JPS6381455A - Photosensitive body - Google Patents

Photosensitive body

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JPS6381455A
JPS6381455A JP22936186A JP22936186A JPS6381455A JP S6381455 A JPS6381455 A JP S6381455A JP 22936186 A JP22936186 A JP 22936186A JP 22936186 A JP22936186 A JP 22936186A JP S6381455 A JPS6381455 A JP S6381455A
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JP
Japan
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film
gas
atoms
flow rate
photoreceptor
Prior art date
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Application number
JP22936186A
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Japanese (ja)
Inventor
Shuji Iino
修司 飯野
Mochikiyo Osawa
大澤 以清
Hideo Yasutomi
英雄 保富
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Minolta Co Ltd
Original Assignee
Minolta Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPS6381455A publication Critical patent/JPS6381455A/en
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    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
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    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/04Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
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    • G03G5/082Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic and not being incorporated in a bonding material, e.g. vacuum deposited
    • G03G5/08285Carbon-based
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Abstract

PURPOSE:To provide adequate transferability and excellent photoconductivity to the tilted photosensitive body by using a hydrogenated amorphous carbon film contg. oxygen atoms to form the charge transfer layer and using a hydrogenated or fluorinated amorphous and either of film into which oxygen atoms are incorporated and either of phosphorus atoms or boron atoms are incorporated to form the charge generating layer. CONSTITUTION:This function sepn. type photosensitive body having the charge generating layer 3 and the charge transfer layer 2 is provided with the hydrogenated amorphous carbon film which is formed by glow discharge and into which the oxygen atoms are incorporated as the charge transfer layer 2 and the hydrogenated or fluorinated amorphous silicon film which is likewise formed by the glow discharge and into which at least either of the phosphorus atoms or boron atoms are incorporated and the oxygen atoms are incorporated as the charge generating layer 3. High dark resistance and excellent electric charge transferability are thereby provided to the charge transfer layer 2 so that said layer can make contribution to bright attenuation. The carriers generated in the formed film are efficiently implanted into the charge generating layer 3 in the lamination constitution with the charge transfer layer 2 so that said layer can make adequate contribution to the bright attenuation.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、電荷発生層と電荷輸送層とを有する感光体に
関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to a photoreceptor having a charge generation layer and a charge transport layer.

従来技術 カールソン法の発明以来、電子写真の応用分野は著しい
発展を続け、電子写真用感光体にも様々な材料が開発さ
れ実用化されてきた。
BACKGROUND OF THE INVENTION Since the invention of the Carlson method, the application field of electrophotography has continued to make remarkable progress, and various materials have been developed and put into practical use for electrophotographic photoreceptors.

従来用いられて来た電子写真感光体材料の主なものとし
ては、非晶質セレン、セレン砒素、セレンテルル、硫化
カドミウム、酸化亜鉛、アモルファスシリコン等の無機
物質、ポリビニルカルバゾール、金属フタロシアニン、
ジスアゾ顔料、トリスアゾ顔料、ペリレン顔料、トリフ
ェニルメタン化合物、トリフェニルアミン化合物、ヒド
ラゾン化合物、スチリル化合物、ピラゾリン化合物、オ
キサゾール化合物、オキサジアゾール化合物、等の有機
物質が挙げられる。また、その構成形態としては、これ
らの物質を単体で用いる単層型構成、結着材中に分散き
せて用いるバインダー型構成、機能別に電荷発生層と電
荷輸送層とを設ける積層型構成等が挙げられる。
The main electrophotographic photoreceptor materials conventionally used include inorganic substances such as amorphous selenium, selenium arsenide, selenium telluride, cadmium sulfide, zinc oxide, amorphous silicon, polyvinyl carbazole, metal phthalocyanine,
Examples include organic substances such as disazo pigments, trisazo pigments, perylene pigments, triphenylmethane compounds, triphenylamine compounds, hydrazone compounds, styryl compounds, pyrazoline compounds, oxazole compounds, and oxadiazole compounds. In addition, the configurations include a single-layer structure in which these substances are used alone, a binder-type structure in which they are dispersed in a binding material, and a laminated structure in which a charge generation layer and a charge transport layer are provided for each function. Can be mentioned.

しかしながら、従来用いられて来た電子写真感光体材料
にはそれぞれ欠点があった。その一つとして人体への有
害性が挙げられるが、前述したアモルファスシリコンを
除く無機物質においては、何れも好ましくない性質を持
つものであった。また、電子写真感光体が実際に複写機
内で用いられるためには、帯電、露光、現像、転写、除
電、清掃等の苛酷な環境条件に曝された場合においても
、常に安定な性能を維持している必要があるが、前述し
た有機物質においては、何れも耐久性に乏しく、性能面
での不安定要素が多かった。
However, the electrophotographic photoreceptor materials conventionally used each have drawbacks. One of these is their toxicity to the human body, and all inorganic substances, except for the amorphous silicon mentioned above, have unfavorable properties. In addition, in order for an electrophotographic photoreceptor to be actually used in a copying machine, it must always maintain stable performance even when exposed to harsh environmental conditions such as charging, exposure, development, transfer, neutralization, and cleaning. However, all of the organic substances mentioned above have poor durability and many unstable factors in terms of performance.

このような欠点を解消すべく、近年、有害性を改善し耐
久性に富九だ材料として、グロー放電法により生成きれ
るアモルファスシリコンの電子写真感光体への応用が進
んで来ている。しかし、アモルファスシリコンは、原料
としてシランガスを多量に必要とする反面、高価なガス
であることから、出来上がった電子写真感光体も従来の
感光体に比べ大幅に高価なものとなる。また、成膜速度
が遅く、成膜時間の増大に伴い想見性を有するシラン未
分解生成物を粉塵状に発生する等、生産上の不都合も多
い。また、この粉塵が製造時に感光層中に混入した場合
には、画像品質に著しく悪影響を及ぼす。ざらに、アモ
ルファスシリコンは、元来、比窮電率が高いため帯電性
能が低く、複写機内で所定の表面電位に帯電するために
は膜厚を厚くする必要があり、高価なアモルファスシリ
コン膜を長時間堆積させなくてはならない。
In order to overcome these drawbacks, in recent years, amorphous silicon, which can be produced by a glow discharge method, has been increasingly applied to electrophotographic photoreceptors as a material with improved toxicity and increased durability. However, while amorphous silicon requires a large amount of silane gas as a raw material, it is an expensive gas, so the resulting electrophotographic photoreceptor is also significantly more expensive than a conventional photoreceptor. In addition, there are many inconveniences in production, such as the slow film-forming rate and the generation of undecomposed silane products in the form of dust as the film-forming time increases. Furthermore, if this dust gets mixed into the photosensitive layer during manufacturing, it will have a significant negative effect on image quality. Generally speaking, amorphous silicon originally has a high specific charge rate, so its charging performance is low, and in order to charge it to a predetermined surface potential in a copying machine, it is necessary to increase the thickness of the film, making it difficult to use an expensive amorphous silicon film. It must be allowed to accumulate for a long time.

ところでアモルファスカーボン膜自体は、プラズマ有機
重合膜として古くより知られており、例えばジエン(M
、5hen)及びベル(A、T。
By the way, the amorphous carbon film itself has been known for a long time as a plasma organic polymerized film, for example, diene (M
, 5hen) and Bell (A, T.

Be1l)により、1973年発行ののジャーナル・オ
ブ・アプライド・ポリマー・サイエンス(Journa
l  of  Applied  P。
Journal of Applied Polymer Science (Journa Be1l), published in 1973.
l of Applied P.

lymer  5cience)第17巻の第885頁
乃至第892頁において、あらゆる有機化合物のガスか
ら作製され得る事が、また、同著者により、1979年
のアメリカンケミカルソサエティ  (America
n  ChemicalSociety)発行によるプ
ラズマボリマライゼーション(Plasma  Pol
ymerization)の中でもその成膜性が論じら
れている。
lymer 5science), Volume 17, pages 885 to 892, the same author also reported in the 1979 American Chemical Society that all organic compounds can be prepared from gases.
Plasma Pol
ymerization), its film formability has been discussed.

しかしながら従来の方法で作製したプラズマ有機重合膜
は絶縁性を前提とした用途に限って用いられ、即ちそれ
らの膜は通常のポリエチレン膜の如<10”Ωcm程度
の比抵抗を有する絶縁膜と考えられ、或は、少なくとも
そのような膜であるとの認識のもとに用いられていた。
However, plasma organic polymer films prepared by conventional methods are used only for applications that assume insulating properties, that is, they can be considered as insulating films with a resistivity of about <10" Ωcm, like ordinary polyethylene films. or, at least, it was used with the understanding that it was such a membrane.

実際に電子写真感光体への用途にしても同様の認識から
、保護層、接着層、ブロッキング層もしくは絶縁層に限
られており、所謂アンダーコート層もしくはオーバーコ
ート層としてしか用いられていなかった。
Due to the same recognition, its actual use in electrophotographic photoreceptors has been limited to protective layers, adhesive layers, blocking layers, or insulating layers, and has only been used as so-called undercoat layers or overcoat layers.

例えば、特開昭59−28161号公報には、基板上に
ブロッキング層及び接着層としてプラズマ重合された綱
目構造を有する高分子層を設け、その上にアモルファス
シリコン層を設けた感光体が開示されている。特開昭5
9−38753号公報には、基板上にブロッキング層及
び接着層として酸素と窒素と炭化水素の混合ガスから生
成きれる1013〜101590mの高抵抗のプラズマ
重合膜を10人〜100人設けた上にアモルファスシリ
コン層を設けた感光体が開示されている。特開昭59−
136742号公報には、アルミ基板上に設けたアモル
ファスシリコン層内へ光照射時にアルミ原子が拡散する
のを防止するための保護層として1〜5μm程度の炭素
膜を基板表面に形成せしめた感光体が開示きれている。
For example, JP-A-59-28161 discloses a photoreceptor in which a plasma-polymerized polymer layer having a mesh structure is provided on a substrate as a blocking layer and an adhesive layer, and an amorphous silicon layer is provided thereon. ing. Japanese Patent Application Publication No. 5
Publication No. 9-38753 discloses that 10 to 100 high-resistance plasma polymerized films of 1013 to 101590 m, which can be generated from a mixed gas of oxygen, nitrogen, and hydrocarbons, are formed on a substrate as a blocking layer and an adhesive layer, and then an amorphous film is formed. A photoreceptor provided with a silicon layer is disclosed. Unexamined Japanese Patent Publication 1987-
Publication No. 136742 discloses a photoreceptor in which a carbon film of approximately 1 to 5 μm is formed on the surface of the substrate as a protective layer to prevent aluminum atoms from diffusing into the amorphous silicon layer provided on the aluminum substrate during light irradiation. has been fully disclosed.

特開昭60−63541号公報には、アルミ基板とその
上に設けたアモルファスシリコン層との接着性を改善す
るために、接着層として200人〜2μmのダイヤモン
ド状炭素膜を中間に設けた感光体が開示され、残留電荷
の面から膜厚は2μm以下が好ましいとされている。
Japanese Unexamined Patent Publication No. 60-63541 discloses a photosensitive material in which a diamond-like carbon film with a thickness of 200 to 2 μm is provided in the middle as an adhesive layer in order to improve the adhesion between an aluminum substrate and an amorphous silicon layer provided thereon. It is said that the film thickness is preferably 2 μm or less in terms of residual charge.

これらの開示は、何れも基板とアモルファスシリコン層
との間に、所謂アンダーコート層を設けた発明であり、
電荷輸送性についての開示は全くなく、また、a−Si
の有する前記した本質的問題を解決するものではない。
All of these disclosures are inventions in which a so-called undercoat layer is provided between the substrate and the amorphous silicon layer,
There is no disclosure regarding charge transport properties, and a-Si
However, it does not solve the above-mentioned essential problems.

また、例えば、特開昭50−20728号公報には、ポ
リビニルカルバゾール−セレン系感光体の表面に保護層
としてグロー放電重合によるポリマー膜を0.1〜1μ
m設けた感光体が開示されている。特開昭59−214
859号公報には、アモルファスシリコン感光体の表面
に保護層としてスチレンやアセチレン等の有機炭化水素
モノマーをプラズマ重合させて5μm程度の膜を形成さ
せる技術が開示されている。特開昭60−61761号
公報には、表面保護層として、500人〜2μmのダイ
ヤモンド状炭素薄膜を設けた感光体が開示され、透光性
の面から膜厚は2μm以下が好ましいとされてている。
For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 50-20728 discloses that a polymer film of 0.1 to 1 μm formed by glow discharge polymerization is applied as a protective layer on the surface of a polyvinylcarbazole-selenium photoreceptor.
A photoreceptor is disclosed. Japanese Patent Publication No. 59-214
Japanese Patent No. 859 discloses a technique for forming a protective layer on the surface of an amorphous silicon photoreceptor by plasma polymerizing an organic hydrocarbon monomer such as styrene or acetylene to form a film of about 5 μm. JP-A No. 60-61761 discloses a photoreceptor provided with a diamond-like carbon thin film of 500 to 2 μm as a surface protective layer, and it is said that the film thickness is preferably 2 μm or less in terms of light transmission. ing.

特開昭60−249115号公報には、0.05〜5μ
m程度の無定形炭素または硬質炭素膜を表面保護層とし
て用いる技術が開示され、膜厚が5μmを越えると感光
体活性に悪影響が及ぶとされている。
JP-A-60-249115 discloses that 0.05 to 5μ
A technique has been disclosed in which an amorphous carbon or hard carbon film with a thickness of about 5 μm is used as a surface protective layer, and it is said that if the film thickness exceeds 5 μm, the photoreceptor activity will be adversely affected.

これらの開示は、何れも感光体表面に所謂オーバーコー
ト層を設けた発明であり、電荷輸送性についての開示は
全くなく、また、a−Siの有する前記した本質的問題
を解決するものではない。
All of these disclosures are inventions in which a so-called overcoat layer is provided on the surface of a photoreceptor, and there is no disclosure about charge transport properties, and they do not solve the above-mentioned essential problems of a-Si. .

また、特開昭51−46130号公報には、ポリビニル
カルバゾール系電子写真感光体の表面にグロー放電重合
を行なって0.001〜3μmのポリマー膜を形成せし
めた電子写真感光板が開示きれているが、電荷輸送性に
ついては全く言及されていないし、a−Stの持つ前記
した本質的問題を解決するものではない。
Furthermore, JP-A-51-46130 discloses an electrophotographic photosensitive plate in which a polymer film of 0.001 to 3 μm is formed on the surface of a polyvinylcarbazole electrophotographic photoreceptor by glow discharge polymerization. However, there is no mention of charge transport properties, and it does not solve the above-mentioned essential problems of a-St.

一方、アモルファスシリコン膜については、スピア(W
、E、5pear)及びレコンパ(P。
On the other hand, regarding the amorphous silicon film, Spear (W
, E, 5pear) and Recompa (P.

Q、1.eComber)により1976年発行のフィ
ロソフィカル・マガジン(Philosophical
  Magazine)第33巻の第935頁乃至第9
49頁において、極性制御が可能な材料である事が報じ
られて以来、種々の光電デバイスへの応用が試みられて
来た。感光体への応用に関しては、例えば、特開昭56
−62254号公報、特開昭57−119356号公報
、特開昭57−177147号公報、特開昭57−11
9357号公報、特開昭57−177149号公報、特
開昭57−119357号公報、特開昭57−1771
46号公報、特開昭57−177148号公報、特開昭
57−174448号公報、特開昭57−174449
号公報、特開昭57−174450号公報、等に、炭素
原子を含有したアモルファスシリコン感光体が開示きれ
ているが、何れもアモルファスシリコンの光導電性を炭
素原子により調整する事を目的としたものであり、また
、アモルファスシリコン自体厚い膜を必要としている。
Q.1. Philosophical Magazine published in 1976 by
Magazine) Volume 33, pages 935 to 9
Since it was reported on page 49 that it is a material whose polarity can be controlled, attempts have been made to apply it to various photoelectric devices. Regarding the application to photoreceptors, for example,
-62254, JP 57-119356, JP 57-177147, JP 57-11
9357, JP 57-177149, JP 57-119357, JP 57-1771
46, JP 57-177148, JP 57-174448, JP 57-174449
Amorphous silicon photoreceptors containing carbon atoms have been disclosed in Japanese Patent Application Publication No. 57-174450, etc., but all of them are aimed at adjusting the photoconductivity of amorphous silicon with carbon atoms. Furthermore, amorphous silicon itself requires a thick film.

発註が解決しようとする問題点 以上のように、従来、電子写真感光体に用いられている
プラズマ有機重合膜は所謂アンダーコート層もしくはオ
ーバーコート層として使用されていたが、それらはキャ
リアの輸送機能を必要としない膜であって、有機重合膜
が絶縁性で有るとの判断にたって用いられている。従っ
てその膜厚も高々5μm程度の極めて薄い膜としてしか
用いられず、キャリアはトンネル効果で膜中を通過する
か、トンネル効果が期待できない場合には、残留電位の
発生に関して事実上問題にならずに済む程度の薄い膜で
しか用いられていない。また、従来、電子写真に用いら
れているアモルファスシリコン膜は所謂厚膜で使用され
ており、価格或は生産性等に、不都合な点が多い。
Problems that the invention aims to solve As mentioned above, the plasma organic polymer films used in electrophotographic photoreceptors have traditionally been used as so-called undercoat layers or overcoat layers, but they are limited to carrier transport. It is a film that does not require any function, and is used based on the judgment that the organic polymer film is insulating. Therefore, it can only be used as an extremely thin film with a thickness of about 5 μm at most, and carriers either pass through the film by tunneling effect, or if a tunneling effect cannot be expected, there is virtually no problem with the generation of residual potential. It is only used in thin films that are only small enough to last. Furthermore, amorphous silicon films conventionally used in electrophotography are so-called thick films, which have many disadvantages in terms of cost, productivity, and the like.

本発明者らは、アモルファスカーボン膜の電子写真感光
体への応用を検討しているうちに、本来絶縁性であると
考えられていた水素化アモルファスカーボン膜が酸素原
子を含有せしめる事により、燐原子及び硼素原子のうち
少なくとも一方を含有すると共に酸素原子を含有してな
る水素化或は弗素化アモルファスシリコン膜との積層に
おいては電荷輸送性を有し、容易に好適な電子写真特性
を示し始める事を見出した。その理論的解釈には本発明
者においても不明確な点が多く詳細に亙り言及はできな
いが、酸素原子含有水素化アモルファスカーボン膜中に
捕捉されている比較的不安定なエネルギー状態の電子、
例えばπ電子、不対電子、残存フリーラジカル等が形成
するバンド構造が、燐原子及び硼素原子のうち少なくと
も一方を含有すると共に酸素原子を含有してなる水素化
或は弗素化アモルファスシリコン膜が形成するバンド構
造と電導帯もしくは荷電子帯において近似したエネルギ
ー準位を有するため、燐原子及び硼素原子のうち少なく
とも一方を含有すると共に酸素原子を含有してなる水素
化或は弗素化アモルファスシリコン膜中で発生したキャ
リアが容易に酸素原子含有水素化アモルファスカーボン
膜中へ注入され、ざらに、このキャリアは前述の比較的
不安定なエネルギー状態の電子の作用により酸素原子含
有水素化アモルファスカーボン膜中を好適に走行し得る
ためと推定される。
While considering the application of amorphous carbon films to electrophotographic photoreceptors, the present inventors found that hydrogenated amorphous carbon films, which were originally thought to be insulating, were made to contain oxygen atoms, resulting in phosphorus. When laminated with a hydrogenated or fluorinated amorphous silicon film containing at least one of boron atoms and oxygen atoms, it has charge transport properties and easily begins to exhibit suitable electrophotographic properties. I found out something. There are many points in the theoretical interpretation that are unclear even for the present inventors, so we cannot discuss them in detail, but the electrons in a relatively unstable energy state that are captured in the hydrogenated amorphous carbon film containing oxygen atoms,
For example, a hydrogenated or fluorinated amorphous silicon film is formed in which a band structure formed by π electrons, unpaired electrons, residual free radicals, etc. contains at least one of phosphorus atoms and boron atoms as well as oxygen atoms. In a hydrogenated or fluorinated amorphous silicon film containing at least one of phosphorus atoms and boron atoms and also containing oxygen atoms, The carriers generated in this process are easily injected into the hydrogenated amorphous carbon film containing oxygen atoms. It is presumed that this is because the vehicle can run smoothly.

本発明はその新たな知見を利用することにより、アモル
ファスシリコン感光体の持つ前述の如き本質的問題点を
全て解消し、また従来とは全く使用目的も特性も異なる
、有機プラズマ重合膜、特に少なくとも酸素原子を含有
してなる水素化アモルファスカーボン膜を電荷輸送層と
して使用し、かつ、燐原子及び硼素原子のうち少なくと
も一方を含有すると共に酸素原子を含有してなる水素化
或は弗素化アモルファスシリコンの薄膜を電荷発生層と
して使用した感光体を提供する事を目的とする。
By utilizing this new knowledge, the present invention solves all of the above-mentioned essential problems of amorphous silicon photoreceptors, and also produces an organic plasma polymerized film, which has completely different purposes and characteristics from conventional ones, especially at least Hydrogenated or fluorinated amorphous silicon using a hydrogenated amorphous carbon film containing oxygen atoms as a charge transport layer, and containing at least one of phosphorus atoms and boron atoms as well as oxygen atoms. An object of the present invention is to provide a photoreceptor using a thin film of the present invention as a charge generation layer.

皿厘点至醒次工至ム汝9土茂 P1′3、本発明は、電荷発生層と電荷輸送層とを有す
る機能分離型感光体において、該電荷輸送層がプラズマ
重合反応から生成きれる少なくとも酸素原子を含有して
なる水素化アモルファスカーボン膜であり、かつ、該電
荷発生層が燐原子及び硼素原子のうち少なくとも一方を
含有すると共に酸素原子を含有してなる水素化或は弗素
化アモルファスシリコン膜であることを特徴とする感光
体に関する(以下、本発明による電荷輸送層をa−C膜
及び電荷発生層をa−3i膜と称する)。
The present invention provides a functionally separated photoreceptor having a charge generation layer and a charge transport layer, in which at least the charge transport layer is generated from a plasma polymerization reaction. A hydrogenated amorphous carbon film containing oxygen atoms, and hydrogenated or fluorinated amorphous silicon in which the charge generation layer contains at least one of phosphorus atoms and boron atoms and also contains oxygen atoms. The present invention relates to a photoreceptor characterized in that it is a film (hereinafter, the charge transport layer according to the present invention will be referred to as an a-C film and the charge generation layer will be referred to as an a-3i film).

本発明は、従来のアモルファスシリコン感光体において
は、電荷発生層どして優れた機能を有するアモルファス
シリコンを、電荷発生能が無くても電荷輸送能きえあれ
ば済む電荷輸送層としても併用していたため発生してい
たこれらの問題点を解決すべく成されたものである。
In conventional amorphous silicon photoreceptors, amorphous silicon, which has excellent functions as a charge generation layer, is also used as a charge transport layer, which can be used as a charge transport layer even if it does not have charge generation ability. This was done to solve these problems that had arisen.

即ち、本発明は、電荷輸送層としてグロー放電により生
成きれる少なくとも酸素原子を含有して成る水素化アモ
ルファスカーボン膜を設け、がっ、電荷発生層として同
じくグロー放電により生成される燐原子及び硼素原子の
うち少なくとも一方を含有すると共に酸素原子を含有し
てなる水素化或は弗素化アモルファスシリコン膜を設け
た事を特徴とする機能分離型感光体に関する。該電荷輸
送層は、可視光もしくは半導体レーザー光付近の波長の
光に対しては明確なる光導電性は有きないが、好適な輸
送性を有し、ざらに、帯電能、耐久性、耐候性、耐環境
汚染性等の電子写真感光体性能に優れ、しかも透光性に
も優れるため、機能分離型感光体としての積層構造を形
成する場合においても極めて高い自由度が得られるもの
である。また、該電荷発生層は、可視光もしくは半導体
レーザー光付近の波長の光に対して優れた光導電性を有
し、しかも従来のアモルファスシリコン感光体に比べて
極めて薄い膜厚で、その機能を活かす事ができるもので
ある。
That is, the present invention provides a hydrogenated amorphous carbon film containing at least oxygen atoms generated by glow discharge as a charge transport layer, and a hydrogenated amorphous carbon film containing at least oxygen atoms generated by glow discharge as a charge generation layer. The present invention relates to a functionally separated photoreceptor characterized by being provided with a hydrogenated or fluorinated amorphous silicon film containing at least one of the above and oxygen atoms. Although the charge transport layer does not have clear photoconductivity for visible light or light with a wavelength near semiconductor laser light, it has suitable transport properties, and has good charging ability, durability, and weather resistance. It has excellent electrophotographic photoreceptor performance such as durability and environmental pollution resistance, and is also excellent in light transmission, so it provides an extremely high degree of freedom when forming a laminated structure as a function-separated photoreceptor. . In addition, the charge generation layer has excellent photoconductivity for visible light or light with a wavelength near semiconductor laser light, and has an extremely thin film thickness compared to conventional amorphous silicon photoreceptors. It is something that can be put to good use.

本発明においては、a−C膜を形成するために有機化合
物ガス、特に炭化水素ガスが用いられる。
In the present invention, an organic compound gas, particularly a hydrocarbon gas, is used to form the a-C film.

該炭化水素における相状態は常温常圧において必ずしも
気相である必要はなく、加熱或は減圧等により溶融、蒸
発、昇華等を経て気化しうるものであれば、液相でも固
相でも使用可能である。
The phase state of the hydrocarbon does not necessarily have to be a gas phase at room temperature and normal pressure; it can be used in either a liquid phase or a solid phase as long as it can be vaporized through melting, evaporation, sublimation, etc. by heating or reduced pressure. It is.

使用可能な炭化水素には種類が多いが、飽和炭化水素と
しては、例えば、メタン、エタン、プロパン、ブタン、
ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、テ
゛カン、ウンテ°カン、トチ°カン、トリテ゛カン、テ
トラコサン、ベンタテ°カン、ヘキサコサン、ヘブタテ
゛カン、オクタコサン、ノナデカン、エイコサン、ヘン
エイコサン、トコサン、トリコサン、テトラコサン、ペ
ンタコサン、ヘキサコサン、ヘプタコサン、オクタコサ
ン、ノナコサン、トリアコンタン、トドリアコンクン、
ペンタトリアコンタン、等のノルマルパラフィン並びに
、イソブタン、イソペンタン、ネオペンタン、イソヘキ
サン、ネオヘキサン、2,3−ジメチルブタン、2−メ
チルヘキサン、3−エチルペンタン、2.2−ジメチル
ペンタン、2,4−ジメチルベンクン、3,3−ジメチ
ルベンクン、トリブタン、2−メチルへブタン、3−メ
チルへブタン、2.2−ジメチルヘキサン、2.2.5
−ジメチルヘキサン、2.2.3−トリメチルペンタン
、2..2.4−、トリメチルペンタン、2,3゜3−
トリメチルペンタン、2,3.4−トリメチルペンタン
、イソナノン、等のイソパラフィン、等が用いられる。
There are many types of hydrocarbons that can be used, but examples of saturated hydrocarbons include methane, ethane, propane, butane,
Pentane, hexane, heptane, octane, nonane, tecane, untecane, toticane, tritecane, tetracosane, bentatecane, hexacosane, hebutatecane, octacosane, nonadecane, eicosane, heneicosane, tocosane, tricosane, tetracosane, pentacosane, hexacosane, heptacosane, octacosane, nonacosane, triacontane, todoriaconcun,
Normal paraffins such as pentatriacontane, isobutane, isopentane, neopentane, isohexane, neohexane, 2,3-dimethylbutane, 2-methylhexane, 3-ethylpentane, 2.2-dimethylpentane, 2,4-dimethyl Benkune, 3,3-dimethylbenkune, tributane, 2-methylhebutane, 3-methylhebutane, 2.2-dimethylhexane, 2.2.5
-dimethylhexane, 2.2.3-trimethylpentane, 2. .. 2.4-, trimethylpentane, 2,3゜3-
Isoparaffins such as trimethylpentane, 2,3,4-trimethylpentane, isonanone, etc. are used.

不飽和炭化水素としては、例えば、エチレン、プロピレ
ン、イソブチレン、1−ブテン、2−ブテン、1−ペン
テン、2−ペンテン、2−メチル−1−ブテン、3−メ
チル−1−ブテン、2−メチル−2−ブテン、1−ヘキ
セン、テトラメチルエチレン、1−ヘプテン、1−オク
テン、1−ノネン、1−デセン、等のオレフィン、並び
に、アレン、メチルアレン、ブタジェン、ペンタジェン
、ヘキサジエン、シクロペンタジェン、等のジオレフィ
ン、並びに、オシメン、アロオシメン、ミルセン、ヘキ
サトリエン、等のトリオレフイン、並びに、アセチレン
、ブタジイン、1゜3−ペンタジイン、2.4−へキサ
ジイン、メチルアセチレン、1−ブチン、2−ブチン、
1−ペンチン、1−ヘキシン、1−ヘプチン、1−オク
チン、1−ノニン、1−デシン、等が用いられる。
Examples of unsaturated hydrocarbons include ethylene, propylene, isobutylene, 1-butene, 2-butene, 1-pentene, 2-pentene, 2-methyl-1-butene, 3-methyl-1-butene, 2-methyl -Olefins such as 2-butene, 1-hexene, tetramethylethylene, 1-heptene, 1-octene, 1-nonene, 1-decene, and allene, methylalene, butadiene, pentadiene, hexadiene, cyclopentadiene, Diolefins such as ocimene, allocimene, myrcene, hexatriene, etc., as well as acetylene, butadiyne, 1°3-pentadiyne, 2,4-hexadiyne, methylacetylene, 1-butyne, 2-butyne. ,
1-pentyne, 1-hexyne, 1-heptyne, 1-octyne, 1-nonine, 1-decyne, etc. are used.

脂環式炭化水素としては、例えば、シクロプロパン、シ
クロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロ
へブタン、シクロオクタン、シクロノナン、シクロデカ
ン、シクロウンデカン、シクロドデカン、シクロトリデ
カン、シクロテトラデカン、シクロペンタデカン、シク
ロヘキサデカン、等のシクロパラフィン並びに、シクロ
プロペン、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキ
サン、シクロヘプテン、シクロオクテン、シクロノネン
、シクロデセン、等のシクロオレフィン並びに、リモネ
ン、テルビルン、フエランドレン、シルベストレン、ツ
エン、カレン、ピネン、ボルニレン、カンフエン、フエ
ンチェン、シクロウンデカン、トリシクレン、ビサボレ
ン、ジンギベレン、クルクメン、フムレン、カジネンセ
スキベニヘン、セリネン、カリオフィレン、サンタレン
、セドレン、カンホレン、フィロクラテン、ボドカルブ
レン、ミレン、等のテルペン並びに、ステロイド等が用
いられる。芳香族炭化水素としては、例えば、ベンゼン
、トルエン、キシレン、ヘミメリテン、プソイドクメン
、メシチレン、プレニテン、イソジュレン、ジュレン、
ペンタメチルベンゼン、ヘキサメチルベンゼン、エチル
ベンゼン、プロピルベンゼン、クメン、スチレン、ビフ
ェニル、テルフェニル、ジフェニルメタン、トリフェニ
ルメタン、ジベンジル、スチルベン、インデン、ナフタ
リン、テトラリン、アントラセン、フェナントレン、等
が用いられる。
Examples of alicyclic hydrocarbons include cyclopropane, cyclobutane, cyclopentane, cyclohexane, cyclohebutane, cyclooctane, cyclononane, cyclodecane, cycloundecane, cyclododecane, cyclotridecane, cyclotetradecane, cyclopentadecane, cyclohexadecane, cycloparaffins such as cyclopropene, cyclobutene, cyclopentene, cyclohexane, cycloheptene, cyclooctene, cyclononene, cyclodecene, and cycloolefins such as limonene, tervirun, phelandrene, sylvestrene, thuene, carene, pinene, bornylene, kamphuen, fuenchen , cycloundecane, tricyclene, bisabolene, zingiberene, curcumene, humulene, kajinensesesquivenichen, selinene, caryophyllene, santarene, cedrene, campholene, phylloclatene, bodocarbrene, mirene, and other terpenes, steroids, and the like are used. Examples of aromatic hydrocarbons include benzene, toluene, xylene, hemimelithene, pseudocumene, mesitylene, prenitene, isodurene, durene,
Pentamethylbenzene, hexamethylbenzene, ethylbenzene, propylbenzene, cumene, styrene, biphenyl, terphenyl, diphenylmethane, triphenylmethane, dibenzyl, stilbene, indene, naphthalene, tetralin, anthracene, phenanthrene, etc. are used.

ざらに、炭化水素以外でも、例えば、アルコール類、ケ
トン類、エーテル類、エステル類、等炭素と成りうる化
合物であれば使用可能である。
In general, any compound other than hydrocarbons that can be converted into carbon, such as alcohols, ketones, ethers, and esters, can be used.

本発明におけるa −C膜中に含まれる水素原子の量は
グロー放電を用いるというその製造面から必然的に定ま
るが、炭素原子と水素原子の総量に対して、概ね3o乃
至60原子%含有される。ここで、炭素原子並びに水素
原子の膜中含有量は、有機元素分析の常法、例えば○N
H分析を用いる事により知る事ができる。
The amount of hydrogen atoms contained in the a-C film of the present invention is inevitably determined from the manufacturing aspect of using glow discharge, but it is generally contained in an amount of 30 to 60 at% based on the total amount of carbon atoms and hydrogen atoms. Ru. Here, the content of carbon atoms and hydrogen atoms in the film is determined by the conventional method of organic elemental analysis, for example, ○N.
This can be determined by using H analysis.

本発明におけるa −C膜中に含まれる水素原子の量は
、成膜装置の形態並びに成膜時の条件により変化するが
、例えば、基板温度を高くする、圧力を低くする、原料
炭化水素ガスの希釈率を低くする、印加電力を高くする
、交番電界の周波数を低くする、交番電界に重畳せしめ
た直流電界強度を高くする、等の手段、或は、これらの
組合せ操作は、含有水素量を低くする効果を有する。
The amount of hydrogen atoms contained in the a-C film in the present invention varies depending on the form of the film forming apparatus and the conditions during film forming, but for example, increasing the substrate temperature, lowering the pressure, using the raw material hydrocarbon gas, etc. Measures such as lowering the dilution rate of hydrogen, increasing the applied power, lowering the frequency of the alternating electric field, increasing the strength of the direct current electric field superimposed on the alternating electric field, or combinations thereof, can reduce the amount of hydrogen contained. It has the effect of lowering

本発明における電荷輸送層としてのa −C膜の膜厚は
、通常の電子写真プロセスで用いるためには、5乃至5
0μm1特に7乃至20Ltmが適当であり、5μmよ
り薄いと、帯電電位が低いため充分な複写画像濃度を得
る事ができない。また、50μmより厚いと、生産性の
面で好ましくない。
The thickness of the a-C film as the charge transport layer in the present invention is 5 to 5
A suitable value is 0 μm, especially 7 to 20 Ltm, and if it is thinner than 5 μm, the charging potential will be low, making it impossible to obtain a sufficient copy image density. Moreover, if it is thicker than 50 μm, it is not preferable in terms of productivity.

このa−C膜は、高透光性、高暗抵抗を有するとともに
電荷輸送性に富み、膜厚を上記の様に5μm以上として
もキャリアはトラップされる事無く輸送され明減衰に寄
与する事が可能である。
This a-C film has high light transmittance, high dark resistance, and is rich in charge transport properties, and even if the film thickness is 5 μm or more as mentioned above, carriers are transported without being trapped and contribute to bright attenuation. is possible.

本発明における原料気体からa −C膜を形成する過程
としては、原料気体が、直流、低周波、高周波、或はマ
イクロ波等を用いたプラズマ法により生成されるプラズ
マ状態を経て形成される方法が最も好ましいが、その他
にも、イオン化蒸着法、或はイオンビーム蒸着法等によ
り生成きれるイオン状態を経て形成されてもよいし、真
空蒸着法、或はスパッタリング法等により生成きれる中
性粒子から形成されてもよいし、さらには、これらの組
み合わせにより形成されてもよい。
The process of forming an a-C film from a raw material gas in the present invention is a method in which the raw material gas is formed through a plasma state generated by a plasma method using direct current, low frequency, high frequency, microwave, etc. is the most preferable, but it may also be formed through an ionic state that can be generated by ionization vapor deposition, ion beam evaporation, etc., or from neutral particles that can be generated by vacuum evaporation, sputtering, etc. or a combination thereof.

本発明においては炭化水素の他に、a −C膜中に少な
くとも酸素原子を添加するために酸素化合物が使用され
る。該酸素化合物における相状態は常温常圧において必
ずしも気相である必要はなく、加熱或は減圧等により溶
融、蒸発、昇華等を経て気化しうるものであれば、液相
でも固相でも使用可能である。酸素化合物としては、例
えば、酸素、オゾン、水蒸気、−酸化炭素、二酸化炭素
、亜酸化炭素、等の無機化合物、水酸基(−OH)、ア
ルデヒド基(−COH) 、アシル基(RCO−、−C
RO)、ケトン基(>Co) 、エーテル結合(−〇−
)、エステル結合(−Co0−)、酸素を含む複素環、
等の官能基或は結合を有する有機化合物、等が用いられ
る。水酸基を有する有機化合物と1−では、例えば、メ
タノール、エタノール、プロパツール、ブタノール、フ
リルアルコール、フルオロエタノール、フルオロブタノ
ール、フェノール、シクロヘキサノール、ベンジルアル
コール、フルフリルアルコール、等が用いられる。アル
デヒド基を有する有機化合物としては、例えば、ホルム
アルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオアルデヒド、
ブチルアルデヒド、グリオキサール、アクロレイン、ベ
ンズアルデヒド、フルフラール、等が用いられる。アシ
ル基を有する有機化合物としては、例えば、ギ酸、酢酸
、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、バルミチン酸、ステア
リン酸、オレイン酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、
突撃香酸、トルイル酸、サリチル酸、ケイヒ酸、ナフト
エ酸、フタル酸、フラン酸、等が用いられる。ケトン基
を有する有機化合物としては、例えば、アセトン、ニゲ
ルメチルケトン、メチルプロピルケトン、ブチルメチル
ケトン、ビナコロン、ジエチルケトン、メチルビニルケ
トン、メシチルオキシド、メチルへブテノン、シクロブ
タノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、アセト
フェノン、プロピオフェノン、ブチロフェノン、バレロ
フエノン、ジベンジルケトン、アセトナフトン、アセト
チェノン、アセトフロン、等が用いられる。エーテル結
合を有する有機化合物としては、例えば、メチルエーテ
ル、エチルエーテル、プロピルエーテル、ブチルエーテ
ル、アミルエーテル、エチルメチルエーテル、メチルプ
ロピルエーテル、メチルブチルエーテル、メチルアミル
エーテル、エチルプロピルエーテル、エチルブチルエー
テル、エチルアミルエーテル、ビニルエーテル、アリル
エーテル、メチルビニルエーテル、メチルフリルエーテ
ル、エチルビニルエーテル、エチルアリルエーテル、ア
ニソール、フェネトール、フェニルエーテル、ベンジル
エーテル、フェニルベンジルエーテル、ナフチルエーテ
ル、酸化エチレン、酸化プロピレン、酸化トリメチレン
、テトラヒドロフラン、テトラヒドロビラン、ジオキサ
ン、等が用いられる。エステル結合を有する有機化合物
としては、例えば、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロ
ピル、ギ酸ブチル、ギ酸アミル、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸アミル、プロピオ
ン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸プロピ
ル、プロピオン酸ブチル、プロピオン酸アミル、酪酸メ
チル、酪酸エチル、酪酸プロピル、酪酸ブチル、酪酸ア
ミル、吉草酸メチル、吉草酸エチル、吉草酸プロピル、
吉草酸ブチル、吉草酸アミル、安息香酸メチル、安思香
酸エチル、ケイ皮酸メチル、ケイ皮酸エチル、ケイ皮酸
プロピル、サリチル酸メチル、サリチル酸エチル、サリ
チル酸プロピル、サリチル酸ブチル、サリチル酸アミル
、アントラニル酸メチル、アントラニル酸エチル、アン
トラニル酸ブチル、アントラニル酸アミル、フタル酸メ
チル、フタル酸エチル、フタル酸ブチル、等が用いられ
る。酸素を含む複素環化合物としては、フラン、オキサ
ゾール、フラザン、ビラン、オキサジン、モルホリン、
ベンゾフラン、バンゾオキサゾール、クロメン、クロマ
ン、ジベンゾフラン、キサンチン、フェノキサジン、オ
キソラン、ジオキソラン、オキサチオラン、オキサジア
ジン、ベンゾイソオキサゾール、等が用いられる。
In the present invention, in addition to hydrocarbons, oxygen compounds are used to add at least oxygen atoms into the a-C film. The phase state of the oxygen compound does not necessarily have to be a gas phase at room temperature and normal pressure; it can be used in either a liquid phase or a solid phase as long as it can be vaporized through melting, evaporation, sublimation, etc. by heating or reduced pressure. It is. Examples of oxygen compounds include oxygen, ozone, water vapor, -carbon oxide, carbon dioxide, carbon suboxide, and other inorganic compounds, hydroxyl groups (-OH), aldehyde groups (-COH), acyl groups (RCO-, -C
RO), ketone group (>Co), ether bond (-〇-
), ester bond (-Co0-), heterocycle containing oxygen,
An organic compound having a functional group or bond such as the like is used. As the organic compound having a hydroxyl group and 1-, for example, methanol, ethanol, propatool, butanol, furyl alcohol, fluoroethanol, fluorobutanol, phenol, cyclohexanol, benzyl alcohol, furfuryl alcohol, etc. are used. Examples of organic compounds having an aldehyde group include formaldehyde, acetaldehyde, propionaldehyde,
Butyraldehyde, glyoxal, acrolein, benzaldehyde, furfural, etc. are used. Examples of organic compounds having an acyl group include formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, valmitic acid, stearic acid, oleic acid, oxalic acid, malonic acid, succinic acid,
Acidic acid, toluic acid, salicylic acid, cinnamic acid, naphthoic acid, phthalic acid, furanic acid, etc. are used. Examples of organic compounds having a ketone group include acetone, niger methyl ketone, methyl propyl ketone, butyl methyl ketone, binacolon, diethyl ketone, methyl vinyl ketone, mesityl oxide, methylhebutenone, cyclobutanone, cyclopentanone, cyclohexanone, Acetophenone, propiophenone, butyrophenone, valerophenone, dibenzyl ketone, acetonaphthone, acetochenone, acetofuron, etc. are used. Examples of organic compounds having an ether bond include methyl ether, ethyl ether, propyl ether, butyl ether, amyl ether, ethyl methyl ether, methyl propyl ether, methyl butyl ether, methyl amyl ether, ethyl propyl ether, ethyl butyl ether, and ethyl amyl ether. , vinyl ether, allyl ether, methyl vinyl ether, methyl furyl ether, ethyl vinyl ether, ethyl allyl ether, anisole, phenethol, phenyl ether, benzyl ether, phenylbenzyl ether, naphthyl ether, ethylene oxide, propylene oxide, trimethylene oxide, tetrahydrofuran, tetrahydrobilane , dioxane, etc. are used. Examples of organic compounds having an ester bond include methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate, amyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, amyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, and propion. Propyl acid, butyl propionate, amyl propionate, methyl butyrate, ethyl butyrate, propyl butyrate, butyl butyrate, amyl butyrate, methyl valerate, ethyl valerate, propyl valerate,
Butyl valerate, amyl valerate, methyl benzoate, ethyl benzoate, methyl cinnamate, ethyl cinnamate, propyl cinnamate, methyl salicylate, ethyl salicylate, propyl salicylate, butyl salicylate, amyl salicylate, anthranilic acid Methyl, ethyl anthranilate, butyl anthranilate, amyl anthranilate, methyl phthalate, ethyl phthalate, butyl phthalate, etc. are used. Examples of heterocyclic compounds containing oxygen include furan, oxazole, furazane, biran, oxazine, morpholine,
Benzofuran, banzoxazole, chromene, chromane, dibenzofuran, xanthine, phenoxazine, oxolane, dioxolane, oxathiolane, oxadiazine, benzisoxazole, etc. are used.

本発明において化学的修飾物質として含有される酸素原
子の量は、全構成原子に対して7.0原子%以下である
。ここで酸素原子の膜中含有量は、元素分析の常法、例
えばオージェ分析により知る事ができる。酸素原子の量
が7.0原子%より高い場合には、少量の添加では好適
な輸送性を保証していた酸素原子が、膜の高抵抗化を招
く作用を示し、残留電位の上昇を来たす。また、酸素源
ガスの一部のもの、例えば、酸素ガス、オゾンガス、−
酸化炭素ガス等においては、エツチング効果が強く現れ
、その流量を増やす事により酸素原子の膜中への添加量
を増加きせようとすると、成膜速度が低下し、ある程度
の膜厚が必要とされる電荷輸送層の成膜においては不都
合となる。従って、本発明における酸素原子添加量の範
囲は重要である。
In the present invention, the amount of oxygen atoms contained as a chemical modifier is 7.0 at % or less based on all constituent atoms. Here, the content of oxygen atoms in the film can be determined by a conventional method of elemental analysis, such as Auger analysis. When the amount of oxygen atoms is higher than 7.0 at%, the oxygen atoms, which ensured suitable transport properties when added in small amounts, exhibit an effect that increases the resistance of the film, causing an increase in the residual potential. . In addition, some oxygen source gases, such as oxygen gas, ozone gas, -
Carbon oxide gas has a strong etching effect, and if you try to increase the amount of oxygen atoms added to the film by increasing the flow rate, the film formation rate will decrease and a certain film thickness will be required. This is inconvenient when forming a charge transport layer. Therefore, the range of the amount of oxygen atoms added in the present invention is important.

本発明において化学的修飾物質として含有される酸素原
子の量は、主に、プラズマ反応を行なう反応室への前述
の酸素化合物の導入量を増減することにより制御するこ
とが可能である。酸素化合物の導入量を増大きせれば、
本発明によるa −C膜中への酸素原子の添加量を高く
することが可能であり、逆に酸素化合物の導入量を減少
させれば、本発明によるa −C膜中への酸素原子の添
加量を低くすることが可能である。
In the present invention, the amount of oxygen atoms contained as a chemical modifier can be controlled mainly by increasing or decreasing the amount of the aforementioned oxygen compound introduced into the reaction chamber in which the plasma reaction is performed. If the amount of oxygen compounds introduced is increased,
It is possible to increase the amount of oxygen atoms added to the a-C film according to the present invention, and conversely, if the amount of oxygen compounds introduced is decreased, the amount of oxygen atoms added to the a-C film according to the present invention can be increased. It is possible to reduce the amount added.

本発明においては、a−Si膜を形成するためにシラン
ガス、ジシランガス、或は、弗化シランガスが用いられ
る。また、化学的修飾物質として燐原子或は硼素原子を
膜中に含有せしめるための原料ガスとして、ホスフィン
ガス或はジボランガス等が用いられる。ざらに、化学的
修飾物質として酸素原子を膜中に含有せしめるための原
料ガスとして、酸素ガス、亜酸化窒素ガス、オゾンガス
、或は、−酸化炭素ガス、等の酸素化合物ガスが用いら
れる。
In the present invention, silane gas, disilane gas, or fluorinated silane gas is used to form the a-Si film. Furthermore, phosphine gas, diborane gas, or the like is used as a raw material gas for incorporating phosphorus atoms or boron atoms as chemical modifiers into the film. In general, an oxygen compound gas such as oxygen gas, nitrous oxide gas, ozone gas, or -carbon oxide gas is used as a raw material gas for containing oxygen atoms as a chemical modifier in the film.

本発明において化学的修飾物質として含有される燐原子
或は硼素原子の量は、全構成原子に対して20000原
子ppm以下である。ここで燐原子或は硼素原子の膜中
含有量は、元素分析の常法、例えばオージェ分析或はI
MA分析により知る事ができる。燐原子或は硼素原子の
膜中含有量が20000原子ppmより高い場合には、
少量の添加では好適な輸送性、或は、極性制御効果を保
証していた燐原子或は硼素原子が、逆に膜の低抵抗化を
招く作用を示し、帯電能の低下を来たす。従って、本発
明における燐原子或は硼素原子添加量の範囲は重要であ
る。
In the present invention, the amount of phosphorus atoms or boron atoms contained as a chemical modifier is 20,000 atomic ppm or less based on all constituent atoms. Here, the content of phosphorus atoms or boron atoms in the film is determined by a conventional method of elemental analysis, such as Auger analysis or I
This can be known through MA analysis. When the content of phosphorus atoms or boron atoms in the film is higher than 20,000 atomic ppm,
Phosphorus atoms or boron atoms, which, when added in small amounts, ensure suitable transport properties or polarity control effects, conversely exhibit the effect of lowering the resistance of the film, resulting in a decrease in charging ability. Therefore, the range of the amount of phosphorus atoms or boron atoms added in the present invention is important.

本発明において化学的修飾物質として含有される酸素原
子の量は、全構成原子に対して0.001乃至1原子%
である。ここで酸素原子の膜中含有量は、元素分析の常
法、例えばオージェ分析或はIMA分析により知る事が
できる。酸素原子の膜中含有量が0.001原子%より
低い場合には、a−Si膜の電気抵抗値が低くなる事か
らa−31膜にコロナ帯電等による電界がかかりにくく
なり、光励起キャリアが必ずしも効率よ<a−C膜中に
注入されなくなり感度の低下を招く。また、帯電能も低
下する。酸素原子の膜中含有量が1原子%より高い場合
には、逆にa−3i膜の電気抵抗値が高くなりすぎる事
から、光励起キャリアの発生効率並びに5動速度が低下
し、感度の低下を招く。従って、本発明における酸素原
子添加量の範囲は重要である。
In the present invention, the amount of oxygen atoms contained as a chemical modifier is 0.001 to 1 atomic% based on the total constituent atoms.
It is. Here, the content of oxygen atoms in the film can be determined by a conventional method of elemental analysis, such as Auger analysis or IMA analysis. When the content of oxygen atoms in the film is lower than 0.001 at%, the electric resistance value of the a-Si film becomes low, making it difficult for the a-31 film to be subjected to an electric field due to corona charging, etc., and photoexcited carriers are It is not necessarily efficient to inject into the aC film, resulting in a decrease in sensitivity. Furthermore, the charging ability is also reduced. If the content of oxygen atoms in the film is higher than 1 atomic %, the electrical resistance of the a-3i film becomes too high, resulting in a decrease in photoexcited carrier generation efficiency and 5-kinetic speed, resulting in a decrease in sensitivity. invite. Therefore, the range of the amount of oxygen atoms added in the present invention is important.

本発明におけるa−Si膜中に含まれる水素原子或は弗
素原子の量はグロー放電を用いるというその製造面から
必然的に定まるが、シリコン原子と水素原子或はシリコ
ン原子と弗素原子の総量に対して、概ね10乃至35原
子%含有される。ここで、水素原子或は弗素原子の膜中
含有量は、元素分析の常法、例えばONH分析、オージ
ェ分析等を用いる事により知る事ができる。
The amount of hydrogen atoms or fluorine atoms contained in the a-Si film of the present invention is necessarily determined from the manufacturing aspect of using glow discharge, but the total amount of silicon atoms and hydrogen atoms or silicon atoms and fluorine atoms On the other hand, the content is approximately 10 to 35 at%. Here, the content of hydrogen atoms or fluorine atoms in the film can be determined by using conventional methods of elemental analysis, such as ONH analysis and Auger analysis.

本発明における電荷発生層としてのa−3i膜の膜厚は
、通常の電子写真プロセスで用いるためには、0,1乃
至5μmが適当であり、0.1umより薄いと、光吸収
が不十分となり充分な電荷発生が行なわれなくなり、感
度の低下を招(。また、5μmより厚いと、生産性の面
でtifましくない。このa−3i膜は電荷発生能に富
み、さらに、本発明の最も特徴とするところのa−C膜
との積M構成において効率よ<a−C膜中に発生キャリ
アを注入せしめ、好適な明減衰に寄与する事が可能であ
る。
The appropriate thickness of the a-3i film as the charge generation layer in the present invention is 0.1 to 5 μm for use in a normal electrophotographic process, and if it is thinner than 0.1 μm, light absorption is insufficient. Therefore, sufficient charge generation is not carried out, leading to a decrease in sensitivity (.Also, if it is thicker than 5 μm, it is not tif in terms of productivity. This a-3i film has a rich charge generation ability, and furthermore, In the product M configuration with the a-C film, which is the most characteristic feature, it is possible to efficiently inject generated carriers into the a-C film and contribute to suitable bright attenuation.

本発明における原料気体からa−Si膜を形成する過程
は、a−C膜を形成する場合と同様にして行なわれる。
The process of forming an a-Si film from a raw material gas in the present invention is carried out in the same manner as in the case of forming an a-C film.

本発明において化学的修飾物質として含有きれる酸素原
子、燐原子、或は、硼素原子の量は、主に、プラズマ反
応を行なう反応室への前述の酸素化合物ガス、ホスフィ
ンガス、或は、ジボランガスの導入量を増減することに
より制御することが可能である。酸素化合物ガス、ホス
フィンガス、或は、ジボランガスの導入量を増大させれ
ば、本発明によるa−Si膜中への酸素原子、燐原子、
或は、−素原子の添加量を高くすることが可能であり、
逆に酸素化合物ガス、ホスフィンガス、或は、ジボラン
ガスの導入量を減少させれば、本発明によるa−3i膜
中への酸素原子、燐原子、或は、硼素原子の添加量を低
くすることが可能である。
In the present invention, the amount of oxygen atoms, phosphorus atoms, or boron atoms that can be contained as chemical modifiers is mainly determined by the amount of oxygen compound gas, phosphine gas, or diborane gas that is introduced into the reaction chamber in which the plasma reaction is performed. It can be controlled by increasing or decreasing the amount introduced. By increasing the amount of oxygen compound gas, phosphine gas, or diborane gas introduced, oxygen atoms, phosphorus atoms,
Alternatively, it is possible to increase the amount of - elementary atoms added,
Conversely, if the amount of oxygen compound gas, phosphine gas, or diborane gas introduced is reduced, the amount of oxygen atoms, phosphorus atoms, or boron atoms added to the a-3i film according to the present invention can be reduced. is possible.

本発明における感光体は、電荷発生層と電荷輸送層から
成る機能分離型の構成とするのが最適で、該電荷発生層
と該電荷輸送層の積層構成は、必要に応じて適宜選択す
ることが可能である。
It is optimal for the photoreceptor in the present invention to have a functionally separated structure consisting of a charge generation layer and a charge transport layer, and the laminated structure of the charge generation layer and the charge transport layer may be appropriately selected as necessary. is possible.

第1図は、その一形態として、導電性基板(1)上に電
荷輸送層(2)と電荷発生層(3)を順次積層してなる
構成を示したものである。第2図は、別の一形態として
、導電性基板(1)上に電荷発生層(3)と電荷輸送層
(2)を順次積層してなる構成を示したものである。第
3Aは、別の一形態として、導電性基板(1)上に、電
荷輸送層(2)と電荷発生層(3)と電荷輸送層(2)
を順次積層してなる構成を示したものである。
FIG. 1 shows, as one embodiment, a structure in which a charge transport layer (2) and a charge generation layer (3) are sequentially laminated on a conductive substrate (1). FIG. 2 shows, as another embodiment, a structure in which a charge generation layer (3) and a charge transport layer (2) are sequentially laminated on a conductive substrate (1). In another embodiment, the third A includes a charge transport layer (2), a charge generation layer (3), and a charge transport layer (2) on a conductive substrate (1).
This figure shows a structure in which these are sequentially laminated.

感光体表面を、例えばコロナ帯電器等により正帯電した
後、画像露光して使用する場合においては、第1図では
電荷発生層(3)で発生した正孔が電荷輸送層(2)中
を導電性基板(1)に向は走行し、第2図では電荷発生
層(3)で発生した電子が電荷輸送層(2)中を感光体
表面に向は走行し、第3図では電荷発生層(3)で発生
した正孔が導電性基板側の電荷輸送F!(2)中を導電
性基板(1)に向は走行すると共に、同時に電荷発生層
(3)で発生した電子が表面側の電荷輸送層(2)中を
感光体表面に向は走行し、好適な明減衰に保証された静
′:J1′fII像の形成が行なわれる。反対に感光体
表面を負帯電した後、画像露光して使用する場合におい
ては、電子と正孔の挙動を入れ代えて、キャリアーの走
行性を解すればよい。第2図及び第3図では、画像露光
用の照射光が電荷輸送層中を通過する事になるが、本発
明による電荷輸送層は透光性に優れることから、好適な
潜像形成を行なうことが可能である。
When the surface of the photoreceptor is positively charged using a corona charger or the like and then used for image exposure, in FIG. 1, holes generated in the charge generation layer (3) pass through the charge transport layer (2). In Figure 2, electrons generated in the charge generation layer (3) travel towards the surface of the photoreceptor in the charge transport layer (2), and in Figure 3, electrons are generated in the conductive substrate (1). Holes generated in layer (3) transport charge to the conductive substrate F! (2) electrons travel through the conductive substrate (1), and at the same time electrons generated in the charge generation layer (3) travel through the charge transport layer (2) on the front side toward the surface of the photoreceptor; A static ':J1'fII image is formed with a suitable brightness attenuation. On the other hand, when the surface of the photoreceptor is negatively charged and then used for image exposure, the behavior of electrons and holes can be exchanged to understand the mobility of carriers. In FIGS. 2 and 3, the irradiation light for image exposure passes through the charge transport layer, but since the charge transport layer according to the present invention has excellent translucency, it forms a suitable latent image. Is possible.

第4図は、ざらなる一形態として、導電性基板(1)上
に電荷輸送層(2)と電荷発生層(3)と表面保護層(
4)を順次積層してなる構成を示したものである。即ち
第1図の形態に表面保護層を設けた形態に相当するが、
第1図の形態では、最表面が耐湿性に乏しいa−3il
lliで有ることから、多くの場合実用上の対湿度安定
性を確保するために表面保護層を設けることが好ましい
。第2図及び第3図の構成の場合、最表面が耐久性に優
れたa−C膜であるため表面保護層を設けなくてもよい
が、例えば現像剤の付着による感光体表面の汚れを防止
するような、複写機内の各種エレメントに対する整合性
を調整する目的から、表面保護層を設けることもざらな
る一形態と成りうる。
FIG. 4 shows a conductive substrate (1), a charge transport layer (2), a charge generation layer (3) and a surface protective layer (
4) is shown in a structure formed by sequentially stacking them. In other words, it corresponds to the form shown in Fig. 1 with a surface protective layer provided, but
In the form shown in Figure 1, the outermost surface is a-3il, which has poor moisture resistance.
In many cases, it is preferable to provide a surface protective layer in order to ensure practical humidity stability. In the case of the configurations shown in FIGS. 2 and 3, since the outermost surface is a highly durable a-C film, there is no need to provide a surface protective layer. For the purpose of adjusting the consistency with respect to various elements within the copying machine, such as prevention, a surface protective layer may be provided as another form.

第5図は、ざらなる一形態として、導電性基板(1)上
に中間層(5)と電荷発生層(3)と電荷輸送層(2)
を順次積層してなる構成を示したものである。即ち第2
図の形態に中間層を設けた形態に相当するが、第2図の
形態では、導電性基板との接合面がa−Si膜である事
から、多くの場合接着性及び注入阻止効果萄確保するた
めに中間層を設ける事が好ましい。第1図及び第3図の
構成の場合、導電性基板との接合面が、接着性及び注入
阻止効果に優れた、本発明による電荷輸送層であるため
、中間層を設けなくてもよいが、例えば導電性基板の前
処理方法のような、感光層形成以前の製造工程との整合
性を調整する目的から、中間層を設けることもざらなる
一形態と成りうる。
FIG. 5 shows an intermediate layer (5), a charge generation layer (3), and a charge transport layer (2) on a conductive substrate (1) as a rough form.
This figure shows a structure in which these are sequentially laminated. That is, the second
This corresponds to the form shown in the figure with an intermediate layer provided, but in the form shown in Fig. 2, the bonding surface with the conductive substrate is an a-Si film, so in most cases adhesiveness and injection blocking effect are ensured. It is preferable to provide an intermediate layer for this purpose. In the case of the configurations shown in FIGS. 1 and 3, since the bonding surface with the conductive substrate is the charge transport layer according to the present invention, which has excellent adhesiveness and injection blocking effect, it is not necessary to provide an intermediate layer. For example, an intermediate layer may be provided for the purpose of adjusting compatibility with a manufacturing process before forming a photosensitive layer, such as a pretreatment method for a conductive substrate.

第6図は、さらなる一形態として、導電性基板(1)上
に中間層(5)と電荷輸送層(2)と電荷発生N(3)
と表面保護層(4)を順次積層してなる構成を示したも
のである。即ち第1図の形態に中間層と表面保護層を設
けた形態に相当する。
FIG. 6 shows, as a further embodiment, an intermediate layer (5), a charge transport layer (2) and a charge generating N (3) on a conductive substrate (1).
This figure shows a structure in which a surface protection layer (4) and a surface protection layer (4) are sequentially laminated. That is, it corresponds to the form shown in FIG. 1 with an intermediate layer and a surface protective layer provided.

中間層と表面保護層の設置理由は前述と同様であり、従
って第2図及び第3図の構成において中間層と表面保護
層を設けることもざらなる一形態と成りうる。
The reason for providing the intermediate layer and the surface protective layer is the same as described above, and therefore, providing the intermediate layer and the surface protective layer in the configurations shown in FIGS. 2 and 3 can be an alternative form.

本発明において中間層と表面保護層は、材料的にも、製
法的にも6.特に限定を受けるものではなく所定の目的
が達せられるものであれば、適宜選択することが可能で
ある。本発明によるa−C膜を用いてもよい。但し、用
いる材料が、例えば従来例で述べた如き絶縁性材料であ
る場合には、残留電位発生の防止のため膜厚は5μm以
下に留める必要がある。
In the present invention, the intermediate layer and the surface protective layer are 6. in terms of material and manufacturing method. It is not particularly limited and can be selected as appropriate as long as it achieves a predetermined purpose. An a-C film according to the invention may also be used. However, if the material used is, for example, an insulating material as described in the conventional example, the film thickness must be kept at 5 μm or less to prevent generation of residual potential.

本発明による感光体の電荷輸送層は、気相状態の分子を
減圧下で放電分解し、発生したプラズマ雰囲気中に含ま
れる活性中性種あるいは荷電極を基板上に拡散、電気力
、あるいは磁気力等により誘導し、基板上での再結合反
応により固相として堆積きせる、所謂プラズマ重合反応
から生成される事が好ましい。
The charge transport layer of the photoreceptor according to the present invention decomposes molecules in a gas phase by discharge decomposition under reduced pressure, and diffuses active neutral species or charged electrodes contained in the generated plasma atmosphere onto the substrate, using electric force or magnetism. It is preferable that the polymer be generated by a so-called plasma polymerization reaction, which is induced by force or the like and deposited as a solid phase by a recombination reaction on a substrate.

第7図は本発明に係わる感光体の製造装置を示し、図中
(701)〜(706)は常温において気相状態にある
原料化合物及びキャリアガスを密封した第1乃至第6タ
ンクで、各々のタンクは第1乃至第6調節弁(707)
〜(712)と第1乃至第6流量制御器(713)〜(
718)に接続されている。図中(719)〜(721
)は常温において液相または固相状態にある原料化合物
を封入した第1乃至第3容器で、各々の容器は気化のた
め第4乃至第3温調器(722)〜(724)により与
熱可能であり、ざらに各々の容器は第7乃至第9調節弁
(725)〜(727)と第7乃至第9流量制御器(7
28)〜(730)に接続されている。これらのガスは
混合器(731)で混合された後、主管(732)を介
して反応室(733)に送り込まれる。途中の配管は、
常温において液相または固相状態にあった原料化合物が
気化したガスが、途中で凝結しないように、適宜配置さ
れた配管加熱! (734)により、与熱可能とされて
いる。反応室内には接地電極(735)と電力印加電極
(736)が対向して設置され、各々の電極は電極加熱
器(737)により与熱可能とされている。電力印加電
極(736)には、高周波電力用整合器(738)を介
して高周波電源(739) 、低周波電力用整合器(7
40)を介して低周波電源(741)、ローパスフィル
タ(742)を介して直流電源(743)が接続されて
おり、接続選択スイッチ(744)により周波数の異な
る電力が印加可能とされている。反応室(733)内の
圧力は圧力制瀕弁(745)により調整可能であり、反
応室(733)内の減圧は、排気系選択弁(746)を
介して、拡散ポンプ(747) 、油回転ポンプ(74
8) 、或は、冷却除外装置(749) 、メカニカル
ブースターポンプ(750)、油回転ポンプ(748)
により行なわれる。排ガスについては、ざらに適当な除
外装置(753)により安全無害化した後、大気中に排
気される。これら排気系配管についても、常温において
液相または固相状態にあった原料化合物が気化したガス
が、途中で凝結しないように、適宜配置された配管加熱
器(734)により、与熱可能とされている。反応室(
733)も同様の理由から反応室加熱器(751)によ
り与熱可能とされ、内部に配された電極上に導電性基板
(752)が設置される。第7図において導電性基板(
752)は接地電極(735)に固定して配されている
が、電力印加電極(736)に固定して配されてもよく
、ざらに双方に配されてもよい。
FIG. 7 shows a photoconductor manufacturing apparatus according to the present invention, and in the figure (701) to (706) are first to sixth tanks in which the raw material compound and carrier gas, which are in a gas phase at room temperature, are sealed, respectively. The tanks are the first to sixth control valves (707)
〜(712) and the first to sixth flow rate controllers (713)〜(
718). (719) to (721) in the figure
) are first to third containers filled with raw material compounds that are in a liquid or solid state at room temperature, and each container is heated by fourth to third temperature controllers (722) to (724) for vaporization. Roughly speaking, each container has seventh to ninth control valves (725) to (727) and seventh to ninth flow rate controllers (727).
28) to (730). These gases are mixed in a mixer (731) and then sent into a reaction chamber (733) via a main pipe (732). The pipes along the way are
Appropriately placed piping heating prevents the vaporized gas from the raw material compound, which is in a liquid or solid state at room temperature, from condensing on the way! (734), heating is possible. A ground electrode (735) and a power application electrode (736) are installed facing each other in the reaction chamber, and each electrode can be heated by an electrode heater (737). The power application electrode (736) is connected to a high frequency power source (739) via a high frequency power matching box (738) and a low frequency power matching box (738).
A low frequency power source (741) is connected through a low-frequency power source (741) and a DC power source (743) is connected through a low-pass filter (742), and power with different frequencies can be applied by a connection selection switch (744). The pressure inside the reaction chamber (733) can be adjusted by a pressure limiting valve (745), and the pressure inside the reaction chamber (733) can be reduced by using a diffusion pump (747), oil, etc. through an exhaust system selection valve (746). Rotary pump (74
8), or cooling exclusion device (749), mechanical booster pump (750), oil rotary pump (748)
This is done by The exhaust gas is made safe and harmless by a suitable exclusion device (753) and then exhausted into the atmosphere. These exhaust system piping can also be heated by appropriately placed piping heaters (734) to prevent the vaporized gas of the raw material compound, which is in a liquid or solid phase state at room temperature, from condensing on the way. ing. reaction chamber (
733) can also be heated by the reaction chamber heater (751) for the same reason, and a conductive substrate (752) is installed on the electrode arranged inside. In Figure 7, the conductive substrate (
752) are fixedly disposed on the ground electrode (735), but may be fixedly disposed on the power application electrode (736), or may be disposed roughly on both sides.

第8図は本発明に係わる感光体の製造装置の別の一形態
を示し、反応室(833)内部の形態以外は、第7図に
示した本発明に係わる感光体の製造装置と同様であり、
付記された番号は、7o○番台のものを800番台に置
き換えて解すればよい。第8図において、反応室(83
3)内部には、第7図における接地電極(735)を兼
ねた円筒形の導電性基板(852)が設置され、内側に
は電極加P8器(837)が配されている。導電性基板
(852)周囲には同じく円筒形状をした電力中加電w
1(836)が配され、外側には電極加熱器(837)
が配されている。導電性基板(852)は、外部より駆
動モータ(854)を用いて自転可能となっている。
FIG. 8 shows another embodiment of the photoconductor manufacturing apparatus according to the present invention, which is similar to the photoconductor manufacturing apparatus according to the present invention shown in FIG. 7 except for the internal configuration of the reaction chamber (833). can be,
The appended numbers can be understood by replacing the 7o○ series with the 800 series. In FIG. 8, the reaction chamber (83
3) A cylindrical conductive substrate (852) that also serves as the ground electrode (735) in FIG. 7 is installed inside, and an electrode adder P8 (837) is placed inside. Around the conductive substrate (852), there is also a cylindrical power source w.
1 (836), and an electrode heater (837) is placed on the outside.
are arranged. The conductive substrate (852) is rotatable using an external drive motor (854).

感光体製造に供する反応室は、拡散ポンプにより予め1
0−4乃至1O−6Torr程度にまで減圧し、真空度
の確認と装置内部に吸着したガスの脱着を行なう。同時
に電極加熱器により、電極並びに電極に固定して配され
た導電性基板を所定の温度まで昇温する。導電性基板に
は、前述の如き感光体構成の中から所望の構成を得るた
めに、必要であれば、予めアンダーコート層或は電荷発
生層を設けて置いてもよい。アンダーコート層或は電荷
発生層の設置には、本装置を用いてもよいし別装置を用
いてもよい。次いで、第1乃至第6タンク及び第1乃至
第3容器から、原料ガスを適宜第1乃至第9流量制御器
を用いて定流量化しながら反応室内に導入し、圧力調節
弁により反応室内を一定の減圧状態に保つ。ガス流量が
安定化した後、接続選択スイッチにより、例えば高周波
電源を賢択し、電力印加電極に高周波電力を投入する。
The reaction chamber used for photoreceptor production is preliminarily heated by a diffusion pump.
The pressure is reduced to about 0-4 to 10-6 Torr, and the degree of vacuum is confirmed and the gas adsorbed inside the device is desorbed. At the same time, an electrode heater heats the electrode and the conductive substrate fixedly disposed on the electrode to a predetermined temperature. If necessary, an undercoat layer or a charge generation layer may be provided in advance on the conductive substrate in order to obtain a desired photoreceptor structure from among those described above. The present apparatus or a separate apparatus may be used to provide the undercoat layer or the charge generation layer. Next, the raw material gases are introduced into the reaction chamber from the first to sixth tanks and the first to third containers while being kept at a constant flow rate using the first to ninth flow rate controllers, and the inside of the reaction chamber is kept constant using the pressure control valve. Maintain a reduced pressure. After the gas flow rate is stabilized, a connection selection switch is used to selectively select, for example, a high frequency power source, and high frequency power is applied to the power application electrode.

両744m間には放電が開始され、時間と共に基板上に
固相の膜が形成される。a−3i膜或はa−C膜は、原
料ガスを代える事により任意に形成可能である。放電を
一旦停止し、原料ガス組成を変更した後、再び放電を再
開すれば異なる組成の膜を積層する事ができる。また、
放電を持続させながら原料ガス流量りこけを徐々に代え
、異なる組成の膜を勾配を持たせながら積層する事も可
能である。
A discharge starts between both 744m, and a solid phase film is formed on the substrate over time. The a-3i film or the a-C film can be formed arbitrarily by changing the raw material gas. Films with different compositions can be laminated by once stopping the discharge, changing the source gas composition, and then restarting the discharge. Also,
It is also possible to gradually change the raw material gas flow rate while continuing the discharge, and to stack films of different compositions with a gradient.

反応時間により膜厚を制御し、所定の膜厚並びに積層構
成に達したところで放電を停止し、本発明による感光体
を得る。次いで、第1乃至第9調節弁を閉じ、反応室内
を充分に排気する。ここで所望の感光体構成が得られる
場合には反応室内の真空を破り、反応室より本発明によ
る感光体を取り出す。更に所望の感光体構成において、
電荷発生層或はオーバーコート層が必要とされる場合に
は、そのまま本装置を用いるか、或は同様に一旦真空を
破り取り出して別装置に移してこれらの層を設け、本発
明による感光体を得る。
The film thickness is controlled by the reaction time, and when a predetermined film thickness and laminated structure are reached, the discharge is stopped to obtain a photoreceptor according to the present invention. Next, the first to ninth control valves are closed to sufficiently exhaust the inside of the reaction chamber. If the desired photoreceptor configuration is obtained, the vacuum in the reaction chamber is broken and the photoreceptor according to the present invention is taken out from the reaction chamber. Furthermore, in a desired photoreceptor configuration,
If a charge generation layer or an overcoat layer is required, the photoreceptor according to the present invention can be fabricated by using the present device as is, or by breaking the vacuum and transferring it to another device to provide these layers. get.

以下実施例を挙げながら、本発明を説明する。The present invention will be described below with reference to Examples.

実施例1 本発明に係わる製造装置を用いて、第1図に示す如き、
導電性基板、電荷輸送層、電荷発生層をこの順に設けた
本発明感光体を作製した。
Example 1 Using the manufacturing apparatus according to the present invention, as shown in FIG.
A photoreceptor of the present invention was prepared in which a conductive substrate, a charge transport layer, and a charge generation layer were provided in this order.

電荷輸送層形成工程: 第7図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置(733)の内部を10−6To r r程度の高
真空にした後、第3調節弁(711)を解放し、第3タ
ンク(705)よ亜酸化窒素ガスを出力圧1.0Kg/
(m2の下で第3流量制御器(717)内へ流入させた
。同時に、第1容器(719)よりスチレンガスを第1
温調器(722)温度30℃のもと第7流量制vs器(
728)内へ流入きせな。亜酸化窒素ガスの流量を15
sCCm %及びスチレンガスの流量を45sCcmと
なるように設定して、途中混合器(731)を介して、
主管(732)より反応室(733)内へ流入した。各
々の流量が安定した後に、反応室(733)内の圧力が
1.8Torrとなるように圧力調節弁(745)を調
整した。一方、導電性基板(752)としては、樅50
X横50X厚3mmのアルミニウム基板を用いて、予め
150℃に加熱しておき、ガス流量及び圧力が安定した
状態で、予め接続選択スイッチ(744)により接続し
ておいた低周波電源(741)を投入し、電力印加電極
(736)に130Wattの電力を周波数40KHz
の下で印加して約1時間15分プラズマ重合反応を行な
い、導電性基板(752)上に厚ざ15μmのa−C膜
を電荷輸送層として形成した。成膜完了後は、電力印加
を停止し、調節弁を閉じ、反応室(733)内を充分に
排気した。
Charge transport layer forming step: In the glow discharge decomposition device shown in FIG. 7, first, the inside of the reaction device (733) was brought to a high vacuum of about 10 −6 Torr, and then the third control valve (711) was released. , the output pressure of nitrous oxide gas from the third tank (705) is 1.0Kg/
(m2) into the third flow rate controller (717). At the same time, styrene gas was introduced into the first container (719) from the first container (719).
Under temperature controller (722) temperature of 30℃, 7th flow rate controller (
728) Inflow into the inside. Increase the flow rate of nitrous oxide gas to 15
sCCm % and the flow rate of styrene gas to be 45 sCcm, through an intermediate mixer (731),
It flowed into the reaction chamber (733) from the main pipe (732). After each flow rate became stable, the pressure control valve (745) was adjusted so that the pressure in the reaction chamber (733) was 1.8 Torr. On the other hand, as the conductive substrate (752), fir 50
A low frequency power source (741) was prepared by using an aluminum substrate measuring 50 mm in width and 3 mm in thickness, preheated to 150°C, and connected to the connection selection switch (744) with the gas flow rate and pressure stable. and applied 130W of power to the power application electrode (736) at a frequency of 40KHz.
A plasma polymerization reaction was carried out for about 1 hour and 15 minutes under the following conditions, and an a-C film having a thickness of 15 μm was formed as a charge transport layer on the conductive substrate (752). After the film formation was completed, power application was stopped, the control valve was closed, and the inside of the reaction chamber (733) was sufficiently evacuated.

以上のようにして得られたa −C膜につき有機元素分
析を行なったところ、含有される水素原子の量は炭素原
子と水素原子の総量に対して42原子%であった。また
、オージェ分析より含有される酸素原子の量は、全構成
原子に対して、1.9原子%であった。
When organic elemental analysis was performed on the a-C film obtained as described above, the amount of hydrogen atoms contained was 42 at % based on the total amount of carbon atoms and hydrogen atoms. Moreover, the amount of oxygen atoms contained was 1.9 at % based on the total constituent atoms according to Auger analysis.

電荷発生層形成工程: 次いで、第1調節弁(707)、第5TA節弁(711
)、及び第6調節弁(712)を解放し、第1タンク(
701)から水素ガス、第5タンク(705)から亜酸
化窒素ガス、及び第6タンク(706)からシランガス
を、出力圧IKg/cm2の下で第1、第5、及び第6
流量制御器(713,717、及び718)内へ流入さ
せた。同時。
Charge generation layer forming step: Next, the first control valve (707), the fifth TA control valve (711)
), and the sixth control valve (712) are released, and the first tank (
701), nitrous oxide gas from the fifth tank (705), and silane gas from the sixth tank (706) at the first, fifth, and sixth tanks under an output pressure of IKg/cm2.
It was made to flow into the flow controllers (713, 717, and 718). simultaneous.

に、第4FA節弁(710)を解放し、第4タンク(7
04)より水素ガスで1100ppに希釈されたジボラ
ンガスを、出力圧1.5Kg/cm2の下で第4流量制
御器(716)内へ、流入させた。
, the 4th FA control valve (710) is released and the 4th tank (710) is released.
Diborane gas diluted to 1100 pp with hydrogen gas from 04) was flowed into the fourth flow rate controller (716) under an output pressure of 1.5 Kg/cm2.

各流量制御器の目盛を調整して水素ガスの流量を200
secm、亜酸化窒素ガスの流量を3secm、シラン
ガスの流量を1001005e水素ガスで1100pp
に希釈されたジボランガスの流量を10105eに設定
し、反応室(733)内に流入させた。各々の流量が安
定した後に、反応室(733)内の圧力が1.0Tor
rとなるように圧力調節弁(745)を調整した。一方
、a−C膜が形成されている導電性基板(752)は、
240℃に加熱しておき、ガス流量及び圧力が安定した
状態で、高周波N源(739)より周波数13.56M
Hzの下で電力印加電極(736)に45Wattの電
力を印加し、グロー放電を発生きせた。この放電を5分
間行ない、厚さ0゜3μmの電荷発生層を得た。
Adjust the scale of each flow rate controller to set the hydrogen gas flow rate to 200.
secm, nitrous oxide gas flow rate 3sec, silane gas flow rate 1001005e hydrogen gas 1100pp
The flow rate of the diborane gas diluted to 10105e was set to 10105e, and the diborane gas was allowed to flow into the reaction chamber (733). After each flow rate stabilized, the pressure inside the reaction chamber (733) was reduced to 1.0 Torr.
The pressure regulating valve (745) was adjusted so that the temperature was r. On the other hand, the conductive substrate (752) on which the a-C film is formed is
Heated to 240℃, and with stable gas flow rate and pressure, a high frequency N source (739) was used to generate a frequency of 13.56M.
A power of 45 Watt was applied to the power application electrode (736) under Hz to generate glow discharge. This discharge was carried out for 5 minutes to obtain a charge generation layer having a thickness of 0.3 μm.

得られたa−SiFJにつき、金属中ONH分析(板場
製作所製EMGA−1300) 、オージェ分析、及び
IMA分析を行なったところ、含有される水素原子は全
構成原子に対して21原子%、硼素原子は11原子pp
m5酸素原子は0.31原子%であった。
The obtained a-SiFJ was subjected to in-metal ONH analysis (EMGA-1300 manufactured by Itaba Manufacturing Co., Ltd.), Auger analysis, and IMA analysis, and it was found that the hydrogen atoms contained were 21 atomic% based on the total constituent atoms, and the boron Atom is 11 atoms pp
m5 oxygen atoms were 0.31 at.%.

特性: 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で負帯
電並びに正帯電で用いたところ次の如き性能が得られた
。ここでは、正11電時の測定値を括弧内に示すが、最
高帯電電位は一860V (+850V)で有り、即ち
、全感光体膜厚が15゜3μmであることから1μm当
りの帯電能は56V/μm (55V/μm)と極めて
高く、このことから充分な帯電性能を有する事が理解さ
れた。
Characteristics: When the obtained photoreceptor was used with both negative and positive charging in a conventional Carlson process, the following performance was obtained. Here, the measured values at 11 positive charges are shown in parentheses, and the highest charging potential is -860V (+850V).In other words, since the total photoreceptor film thickness is 15°3μm, the charging capacity per μm is It was extremely high at 56 V/μm (55 V/μm), and from this it was understood that it had sufficient charging performance.

また、暗中にてVmaXからVmaxの90%の表面電
位にまで暗減衰するのに要した時間は約38秒(約32
秒)であり、このことから充分な電荷保持性能を有する
事が理解きれた。また、最高帯電電位に初期帯電した後
、白色光を用いて最高帯電電位の20%の表面電位にま
で明減衰させたところ必要とされた光量は2.0ルツク
ス・秒(2,9ルツクス・秒)であり、このことから充
分な光感度性能を有する事が理解された。
In addition, the time required for dark decay from Vmax to 90% of Vmax in the dark was approximately 38 seconds (approximately 32 seconds).
seconds), and from this we can understand that it has sufficient charge retention performance. Furthermore, after initial charging to the highest charging potential, white light was used to brightly attenuate the surface potential to 20% of the highest charging potential, and the amount of light required was 2.0 lux · seconds (2.9 lux · seconds), and from this it was understood that it had sufficient photosensitivity performance.

以上より、本例に示した本発明による感光体は、感光体
として優れた性能を有するものである事が理解きれる。
From the above, it can be understood that the photoreceptor according to the present invention shown in this example has excellent performance as a photoreceptor.

また、この感光体に対して常用のカールソンプロセスの
中で、作像して転写したところ、鮮明な画像が得られた
Further, when an image was formed and transferred to this photoreceptor using the commonly used Carlson process, a clear image was obtained.

又施備品 本発明に係わる製造装置を用いて、第1図に示す如き、
導電性基板、電荷輸送層、電荷発生層をこの順に設けた
本発明感光体を作製した。
Furthermore, using the manufacturing equipment according to the present invention, equipment as shown in FIG. 1 can be manufactured.
A photoreceptor of the present invention was prepared in which a conductive substrate, a charge transport layer, and a charge generation layer were provided in this order.

電荷輸送層形成工程: 第7図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置(733)の内部を10−’To’r r程度の高
真空にした後、第1、第2、及び第3(707,708
、及び7o9)を解放し、第1タンク(701)より水
素ガス、第2タンク(702)よりエチレンガス、及び
第3タンク(703)より酸素ガスを各々出力圧1.0
Kg/am2の下で第1、第2、及び第3流量制?:s
詰(713,714、及び715)内へ流入きせた。そ
して各流量側′m器の目盛を調整して、水素ガスの流量
を60secm、エチレンガスの流量を60secm1
及び酸素ガスの流量を10105eとなるように設定し
て、途中混合器(731)を介して、主! (732)
より反応室(733)内へ流入した。各々の流量が安定
した後に、反応室(733)内の圧力が2.2Torr
となるように圧力調節弁(745)を調整した。一方、
導電性基板(752)としては、樅50X横50×厚3
mmのアルミニウム基板を用いて、予め250℃に加熱
しておき、ガス流量及び圧力が安定した状態で、予め接
続選択スイッチ(744)により接続しておいた高周波
電源(739)を投入し、電力印加電極(736)に1
50Wattの電力を周波数13.56MHzの下で印
加して約3時間プラズマ重合反応を行ない、導電性基板
(752)上に厚き15μmのa−C膜を電荷輸送層と
して形成した。成膜完了後は、電力印加を停止し、調節
弁を閉じ、反応室(733)内を充分に排気した。
Charge transport layer forming step: In the glow discharge decomposition apparatus shown in FIG. 3 (707,708
, and 7o9), hydrogen gas from the first tank (701), ethylene gas from the second tank (702), and oxygen gas from the third tank (703) at an output pressure of 1.0.
1st, 2nd and 3rd flow rate system under Kg/am2? :s
The water flowed into the pipes (713, 714, and 715). Then, adjust the scales of the meters on each flow rate side to set the hydrogen gas flow rate to 60 seconds and the ethylene gas flow rate to 60 seconds.
And the flow rate of oxygen gas is set to 10105e, and the main! (732)
The liquid then flowed into the reaction chamber (733). After each flow rate stabilizes, the pressure inside the reaction chamber (733) is 2.2 Torr.
The pressure control valve (745) was adjusted so that on the other hand,
The conductive substrate (752) is fir 50 x width 50 x thickness 3
Using an aluminum substrate with a diameter of 1 to the application electrode (736)
A plasma polymerization reaction was carried out for about 3 hours by applying a power of 50 Watts at a frequency of 13.56 MHz to form a 15 μm thick a-C film as a charge transport layer on the conductive substrate (752). After the film formation was completed, power application was stopped, the control valve was closed, and the inside of the reaction chamber (733) was sufficiently evacuated.

以上のようにして得られたa−CMにつき有機元素分析
を行なったところ、含有される水素原子の量は炭素原子
と水素原子の総量に対して39原子%、また、オージェ
分析より含有される酸素原子の量は全構成原子に対して
3.0原子%であった。
Organic elemental analysis was performed on the a-CM obtained as described above, and the amount of hydrogen atoms contained was 39 at% based on the total amount of carbon atoms and hydrogen atoms. The amount of oxygen atoms was 3.0 at% based on the total constituent atoms.

電荷発生層形成工程: 次いで、第1調節弁(707)、第5調節弁(711)
、及び第6調節弁(712)を解放し、第1タンク(7
01)から水素ガス、第5タンク(705)から酸素ガ
ス、及び第6タンク(706)からシランガスを、出力
圧IKg/cm2の下で第1、第5、及び第6流量制御
器(713,717、及び718)内へ流入させな。同
時に、第4調促弁(710)を解放し、第4タンク(7
04)より水素ガスで10ppmに希釈されたホスフィ
ンガスを、出力圧1.5Kg/cm2の下で第4流量制
御器(716)内へ、流入きせた。各流量制御器の目盛
を調整して水素ガスの流量を2005 CCrn %酸
素ガスの流量を1.3secm。
Charge generation layer forming step: Next, the first control valve (707) and the fifth control valve (711)
, and the sixth control valve (712), and the first tank (7
Hydrogen gas from the fifth tank (705), and silane gas from the sixth tank (706) are supplied to the first, fifth, and sixth flow rate controllers (713, 01) under an output pressure of IKg/cm2. 717 and 718). At the same time, the fourth regulator valve (710) is released and the fourth tank (710) is released.
Phosphine gas diluted to 10 ppm with hydrogen gas from 04) was allowed to flow into the fourth flow rate controller (716) under an output pressure of 1.5 Kg/cm2. Adjust the scale of each flow rate controller to set the hydrogen gas flow rate to 2005 CCrn and the oxygen gas flow rate to 1.3 sec.

シランガスの流量を200secm、水素ガスで100
 p pmに希釈されたホスフィンガスの流量を101
05eに設定し、反応室(733)内に流入きせた。各
々の流量が安定した後に、反応室(733)内の圧力が
0.9Torrとなるように圧力調節弁(745)を調
整した。一方、a −C膜が形成されている導電性基板
(752)は、250℃に加熱しておき、ガス流量及び
圧力が安定した状態で、高周波電源(739)より周波
数13.56MHzの下で電力印加電極(736)に3
5Wattの電力を印加し、グロー放電を発生させた。
The flow rate of silane gas is 200 sec, and the flow rate of hydrogen gas is 100 sec.
The flow rate of phosphine gas diluted to ppm is 101
The temperature was set at 05e to allow the flow into the reaction chamber (733). After each flow rate became stable, the pressure control valve (745) was adjusted so that the pressure inside the reaction chamber (733) was 0.9 Torr. On the other hand, the conductive substrate (752) on which the a-C film is formed is heated to 250°C, and is heated at a frequency of 13.56 MHz from a high frequency power source (739) while the gas flow rate and pressure are stable. 3 to the power application electrode (736)
A power of 5 Watts was applied to generate glow discharge.

この放電を5分間行ない、厚ざ0.374mの電荷発生
層を得た。
This discharge was carried out for 5 minutes to obtain a charge generation layer having a thickness of 0.374 m.

得られたa−3i膜につき、金属中ONH分析(板場製
作所製EMGA−1300) 、オージェ分析、及びI
MA分析を行なったところ、含有される水素原子は全構
成原子に対して18原子%、燐原子は12原子ppm、
酸素原子は0.3原子%であった。
The obtained a-3i film was subjected to ONH analysis in metal (EMGA-1300 manufactured by Itaba Seisakusho), Auger analysis, and I
When MA analysis was performed, the hydrogen atoms contained were 18 at %, the phosphorus atoms were 12 at ppm,
The oxygen atom content was 0.3 at.%.

特性: 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で負帯
電並びに正帯電で用いたところ次の如き性能が得られた
。ここでは、正帯電時の測定値を括弧内に示すが、最高
帯電電位は一840V (+950V)で有り、即ち、
全感光体膜厚が15゜3μmであることから1μm当り
の帯電能は55V/μm (62V/μm)と極めて高
く、このことから充分な帯電性能を有する事が理解きれ
た。
Characteristics: When the obtained photoreceptor was used with both negative and positive charging in a conventional Carlson process, the following performance was obtained. Here, the measured values at the time of positive charging are shown in parentheses, and the highest charging potential is -840V (+950V), that is,
Since the total photoreceptor film thickness was 15.degree. 3 .mu.m, the charging ability per 1 .mu.m was extremely high at 55 V/.mu.m (62 V/.mu.m), and from this it was understood that the photoreceptor had sufficient charging performance.

また、暗中にてVmaxからVmaxの90%の表面電
位にまで暗減衰するのに要した時間は約35秒(約46
秒)であり、このことから充分な電荷保持性能を有する
事が理解された。また、最高帯電電位に初期帯電した後
、白色光を用いて最高帯電電位の20%の表面電位にま
で明′g衰させたところ必要ときれた光景は2.9ルツ
クス・秒(9,フルックス・秒)であり、このことから
充分な光感度性能を有する事が理解された。
In addition, the time required for dark decay from Vmax to 90% of Vmax in the dark was approximately 35 seconds (approximately 46 seconds).
seconds), and from this it was understood that it had sufficient charge retention performance. In addition, after initial charging to the highest charging potential, the brightness was decreased to a surface potential of 20% of the highest charging potential using white light, and the required scene was 2.9 lux seconds (9, flux・seconds), and from this it was understood that it had sufficient photosensitivity performance.

以上より、本例に示した本発明による感光体は、感光体
として優れた性能を有するものである事が理解される。
From the above, it is understood that the photoreceptor according to the present invention shown in this example has excellent performance as a photoreceptor.

また、この感光体に対して常用のカールソンプロセスの
中で、作像して転写したところ、鮮明な画像が得られた
Further, when an image was formed and transferred to this photoreceptor using the commonly used Carlson process, a clear image was obtained.

去旅燃旦 本発明に係わる製造装置を用いて、第1図に示す如き、
導電性基板、電荷輸送層、電荷発生層をこの順に設けた
本発明感光体を作製した。
Using the manufacturing apparatus according to the present invention, as shown in FIG.
A photoreceptor of the present invention was prepared in which a conductive substrate, a charge transport layer, and a charge generation layer were provided in this order.

電荷輸送層形成工程: 第7図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置(733)の内部を10−6To r r程度の高
真空にした後、第3調節弁(709)を解放し、第3タ
ンク(703)より酸素ガスを出方圧1.○Kg/cm
2の下で第3流量制御器(715)内へ流入させた。同
時に、第1容器(719)よりミルセンガスを第1温調
器(722)温度120℃のもと第7流量制#器(72
8)内へ流入させな。酸素ガスの流量を4secm、及
びミルセンガスの流量を20secmとなるように設定
して、途中混合器(731)を介して、主管(732)
より反応室(733)内へ流入した。
Charge transport layer forming step: In the glow discharge decomposition apparatus shown in FIG. 7, first, the inside of the reaction apparatus (733) was brought to a high vacuum of about 10-6 Torr, and then the third control valve (709) was released. , oxygen gas is discharged from the third tank (703) at a pressure of 1. ○Kg/cm
2 into the third flow controller (715). At the same time, myrcene gas is supplied from the first container (719) to the first temperature controller (722) at a temperature of 120°C and the seventh flow rate controller (72
8) Don't let it flow inside. The flow rate of oxygen gas was set to 4 sec and the flow rate of myrcene gas was set to 20 sec, and the main pipe (732) was passed through an intermediate mixer (731).
The liquid then flowed into the reaction chamber (733).

各々の流量が安定した後に、反応室(733)内の圧力
が1.5Torrとなるように圧力調節弁(745)を
調整した。一方、導電性基板(752)としては、縦5
0X横50×厚3mmのアルミニウム基板を用いて、予
め150℃に加熱しておき、ガス流量及び圧力が安定し
た状態で、予め接続選択スイッチ(744)により接続
しておいた低虐波電源(741)を投入し、電力印加電
極(736)に120Wattの電力を周波数35KH
zの下で印加して約2時間40分プラズマ重合反応を行
ない、導電性基板(752)上に厚ざ15μmのa−C
膜を電荷輸送層として形成した。
After each flow rate became stable, the pressure control valve (745) was adjusted so that the pressure inside the reaction chamber (733) was 1.5 Torr. On the other hand, as a conductive substrate (752),
Using an aluminum substrate of 0x width 50x thickness 3mm, heat it in advance to 150°C, and with the gas flow rate and pressure stable, connect the low-wave power source (744) with the connection selection switch (744) in advance. 741) and apply 120Watt power to the power application electrode (736) at a frequency of 35KH.
Plasma polymerization reaction was carried out for about 2 hours and 40 minutes by applying voltage under
The membrane was formed as a charge transport layer.

成膜完了後は、電力印加を停止し、調節弁を閉じ、反応
室(733)内を充分に排気した。
After the film formation was completed, power application was stopped, the control valve was closed, and the inside of the reaction chamber (733) was sufficiently evacuated.

以上のようにして得られたa −C膜につき有機元素分
析を行なったところ、含有される水素原子の量は炭素原
子と水素原子の総量に対して47原子%であった。また
、オージェ分析より含有される酸素原子の量は全構成原
子に対して0.7原子%であった。
When organic elemental analysis was performed on the a-C film obtained as described above, the amount of hydrogen atoms contained was 47 at % based on the total amount of carbon atoms and hydrogen atoms. Moreover, the amount of oxygen atoms contained was 0.7 at % based on the total constituent atoms according to Auger analysis.

電荷発生層形成工程: 次いで、第1調節弁(707) 、第5調節弁(711
)、及び第6調節弁(712)を解放し、第1タンク(
701)から水素ガス、第5タンク(705)から酸素
ガス、及び第6タンク(706)からシランガスを、出
力圧IKg/am2の下で第1、第5、及び第6流量制
御器(713,717、及び718)内へ流入させた。
Charge generation layer forming step: Next, the first control valve (707) and the fifth control valve (711
), and the sixth control valve (712) are released, and the first tank (
Hydrogen gas from the fifth tank (701), oxygen gas from the fifth tank (705), and silane gas from the sixth tank (706) are supplied to the first, fifth, and sixth flow rate controllers (713, 717 and 718).

同時に、第4調節弁(710)を解放し、第4タンク(
704)より水素ガスで1100ppに希釈されたジボ
ランガスを、出力圧1.5Kg/am’の下で第4流量
制御器(716)内へ、流入させた。各流量制御器の目
盛を調整して水素ガスの流量を200secm1酸毒ガ
スの流量を0.5secm1シランガスの流量を101
005e、水素ガスで100 p pmに希釈されたジ
ボランガスの流量を10105eに設定し、反応室(7
33)内に流入きせた。各々の流量が安定した後に、反
応室(733)内の圧力が0.9Torrとなるように
圧力調節弁(745)を調整した。一方、a−C膜が形
成されている導電性基板(752)は、230℃に加熱
しておき、ガス流量及び圧力が安定した状態で、高周波
電源(739)より周波数13.56MHzの下で電力
印加電極(736)に35Wattの電力を印加し、グ
ロー放電を発生させた。この放電を5分間行ない、厚さ
0.3μmの電荷発生層を得た。
At the same time, the fourth control valve (710) is released and the fourth tank (
Diborane gas diluted to 1100 pp with hydrogen gas (704) was flowed into the fourth flow rate controller (716) under an output pressure of 1.5 Kg/am'. Adjust the scale of each flow rate controller to set the flow rate of hydrogen gas to 200 sec, the flow rate of acid poison gas to 0.5 sec, and the flow rate of silane gas to 101 sec.
005e, the flow rate of diborane gas diluted to 100 ppm with hydrogen gas was set to 10105e, and the reaction chamber (7
33) There was an inflow into the interior. After each flow rate became stable, the pressure control valve (745) was adjusted so that the pressure inside the reaction chamber (733) was 0.9 Torr. On the other hand, the conductive substrate (752) on which the a-C film is formed is heated to 230°C, and is heated at a frequency of 13.56 MHz from a high frequency power source (739) while the gas flow rate and pressure are stable. A power of 35 Watts was applied to the power application electrode (736) to generate glow discharge. This discharge was performed for 5 minutes to obtain a charge generation layer with a thickness of 0.3 μm.

得られたa−Si膜につき、金属中○NH分析(板場製
作所製EMGA−1300) 、オージェ分析、及びI
MA分析を行なったところ、含有される水素原子は全構
成原子に対して20原子%、硼素原子は12原子ppm
5酸素原子は0.1原子%であった。
The obtained a-Si film was subjected to ○NH analysis in metal (EMGA-1300 manufactured by Itaba Seisakusho), Auger analysis, and I
When MA analysis was performed, the hydrogen atoms contained were 20 atomic % and the boron atoms were 12 atomic ppm based on the total constituent atoms.
The 5 oxygen atoms were 0.1 at%.

特性: 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で負帯
電並びに正帯電で用いたところ次の如き性能が得られた
。ここでは、正帯電時の測定値を括弧内に示すが、最高
帯′R電位は一660V (+660V)で有り、即ち
、全感光体膜厚が15゜3μmであることから1μm当
りの帯電能ば43V/am (43V/am)と極めて
高く、このことから充分な帯電性能を有する事が理解さ
れた。
Characteristics: When the obtained photoreceptor was used with both negative and positive charging in a conventional Carlson process, the following performance was obtained. Here, the measured values during positive charging are shown in parentheses, and the highest band'R potential is -660V (+660V).In other words, since the total photoreceptor film thickness is 15°3μm, the charging capacity per μm. The charging performance was extremely high at 43 V/am (43 V/am), and it was understood from this that it had sufficient charging performance.

また、暗中にてVmaxからVmaXの90%の表面電
位にまで暗減衰するのに要した時間は約46秒(約17
秒)であり、このことから充分な電荷保持性能を有する
事が理解された。また、最高帯電電位に初期帯電した後
、白色光を用いて最高帯電電位の20%の表面電位にま
で明減衰させたとこる必要とされた光量は1.4ルツク
ス・秒(1,フルックス・秒)であり、このことから充
分な光感度性能を有する事が理解された。
In addition, the time required for dark decay from Vmax to 90% of Vmax in the dark was approximately 46 seconds (approximately 17 seconds).
seconds), and from this it was understood that it had sufficient charge retention performance. In addition, after initial charging to the highest charging potential, white light was used to brightly attenuate the surface potential to 20% of the highest charging potential.The amount of light required was 1.4 lux sec (1, flux seconds), and from this it was understood that it had sufficient photosensitivity performance.

以上より、本例に示した本発明による感光体は、感光体
として優れた性能を有するものである事が理解される。
From the above, it is understood that the photoreceptor according to the present invention shown in this example has excellent performance as a photoreceptor.

また、この感光体に対して常用のカールソンプロセスの
中で、作像して転写したところ、鮮明な画像が得られた
Further, when an image was formed and transferred to this photoreceptor using the commonly used Carlson process, a clear image was obtained.

叉旅例峡 本発明に係わる製造装置を用いて、第1図に示す如き、
導電性基板、電荷輸送層、電荷発生層をこの順に設けた
本発明感光体を作製した。
By using the manufacturing apparatus according to the present invention, as shown in FIG.
A photoreceptor of the present invention was prepared in which a conductive substrate, a charge transport layer, and a charge generation layer were provided in this order.

電荷輸送層形成工程: 第7図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置(733)の内部を10−6To r r程度の高
真空にした後、第1、第2、及び第3調節弁(707,
708、及び709) を解放し、第1タンク(701
)より水素ガス、第2タンク(702)よりブタジェン
ガス、及び第3タンク(703)より酸素ガスを各々出
力圧1.0Kg/cm2の下で第1、第2、及び第3流
量制御器(713,714、及び715)内へ流入させ
た。
Charge transport layer forming step: In the glow discharge decomposition apparatus shown in FIG. Valve (707,
708 and 709), and the first tank (701
), butadiene gas from the second tank (702), and oxygen gas from the third tank (703) are supplied to the first, second, and third flow rate controllers (713) under an output pressure of 1.0 Kg/cm2, respectively. , 714, and 715).

水素ガスの流量を90sCcm、ブタジェンガスの流量
を70sCcm、及び酸素ガスの流量を18sCcmと
なるように設定して、途中混合話(731)を介して、
主管(732)より反応室(733)内へ流入した。各
々の流量が安定した後に、反応室(733)内の圧力が
2.27orrとなるように圧力調節弁(745)を調
整した。
Set the flow rate of hydrogen gas to 90 sCcm, the flow rate of butadiene gas to 70 sCcm, and the flow rate of oxygen gas to 18 sCcm, and through the mixing conversation (731),
It flowed into the reaction chamber (733) from the main pipe (732). After each flow rate became stable, the pressure control valve (745) was adjusted so that the pressure inside the reaction chamber (733) was 2.27 orr.

一方、導電性基板(752)としては、w150.X1
50X厚3mmのアルミニウム基板を用いて、予め12
0℃に加熱しておき、ガス流量及び圧力が安定した状態
で、予め接続選択スイッチ(744)により接続してお
いた低周波電源(741)を投入し、電力印加電極(7
36)に100Wa11の電力を周波数500KHzの
下で印加して約30分間プラズマ重合反応を行ない、導
電性基板(752)上に厚き15μmのa−C膜を電荷
輸送層として形成した。成膜完了後は、電力印加を停止
し、調節弁を閉じ、反応室(733)内を充分に排気し
た。
On the other hand, as the conductive substrate (752), w150. X1
Using a 50X 3mm thick aluminum substrate, 12
After heating the gas to 0°C and stabilizing the gas flow rate and pressure, turn on the low frequency power supply (741) that was previously connected using the connection selection switch (744), and connect the power application electrode (744).
A plasma polymerization reaction was carried out for about 30 minutes by applying a power of 100 Wa11 to 36) at a frequency of 500 KHz to form a 15 μm thick a-C film as a charge transport layer on the conductive substrate (752). After the film formation was completed, power application was stopped, the control valve was closed, and the inside of the reaction chamber (733) was sufficiently evacuated.

以上のようにして得られたa−C膜につき有機元素分析
を行なったところ、含有きれる水素原子の量は炭素原子
と水素原子の総量に対して55原子%、また、オージェ
分析より含有される酸素原子の量は全構成原子に対して
4.8原子%であった。
Organic elemental analysis was performed on the a-C film obtained as described above, and the amount of hydrogen atoms that could be contained was 55 at% based on the total amount of carbon atoms and hydrogen atoms. The amount of oxygen atoms was 4.8 at% based on the total constituent atoms.

電荷発生層形成工程: 次いで、第1調節弁(707)、第5調節弁(711)
、及び第6調節弁(712)を解放し、第1タンク(7
01)から水素ガス、第5タンク(705)から亜酸化
窒素ガス、及び第6タンク(706)からシランガスを
、出力圧IKg/cm2の下で第1、第5、及び第6流
量制御器(713,717、及び718)内へ流入させ
た。同時に、第4調節弁(710)を解放し、第4タン
ク(704)より水素ガスで10ppmに希釈されたホ
スフィンガスを、出力圧1.5Kg/am2の下で第4
流量制瀕器(716)内へ、流入させた。
Charge generation layer forming step: Next, the first control valve (707) and the fifth control valve (711)
, and the sixth control valve (712), and the first tank (7
01), nitrous oxide gas from the fifth tank (705), and silane gas from the sixth tank (706), the first, fifth, and sixth flow rate controllers ( 713, 717, and 718). At the same time, the fourth control valve (710) is opened, and phosphine gas diluted to 10 ppm with hydrogen gas is supplied from the fourth tank (704) to the fourth tank under an output pressure of 1.5 kg/am2.
It was made to flow into the flow rate limiter (716).

各流量制御器の目盛を調整して水素ガスの流量を200
scem%亜酸化窒素ガスの流量を10sCCm Mシ
ランガスの流量を200 s e c m %水素ガス
でLoopPmに希釈されたホスフィンガスの流量を1
0105eに設定し、反応室(733)内に流入させた
。各々の流量が安定した後に、反応室(733)内の圧
力が0.8Torrとなるように圧力調節弁(745)
を調整した。一方、a−C膜が形成きれている導電性基
板(752)は、230℃に加熱しておき、ガス流量及
び圧力が安定した状態で、高周波電源(739)より周
波数13.56MHzの下で電力印加電極(736)に
35Wattの電力を印加いグロー放電を発生きせた。
Adjust the scale of each flow rate controller to set the hydrogen gas flow rate to 200.
scem% Flow rate of nitrous oxide gas is 10 s CCm Flow rate of M silane gas is 200 sec m % Flow rate of phosphine gas diluted to LoopPm with hydrogen gas is 1
0105e and flowed into the reaction chamber (733). After each flow rate stabilizes, the pressure regulating valve (745) is adjusted so that the pressure in the reaction chamber (733) becomes 0.8 Torr.
adjusted. On the other hand, the conductive substrate (752) on which the a-C film has been completely formed is heated to 230°C, and with the gas flow rate and pressure stable, it is heated at a frequency of 13.56 MHz from a high frequency power source (739). A glow discharge was generated by applying a power of 35 Watts to the power application electrode (736).

この放電を5分間行ない、厚と0゜3μmの電荷発生層
を得た。
This discharge was carried out for 5 minutes to obtain a charge generation layer with a thickness of 0.3 μm.

得られたa−3i膜につき、金属中ONH分析(板場製
作所製EMGA−1300)、オージェ分析、及びIM
A分析を行なったところ、含有きれる水素原子は全構成
原子に対して22原子%、燐原子は1o原子ppm%酸
素原子は1.0原子%であった。
The obtained a-3i film was subjected to ONH analysis in metal (EMGA-1300 manufactured by Itaba Seisakusho), Auger analysis, and IM.
As a result of A analysis, the amount of hydrogen atoms that could be contained was 22 at %, the amount of phosphorus atoms was 10 at ppm, and the amount of oxygen atoms was 1.0 at % based on the total constituent atoms.

特性: 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で負帯
電並びに正帯電で用いたところ次の如き性能が得られた
。ここでは、正帯電時の測定値を括弧内に示すが、最高
帯電電位は一920V (+990V)で有り、即ち、
全感光体膜厚が15゜3μmであることから1μm当り
の帯電能は60V/μm(65V/μm)と極めて高く
、このことから充分な帯電性能を有する事が理解された
Characteristics: When the obtained photoreceptor was used with both negative and positive charging in a conventional Carlson process, the following performance was obtained. Here, the measured values during positive charging are shown in parentheses, and the highest charging potential is -920V (+990V), that is,
Since the total photoreceptor film thickness was 15.degree. 3 .mu.m, the charging ability per 1 .mu.m was extremely high at 60 V/.mu.m (65 V/.mu.m), and from this it was understood that the photoreceptor had sufficient charging performance.

また、暗中にてVmaxからVmaxの90%の表面電
位にまで暗減衰するのに要した時間は約40秒(約43
秒)であり、このことから充分な電荷保持性能を有する
事が理解された。また、最高帯電電位に初期帯電した後
、白色光を用いて最高帯電電位の20%の表面電位にま
で明減衰させたとこる必要とされた光量は5.0ルツク
ス・秒(16,2ルツクス・秒)であり、このことがら
実用上問題のない光感度性能を有する事が理解きれた。
In addition, the time required for dark decay from Vmax to 90% of Vmax in the dark was approximately 40 seconds (approximately 43 seconds).
seconds), and from this it was understood that it had sufficient charge retention performance. In addition, after initial charging to the highest charging potential, white light was used to brightly attenuate the surface potential to 20% of the highest charging potential.The amount of light required was 5.0 lux·sec (16.2 lux・Seconds), and from this we can understand that it has photosensitivity performance that poses no practical problems.

以上より、本例に示した本発明による感光体は、感光体
として優れた性能を有するものである事が理解きれる。
From the above, it can be understood that the photoreceptor according to the present invention shown in this example has excellent performance as a photoreceptor.

また、この感光体に対して常用のカールソンプロセスの
中で、作像して転写したところ、鮮明な画像が得られた
Further, when an image was formed and transferred to this photoreceptor using the commonly used Carlson process, a clear image was obtained.

叉旅然旦 本発明に係わる製造装置を用いて、第1図に示す如き、
導電性基板、電荷輸送層、電荷発生層をこの順に設けた
本発明感光体を作製した。
By using the manufacturing apparatus according to the present invention, as shown in FIG.
A photoreceptor of the present invention was prepared in which a conductive substrate, a charge transport layer, and a charge generation layer were provided in this order.

電荷輸送層形成工程: 第7図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置(733)の内部を10−6To r r程度の高
真空にした後、第1、第2、及び第3調節弁(707,
708、及び7o9)を解放し、第1タンク(701)
より水素ガス、第2タンク(702)よりアセチレンガ
ス、及び第3タンク(703)より酸素ガスを各々出力
圧1.0Kg/am2の下で第1、第2、及び第3tc
 It ml?a M(713,714、及び715)
内へ流入させな。
Charge transport layer forming step: In the glow discharge decomposition apparatus shown in FIG. Valve (707,
708, and 7o9), and the first tank (701)
Hydrogen gas, acetylene gas from the second tank (702), and oxygen gas from the third tank (703) were supplied to the first, second, and third tc under an output pressure of 1.0 Kg/am2, respectively.
It ml? a M (713, 714, and 715)
Don't let it flow inside.

そして各流量制御器の目盛を調整して、水素ガスの流量
を88secm、アセチレンガスの流量を45secm
、及び酸素ガスの流量が24secmとなるように設定
して、途中混合器(731)を介して、主! (732
)より反応室(733)内へ流入した。各々の流量が安
定した後に、反応室(’?33)内の圧力が2.○To
rrとなるように圧力調節弁(745)を調整した。一
方、導電性基板(752)としては、*5OX横50×
厚3mmのアルミニウム基板を用いて、予め200℃に
加熱しておぎ、ガス流量及び圧力が安定した状態で、予
め接続選択スイッチ(744)により接続しておいた高
周波電源(739)を投入し、電力印加電i (736
)に100Wattの電力を周波数4MHzの下で印加
して約4時間40分プラズマ重合反応を行ない、導電性
基板(752)上に厚き15μmのa−CFJを電荷輸
送層として形成した。成膜完了後は、電力印加を停止し
、調節弁を閉じ、反応室(733)内を充分に排気した
Then, adjust the scales of each flow rate controller to set the hydrogen gas flow rate to 88 seconds and the acetylene gas flow rate to 45 seconds.
, and the flow rate of oxygen gas is set to 24 seconds, and the main! (732
) into the reaction chamber (733). After the respective flow rates stabilized, the pressure in the reaction chamber ('?33) decreased to 2. ○To
The pressure regulating valve (745) was adjusted so that rr. On the other hand, as a conductive substrate (752), *5OX horizontal 50×
Using an aluminum substrate with a thickness of 3 mm, preheat it to 200°C, and with the gas flow rate and pressure stable, turn on the high frequency power source (739) that was previously connected with the connection selection switch (744). Applied power i (736
) was applied with a power of 100 Watts at a frequency of 4 MHz to perform a plasma polymerization reaction for about 4 hours and 40 minutes to form a 15 μm thick a-CFJ as a charge transport layer on the conductive substrate (752). After the film formation was completed, power application was stopped, the control valve was closed, and the inside of the reaction chamber (733) was sufficiently evacuated.

以上のようにして得られたa −CIl’Jlにつき有
機元素分析を行なったところ、含有きれる水素原子の量
は炭素原子と水素原子の総量に対して30原子%、また
、オージェ分析より含有される酸素原子の量は全構成原
子に対して6.1原子%であった。
Organic elemental analysis was performed on the a-CIl'Jl obtained as described above, and the amount of hydrogen atoms that could be contained was 30 at% based on the total amount of carbon atoms and hydrogen atoms. The amount of oxygen atoms was 6.1 at% based on the total constituent atoms.

′:4荷発生層形成工程: 次いで、第1調節弁(707) 、第5調節弁(711
)、及び第6調節弁(712)を解放し、第1タンク(
701)から水素ガス、第5タンク(705)から酸素
ガス、及び第6タンク(706)からシランガスを、出
力圧IKg/cm2の下で第1、第5、及び第6流量制
御器(713,717、及び718)内へ流入させた。
': 4 charge generation layer formation step: Next, the first control valve (707) and the fifth control valve (711
), and the sixth control valve (712) are released, and the first tank (
Hydrogen gas from the fifth tank (705), and silane gas from the sixth tank (706) are supplied to the first, fifth, and sixth flow rate controllers (713, 701) under an output pressure of IKg/cm2. 717 and 718).

同時に、第4調節弁(710)を解放し、第4タンク(
704)より水素ガスで1100ppに希釈されたジボ
ランガスを、出力圧1.5Kg/cm2の下で第4流量
制御器(716)内へ、流入させた。各流量制i卸器の
目盛を調整して水素ガスの流量を2゜Osccms酸素
ガスの流量を5secm、シランガスの流量を1010
05e、水素ガスで1゜○ppmに希釈されたジボラン
ガスの流量を1゜sccmに設定し、反応室(733)
内に流入させた。各々の流量が安定した後に、反応室(
733)内の圧力が0.8Torrとなるように圧力調
節弁(745)を調整した。一方、a −C膜が形成さ
れている導電性基板(752)は、250℃に加熱して
おき、ガス流量及び圧力が安定した状態で、高周波電源
(739)より周波数13.56MHzの下で電力印加
電極(736)に40Wattの電力を印加し、グロー
放電を発生させた。
At the same time, the fourth control valve (710) is released and the fourth tank (
Diborane gas diluted to 1100 pp with hydrogen gas (704) was flowed into the fourth flow rate controller (716) under an output pressure of 1.5 Kg/cm2. Adjust the scale of each flow rate controller to set the hydrogen gas flow rate to 2 degrees Osccms, the oxygen gas flow rate to 5 seconds, and the silane gas flow rate to 1010 degrees.
05e, the flow rate of diborane gas diluted to 1°○ppm with hydrogen gas was set to 1°sccm, and the reaction chamber (733)
It flowed inside. After each flow rate stabilizes, the reaction chamber (
The pressure regulating valve (745) was adjusted so that the pressure inside the tube (733) was 0.8 Torr. On the other hand, the conductive substrate (752) on which the a-C film is formed is heated to 250°C, and is heated at a frequency of 13.56 MHz from a high frequency power source (739) while the gas flow rate and pressure are stable. A power of 40 Watts was applied to the power application electrode (736) to generate glow discharge.

この放電を5分間行ない、厚さ0.3μmの電荷発生層
を得た。
This discharge was performed for 5 minutes to obtain a charge generation layer with a thickness of 0.3 μm.

得られたa−Si膜につき、金属中ONH分析(板場製
作所要EMGA−1300) 、オージェ分析、及びI
MA分析を行なったところ、含有される水素原子は全構
成原子に対して24原子%、硼素原子は10原子ppm
%酸素原子は1原子%であった。
The obtained a-Si film was subjected to ONH analysis in metal (EMGA-1300 required by Itaba Seisakusho), Auger analysis, and I
When MA analysis was performed, the hydrogen atoms contained were 24 at.% of the total constituent atoms, and the boron atoms were 10 at.ppm.
% oxygen atom was 1 atom %.

特性: 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で負帯
電並びに正帯電で用いたところ次の如き性能が得られた
。ここでは、正帯電時の測定値を括弧内に示すが、最高
帯電電位は一955V (+970V)で有り、即ち、
全感光体膜厚が15゜3μmであることから1μm当り
の帯電能は62V/μm (63V/μm)と極めて高
く、このことから充分な帯電性能を有する事が理解され
た。
Characteristics: When the obtained photoreceptor was used with both negative and positive charging in a conventional Carlson process, the following performance was obtained. Here, the measured values during positive charging are shown in parentheses, and the highest charging potential is -955V (+970V), that is,
Since the total photoreceptor film thickness was 15.3 .mu.m, the charging ability per 1 .mu.m was extremely high at 62 V/.mu.m (63 V/.mu.m), and from this it was understood that the photoreceptor had sufficient charging performance.

また、暗中にてVmaxからVmaxの90%の表面電
位にまで暗減衰するのに要した時間は約38秒(約42
秒)であり、このことから充分な電荷保持性能を有する
事が理解された。また、最高帯電電位に初期帯電した後
、白色光を用いて最高帯電電位の20%の表面電位にま
で明減衰させたとこる必要とされた光景は9.8ルツク
ス・秒(18,8ルツクス・秒)であり、このことから
実用上問題のない光感度性能を有する事が理解された。
In addition, the time required for dark decay from Vmax to 90% of Vmax in the dark was approximately 38 seconds (approximately 42 seconds).
seconds), and from this it was understood that it had sufficient charge retention performance. In addition, after initial charging to the highest charging potential, bright decay was performed using white light to a surface potential of 20% of the highest charging potential.・Seconds), and from this it was understood that it had a photosensitivity performance that would pose no problem in practical use.

以上より、本例に示した本発明による感光体は、感光体
として優れた性能を有するものである事が理解される。
From the above, it is understood that the photoreceptor according to the present invention shown in this example has excellent performance as a photoreceptor.

また、この感光体に対して常用のカールソンプロセスの
中で、作像して転写したところ、鮮明な画像が得られた
Further, when an image was formed and transferred to this photoreceptor using the commonly used Carlson process, a clear image was obtained.

実施例6 本発明に係わる製造装置を用いて、第1図に示す如き、
導電性基板、電荷輸送層、電荷発生層をこの順に設けた
本発明感光体を作製した。
Example 6 Using the manufacturing apparatus according to the present invention, as shown in FIG.
A photoreceptor of the present invention was prepared in which a conductive substrate, a charge transport layer, and a charge generation layer were provided in this order.

電荷輸送層形成工程: 実施例3と同様にして本発明による感光体の電荷輸送層
を形成した。
Charge transport layer forming step: A charge transport layer of a photoreceptor according to the present invention was formed in the same manner as in Example 3.

電荷発生層形成工程: 次いで、タンクを交換した後、第1調節弁(707)、
第5調節弁(711)、及び第6調節弁(712)を解
放し、第1タンク(701)から水素ガス、第5タンク
(705)から酸素ガス、及び第6タンク(706)か
らシランガスを、出力圧IKg/cm2の下で第1、第
5、及び第6流量制i卸器(713,717、及び71
8)内へ流入させた。同時に、第4調節弁(710)を
解放し、第4タンク(704)より水素ガスでLopp
mに希釈されたホスフィンガスを、出力圧1゜5Kg/
am2の下で第4流量制御器(716)内へ、流入させ
た。各′tC量制御器の目盛を調整して水素ガスの流量
を200secm、酸素ガスの流量を0.5secm、
シランガスの流量を200SCCm%水素ガスで110
0ppに希釈きれたホスフィンガスの流量を10s e
 cmに設定し、反応室(733)内に流入させた。各
々の流量が安定した後に、反応室(733)内の圧力が
1゜○Torrとなるように圧力調節弁(745)を調
整した。一方、a−C膜が形成きれている導電性基板(
752)は、250℃に加熱しておき、ガス流量及び圧
力が安定した状態で、高周波電源(739)より周波数
13.56MHzの下で電力印加電極(736)に40
Wattの電力を印加し、グロー放電を発生させな。こ
の放電を5分間行ない、厚き0.3μmの電荷発生層を
得た。
Charge generation layer forming step: Next, after replacing the tank, the first control valve (707),
The fifth control valve (711) and the sixth control valve (712) are released to supply hydrogen gas from the first tank (701), oxygen gas from the fifth tank (705), and silane gas from the sixth tank (706). , the first, fifth, and sixth flow rate regulators (713, 717, and 71
8) It was allowed to flow into the interior. At the same time, the fourth control valve (710) is released and hydrogen gas is supplied from the fourth tank (704) to Lopp.
Phosphine gas diluted to
am2 into the fourth flow controller (716). Adjust the scale of each 'tC amount controller to set the hydrogen gas flow rate to 200 sec, the oxygen gas flow rate to 0.5 sec,
The flow rate of silane gas is 110 with 200SCCm% hydrogen gas.
The flow rate of phosphine gas diluted to 0pp is 10s e
cm, and flowed into the reaction chamber (733). After each flow rate became stable, the pressure control valve (745) was adjusted so that the pressure in the reaction chamber (733) was 1°○Torr. On the other hand, a conductive substrate (
752) is heated to 250°C, and with the gas flow rate and pressure stable, a high frequency power source (739) applies power to the electrode (736) at a frequency of 13.56 MHz at 40°C.
Apply Watt power and generate a glow discharge. This discharge was carried out for 5 minutes to obtain a charge generation layer with a thickness of 0.3 μm.

得られたa−Si膜につき、金属中ONH分析(板場製
作所製EMGA−1300) 、t−ジ工分析、及びI
MA分析を行なったところ、含有される水素原子は全構
成原子に対して23原子%、燐原子は13原子ppm、
酸素原子は0.1原子%であった。
The obtained a-Si film was subjected to ONH analysis in metal (EMGA-1300 manufactured by Itaba Seisakusho), t-dielectric analysis, and I
When MA analysis was performed, the hydrogen atoms contained were 23 at% of the total constituent atoms, the phosphorus atoms were 13 at ppm,
The oxygen atom content was 0.1 at.%.

特性: 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で負帯
電並びに正帯電で用いたところ次の如き性能が得られた
。ここでは、正帯電時の測定値を括弧内に示すが、最高
帯電電位は一540V (+780V)で有り、即ち、
全感光体膜厚が15゜3μmであることから1μm当り
の帯電能は35V/μm(51V/μm)と極めて高く
、このことから充分な帯電性能を有する事が理解された
Characteristics: When the obtained photoreceptor was used with both negative and positive charging in a conventional Carlson process, the following performance was obtained. Here, the measured values during positive charging are shown in parentheses, and the highest charging potential is -540V (+780V), that is,
Since the total photoreceptor film thickness was 15.degree. 3 .mu.m, the charging ability per 1 .mu.m was extremely high at 35 V/.mu.m (51 V/.mu.m), and from this it was understood that the photoreceptor had sufficient charging performance.

また、暗中にてVmaxからVmaxの90%の表面電
位にまで暗減衰するのに要した時間は約13秒(約19
秒)であり、このことから充分な電荷保持性能を有する
事が理解された。また、最高帯電電位に初期帯電した後
、白色光を用いて最高帯電電位の20%の表面電位にま
で明減衰させたところ必要とされた光量は1.1ルツク
ス・秒(2,9ルツクス・秒)であり、このことから充
分な光感度性能を有する事が理解された。
In addition, the time required for dark decay from Vmax to 90% of Vmax in the dark was approximately 13 seconds (approximately 19 seconds).
seconds), and from this it was understood that it had sufficient charge retention performance. In addition, after initial charging to the highest charging potential, the brightness was attenuated to a surface potential of 20% of the highest charging potential using white light, and the amount of light required was 1.1 lux · seconds (2.9 lux · seconds), and from this it was understood that it had sufficient photosensitivity performance.

以上より、本例に示した本発明による感光体は、感光体
として儂れた性能を有するものである事が理解される。
From the above, it is understood that the photoreceptor according to the present invention shown in this example has superior performance as a photoreceptor.

また、この感光体に対して常用のカールソンプロセスの
中で、作像して転写したところ、鮮明な画像が得られた
Further, when an image was formed and transferred to this photoreceptor using the commonly used Carlson process, a clear image was obtained.

叉旌健ヱ 本発明に係わる製造装置を用いて、第1図に示す如き、
導電性基板、電荷輸送層、電荷発生層をこの順に設けた
本発明感光体を作製した。
By using the manufacturing apparatus according to the present invention, as shown in FIG.
A photoreceptor of the present invention was prepared in which a conductive substrate, a charge transport layer, and a charge generation layer were provided in this order.

電荷輸送層形成工程: 実施例1と同様にして本発明による感光体の電荷輸送層
を形成した。
Charge transport layer forming step: A charge transport layer of a photoreceptor according to the present invention was formed in the same manner as in Example 1.

電荷発生層形成工程: 次いで、タンクを交換した後、第1調節弁(707)、
第3vA9弁(709) 、第5XI1節弁(711)
、及び第6調節弁(712)を解放し、第1タンク(7
01)から水素ガス、第3タンク(703)から四弗化
シランガス、第5タンク(705)から亜酸化窒素ガス
、及び第6タンク(70’6)からシランガスを、出力
圧1にg/cm2の下で第1、第3、第5、及び第6z
量制罪器(713,715,717、及び718)内へ
流入させた。同時に、第4調節弁(710)を解放し、
第4タンク(704)より水素ガスで10ppmに希釈
されたホスフィンガスを、出力圧1゜5Kg/cm2の
下で第4流量制御器(716)内へ、流入させた。各流
量制御器の目盛を調整して水素ガスの流量を200se
cms四弗化シランガスの流量を50SCcrrh亜酸
化窒素ガスの流量を0.1sccrr+1シランガスの
流量を55sCCm%水素ガスで1100ppに希釈さ
れたホスフィンガスの流量を10105eに設定し、反
応室(733)内に流入させた。各々の流量が安定した
後に、反応室(733)内の圧力が0.8Torrとな
るように圧力調節弁(745)を調整した。一方、a−
C膜が形成されている導電性基板(752)は、240
℃に加熱しておき、ガス流量及び圧力が安定した状態で
、高周波電源(739)より周波数13.56MHzの
下で電力印加電極(736)に35Wattの電力を印
加し、グロー放電を発生させた。この放電を5分間行な
い、厚き0.3μmの電荷発生層を得た。
Charge generation layer forming step: Next, after replacing the tank, the first control valve (707),
3rd vA9 valve (709), 5th XI1 valve (711)
, and the sixth control valve (712), and the first tank (7
Hydrogen gas from 01), tetrafluorosilane gas from the third tank (703), nitrous oxide gas from the fifth tank (705), and silane gas from the sixth tank (70'6) at an output pressure of 1 g/cm2 1st, 3rd, 5th, and 6th z under
The liquid was allowed to flow into the dose control devices (713, 715, 717, and 718). At the same time, release the fourth control valve (710),
Phosphine gas diluted to 10 ppm with hydrogen gas was flowed from the fourth tank (704) into the fourth flow rate controller (716) under an output pressure of 1.5 kg/cm2. Adjust the scale of each flow rate controller to set the hydrogen gas flow rate to 200 se.
cms Flow rate of silane tetrafluoride gas: 50 SCcrrh Flow rate of nitrous oxide gas: 0.1 sccrr + 1 Flow rate of silane gas: 55 sCCm% Set the flow rate of phosphine gas diluted to 1100 pp with hydrogen gas to 10105e, and add it to the reaction chamber (733). I let it flow in. After each flow rate became stable, the pressure control valve (745) was adjusted so that the pressure inside the reaction chamber (733) was 0.8 Torr. On the other hand, a-
The conductive substrate (752) on which the C film is formed is 240
℃, and with the gas flow rate and pressure stable, 35 Watt power was applied to the power application electrode (736) at a frequency of 13.56 MHz from the high frequency power source (739) to generate glow discharge. . This discharge was carried out for 5 minutes to obtain a charge generation layer with a thickness of 0.3 μm.

得られたa−3i膜につき、金属中ONH分析(板場製
作所製EMGA−1300) 、オージェ分析、及びI
MA分析を行なったところ、含有される水素原子は全構
成原子に対して20原子%、燐原子は10原子ppm、
jl素原子は0.1原子%、弗素原子は4.9原子%で
あった。
The obtained a-3i film was subjected to ONH analysis in metal (EMGA-1300 manufactured by Itaba Seisakusho), Auger analysis, and I
When MA analysis was performed, the hydrogen atoms contained were 20 at % of the total constituent atoms, the phosphorus atoms were 10 at ppm,
The content of jl elementary atoms was 0.1 at%, and the content of fluorine atoms was 4.9 at%.

特性: 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で負帯
電並びに正帯電で用いたところ次の如き性能が得られた
。ここでは、正帯電時の測定値を括弧内に示すが、最高
帯電電位は一720V (+980V)で有り、即ち、
全感光体膜厚が15゜3μmであることから1μm当り
の帯電能は47V/μm (64V/ um)と極めて
高く、このことから充分な帯電性能を有する事が理解さ
れた。
Characteristics: When the obtained photoreceptor was used with both negative and positive charging in a conventional Carlson process, the following performance was obtained. Here, the measured values during positive charging are shown in parentheses, and the highest charging potential is -720V (+980V), that is,
Since the total photoreceptor film thickness was 15°3 μm, the charging ability per 1 μm was extremely high at 47 V/μm (64 V/um), and from this it was understood that the photoreceptor had sufficient charging performance.

また、暗中にてVmaxからVmaxの90%の表面電
位にまで暗減衰するのに要した時間は約23秒(約34
秒)であり、このことから充分な電荷保持性能を有する
事が理解された。また、最高帯電電位に初期帯電した後
、白色光を用いて最高帯電電位の20%の表面電位にま
で明減衰させたとこる必要とされた光量は1.フルック
ス・秒(4,4ルツクス・秒)であり、このことから充
分な光感度性能を有する事が理解きれた。
In addition, the time required for dark decay from Vmax to 90% of Vmax in the dark was approximately 23 seconds (approximately 34 seconds).
seconds), and from this it was understood that it had sufficient charge retention performance. In addition, after initial charging to the highest charging potential, white light was used to brightly attenuate the surface potential to 20% of the highest charging potential.The amount of light required was 1. flux seconds (4.4 lux seconds), and from this it can be understood that it has sufficient photosensitivity performance.

以上より、本例に示した本発明による感光体は、感光体
として優れた性能を有するものである事が理解きれる。
From the above, it can be understood that the photoreceptor according to the present invention shown in this example has excellent performance as a photoreceptor.

また、この感光体に対して常用のカールソンプロセスの
中で、作像して転写したところ、鮮明な画像が得られた
Further, when an image was formed and transferred to this photoreceptor using the commonly used Carlson process, a clear image was obtained.

衷施備品 本発明に係わる製造装置を用いて、第1図に示す如き、
導電性基板、電荷輸送層、電荷発生層をこの順に設けた
本発明感光体を作製した。
By using the manufacturing apparatus according to the present invention, as shown in FIG.
A photoreceptor of the present invention was prepared in which a conductive substrate, a charge transport layer, and a charge generation layer were provided in this order.

電荷輸送層形成工程: 実施例2と同様にして本発明による感光体の電荷輸送層
を形成した。
Charge transport layer forming step: A charge transport layer of a photoreceptor according to the present invention was formed in the same manner as in Example 2.

電荷発生層形成工程: 次いで、タンクを交換した後、第1調節弁(707)、
第3調節弁(709)、第5調節弁(711)、及び第
6調節弁(712)を解放し、第1タンク(701)か
ら水素ガス、第3タンク(703)から四弗化シランガ
ス、第5タンク(705)から亜酸化窒素ガス、及び第
6タンク(706)からシランガスを、出力圧IKg/
cm2の下で第1、第3、第5、及び第6流量制御器(
713,715,717、及び718)内へ流入させた
。同時に、第4FA節弁(710)を解放し、第4タン
ク(704)より水素ガスで1100pI)に希釈され
たジボランガスを、出力圧1゜5Kg/cm2の下で第
4流量制御器(716)内へ、流入させた。各流量制御
器の目盛を調整して水素ガスの流量を200secm、
四弗化シランガスの流量を50secm、亜酸化窒素ガ
スの流量をlsecm、シランガスの流量を50SCC
m1水素ガスで1100ppに希釈されたジボランガス
の流量を1103CCとなるように設定し、反応室(7
33)内に流入させた。各々の流量が安定した後に、反
応室(733)内の圧力が0゜9Torrとなるように
圧力調節弁(745)を調整した。一方、a −C膜が
形成きれている導電性基板(752)は、250℃に加
熱しておき、ガス流量及び圧力が安定した状態で、高周
波電源(739)より周波数13.56MHzの下で電
力印加電極(736)に35Wattの電力を印加し、
グロー放電を発生させた。この放電を5分間行ない、厚
ざ0.3μmの電荷発生層を得た。
Charge generation layer forming step: Next, after replacing the tank, the first control valve (707),
The third control valve (709), the fifth control valve (711), and the sixth control valve (712) are released, hydrogen gas is released from the first tank (701), tetrafluorosilane gas is removed from the third tank (703), Nitrous oxide gas is supplied from the fifth tank (705) and silane gas is supplied from the sixth tank (706) at an output pressure of IKg/
The first, third, fifth, and sixth flow controllers (under cm2)
713, 715, 717, and 718). At the same time, the fourth FA control valve (710) is opened, and diborane gas diluted to 1100 pI with hydrogen gas is supplied from the fourth tank (704) to the fourth flow rate controller (716) under an output pressure of 1°5 Kg/cm2. I let it flow inside. Adjust the scale of each flow rate controller to set the hydrogen gas flow rate to 200 sec.
The flow rate of silane tetrafluoride gas is 50 seconds, the flow rate of nitrous oxide gas is 1 seconds, and the flow rate of silane gas is 50 SCC.
The flow rate of diborane gas diluted to 1100pp with m1 hydrogen gas was set to 1103cc, and the reaction chamber (7
33). After each flow rate became stable, the pressure control valve (745) was adjusted so that the pressure in the reaction chamber (733) was 0°9 Torr. On the other hand, the conductive substrate (752) on which the a-C film has been completely formed is heated to 250°C, and with the gas flow rate and pressure stable, it is heated at a frequency of 13.56 MHz from a high frequency power source (739). Applying 35 Watts of power to the power application electrode (736),
Generated a glow discharge. This discharge was carried out for 5 minutes to obtain a charge generation layer with a thickness of 0.3 μm.

得られたa−Si膜に・つき、金属中ONH分析(板場
製作所製EMGA−1300) 、オージェ分析、及び
IMA分析を行なったところ、含有される水素原子は全
構成原子に対して22原子%、硼素原子は10原子pp
m、弗素原子ば5原子%、酸素原子は0.1原子%であ
った。
The obtained a-Si film was subjected to ONH analysis in metal (EMGA-1300 manufactured by Itaba Seisakusho), Auger analysis, and IMA analysis, and it was found that the number of hydrogen atoms contained was 22 atoms out of all the constituent atoms. %, boron atom is 10 atomic pp
m, fluorine atoms were 5 at %, and oxygen atoms were 0.1 at %.

特性: 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で負帯
電並びに正帯電で用いたところ次の如き性能が得られた
。ここでは、正帯電時の測定値を括弧内に示すが、最高
帯電電位は一950V (+960V)で有り、即ち、
全感光体膜厚が15゜3μmであることから1μm当り
の帯電能は62■/μm(63V/μm)と極めて高く
、このことから充分な帯電性能を有する事が理解きれた
Characteristics: When the obtained photoreceptor was used with both negative and positive charging in a conventional Carlson process, the following performance was obtained. Here, the measured values during positive charging are shown in parentheses, and the highest charging potential is -950V (+960V), that is,
Since the total photoreceptor film thickness was 15°3 .mu.m, the charging ability per 1 .mu.m was extremely high at 62 .mu.m (63 V/.mu.m), and from this it was understood that the photoreceptor had sufficient charging performance.

また、暗中にてVmaxからVmaxの90%の表面電
位にまで暗減衰するのに要した時間は約45秒(約48
秒)であり、このことから充分な電荷保持性能を有する
事が理解された。また、最高帯電電位に初期帯電した後
、白色光を用いて最高帯電電位の20%の表面電位にま
で明減衰させたとこる必要とされた光量は4.0ルツク
ス・秒(4,フルックス・秒)であり、このことから充
分な光感度性能を有する事が理解きれた。
In addition, the time required for dark decay from Vmax to 90% of Vmax in the dark was approximately 45 seconds (approximately 48
seconds), and from this it was understood that it had sufficient charge retention performance. Furthermore, after initial charging to the highest charging potential, white light was used to brightly attenuate the surface potential to 20% of the highest charging potential.The amount of light required was 4.0 lux·sec (4. seconds), and from this we can understand that it has sufficient photosensitivity performance.

以上より、本例に示した本発明による感光体は、感光体
として優れた性能を有するものである事が理解される。
From the above, it is understood that the photoreceptor according to the present invention shown in this example has excellent performance as a photoreceptor.

また、この感光体に対して常用のカールソンプロセスの
中で、作像して転写したところ、鮮明な画像が得られた
Further, when an image was formed and transferred to this photoreceptor using the commonly used Carlson process, a clear image was obtained.

実旋透ユ 本発明に係わる製造装置を用いて、第1図に示す如き、
導電性基板、電荷輸送層、電荷発生層をこの順に設けた
本発明感光体を作製した。
As shown in FIG. 1, using the production apparatus according to the present invention,
A photoreceptor of the present invention was prepared in which a conductive substrate, a charge transport layer, and a charge generation layer were provided in this order.

電荷輸送層形成工程: 実施例4と同様にして本発明による感光体の電荷輸送層
を形成した。
Charge transport layer forming step: A charge transport layer of a photoreceptor according to the present invention was formed in the same manner as in Example 4.

電荷発生層形成工程: 次いで、タンクを交換した後、第1調節弁(707)、
第5調節弁(711L及び第6調節弁(712)を解放
し、第1タンク(701)から水素ガス、第5タンク(
705)から亜酸化窒素ガス、及び第6タンク(706
)からシランガスを、出力圧IKg/Cm2の下で第1
、第5、及び第6流量制御器(713,717、及び7
18)内へ流入させた。同時に、第4調節弁(710)
を解放し、第4タンク(704)より水素ガスで100
 p pmに希釈されたジボランガスを、出力圧1.5
Kg/am2の下で第4流量制御器(716)内へ、流
入させた。各流量制御器の目盛を調整して水素ガスの流
量を200secm、亜酸化窒素ガスの流量を0.01
secm、シランガスの流量を100 s e cm、
水素ガスで10oppmに希釈きれたジボランガスの流
量を10105eとなるように設定し、反応室(733
)内に流入させた。各々の流量が安定した後に、反応室
(733)内の圧力が0.8Torrとなるように圧力
調節弁(745)を調整した。一方、a −C膜が形成
されている導電性基板(7E52)は、250℃に加熱
しておき、ガス流量及び圧力が安定した状態で、高層′
e、電源(739)より周波数13.56MHzの下で
電力印加電極(736)に35Wattの電力を印加し
、グロー放電を発生させな。この放電を5分間行ない、
厚き0.3μmの電荷発生層を得た。
Charge generation layer forming step: Next, after replacing the tank, the first control valve (707),
The fifth control valve (711L) and the sixth control valve (712) are released, and hydrogen gas is transferred from the first tank (701) to the fifth tank (
705) and nitrous oxide gas from the sixth tank (706
) under an output pressure of IKg/Cm2.
, fifth, and sixth flow rate controllers (713, 717, and 7
18) It was allowed to flow into the interior. At the same time, the fourth control valve (710)
100 with hydrogen gas from the fourth tank (704).
Diborane gas diluted to ppm is supplied at an output pressure of 1.5
Kg/am2 into the fourth flow controller (716). Adjust the scale of each flow rate controller to set the hydrogen gas flow rate to 200 sec and the nitrous oxide gas flow rate to 0.01 sec.
secm, the flow rate of silane gas is 100 sec cm,
The flow rate of diborane gas diluted to 10 oppm with hydrogen gas was set to 10105e, and the reaction chamber (733
). After each flow rate became stable, the pressure control valve (745) was adjusted so that the pressure inside the reaction chamber (733) was 0.8 Torr. On the other hand, the conductive substrate (7E52) on which the a-C film is formed is heated to 250°C, and the high-rise
e. Apply 35 Watts of power to the power application electrode (736) at a frequency of 13.56 MHz from the power supply (739) to generate no glow discharge. Do this discharge for 5 minutes,
A charge generation layer with a thickness of 0.3 μm was obtained.

得られたa−3i膜につき、金属中○NH分析(板場製
作所製EMGA−1300) 、オージェ分析、及びI
MA分析を行なったところ、含有される水素原子は全構
成原子に対して22原子%、硼素原子は10原子ppm
、酸素原子は0.001原子%であった。
The obtained a-3i film was subjected to ○NH analysis in metal (EMGA-1300 manufactured by Itaba Seisakusho), Auger analysis, and I
When MA analysis was performed, the hydrogen atoms contained were 22 atomic% and the boron atoms were 10 atomic ppm based on the total constituent atoms.
, oxygen atoms were 0.001 atomic %.

特性: 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で負帯
電並びに正帯電で用いたところ次の如き性能が得られた
。ここでは、正帯電時の測定値を括弧内に示すが、最高
帯電電位は一900V (+900V)で有り、即ち、
全感光体膜厚が15゜3μmであることからlum当り
の帯′:4能は59V/μm (59V/μm)と極め
て高く、このことから充分な帯電性能を有する事が理解
された。
Characteristics: When the obtained photoreceptor was used with both negative and positive charging in a conventional Carlson process, the following performance was obtained. Here, the measured values during positive charging are shown in parentheses, and the highest charging potential is -900V (+900V), that is,
Since the total photoreceptor film thickness was 15.degree. 3 .mu.m, the band':4 power per lum was extremely high at 59 V/.mu.m (59 V/.mu.m), and from this it was understood that it had sufficient charging performance.

また、暗中にてVmaxからVmaxの90%の表面電
位にまで暗減衰するのに要した時間は約43秒(約39
秒)であり、このことから充分な電荷保持性能を有する
事が理解された。また、最高帯電電位に初期帯電した後
、白色光を用いて最高帯電電位の20%の表面電位にま
で明減衰させたとこる必要ときれた光量は4.5ルツク
ス・秒(4,5ルツクス・秒)であり、このことから充
分な光感度性能を有する事が理解きれた。
In addition, the time required for dark decay from Vmax to 90% of Vmax in the dark was approximately 43 seconds (approximately 39 seconds).
seconds), and from this it was understood that it had sufficient charge retention performance. In addition, after initial charging to the highest charging potential, the brightness was attenuated to a surface potential of 20% of the highest charging potential using white light.The required light amount was 4.5 lux seconds (4.5 lux・seconds), and from this we can understand that it has sufficient photosensitivity performance.

以上より、本例に示した本発明による感光体は、感光体
として優れた性能を有するものである事が理解される。
From the above, it is understood that the photoreceptor according to the present invention shown in this example has excellent performance as a photoreceptor.

また、この感光体に対して常用のカールソンプロセスの
中で、作像して転写したところ、鮮明な画像が得られた
Further, when an image was formed and transferred to this photoreceptor using the commonly used Carlson process, a clear image was obtained.

ス旅剖1旦 本発明に係わる製造装置を用いて、第1図に示す如き、
導電性基板、電荷輸送層、電荷発生層をこの順に設けた
本発明感光体を作製した。
Once the process is completed, as shown in FIG.
A photoreceptor of the present invention was prepared in which a conductive substrate, a charge transport layer, and a charge generation layer were provided in this order.

電荷輸送層形成工程: 実施例5と同様にして本発明による感光体の電荷輸送層
を形成した。
Charge transport layer forming step: A charge transport layer of a photoreceptor according to the present invention was formed in the same manner as in Example 5.

電荷発生層形成工程: 次いで、第1′fA節弁(707) 、第5調節弁(7
11)、及び第6調節弁(712)を解放し、第1タン
ク(701)から水素ガス、第5タンク(705)から
亜酸化窒素ガス、及び第6タンク(706)からシラン
ガスを、出力圧IKg/cm2の下で第1、第5、及び
第6流量制御器(713,717、及び718)内へ流
入させた。同時に、第4調節弁(710)を解放し、第
4タンク(704)より水素ガスで10ppmに希釈さ
れたボスフィンガスを、出力圧1.5Kg/cm2の下
で第4流量制瀕W(716)内へ、流入させな。
Charge generation layer forming step: Next, the 1'fA control valve (707) and the 5th control valve (707)
11) and the sixth control valve (712), hydrogen gas is supplied from the first tank (701), nitrous oxide gas is supplied from the fifth tank (705), and silane gas is supplied from the sixth tank (706), and the output pressure is increased. It was flowed into the first, fifth and sixth flow controllers (713, 717 and 718) under IKg/cm2. At the same time, the fourth control valve (710) is released, and the Bosphin gas diluted to 10 ppm with hydrogen gas is supplied from the fourth tank (704) to the fourth flow rate limit W ( 716) Don't let it flow inside.

各流量制御器の目盛を調整して水素ガスの流量を200
3CCm%亜酸化窒素ガスの流量をO0○lsecm、
シランガスの流量を200secm、水素ガスで110
0ppに希釈きれたホスフィンガスの流量を10105
eに設定い反応室(733)内に流入させた。各々の流
量が安定した後に、反応室(733)内の圧力が0.8
Torrとなるように圧力調節弁(745)を調整した
Adjust the scale of each flow rate controller to set the hydrogen gas flow rate to 200.
The flow rate of 3CCm% nitrous oxide gas is O0○lsec,
The flow rate of silane gas is 200 sec, and the flow rate of hydrogen gas is 110 sec.
The flow rate of phosphine gas diluted to 0pp is 10105
It was set at 100 m and flowed into the reaction chamber (733). After each flow rate stabilizes, the pressure inside the reaction chamber (733) is 0.8
The pressure control valve (745) was adjusted so that the pressure was Torr.

一方、a−C膜が形成されている導電性基板(752)
は、250℃に加熱しておき、ガス流量及び圧力が安定
した状態で、高周波電源(739)より周波数13.5
6MHzの下で電力印加電極(736)に40Watt
の電力を印加し、グルー放電を発生させな。この放電を
5分間行ない、厚ざ0.3μmの電荷発生層を得た。
On the other hand, a conductive substrate (752) on which an a-C film is formed
is heated to 250°C, and when the gas flow rate and pressure are stable, the frequency is 13.5 from the high frequency power supply (739).
40Watt to the power application electrode (736) under 6MHz
Apply power and do not cause glue discharge. This discharge was carried out for 5 minutes to obtain a charge generation layer with a thickness of 0.3 μm.

得られたa−Si膜につき、金属中ONH分析(板場製
作所製EMGA−1300) 、オージェ分析、及びI
MA分析を行なったところ、含有される水素原子は全構
成原子に対して2o原子%、燐原子は10原子ppm、
酸素原子は0.001原子%であった。
The obtained a-Si film was subjected to ONH analysis in metal (EMGA-1300 manufactured by Itaba Seisakusho), Auger analysis, and I
When MA analysis was performed, the hydrogen atoms contained were 20 at % based on the total constituent atoms, the phosphorus atoms were 10 at ppm,
The oxygen atom content was 0.001 at.%.

特性: 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で負帯
電並びに正帯電で用いたところ次の如き性能が得られた
。ここでは、正帯電時の測定値を括弧内に示すが、最高
帯電電位は一820V (+970V)で有り、即ち、
全感光体膜厚が15゜3μmであることから1μm当り
の帯電能は53V/μm(63V/μm)と極めて高く
、このことから充分な帯電性能を有する事が理解された
Characteristics: When the obtained photoreceptor was used with both negative and positive charging in a conventional Carlson process, the following performance was obtained. Here, the measured values during positive charging are shown in parentheses, and the highest charging potential is -820V (+970V), that is,
Since the total photoreceptor film thickness was 15.degree. 3 .mu.m, the charging ability per 1 .mu.m was extremely high at 53 V/.mu.m (63 V/.mu.m), and from this it was understood that the photoreceptor had sufficient charging performance.

また、暗中にてVmaxからVmaxの90%の表面電
位にまで暗減衰するのに要した時間は約46秒(約41
秒)であり、このことから充分な電荷保持性能を有する
事が理解された。また、最高帯電電位に初期帯電した後
、白色光を用いて最高帯電電位の20%の表面電位にま
で明減衰きせたとこる必要とされた光量は6.0ルツク
ス・秒(13,5ルツクス・秒)であり、このことから
実用上問題のない光感度性能を有する事が理解された。
In addition, the time required for dark decay from Vmax to 90% of Vmax in the dark was approximately 46 seconds (approximately 41 seconds).
seconds), and from this it was understood that it had sufficient charge retention performance. In addition, after initial charging to the highest charging potential, the brightness was attenuated to a surface potential of 20% of the highest charging potential using white light.The required light amount was 6.0 lux·sec (13.5 lux・Seconds), and from this it was understood that it had a photosensitivity performance that would pose no problem in practical use.

以上より、本例に示した本発明による感光体は、感光体
として優れた性能を有するものである事が理解される。
From the above, it is understood that the photoreceptor according to the present invention shown in this example has excellent performance as a photoreceptor.

また、この感光体に対して常用のカールソンプロセスの
中で、作像して転写したところ、鮮明な画像が得られた
Further, when an image was formed and transferred to this photoreceptor using the commonly used Carlson process, a clear image was obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図乃至第6図は本発明感光体の構成を示す図面、第
7図乃至第8図は本発明に係わる感光体の製造装置を示
す図面である。 出願人 ミノルタカメラ株式会社 第Z″図  第2図 第3図  第4図 第5図  第6図 手続補正書 昭和62年10月21日 昭和61年特許M第ど1−22’/367号2、発明の
名称 感光体 3、補正をする者 事件との関係  出願人 住所 大阪市東区安土町2丁目30番地 大阪国際ビル
名称 ((507)   ミノルタカメラ株式会社自発
補正 5、補正の対象 図面 6、補正の内穿 図面第8図を「訂正第8図」の通り補正します。
1 to 6 are drawings showing the structure of a photoreceptor according to the present invention, and FIGS. 7 to 8 are drawings showing an apparatus for manufacturing a photoreceptor according to the invention. Applicant: Minolta Camera Co., Ltd. Figure Z″ , Name of the invention Photoconductor 3, Relationship with the person making the amendment Applicant address 2-30 Azuchi-cho, Higashi-ku, Osaka Name of Osaka Kokusai Building ((507) Minolta Camera Co., Ltd. Voluntary amendment 5, Drawing subject to amendment 6, Figure 8 of the perforation drawing of the amendment will be corrected as shown in "Corrected Figure 8".

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 電荷発生層と電荷輸送層とを有する機能分離型感光体に
おいて、該電荷輸送層は少なくとも酸素原子を含有して
なる水素化アモルファスカーボン膜であり、かつ、該電
荷発生層は酸素原子を含有すると共に燐原子及び硼素原
子のうち少なくとも一方を含有してなる水素化アモルフ
ァスシリコン膜或は酸素原子を含有すると共に燐原子及
び硼素原子のうち少なくとも一方を含有してなる弗素化
アモルファスシリコン膜であることを特徴とする感光体
In a functionally separated photoreceptor having a charge generation layer and a charge transport layer, the charge transport layer is a hydrogenated amorphous carbon film containing at least oxygen atoms, and the charge generation layer contains oxygen atoms. and a hydrogenated amorphous silicon film containing at least one of phosphorus atoms and boron atoms, or a fluorinated amorphous silicon film containing oxygen atoms and at least one of phosphorus atoms and boron atoms. A photoreceptor characterized by:
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