカバーである。
洗浄液棚部14は、洗浄液を貯溜するためのもので、第
9図a、bにて示すごとく構成しである。図に示すごと
く洗浄液洗浄液棚部14は、洗浄液147を貯溜するた
めの洗n1液容器148゜オーバーフロー受皿149、
及び洗浄液供給ユニット部150等より構成しである。
洗浄液供給ユニット部150は、洗浄液供給タンク15
1、チュービングポンプ152、及び供給ホース153
等より構成してあり、洗浄液147を洗浄液容器148
内に自動供給し得るように設定構成しである。153で
示すのは、下限検知用のセンサーである。154,15
5で示すのは、洗浄液147の」二限、下限検知用の検
知部材で、洗浄液147の残量が下限を越えた際にラン
プが点燈し、ブザーが鳴るように設定しである。
洗浄液容器148内の洗浄液147は、洗浄液ノズルア
ーム部13のノズル部106を介して吸引され、所定位
置に停止制御せしめられているマイクロプレート4の各
ウェル5内に3回に分けて分注されるようになっている
が、この洗浄液147を吸引2分注する操作は洗浄液分
注ユニット部46を介して行なわれるようになっている
洗浄液分注ユニット46は、zio図a、b。
c、d、eにて示すごとく、洗浄液147を吸引1分注
するためのシリンジ170.シリンジ170の可動軸1
71を昇降駆動せしめるためのパルスモータ−172、
及びシリンジ170.パルスモータ−172を支持する
ための支持フレーム173等より構成しである。シリン
ジ170は、第10図fにて示すごとく、シリンダ一部
174、シリンダ一部174内に摺動自在に挿通された
可動軸171、可動軸171の内端部に間装されたピス
トン175.シリンダーヘッド176、及びチューブ連
結部177等より構成しである。シリンジ170は、洗
rI、液を吸引、排出するための短いノズル106b 
(第7図参照)の配設数24木と対応させて24木配設
しである。
そして、24木のシリンジ170は、第10図す、c、
dにて示すごとく、2枚に分割構成された支持フレーム
173.173に12木ずつ分割されて配設しである。
又、各支持フレーム173に配備された12本のシリン
ジ170は、第10図すにて示すごとくさらに6木づつ
の2列に配設してあり、前後2列に配設された各シリン
ジ170は、いわゆる千鳥状に交互にずらして配置しで
ある。各シリンジ170の可動軸171の下端部には、
フランジ178を有するボス部179が固設してあり、
ボス部179は、第10(21g 、 hにて示すごと
く複数の段部180a、180b、180cを有する可
動軸支持部材180の段部180b、180cの係止凹
部181.182に係止されている。183で示すのは
、可動軸171固定用のねじで、可動軸支持部材18に
螺着されている。シリンダーヘッド176の上部には、
係合四部184を有するねじ185が固着してあり、こ
の係合凹部184には、」一部ベー・ス186に螺着し
た固定ねじ187の下端部が係合している。」一部ベー
ス186は、連結部材188を介して支持フレーム17
3に固定されている。シリンジ170におけるシリンダ
一部174の下部には、フランジ部189aを有する部
材189が設けてあり、シリンダ一部174は、第10
図gにて示すごとくこのフランジ部189aを介してク
ランク状のシリンジ保持部材190に保持されている。
第10図iにて示す191.192は、フランジ部18
9aと係合する保合四部である。可動軸支持部材180
は、固定ねじ190aを介して可動ブロック192に固
定されており、可動ブロック192は、パルスモータ−
172,ガイド杆193を介して昇降制御されるように
構成されている。即ち、シリンジ170の可動軸171
はパルスモータ−172を介して昇降作動されるように
なっており、これにより、ピストン175を介してシリ
ンダ一部174内の空気を吸引、吐出し得るようになっ
ている。チューブ連結部177には、吸引、吐出用のチ
ューブ194が連結されており、各シリンジ170のチ
ューブ194は。
第10図1.m、nにて示すごとく、液溜り部156を
介して洗浄液ノズルアーム部13の各短いノズル(洗浄
液の吸引、排出用ノズル)106bと連結されている。
液溜り部156は、第10図m 、 nにて示すごとく
、液溜り本体部157と、液溜り空間部158、及び液
溜り空間部158の両端部に配備されたm毛159゜1
60.161とより構成しである。液溜り空間部158
は、洗浄液の吸、排出ノズル106bと同数だけ設けて
あり、各シリンジ170と6洗す液吸、排用ノズル10
6bとが液溜り空間部158を介して連通接続されるよ
うになっている。液溜り空間部158の内径は、チュー
ブ194の内径より大径に形設してあり、液溜り空間部
158の容積はチューブ194に溜りうる洗浄液の量を
十分吸収しうる容積に設定しである。
又3液溜り空間811158における継手161側、即
ち、洗浄液吸、排用ノズル106b側にはテーパ一部1
62が形設してあり、泡切れし易いように構成しである
。液溜り部156は、第10図1にて示すごとく、アー
ムベース103に立設された多チャンネル継手部260
に固定保持しである。195で示すのはチューブ保持部
材で、チューブ貫挿用の孔196が貫設しである。
197で示すのは支持部材である。198で示すのはカ
バー、199で示すのはベース台である。
アームベース103に立設された多チャンネル継手部2
60は、ノズル部106の長いノズル(残液排出用ノズ
ル)106aと残液排出装置261(第10図q参照)
とを接続するためのもので1.第10図o、pにて示す
ごとく前後に配設された2枚の透明アクリル板262.
263と、アクリル板262.263間に開設されたパ
ツキン(例えば、厚さ1mm)264等より構成しであ
る。前部アクリル板262には、ステンレスパイプ26
5が貫挿してあり、ステンレスパイプ265は、ノズル
106aの数と同数配設しである。各ステンレスパイプ
265は、チューブコネクター266、チューブ267
を介してノズル106aと接続しである。パー2キン2
64には、第1O図pにて示すごとく各ステンレスパイ
プ265と連通する大きな空室267が形設しである。
又、後部アクリル板263には、パツキン264の空室
267と連通ずる1本のm +=268が装着してあり
、多チャンネル継手部260はこの継手268を介して
残液排出装置261と接続構成しである。残液排出装置
261は、第10図qにて示すごとくバキュームタンク
269、真空電磁弁270、真空ポンプ271、排液ホ
ース272.チュービングポンプ(2連ヘツド)273
.及び排液タンク274等より構成してあり、各ウェル
5内の残液を排液タンク274内に排液275として排
液し得るように設定しである。276で示すのは、排液
275の上限量を検出するためのセンサーである。
電極洗浄棚部16は、洗浄液ノズルアーム部13の電極
110を洗浄するためのもので、洗浄液ノズルアーム部
13の液面検知用アーム105が電極洗浄棚部工6の上
方位置まで回動された際、即ち、各ウェル5内に分注さ
れた洗浄液の液面検知作業を完了したたび毎に′上極1
10を流水洗浄するためのものである。以下、その構成
について第4図及び第11図を用いて説明する。
図において210で示すのは、受皿211内に配置され
た洗浄液流木部材で、洗浄液を上方に流水させるための
多数の洗浄液流水孔212と、各?ルγf1苗苦素Jl
 2+ ’7 J一連通十ス沙f’h掩イ悸杓I(21
3とより構成してあり、洗浄液供給孔213は供給ホー
ス214を介して洗浄液供給装置215と連通接続され
ている。洗浄液流木部材210は、4辺を固定ねじ21
6を介して固定されるとともに、固定ねじ216を介し
て所定位置に位置出し調節可能に構成しである。洗浄液
流水孔212は、電極110に対テして24個設けてあ
り、洗浄液流水孔212は第4図にて示すごと<12個
ずつ2列形設しである。そして、各洗浄液流水孔212
は、各電極llOと対応する位置に形設しである。各洗
浄液流水孔212は、第4図にて示すごとく、孔の中心
部を境界にして内側を高く、外側を低くした2段構成に
してあり、上部側の孔部212aから上方に流出した洗
浄液が洗n、終了後に下部側の孔部212bから受皿2
11に排出されるようになっている。即ち、洗浄後の排
液が洗浄の終了した電kllOに付着しないようになっ
ており、クリーン(清潔)状態が保持されるようになっ
ている。洗浄液供給装置215は、洗浄M217を1佇
蔵する供給タンク218と、供給タンク218から洗浄
液217を吸引し、自動的に洗浄液217を供給するた
めのマグネットギヤポンプ219と、流量調節弁220
及び逆止弁221とよりなる流量調節部222とより構
成しである。223で示すのは、洗浄終了後の排液を貯
留するための排液タンクで、受皿211下部に設けた排
液管224から排液が流入するようになっている。22
5で示すの・は上限検知用のセンサー、226で示すの
は下限検知用のセンサーである。洗浄液217は、24
個の番孔212から同時に流出して洗浄するように設定
してあり、流水速度は流量調節弁220にて調節しうる
ようになっている。センサー225.226は、静′准
容量式のセンサーにて構成してあり、下限検知用のセン
サー226がOFFのとき、又は」二限検知用のセンサ
ー225はONのときにランプ及びブザーが警報を発す
るように設定しである。
第4図において250で示すのは、マイクロウェルモジ
ュール検出装置85.液面検知用アーム105の各電極
110と接続構成された表示部で、マイクロプレート4
のウェル数(96個)と等数の表示灯(ランプ)251
が配設してあり。
各マイクロウェルモジュール86や各ウェル5内の液面
検知の検出結果が各表示灯251に表示されるようにな
っている。
次に、上記構成に基づいてマイクロプレート4の各ウェ
ル5内を洗浄する作用について説明する。
まず、試薬溶液を分注、コーティングされたウェル5を
有するマイクロプレート4を10枚収納した供給マガジ
ン3を、プレート搬送機構部12の始端側(第1図にお
いて左側)の所定位置に載置してセットする。又、プレ
ート搬送機構部12の終端側の所定位置に空の排出マガ
ジン17をセットする。供給マガジン3は、マガジン昇
降装置20を介して最も上昇した位置にセットされてお
り、他方、排出マガジン17は最も下降した位置にセッ
トしである。なお、第1の洗浄装置7とゼラチンコーテ
ィング装:I18とを連結して、洗浄されたマイクロプ
レート4を直接ゼラチンコーティング装置8に供給しう
るようにすることにより、排出マガジン17を不要化す
ることも可能である。各マガジン3.17は、位置決め
ピン21を介して所定のセット状態に位置決めされる。
次に、プレート搬送機構部12を介して供給マガジン3
内の、マイクドブレート4を一枚ずつ搬送するのである
が、この搬送手順について第12図、第13図を用いて
説明する。まず、支持枠上動装置73を介して一ヒ動せ
しめられている受は台支持枠50を、カム駆動装置62
を介して下動させる、即ち、モーター65を駆動してカ
ム63を回動させることにより、カムフォロア64を介
して受は台支持枠50を下動せしめる。
次に、パルスモータ−93を駆動させて受は台支持枠5
0を1ピ、チPだけ供給マガジン3方向に移動させる。
この状態を第12図aに示す。この状fBにおいては、
受は台支持枠501−の4対の受は台51のうち最も供
給マガジン3に近接した位置の−・対の受は台51が第
12図aにて示すごとく、供給マガジン3内の最下段の
マイクロプレート4の下方に侵入する。
次に、モーター65を介してカム63を回動し、カム6
3とカムフォロア64との保合を解除する。すると、受
は台支持枠50は、支持枠上動装置73の上動ピン74
を介してL動せしめられ、この上動の際に、供給マガジ
ン3の最下段位置に収納されているマイクロブl/ −
) 4を受は台51にて支持して上動する。この状態を
第12図すにて示すが、図に示すごとくこの状態におい
ては、受は台支持枠50は固定受は台94の上面よりも
」−動する。
次に、パルスモータ−93を介して受は台支持枠50を
1ピツチPだけ排出マガジン17側に移動せしめる。こ
の際には、供給マガジン3内の最下段に収納されていた
マイクロプレート4が1枚供給マガジン3外に排出され
る。この状1ミ1を第12図Cに示す。
次に、モーター65を介してカム63を回動せしめ。上
動せしめられている受は台支持枠50紮下動せしめる。
この下動時には、受は台支持枠50は固定受は台94よ
りも下方位置に下動せしめられ、従って、受け1台51
上に支持されていたマイクロプレート4は固定受は台9
4上に載置される。この状態を第12図dに示す。
次に、マガジン昇降装置20を介して供給マガジン3を
一定ピッチだけ下降せしめる。この下降の際には、セン
サー板34とセンサー35との協働作用により、供給マ
ガジン3を一定ピッチ下降せしめて停止制御させ、10
枚収納されていたマイクロプレート4の」二から9枚目
のマイクロプレート4がすでに搬出されたマイクロプレ
ートのもとの収納位置と同一位置となるように下降制御
する。供給マガジン3の下降操作は、モーター(電磁ブ
レーキ付スピードコントロールモーター)24を駆動し
、昇降杆25を介して支持ベース23を下降させること
により行なう。この状態を第12図eに示す。
次に、受は台支持枠50をパルスモータ−93を介して
供給マガジン17方向に移動せしめ、供給マカジン3に
最も近接した位置の一対の受は台51が供給マガジン3
内の最下段のマイクロプレート4、即ち、上から9枚目
のマイクロプレート4の下方に侵入する。この状態を第
12図fに示す、この第12図fは、第12図aと同様
の状態となり、以下、第12図b−eの手順を順次繰り
返し、供給マガジン3内のマイクロプレート4が次々に
搬出される。そして、この作業は10枚のマイクロプレ
ート4が全て供給マガジン3外に搬出されるまで繰り返
され、各マイクロプレート4は、第13図にて示すごと
く作業部227にて洗浄された後、排出フカジン1フ内
に1枚ずつ搬入(収納)される、排出マガジン17は、
供給マガジン3と同一ピッチにて上昇力制御され、空の
排出マガジン17内に洗浄作業の完了した10枚のマイ
クロプレート4が1枚ずつ次々に収納されるようになっ
ている。
第14図aにて示すごとく。固定受は台94にマイクロ
プレート4が2枚搬送された際には、最先に搬送された
マイクロプレート4は作業部227位置に達する。ここ
で、3枚[1のマイクロプレート4を搬出すべく受は台
支持枠50を上動させると、第14図すにて示すごとく
、マイクロプレート4のマイクロウェルモジュール86
の2ラング部86a(第5図f参照)のに而がストッパ
ープレート83のド面に当接し1作業部227位置のマ
イクロプレート4の各マイクロウェルモジュール86は
、受は台51とストンパープレート83に挟持されて位
置決め固定される。そして、作業部227位置に固定さ
れたマイクロプレート4の各ウェル5内の残液(コーテ
ィング作業時に分注された残液)をノズル106aを介
して排出する。次に、ノズル106bを介して洗浄液を
3回分注するシ11.たけ吸引する。この吸引時には、
液溜り部156の作用により泡立ちし易い洗f′Il液
であっても泡切りされ、シ1ノンジ170への液の侵入
が防止される。次に、ノズル106bから洗浄液を30
0gMだけ各ウェル5内に分注する。ノズル106bは
、ノズル106a力向にり;斜されているので、ノズル
106bから洗浄液を分注する際に/プル106aを洗
浄することができる。又、洗浄液がノズル106aに放
水されるので、ウェル5内壁にコーティングされた洗浄
液をノズル106aを介して排出し、再度洗浄液を −
ノズル106aを介して排出し、再度洗浄液をノズル1
06bを介して300g1各ウエル5内に分注する。こ
のようにして、洗浄液の分注、排出作業を3回繰り返し
て、各ウェル5内をコーティング部を傷めることなく洗
浄する。なお、洗浄液の吸引5Hや3回の分注量は、パ
ルスモータ−X72を介して行われ、シリンジ17 o
 ノ可ut44b171のストロークを制御することに
より所望の吸引呈9分注″U′Lに設定できる。この場
合、3回の各分注−1はそれぞれ各別に設定調整するこ
とができ、各分注J+1のバラツキを補正することがで
きる。なお、固足受は台94に取り付けられたマイクロ
ウェルモジュール検出装置85は、固定受は台94と供
給マガジン3との間に位置するアイドルステーション2
28の受は台511にマイクロウェルモジュール86が
あるかどうかを検知し、マイクロウェルモジュール86
がないときには、機械を停止17て欠品部のマイクロウ
ェルモジュール86を補充する。
作業部227に固定されているマ・fクロプレート4の
各ウェル5に対して洗浄液を分注、排出する作業におい
ては、まず、洗浄液ノズルアーム部13のアーム本体部
100を旋回、上下作動用駆動部118を介して上動せ
しめ、次に、洗浄液分 。
注アーム104が洗浄液棚部14の真上位置に位置する
ように旋回作動させる0次に、アーム本体部100を下
動せしめ、洗浄液分注アーム104の1対のノズル部1
06を洗浄液棚部14の洗浄液147内に挿入する。
次に、洗浄液吸排用の各ノズル106bと連通接続され
たシリンジ170の可動軸171をパルスモータ−17
2を介して下動せしめ、このシリンジ170の吸引作用
を介して洗浄液147を各ノズル106b内に3回分注
量だけ吸引する0次に、アーム本体部100を上動せし
め、しかる後に、旋回、上下作動用駆動部118を介し
てアーム本体部100を反時計方向に90°旋回せしめ
る。この際には、洗浄液分注アーム104が作業部22
7のマイクロプレート4の上方位置にセットされ、液面
検知用アーム105は電極洗浄棚部16の上方位置にセ
ットされる0次に、アーム本体部100を下動せしめる
。この際には、アーム本体部100の一対のノズル部1
06が各ウェル5内に挿入される0次に、シリンジ17
0の可動軸171をパルスモータ−172を介して」二
動せしめ。シリンジ170内の空気の圧縮を介してノズ
ル106b内に吸引されている洗浄液を各ウェル5内に
300g1ずつ3回に分けて分注、排出させて洗浄する
。この作業は、第15図a、bにて示すごとく、A−F
の8列あるウェル5の2列(A列とE列)にまず行なう
。次いで、アーム本体部100を上動せしめ、マイクロ
プレート4を受は台支持枠50を介して1ウ工ル分だけ
矢印229方向に移動せしめる。そして、再びアーム本
体部100を下動せしめ、B列とF列の各ウェル5内に
洗浄液を300W文ずつ3回分注、排出する。このよう
な作業を3凹段り返し、0列とG列及びD列とF列の各
ウェル5内に洗浄液を300pMずつ3回分注、排出す
る。これにより、各ウェル5内の洗浄が完了する。
洗浄液の分注作業が終了したら、アーム本体部100を
−L動せしめ、90°時計力向に旋回する。そして、ア
ーム本体部100を下動せしめ、24木の各ノズル10
6bに試薬溶液147を前記と同様の作業にて必要量(
3回分注量)だけ吸引する。このとき、液面検知用アー
ム105の電極110が分注の完了した各ウェル5内に
挿入され、各ウェル5内に挿入される2本の電極110
(第7図C参照)のインピーダンスの変化により分注さ
れた洗浄液の液面を検知し、液量検知が行われる。
ノズル106bにて洗浄液を吸引し、)E極110によ
る液面検知が完rすると、アーム本体部100か一ヒ動
せしめられ、再びアーム本体部100が90°旋回せし
められる。このときには洗顔されていない次のマイクロ
プレート4が第12図a −fにて示す一連の動作にて
アーム本体部100の下方位置に搬送され、セット(位
置決め固定)される0次に、アーム本体部100が下動
し、24本の各ノズル106b内に吸引した洗浄液をマ
イクロプレート4の各ウェル5内に分注する。この分注
作業については前述したものと同一であるので、その説
明を省略する。ノズル106bによる洗浄液の分注、排
出作業時には、各゛電極110の下部が電極洗浄棚部1
6の洗浄液流水孔212の上方位置に配置され、洗浄液
供給装置215を介して供給される洗浄液217を各′
電極110に流木して各電極110を流木洗浄する。こ
の洗浄の際には、洗浄液流水孔212が2段に形設され
ているので洗浄後の7うれた洗浄液が各電極110に付
着することなく排液タンク223に1,1液される。
各ノズル106bによる各ウェル5への洗浄液の分注作
業、及び各電極110の洗n1作業が完了すると、アー
ム本体部100が4−動し、再び反時計方向に90°旋
回する。そして、アーム本体部100が下動し、各ノズ
ル106bが洗浄液を必要量だけ吸引するとともに、各
電極110が分注の完了したした各ウェル5の液面検知
を行う。
以上の作業を繰り返して、供給マガジン3から次々に搬
送されてくるマイクロプレート4の各ウェル5内を洗浄
する。この作業は、供給マガジン3内の10枚のマイク
ロプレート4が空になるまで連続して行なわれる。作業
中に、マイクロウェルモジュール検出装置85によりマ
イクロウェルモジュール86が欠品状態にあるときには
、機械を停止し、欠品部にマイクロウェルモジュール8
6を充用する。これにより、マイクロウェルモジュール
86が欠品状態で作業部227位置までTl送され、マ
イクロウェルモジュール86の欠品部に洗浄液が供給さ
れて洗浄液が機械に飛散するのを防止することができる
各ウェル5内を洗浄されたマイクロプレート4は、第1
2図a−fにて示す受は台支持枠50の搬送作用により
排出マガジン17内に俳人される。そして、受は台支持
枠50がカム63を介して下切せしめられた際に、排出
マガジン17内に搬入されたマイクロプレート4が、第
13図にて示すごとく空状7E、にある排出マガジン1
7の最上段収納部(支持部)に収納される。そして、受
は台支持枠50が供給マガジン3方向に移動せしめられ
、排出マガジン17外に移動すると、排出マガジン17
をマガジン昇降装置20を介して定ピツチ上動させ、次
のマイクロプレート4が搬入されてくるのを待機する。
排出マガジン17の上方向への定ピッチ送り制御作用は
、供給マガジン3側と同一であるので、その説明を省略
する。
排出マガジン17内に、洗浄が完了したマイクロプレー
ト4が10枚収納されると、排出マガジン17を取り出
し、この排出マガジン17を第1図にて示すごとく次工
程のゼラチンコーティング装置8のマガジン供給部に供
給するのである。。
そして、第1図にて示すごとく、ゼラチンコーティング
装置8.第2のインキュベート装置9゜第2の洗浄装置
10.及び乾煙装置11を経て固相試薬の製造が完γす
る。
洗浄液の残部゛が下限検知用の検知部材155の下端よ
りも低くなるとブザーが警報を発するので、この場合に
は、洗浄液を補給すればよい。
特に、木実薙倒に係る多チャンネル継り装置(多チャン
ネル財毛部)260においては、24本の各ステンレス
パイプ265と1本の継・「265とを連通ずるパツキ
ン264の空室267を小さな容積に設定しであるので
、吸引操作時の応答性が究めて良好となる。又、前後の
アクリυ板262.263が透明体であるので、吸引状
態を外部的に点検でき、保守作業が容易化する。又、多
数のノズル106aに連結されているチューブを真空ポ
ンプ271付近まで長く配管する必要がなくなるので、
配管作業の作業性の向上、省力化、配管の省略化による
コストダウン化が図れる利点がある。
又、全体的な効果としては、多数のノズル106a、1
06bと多数の電8i110とを一体的に構成している
ので、多数のウェル5に対してTl711i壕り、−4
/F〒でキ ロスダイムシ5ガ111.で、パムで靜本
作1に作業できる。
又、゛上極110の洗す部を2段構成にし、洗浄後の汚
水が他に混入しないようにしであるので、清潔に保持さ
れ、製品の品質の向1−が図れる。
又、各ウェル5内の液面検知毎に電極ILOを流水洗浄
しているので、清潔状態が保持され、製品の向−トが図
れる。
又、電極110がクッション構造をイ■するので、電極
llOの先端が外の部位と干渉することがあっても位置
ずれをすることがない利点がある。
[発明の効果] 以−1−のように木g、’J]によれば、多数のノズル
部により排液等を吸引、排出する際の作動応答性能が究
めて向卜するとともに、保守作業における作業性の向上
、配線部のコストタウン化が図れるものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明に係る装置の1実施例を含む固相化試
薬製造装置のしrアウトトコ、第2図a、b、cは、本
発明に係る装置の一実施例の平面図、正面図、側面図、 第3図a、b、c、d、eは、マイクロプレート奢収納
するマガジンの説明図、 第4図は、本実施例の要部を示す斜視図、第5図a、b
、c、d、e、fは、本実施例の要部の説明図、 第6図はa、b、cは、マイクロプレート搬送 ・部の
説明図、 第7図a、b、c、d、e、f、g”i”r、ノズル部
及び電極部の説明図。 第8図a、bは、アーム駆動部の説明図、第9図は、洗
浄液貯蔵部の説明図、 第10図a、b、c、d、e、f、g、h。 i、j、に、1.m、n、o、p、Qは、分注装置部の
説明図、 第11図は、洗?’f1部の説1g1図、第12図a、
b、c、d、e、f、第13図及び第14図a、bは1
本実施例の要部の作用説明図、 第15図a、bは、マイクロプレートへの分注作用説明
図である。 3・・・供給マガジン 4・・・マイクロプレート 5・・・マイクロウェル(試薬固相容器)12・・・プ
レート搬送機構部 13・・・洗浄液ノズルアーム部 14・・・洗浄液棚部 エフ・・・搬出マガジン 106・・・ノズル 106a、106b−・・ノズル 150・・・洗浄液供給ユニット部 170・・・シリンジ 227・・・作業部 228・・・アイドルステーション 260・・・多チャンネルIBL部 261・・・残液排出装置 第3図(a) 第3図(e) 第5図 第7図(d) ”tuba 第8図 第8図 第10図(d) /、E 第10図 第10図 第10図(1,<) 第10図(J ) 第11図 2f5 第12図 第12図 第14図 ■−一

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 試薬固相容器に自動的に試薬を分注して前記容器内壁部
    に試薬を固相化させるように構成してなる固相化試薬製
    造装置における多チャンネル継手装置において、 複数の吸引孔を貫設した第1の部材と、真空ポンプ等の
    真空源と連通接続自在の1個の真空源連結部を有する第
    2の部材と、前記第1の部材と前記真空源連結部との間
    に介設され、前記第1の部材の複数の吸引孔と前記真空
    源連結部とを連通接続する接続空間部を有する第3の部
    材とより構成したことを特徴とする固相化試薬製造装置
    における多チャンネル継手装置。
JP23508286A 1986-10-02 1986-10-02 固相化試薬製造装置における多チヤンネル継手装置 Pending JPS6388459A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008503731A (ja) * 2004-06-24 2008-02-07 テカン・トレーディング・アクチェンゲゼルシャフト 液体サンプル操作用システムにピペットまたはディスペンサチップを配置するための装置および方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2008503731A (ja) * 2004-06-24 2008-02-07 テカン・トレーディング・アクチェンゲゼルシャフト 液体サンプル操作用システムにピペットまたはディスペンサチップを配置するための装置および方法

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