JPS6373260A - Photosensitive body - Google Patents

Photosensitive body

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JPS6373260A
JPS6373260A JP21900386A JP21900386A JPS6373260A JP S6373260 A JPS6373260 A JP S6373260A JP 21900386 A JP21900386 A JP 21900386A JP 21900386 A JP21900386 A JP 21900386A JP S6373260 A JPS6373260 A JP S6373260A
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JP
Japan
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atoms
photoreceptor
film
amount
gas
Prior art date
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Pending
Application number
JP21900386A
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Japanese (ja)
Inventor
Shuji Iino
修司 飯野
Mochikiyo Osawa
大澤 以清
Hideo Yasutomi
英雄 保富
Yumiko Taketomi
武富 由美子
Masanori Fujiwara
正典 藤原
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Minolta Co Ltd
Original Assignee
Minolta Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPS6373260A publication Critical patent/JPS6373260A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
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Abstract

PURPOSE:To enhance charge transfer performance and the performance of an electrophotographic sensitive body by forming as a charge transfer layer an organic plasma polymerized film produced by a low-pressure plasma polymerization reaction of an organic gas and containing alkali metal atoms and oxygen atoms as chemically modifying substances. CONSTITUTION:The photosensitive body is obtained by successively laminating on a conductive substrate 1 the charge transfer layer 2 and the charge generating layer 3. The charge transfer layer 2 is composed of an amorphous solid of carbon and hydrogen atoms produced by the plasma polymerization of hydrocarbon in a gas phase and containing as the chemical modifying substances at least the alkali metal atoms in an amount of 0.1-10atom% of the total constituent atoms and oxygen atoms in an amount of <=7atom% of them, thus permitting charge transfer performance to be stably retained without undergoing deterioration due to the lapse of time.

Description

【発明の詳細な説明】 産xよΩ利■分野 本発明は、電荷発生層と電荷輸送層とを有する感光体に
関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to a photoreceptor having a charge generation layer and a charge transport layer.

従来技術 カールソン法の発明以来、電子写真の応用分野は著しい
発展を続け、電子写真感光体にも様々な材料が開発きれ
実用化されてきた。
BACKGROUND OF THE INVENTION Since the invention of the Carlson method, the field of electrophotography has continued to make remarkable progress, and various materials have been developed and put into practical use for electrophotographic photoreceptors.

従来用いられて来た電子写真感光体材料の主なものとし
ては、非晶質セレン、セレン砒素、セレンテルル、硫化
カドミウム、酸化亜鉛、アモルファスシリコン等の無機
物質、ポリビニルカルバゾール、金属フタロシアニン、
ジスアゾ顔料、トリスアゾ顔料、ペリレン顔料、トリフ
ェニルメタン化合物、トリフェニルアミン化合物、ヒド
ラゾン化合物、スチリル化合物、ピラゾリン化合嵜、オ
キサゾール化合物、オキサジアゾール化合物、等の有機
物質が挙げられる。また、その構成形態としては、これ
らの物質を単体で用いる単層型構成、結着材中に分散さ
せて用いるバインダー型構成、機能別に電荷発生層と電
荷輸送層とを設ける積層型構成等が挙げられる。
The main electrophotographic photoreceptor materials conventionally used include inorganic substances such as amorphous selenium, selenium arsenide, selenium telluride, cadmium sulfide, zinc oxide, amorphous silicon, polyvinyl carbazole, metal phthalocyanine,
Examples include organic substances such as disazo pigments, trisazo pigments, perylene pigments, triphenylmethane compounds, triphenylamine compounds, hydrazone compounds, styryl compounds, pyrazoline compounds, oxazole compounds, and oxadiazole compounds. In addition, the configurations include a single-layer structure in which these substances are used alone, a binder-type structure in which they are dispersed in a binder, and a laminated structure in which a charge generation layer and a charge transport layer are provided for each function. Can be mentioned.

しかしながら、従来用いられて来た電子写真感光体材料
にはそれぞれ欠点があった。その一つとして人体への有
害性が挙げられるが、前述したアモルファスシリコンを
除く無機物質においては、何れも好ましくない性質を持
つものであった。また、電子写真感光体が実際に複写機
内で用いられるためには、帯電、露光、現像、転写、除
電、清掃等の苛酷な環境条件に曝された場合においても
、常に安定な性能を維持している必要があるが、前述し
た有機物質においては、何れも耐久性に乏しく、性能面
での不安定要素が多かった。
However, the electrophotographic photoreceptor materials conventionally used each have drawbacks. One of these is their toxicity to the human body, and all inorganic substances, except for the amorphous silicon mentioned above, have unfavorable properties. In addition, in order for an electrophotographic photoreceptor to be actually used in a copying machine, it must always maintain stable performance even when exposed to harsh environmental conditions such as charging, exposure, development, transfer, neutralization, and cleaning. However, all of the organic substances mentioned above have poor durability and many unstable factors in terms of performance.

このような欠点を解消すべく、近年、有害性を改善し耐
久性に富んだ材料として、グロー放電法により生成され
るアモルファスシリコンの電子写真感光体への応用が進
んで来ている。しかし、アモルファスシリコンは、原料
とじて発火性の強いシランガスを必要とするため、製造
上の危険性が高い。また、シランガスを多量に必要とす
る反面、高価なガスであることから、出来上がった電子
写真感光体も、従来の感光体に比べ大幅に高価なものと
なる。また、成膜速度が遅く、成膜時に爆発性を有する
多量のシラン未分解生成物を粉塵状に発生する等、生産
上の不都合も多い。この粉塵が製造時に感光層中に混入
した場合には、画像品質に著しく悪影響を及ぼす。また
、アモルファスシリコンは、元来、比誘電率が高いため
帯電性能が低く、複写機内で所定の表面電位に帯電する
ためには、帯電器に高出力が要求される。
In order to eliminate such drawbacks, in recent years, amorphous silicon produced by a glow discharge method has been increasingly applied to electrophotographic photoreceptors as a material with improved toxicity and high durability. However, since amorphous silicon requires highly ignitable silane gas as a raw material, it is highly dangerous to manufacture. Furthermore, although a large amount of silane gas is required, since it is an expensive gas, the resulting electrophotographic photoreceptor is also significantly more expensive than conventional photoreceptors. In addition, there are many inconveniences in production, such as the slow film formation rate and the generation of a large amount of explosive undecomposed silane products in the form of dust. If this dust gets mixed into the photosensitive layer during manufacturing, it will significantly adversely affect image quality. Furthermore, since amorphous silicon originally has a high dielectric constant, its charging performance is low, and in order to charge it to a predetermined surface potential in a copying machine, a high output power is required from a charger.

また一方、プラズマ有機重合膜自体は古くより知られて
おり、例えばジエン(H,5hen)及びベル(A。
On the other hand, plasma organic polymerized films themselves have been known for a long time, such as diene (H, 5hen) and bell (A).

T、Bel l)らにより、1973年のジャーナル・
オブ・アプライド・ポリマー・サイエンス(Journ
alof Applied Polymer 5cie
nce)第17巻の885〜892頁において、あらゆ
る有機化合物のガスがら作製きれうる事が、また、同著
者により、1979年のアメリカンケミカルソサエティ
ー(American Chemical 5ocie
ty)発行によるプラズマボリマライゼーション(Pl
asma polymerization)の中でもそ
の成膜性が論じられている。
In 1973, the journal
Journal of Applied Polymer Science
alof Applied Polymer 5cie
nce), Volume 17, pp. 885-892, the same author also reported in the 1979 American Chemical Society that all organic compounds can be made from gas.
Plasma Volimalization (Pl) published by
Asma polymerization), its film formability is also being discussed.

しかしながら従来の方法で作製したプラズマ有機重合膜
は絶縁性を前提とした用途に限って用いられ、即ちそれ
らの膜は通常のポリエチレン膜の如<1018Ωcm程
度の比抵抗を有する絶縁膜と考えられ、或は、少なくと
もそのような膜であるとの認識のもとに用いられていた
。実際に電子写真感光体への用途にしても同様の認識か
ら、保護層、接着層、ブロッキング層、もしくは絶縁層
に限られており、所謂アンダーコート層もしくはオーバ
ーコート層としてしか用いられていなかった。
However, plasma organic polymer films prepared by conventional methods are used only for applications that assume insulation properties, that is, they are considered to be insulating films with a specific resistance of about <1018 Ωcm, like ordinary polyethylene films. Or at least it was used with the recognition that it was such a membrane. Due to the same recognition, its actual use in electrophotographic photoreceptors has been limited to protective layers, adhesive layers, blocking layers, or insulating layers, and has only been used as so-called undercoat layers or overcoat layers. .

例えば、特開昭59−28161号公報には、基板上に
ブロッキング層及び接着層としてプラズマ重合された網
目構造を有する高分子層を設け、その上にアモルファス
シリコン層を設けた感光体が開示されている。特開昭5
9−38753号公報には、基板上にブロッキング層及
び接着層として酸素と窒素と炭化水素の混合ガスから生
成される1013〜1015ΩCmの高抵抗のプラズマ
重合膜を10人〜100人設けた上にアモルファスシリ
コン層を設けた感光体が開示きれている。特開昭59−
136742号公報には、アルミ基板上に設けたアモル
ファスシリコン層内へ光照射時にアルミ原子が拡散する
のを防止するための保護層として1〜5μm程度の炭素
膜を基板表面に形成せしめた感光体が開示きれている。
For example, JP-A-59-28161 discloses a photoreceptor in which a plasma-polymerized polymer layer having a network structure is provided on a substrate as a blocking layer and an adhesive layer, and an amorphous silicon layer is provided thereon. ing. Japanese Patent Application Publication No. 5
Publication No. 9-38753 discloses that a plasma polymerized film with a high resistance of 1013 to 1015 ΩCm generated from a mixed gas of oxygen, nitrogen, and hydrocarbons is provided on a substrate as a blocking layer and an adhesive layer by 10 to 100 people. A photoreceptor provided with an amorphous silicon layer has been disclosed. Unexamined Japanese Patent Publication 1987-
Publication No. 136742 discloses a photoreceptor in which a carbon film of approximately 1 to 5 μm is formed on the surface of the substrate as a protective layer to prevent aluminum atoms from diffusing into the amorphous silicon layer provided on the aluminum substrate during light irradiation. has been fully disclosed.

特開昭60−63541号公報には、アルミ基板とその
上に設けたアモルファスシリコン層との接着性を改善す
るために、接着層として200人〜2μmのダイヤモン
ド状炭素膜を中間に設けた感光体が開示され、残留電荷
の面から膜厚は2μm以下が好ましいときれている。
Japanese Unexamined Patent Publication No. 60-63541 discloses a photosensitive material in which a diamond-like carbon film with a thickness of 200 to 2 μm is provided in the middle as an adhesive layer in order to improve the adhesion between an aluminum substrate and an amorphous silicon layer provided thereon. It is disclosed that the film thickness is preferably 2 μm or less in terms of residual charge.

これらの開示は、何れも基板とアモルファスシリコン層
との間に、所謂アンダーコート層を設けた発明であり、
電荷輸送性についての開示は全くなく、また、a−Si
の有する前記した本質的問題を解決するものではない。
All of these disclosures are inventions in which a so-called undercoat layer is provided between the substrate and the amorphous silicon layer,
There is no disclosure regarding charge transport properties, and a-Si
However, it does not solve the above-mentioned essential problems.

また、例えば、特開昭50−20728号公報、並びに
、米国USP3,956.52.5号公報には、ポリビ
ニルカルバゾール−セレン系感光体の表面に保護層とし
てグロー放電重合によるポリマー膜を0.1〜1μm設
けた感光体が開示されている。特開昭59−21485
9号公報には、アモルファスシリコン感光体の表面に保
護層としてスチレンやアセチレン等の有機炭化水素モノ
マーをプラズマ重合させて5μm程度の膜を形成きせる
技術が開示されている。特開昭60−61761号公報
には、表面保護層として、500人〜2μmのダイヤモ
ンド状炭素薄膜を設けた感光体が開示され、透光性の面
から膜厚は2μm以下が好ましいときれている。特開昭
60−249115号公報には、0.05〜5μm程度
の無定形炭素または硬質炭素膜を表面保護層として用い
る技術が開示され、膜厚が5μmを越えると感光体活性
に悪影響が及ぶとされている。特開BB61−9405
6号公報には、アモルファスシリコンの表面に保護層と
して、疎水性に優れたアモルファスカーボン膜を用いた
アモルファスシリコン感光体が、開示されている。
Furthermore, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 50-20728 and US Pat. No. 3,956.52.5 disclose that a polymer film formed by glow discharge polymerization is applied as a protective layer on the surface of a polyvinylcarbazole-selenium photoreceptor. A photoreceptor having a thickness of 1 to 1 μm is disclosed. Japanese Patent Publication No. 59-21485
No. 9 discloses a technique for forming a protective layer on the surface of an amorphous silicon photoreceptor by plasma polymerizing an organic hydrocarbon monomer such as styrene or acetylene to form a film of about 5 μm. JP-A-60-61761 discloses a photoreceptor provided with a diamond-like carbon thin film of 500 to 2 μm as a surface protective layer, and from the viewpoint of light transmission, the film thickness is preferably 2 μm or less. There is. JP-A-60-249115 discloses a technique using an amorphous carbon or hard carbon film with a thickness of about 0.05 to 5 μm as a surface protective layer, and if the film thickness exceeds 5 μm, the activity of the photoreceptor is adversely affected. It is said that Japanese Patent Publication BB61-9405
No. 6 discloses an amorphous silicon photoreceptor using an amorphous carbon film with excellent hydrophobicity as a protective layer on the surface of amorphous silicon.

これらの開示は、何れも感光体表面に所謂オーバーコー
ト層を設けた発明であり、電荷輸送性についての開示は
全くなく、また、a−Siの有する前記した本質的問題
を解決するものではない。
All of these disclosures are inventions in which a so-called overcoat layer is provided on the surface of a photoreceptor, and there is no disclosure about charge transport properties, and they do not solve the above-mentioned essential problems of a-Si. .

また、特開昭51−46130号公報には、ポリビニル
カルバゾール系電子写真感光体の表面にグロー放電重合
を行なって0.001〜3μmのポリマー膜を形成せし
めた電子写真感光板が開示きれているが、電荷輸送性に
ついては全く言及きれていないし、a−Siの持つ前記
した本質的問題を解決するものではない。
Furthermore, JP-A-51-46130 discloses an electrophotographic photosensitive plate in which a polymer film of 0.001 to 3 μm is formed on the surface of a polyvinylcarbazole electrophotographic photoreceptor by glow discharge polymerization. However, there is no mention of charge transport properties at all, and it does not solve the above-mentioned essential problems of a-Si.

日が解ゝ しようとする「Q 以上の様に、従来、電子写真感光体に用いられているプ
ラズマ有機重合膜は所謂アンダーコート層もしくはオー
バーコート層として使用されていたが、それらはキャリ
アの輸送機能を必要とし、ない膜であって、有機重合膜
が絶縁性で有るとの判断にたって用いられている。−′
従ってその膜厚も高々5μm程度の極めて薄い膜として
しか用いられず、キャリアはトンネル効果で膜中な通過
するか、トンネル効果が期待できない場合には、実用上
の残留電位としては問題にならずに済む程度の薄い膜で
しか用いられていない。
Q As mentioned above, plasma organic polymer films conventionally used in electrophotographic photoreceptors have been used as so-called undercoat layers or overcoat layers, but they are It is a film that does not require a function, and is used based on the judgment that the organic polymer film is insulating.-'
Therefore, it can only be used as an extremely thin film with a thickness of about 5 μm at most, and if the carriers pass through the film due to tunneling effect, or if tunneling effect cannot be expected, it will not be a problem as a practical residual potential. It is only used in thin films that are only small enough to last.

機能分離型電子写真感光体においては、電荷輸送層はキ
ャリア輸送性に圏れている必要があり、キャリア易動度
として少なくとも10−’[cm2/V/5ec1以上
の値が必要である。また、電子写真システムの中で好適
に使用するために帯電性能に優れている必要があり、少
なくとも10[V/μm]以上の耐圧が要求きれ、ざら
に帯電器の負荷を抑えるために比誘電率にして6以下の
値を有する事が好ましい。
In a functionally separated electrophotographic photoreceptor, the charge transport layer must have carrier transport properties, and the carrier mobility must have a value of at least 10 cm2/V/5ec1 or more. In addition, in order to be used suitably in an electrophotographic system, it is necessary to have excellent charging performance, and a withstand voltage of at least 10 [V/μm] is required, and in order to roughly reduce the load on the charger, It is preferable to have a value of 6 or less in terms of ratio.

本発明者らは、プラズマ有機重合膜の感光体への応用を
検討しているうちに、本来絶縁性であると考えられてい
た有機重合膜が、化学的修飾物質として適量のアルカリ
金属原子を添加すること4こより比抵抗が低下し、容易
に好適な電荷輸送性を示し始める事を見出した。その理
論的解釈には本発明者においても不明確点が多く詳細に
亙り言及はできないが、電荷発生層中に捕捉きれている
比較的不安定なエネルギー状態の電子、例えばπ電子、
不対電子、残存フリーラジカル等が、アルカリ金属原子
の混入による分極もしくは立体的構造等の変化により、
電荷輸送性に効果的に寄与するためと推定される。
While considering the application of plasma organic polymer films to photoreceptors, the present inventors discovered that organic polymer films, which were originally thought to be insulating, contained appropriate amounts of alkali metal atoms as chemical modifiers. It has been found that the specific resistance decreases with the addition of 4 or more, and that suitable charge transport properties begin to be easily exhibited. Although the theoretical interpretation has many unclear points even for the present inventors, it is not possible to discuss it in detail, but electrons in a relatively unstable energy state that are trapped in the charge generation layer, such as
Unpaired electrons, residual free radicals, etc. are polarized due to the incorporation of alkali metal atoms or changes in steric structure, etc.
It is presumed that this is because it effectively contributes to charge transport properties.

ざらに、アルカリ金属原子無添加の状態では該重合膜は
、成膜後の時間経過とともに輸送性の低下を発生しやす
い、即ち感度低下を生じ易いが、化学的修飾物質として
アルカリ金属原子を添加することにより、該電荷輸送層
の電荷輸送性が経時劣化を受けることなく安定に確保さ
れることを見出した。さらに、アルカリ金属原子の添加
は、感光体の低電界領域での明減衰特性においても好適
な電位減衰を保証し、所謂LDCの裾野を低くし、残留
電位の発生を著しく防止する効果を有する事を見出した
。ざらに、アルカリ金属原子の添加は、ある程度の膜厚
が要求される電荷輸送層の作製において必須とぎれる成
膜速度を、大幅に改善することを見出した。
Generally speaking, in the state where no alkali metal atoms are added, the polymer film is likely to exhibit a decrease in transport properties over time after film formation, that is, a decrease in sensitivity, but when alkali metal atoms are added as a chemical modifier, It has been found that by doing so, the charge transport properties of the charge transport layer can be stably ensured without being subject to deterioration over time. Furthermore, the addition of alkali metal atoms ensures suitable potential attenuation even in the light attenuation characteristic in the low electric field region of the photoreceptor, lowers the base of so-called LDC, and has the effect of significantly preventing the generation of residual potential. I found out. In general, we have found that the addition of alkali metal atoms significantly improves the film formation rate, which is essential in the production of a charge transport layer that requires a certain level of film thickness.

一方、アルカリ金属原子tこけを添加した場合において
は、上記特長とは別に、経時的な電荷保持能の低下、換
言すれば経時的な暗減衰特性の低下が発生する事を見出
し、これに対し本発明者らは、アルカリ金属原子に加え
て微量の酸素原子を添加する事により、上記特長を損な
うことなく、経時的な暗減衰特性の低下を防止できるこ
とをも見出した。
On the other hand, we found that when alkali metal atoms were added, apart from the above-mentioned features, there was a decrease in charge retention ability over time, in other words, a decrease in dark decay characteristics over time. The present inventors have also discovered that by adding a trace amount of oxygen atoms in addition to alkali metal atoms, it is possible to prevent the dark decay characteristics from deteriorating over time without impairing the above features.

本発明はこれらの新たな知見を利用することにより、a
−Si感光体の持つ前述の如き本質的問題点を全て解消
し、また従来とは全く使用目的も、特性も異なる有機重
合膜、特に有機プラズマ重合膜を電荷輸送層として使用
した感光体を提供する事を目的とする。
The present invention utilizes these new findings to achieve a
-Providing a photoreceptor that eliminates all of the above-mentioned essential problems of Si photoreceptors and uses an organic polymer film, especially an organic plasma polymer film, as a charge transport layer, and has completely different purposes and characteristics from conventional ones. The purpose is to do.

間2点を解決するための手段 本発明は、従来の電子写真感光体が有する欠点を解消し
、電荷輸送層として有機気体の低圧力下でのプラズマ重
合反応により生成された化学的修飾物質としてアルカリ
金属原子と酸素原子を含むプラズマ有機重合膜を有する
ことを特徴とする感光体に関する。該電荷輸送層は、可
視光もしくは半導体レーザー光付近の波長の光に対して
は、明確なる光導電性は有しないが好適な電荷輸送性を
安定に提供し、さらに、帯電能、耐久性、耐候性、耐環
境汚染性等の電子写真感光体性能に優れ、しかも透光性
にも優れるため、特に機能分離型感光体としての積層構
造を形成する場合においても極めて高い自由度が得られ
るものである。
The present invention solves the drawbacks of conventional electrophotographic photoreceptors, and uses a chemical modifier produced by plasma polymerization reaction of an organic gas under low pressure as a charge transport layer. The present invention relates to a photoreceptor characterized by having a plasma organic polymer film containing alkali metal atoms and oxygen atoms. Although the charge transport layer does not have clear photoconductivity for visible light or light with a wavelength near semiconductor laser light, it stably provides suitable charge transport properties, and also has charging ability, durability, It has excellent electrophotographic photoreceptor performance such as weather resistance and environmental pollution resistance, and is also excellent in light transmission, so it can provide an extremely high degree of freedom especially when forming a laminated structure as a functionally separated photoreceptor. It is.

具体的に本発明は、電荷発生層と電荷輸送層とを有する
感光体において、電荷輸送層として炭化水素のプラズマ
重合膜を設け、かつ、該重合膜中に化学的修飾物質とし
て少なくともアルカリ金属原子と酸素原子とを全構成原
子に対して、アルカリ金属原子を0.1乃至10原子%
、酸素原子を7原子%以下含有することを特徴とする感
光体に関する。(以下、本発明によ条該重合膜をa −
C膜と称する)ここで本発明によるa−C膜中の炭素原
子、水素原子、アルカリ金属原子、及び酸素原子の量は
、元素分析の常法、゛例えば有機元素分析、オージェ分
析等を用いる事によって知る事が可能である。
Specifically, the present invention provides a photoreceptor having a charge generation layer and a charge transport layer, in which a hydrocarbon plasma polymerized film is provided as the charge transport layer, and at least an alkali metal atom is added as a chemical modifier in the polymer film. and oxygen atoms in an amount of 0.1 to 10 at% of alkali metal atoms based on the total constituent atoms.
, relates to a photoreceptor characterized by containing 7 at % or less of oxygen atoms. (Hereinafter, the polymer film according to the present invention is a-
Here, the amounts of carbon atoms, hydrogen atoms, alkali metal atoms, and oxygen atoms in the a-C film according to the present invention can be determined using conventional methods of elemental analysis, such as organic elemental analysis and Auger analysis. It is possible to know by facts.

本発明においては、a −C膜を形成するための有機気
体として炭化水素が用いられる。該炭化水素における相
状態は常温常圧において必ずしも気相である必要はなく
、加熱或は減圧等により溶融、蒸発、昇華等を経て気化
しうるものであれば、液相でも固相でも使用可能である
。該炭化水素としては、例えば、飽和炭化水素、不飽和
炭化水素、脂環式炭化水素、芳香族炭化水素、等が用い
られる。
In the present invention, hydrocarbons are used as the organic gas for forming the a-C film. The phase state of the hydrocarbon does not necessarily have to be a gas phase at room temperature and normal pressure; it can be used in either a liquid phase or a solid phase as long as it can be vaporized through melting, evaporation, sublimation, etc. by heating or reduced pressure. It is. Examples of the hydrocarbons used include saturated hydrocarbons, unsaturated hydrocarbons, alicyclic hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, and the like.

使用可能な炭化水素には種類が多いが、飽和炭化水素と
しては、例えば、メタン、エタン、プロパン、ブタン、
ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デ
カン、ウンデカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカ
ン、ペンタデカン、ヘキサデカン、ヘプタデカン、オク
タデカン、ノナデカン、エイコサン、ヘンエイコサン、
トコサン、トリコサン、テトラコサン、ペンタコサン、
ヘキサコサン、ヘプタコサン、′オクタコサン、ノナコ
サン、トリアコンタン、トドリアコンタン、ペンタトリ
アコンタン、等のノルマルパラフィン並びに、イソブタ
ン、イソペンタン、ネオペンタン、イソヘキサン、ネオ
ヘキサン、2.3−ジメチルブタン、2−メチルヘキサ
ン、3−エチルペンタン、2,2−ジメチルペンタン、
2.4−ジメチルペンタン、3.3−ジメチルペンタン
、トリブタン、2−メチルへブタン、3−メチルへブタ
ン、2.2−ジメチルヘキサン、2,2.5−ジメチル
ヘキサン、2.2.3−トリメチルペンタン、2.2.
4−トリメチルペンタン、2゜3.3−トリメチルペン
タン、2,3.4−トリメチルペンタン、イソナノン、
等のイソパラフィン、等が用いられる。不飽和炭化水素
としては、例えば、エチレン、プロピレン、イソブチレ
ン、1−ブテン、2−ブテン、1−ペンテン、2−ペン
テン、2−メチル−1−ブテン、3−メチル−1−ブテ
ン、2−メチル−2−ブテン、1−ヘキセン、テトラメ
チルエチレン、1−ヘプテン、1−オクテン、1−ノネ
ン、1−デセン、等のオレフィン、並びに、アレン、メ
チルアレン、ブタジェン、ペンタジェン、ヘキサジエン
、シクロペンタジェン、等のジオレフィン、並びに、オ
シメン、アロシメン、ミルセン、ヘキサトリエン、等の
トリオレフイン、並びに、アセチレン、ジアセチレン、
メチルアセチレン、1−ブチン、2−ブチン、1−ペン
チン、1−ヘキシン、1−ヘプチン、1−オクチン、1
−ノニン、1−デシン、等が用いられる。脂環式炭化水
素としては、例えば、シクロプロパン、シクロブタン、
シクロベンタン、シクロヘキサン、シクロへブタン、シ
クロオクタン、シクロノナン、シクロデカン、シクロブ
ンテ゛カン、シクロドデカン、シクロブテ°カン、シク
ロテトラデカン、シクロペンタデカン、シクロヘキサデ
カン、等のシクロパラフィン並びに、シクロプロペン、
シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、シク
ロヘプテン、シクロオクテン、シクロノネン、シクロデ
セン、等のシクロオレフィン並びに、リモネン、テルビ
ルン、フエランドレン、シルベストレン、ツエン、カレ
ン、ピネン、ボルニレン、カンフエン、フエンチェン、
シクロデカンチエン、トリシクレン、ビサボレン、ジン
ギベレン、クルクメン、フムレン、カジネンセスキベニ
ヘン、セリネン、カリオフィ、レン、サンタレン、セド
レン、カンホレン、フィロクラテン、ボドカルプレン、
ミレン、等のテルペン並びに、ステロイド等が用いられ
る。芳香族炭化水素としては、例えば、ベンゼン、トル
エン、キシレン、ヘミメリテン、プソイドクメン、メシ
チレン、プレニテン、イソジュレン、ジュレン、ペンタ
メチルベンゼン、ヘキサメチルベンゼン、エチルベンゼ
ン、プロピルベンゼン、クメン、スチレン、ビフェニル
、テルフエニノ区ジフェニルメタン、トリフェニルメタ
ン、ジベンジル、スチルベン、インデン、ナフタリン、
テトラリン、アントラセン、フェナントレン、等が用い
られる。
There are many types of hydrocarbons that can be used, but examples of saturated hydrocarbons include methane, ethane, propane, butane,
Pentane, hexane, heptane, octane, nonane, decane, undecane, dodecane, tridecane, tetradecane, pentadecane, hexadecane, heptadecane, octadecane, nonadecane, eicosane, heneicosane,
tocosan, tricosane, tetracosan, pentacosan,
Normal paraffins such as hexacosane, heptacosane, 'octacosane, nonacosane, triacontane, todoriacontane, pentatriacontane, etc., as well as isobutane, isopentane, neopentane, isohexane, neohexane, 2.3-dimethylbutane, 2-methylhexane, 3 -ethylpentane, 2,2-dimethylpentane,
2.4-dimethylpentane, 3.3-dimethylpentane, tributane, 2-methylhebutane, 3-methylhebutane, 2.2-dimethylhexane, 2,2.5-dimethylhexane, 2.2.3- Trimethylpentane, 2.2.
4-trimethylpentane, 2゜3.3-trimethylpentane, 2,3.4-trimethylpentane, isonanone,
and other isoparaffins, etc. are used. Examples of unsaturated hydrocarbons include ethylene, propylene, isobutylene, 1-butene, 2-butene, 1-pentene, 2-pentene, 2-methyl-1-butene, 3-methyl-1-butene, 2-methyl -Olefins such as 2-butene, 1-hexene, tetramethylethylene, 1-heptene, 1-octene, 1-nonene, 1-decene, and allene, methylalene, butadiene, pentadiene, hexadiene, cyclopentadiene, diolefins such as ocimene, allocimene, myrcene, hexatriene, and acetylene, diacetylene,
Methylacetylene, 1-butyne, 2-butyne, 1-pentyne, 1-hexyne, 1-heptyne, 1-octyne, 1
-nonine, 1-decyne, etc. are used. Examples of alicyclic hydrocarbons include cyclopropane, cyclobutane,
Cycloparaffins such as cyclobentane, cyclohexane, cyclohebutane, cyclooctane, cyclononane, cyclodecane, cyclobuntecane, cyclododecane, cyclobutecane, cyclotetradecane, cyclopentadecane, cyclohexadecane, and cyclopropene,
Cycloolefins such as cyclobutene, cyclopentene, cyclohexene, cycloheptene, cyclooctene, cyclononene, cyclodecene, limonene, terbirun, phelandrene, sylvestrene, thuen, carene, pinene, bornylene, kunghuen, fuenchen,
Cyclodecanethene, tricyclene, bisabolene, zingiberene, curcumene, humulene, kajinensesesquibenichen, selinene, caryophyllene, ren, santarene, cedrene, campholene, phylloclatene, bodocarprene,
Terpenes such as mylene, steroids, etc. are used. Examples of aromatic hydrocarbons include benzene, toluene, xylene, hemimelithene, pseudocumene, mesitylene, prenitene, isodurene, durene, pentamethylbenzene, hexamethylbenzene, ethylbenzene, propylbenzene, cumene, styrene, biphenyl, diphenylmethane, triphenylmethane, dibenzyl, stilbene, indene, naphthalene,
Tetralin, anthracene, phenanthrene, etc. are used.

本発明におけるa −C膜中に含まれる水素原子の量は
、炭素原子と水素原子の総量に対して0゜1乃至67原
子%、好適には30乃至60原子%である。水素原子の
量が0.1原子%より低い場合には、輸送性能が低下し
必ずしも好適な光感度が得られない。水素原子の量が6
7原子%より高い場合には、帯電能の低下と成膜性の劣
化を招く。
The amount of hydrogen atoms contained in the a-C film in the present invention is 0.1 to 67 at.%, preferably 30 to 60 at.%, based on the total amount of carbon atoms and hydrogen atoms. If the amount of hydrogen atoms is less than 0.1 atomic %, transport performance deteriorates and suitable photosensitivity cannot necessarily be obtained. The amount of hydrogen atoms is 6
If it is higher than 7 at %, the charging ability will be lowered and the film forming properties will be deteriorated.

本発明におけるa −C膜中に含まれる水素原子の量は
、成膜装置の形態並びに成膜時の条件により変化させる
ことか可能であり、水素量を低くするには、例えば、基
板温度を高くする、圧力を低くする、原料炭化水素ガス
の希釈率を低くする、水素原子含有率の低い原料ガスを
用いる、印加電力を高(する、交番電界の周波数を低く
する、交番電界に重畳せしめた直流電界強度を高くする
、等の手段、或は、これらの手段の組合せにより制御す
る事が可能である。
The amount of hydrogen atoms contained in the a-C film in the present invention can be changed depending on the form of the film forming apparatus and the conditions during film forming.In order to lower the hydrogen amount, for example, the substrate temperature can be changed. Increase the applied power, lower the pressure, lower the dilution rate of the raw material hydrocarbon gas, use a raw material gas with a lower hydrogen atom content, increase the applied power, lower the frequency of the alternating electric field, superimpose it on the alternating electric field. This can be controlled by means such as increasing the DC electric field strength, or by a combination of these means.

本発明における電荷輸送層としてのa −C膜の膜厚は
、通常の電子写真プロセスで用いるためには、5乃至5
0tim、特に7乃至20L1mが遮当であり、5μm
より簿いと、帯電電位が低いため充分な複写画像濃度を
得る事が出来ない。また、50μmより厚いと、生産性
の面で好ましくない。このa−C膜は、高透光性、高暗
抵抗を有するとともに電荷輸送性に富み、膜厚を上記の
様に5μm以上としてもキャリアはトラップされること
なく輸送され効果的に明減衰に寄与する事が可能である
The thickness of the a-C film as the charge transport layer in the present invention is 5 to 5
0tim, especially 7 to 20L1m is blocking, 5μm
If the density is lower, the charged potential will be lower and sufficient density of the copied image cannot be obtained. Moreover, if it is thicker than 50 μm, it is not preferable in terms of productivity. This a-C film has high light transmittance, high dark resistance, and is rich in charge transport properties, and even if the film thickness is 5 μm or more as mentioned above, carriers are transported without being trapped, effectively reducing light attenuation. It is possible to contribute.

本発明においては炭化水素の他に、a−C膜中に少なく
ともアルカリ金属原子を添加するためにアルカリ金属化
合物が使用される。ここでアルカリ金属原子とは、リチ
ウム原子、ナトリウム原子、カリウム原子、ルビジウム
原子、及びセシウム原子を云う。該アルカリ金属化合物
ガスにおける相状態は常温常圧において必ずしも気相で
有る必要はなく、また、むしろ気相状態の化合物は少な
いため、加熱或は減圧等により溶融、蒸発、昇華等を経
て気化し得るものであれば、液相でも固相でも使用可能
である。アルカリ金属化合物としては、例えば、金属ア
ルコラード金属アクリ°ル酸、金属メタクリル酸、或は
、金属フタロシアニン等を用いる事ができる。
In the present invention, in addition to hydrocarbons, an alkali metal compound is used to add at least alkali metal atoms into the a-C film. Here, the alkali metal atom refers to a lithium atom, a sodium atom, a potassium atom, a rubidium atom, and a cesium atom. The phase state of the alkali metal compound gas does not necessarily have to be a gas phase at room temperature and normal pressure, and since there are few compounds in a gas phase, it is possible to vaporize through melting, evaporation, sublimation, etc. by heating or reduced pressure. As long as it can be obtained, either liquid phase or solid phase can be used. As the alkali metal compound, for example, metal alcoholade metal acrylic acid, metal methacrylic acid, metal phthalocyanine, etc. can be used.

本発明において化学的修飾物質として含有されるアルカ
リ金属原子の量は、全構成原子に対して0.1乃至10
原子%、好適には0.3乃至5原子%である。アルカリ
金属原子の量が0.1原子%より低い場合には、必ずし
も好適な電荷輸送性が保証きれず、感度低下もしくは残
留電位の発生等を生じ易くなり、また、経時的感度安定
性も保証きれな(なる。アルカリ金属原子の量が10原
子%より高い場合には、適量の添加では好適な電荷輸送
性と残留電位発生防止を保証していたアルカリ金属原子
が、逆に、帯電能の低下を招く。
In the present invention, the amount of alkali metal atoms contained as a chemical modifier is 0.1 to 10
% by atom, preferably from 0.3 to 5 atomic%. If the amount of alkali metal atoms is lower than 0.1 at%, it is not always possible to guarantee suitable charge transport properties, which tends to cause a decrease in sensitivity or the generation of residual potential, and also guarantees stability of sensitivity over time. When the amount of alkali metal atoms is higher than 10 atomic %, the alkali metal atoms, which had guaranteed suitable charge transport properties and prevention of residual potential generation when added in an appropriate amount, conversely deteriorate the charging ability. causing a decline.

また、必ずしも成膜性が保証されなくなり、膜の剥離、
油状化もしくは粉体化を招き易くなる。
In addition, film formability is not necessarily guaranteed, and film peeling and
It tends to become oily or powdery.

本発明において化学的修飾物質として含有されるアルカ
リ金属原子の量は、主に、プラズマ反応を行なう反応室
への前述のアルカリ金属化合物の導入量を増減すること
により制御することが可能である。アルカリ金属化合物
の導入量を増大ぎせれば、本発明によるa−C膜中への
アルカリ金属原子の添加量を高くすることが可能であり
、逆にアルカリ金属化合物の導入量を減少させれば、本
発明によるa−C膜中へのアルカリ金属原子の添加量を
低くすることが可能である。
In the present invention, the amount of alkali metal atoms contained as a chemical modifier can be controlled mainly by increasing or decreasing the amount of the alkali metal compound introduced into the reaction chamber in which the plasma reaction is performed. By increasing the amount of alkali metal compound introduced, it is possible to increase the amount of alkali metal atoms added to the a-C film according to the present invention, and conversely, by decreasing the amount of alkali metal compound introduced, it is possible to increase the amount of alkali metal atoms added to the a-C film according to the present invention. , it is possible to reduce the amount of alkali metal atoms added to the a-C film according to the present invention.

本発明においては炭化水素とアルカリ金属化合物の他に
、a−C膜中に少なくとも酸素原子を添加するために酸
素化合物が使用される。該酸素化合物における相状態は
常温常圧において必ずしも気相である必要はなく、加熱
或は減圧等により溶融、蒸発、昇華等を経て気化しうる
ものであれば、液相でも固相でも使用可能である。酸素
化合物としては、例えば、酸素、オゾン、水(水蒸気)
、過酸化水素、−酸化炭素、二酸化炭素、亜酸化炭素、
−酸化窒素、二酸化窒素、三酸化二窒素、五酸化二窒素
、三酸化窒素、等の無機化合物、水酸基(−OH) 、
アルデヒド基(−CoH)、アシル基(RC〇−、−C
R○)、ケトン基(>Co)、ニトロ基(NO2)、ニ
トロソ基(−NO) 、スルホン基(503H) 、:
L−チル結合(−0−) 、エステル結合(−000−
)、ペプチド結合(−CONH−) 、酸素を含む複素
環、等の官能基或は結合を有する有機化合物、更には金
属アルコキシド等が用いられる。
In the present invention, in addition to hydrocarbons and alkali metal compounds, oxygen compounds are used to add at least oxygen atoms into the a-C film. The phase state of the oxygen compound does not necessarily have to be a gas phase at room temperature and normal pressure; it can be used in either a liquid phase or a solid phase as long as it can be vaporized through melting, evaporation, sublimation, etc. by heating or reduced pressure. It is. Examples of oxygen compounds include oxygen, ozone, and water (steam).
, hydrogen peroxide, -carbon oxide, carbon dioxide, carbon suboxide,
- Inorganic compounds such as nitrogen oxide, nitrogen dioxide, dinitrogen trioxide, dinitrogen pentoxide, nitrogen trioxide, hydroxyl group (-OH),
Aldehyde group (-CoH), acyl group (RC〇-, -C
R○), ketone group (>Co), nitro group (NO2), nitroso group (-NO), sulfone group (503H), :
L-thyl bond (-0-), ester bond (-000-
), a peptide bond (-CONH-), an oxygen-containing heterocycle, an organic compound having a functional group or bond, and also a metal alkoxide.

水酸基を有する有機化合物としては、例えば、メタノー
ル、エタノール、プロパツール、ブタノール、フリルア
ルコール、フルオロエタノール、フルオロブタノール、
フェノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール
、フルフリルアルコール、等が用いられる。アルデヒド
基を有する有機化合物としては、例えば、ホルムアルデ
ヒド、アセトアルデヒド、プロピオアルデヒド、ブチル
アルデヒド、グリオキサール、アクロレイン、ベンズア
ルデヒド、フルフラール、等が用いられる。アシル基を
有する有機化合物としては、例えば、ギ酸、酢酸、プロ
ピオン酸、酪酸、吉草酸、バルミチン酸、ステアリン酸
、オレイン酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、安息香
酸、トルイル酸、サリチル酸、ケイヒ酸、ナフトエ酸、
フタル酸、フラン酸、等が用いられる。ケトン基、を有
する有機化合物としては、例えば、アセトン、エチルメ
チルケトン、メチルプロピルケトン、ブチルメチルケト
ン、ビナコロン、ジエチルケトン、メチルビニルケトン
、メシチルオキシド、メチルへブテノン、シクロブタノ
ン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、アセトフェ
ノン、プロピオフェノン、ブチロフェノン、バレロフエ
ノン、ジベンジルケトン、アセトナフトン、アセトチェ
ノン、アセトフロン、等が用いられる。ニトロ基を有す
る有機化合物としては、例えば、ニトロベンゼン、ニト
ロトルエン、ニトロキシレンン、ニトロナフタリン、等
が用いられる。ニトロソ基を有する有機化合物としては
、例えば、ニトロソベンゼン、ニトロソトルエン、ニト
ロソナフタリン、ニトロソクレゾール、等が用いられる
Examples of organic compounds having a hydroxyl group include methanol, ethanol, propatool, butanol, furyl alcohol, fluoroethanol, fluorobutanol,
Phenol, cyclohexanol, benzyl alcohol, furfuryl alcohol, etc. are used. Examples of the organic compound having an aldehyde group include formaldehyde, acetaldehyde, propionaldehyde, butyraldehyde, glyoxal, acrolein, benzaldehyde, and furfural. Examples of organic compounds having an acyl group include formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, valmitic acid, stearic acid, oleic acid, oxalic acid, malonic acid, succinic acid, benzoic acid, toluic acid, salicylic acid, and cinnamon. acid, naphthoic acid,
Phthalic acid, furanic acid, etc. are used. Examples of organic compounds having a ketone group include acetone, ethyl methyl ketone, methyl propyl ketone, butyl methyl ketone, binacolon, diethyl ketone, methyl vinyl ketone, mesityl oxide, methyl hebutenone, cyclobutanone, cyclopentanone, and cyclohexanone. , acetophenone, propiophenone, butyrophenone, valerophenone, dibenzylketone, acetonaphthone, acetochenone, acetofuron, etc. are used. As the organic compound having a nitro group, for example, nitrobenzene, nitrotoluene, nitroxylene, nitronaphthalene, etc. are used. Examples of the organic compound having a nitroso group include nitrosobenzene, nitrosotoluene, nitrosonaphthalene, and nitrosocresol.

スルホン基を有する有機化合物としては、例えば、メタ
ンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ナフタリンスルホ
ン酸、等が用いられる。エーテル結合を有する有機化合
物としては、例えば、メチルエーテル、エチルエーテル
、プロピルニー、チル、ブチルエーテル、アミルエーテ
ル、エチルメチルエーテル、メチルプロピルエーテル、
メチルブチルエーテル、メチルアミルエーテル、エチル
プロピルエーテル、エチルブチルエーテル、エチルアミ
ルエーテル、ビニルエーテル、アリルエーテル、メチル
ビニルエーテル、メチルフリルエーテル、エチルビニル
エーテル、エチルアリルエーテル、アニソール、フエネ
トール、フェニルエーテル、ベンジルエーテル、フェニ
ルベンジルエーテル、ナフチルエーテル、酸化エチレン
、酸化プロピレン、酸化トリメチレン、テトラヒドロフ
ラン、テトラヒドロビラン、ジオキサン、等が用いられ
る。エステル結合を有する有機化合物としては、例えば
、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチル
、ギ酸アミル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル
、酢酸ブチル、酢酸アミル、プロピオン酸メチル、プロ
ピオン酸エチル、プロピオン酸プロピル、プロピオン酸
ブチル、プロピオン酸アミル、酪酸メチル、酪酸エチル
、酪酸プロピル、酪酸ブチル、酪酸アミル、吉草酸メチ
ル、吉草酸エチル、吉草酸プロピル、吉草酸ブチル、吉
草酸アミル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、ケイ皮
酸メチル、ケイ皮酸エチル、ケイ皮酸プロピル、サリチ
ル酸メチル、サリチル酸エチル、サリチル酸プロピル、
サリチル酸ブチル、サリチル酸アミル、アントラニル酸
メチル、アントラニル酸エチル、アントラニル酸ブチル
、アントラニル酸アミル、フタル酸メチル、フタル酸エ
チル、フタル酸ブチル、等が用いられる。ペプチド結合
を有する有機化合物としては、例えば、グリセログロベ
ブチド、グリセロイドペプチド、等が用いられる。複素
環化合物としては、フラン、オキサゾール、フラザン、
ビラン、オキサジン、モルホリン、ベンゾフラン、パン
ジオキサゾール、クロメン、クロマン、ジベンゾフラン
、キサンチン、フェノキサジン、オキソラン、ジオキソ
ラン、オキサチオラン、オキサジアジン、ベンゾイソオ
キサゾール、等が用いられる。金属アルコキシドとして
は、例えば、リチウムイソプロピレート、リチウムター
シャリ−ブチレート、ナ、トリウムイソプロピレート、
カリウムイソプロピレート、マグネシウムエチレート、
カルシウムエチレート、ストロンチウムメチレート、バ
リウムエチレート、バリウムイソプロピレート、ホウ酸
メチルエステル、ホウ酸エチルエステル、ホヴ酸ブチル
エステル、アルミニウムブチレート、アルミニウムイソ
プロピレート、アルミニウムブチレート、ガリウムイソ
プロピレート、ケイ酸メチルエステル、ケイ酸エチルエ
ステル、ケイ酸イソプロピルエステル、ゲルマニウムメ
チレート、ゲルマニウムプロピレート、ゲルマニウムメ
チレート、リン酸メチルエステル、アンチモンブチレー
ト、アンチモンブチレート、インジウムイソプロピレー
ト、亜鉛工チレート、イツトリウムイソプロピレート、
ランタンイソプロピレート、チタニウムイソプロピレー
ト、チタニウムブチレート、ジルコニウムエチレート、
ジルコニウムイソプロピレート、ハフニウムイソプロピ
レート、バナジウムメチレート、パナジウムエチレート
、バナジウムブチレート、バナジルエチレート、バナジ
、ルターシャリーブチレート、ニオピウムエチレート、
タンタルエチレート、鉄イシブロビレート、錫メチレー
ト、錫エチレート、錫イソプロピレート、錫ブチレート
、等が用いられる。
Examples of the organic compound having a sulfonic group include methanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, naphthalenesulfonic acid, and the like. Examples of organic compounds having an ether bond include methyl ether, ethyl ether, propyl ether, methyl, butyl ether, amyl ether, ethyl methyl ether, methyl propyl ether,
Methyl butyl ether, methyl amyl ether, ethyl propyl ether, ethyl butyl ether, ethyl amyl ether, vinyl ether, allyl ether, methyl vinyl ether, methylfuryl ether, ethyl vinyl ether, ethyl allyl ether, anisole, phenetol, phenyl ether, benzyl ether, phenylbenzyl ether , naphthyl ether, ethylene oxide, propylene oxide, trimethylene oxide, tetrahydrofuran, tetrahydrobilane, dioxane, etc. are used. Examples of organic compounds having an ester bond include methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate, amyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, amyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, and propion. propyl acid, butyl propionate, amyl propionate, methyl butyrate, ethyl butyrate, propyl butyrate, butyl butyrate, amyl butyrate, methyl valerate, ethyl valerate, propyl valerate, butyl valerate, amyl valerate, methyl benzoate, Ethyl benzoate, methyl cinnamate, ethyl cinnamate, propyl cinnamate, methyl salicylate, ethyl salicylate, propyl salicylate,
Butyl salicylate, amyl salicylate, methyl anthranilate, ethyl anthranilate, butyl anthranilate, amyl anthranilate, methyl phthalate, ethyl phthalate, butyl phthalate, and the like are used. As the organic compound having a peptide bond, for example, glyceroglobebutide, glyceroid peptide, etc. are used. Examples of heterocyclic compounds include furan, oxazole, furazane,
Bilan, oxazine, morpholine, benzofuran, pandioxazole, chromene, chroman, dibenzofuran, xanthine, phenoxazine, oxolane, dioxolane, oxathiolane, oxadiazine, benzisoxazole, etc. are used. Examples of the metal alkoxide include lithium isopropylate, lithium tert-butyrate, sodium, thorium isopropylate,
potassium isopropylate, magnesium ethylate,
Calcium ethylate, strontium methylate, barium ethylate, barium isopropylate, boric acid methyl ester, boric acid ethyl ester, boric acid butyl ester, aluminum butyrate, aluminum isopropylate, aluminum butyrate, gallium isopropylate, silicic acid Methyl ester, ethyl silicate, isopropyl silicate, germanium methylate, germanium propylate, germanium methylate, methyl phosphate, antimony butyrate, antimony butyrate, indium isopropylate, zinc tylate, yttrium isopropylate ,
Lanthanum isopropylate, titanium isopropylate, titanium butyrate, zirconium ethylate,
Zirconium isopropylate, hafnium isopropylate, vanadium methylate, panadium ethylate, vanadium butyrate, vanadyl ethylate, vanadium, rutertiary butyrate, niopium ethylate,
Tantalum ethylate, iron isibrovirate, tin methylate, tin ethylate, tin isopropylate, tin butyrate, etc. are used.

本発明において化学的修飾物質として含有される酸素原
子の量は、全構成原子に対して7.0原子%以下、最適
には4.7原子%以下である。酸素原子が7.0原子%
より多く含有される場合には、アルカリ金属原子の添加
による良好な電荷輸送性に基づく感度特性が、必ずしも
保証きれなくなる。一方、酸素原子を全く含まない場合
、例えばオージェ分析等でも酸素が検出されない程の酸
素フリーの場合には、アルカリ金属原子による経時後の
暗抵抗を低くする作用、即ち数カ月単位の保管中に電荷
保持能の低下を招く作用を防止できなくなる。
In the present invention, the amount of oxygen atoms contained as a chemical modifier is 7.0 atom % or less, and optimally 4.7 atom % or less based on the total constituent atoms. Oxygen atoms are 7.0 at%
If it is contained in a larger amount, the sensitivity characteristics based on good charge transport properties due to the addition of alkali metal atoms cannot necessarily be guaranteed. On the other hand, if it does not contain any oxygen atoms, for example, if it is so oxygen-free that no oxygen is detected by Auger analysis, the effect of alkali metal atoms to lower the dark resistance over time, i.e., the electric charge during storage for several months. It becomes impossible to prevent effects that lead to a decrease in retention capacity.

本発明において化学的修飾物質として含有される酸素原
子の景は、主に、プラズマ反応を行なう反応室への前述
の酸素化合物の導入量を増減することにより制御するこ
とが可能である。酸素化合物の導入量を増大させれば、
本発明によるa−C膜中への酸素原子の添加量を高くす
ることが可能であり、逆に酸素化合物の導入量を減少き
せれば、本発明によるa −C膜中への酸素原子の添加
量を低くすることが可能である。
In the present invention, the appearance of oxygen atoms contained as a chemical modifier can be controlled mainly by increasing or decreasing the amount of the aforementioned oxygen compound introduced into the reaction chamber in which the plasma reaction is performed. If the amount of oxygen compound introduced is increased,
It is possible to increase the amount of oxygen atoms added to the a-C film according to the present invention, and conversely, if the amount of oxygen compounds introduced can be reduced, the amount of oxygen atoms added to the a-C film according to the present invention can be increased. It is possible to reduce the amount added.

本発明における原料気体からa −C膜を形成する過程
としては、原料気体が、直流、低周波、高周波、或はマ
イクロ波等を用いたプラズマ法により生成されるプラズ
マ状態を経て形成される方法が最も好ましいが、その他
にも、イオン化蒸着法、或はイオンビーム蒸着法等によ
り生成されるイオン状態を経て形成されてもよいし、真
空蒸着法、或はスパッタリング法等により生成される中
性粒子から形成されてもよいし、ざらには、これらの組
み合わせにより形成されてもよい。その際重要な事は、
該a−C膜中に含有される、アルカリ金属原子並びに酸
素原子の量が、前述の範囲となる様に形成する事である
The process of forming an a-C film from a raw material gas in the present invention is a method in which the raw material gas is formed through a plasma state generated by a plasma method using direct current, low frequency, high frequency, microwave, etc. is the most preferable, but it may also be formed through an ionic state generated by ionization vapor deposition method, ion beam vapor deposition method, etc., or neutral state produced by vacuum vapor deposition method, sputtering method, etc. It may be formed from particles or a combination thereof. The important thing is that
The a-C film is formed so that the amount of alkali metal atoms and oxygen atoms contained in the a-C film falls within the above-mentioned range.

本発明による感光体に用いる電荷発生層は特に限定的で
はなく、例えば、非晶質セレン、セいン砒素、セレンテ
ルル、硫化カドミウム、酸化亜鉛、特性を変えるため場
合により異種元素(例えば、水素、硼素、炭素、窒素、
酸素、弗素、燐、硫黄、塩素、臭素、ゲルマニウム、等
)を含有せしめたアモルファスシリコン、等の無機物質
、ポリビニルカルバゾール、シアニン系化合物、金属フ
タロシアニン系化合物、アブ系化合物、ペリレン系化合
物、トリアリールメタン系化合物、トリフェニルメタン
系化合物、トリフェニルアミン系化合物、ヒドラゾン系
化合物、スチリル系化合物、ピラゾリン系化合物、オキ
サゾール系化合物、オキサジン系化合物、オキサジアゾ
ール系化合物、チアジン系化合物、キサンチン系化合物
、ビリリウム系化合物、キナクリドン系化合物、インジ
ゴ系化合物、多環キノン系化合物、ジスベンズイミダゾ
ール系化合物、インダスロン系化合物、スクアリリウム
系化合物、等の有機物質を用いる事が可能である。これ
以外にも、照射光により効率よく光励起キャリアを発生
し、そのキャリアを電荷輸送層中に効率よく注入しうる
材料であれば、いずれの材料であっても使用することが
できる。
The charge generating layer used in the photoreceptor according to the present invention is not particularly limited, and examples thereof include amorphous selenium, selenium arsenic, selenium tellurium, cadmium sulfide, zinc oxide, and optionally different elements (such as hydrogen, boron, carbon, nitrogen,
Inorganic substances such as amorphous silicon containing oxygen, fluorine, phosphorus, sulfur, chlorine, bromine, germanium, etc.), polyvinyl carbazole, cyanine compounds, metal phthalocyanine compounds, Ab compounds, perylene compounds, triaryl Methane compounds, triphenylmethane compounds, triphenylamine compounds, hydrazone compounds, styryl compounds, pyrazoline compounds, oxazole compounds, oxazine compounds, oxadiazole compounds, thiazine compounds, xanthine compounds, Organic substances such as biryllium compounds, quinacridone compounds, indigo compounds, polycyclic quinone compounds, disbenzimidazole compounds, induthrone compounds, and squarylium compounds can be used. In addition to this, any material can be used as long as it can efficiently generate photo-excited carriers by irradiation light and can efficiently inject the carriers into the charge transport layer.

また、該電荷発生層は製造方法においても制限を受ける
ことはなく、例えば、本発明における電荷輸送ff1(
a−C膜)と同様の製造方法によってもよいし、真空蒸
着法、液相中での電着法、スプレー或はディッピング等
による塗布法、等によって形成してもよい。中でも、本
発明における電荷輸送層と同様の製造方法により成膜し
た場合には、製造装置コスト、工程の省力化にもつなが
り好ましい。
Further, the charge generation layer is not subject to any limitations in the manufacturing method, and for example, the charge transport ff1 (
It may be formed by the same manufacturing method as the a-C film), or by a vacuum evaporation method, an electrodeposition method in a liquid phase, a coating method by spraying or dipping, or the like. Among these, it is preferable to form the film by the same manufacturing method as that for the charge transport layer in the present invention, since this leads to reduction in manufacturing equipment cost and labor in the process.

本発明における感光体は、電荷発生層と電荷輸送層から
成る感光体であり、該電荷発生層と該電荷輸送層の積層
構成は、必要に応じて適宜選択することが可能である。
The photoreceptor in the present invention is a photoreceptor comprising a charge generation layer and a charge transport layer, and the laminated structure of the charge generation layer and the charge transport layer can be appropriately selected as necessary.

第1図は、その一形態として、導電性基板(1)上に電
荷輸送N(2)と電荷発生N(3)を順次積層してなる
構成を示したものである。第2図は、別の一形態として
、導電性基板(1)上に電荷発生層(3)と電荷輸送層
(2)を順茨積層してなる構成を示したものである。第
3図は、ざらに別の一形態として、導電性基板(1)上
に、電荷輸送層(2)と電荷発生M(3)と電荷輸送層
(2)を順次積層してなる構成を示したものである。
FIG. 1 shows, as one form thereof, a structure in which a charge transport N (2) and a charge generation N (3) are sequentially laminated on a conductive substrate (1). FIG. 2 shows, as another embodiment, a structure in which a charge generation layer (3) and a charge transport layer (2) are sequentially laminated on a conductive substrate (1). FIG. 3 shows a structure in which a charge transport layer (2), a charge generation M (3), and a charge transport layer (2) are sequentially laminated on a conductive substrate (1) as a roughly different form. This is what is shown.

感光体表面を、例えばコロナ帯電器等により正帯電した
後、画像露光して使用する場合においては、第1図では
電荷発生層(3)で発生した正孔が電荷輸送層(2)中
を導電性基板(1)に向は走行し、第2図では電荷発生
N(3)で発生した電子が電荷輸送層(2)中を感光体
表面に向は走行し、第3図では電荷発生層(3)で発生
した正孔が電荷輸送層(2)中を導電性基板(1)に向
は走行すると共に、同時に電荷発生層(3)で発生した
電子が上側の電荷輸送層(2)中を感光体表面に向は走
行し、好適な明減衰に保証された静電潜像の形成が行な
われる。反対に感光体表面を負帯電した後、画像露光し
て使用する場合に於ては、電子と正孔の挙動を入れ代え
て、キャリアーの走行性を解すればよい。第2図及び第
3図では、画像露光用の照射光が電荷輸送層(2)中を
通過することになるが、本発明による電荷輸送層は透光
性に優れることから、好適な潜像形成を行なうことが可
能である。
When the surface of the photoreceptor is positively charged using a corona charger or the like and then used for image exposure, in FIG. 1, holes generated in the charge generation layer (3) pass through the charge transport layer (2). Electrons travel toward the conductive substrate (1), and in Figure 2, electrons generated by charge generation N (3) travel through the charge transport layer (2) toward the surface of the photoreceptor; Holes generated in the layer (3) travel through the charge transport layer (2) toward the conductive substrate (1), and at the same time, electrons generated in the charge generation layer (3) travel through the charge transport layer (2) on the upper side. ) through which the photoreceptor surface travels, forming an electrostatic latent image with proper brightness attenuation. On the other hand, when the surface of the photoreceptor is negatively charged and then used for image exposure, the behavior of electrons and holes can be exchanged to understand the mobility of carriers. In FIGS. 2 and 3, the irradiation light for image exposure passes through the charge transport layer (2), but since the charge transport layer according to the present invention has excellent translucency, it is possible to form a suitable latent image. It is possible to carry out formation.

第4図は、ざらなる一形態として、導電性基板(1)上
に電荷輸送層(2)と電荷発生層(3)と表面保護層(
4)を順次積層してなる構成を示したものである。即ち
第1図の形態に表面保護層を設けた形態に相当するが、
第1図の形態では、最表面が本発明においては特に限定
を受けない電荷発生層で有ることから、多くの場合実用
上の耐久性を確保するために表面保護層を設けることが
好ましい。第2図及び第3図の構成の場合、最表面が耐
久性に優れた本発明による電荷輸送層であるため、表面
保護層を設けなくてもよいが、例えば現像剤の付着によ
る感光体表面の汚れを防止するような、複写機内の各種
エレメントに対する整合性を調整する目的から、表面保
護層を設けることもざらなる一形態と成りうる。
FIG. 4 shows a conductive substrate (1), a charge transport layer (2), a charge generation layer (3) and a surface protective layer (
4) is shown in a structure formed by sequentially stacking them. In other words, it corresponds to the form shown in Fig. 1 with a surface protective layer provided, but
In the embodiment shown in FIG. 1, since the outermost surface is a charge generation layer which is not particularly limited in the present invention, in many cases it is preferable to provide a surface protective layer in order to ensure practical durability. In the case of the configurations shown in FIGS. 2 and 3, since the outermost surface is the highly durable charge transport layer according to the present invention, there is no need to provide a surface protective layer. A surface protective layer may also be provided for the purpose of adjusting the consistency of various elements within the copying machine, such as preventing dirt on the copying machine.

第5図は、さらなる一形態として、導電性基板(1)上
に中間層(5)と電荷発生層(3)と電荷輸送N(2)
を順次積層してなる構成を示したものである。即ち第2
図の形態に中間層を設けた形態に相当するが、第2図の
形態では、導電性基板との接合面が本発明においては特
に限定を受けない電荷発生層で有ることから、多くの場
合接着性及び注入阻止効果を確保するために表面保護層
を設けることが好ましい。第1図及び第3図の構成の場
合、導電性基板との接合面が、接着性及び注入阻止効果
に優れた、本発明による電荷輸送層であるため、中間層
を設けなくてもよいが、例えば導電性基板の前処理方法
のような、感光層形成以前の製造工程との整合性を調整
する目的から、中間層を設けることもざらなる一形態と
成りうる。
FIG. 5 shows, as a further embodiment, an intermediate layer (5), a charge generation layer (3) and a charge transport N (2) on a conductive substrate (1).
This figure shows a structure in which these are sequentially laminated. That is, the second
This corresponds to the form shown in the figure with an intermediate layer provided, but in the form shown in Fig. 2, the bonding surface with the conductive substrate is a charge generation layer which is not particularly limited in the present invention, so in many cases It is preferable to provide a surface protective layer to ensure adhesion and injection blocking effect. In the case of the configurations shown in FIGS. 1 and 3, since the bonding surface with the conductive substrate is the charge transport layer according to the present invention, which has excellent adhesiveness and injection blocking effect, it is not necessary to provide an intermediate layer. For example, an intermediate layer may be provided for the purpose of adjusting compatibility with a manufacturing process before forming a photosensitive layer, such as a pretreatment method for a conductive substrate.

第6図は、ざらなる一形態として、導電性基板(1)上
に中間層(5)と電荷輸送層(2)と電荷発生層(3)
と表面保護層(4)を順次積層してなる構成を示したも
のである。即ち第1図の形態に中間層と表面保護層を設
けた形態に相当″する。中間層と表面保護層の設置理由
は前述と同様であり、従って第2図及び第3図の構成に
おいて中間層と表面保護層を設けることもざらなる一形
態と成りうる。
FIG. 6 shows, as a rough form, an intermediate layer (5), a charge transport layer (2), and a charge generation layer (3) on a conductive substrate (1).
This figure shows a structure in which a surface protection layer (4) and a surface protection layer (4) are sequentially laminated. In other words, it corresponds to the configuration in which an intermediate layer and a surface protective layer are provided in the configuration shown in FIG. It is also possible to provide a layer and a surface protective layer.

本発明において中間層と表面保護層は、材料的にも、製
法的にも、特に限定を受けるものではなく所定の目的が
達せられるものであれば、適宜選択することが可能であ
る。本発明によるa−C膜を用いてもよい。但し、用い
る材料が、例えば従来例で述べた如き絶縁性材料である
場合には、残留電位発生の防止のため膜厚は5μm以下
に留める必要がある。
In the present invention, the intermediate layer and the surface protective layer are not particularly limited in terms of material or manufacturing method, and can be appropriately selected as long as a predetermined purpose can be achieved. An a-C film according to the invention may also be used. However, if the material used is, for example, an insulating material as described in the conventional example, the film thickness must be kept at 5 μm or less to prevent generation of residual potential.

本発明による感光体の電荷輸送層は、気相状態の分子を
減圧下で放電分解し、発生したプラズマ雰囲気中に含ま
れる活性中性種あるいは荷電種を基板上に拡散、電気力
、あるいは磁気力等により誘導し、基板上での再結合反
応により固相として堆積きせる、所謂プラズマ重合反応
から生成される事が好ましい。
The charge transport layer of the photoreceptor according to the present invention decomposes molecules in a gas phase by discharge decomposition under reduced pressure, and diffuses active neutral species or charged species contained in the generated plasma atmosphere onto the substrate, using electric force or magnetic force. It is preferable that the polymer be generated by a so-called plasma polymerization reaction, which is induced by force or the like and deposited as a solid phase by a recombination reaction on a substrate.

第7図は本発明に係わる感光体の製造装置を示し、図中
(701)〜(706)は常温において気相状態にある
原料化合物及びキャリアガスを密封した第1乃至第6タ
ンクで、各々のタンクは第1乃至第6調節弁(707)
〜(712)と第1乃至第6流量制御器(713)〜(
718)に接続きれている。図中(719)〜(721
)は常温において液相または固相状態にある原料化合物
を封入した第1乃至第3容器で、各々の容器は気化のた
め第1乃至第3温調器(722)〜(724)により与
熱可能であり、ざらに各々の容器は第7乃至第9調節弁
(725)〜(727)と第7乃至第9流量制御器(7
28)〜(730)に接続きれている。これらのガスは
混合器(731)で混合きれた後、主管(732)を介
して反応室(733)に送り込まれる。途中の配管は、
常温において液相または固相状態にあった原料化合物が
気化したガスが、途中で凝結しないように、適宜配置さ
れた配管加熱器(734)により、与熱可能とされてい
る。反応室内には接地電極(735)と電力印加電極(
736)が対向して設置され、各々の電極は電極加熱器
(737)により与熱可能とされている。電力印加電極
(736)には、高周波電力用整合器(738)を介し
て高周波電源(739)、低周波電力用整合器(740
)を介して低周波電源(741)、ローパスフィルタ(
742)を介して直流電源(743)が接続きれており
、接続選択スイッチ(744)により周波数の異なる電
力が印加可能とされている。反応室(733)内の圧力
は圧力制即弁(745)により調整可能であり、反応室
(733)内の減圧は、排気系選択弁(746)を介し
て、拡散ポンプ(747) 、油回転ポンプ(748)
、或は、冷却除外装置(749)、メカニカルブースタ
ーポンプ(750)、油回転ポンプ(748)により行
なわれる。排ガスについては、ざらに適当な除外装置(
753)により安全無害化した後、大気中に排気される
。これら排気系配管についても、常温において液相また
は固相状態にあった原料化合物が気化したガスが、途中
で凝結しないように、適宜配置された配管加熱著(73
4)により、与熱可能とされている。反応室(733)
も同様の理由から反応室加熱器(751)により与熱可
能とされ、内部に配きれた電極上に導電性基板(752
)が設置される。第7図において導電性基板(752)
は接地電極(735)に固定して配されているが、電力
印加電極(736)に固定して配きれてもよく、ざらに
双方に配されてもよい。
FIG. 7 shows a photoconductor manufacturing apparatus according to the present invention, and in the figure (701) to (706) are first to sixth tanks in which the raw material compound and carrier gas, which are in a gas phase at room temperature, are sealed, respectively. The tanks are the first to sixth control valves (707)
〜(712) and the first to sixth flow rate controllers (713)〜(
718) is not connected. (719) to (721) in the figure
) are first to third containers filled with raw material compounds that are in a liquid or solid state at room temperature, and each container is heated by the first to third temperature controllers (722) to (724) for vaporization. Roughly speaking, each container has seventh to ninth control valves (725) to (727) and seventh to ninth flow rate controllers (727).
28) to (730) are disconnected. After these gases are completely mixed in the mixer (731), they are sent into the reaction chamber (733) via the main pipe (732). The pipes along the way are
Heat can be applied to the gas obtained by vaporizing the raw material compound, which is in a liquid or solid phase at room temperature, by an appropriately placed pipe heater (734) so as not to condense on the way. Inside the reaction chamber, there is a ground electrode (735) and a power application electrode (
736) are installed facing each other, and each electrode can be heated by an electrode heater (737). A high frequency power supply (739) and a low frequency power matching box (740) are connected to the power applying electrode (736) via a matching box for high frequency power (738).
), low frequency power supply (741), low pass filter (
A DC power source (743) is connected via a power source (742), and power with different frequencies can be applied by a connection selection switch (744). The pressure inside the reaction chamber (733) can be adjusted by a pressure control valve (745), and the pressure inside the reaction chamber (733) can be reduced through an exhaust system selection valve (746) by a diffusion pump (747), an oil Rotary pump (748)
, or by a cooling exclusion device (749), a mechanical booster pump (750), or an oil rotary pump (748). Regarding exhaust gas, use a suitable exclusion device (
753), and then exhausted into the atmosphere. These exhaust system pipings are also heated by appropriately placed piping systems to prevent gases produced by vaporizing raw material compounds that are in a liquid or solid phase state at room temperature from condensing on the way (73
4), heat can be applied. Reaction chamber (733)
For the same reason, the reaction chamber heater (751) can be used to heat the chamber, and a conductive substrate (752) is placed on the electrodes arranged inside the chamber.
) will be installed. In FIG. 7, the conductive substrate (752)
are fixedly arranged on the ground electrode (735), but may be fixedly arranged on the power application electrode (736), or may be arranged roughly on both sides.

第8図は本発明に係わる感光体の製造装置の別の一形態
を示し、反応室(833)内部の形態以外は、第7図に
示した本発明に係わる感光体の製造装置と同様であり、
付記された番号は、700番台のものを800番台に置
ぎ換えて解すればよい。第8図において、反応室(83
3)内部には、第7図における接地電極(735)を兼
ねた円筒形の導電性基板(852)が設置きれ、内側に
は電極加P8器(837)が配されている。導電性基板
(852)周囲には同じく円筒形状をした電力印加電極
(836)が配され、外側には電極加熱器(837)が
配されている。導電性基板(852)は、外部より駆動
モータ(854)を用いて自転可能となっている。
FIG. 8 shows another embodiment of the photoconductor manufacturing apparatus according to the present invention, which is similar to the photoconductor manufacturing apparatus according to the present invention shown in FIG. 7 except for the internal configuration of the reaction chamber (833). can be,
The appended numbers can be interpreted by replacing the 700s with 800s. In FIG. 8, the reaction chamber (83
3) A cylindrical conductive substrate (852) which also serves as the ground electrode (735) in FIG. 7 can be installed inside, and an electrode adder P8 (837) is arranged inside. A similarly cylindrical power application electrode (836) is arranged around the conductive substrate (852), and an electrode heater (837) is arranged outside. The conductive substrate (852) is rotatable using an external drive motor (854).

感光体製造に供する反応室は、拡散ポンプにより予め1
0−4乃至1O−6Torr程度にまで減圧し、真空度
の確認と装置内部に吸着したガスの脱看を行なう。同時
に電極加熱器により、電極並びに電極に固定して配され
た導電性基板を所定の温度まで昇温する。導電性基板に
は、前述の如き感光体構成の中から所望の構成を得るた
めに、必要であれば、予めアンダーコート層或は電荷発
生層を設けて置いてもよい。アンダーコート層或は電荷
発生層の設置には、本装置を用いてもよいし別装置を用
いてもよい。次いで、第1乃至第6タンク及び第1乃至
第3容器から適宜炭化水素並びにアルカリ金属化合物よ
りなる原料ガスを第1乃至第9流量制御器を用いて定流
量化しながら反応室内に導入し、圧力調節弁により反応
室内を一定の減圧状態に保つ。ガス流量が安定化した後
、接続選択スイッチにより、例えば高周波電源を選択し
、電力印加電極に高周波電力を投入する。両電極間には
放電が開始され、時間と共に基板上に固相の膜が形成さ
れる。反応時間により膜厚を制御し、所定の膜厚に達し
たところで放電を停止し、本発明によるa−C膜を電荷
輸送層として得る。
The reaction chamber used for photoreceptor production is preliminarily heated by a diffusion pump.
The pressure is reduced to about 0-4 to 1 O-6 Torr, and the degree of vacuum is checked and the gas adsorbed inside the device is removed. At the same time, an electrode heater heats the electrode and the conductive substrate fixedly disposed on the electrode to a predetermined temperature. If necessary, an undercoat layer or a charge generation layer may be provided in advance on the conductive substrate in order to obtain a desired photoreceptor structure from among those described above. The present apparatus or a separate apparatus may be used to provide the undercoat layer or the charge generation layer. Next, raw material gases consisting of hydrocarbons and alkali metal compounds are introduced into the reaction chamber from the first to sixth tanks and the first to third containers while being kept at a constant flow rate using the first to ninth flow rate controllers, and the pressure is increased. A control valve maintains a constant reduced pressure inside the reaction chamber. After the gas flow rate is stabilized, a connection selection switch is used to select, for example, a high frequency power source, and high frequency power is applied to the power application electrode. A discharge is started between the two electrodes, and a solid phase film is formed on the substrate over time. The film thickness is controlled by the reaction time, and when a predetermined film thickness is reached, the discharge is stopped to obtain the a-C film according to the present invention as a charge transport layer.

このa−C膜は、本発明により生成した炭素原子と水素
原子からなる非晶質固体中に、化学的修飾物質として少
なくともアルカリ金属原子を全構成原子に対して0.1
乃至10原子%含有する事を特撮とする膜である。次い
で、第1乃至第9調節弁を閉じ、反応室内を充分に排気
する。ここで所望の感光体構成が得られる場合には反応
室内の真空を破り、反応室より本発明による感光体を取
り出す。更に所望の感光体構成において、電荷発生層或
はオーバーコート層が必要とされる場合には、そのまま
本装置を用いるか、或は同様に一旦真空を破り取り出し
て別装置に移してこれらの層を設け、本発明による感光
体を得る。
This a-C film contains at least an alkali metal atom as a chemical modifier in an amorphous solid composed of carbon atoms and hydrogen atoms produced by the present invention at a rate of 0.1% relative to all constituent atoms.
This film is specially designed to contain 10 to 10 atomic percent. Next, the first to ninth control valves are closed to sufficiently exhaust the inside of the reaction chamber. If the desired photoreceptor configuration is obtained, the vacuum in the reaction chamber is broken and the photoreceptor according to the present invention is taken out from the reaction chamber. Furthermore, if a charge generation layer or an overcoat layer is required in the desired photoreceptor configuration, this device can be used as is, or these layers can be removed by breaking the vacuum and transferring to another device. to obtain a photoreceptor according to the present invention.

以下実施例を挙げながら、本発明を説明する。The present invention will be explained below with reference to Examples.

^施健1 本発明に係わる製造装置を用いて、第1図に示す如き、
導電性基板、電荷輸送層、電荷発生層をこの順に設けた
本発明感光体を作製した。
^Production 1 Using the manufacturing apparatus according to the present invention, as shown in FIG.
A photoreceptor of the present invention was prepared in which a conductive substrate, a charge transport layer, and a charge generation layer were provided in this order.

電荷輸送層形成工程:  (CTL工程)第7図に示す
グロー放電分解装置において、まず、反応装置(733
)の内部を10−εTorr程度の高真空にした後、第
1、第2、及び第4調節弁(7o7.708、及び71
0)を解放し、第1タンク(701)より水素ガス、第
2タンク(702)よりアセチレンガス、及び第4タン
ク(704)より亜酸化窒素ガスを各々出力圧1゜0K
g/cm2の下で第1、第2、及び第4流量制御器(7
13,714、及び716)内へ流入きせた。同時に、
第1容器(719)よりリチウムターシャリ−ブチラー
ドガスを第1温調器(722)温度180℃のもとて固
体より昇華させながら、第7流量制御器(728)内へ
流入させた。
Charge transport layer forming step: (CTL step) In the glow discharge decomposition apparatus shown in FIG.
) After creating a high vacuum of about 10-εTorr inside the first, second, and fourth control valves (7o7.708 and 71
0), hydrogen gas from the first tank (701), acetylene gas from the second tank (702), and nitrous oxide gas from the fourth tank (704), each at an output pressure of 1°0K.
g/cm2 under the first, second, and fourth flow controllers (7
13, 714, and 716). at the same time,
From the first container (719), the lithium tertiary-butylade gas was sublimed from the solid under the temperature of the first temperature controller (722) of 180°C, and was caused to flow into the seventh flow rate controller (728).

そして各流量制御器の目盛を調整して、水素ガスの流量
を40secm、アセチレンガスの流量を40sccm
q リチウムターシャリ−ブチラードガスの流量を2.
8secm1及び亜酸化窒素ガスの流量を40secm
となるように設定して、途中混合器(731)を介して
、主管(732)より反応室(733)内へ流入した。
Then, adjust the scales of each flow rate controller to set the hydrogen gas flow rate to 40 sec and the acetylene gas flow rate to 40 sccm.
q Increase the flow rate of lithium tertiary-butyrad gas to 2.
8 sec1 and the flow rate of nitrous oxide gas 40 sec
The mixture was set so as to flow into the reaction chamber (733) from the main pipe (732) via an intermediate mixer (731).

各々の流量が安定した後に、反応室(733)内の圧力
が0.5Torrとなるように圧力調節弁(745)を
調整した。一方、導電性基板(752)としては、樅5
0X横50×厚3mmのアルミニウム基板を用いて、予
め200℃に加熱しておき、ガス流量及び圧力が安定し
た状態で、予め接続選択スイッチ(744)により接続
しておいた高周波電源(739)を投入し、電力印加電
極(736)に200Wattの電力を周波数13.5
6MHzの下で印加して約3時間プラズマ重合反応を行
ない、導電性基板(752)上に厚き10゜2μmのa
−C膜を電荷輸送層として形成した。
After each flow rate became stable, the pressure control valve (745) was adjusted so that the pressure in the reaction chamber (733) was 0.5 Torr. On the other hand, as the conductive substrate (752), fir 5
A high frequency power source (739) using an aluminum substrate measuring 0 x width 50 x thickness 3 mm was heated to 200°C and connected in advance with a connection selection switch (744) with the gas flow rate and pressure stable. and applied a power of 200 Watts to the power application electrode (736) at a frequency of 13.5.
A plasma polymerization reaction was performed for about 3 hours by applying a frequency of 6 MHz, and a 10° 2 μm thick a was formed on the conductive substrate (752).
-C film was formed as a charge transport layer.

成膜完了後は、電力印加を停止し、調節弁を閉じ、反応
室(733)内を充分に排気した。
After the film formation was completed, power application was stopped, the control valve was closed, and the inside of the reaction chamber (733) was sufficiently evacuated.

以上のようにして得られたa−CPAにつきCHN定量
分析を行なったところ、含有される水素原子の量は炭素
原子と水素原子の総量に対して4.4原子%、ざらにオ
ージェ分析から、含有されるアルカリ金属原子、即ち、
リチウム原子の量は全構成原子に対し2.1原子%、酸
素原子の量は1゜5原子%であった。
CHN quantitative analysis was performed on the a-CPA obtained as above, and the amount of hydrogen atoms contained was 4.4 at% based on the total amount of carbon atoms and hydrogen atoms, roughly based on Auger analysis. The alkali metal atoms contained, i.e.
The amount of lithium atoms was 2.1 at% and the amount of oxygen atoms was 1.5 at% based on the total constituent atoms.

電荷発生層形成工程:  (CGL工程)次いで、第1
調節弁(707) 、第4調節弁(710)、及び第6
FA節弁(712)を解放し、第1タンク(701)か
ら水素ガス、第4タンク(704)から亜酸化窒素ガス
、及び第6タンク(706)からシランガスを、出力圧
IKg/cm2の下で第1、及び第6流量制灘器(71
3,716、及び718)内へ流入させた。各流量制御
器の目盛を調整して水素ガスの流量を100 s e 
c m s亜酸化窒素ガスの流量を0.5scam、及
びシランガスの流量を60secmに設定し、反応室(
733)内に流入させた。各々の流量が安定した後に、
反応室(733)内の圧力が1.0Torrとなるよう
に圧力調節弁(745)を調整した。一方、a −C膜
が形成されている導電性基板(752)は、20o℃に
加熱し・ておき、ガス流量及び圧力が安定した状態で、
高周波電源(739)より周波数13.56MHzの下
で電力印加電極(736)に100Wattの電力を印
加し、グロー1′J、電を発生きせな。この放電を20
分間行ない、厚き0.4μmのa−Si:H電荷発生層
を形成した。
Charge generation layer forming step: (CGL step) Next, the first
Control valve (707), fourth control valve (710), and sixth control valve
Release the FA control valve (712) and supply hydrogen gas from the first tank (701), nitrous oxide gas from the fourth tank (704), and silane gas from the sixth tank (706) under an output pressure of IKg/cm2. 1st and 6th flow control devices (71
3,716, and 718). Adjust the scale of each flow rate controller to set the hydrogen gas flow rate to 100 sec.
The flow rate of cms nitrous oxide gas was set to 0.5scam and the flow rate of silane gas was set to 60sec, and the reaction chamber (
733). After each flow rate stabilizes,
The pressure control valve (745) was adjusted so that the pressure inside the reaction chamber (733) was 1.0 Torr. On the other hand, the conductive substrate (752) on which the a-C film is formed is heated to 20oC, and with the gas flow rate and pressure stabilized,
A power of 100 Watts was applied to the power application electrode (736) at a frequency of 13.56 MHz from the high frequency power source (739) to generate glow 1'J and electricity. This discharge is 20
This was carried out for 1 minute to form a 0.4 μm thick a-Si:H charge generation layer.

特性: 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で用い
たところ最高帯電電位(以下Vmaxと称する)は−6
00Vで有り、即ち、全感光体膜厚が10.6μmであ
ることから1μm当りの帯電能(以下C,A、と称する
)は56.6Vと極めて高く、このことから充分な帯電
性能を有する事が理解された。また、暗中にてVmax
からVmaxの90%の表面電位にまで暗減衰するのに
要した時間(以下Tdと称する)は約15秒であり、こ
のことから充分な電荷保持性能を有する事が理解された
。また、Vmaxに初期帯電した後、白色光を用いてV
maxの20%の表面電位にまで明減衰きせたとこる必
要とされた光量(以下Eと称する)は1.フルックス・
秒であり、このことから充分な光感度性能を有する事が
理解された。また、白色光80ルツクス・秒照射時の表
面電位を残留電位(以下Vrと称する)として測定した
ところ一10Vであり、極めて良好である事が理解きれ
た。
Characteristics: When the obtained photoreceptor was used in a commonly used Carlson process, the maximum charging potential (hereinafter referred to as Vmax) was -6
00V, that is, the total photoreceptor film thickness is 10.6 μm, so the charging capacity per 1 μm (hereinafter referred to as C, A) is extremely high at 56.6V, and from this, it has sufficient charging performance. Things were understood. Also, Vmax in the dark
The time required for the dark decay from the surface potential to 90% of Vmax (hereinafter referred to as Td) was about 15 seconds, and from this it was understood that it had sufficient charge retention performance. In addition, after initial charging to Vmax, V
The amount of light required to attenuate the brightness to a surface potential of 20% of max (hereinafter referred to as E) is 1. Flux・
It was understood from this that it had sufficient photosensitivity performance. Furthermore, when the surface potential was measured as a residual potential (hereinafter referred to as Vr) when irradiated with white light at 80 lux/second, it was found to be -10 V, which was found to be extremely good.

更に同様の測定を作製から3力月経過後に行なったとこ
ろ、Vmax’(以下゛を付けて示す記号は、各々の゛
を付けていない場合意味する測定を作製後3力月経過後
に再度測定した時の値を示すものとする)は−580V
で有り、帯電性能は殆ど変化していない事が理解された
。また、Td°は約10秒であり、このことから電荷保
持性能も殆ど変化していない事が理解された。また、E
oは1.4ルツクス・秒、Vr’は一8Vであり、殆ど
変化せずに良好な状態を保っている事が理解された。
Furthermore, similar measurements were carried out after 3 months had passed since the fabrication, and it was found that Vmax' (hereinafter, symbols with ゛ are the measurements that are meant when the respective ゛ is not attached). ) is -580V
It was understood that there was almost no change in charging performance. Further, Td° was approximately 10 seconds, which indicates that the charge retention performance was hardly changed. Also, E
o was 1.4 lux·sec, Vr' was -8 V, and it was understood that good conditions were maintained with almost no change.

以上より、本例に示した本発明による感光体は、優れた
性能を有するものであり、その経時安定性も、測定誤差
も含めて考慮すると、儂れだものである事が理解される
。また、この感光体に対して常用のカールソンプロセス
の中で、作像して転写したところ、鮮明な画像が得られ
た。
From the above, it is understood that the photoreceptor according to the present invention shown in this example has excellent performance, and when its stability over time and measurement errors are taken into account, it is second to none. Further, when an image was formed and transferred to this photoreceptor using the commonly used Carlson process, a clear image was obtained.

害施勿旦ご旦 CTL工程において、流入するリチウムターシャリ−ブ
チラードガスの流量を、第1温調器(722)温度、並
びに、第7流量制御器(728)のバルブの開口度を調
整して、各々2.4(実施例2) 、2.0 (実施例
3)、1.5(実施例4)、1.0(実施例5)scc
mとする以外は、実施例1と同様にして本発明による感
光体の作製を実施した。ここで得られたa−C膜につき
CHN定量分析を行なったところ、含有される水素原子
の量は炭素原子と水素原子の総量に対して各々44.4
7.45.5o原子%、ざらにオージェ分析から、含有
されるアルカリ金属原子、即ち、リチウム原子の量は全
構成原子に対して各々1.7.1.2.0.7.0.3
原子%、酸素原子の旦は各々1.5.1.4.1.3.
1.3原子%であった。また、a−C膜の膜厚は、各/
7′10.12.3.11.4.10.8μmで゛あっ
た。
In the CTL process, the flow rate of the inflowing lithium tertiary butyrad gas is adjusted by adjusting the temperature of the first temperature controller (722) and the opening degree of the valve of the seventh flow rate controller (728). , respectively 2.4 (Example 2), 2.0 (Example 3), 1.5 (Example 4), 1.0 (Example 5) scc
A photoreceptor according to the present invention was produced in the same manner as in Example 1 except that m was used. When CHN quantitative analysis was performed on the a-C film obtained here, the amount of hydrogen atoms contained was 44.4% relative to the total amount of carbon atoms and hydrogen atoms.
7.45.5o atomic %, and from a rough Auger analysis, the amount of alkali metal atoms contained, that is, lithium atoms, is 1.7.1.2.0.7.0.3, respectively, based on the total constituent atoms.
Atomic % and oxygen atom ratio are respectively 1.5.1.4.1.3.
It was 1.3 at%. In addition, the film thickness of the a-C film is
7'10.12.3.11.4.10.8 μm.

特性: 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で用い
たところ、VmaXは各々−600、−650、−65
0、−650Vで有り、即ち、全感光体膜厚が各々10
.4.12.7.11゜8.11.2μmであることか
らC,A、は各々57.7.51.2.55.1.58
.OVと極めて高く、このことから充分な帯電性能を有
する事が理解きれた。また、Tdは各々約15.20.
20,20秒であり、このことから充分な電荷保持性能
を有する事が理解された。また、Eは各々1.8.2.
4.3.1.3.フルックス・秒であり、このことから
充分な光感度性能を有する事が理解された。また、Vr
は各々−15、−15、−15、−10■であり充分に
良好である事が理解きれた。
Characteristics: When the obtained photoreceptor was used in a conventional Carlson process, VmaX was -600, -650, and -65, respectively.
0 and -650V, that is, the total photoreceptor film thickness is 10V, respectively.
.. 4.12.7.11°8.11.2μm, so C and A are 57.7.51.2.55.1.58 respectively
.. The OV was extremely high, and from this it was understood that it had sufficient charging performance. Moreover, Td is about 15.20.
20.20 seconds, and from this it was understood that it had sufficient charge retention performance. Also, E is 1.8.2, respectively.
4.3.1.3. flux seconds, and from this it was understood that it had sufficient photosensitivity performance. Also, Vr
It was understood that the values were -15, -15, -15, and -10, respectively, which were sufficiently good.

ざらに、Vmax’、C,A、’、Td’、El 、V
rlにおいても、これらとほぼ同等の値が測定誤差範囲
内で得られた。
Roughly, Vmax', C, A,', Td', El, V
For rl, values almost equivalent to these were also obtained within the measurement error range.

以上より、本例に示した本゛発明による感光体は、優れ
た性能を有するものであり、経時安定性にも優れたもの
である。また、この感光体に対して常用のカールソンプ
ロセスの中で、作像して転写したところ、鮮明な画像が
得られた。
From the above, the photoreceptor according to the present invention shown in this example has excellent performance and is also excellent in stability over time. Further, when an image was formed and transferred to this photoreceptor using the commonly used Carlson process, a clear image was obtained.

火旅例旦 CTL工程において、流入するリチウムターシャリ−ブ
チラードガスの流量を0.5secmとする以外は、実
施例1と同様にして本発明による感光体を作製した。こ
こで得られたa −C膜につ@CHN定量分析を行なっ
たところ、含有される水素原子の量は炭素原子と水素原
子の総量に対して53原子%、さらにオージェ分析から
、含有されるアルカリ金属原子、即ち、リチウム原子の
量は全構成原子に対してO11原子%、酸素原子の量は
1.2原子%であった。また、a−C膜の膜厚は、10
.1μmであった。
A photoreceptor according to the present invention was produced in the same manner as in Example 1, except that in the CTL process, the flow rate of the inflowing lithium tertiary-butylade gas was set to 0.5 seconds. When @CHN quantitative analysis was performed on the a-C film obtained here, the amount of hydrogen atoms contained was 53 at% based on the total amount of carbon atoms and hydrogen atoms, and furthermore, Auger analysis revealed that the amount of hydrogen atoms contained was 53 at%. The amount of alkali metal atoms, ie, lithium atoms, was 11 atomic % of O and the amount of oxygen atoms was 1.2 atomic % based on all the constituent atoms. Moreover, the film thickness of the a-C film is 10
.. It was 1 μm.

特性: 得られた感光体を常用のカールソンプロセス・の中で用
いたところ、VmaXは−650で有り、即ち、全感光
体膜厚が10.5μmであることからC,A、は61.
9Vと極めて高く、このことから充分な帯電性能を有す
る事が理解きれた。また、Tdは約25秒であり、この
ことから充分な電荷保持性能を有する事が理解された。
Characteristics: When the obtained photoreceptor was used in a commonly used Carlson process, VmaX was -650, that is, since the total photoreceptor film thickness was 10.5 μm, C and A were 61.
The voltage was extremely high at 9V, and from this we could understand that it had sufficient charging performance. Furthermore, the Td was approximately 25 seconds, and from this it was understood that it had sufficient charge retention performance.

また、Eは10.5ルックス町秒であり、このことから
実施例1〜5に比べて若干感度が低いものの実用上充分
な光感度性能を有する事が理解きれた。
Moreover, E was 10.5 lux town seconds, and from this it was understood that although the sensitivity was slightly lower than that of Examples 1 to 5, it had a practically sufficient photosensitivity performance.

また、実施例1〜5に示した本発明による感光体では、
EとEoの間に殆ど差が認められなかったのに対し、本
実施例における感光体ではEoが20.6ルツクス・秒
まで低減しており、実用上は問題ない範囲ではあるが、
経時的な感度低下が見られた。
Furthermore, in the photoreceptors according to the present invention shown in Examples 1 to 5,
While almost no difference was observed between E and Eo, the Eo of the photoreceptor in this example was reduced to 20.6 lux·sec, which is within a range that poses no problem for practical use.
A decrease in sensitivity over time was observed.

以上より、本例に示した本発明による感光体は、感光体
としての性能を有するものである。また、この感光体に
対して常用のカールソンプロセスの中で、作像して転写
したところ、画像が得られた。
From the above, the photoreceptor according to the present invention shown in this example has performance as a photoreceptor. Further, when an image was formed and transferred to this photoreceptor using a commonly used Carlson process, an image was obtained.

比較例I CTL工程においてリチウムターシャリ−ブチラードガ
スの流量を0.2secmとする以外は、実施例1と同
様にして積層膜を作製した。
Comparative Example I A laminated film was produced in the same manner as in Example 1 except that the flow rate of lithium tertiary-butylade gas was 0.2 sec in the CTL process.

ここで得られたa−C膜につきCHN定量分析を行なっ
たところ、含有される水素原子の量は炭素原子と水素原
子の総量に対して53原子%、ざらにオージェ分析から
酸素原子の量は全構成原子に対し1.2原子%であった
。一方、リチウム原子は検出できず、オージェ分析装置
の検出限界である0、1原子%未満であった。また、a
−C膜の膜厚は12.5μmであった。
When CHN quantitative analysis was performed on the a-C film obtained here, the amount of hydrogen atoms contained was 53 at% with respect to the total amount of carbon atoms and hydrogen atoms, and roughly from Auger analysis, the amount of oxygen atoms was The amount was 1.2 at% based on the total constituent atoms. On the other hand, lithium atoms could not be detected and were less than 0.1 atomic %, which is the detection limit of the Auger analyzer. Also, a
The thickness of the -C film was 12.5 μm.

特性: 得られた積層膜を常用のカールソンプロセスの中で用い
たところVmaxは一700Vで有り、即ち、全感光体
膜厚が12.9μmであることからC,A、は56.O
Vと極めて寓く、このことから充分な帯電性能を有する
事が理解きれた。また、Tdは約25秒であり、このこ
とから充分な電荷保持性能を有する事が理解きれた。し
かし°、Eは16.フルックス・秒と比較的低く、また
、Vrも一40Vと比較的高かった。
Characteristics: When the obtained laminated film was used in a commonly used Carlson process, Vmax was -700V, that is, since the total photoreceptor film thickness was 12.9 μm, C and A were 56. O
This is very similar to V, and from this it can be understood that it has sufficient charging performance. Furthermore, the Td was approximately 25 seconds, and from this it was understood that it had sufficient charge retention performance. But °, E is 16. The flux was relatively low at seconds, and the Vr was relatively high at -40V.

ざらに E Tを測定したところは、80ルツクス・秒
の白色光量を用いても半減電位に達しなかった事から、
測定値が得られず、また、Vr’も一350■と高かっ
た。
When we roughly measured ET, we found that the half potential was not reached even when using a white light intensity of 80 lux sec.
No measured value was obtained, and Vr' was as high as -350.

以上より、本例に示した積層膜は、感度の経時劣化が著
しく、実用上の感光体としての性能を有しないものと判
断きれた。また、この積層膜に対して常用のカールソン
プロセスの中で、露光量を高くして作像して転写したと
ころ、所謂カブリの多い画像しか得られず、また、3力
月経過後においては全く画像を得ることはできなかった
。このことから、本発明においてアルカリ金属原子が添
加される事による、感度の安定化の効果が理解される。
From the above, it was concluded that the laminated film shown in this example showed significant deterioration in sensitivity over time and did not have the performance as a practical photoreceptor. Furthermore, when images were formed and transferred using the commonly used Carlson process for this laminated film at a high exposure dose, only images with so-called fog were obtained, and after 3 months, no image was formed. It was not possible to obtain an image. From this, it can be understood that the effect of stabilizing sensitivity by adding alkali metal atoms in the present invention is understood.

実施例7 CTL工程において、亜酸化窒素ガスの流量を58cc
mとする以外は、実施例5と同様にして本発明による感
光体を作製した。ここで得られたa−C膜につきCHN
定量分析を行なったところ、含有される水素原子の量は
炭素原子と水素原子の総量に対して50原子%、さらに
オージェ分析から、含有されるアルカリ金属原子、即ち
、リチウム原子の量は全構成原子に対して0.3原子%
、酸素原子の量は0.2原子%であった。また、a−C
膜の膜厚は、9.3μmであった。
Example 7 In the CTL process, the flow rate of nitrous oxide gas was set to 58cc.
A photoreceptor according to the present invention was produced in the same manner as in Example 5 except that m was used. CHN for the a-C film obtained here
Quantitative analysis revealed that the amount of hydrogen atoms contained was 50 at% based on the total amount of carbon atoms and hydrogen atoms, and Auger analysis revealed that the amount of alkali metal atoms, that is, lithium atoms, contained in the total composition was 50%. 0.3 atomic% to atoms
, the amount of oxygen atoms was 0.2 at.%. Also, a-C
The film thickness of the film was 9.3 μm.

特性: 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で用い
たところ、Vmaxは−650で有り、即ち、全感光体
膜厚が9.7μmであることからC,A、は67、OV
と極めて高く、このことから充分な帯電性能を有する事
が理解された。また、Tdは約15秒であり、このこと
から充分な電荷保持性能を有する事が理解された。また
、Eは2.フルックス・秒、vrは一10Vと良好であ
った。一方、Vmax’は一550Vに、C3A、°は
56.7に、Td’は8秒に変化し、何れも酸素原子量
の低下により僅かに経時的性能低下の傾向が見られたが
、実用上問題にならない、程度であった。
Characteristics: When the obtained photoreceptor was used in a commonly used Carlson process, Vmax was -650, that is, since the total photoreceptor film thickness was 9.7 μm, C and A were 67 and OV
It was understood from this that it had sufficient charging performance. Furthermore, the Td was approximately 15 seconds, and from this it was understood that it had sufficient charge retention performance. Also, E is 2. The flux seconds and vr were good at -10V. On the other hand, Vmax' changed to -550 V, C3A, ° changed to 56.7, and Td' changed to 8 seconds, all of which showed a slight tendency for performance to deteriorate over time due to a decrease in the amount of oxygen atoms. It was just a non-issue.

以上より、本例に示した本発明による感光体。From the above, the photoreceptor according to the present invention shown in this example.

は、感光体としての性能を有するものである。また、こ
の感光体に対して常用のカールソンプロセスの中で、帯
電器出力を高くして作像して転写したところ、画像が得
られた。
has the performance as a photoreceptor. Further, when an image was formed and transferred to this photoreceptor using a commonly used Carlson process with a high charger output, an image was obtained.

比較例2 CTL工程において、亜酸化窒素ガスの流入を行なわな
い事以外は、実施例5と同様にして砧屡膜を作製した。
Comparative Example 2 A Kinuta film was produced in the same manner as in Example 5, except that nitrous oxide gas was not introduced in the CTL process.

ここで得られたa−C膜につきCON定量分析を行なっ
たところ、含有される水素原子の量は炭素原子と水素原
子の総量に対して51原子%、ざらにオージェ分析から
、含有されるアルカリ金属原子、即ち、リチウム原子の
量は全構成原子に対して0.3原子96、酸素原子は検
出されなかった。また、得られたa −C膜の膜厚は、
11.3umであった。
When CON quantitative analysis was performed on the a-C film obtained here, the amount of hydrogen atoms contained was 51 atomic% based on the total amount of carbon atoms and hydrogen atoms. The amount of metal atoms, ie, lithium atoms, was 0.3 atoms (96) with respect to all constituent atoms, and no oxygen atoms were detected. In addition, the thickness of the obtained a-C film is
It was 11.3 um.

特性: 得られた積層膜を常用のカールソンプロセスの中で用い
たところ、VmaXは−600で有帷、即ち、全感光体
膜厚が11.7μmであることがらC,A、は51.3
Vと極めて高く、このことから充分な帯電性能を有する
事が理Mされた。また、Tdは約20秒であり、このこ
とがら充分な電荷保持性能を有する事が理解された。ま
た、Eは2.9ルツクス・秒、Vrは一10Vと良好で
あった。しかし、Vmax’は一300V、C。
Characteristics: When the obtained laminated film was used in a commonly used Carlson process, VmaX was -600 and it was stable. That is, since the total photoreceptor film thickness was 11.7 μm, C and A were 51.3.
V, which is extremely high, and from this fact it was concluded that it had sufficient charging performance. Furthermore, the Td was approximately 20 seconds, which indicates that it has sufficient charge retention performance. Further, E was 2.9 lux·sec, and Vr was -10 V, which were good. However, Vmax' is -300V, C.

A、゛は25.6V、Td ’は3秒と、何れも実施例
5と比較して酸素原子が含有されていない事による経時
的帯電性能低下の傾向が顕著に認められた。
A, ゛ was 25.6 V, Td' was 3 seconds, and in both cases, compared to Example 5, there was a marked tendency for charging performance to deteriorate over time due to the absence of oxygen atoms.

以上より、本例に示した積層膜は、感光体としての安定
性に乏しく、実用的なものではなかった。また、この積
層膜に対して、作製後3カ月の時点で常用のカールソン
プロセスの中で、帯電器出力を高くして作像して転写し
ても、極めて低濃度の画像しか得られ図、実用的な感光
体とは成りえない事が理解された。
From the above, the laminated film shown in this example had poor stability as a photoreceptor, and was not practical. Moreover, even if an image is formed and transferred using a conventional Carlson process with a high charger output three months after its production, only an extremely low-density image can be obtained from this laminated film. It was understood that it could not be used as a practical photoreceptor.

これらの事から、本発明において酸素原子の添加により
帯電性能が安定化される効果が、理解される。
From these facts, it is understood that in the present invention, the addition of oxygen atoms stabilizes the charging performance.

実施然旦 本発明に係わる製造装置を用いて、第1図に述べた如き
、導電性基板、電荷輸送層、電荷発生層をこの順に設け
た本発明感光体を作製した。
Immediately after implementation, a photoreceptor according to the present invention was manufactured using a manufacturing apparatus according to the present invention, in which a conductive substrate, a charge transport layer, and a charge generation layer were provided in this order, as shown in FIG.

CTL工程: 第7図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置(733)の内部を10−6To r r程度の高
真空にした後、第1、及び第2調節弁(707、及び7
08)を解放し、第1タンク(701)より水素ガス、
及び第2タンク(702)よりアセチレンガスを各々出
力圧1.0Kg/cm2の下で第1、及び第2流量制御
器(713、及び714)内へ、同時に、第7、及び第
8調節弁(725、及び726)を解放し、第1容器(
719)よりシクロヘキサノンガスを第1温調器(72
2)温度85℃の下で、及び、第2容器(720)より
リチウムターシャリ−ブチラードガスを第2温調器(7
23)温度185℃の下で第8流量制御器(729)内
へ流入させた。倚して各流量制御器の目盛を調整して、
水素ガスの流量を40secm、アセチレンガスの流量
を40secm、リチウムターシャリ−ブチラードガス
の流量を5sccrr+、及びシクロヘキサノンガスの
流量を20secmとなるように設定して、途中混合器
(731)を介して、主管(732)より反応室(73
3)内へ流入した。各々の流量が安定した後に、反応室
(733)内の圧力が1.0Torrとなるように圧力
調節弁(745)を調整した。一方、導電性基板(75
2)としては、樅50×横50X厚3mmのアルミニウ
ム基板を用いて、予め200℃に加熱しておき、ガス流
量及び圧力が安定した状態で、予め接続選択スイッチ(
744)により接続しておいた低周波電源(741> 
 を投入し、電力印加電極(736)に200Watt
の電力を周波数120KH2の下で印加して約35分間
プラズマ重合反応を行ない、導電性基板(752)上に
厚さ16μmのa−C膜を電荷輸送層として形成した。
CTL process: In the glow discharge decomposition apparatus shown in FIG.
08), hydrogen gas is released from the first tank (701),
and acetylene gas from the second tank (702) into the first and second flow rate controllers (713 and 714) under an output pressure of 1.0 Kg/cm2, respectively, and simultaneously through the seventh and eighth control valves. (725, and 726) and release the first container (
719) to the cyclohexanone gas from the first temperature controller (72
2) At a temperature of 85°C, lithium tertiary-butyrad gas is supplied from the second container (720) to the second temperature regulator (720).
23) Flowed into the eighth flow controller (729) at a temperature of 185°C. Adjust the scale of each flow controller,
The flow rate of hydrogen gas is set to 40 seconds, the flow rate of acetylene gas is set to 40 seconds, the flow rate of lithium tert-butylade gas is set to 5 sccrr+, and the flow rate of cyclohexanone gas is set to 20 seconds, and the flow rate is set to 40 seconds, and the flow rate of cyclohexanone gas is set to 20 seconds. (732) from the reaction chamber (73
3) It flowed into the interior. After each flow rate became stable, the pressure control valve (745) was adjusted so that the pressure in the reaction chamber (733) was 1.0 Torr. On the other hand, a conductive substrate (75
For 2), use an aluminum board of 50 x 50 x 3 mm thick, heat it to 200°C in advance, and with the gas flow rate and pressure stable, connect the connection selection switch (
744) connected to the low frequency power supply (741>
and applied 200W to the power application electrode (736).
A plasma polymerization reaction was carried out for about 35 minutes by applying electric power at a frequency of 120 KH2 to form a 16 μm thick a-C film as a charge transport layer on the conductive substrate (752).

成膜完了後は、電力印加を停止し、調節弁を閉じ、反応
室(733)内を充分に排気した。
After the film formation was completed, power application was stopped, the control valve was closed, and the inside of the reaction chamber (733) was sufficiently evacuated.

以上のようにして得られたa−CM’AにっキcHN定
量分析を行なったところ、含有される水素原子の量は炭
素原子と水素原子の総量に対して40原子%、ざらにオ
ージェ分析から、含有されるアルカリ金属原子、即ち、
リチウム原子の量は全構成原子に対し3.9原子%、酸
素原子の量は4゜7原子%であった。
Quantitative analysis of the a-CM'A Niki cHN obtained as described above revealed that the amount of hydrogen atoms contained was 40 at% based on the total amount of carbon atoms and hydrogen atoms, roughly based on Auger analysis. From the alkali metal atoms contained, i.e.
The amount of lithium atoms was 3.9 at% and the amount of oxygen atoms was 4.7 at% based on the total constituent atoms.

CGL工程: 次いで、実施例1と同(相こして、電荷発生層を形成し
た。
CGL process: Next, a charge generation layer was formed in the same manner as in Example 1.

特性: 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で用い
たところVmaxは一650■で有り、即ち、全感光体
膜厚が16.4μmであることからC,A、は39.6
Vと極めて高く、このことから充分な帯電性能を有する
事が理解きれた。また、Tdは約25秒であり、このこ
とから充分な電荷保持性能を有する事が理解された。ま
た、Eは6.3ルツクス・秒であり、好適な光感度性能
を有する事が理解された。また、Vrも一10Vと低(
、良好である事が理解きれた。
Characteristics: When the obtained photoreceptor was used in a commonly used Carlson process, Vmax was -650 mm, that is, since the total photoreceptor film thickness was 16.4 μm, C and A were 39.6.
V, which is extremely high, and from this we can understand that it has sufficient charging performance. Furthermore, the Td was approximately 25 seconds, and from this it was understood that it had sufficient charge retention performance. In addition, E was 6.3 lux·sec, and it was understood that the film had suitable photosensitivity performance. In addition, Vr is low at -10V (
, I understand that it is good.

この感光体に対して常用のカールソンプロセスの中で、
作像して転写したところ、鮮明な画像が得られた。
In the Carlson process commonly used for this photoreceptor,
When an image was created and transferred, a clear image was obtained.

去施±旦 シクロヘキサノンガスの流量を30 s e cmとす
る以外は、実施例8と同様にして、本発明感光体を作製
した。得られたa−C膜につきCHN定量分析を行なっ
たところ、含有される水素原子の量は炭素原子と水素原
子の総量に対して38原子%、ざらにオージェ分析から
、含有されるアルカリ金属原子、即ち、リチウム原子の
量は全構成原子に対し3.9原子%、酸素原子の量は7
.0原子%であった。
A photoreceptor of the present invention was produced in the same manner as in Example 8, except that the flow rate of cyclohexanone gas during the application was 30 sec cm. When the obtained a-C film was subjected to CHN quantitative analysis, the amount of hydrogen atoms contained was 38 at% based on the total amount of carbon atoms and hydrogen atoms, and roughly Auger analysis revealed that the amount of contained alkali metal atoms was , that is, the amount of lithium atoms is 3.9 at% based on the total constituent atoms, and the amount of oxygen atoms is 7.
.. It was 0 atom%.

特性: 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で用い
たところVmaxは一850■で有り、即ち、全感光体
膜厚が17.4μmであることからC,A、は48.9
Vと極めて高く、このこ七から充分な帯電性能を有する
事が理解された。また、Tdは約30秒であり、このこ
とから充分な電荷保持性能を有する事が理解きれた。ま
た、Eは10.2ルツクス・秒であり、若干低いが実用
上問題のない光感度性能を有する事が理解された。また
、Vrは一30Vであり、実用上問題のない事が理解さ
れた。また、Eoは13.6ルツクス・秒であり、実用
上問題のない事が理解された。
Characteristics: When the obtained photoreceptor was used in a commonly used Carlson process, Vmax was -850 mm, that is, since the total photoreceptor film thickness was 17.4 μm, C and A were 48.9.
It was understood from this figure that it had sufficient charging performance. Moreover, Td was about 30 seconds, which made it clear that it had sufficient charge retention performance. Furthermore, E was 10.2 lux·sec, which was understood to have a photosensitivity performance that, although slightly low, poses no problem in practical use. Further, Vr was -30V, which was understood to pose no practical problem. Furthermore, Eo was 13.6 lux·sec, which was understood to pose no practical problem.

この感光体に対して常用のカールソンプロセスの中で、
作像して転写したところ、画像が得られた。
In the Carlson process commonly used for this photoreceptor,
When an image was created and transferred, an image was obtained.

比較透旦 シクロヘキサノンガス流量を60secm、第1温調器
(722)温度を90℃とする事以外は実施例8と同様
にして積層膜を作製した。
A laminated film was produced in the same manner as in Example 8, except that the flow rate of comparative cyclohexanone gas was 60 sec, and the temperature of the first temperature controller (722) was 90°C.

ここで得られたa−C膜につきCHN定量分析を行なっ
たところ、含有される水素原子の量は炭素原子と水素原
子の総量に対して37原子%、ざらにオージェ分析から
、含有されるアルカリ金属原子、即ち、リチウム原子の
量は全構成原子に対し3.8原子%、酸素原子の量−u
lo、3原子%であった。また、得られたa−C膜の膜
厚は18μmであった。
When CHN quantitative analysis was performed on the a-C film obtained here, the amount of hydrogen atoms contained was 37 at% based on the total amount of carbon atoms and hydrogen atoms. The amount of metal atoms, i.e. lithium atoms, is 3.8 at% based on the total constituent atoms, and the amount of oxygen atoms - u
lo, 3 at.%. Moreover, the film thickness of the obtained a-C film was 18 μm.

特性: 得られた積層膜を常用のカールソンプロセスの中で用い
たところVmaxは一750Vで有り、即ち、全膜厚が
18.4μmであることからC0A、は40.8Vと極
めて高く、このことから充分な帯電性能を有する事が理
解された。また、Tdは約30秒であり、このことから
充分な電荷保持性能を有する事が理解された。しかし、
Eは35.4ルツクス・秒であり、感度は非常に低く、
更に、Vrは一100■と高く、ここで得られた積層膜
は実用的な感光体性能を有きないものと判断きれた。
Characteristics: When the obtained laminated film was used in a commonly used Carlson process, Vmax was -750V, that is, since the total film thickness was 18.4 μm, COA was extremely high at 40.8V. It was understood that it had sufficient charging performance. Furthermore, the Td was approximately 30 seconds, and from this it was understood that it had sufficient charge retention performance. but,
E is 35.4 lux·sec, and the sensitivity is very low.
Furthermore, Vr was as high as 1,100 square meters, and it was concluded that the laminated film obtained here did not have practical photoreceptor performance.

これらの事から本発明における感光体においては、過剰
の酸素原子添加は必ずしも好適とはならない事が理mさ
れる。
From these facts, it is understood that in the photoreceptor of the present invention, addition of excessive oxygen atoms is not necessarily suitable.

X旅例1p リチウムターシャリ−ブチラードガスの流量を8sec
mとする事以外は、実施例1と同様にして本発明感光体
を作製した。得られたa −C膜につきCHN定量分析
を行なったところ、含有される水素原子の量は炭素原子
と水素原子の総量に対して42原子%、ざらにオージェ
分析から、含有されるアルカリ金属原子、即ち、リチウ
ム原子の量は全構成原子に対し5.○原子%、酸素原子
の量は1.6原子%であった。
X journey example 1p Lithium tertiary-butyrad gas flow rate 8 seconds
A photoreceptor of the present invention was produced in the same manner as in Example 1, except that m was used. When CHN quantitative analysis was performed on the obtained a-C film, the amount of hydrogen atoms contained was 42 at% based on the total amount of carbon atoms and hydrogen atoms, and roughly Auger analysis revealed that the amount of contained alkali metal atoms was 42 at% based on the total amount of carbon atoms and hydrogen atoms. That is, the amount of lithium atoms is 5.5% relative to all constituent atoms. ○ atomic%, the amount of oxygen atoms was 1.6 atomic%.

特性: 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で用い
たところVmaxは一650■で有り、即ち、全感光体
膜厚が11.2μmであった事からC,A、は58.O
Vと極めて高く、このことから充分な帯電性能を有する
事が理解きれた。また、Tdは約15秒であり、このこ
とから充分な電荷保持性能を有する事が理解された。ま
た、Eは1.1ルツクス・秒であり、好適な光感度性能
を有する事が理Mきれた。また、Vrも一5■と低く、
良好である事が理解された。
Characteristics: When the obtained photoreceptor was used in a commonly used Carlson process, Vmax was -650 mm, that is, since the total photoreceptor film thickness was 11.2 μm, C and A were 58. O
V, which is extremely high, and from this we can understand that it has sufficient charging performance. Furthermore, the Td was approximately 15 seconds, and from this it was understood that it had sufficient charge retention performance. In addition, E was 1.1 lux·sec, and it was reasonable that the film had suitable photosensitivity performance. In addition, Vr is low at 15■,
It was understood that it was good.

この感光体に対して常用のカールソンプロセスの中で、
作像して転写したところ、鮮明な画像が得られた。
In the Carlson process commonly used for this photoreceptor,
When an image was created and transferred, a clear image was obtained.

大旅廻J1 リチウムターシャリ−ブチラードガスの流量を15se
cm、アセチレンガスの流量を20SCcm、a−C膜
の成膜時間を4時間30分とする事以外は、実施例1と
同様にして本発明感光体を作製した。得られたa−C膜
につきCHN定量分析を行なったところ、含有される水
素原子の量は炭素原子と水素原子の総量に対して43原
子%、ざらにオージェ分析から、含有されるアルカリ金
属原子、即ち、リチウム原子の量は全構成原子に対し1
0原子%、酸素原子の量は1.9原子%であった。
Daitabikai J1 Lithium tertiary-butyrad gas flow rate 15se
A photoreceptor of the present invention was produced in the same manner as in Example 1, except that the acetylene gas flow rate was 20 SC cm, and the a-C film formation time was 4 hours and 30 minutes. When the obtained a-C film was subjected to CHN quantitative analysis, the amount of hydrogen atoms contained was 43 at% based on the total amount of carbon atoms and hydrogen atoms, and roughly Auger analysis revealed that the amount of contained alkali metal atoms was 43 at% based on the total amount of carbon atoms and hydrogen atoms. , that is, the amount of lithium atoms is 1 for all constituent atoms.
The amount of oxygen atoms was 1.9 at%.

特性: 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で用い
たところVmaxは一450Vで有り、即ち、全感光体
膜厚が10.2μmであった事がらC,A、は44.I
Vと極めて高く、このことから充分な帯電性能を有する
事が理解された。また、Tdは約10秒であり、この事
がら充分な電荷保持性能を有する事が理解された。また
、Eは0.9ルツクス・秒であり、好適な光感度性能を
有する事が理解きれた。また、Vrも一5Vと低く、良
好である事が理解きれた。一方、VmaX゛は一400
VSTd ’は約8秒と、アルカリ金属原子量の増加に
伴う帯電能低下の傾向が見られたが、実用上問題の無い
事が理解された。
Characteristics: When the obtained photoreceptor was used in a commonly used Carlson process, Vmax was -450V, that is, since the total photoreceptor film thickness was 10.2 μm, C and A were 44. I
V, which is extremely high, and it was understood from this that it had sufficient charging performance. Furthermore, the Td was approximately 10 seconds, which indicates that the material has sufficient charge retention performance. In addition, E was 0.9 lux·sec, and it was understood that it had suitable photosensitivity performance. In addition, Vr was as low as -5V, which was understood to be good. On the other hand, VmaX゛ is -400
VSTd' was about 8 seconds, and although there was a tendency for the charging ability to decrease as the amount of alkali metal atoms increased, it was understood that there was no problem in practical use.

この感光体に対して常用のカールソンプロセスの中で、
作像して転写したところ、画像が得られた。
In the Carlson process commonly used for this photoreceptor,
When an image was created and transferred, an image was obtained.

大施健上旦 CTL工程と、CGL工程とを入れ替えて行なう事以外
は、実施例3と同様にして本発明感光体を作製した。得
られたa−C膜にっきCHN定量分析を行なったところ
、含有される水素原子の量は炭素原子と水素原子の総量
に対して44原子%、ざらにオージェ分析から、含有さ
れるアルカリ金属原子、即ち、リチウム原子の量は全構
成原子に対し1.3原子%、酸素原子の量は1.4原子
%であった。
A photoreceptor of the present invention was produced in the same manner as in Example 3, except that the CTL process and the CGL process were replaced. Quantitative CHN analysis of the resulting a-C film revealed that the amount of hydrogen atoms contained was 44 at% based on the total amount of carbon atoms and hydrogen atoms, and roughly Auger analysis revealed that the amount of alkali metal atoms contained was 44 at%. That is, the amount of lithium atoms was 1.3 at% and the amount of oxygen atoms was 1.4 at% based on all constituent atoms.

特性: 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で用い
たところVmaxは一650■で有り、即ち、全感光体
膜厚が12.5μmであった事がらC,A、は52.O
Vと極めて高く、このことから充分な帯電性能を有する
事が理Mされた。また、Tdは約20秒であり、この事
がら充分な電荷保持性能を有する事が理解きれた。また
、Eは3.8ルツクス・秒であり、好適な光感度性能を
有する事が理解きれた。また、Vrも一20Vと低く、
良好である事が理解された。
Characteristics: When the obtained photoreceptor was used in a commonly used Carlson process, Vmax was -650 μm, that is, although the total photoreceptor film thickness was 12.5 μm, C and A were 52. O
V, which is extremely high, and from this fact it was concluded that it had sufficient charging performance. Further, Td was about 20 seconds, which indicates that it has sufficient charge retention performance. In addition, E was 3.8 lux·sec, and it was understood that it had suitable photosensitivity performance. In addition, Vr is low at -20V,
It was understood that it was good.

この感光体に対して常用のカールソンプロセスの中で、
作像して転写したところ、画像が得られた。この事から
、本発明感光体は、積N構成を替えても作製可能である
事が理解される。
In the Carlson process commonly used for this photoreceptor,
When an image was created and transferred, an image was obtained. From this, it is understood that the photoreceptor of the present invention can be manufactured even if the product N configuration is changed.

大兄医上旦 リチウムターシャリ−ブチラードガスの代りに、アクリ
ル酸カリウムガスを用い、流量を1secm、第1温調
器(722)温度を230℃とする事以外は、実施例2
と同様にして本発明感光体を作製した。得られたa −
C膜にっきCHN定量分析を行なったところ、含有され
る水素原子の量は炭素原子と水素原子の総量に対して3
9原子%、さらにオージェ分析から、含有されるアルカ
リ金属原子、即ち、カリウム原子の輩は全構成原子に対
し0.8原子%、酸素原子の量は1.4原子%であった
Example 2 except that potassium acrylate gas was used instead of lithium tert-butylade gas, the flow rate was 1 sec, and the temperature of the first temperature controller (722) was 230°C.
A photoreceptor of the present invention was produced in the same manner as described above. Obtained a −
Quantitative analysis of CHN on a C film revealed that the amount of hydrogen atoms contained was 3% compared to the total amount of carbon atoms and hydrogen atoms.
Further, Auger analysis revealed that the amount of alkali metal atoms contained, that is, potassium atoms, was 0.8 at%, and the amount of oxygen atoms was 1.4 at%, based on the total constituent atoms.

特性: 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で用い
たところVmaXは一650Vで有り、即ち、全感光体
膜厚が10.5μmであった事からC,A、は61.9
Vと極めて高く、このことから充分な帯電性能を有する
事が理解された。また、Tdは約15秒であり、この事
から充分な電荷保持性能を有する事が理解された。また
、Eは2.5ルツクス・秒であり、好適な光感度性能を
有する事が理解きれた。また、■rも一20Vと低く、
良好である事が理解された。
Characteristics: When the obtained photoreceptor was used in a commonly used Carlson process, VmaX was -650V, that is, since the total photoreceptor film thickness was 10.5 μm, C and A were 61.9.
V, which is extremely high, and it was understood from this that it had sufficient charging performance. Furthermore, the Td was approximately 15 seconds, and from this fact it was understood that it had sufficient charge retention performance. In addition, E was 2.5 lux·sec, and it was understood that it had suitable photosensitivity performance. In addition, ■r is low at -20V,
It was understood that it was good.

さらに、Vmax’、C,A、’、Td’、ET 、V
、lにおいても、これらとほぼ同等の値が測定誤差範囲
内で得られた。
Furthermore, Vmax', C, A,', Td', ET, V
, l, values almost equivalent to these were obtained within the measurement error range.

この感光体に対して常用のカールソンプロセスの中で、
作像して転写したところ、鮮明な画像が得られた。この
事から、本発明感光体は、アルカリ金属原子の種類によ
らず作製可能である事が理解される。
In the Carlson process commonly used for this photoreceptor,
When an image was created and transferred, a clear image was obtained. From this, it is understood that the photoreceptor of the present invention can be produced regardless of the type of alkali metal atom.

叉施例14 本発明に係わる感光体の製造装置を用いて、第2図に示
す如き、導電性基板、電荷発生層、電荷輸送層をこの順
に設けた本発明感光体を作製しCGL工程: 真空蒸着の常法を用いてアルミニウムクロルフタロシア
ニンクロライドAlClPc (C1)の蒸着膜を、ボ
ート温度450乃至490℃、真空度5X10−5乃至
lXl0−’Torrs蒸着時間約10分間の条件下で
約1000人の膜厚で設けた。ざらに、THF蒸気にて
30分間溶剤処理を行なった。
Example 14 Using a photoreceptor manufacturing apparatus according to the present invention, a photoreceptor of the present invention having a conductive substrate, a charge generation layer, and a charge transport layer provided in this order as shown in FIG. 2 was manufactured, and the CGL process: A vapor-deposited film of aluminum chlorophthalocyanine chloride AlClPc (C1) was deposited using a conventional vacuum vapor deposition method under conditions of a boat temperature of 450 to 490°C, a vacuum degree of 5X10-5 to 1X10-' Torrs, and a deposition time of about 10 minutes using about 1,000 people. It was provided with a film thickness of . Roughly, solvent treatment was performed with THF vapor for 30 minutes.

CTL工程: 第7図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置(733)の内部を10−’Torr程度の高真空
にした後、第1、第2、及び第4調節弁(707,70
8、及び710)を解放し、第1タンク(701)より
水素ガス、第2タンク(702)よりブタジェンガス、
及び第4タンク(704)より亜酸化窒素ガスを各々出
力圧1゜0Kg/am2の下で第1、第2、及び第4流
量制御器(713,714、及び716)内へ流入させ
た。同時に、第1容器(719)よりリチウムターシャ
リ−ブチラードガスを第1温調器(722)温度180
℃のもとで固体より昇華させながら、第7流量制郡器(
728)内へ流入させた。
CTL process: In the glow discharge decomposition apparatus shown in FIG. 70
8, and 710), hydrogen gas from the first tank (701), butadiene gas from the second tank (702),
Nitrous oxide gas was then flowed from the fourth tank (704) into the first, second, and fourth flow rate controllers (713, 714, and 716) under an output pressure of 1°0 Kg/am 2 . At the same time, lithium tertiary-butyrad gas is supplied from the first container (719) to the first temperature regulator (722) at a temperature of 180.
While sublimating from the solid at ℃, the 7th flow rate control device (
728).

そして各流量制御器の目盛を調整して、水素ガスの流量
を40secm、ブタジェンガスの流量を40secm
、リチウムターシャリ−ブチラードガスの流量を2.8
secm、及び亜酸化窒素ガスの流量を40secmと
なるように設定して、途中混合器(731)を介して、
主管(732)より反応室(733)内へ流入した。各
々の流量が安定した後に、反応室(733)内の圧力が
0.5Torrとなるように圧力調節弁(745)を調
整した。一方、導電性基板(752)としては、予めA
lClPc (CI)の蒸着膜を設けた樅5OX横50
X厚3mmのアルミニウム基板を75℃に加熱しておき
、ガス流量及び圧力が安定した状態で、予め接続選択ス
イッチ(744)により接続しておいた低周波電源(7
41)を投入し、電力印加電極(736)に120Wa
11の電力を周波数150KHzの下で印加して約15
分間プラズマ重合反応を行ない、導電性基板(752)
上に厚?r7.3μmのa −C膜を電荷輸送層として
形成した。成膜完了後は、電力印加を停止し、調節弁を
閉じ、反応室(733)内を充分に排気した。
Then, adjust the scales of each flow rate controller to set the hydrogen gas flow rate to 40 seconds and the butadiene gas flow rate to 40 seconds.
, the flow rate of lithium tertiary-butylade gas was 2.8
secm, and the flow rate of nitrous oxide gas is set to 40 sec, via an intermediate mixer (731),
It flowed into the reaction chamber (733) from the main pipe (732). After each flow rate became stable, the pressure control valve (745) was adjusted so that the pressure in the reaction chamber (733) was 0.5 Torr. On the other hand, as the conductive substrate (752), A
Fir 5OX horizontal 50 with vapor deposited film of lClPc (CI)
An aluminum substrate with a thickness of
41) and apply 120W to the power application electrode (736).
Applying a power of 11 at a frequency of 150KHz to approximately 15
A conductive substrate (752) is subjected to a plasma polymerization reaction for a minute.
Thick on top? An a-C film with r7.3 μm was formed as a charge transport layer. After the film formation was completed, power application was stopped, the control valve was closed, and the inside of the reaction chamber (733) was sufficiently evacuated.

以上のようにして得られたa−C膜につきCHN定量分
析を行なったところ、含有される水素原子の量は炭素原
子と水素原子の総量に対して42原子%、ざらにオージ
ェ分析から、含有されるアルカリ金属原子、即ち、リチ
ウム原子の量は全構成原子に対し1.9原子%、酸素原
子の量は2゜2原子%であった。
CHN quantitative analysis was performed on the a-C film obtained as described above, and the amount of hydrogen atoms contained was 42 at% based on the total amount of carbon atoms and hydrogen atoms. The amount of alkali metal atoms, ie, lithium atoms, contained was 1.9 at.%, and the amount of oxygen atoms was 2.2 at.% based on the total constituent atoms.

特性: 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で用い
たところVmaxは一600Vで有り、即ち、全感光体
膜厚が7.4μmであることからC,A、は81.IV
と極めて高く、このことから充分な帯電性能を有する事
が理解された。また、Tdは約15秒であり、このこと
から充分な電荷保持性能を有する事が理解された。また
、Eは1.フルックス・秒であり、このことがら充分な
光感度性能を有する事が理解された。また、Vrは一1
0Vであり、極めて良好である事が理解された。さらに
露光源に発光波長780nmの半導体−デー光を用い、
Eと同様にして感度測定を行なったところ、6.2er
g/am2であり、長波長域においても充分な感度を有
する事が理解された。
Characteristics: When the obtained photoreceptor was used in a commonly used Carlson process, Vmax was -600V, that is, since the total photoreceptor film thickness was 7.4 μm, C and A were 81. IV
It was understood from this that it had sufficient charging performance. Furthermore, the Td was approximately 15 seconds, and from this it was understood that it had sufficient charge retention performance. Also, E is 1. flux seconds, and from this fact it was understood that it has sufficient photosensitivity performance. Also, Vr is -1
It was understood that the voltage was 0V, which was extremely good. Furthermore, using semiconductor data light with an emission wavelength of 780 nm as the exposure source,
When I measured the sensitivity in the same way as E, it was 6.2er.
g/am2, and was understood to have sufficient sensitivity even in the long wavelength range.

以上より、本例に示した本発明による感光体は、優れた
性能を有するものであり、電荷発生層の種類を替えても
作製可能である事が理解される。また、この感光体に対
して常用のカールソンプロセスの中で、作像して転写し
たところ、白色光を露光源とした場合においても、半導
体レーザー光を露光源とした場合においても、鮮明な画
像が得られた。
From the above, it is understood that the photoreceptor according to the present invention shown in this example has excellent performance and can be manufactured even if the type of charge generation layer is changed. In addition, when an image was formed and transferred on this photoreceptor using the commonly used Carlson process, it was found that the image was clear regardless of whether white light was used as the exposure source or semiconductor laser light was used as the exposure source. was gotten.

X施ガ1旦 本発明に係わる製造装置を用いて、第1図に示す如き、
導電性基板、電荷輸送層、電荷発生層をこの順に設けた
本発明感光体を作製した。
Once the X treatment is performed, as shown in FIG.
A photoreceptor of the present invention was prepared in which a conductive substrate, a charge transport layer, and a charge generation layer were provided in this order.

CTL工程: 第8図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置(833)の内部を10−6To r r程度の高
真空にした後、第1、第2、及び第4調節弁(807,
8o8、及び810)を解放し、第1タンク(801)
より水素ガス、第2タンク(802)よりアセチレンガ
ス、及び第4タンク(804)より亜酸化窒素ガスを各
々出力圧1.。
CTL process: In the glow discharge decomposition apparatus shown in FIG. ,
8o8, and 810), and the first tank (801)
hydrogen gas, acetylene gas from the second tank (802), and nitrous oxide gas from the fourth tank (804) at an output pressure of 1. .

OKg/cm2の下で第1、第2、及び第4流量制御器
(813,814、及び816)内へ流入させた。同時
に、第1容器(819)よりリチウムターシャリ−ブチ
ラードガスを第1温調器(822)温度180℃のもと
で固体より昇華させながら、第7流量制御器(828)
内へ流入きせた。
It was allowed to flow into the first, second and fourth flow controllers (813, 814 and 816) under OKg/cm2. At the same time, while sublimating lithium tert-butylade gas from the solid from the first temperature controller (822) at a temperature of 180°C from the first container (819), the seventh flow rate controller (828)
It flowed inside.

そして各流量制御器の目盛を調整して、水素ガスの流量
を200sccrr+、アセチレンガスの流量を120
secm、リチウムターシャリ−ブチラードガスの流量
を2.8sccrr+1及び亜酸化窒素ガスの流量を4
0secmとなるように設定して、途中混合器(831
)を介して、主管(832)より反応室(833)内へ
流入した。各々の流量が安定した後に、反応室(833
)内の圧力が0.5Torrとなるように圧力調節弁(
845)を調整した。一方、導電性基板(852)とし
ては、直径80×長き330mmの円筒状アルミニウム
基板を用いて、予め180℃に加熱しておき、ガス流量
及び圧力が安定した状態で、予め接続選択スイッチ(8
44)により接続してあいた高周波電源(839)を投
入し、電力印加電極(836)に250Wattの電力
を周波数13.56MHzの下で印加して約3時間プラ
ズマ重合反応を行ない、導電性基板(852)上に厚さ
13.3μmのa−C膜を電荷輸送層として形成した。
Then, adjust the scale of each flow rate controller to set the hydrogen gas flow rate to 200 sccrr+ and the acetylene gas flow rate to 120 sccrr+.
secm, the flow rate of lithium tert-butylade gas is 2.8 sccrr+1 and the flow rate of nitrous oxide gas is 4.
Set it so that it is 0 sec, and mixer (831
) into the reaction chamber (833) from the main pipe (832). After each flow rate stabilizes, the reaction chamber (833
) so that the pressure in ( ) becomes 0.5 Torr.
845) was adjusted. On the other hand, as the conductive substrate (852), a cylindrical aluminum substrate with a diameter of 80 mm and a length of 330 mm is used. It is heated to 180°C in advance, and the connection selection switch (852) is heated in advance to 180°C.
The high frequency power source (839) connected to the conductive substrate (44) is turned on, and a power of 250 Watts is applied to the power application electrode (836) at a frequency of 13.56 MHz to perform a plasma polymerization reaction for about 3 hours. 852), a 13.3 μm thick a-C film was formed thereon as a charge transport layer.

成膜完了後は、電力印加を停止し、調節弁を閉じ、反応
室(833)内を充分に排気した。
After the film formation was completed, power application was stopped, the control valve was closed, and the inside of the reaction chamber (833) was sufficiently evacuated.

以上のようにして得られたa−C膜につきCHN定量分
析を行なったところ、含有される水素原子の量は炭素原
子と水素原子の総量に対して35原子%、ざらにオージ
ェ分析から、含有されるアルカリ金属原子、即ち、リチ
ウム原子の量は全構成原子に対し2.5原子%、酸素原
子の量は1゜5原子%であった。
CHN quantitative analysis was performed on the a-C film obtained as described above, and the amount of hydrogen atoms contained was 35 at% based on the total amount of carbon atoms and hydrogen atoms. The amount of alkali metal atoms, ie, lithium atoms, contained was 2.5 at.%, and the amount of oxygen atoms was 1.5 at.% based on the total constituent atoms.

CGL工程: 次いで、第1調節弁(807) 、第4調節弁(810
)、及び第6調節弁(812)を解放し、第1タンク(
801)から水素ガス、第4タンク(804)から亜酸
化窒素ガス、及び第6.タンク(806)からシランガ
スを、出力圧IKg/cm2の下で第1、及び第6−流
量制御器(813,816、及び818)内へ流入させ
た。各流量制御器の目盛を調整して水素ガスの流量を2
00secm、亜酸化窒素ガスの流量を1.0secm
、及びシランガスの流量を101005eに設定し、反
応室(833)内に流入きせた。各々の流量が安定した
後に、反応室(833)内の圧力が1.0Torrとな
るように圧力調節弁(845)を調整した。一方、a−
C膜が形成きれている導電性基板(852)は、180
℃に加熱しておき、ガス流量及び圧力が安定した状態で
、高周波電源(839)より周波数13.56MHzの
下で電力印加電極(836)に200Wattの電力を
印加し、グロー放電を発生させた。この放電を15分間
行ない、厚ざ0.4μmのa−Si:H電荷発生層を形
成した。
CGL process: Next, the first control valve (807) and the fourth control valve (810
), and the sixth control valve (812) are released, and the first tank (
801), hydrogen gas from the fourth tank (804), nitrous oxide gas from the fourth tank (804), and sixth tank (804). Silane gas was flowed from the tank (806) into the first and sixth flow controllers (813, 816 and 818) under an output pressure of IKg/cm2. Adjust the scale of each flow rate controller to increase the hydrogen gas flow rate to 2.
00sec, nitrous oxide gas flow rate 1.0sec
, and the flow rate of silane gas were set to 101005e and allowed to flow into the reaction chamber (833). After each flow rate became stable, the pressure control valve (845) was adjusted so that the pressure inside the reaction chamber (833) was 1.0 Torr. On the other hand, a-
The conductive substrate (852) on which the C film is completely formed is 180
℃, and with the gas flow rate and pressure stable, a power of 200 Watt was applied to the power application electrode (836) at a frequency of 13.56 MHz from the high frequency power source (839) to generate a glow discharge. . This discharge was carried out for 15 minutes to form an a-Si:H charge generation layer having a thickness of 0.4 μm.

特性: 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で用い
たところVmaxは一650Vで有り2、即ち、全感光
体膜厚が13.7μmであった事からC,A、は47.
4Vと極めて高く、このことから充分な帯電性能を有す
る事が理解された。また、Tdは約10秒であり、この
ことから充分な電荷保持性能を有する事が理解された。
Characteristics: When the obtained photoreceptor was used in a commonly used Carlson process, Vmax was -650V, which was 2. That is, the total photoreceptor film thickness was 13.7 μm, so C and A were 47.
The voltage was extremely high at 4V, and from this it was understood that it had sufficient charging performance. Furthermore, the Td was approximately 10 seconds, and from this it was understood that the film had sufficient charge retention performance.

また、Eは1.2ルツクス・秒であり、このことから充
分な光感度性能を有する事が理解された。また、■rは
一10Vであり、極めて良好である事が理解された。
Moreover, E was 1.2 lux·sec, and from this it was understood that the film had sufficient photosensitivity performance. In addition, it was understood that ■r was -10V, which was extremely good.

以上より、本例に示した本発明による感光体は、優れた
性能を有するものであり、基板形状を替えても作製可能
である事が理PJiキれる。また、この感光体をミノル
タカメラ株式会社EP6502に搭載して作像して転写
したところ鮮明な画像が得られた。
From the above, it is clear that the photoreceptor according to the present invention shown in this example has excellent performance and can be manufactured even if the substrate shape is changed. Further, when this photoreceptor was mounted on a Minolta Camera Co., Ltd. EP6502 and an image was formed and transferred, a clear image was obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図乃至第6図は本発明感光体の構成を示す図面、第
7図乃至第8図は本発明に係わる感光体の製造装置を示
す図面である。 出願人 ミノルタカメラ株式会社 第1図 第3図 第5図 第2図 第4図 第6図
1 to 6 are drawings showing the structure of a photoreceptor according to the present invention, and FIGS. 7 to 8 are drawings showing an apparatus for manufacturing a photoreceptor according to the present invention. Applicant: Minolta Camera Co., Ltd. Figure 1 Figure 3 Figure 5 Figure 2 Figure 4 Figure 6

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 電荷発生層と電荷輸送層とを有する感光体において、該
電荷輸送層は炭化水素を気相状態でプラズマ重合して形
成される炭素と水素を構成原子としてなる非晶質固体で
あり、かつ、化学的修飾物質として少なくともアルカリ
金属原子と酸素原子を含有し、その含有量は全構成原子
に対してアルカリ金属原子が0.1乃至10原子%、酸
素原子が7原子%以下であることを特徴とする感光体。
In a photoreceptor having a charge generation layer and a charge transport layer, the charge transport layer is an amorphous solid formed by plasma polymerizing hydrocarbons in a gas phase and whose constituent atoms are carbon and hydrogen, and Contains at least an alkali metal atom and an oxygen atom as chemical modifiers, and the content thereof is 0.1 to 10 at% of alkali metal atoms and 7 at% or less of oxygen atoms based on all constituent atoms. photoreceptor.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6388560A (en) * 1986-10-02 1988-04-19 Fuji Xerox Co Ltd Production of functional layer of electrophotographic sensitive body
WO1995004609A1 (en) * 1993-08-09 1995-02-16 Ciba-Geigy Ag Hydrophilic films by plasma polymerisation

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