JPS6377196A - Manufacture of copper cladded multilayer board with glazed resistor - Google Patents

Manufacture of copper cladded multilayer board with glazed resistor

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JPS6377196A
JPS6377196A JP61223070A JP22307086A JPS6377196A JP S6377196 A JPS6377196 A JP S6377196A JP 61223070 A JP61223070 A JP 61223070A JP 22307086 A JP22307086 A JP 22307086A JP S6377196 A JPS6377196 A JP S6377196A
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JP
Japan
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resistor
paste
glazed
copper
fired
Prior art date
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JP61223070A
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Japanese (ja)
Inventor
誠一 中谷
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Abstract] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、“半導体IC,チップ部品などを搭載し、か
つそれらを相互配線したグレーズ抵抗体付銅多層基板の
製造方法に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of Industrial Application The present invention relates to a method for manufacturing a copper multilayer substrate with a glazed resistor on which semiconductor ICs, chip components, etc. are mounted and interconnected.

従来の技術 セラミック配線基板に用いられる導体用ペースト材料に
は従来から貴金属ではAu、 Au−Pt。
Conventional technology Conductor paste materials used in ceramic wiring boards have traditionally been made of noble metals such as Au and Au-Pt.

Ag−Pt、Ag−Pdなどが、卑金属では、W。Ag-Pt, Ag-Pd, etc. are W as base metals.

Mo、Mo−Mn等の高融点金属がある。前者のAu、
Au−Pt、Ag−PL、Ag−Pd等の貴金属ペース
トは、空気中で焼付けが出来、信頼性が高いと言う反面
、コストが高いと言う問題を抱えている。また後者のW
、Mo、Mo−Mn等の高融点金属は1600℃程度、
すなわちグリーンシート焼結温度(約1500℃)以上
ので同時焼成するため多層化がしやすいが、電気抵抗が
高く、還元雰囲気中で焼成する必要があるため危険であ
る。などの問題を有しており、さらにハンダ付けが直接
できないため、導体表面にNi等によるメッキ処理を施
す必要があるという欠点があり、業界に広く受は入れら
れない原因となっている。
There are high melting point metals such as Mo and Mo-Mn. The former Au,
Noble metal pastes such as Au-Pt, Ag-PL, and Ag-Pd can be baked in air and are highly reliable, but have the problem of high cost. Also, the latter W
, Mo, Mo-Mn and other high melting point metals are around 1600℃,
That is, since the temperature is higher than the green sheet sintering temperature (approximately 1500° C.), it is easy to form multiple layers because they are fired simultaneously, but it is dangerous because the electrical resistance is high and it is necessary to fire in a reducing atmosphere. Furthermore, since it cannot be directly soldered, it is necessary to plate the conductor surface with Ni or the like, which is the reason why it is not widely accepted in the industry.

そこで近年、安価で電気抵抗が低く、ハンダ付は性の良
好なCuが注目されており、各方面で、実用化のための
取組が活発に行なわれている。ここでCuペーストを用
いたセラミック配線基板の製造方法の一列を述べる。ア
ルミナ等の焼結済基板に、Cuペーストを用いてスクリ
ーン印刷し、配線パターンを形成し、乾燥の後、Cuの
融点以下の温度でCuが酸化されず、導体ペースト中の
有機バインダが充分に分解除去されるように酸素分圧を
コントロールした窒素雰囲気中で焼成するというもので
ある。さらにCuペーストを用いたセラミック多層基板
では、さらに絶縁ペーストの印刷を行ない、前記のCu
ペーストと、絶縁ペーストの印刷、焼成をくり返えり行
なって多層化するものである。
Therefore, in recent years, attention has been focused on Cu, which is inexpensive, has low electrical resistance, and has good solderability, and efforts are being actively made in various fields to put it into practical use. Here, a method for manufacturing a ceramic wiring board using Cu paste will be described. Screen printing is performed using Cu paste on a sintered substrate such as alumina to form a wiring pattern, and after drying, the Cu is not oxidized at a temperature below the melting point of Cu and the organic binder in the conductor paste is fully absorbed. The process involves firing in a nitrogen atmosphere with controlled oxygen partial pressure so that it is decomposed and removed. Furthermore, in ceramic multilayer substrates using Cu paste, an insulating paste is further printed, and the Cu paste described above is printed.
The paste and insulating paste are printed and fired repeatedly to form multiple layers.

発明が解決しようとする問題点 しかしながら一般にCuペーストを用いる多層基板には
以下のような問題点がある。即ちCu”Q極を得るには
窒素中で焼成を行う必要があるため、窒素中においても
充分に安定な抵抗体、誘導体。
Problems to be Solved by the Invention However, multilayer substrates using Cu paste generally have the following problems. That is, in order to obtain a Cu''Q electrode, it is necessary to perform firing in nitrogen, so resistors and dielectrics are sufficiently stable even in nitrogen.

オーバーコート材が要求される。しかしながら、これら
の材料に充分なものがないのが現状であり、窒素焼成可
能なこれらの材料の開発が各方面で活発に行なわれてい
る。特に抵抗体についてはRuO□を用いない新しいタ
イプの材料システムが提案されている。(ドナ・エル・
ハフキー。クラーク・ケイ・フィンシャー アイイーイ
ーイー。
Overcoat material is required. However, the current situation is that there are not enough of these materials, and the development of these materials that can be fired with nitrogen is actively being carried out in various fields. Especially for resistors, new types of material systems that do not use RuO□ have been proposed. (Donna Elle
huff key. Clark Kay Finsher Aiiiiiii.

トランザクション・オン コンポーネンツ、ハイブリッ
ズ アンド マニュファクチャーリングテクノロジー1
984,12月 CHMT−7No、  4 (DAN
A  L、  RAN  KEY  and  CLA
RK  K。
Transactions on Components, Hybrid and Manufacturing Technology 1
984, December CHMT-7No. 4 (DAN
A L, RAN KEY and CLA
RKK.

FISHERJEERTRANSACTIONS  O
F  COMPONENTS。
FISHERJEERTRANSACTIONS O
F COMPONENTS.

1(YBR[DS  AND”MUNUTACTIJR
ING  TECHNOLOGY、 VoLCHMT 
−7,No、  4. DECEMBER1984) 
1 (YBR[DS AND”MUNUTACTIJR
ING TECHNOLOGY, VoLCHMT
-7, No, 4. DECEMBER1984)
.

しかしこれらの材料にもいくつかの問題点を有している
。それは、第1に特殊な材料系を用いるため、シート抵
抗が必要な領域全体(10Ω/口〜IMΩ/口)をカバ
ーすることが困難で下の抵抗域だけをカバーするものと
か、上の抵抗域のみをカバーするものとなりやすい、ま
た抵抗ペーストを焼きつける時に、ペースト内の有機バ
インダの除去が困難であることが上げられる。そして残
存バインダがカーボンの形で残り、抵抗ペースト中のガ
ラスの溶融をさまたげ、不充分な抵抗体しか形成されな
くなる。以上のような問題点を有しているため、なかな
か実用化までには年月を要すると考えられる。そこで、
一部に以下のような方法が提案されている。それは空気
中焼成では最も良く用いられるRu○2系材料全材料か
じめ空気中で焼成し、その上に低温(550〜600℃
)で焼成し得るCuペーストを用いて電極を形成すると
いうものである。(クリストファー・アール・ニス・ニ
ーズ インターナショナル マイクロエレクトロニクス
 コンファレンス 1982年議事fi  Chris
topher  R、S 、 NeedesInter
natinal Microelectronics 
Conferencel 982   Proceed
ings)  。
However, these materials also have some problems. Firstly, because it uses a special material system, it is difficult to cover the entire area where sheet resistance is required (10 Ω/mm to IM Ω/mm), and it is difficult to cover only the lower resistance range, or the upper resistance range. Furthermore, when baking the resistor paste, it is difficult to remove the organic binder in the paste. Residual binder then remains in the form of carbon and prevents melting of the glass in the resistor paste, resulting in insufficient resistor formation. Because of the problems mentioned above, it is thought that it will take many years before it can be put into practical use. Therefore,
Some of the following methods have been proposed. All Ru○2 materials, which are most commonly used in air firing, are fired in advance in the air, and then at a low temperature (550 to 600℃).
) The electrodes are formed using a Cu paste that can be fired. (Christopher Niss International Microelectronics Conference 1982 Proceedings fi Chris
topher R, S, NeedsInter
national Microelectronics
Conference 982 Proceedings
ings).

この方法によれば、空気中で非常に安定であるRu○2
ペーストを用い、かつRuO□が窒素中で還元される温
度以下(600℃)でCu電極を形成するというもので
、RuO□抵抗体とCu電極の両者の良い面を組合せた
ものといえる。しかし問題点もある。それは、後に焼成
するCu電極の焼成温度が通常用いられる温度(約90
0°C)より低いため、接着強度が弱いという点である
According to this method, Ru○2, which is very stable in air,
A Cu electrode is formed using a paste at a temperature below the temperature at which RuO□ is reduced in nitrogen (600° C.), and can be said to be a combination of the good aspects of both a RuO□ resistor and a Cu electrode. However, there are also problems. This is because the firing temperature of the Cu electrode that will be fired later is the normally used temperature (approximately 90°C).
0°C), the adhesive strength is weak.

問題点を解決するための手段 以上のような、グレーズ抵抗体を付加したCuハイブリ
ッドICの問題を解決するため本発明は、Ru 02抵
抗ペーストを用い空気中で焼成を行なって後、Cu電極
ペーストを用いて前記グレーズ抵抗体の電極部及び回路
パターンの印刷を行う。
Means for Solving the Problems In order to solve the above-mentioned problems of Cu hybrid ICs with added glaze resistors, the present invention uses Ru 02 resistor paste, performs firing in air, and then uses Cu electrode paste. The electrode portion and circuit pattern of the glaze resistor are printed using the glaze resistor.

そして600℃以下の軟化点を有するガラスとセラミッ
クを混合した粉末を主成分とする絶縁ペーストでグレー
ズ抵抗体部分が外部に露出せず、かつ回路パターンを上
部と接続し得るようにバイア部を形成する部分以外全面
印刷を行い、高温(800℃)以上でN2中焼成を行う
、最後に、上層部にCuペーストでパターン印刷をし、
同じく高温でN2焼成を行うものである。
Then, a via section is formed using an insulating paste mainly composed of powder mixed with glass and ceramic with a softening point of 600 degrees Celsius or less so that the glaze resistor part is not exposed to the outside and the circuit pattern can be connected to the upper part. The entire surface is printed except for the parts to be printed, and fired in N2 at a high temperature (800°C) or higher.Finally, a pattern is printed on the upper layer with Cu paste,
Similarly, N2 firing is performed at a high temperature.

作用 本発明は、上記の構成の絶縁ペーストを用いることによ
り、高温時に還元されるR u O2をN2雰囲気より
保護し、Cuの接着力を増大せしめることが出来るもの
である。即ち、空気中で一度焼成したグレーズ抵抗体を
Cu電極の印刷後、絶縁ペーストで被覆し、N2中で焼
成する時600℃前後で絶縁ペースト中のガラス成分が
軟化し、グレーズ抵抗体を密閉してしまうため、Ru 
O2などの抵抗体成分が還元されることは無い。そして
さらに高温に保持しCuのメタライズをはかると同時に
絶縁材の結晶化及び、アルミナ等のセラミックと反応に
より焼結を行う、さらに最上層部にCuペーストを印刷
焼成する。この時絶縁材料は、結晶化もしくは、セラミ
ックとの反応により高軟化点化しているので軟化するこ
とは無い。
Function: By using the insulating paste having the above-mentioned structure, the present invention can protect R u O2, which is reduced at high temperatures, from the N2 atmosphere and increase the adhesive strength of Cu. That is, after printing Cu electrodes on a glazed resistor that has been fired in air, it is covered with an insulating paste, and when it is fired in N2, the glass component in the insulating paste softens at around 600°C, sealing the glazed resistor. Ru
Resistor components such as O2 are not reduced. Then, it is further held at a high temperature to metallize the Cu, simultaneously crystallize the insulating material and sinter it by reacting with ceramics such as alumina. Furthermore, a Cu paste is printed and fired on the top layer. At this time, the insulating material does not soften because it has a high softening point due to crystallization or reaction with the ceramic.

以上のようにして得られた本発明のグレーズ抵抗体付C
uハイブリッドICは、RuO□等の空気中焼成用グレ
ーズ抵抗体の良い点く精度良い抵抗形成、高い信顛性、
低TCR等)をそのまま利用出来るばかりでなく、高温
でCuの焼成を行うことが出来るので、高い信穎性のC
uメタライズが得られるものである。さらに、Cuペー
ストと絶縁ペーストの印刷、もしくは印刷焼成を所望の
回数くり返して行うことで、多層化が容易に可能である
。以下その実施例を述べる。
C with glazed resistor of the present invention obtained as above
The u-hybrid IC features high precision resistance formation, high reliability,
Not only can you use Cu as is (low TCR, etc.), but you can also sinter Cu at high temperatures, making it highly reliable.
U metallization can be obtained. Furthermore, by repeating printing or printing and firing of Cu paste and insulating paste a desired number of times, multilayering can be easily achieved. An example will be described below.

実施例 96%Al2O3基板の表面に、第1表に示したRuO
□系抵抗ペーストを、250メツシユ、5μm乳剤厚の
スクリーンで印刷を行ない、120℃10分間の乾燥の
後850℃(ピーク10分)のメツシュベルト炉にて、
空気中焼成した。この状態を第1図+a+に示す。図に
おいて1はアルミナ基板、2は、前記抵抗体である。
Example 9 RuO shown in Table 1 was applied to the surface of a 6% Al2O3 substrate.
The □-based resistance paste was printed on a screen with a 250 mesh and 5 μm emulsion thickness, and after drying at 120°C for 10 minutes, it was heated in a mesh belt furnace at 850°C (peak 10 minutes).
Fired in air. This state is shown in FIG. 1+a+. In the figure, 1 is an alumina substrate, and 2 is the resistor.

(以 下 余 白) 第1表:使用した抵抗ペースト 焼成膜厚 12.5μmの時 次に、Cuペースト(Dupont社製#9153)を
用いて350メツシユ5μm乳剤厚のスクリーンにて、
印刷を行なった。第1図(blにその状態を示す。図に
おいて3は、前記Cu電極である。さらに硼珪酸ガラス
(コーニング社製#7059)を粉砕し平均粒径1.8
μmとしたものと、アルミナ(平均粒径0.3μm)粉
末を50150wt%混合し、有機バインダを含むソル
ベントと、三段ロールにて混練しペースト化した。そし
てこの絶縁ペーストを、所定のビア形成部を残して前記
抵抗部分を被覆するように印刷する。印刷条件は、25
0メフシ工10μm乳剤厚である。この時完全に抵抗体
をN2雰囲気から保護するため望ましくは、2回以上印
刷をくり返し、印刷時のピンホールなどの現象の確率を
少くするべきである0以上のようにして作製したものを
、窒素中(0□量 1100pp以下)で900℃、ピ
ーク10分のメツシュベルトにて焼成を行なった。その
断面を第1図fclに示す。この時02’tQ度はなる
べく少い方が良いが、有機バインダの分解とCuのメタ
ライズを考慮すれば、10〜50ppm程度が最も望ま
しい。そして次に、前記と同じCuペーストを用いて最
上層部の電極形成を行う。印刷及び焼成条件は、上記と
同しである。
(Margins below) Table 1: Resistance paste fired film thickness used: 12.5 μm Next, using Cu paste (#9153 manufactured by DuPont), a 350 mesh screen with an emulsion thickness of 5 μm was used.
I printed it. The state is shown in Fig. 1 (bl). In the figure, 3 is the Cu electrode. Further, borosilicate glass (#7059 manufactured by Corning) was crushed to have an average particle size of 1.8.
50,150 wt % of alumina (average particle size: 0.3 μm) powder was mixed and kneaded with a solvent containing an organic binder using a three-stage roll to form a paste. Then, this insulating paste is printed so as to cover the resistor portion, leaving a predetermined via forming portion. The printing conditions are 25
The emulsion thickness is 10 μm. At this time, in order to completely protect the resistor from the N2 atmosphere, it is preferable to repeat printing two or more times to reduce the probability of phenomena such as pinholes during printing. Firing was performed in nitrogen (0□ amount 1100 pp or less) at 900° C. on a mesh belt with a peak time of 10 minutes. Its cross section is shown in FIG. 1fcl. At this time, it is better that the 02'tQ degree is as low as possible, but in consideration of the decomposition of the organic binder and the metallization of Cu, it is most preferably about 10 to 50 ppm. Then, the same Cu paste as above is used to form an electrode in the uppermost layer. Printing and firing conditions are the same as above.

以上のようにして得られた基板の断面図を第1図+dl
に示す。4は前記絶縁層、5は最上層Cuである。そし
て、従来の方法で作製した第1表に示す抵抗体の抵抗特
性と比較した。従来の方法とは、Ag/Pd電極を印刷
、焼成(空気中)の後前記抵抗値ペーストを印刷、焼成
(空気中)したもので第2図にその構成を示す。
Figure 1 + dl is a cross-sectional view of the substrate obtained as described above.
Shown below. 4 is the insulating layer, and 5 is the uppermost Cu layer. Then, a comparison was made with the resistance characteristics of the resistor shown in Table 1 produced by a conventional method. In the conventional method, an Ag/Pd electrode is printed and fired (in air), and then the resistance paste is printed and fired (in air), and the structure thereof is shown in FIG.

比較結果を第2表に示す。The comparison results are shown in Table 2.

(以 下 余 白) 表から明らかなように、空気中で処理した抵抗特性と比
較し、同等の性能が得られることがわかる。またCuの
メタライズ性も96%Aj!208上に形成した場合と
同等のものが得られることがわかった。第3表にその結
果を示す。
(Margin below) As is clear from the table, it can be seen that the same performance can be obtained when compared with the resistance characteristics treated in air. Also, the metallization property of Cu is 96% Aj! It was found that a product equivalent to that obtained when formed on No. 208 was obtained. Table 3 shows the results.

第3表二最上層部のCuメタライズ性 本発明では、絶縁ペーストに硼珪酸ガラスを用いたが6
00℃以下に軟化点を有し、かつ600℃以上の窒素雰
囲気で還元される成分を含まないものであれば良いこと
は言うまでもない。またセラミック材料にアルミナを用
いたが900℃程度の焼成でガラスと反応し高軟化点化
するものであれば良いことは言うまでもない。
Table 3: Cu metallization properties of the uppermost layer In the present invention, borosilicate glass was used as the insulating paste.
Needless to say, it is sufficient that the material has a softening point of 00° C. or lower and does not contain components that are reduced in a nitrogen atmosphere at 600° C. or higher. Further, although alumina is used as the ceramic material, it goes without saying that any material that reacts with glass and has a high softening point when fired at about 900° C. may be used.

発明の効果 本発明は、Cuを用いたハイブリッドIC及びCu多層
基板に高信転のグレーズ抵抗体を付加せしむるに有効な
方法を提供するものである。つまり、絶縁ペーストでグ
レーズ抵抗体を密閉することが出来るため、グレーズ抵
抗体を雰囲気により変質させずに、高温でCuを焼き付
けることができ、Cuのメタライズ性にも著しく効果が
ある。
Effects of the Invention The present invention provides an effective method for adding a high reliability glaze resistor to a hybrid IC using Cu and a Cu multilayer substrate. In other words, since the glazed resistor can be sealed with the insulating paste, Cu can be baked at high temperature without deteriorating the glazed resistor due to the atmosphere, and this is significantly effective in improving the metallization properties of Cu.

また、多層形成も同時に行うことが出来るので極めて効
果的な発明である。
Furthermore, since multilayer formation can be performed simultaneously, this invention is extremely effective.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図(alは本発明によって得られた抵抗体付Cuハ
イブリッドICにおけるグレーズ抵抗体を形成した後の
断面図、第1図Cb)は同Cu電掻の印刷後の断面図、
第1図(C1はさらに絶縁層を形成した後の断面図、第
1図fdlは上層部のCuを形成した断面図、第2図は
従来の空気中焼成による(A g / P d 1pi
)方法で作製したものの概略図である。 1・・・・・・アルミナ基板、2・・・・・・グレーズ
抵抗体、3・・・・・・Cu電i、4・・・・・・絶1
ゑ層、5・・・・・・Cu最上層電極、6・・・・・・
Ag/Pd電極、7・・・・・・グレーズ抵抗体。 代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 ほか1名−N(Y’
)寸り \       へ  、        〜  −\
  ()  ミ ○J    −〜 L′)         、 駕 ″          憾
FIG. 1 (al is a cross-sectional view after forming a glazed resistor in the Cu hybrid IC with a resistor obtained by the present invention, and FIG. 1 Cb is a cross-sectional view after printing the same Cu electric scraper,
Fig. 1 (C1 is a cross-sectional view after further forming an insulating layer, Fig. 1 fdl is a cross-sectional view after forming an upper layer of Cu, Fig. 2 is a cross-sectional view after forming an upper layer of Cu, and Fig. 2 is a cross-sectional view after forming an insulating layer.
) is a schematic diagram of the product produced by the method. 1... Alumina substrate, 2... Glaze resistor, 3... Cu electrode, 4... Absolute 1
E layer, 5... Cu top layer electrode, 6...
Ag/Pd electrode, 7...glaze resistor. Name of agent: Patent attorney Toshio Nakao and one other person -N (Y'
) Dimensions\ to , 〜 −\
() Mi○J −~ L′), 錕″ regret

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims]  焼結済セラミック基板上に、少くとも導体粉末、ガラ
ス粉末及び有機結合材を含むグレーズ抵抗体ペーストで
印刷し、空気中で焼成を行い、前記グレーズ抵抗体形成
済基板に銅ペーストを用いて、前記グレーズ抵抗体の端
子電極部及び回路パターンの印刷を行い、しかる後60
0℃以下の軟化点を有するガラスとセラミックフィラー
の混合粉末を主成分とする絶縁ペーストでグレーズ抵抗
体面が直接外部に露出せず、かつ銅回路パターンの所望
の部分と接続し得るバイアホール部を除いて全面に印刷
を行い前記の銅ペースト印刷と、前記絶縁ペースト印刷
を所定の回数くり返し行い、酸素濃度が100ppm以
下の窒素雰囲気中で800℃以上の温度で焼成を行い、
さらに前記焼成済の基板の最上層部に銅ペーストを用い
て印刷し、酸素濃度が100ppm以下の窒素雰囲気中
で800℃以上の温度で焼成を行うことを特徴とするグ
レーズ抵抗体付銅多層基板の製造方法。
Printing a glazed resistor paste containing at least a conductor powder, a glass powder, and an organic binder on a sintered ceramic substrate, firing it in air, and using a copper paste on the glazed resistor-formed substrate, The terminal electrode portion and circuit pattern of the glaze resistor are printed, and then 60
An insulating paste mainly composed of a mixed powder of glass and ceramic filler with a softening point below 0°C is used to prevent the surface of the glazed resistor from being directly exposed to the outside, and to form a via hole that can be connected to a desired part of the copper circuit pattern. The above-mentioned copper paste printing and the above-mentioned insulating paste printing are repeated a predetermined number of times, followed by baking at a temperature of 800 ° C. or higher in a nitrogen atmosphere with an oxygen concentration of 100 ppm or less,
Further, a copper multilayer board with a glazed resistor is characterized in that the uppermost layer of the fired board is printed using copper paste, and fired at a temperature of 800° C. or higher in a nitrogen atmosphere with an oxygen concentration of 100 ppm or lower. manufacturing method.
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