JPS6376862A - 表面硬化層を有するアルミニウム部材 - Google Patents
表面硬化層を有するアルミニウム部材Info
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- JPS6376862A JPS6376862A JP21876486A JP21876486A JPS6376862A JP S6376862 A JPS6376862 A JP S6376862A JP 21876486 A JP21876486 A JP 21876486A JP 21876486 A JP21876486 A JP 21876486A JP S6376862 A JPS6376862 A JP S6376862A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は表面硬化層をもつアルミニウム部材に関するも
ので、アルミニウム製品を使用する種々の産業分野で利
用できる。
ので、アルミニウム製品を使用する種々の産業分野で利
用できる。
〈従来の技術）
表面硬化層をもつアルミニウム部材としては、アルマイ
ト処理でアルミニウム酸化物層をもつもの、金属溶射法
により得られる鉄−クロミウム溶射層をもつもの、クロ
ミウムめっき層をもつもの、シナール処理により得られ
る銅またはインジウムの金属開化合物層をもつもの等が
知られている。
ト処理でアルミニウム酸化物層をもつもの、金属溶射法
により得られる鉄−クロミウム溶射層をもつもの、クロ
ミウムめっき層をもつもの、シナール処理により得られ
る銅またはインジウムの金属開化合物層をもつもの等が
知られている。
（本発明によって解決される問題点）
しかしアルミニウムの表面に、チタニウム、クロミウム
、ニッケルおよびコバルトのアルミニウム金属間化合物
を含む硬化層をもつアルミニウム部材は知られていない
。
、ニッケルおよびコバルトのアルミニウム金属間化合物
を含む硬化層をもつアルミニウム部材は知られていない
。
本発明はアルミニウム母材と一体性がよいチタニウム、
クロミウム、ニッケルおよびコバルトのアルミニウム金
属間化合物を含む硬化層をもつアルミニウム部材を提供
することを目的とする。
クロミウム、ニッケルおよびコバルトのアルミニウム金
属間化合物を含む硬化層をもつアルミニウム部材を提供
することを目的とする。
（問題点を解決するための手段）
本発明の表面硬化層を有するアルミニウム部材は、少な
くとも表面の一部に、チタニウム、クロミウム、ニッケ
ルおよびコバルトの各アルミニウム金属間化合物の１種
または２種以上を含む表面硬化層を有するアルミニウム
あるいはアルミニウム合金を母材とすることを特徴とす
る。
くとも表面の一部に、チタニウム、クロミウム、ニッケ
ルおよびコバルトの各アルミニウム金属間化合物の１種
または２種以上を含む表面硬化層を有するアルミニウム
あるいはアルミニウム合金を母材とすることを特徴とす
る。
本発明の表面硬化層を有するアルミニウム部材は棒材、
板材あるいは容器状等所定の形状をもつ。
板材あるいは容器状等所定の形状をもつ。
本発明のアルミニウム部材を構成する母材としては、純
アルミニウムまたはアルミニウム合金が使用できる。
アルミニウムまたはアルミニウム合金が使用できる。
表面硬化層は、チタニウム、クロミウム、ニッケルおよ
びコバル１への各アルミニウム金属間化合物の１種また
は２種以上を含む層である。この表面硬化層はアルミニ
ウム部材の一部表面に形成されているものでも全表面に
形成されているものでもよい。アルミニウム金属間化合
物としてはＡ１３Ｔ＋、Ａｌ ｘＮｉ、Ａｌｚｃｒおよ
びＡｌ５Ｃ０２を挙げることができる。これらアルミニ
ウム金属間化合物は母材金属の表面部分を構成あるいは
表面部分に分散して表面硬化層を形成している。
びコバル１への各アルミニウム金属間化合物の１種また
は２種以上を含む層である。この表面硬化層はアルミニ
ウム部材の一部表面に形成されているものでも全表面に
形成されているものでもよい。アルミニウム金属間化合
物としてはＡ１３Ｔ＋、Ａｌ ｘＮｉ、Ａｌｚｃｒおよ
びＡｌ５Ｃ０２を挙げることができる。これらアルミニ
ウム金属間化合物は母材金属の表面部分を構成あるいは
表面部分に分散して表面硬化層を形成している。
表面硬化層の厚さとしては少なくとも２μ程度が好まし
い。
い。
本発明の表面硬化層を有するアルミニウム部材は次の方
法により得られる。まず、母材金属で目的とするアルミ
ニウム部材のもつ所定の形状に加工する。次ぎに、表面
硬化層を必要とする表面部分のみに、得ようとする金属
間化合物を構成する金属の表面被膜を形成する。づ゛な
わち、チタニウム、クロミウム、ニッケル、コバルトま
たはそれらを２種以上含む金属の表面被膜を形成する。
法により得られる。まず、母材金属で目的とするアルミ
ニウム部材のもつ所定の形状に加工する。次ぎに、表面
硬化層を必要とする表面部分のみに、得ようとする金属
間化合物を構成する金属の表面被膜を形成する。づ゛な
わち、チタニウム、クロミウム、ニッケル、コバルトま
たはそれらを２種以上含む金属の表面被膜を形成する。
この表面被膜の形成には真空蒸着等の物理的被膜形成法
（ＰＶＤ）を採用するのが好ましい。これは母材表面に
強固なる付着力の金属被膜が形成できるからである。Ｐ
ＶＤとしては上記した真空蒸着以外にスパッタリング、
イオンブレーティング青の手法を採用できる。４にお、
ＰｖＤにおいてアルミニウム母材表面に金属の表面被膜
を形成する前にアルゴンスパッタリング等でエツチング
を行いアルミニウム母材表面のアルミニウム酸化物を除
去してもＪ：いし、また該アルミニウム酸化物は除去１
．なくてもよい。なお、母材表面に酸化物が介在するこ
となく金属の表面被膜が得られるのであればＰＶＤ以外
の方法例えばメッキ法等の化学的被膜形成方法で金属の
表面被膜を形成してもよい。
（ＰＶＤ）を採用するのが好ましい。これは母材表面に
強固なる付着力の金属被膜が形成できるからである。Ｐ
ＶＤとしては上記した真空蒸着以外にスパッタリング、
イオンブレーティング青の手法を採用できる。４にお、
ＰｖＤにおいてアルミニウム母材表面に金属の表面被膜
を形成する前にアルゴンスパッタリング等でエツチング
を行いアルミニウム母材表面のアルミニウム酸化物を除
去してもＪ：いし、また該アルミニウム酸化物は除去１
．なくてもよい。なお、母材表面に酸化物が介在するこ
となく金属の表面被膜が得られるのであればＰＶＤ以外
の方法例えばメッキ法等の化学的被膜形成方法で金属の
表面被膜を形成してもよい。
アルミニウム母材表面に金属被膜を形成した後、この金
属被膜をもつ表面部分を加熱し、金属被膜の金属元素を
母材中に拡散させる。加熱温度は約４５０℃以上、母材
金属の溶融温度以下で行うのが実用的である。加熱時間
は被膜金属が拡散づるのに必要とする時間である。一般
的に加熱温度が高いと拡散速度が早くなり加熱時間は短
くてよい。
属被膜をもつ表面部分を加熱し、金属被膜の金属元素を
母材中に拡散させる。加熱温度は約４５０℃以上、母材
金属の溶融温度以下で行うのが実用的である。加熱時間
は被膜金属が拡散づるのに必要とする時間である。一般
的に加熱温度が高いと拡散速度が早くなり加熱時間は短
くてよい。
−例として純アルミニウム板の表面に真空蒸着で８μｍ
厚さのチタニウム表面被膜を形成したときの６００℃に
おける加熱時間と生成する表面硬１ヒ膜層（化合物層）
の厚さとの関係線図を第１図に示す。表面硬化膜層の厚
さは時間の経過とともに厚くなるが膜生成速度は関門と
ともに遅くなる傾向にある。なＪ３、一部の被膜金属が
拡散せずに残っているものでも目的によっては使用でき
る。また、残った被膜金属は後で機械的あるいは化学的
に除去しても良い。アルミニウムｆＪ材中に拡散した金
属元素は母材金属のアルミニウムと化合してアルミニウ
ム金属間化合物を形成する。すなわち△＋ ３１’ ｉ
、 Ａ Ｉ ３ Ｎ ｉ 、△ＩｚＣｒおよびＡ１９
Ｃ０２等のチタニウム、クロミウム、ニッケルおよびコ
バルトのアルミニウム金属間化合物の１種または２種以
上が形成される。そしてこれら金属間化合物を含む層が
表面硬化層となる。
厚さのチタニウム表面被膜を形成したときの６００℃に
おける加熱時間と生成する表面硬１ヒ膜層（化合物層）
の厚さとの関係線図を第１図に示す。表面硬化膜層の厚
さは時間の経過とともに厚くなるが膜生成速度は関門と
ともに遅くなる傾向にある。なＪ３、一部の被膜金属が
拡散せずに残っているものでも目的によっては使用でき
る。また、残った被膜金属は後で機械的あるいは化学的
に除去しても良い。アルミニウムｆＪ材中に拡散した金
属元素は母材金属のアルミニウムと化合してアルミニウ
ム金属間化合物を形成する。すなわち△＋ ３１’ ｉ
、 Ａ Ｉ ３ Ｎ ｉ 、△ＩｚＣｒおよびＡ１９
Ｃ０２等のチタニウム、クロミウム、ニッケルおよびコ
バルトのアルミニウム金属間化合物の１種または２種以
上が形成される。そしてこれら金属間化合物を含む層が
表面硬化層となる。
〈発明の効果）
本発明の表面硬化層を有するアルミニウム部材の表面硬
化層の硬さは、マイクロビッカース硬度Ｈｖで／１００
〜８１０程度である。アルミニウム母材の硬度がＨＶ４
０〜１８０であるから、表面硬化層の硬度は十分に高い
といえる。
化層の硬さは、マイクロビッカース硬度Ｈｖで／１００
〜８１０程度である。アルミニウム母材の硬度がＨＶ４
０〜１８０であるから、表面硬化層の硬度は十分に高い
といえる。
本発明の表面硬化層を有するアルミニウム部材はその表
面硬化層が有効に作用するアルミニウム製の摺動部材、
耐摩耗部材として使用できる。
面硬化層が有効に作用するアルミニウム製の摺動部材、
耐摩耗部材として使用できる。
（実施例１）
＠（３ｃｍ、横３ｃｍ、高さ１ａｍのＪＩＳ Ａ１０
５０ｐＡ格の純アルミニウムブロック材を真空蒸着装置
の真空室に入れブロック材の表面にチタニウムを真空蒸
着した。これにより、ブロック材の一表面に〜さ３μｍ
のチタニウム表面被膜が１９られた。
５０ｐＡ格の純アルミニウムブロック材を真空蒸着装置
の真空室に入れブロック材の表面にチタニウムを真空蒸
着した。これにより、ブロック材の一表面に〜さ３μｍ
のチタニウム表面被膜が１９られた。
次ぎに、このブロック材を加熱炉に入れ、アルゴン雰囲
気中で６００℃で１時間加熱処理した。なお、このブロ
ック材の溶融温度は約６５０℃である。これにより第２
図に断面顕微鏡写真で示す金属組織をもつ本発明の表面
硬化−を有するアルミニウム部材を得た。第１図の上方
の白い薄い帯状のものが表面硬化層でその下の黒い多数
の点がある部分が母材金属の組織である。この表面硬化
層の厚さは約６μｍであった。次ぎに、この表面硬化層
をＸ線回折にかけ表面硬化層を構成している化合物を分
析した。Ｘ線としては銅のにα線を使用した。得られた
Ｘ線回折の２θとＸ線強度との関係線図を第３図に示す
。なお、第３図中の各ピークに該当する化合物を化学式
で示した。このＸ線回折線図より表面硬化層がアルミニ
ウムチタニウム（Ａｌ３Ｔｉ）であるのが確認された。
気中で６００℃で１時間加熱処理した。なお、このブロ
ック材の溶融温度は約６５０℃である。これにより第２
図に断面顕微鏡写真で示す金属組織をもつ本発明の表面
硬化−を有するアルミニウム部材を得た。第１図の上方
の白い薄い帯状のものが表面硬化層でその下の黒い多数
の点がある部分が母材金属の組織である。この表面硬化
層の厚さは約６μｍであった。次ぎに、この表面硬化層
をＸ線回折にかけ表面硬化層を構成している化合物を分
析した。Ｘ線としては銅のにα線を使用した。得られた
Ｘ線回折の２θとＸ線強度との関係線図を第３図に示す
。なお、第３図中の各ピークに該当する化合物を化学式
で示した。このＸ線回折線図より表面硬化層がアルミニ
ウムチタニウム（Ａｌ３Ｔｉ）であるのが確認された。
なお、金属アルミニウムのピークは母材のアルミニウム
金属のものであると思われる。
金属のものであると思われる。
次ぎに、マイクロビッカース硬度計でこの表面硬化層の
硬度を断面の方向より測定した。この結果表面硬化層の
硬度はＨ■４７０と測定された。
硬度を断面の方向より測定した。この結果表面硬化層の
硬度はＨ■４７０と測定された。
ちなみに母材の純アルミニウムの硬度はＨｖ４３、チタ
ニウム金屑の硬度はＨｖ１８０であった。
ニウム金屑の硬度はＨｖ１８０であった。
次ぎにこのアルミニウム部材の耐摩耗性をみるために、
第４図に摩耗試験の概要を示す様に、外径２５．６ｒｎ
ｍ、内径２０．０ｍｍの焼入れ焼もどし処理をした工具
鋼製の相手材Ｔを１００ｍｍ／ｓｅｃで回転し、木実絶
倒のアルミニウム部材の中央に直径１３．５ｍｍの貫通
孔をあ【プたものを試験片Ｓとして４ｋａ／ｃｍ２の加
重Ｐをか【プ無潤滑で５分間摺動させ、試験片の摩耗量
を測定した。また、比較のために同じアルミニウム部材
の表面に硬質アルマイ１〜被膜、無ｆＩｒ！解ニッケル
めっき被膜、クロミウムめっぎ被膜をそれぞれ形成した
試験片を作り、同じ摩耗条件で摺動させ、各摩耗量を測
定した。結果を第５図の棒グラフに示す。第５図に示す
ように本実施例で得られたアルミニウム部材はアルマイ
ト被膜をもつアルミニウム部材と同程度の優れた低い摩
耗層を示した。
第４図に摩耗試験の概要を示す様に、外径２５．６ｒｎ
ｍ、内径２０．０ｍｍの焼入れ焼もどし処理をした工具
鋼製の相手材Ｔを１００ｍｍ／ｓｅｃで回転し、木実絶
倒のアルミニウム部材の中央に直径１３．５ｍｍの貫通
孔をあ【プたものを試験片Ｓとして４ｋａ／ｃｍ２の加
重Ｐをか【プ無潤滑で５分間摺動させ、試験片の摩耗量
を測定した。また、比較のために同じアルミニウム部材
の表面に硬質アルマイ１〜被膜、無ｆＩｒ！解ニッケル
めっき被膜、クロミウムめっぎ被膜をそれぞれ形成した
試験片を作り、同じ摩耗条件で摺動させ、各摩耗量を測
定した。結果を第５図の棒グラフに示す。第５図に示す
ように本実施例で得られたアルミニウム部材はアルマイ
ト被膜をもつアルミニウム部材と同程度の優れた低い摩
耗層を示した。
（実施例２）
縦３ｃｍ、横３ｃｍ、高さ１ｃｍのＪＩＳ Ａ６０６
１規格のアルミニウム合金ブロック材をイオンブレーテ
ィング装置の真空室に入れブロック材の表面にニッケル
をイオンブレーティングした。これにより、ブロック材
の一表面に厚さ８μｎ１のニッケル表面１！膜が１ｑら
れた。次ぎに、このブロック材を加熱炉に入れ、アルゴ
ン雰囲気中で５５０℃で４時間加熱処理した。なお、こ
のブロック材の溶融温度は５８２〜６５２℃である。こ
れにより第６図に断面顕微鏡写真で示す金属組織をもつ
本発明の表面硬化層を有するアルミニウム部材を得た。
１規格のアルミニウム合金ブロック材をイオンブレーテ
ィング装置の真空室に入れブロック材の表面にニッケル
をイオンブレーティングした。これにより、ブロック材
の一表面に厚さ８μｎ１のニッケル表面１！膜が１ｑら
れた。次ぎに、このブロック材を加熱炉に入れ、アルゴ
ン雰囲気中で５５０℃で４時間加熱処理した。なお、こ
のブロック材の溶融温度は５８２〜６５２℃である。こ
れにより第６図に断面顕微鏡写真で示す金属組織をもつ
本発明の表面硬化層を有するアルミニウム部材を得た。
第６図の上方の灰色の帯状のものが表面硬化層でその下
の黒い多数の点がある部分が母材金属の組織である。こ
の表面硬化層の厚さは約２５μｍであった。次ぎに、こ
の表面硬化層をＸ線回折にかけ表面硬化層を構成してい
る化合物を分析した。Ｘ線としては銅のにα線を使用し
た。得られたｘｒ；ｓ回折の２０とＸ線強度との関係線
図（図示せず）より表面硬化層がアルミニウムニッケル
（ＡｌｉＮｉ）であることがわかった。
の黒い多数の点がある部分が母材金属の組織である。こ
の表面硬化層の厚さは約２５μｍであった。次ぎに、こ
の表面硬化層をＸ線回折にかけ表面硬化層を構成してい
る化合物を分析した。Ｘ線としては銅のにα線を使用し
た。得られたｘｒ；ｓ回折の２０とＸ線強度との関係線
図（図示せず）より表面硬化層がアルミニウムニッケル
（ＡｌｉＮｉ）であることがわかった。
次ぎに、マイクロビッカース硬度計でこの表面硬化層の
硬度を断面の方向より測定した。この結果表面硬化層の
硬度はｆ−１ｖ６１０とよ１１定された。
硬度を断面の方向より測定した。この結果表面硬化層の
硬度はｆ−１ｖ６１０とよ１１定された。
ちなみにＢＪ材のこのアルミニウム合金のの硬度はトＩ
Ｖ１２５、クロミウム金属の硬度はｌ−１ｖ ３００で
あった。
Ｖ１２５、クロミウム金属の硬度はｌ−１ｖ ３００で
あった。
（実施例３）
実施例１と同じ純アルミニウムブロック材をイオンブレ
ーティング装置の真空室に入れブロック材の表面にクロ
ミウムをイオンブレーティングした。これにより、ブロ
ック材の一表面にｊ９さ４μ【ｎのクロミウム表面被膜
がｉ！７られた。次ぎに、このブロック材を加熱炉に入
れ、アルゴン雰囲気中で６１０ ’Ｃで４ ｆｆ５問加
熱処理した。これにより第７図に断面顕微鏡写真で示す
金属！Ｉ織をもつ本発明の表面硬化層を有するアルミニ
ウム部材を１９だ。
ーティング装置の真空室に入れブロック材の表面にクロ
ミウムをイオンブレーティングした。これにより、ブロ
ック材の一表面にｊ９さ４μ【ｎのクロミウム表面被膜
がｉ！７られた。次ぎに、このブロック材を加熱炉に入
れ、アルゴン雰囲気中で６１０ ’Ｃで４ ｆｆ５問加
熱処理した。これにより第７図に断面顕微鏡写真で示す
金属！Ｉ織をもつ本発明の表面硬化層を有するアルミニ
ウム部材を１９だ。
第１図の上方の灰色の波状のものが表面硬化層でその下
の黒い多数の点がある部分が母材金属の組織である。こ
の表面硬化層の厚さは約２０μｍであった。次ぎに、こ
の表面硬化層をＸ線回折にがけ表面硬化層を構成してい
る化合物を分析した。
の黒い多数の点がある部分が母材金属の組織である。こ
の表面硬化層の厚さは約２０μｍであった。次ぎに、こ
の表面硬化層をＸ線回折にがけ表面硬化層を構成してい
る化合物を分析した。
Ｘ線としては銅のにα線を使用した。得られたＸ線回折
の２θとＸ４１強度との関係線図（図示せず）より表面
硬化層がアルミニウムクロミウム（Ａｌｔ Ｃｒ＞であ
ることがわかった。
の２θとＸ４１強度との関係線図（図示せず）より表面
硬化層がアルミニウムクロミウム（Ａｌｔ Ｃｒ＞であ
ることがわかった。
次ぎに、マイクロビッカース硬度計でこの表面硬化層の
硬度をｌｌｉ面の方向より測定した。この結果表面硬化
層の硬度は１］Ｖ ６４０と測定された（実施Ｗ４４） 実施例１と同じ純アルミニウムブロック材をイオンブレ
ーティング装置の真空室に入れブロック材の表面にコバ
ルトをイオンブレーティングした。
硬度をｌｌｉ面の方向より測定した。この結果表面硬化
層の硬度は１］Ｖ ６４０と測定された（実施Ｗ４４） 実施例１と同じ純アルミニウムブロック材をイオンブレ
ーティング装置の真空室に入れブロック材の表面にコバ
ルトをイオンブレーティングした。
これにより、ブロック材の一表面に厚さ８μｍのコバル
ト表面被膜が得られた。次ぎに、このブロック材を加熱
炉に入れ、アルゴン雰囲気中で６１０℃で４時間加熱処
理した。これにより第８図に断面顕微鏡写真で示す金属
組織をもつ本発明の表面硬化層を有するアルミニウム部
材を桁た。第８図の上方の白色とその下にある黒い帯状
のものが表面硬化層であり、さらにその下の黒い多数の
点がある部分が母材金属の組織である。この表面硬化層
の厚さは約１０μｍであった。次ぎに、この表面硬化層
をＸ線回折にかけ表面硬化層を構成している化合物を分
析した。Ｘａとしては銅のにα線を使用した。１りられ
たＸ線回折の２θとＸ線強度との関係線図（図示せず）
より表面硬化層がアルミニウムコバルト（Ａ Ｉ ９
Ｃｏ ｔ ）であることがわかった。
ト表面被膜が得られた。次ぎに、このブロック材を加熱
炉に入れ、アルゴン雰囲気中で６１０℃で４時間加熱処
理した。これにより第８図に断面顕微鏡写真で示す金属
組織をもつ本発明の表面硬化層を有するアルミニウム部
材を桁た。第８図の上方の白色とその下にある黒い帯状
のものが表面硬化層であり、さらにその下の黒い多数の
点がある部分が母材金属の組織である。この表面硬化層
の厚さは約１０μｍであった。次ぎに、この表面硬化層
をＸ線回折にかけ表面硬化層を構成している化合物を分
析した。Ｘａとしては銅のにα線を使用した。１りられ
たＸ線回折の２θとＸ線強度との関係線図（図示せず）
より表面硬化層がアルミニウムコバルト（Ａ Ｉ ９
Ｃｏ ｔ ）であることがわかった。
次ぎに、マイクロごッカース硬度耐でこの表面硬化層の
硬度を断面の方向より測定した。この結果表面硬化層の
硬度はＨＶ ８００と測定された。
硬度を断面の方向より測定した。この結果表面硬化層の
硬度はＨＶ ８００と測定された。
第１図は本発明のアルミニウム部材の製造工程における
加熱１間と得られる化合物層の厚さとの関係を示？１Ｉ
Ｉ２図、第２図は実施例１で１ｑられた表面硬化層の金
属組織を示す顕微鏡写真図、第３図は実施例１の表面硬
化層のＸ線回折線図、第４図は摩耗試験の様子を示す試
験概略図、第５図は表面硬化層の種類と摩耗量の関係を
示すグラフ、第６図は実施例２で得られた表面硬化層の
金属組織を示す顕微鏡写真図、第７図は実施例３で得ら
れた表面硬化層の金１ｉ１［１織を示ず顕微鏡写真図、
第８図は実施例４で得られた表面硬化層の金属組織を示
を顕微鏡写真図である。
加熱１間と得られる化合物層の厚さとの関係を示？１Ｉ
Ｉ２図、第２図は実施例１で１ｑられた表面硬化層の金
属組織を示す顕微鏡写真図、第３図は実施例１の表面硬
化層のＸ線回折線図、第４図は摩耗試験の様子を示す試
験概略図、第５図は表面硬化層の種類と摩耗量の関係を
示すグラフ、第６図は実施例２で得られた表面硬化層の
金属組織を示す顕微鏡写真図、第７図は実施例３で得ら
れた表面硬化層の金１ｉ１［１織を示ず顕微鏡写真図、
第８図は実施例４で得られた表面硬化層の金属組織を示
を顕微鏡写真図である。
Claims (2)
- （１）少なくとも表面の一部に、チタニウム、クロミウ
ム、ニッケルおよびコバルトの各アルミニウム金属間化
合物の１種または２種以上を含む表面硬化層を有するア
ルミニウムあるいはアルミニウム合金を母材とすること
を特徴とする表面硬化層を有するアルミニウム部材。 - （２）アルミニウム金属間化合物はＡｌ＿３Ｔｉ、Ａｌ
＿３Ｎｉ、Ａｌ＿２ＣｒおよびＡｌ＿９Ｃｏ＿２である
特許請求の範囲第１項記載の表面硬化層を有するアルミ
ニウム部材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21876486A JPS6376862A (ja) | 1986-09-17 | 1986-09-17 | 表面硬化層を有するアルミニウム部材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21876486A JPS6376862A (ja) | 1986-09-17 | 1986-09-17 | 表面硬化層を有するアルミニウム部材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6376862A true JPS6376862A (ja) | 1988-04-07 |
Family
ID=16725030
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21876486A Pending JPS6376862A (ja) | 1986-09-17 | 1986-09-17 | 表面硬化層を有するアルミニウム部材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6376862A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01184268A (ja) * | 1988-01-14 | 1989-07-21 | Kobe Steel Ltd | 高耐食性Ａ１−Ｔｉ合金蒸着めっき製品およびその製造方法 |
| US5843473A (en) * | 1989-10-20 | 1998-12-01 | Sequus Pharmaceuticals, Inc. | Method of treatment of infected tissues |
| JP2007139869A (ja) * | 2005-11-15 | 2007-06-07 | Fuji Xerox Co Ltd | 画像形成装置 |
| JP2013058535A (ja) * | 2011-09-07 | 2013-03-28 | Mitsubishi Materials Corp | パワーモジュール用基板、パワーモジュール用基板の製造方法、ヒートシンク付パワーモジュール用基板及びパワーモジュール |
-
1986
- 1986-09-17 JP JP21876486A patent/JPS6376862A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01184268A (ja) * | 1988-01-14 | 1989-07-21 | Kobe Steel Ltd | 高耐食性Ａ１−Ｔｉ合金蒸着めっき製品およびその製造方法 |
| US5843473A (en) * | 1989-10-20 | 1998-12-01 | Sequus Pharmaceuticals, Inc. | Method of treatment of infected tissues |
| JP2007139869A (ja) * | 2005-11-15 | 2007-06-07 | Fuji Xerox Co Ltd | 画像形成装置 |
| JP2013058535A (ja) * | 2011-09-07 | 2013-03-28 | Mitsubishi Materials Corp | パワーモジュール用基板、パワーモジュール用基板の製造方法、ヒートシンク付パワーモジュール用基板及びパワーモジュール |
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