JPS636872A - 負性抵抗素子 - Google Patents
負性抵抗素子Info
- Publication number
- JPS636872A JPS636872A JP61149487A JP14948786A JPS636872A JP S636872 A JPS636872 A JP S636872A JP 61149487 A JP61149487 A JP 61149487A JP 14948786 A JP14948786 A JP 14948786A JP S636872 A JPS636872 A JP S636872A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- negative resistance
- resistance element
- group
- metal
- metal phthalocyanine
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims abstract description 33
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 claims abstract description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 44
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 44
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical class N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- 239000003446 ligand Substances 0.000 claims description 7
- 150000002894 organic compounds Chemical group 0.000 claims description 6
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 3
- -1 phthalocyanine compound Chemical class 0.000 description 15
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 8
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N Bipyridyl Chemical compound N1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1 ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N Formamide Chemical compound NC=O ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000557 Nafion® Polymers 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DQRBSSNRRYZPJZ-UHFFFAOYSA-N [Co](C#N)C#N.[Na] Chemical compound [Co](C#N)C#N.[Na] DQRBSSNRRYZPJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 2
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 2
- TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N methyl formate Chemical compound COC=O TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N pentan-2-one Chemical compound CCCC(C)=O XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M sodium bromide Chemical compound [Na+].[Br-] JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000005092 sublimation method Methods 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- 238000010408 sweeping Methods 0.000 description 2
- DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N tetrabutylammonium Chemical compound CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PCCVSPMFGIFTHU-UHFFFAOYSA-N tetracyanoquinodimethane Chemical compound N#CC(C#N)=C1C=CC(=C(C#N)C#N)C=C1 PCCVSPMFGIFTHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 232Th Chemical compound [232Th] ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M Butyrate Chemical compound CCCC([O-])=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003935 Flemion® Polymers 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007832 Na2SO4 Substances 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 229910052776 Thorium Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052770 Uranium Inorganic materials 0.000 description 1
- IKWTVSLWAPBBKU-UHFFFAOYSA-N a1010_sial Chemical compound O=[As]O[As]=O IKWTVSLWAPBBKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002490 anilino group Chemical group [H]N(*)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229920006318 anionic polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000413 arsenic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960002594 arsenic trioxide Drugs 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001555 benzenes Chemical class 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000006309 butyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920006317 cationic polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000002178 crystalline material Substances 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 125000002946 cyanobenzyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 125000000031 ethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N([H])[*] 0.000 description 1
- WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N formic acid ethyl ester Natural products CCOC=O WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003502 gasoline Substances 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N heliogen blue Chemical compound [Cu].[N-]1C2=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=NC([N-]1)=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=N2 RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- MHCFAGZWMAWTNR-UHFFFAOYSA-M lithium perchlorate Chemical compound [Li+].[O-]Cl(=O)(=O)=O MHCFAGZWMAWTNR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001486 lithium perchlorate Inorganic materials 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- YNPFMWCWRVTGKJ-UHFFFAOYSA-N mianserin hydrochloride Chemical compound [H+].[Cl-].C1C2=CC=CC=C2N2CCN(C)CC2C2=CC=CC=C21 YNPFMWCWRVTGKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 239000004570 mortar (masonry) Substances 0.000 description 1
- 125000005184 naphthylamino group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)N* 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 150000003021 phthalic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- XKJCHHZQLQNZHY-UHFFFAOYSA-N phthalimide Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NC(=O)C2=C1 XKJCHHZQLQNZHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQZYPMVTSDWCCE-UHFFFAOYSA-N phthalonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC=C1C#N XQZYPMVTSDWCCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006391 phthalonitrile polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000000587 piperidin-1-yl group Chemical group [H]C1([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005936 piperidyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 125000006308 propyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 125000003373 pyrazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 235000015096 spirit Nutrition 0.000 description 1
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- DNYWZCXLKNTFFI-UHFFFAOYSA-N uranium Chemical compound [U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U] DNYWZCXLKNTFFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は負性抵抗特性を有する材料として有機材料を用
いた負性抵抗素子に関する。
いた負性抵抗素子に関する。
発振回路などに用いられる負性抵抗素子としては、従来
よりPNPN、トンネル、ガン等の各種のダイオードが
用いられてきた。
よりPNPN、トンネル、ガン等の各種のダイオードが
用いられてきた。
ところが、これらダイオードは、半導体を主体として構
成され、その製造には、半導体製造における高価で複雑
な装置と高度な技術が必要とされる。
成され、その製造には、半導体製造における高価で複雑
な装置と高度な技術が必要とされる。
そこで、より簡易で安価な装置や簡単な技術によって製
造可能である負性抵抗素子の開発が盛んに試みられてい
る。
造可能である負性抵抗素子の開発が盛んに試みられてい
る。
一方、各種金属や酸化物等の無機材料に比べて有機化合
物材料は、より簡易な成膜法によって、容易に精度良く
成膜できる可能性を秘めており、各種デバイス形成用材
料としての適用が注目されている。
物材料は、より簡易な成膜法によって、容易に精度良く
成膜できる可能性を秘めており、各種デバイス形成用材
料としての適用が注目されている。
例えば、外的な温度や電界等の物理的要因や化学的要因
によって電気的特性が変化する、いわゆるスイッチング
特性を有する有機化合物としては、テトラシアノキノジ
メタン(TCNQ)の金属錯体や銅フタロシアニン等の
金属フタロシアニン化合物が知られている。
によって電気的特性が変化する、いわゆるスイッチング
特性を有する有機化合物としては、テトラシアノキノジ
メタン(TCNQ)の金属錯体や銅フタロシアニン等の
金属フタロシアニン化合物が知られている。
しかしながら、有機材料を用いた負性抵抗素子としでは
、性能や製造の容易さなどの点において未だ満足できる
ものがみあたらないのが現状である。
、性能や製造の容易さなどの点において未だ満足できる
ものがみあたらないのが現状である。
すなわち、有機化合物材料を使用した負性抵抗素子とし
ては、例えば白金/ルテニウムビピリジン錯体/ポリピ
ロール/金からなる有機材料層が2層構成であるものが
知られているが、負性抵抗特性における電流降下速度が
遅い、あるいは再現性に問題があるなど、十分に満足で
きるものではなかった。
ては、例えば白金/ルテニウムビピリジン錯体/ポリピ
ロール/金からなる有機材料層が2層構成であるものが
知られているが、負性抵抗特性における電流降下速度が
遅い、あるいは再現性に問題があるなど、十分に満足で
きるものではなかった。
本発明は以上のような問題点に鑑みなされたものであり
、その目的は、簡易な装置で容易に形成可能であり、再
現性に優れた負性抵抗素子を提供することにある。
、その目的は、簡易な装置で容易に形成可能であり、再
現性に優れた負性抵抗素子を提供することにある。
上記目的は以下の本発明によって達成することができる
。
。
すなわち、本発明は、下記−般式(I)で表わされる金
属フタロシアニン誘導体を含む電解液から電解生成させ
た結晶を含む層を電極間に配してなることを特徴とする
負性抵抗素子である。
属フタロシアニン誘導体を含む電解液から電解生成させ
た結晶を含む層を電極間に配してなることを特徴とする
負性抵抗素子である。
MPc、(L)、I ・・・・・・・・・(I)(上
記式において、Mは金属原子、Lは含窒素有機化合物基
からなる配位子、Pcはフタロシアニン環であり、nは
1または2を表わす、)金属フタロシアニン化合物は、
負性抵抗素子として用いられた例は従来みあたらないが
、前述のようにスイッチング特性等の種々の特性を有す
る有機化合物材料として知られており、その種々の分野
への適用が盛んに検討されている。金属フタロシアニン
化合物を高純度の結晶体として各種デバイスの材料とし
て用いようとする場合、従来知られていたフタロシアニ
ン化合物は、溶剤に難溶性であるため、溶剤による結晶
化は困難であるので、主に昇華法によって結晶化して用
いていた。
記式において、Mは金属原子、Lは含窒素有機化合物基
からなる配位子、Pcはフタロシアニン環であり、nは
1または2を表わす、)金属フタロシアニン化合物は、
負性抵抗素子として用いられた例は従来みあたらないが
、前述のようにスイッチング特性等の種々の特性を有す
る有機化合物材料として知られており、その種々の分野
への適用が盛んに検討されている。金属フタロシアニン
化合物を高純度の結晶体として各種デバイスの材料とし
て用いようとする場合、従来知られていたフタロシアニ
ン化合物は、溶剤に難溶性であるため、溶剤による結晶
化は困難であるので、主に昇華法によって結晶化して用
いていた。
しかしながら、昇華法による方法では、金属フタロシア
ニンが高融点であるため、高真空条件。
ニンが高融点であるため、高真空条件。
加熱温度、昇華速度等の操作条件の設定が難かしく、十
分に生長した。あるいは高純度の結晶を簡単な装置で容
易に得ることができないという問題点があった。
分に生長した。あるいは高純度の結晶を簡単な装置で容
易に得ることができないという問題点があった。
ところが、特願昭59−274838号に記載されてい
る以下に示すような誘導体として用いれば、品質の良い
結晶を簡易な装置で容易に得ることができ、金属フタロ
シアニン化合物の特性を有効に利用できる。しかも、本
発明者は、このような金属フタロシアニン誘導体を含む
溶液の電気分解反応によって生成させた結晶体が負性抵
抗特性を示し、負性抵抗素子形成用材料として好適であ
ることを見出し本発明を完成するに至った。
る以下に示すような誘導体として用いれば、品質の良い
結晶を簡易な装置で容易に得ることができ、金属フタロ
シアニン化合物の特性を有効に利用できる。しかも、本
発明者は、このような金属フタロシアニン誘導体を含む
溶液の電気分解反応によって生成させた結晶体が負性抵
抗特性を示し、負性抵抗素子形成用材料として好適であ
ることを見出し本発明を完成するに至った。
本発明の負性抵抗素子に用いる金属フタロシアニン誘導
体結晶は、例えば以下のようにして得ることができる。
体結晶は、例えば以下のようにして得ることができる。
該誘導体結晶の形成に用いる原料化合物には、下記−般
式(I)で表わされる化合物が含まれる。
式(I)で表わされる化合物が含まれる。
MPc(L)。 ・・・・・・・・・CI)(上記式
において、Mは金属原子、Lは配位子、Pcはフタロシ
アニン環であり、nは1または2を表わす、) 上記−般式(I)におけるM(金属原子)として好まし
いものは、三価以上の金属であり、例えばアルミニウム
、インジウム、ガリウム、スズ。
において、Mは金属原子、Lは配位子、Pcはフタロシ
アニン環であり、nは1または2を表わす、) 上記−般式(I)におけるM(金属原子)として好まし
いものは、三価以上の金属であり、例えばアルミニウム
、インジウム、ガリウム、スズ。
鉛、チタン、ゲルマニウム、シリコン、トリウム、アン
チモン、バナジウム、クロム、モリブデン、ウラン、マ
ンガン、鉄、コバルト、ニッケル、ハフニウム、ロジウ
ム、パラジウム、オスミウム、白金等を挙げることがで
きる。また、これらのなかでも周期律表の第■族に属す
る遷移金属が特に好ましい。
チモン、バナジウム、クロム、モリブデン、ウラン、マ
ンガン、鉄、コバルト、ニッケル、ハフニウム、ロジウ
ム、パラジウム、オスミウム、白金等を挙げることがで
きる。また、これらのなかでも周期律表の第■族に属す
る遷移金属が特に好ましい。
上記−般式CI)におけるL(配位子)として好ましい
ものは、含窒素有機化合物からなる基であり、例えばシ
アノ基、ピペリジノ基、ピペリジル基、1−メチルイミ
ダゾリル基、ピリジル基、2−メチルピラジニル基、3
.4−ジメチルピリジル基、3.5−ジメチルピリジル
基、4−メチルピリジル基、3−クロルピリジル基、ピ
ラジニル基、3−エチルピリジル基、4−エチルピリジ
ル基、3−7セチルピリジル基、4−アセチルピリジル
基、ビピリジル基、ジシアノベンジル基、シアノベンジ
ル基、更には、ジメチルアミノ基、エチルアミノ基、プ
ロピルアミン基、ブチルアミノ基等の脂肪族アミノ基、
アニリノ基、メチルアニリノ基、ジメチルアニリノ基、
ナフチルアミノ基等の芳香族アミノ基、廖素、臭素等の
ハロゲン原子などを挙げることができる。これらの配位
子は、nが2のときはこれらは同一でも異なるものであ
っても良い。
ものは、含窒素有機化合物からなる基であり、例えばシ
アノ基、ピペリジノ基、ピペリジル基、1−メチルイミ
ダゾリル基、ピリジル基、2−メチルピラジニル基、3
.4−ジメチルピリジル基、3.5−ジメチルピリジル
基、4−メチルピリジル基、3−クロルピリジル基、ピ
ラジニル基、3−エチルピリジル基、4−エチルピリジ
ル基、3−7セチルピリジル基、4−アセチルピリジル
基、ビピリジル基、ジシアノベンジル基、シアノベンジ
ル基、更には、ジメチルアミノ基、エチルアミノ基、プ
ロピルアミン基、ブチルアミノ基等の脂肪族アミノ基、
アニリノ基、メチルアニリノ基、ジメチルアニリノ基、
ナフチルアミノ基等の芳香族アミノ基、廖素、臭素等の
ハロゲン原子などを挙げることができる。これらの配位
子は、nが2のときはこれらは同一でも異なるものであ
っても良い。
このような金属フタロシアニン誘導体は、公知の方法で
得ることができ1例えば、モーザー及びトーツスによる
「フタロシアニンコンパウンズ」に記載の方法等で金属
フタロシアニンを得た後、金属フタロシアニンに上記配
位子を単に配位させる方法、金属と、フタル酸若しくは
フタルイミド、フタロニトリル、アミノイミノインドレ
ニン等のフタル酸誘導体とを、必要に応じた窒素源の存
在下及び触媒の存在下で反応させて、金属フタロシアニ
ン化合物を合成する際に、金属としてポリハロゲン化金
属を用い、金属が1〜2のハロゲンを有する金属フタロ
シアニンを調製し、このハロゲンを利用して上述の配位
子を導入する方法、あるいは無金属のフタロシアニンを
合成し、これにポリハロゲン化金属を導入して上記と同
様にする方法等が挙げられるが、これらの方法に限定さ
れるものではない。
得ることができ1例えば、モーザー及びトーツスによる
「フタロシアニンコンパウンズ」に記載の方法等で金属
フタロシアニンを得た後、金属フタロシアニンに上記配
位子を単に配位させる方法、金属と、フタル酸若しくは
フタルイミド、フタロニトリル、アミノイミノインドレ
ニン等のフタル酸誘導体とを、必要に応じた窒素源の存
在下及び触媒の存在下で反応させて、金属フタロシアニ
ン化合物を合成する際に、金属としてポリハロゲン化金
属を用い、金属が1〜2のハロゲンを有する金属フタロ
シアニンを調製し、このハロゲンを利用して上述の配位
子を導入する方法、あるいは無金属のフタロシアニンを
合成し、これにポリハロゲン化金属を導入して上記と同
様にする方法等が挙げられるが、これらの方法に限定さ
れるものではない。
なお、これらの金属フタロシアニン誘導体は、そのベン
ゼン核が、ハロゲン原子、メチル基、ニトロ基、カルボ
キシル基、その他の置換基を1〜16個有することがで
きる。
ゼン核が、ハロゲン原子、メチル基、ニトロ基、カルボ
キシル基、その他の置換基を1〜16個有することがで
きる。
上記、金属フタロシアニン誘導体は、分子全体としては
、酸性(若しくは塩基性)を示し、塩基(若しくは酸)
と造塩する傾向にあり、かつ各種の有機溶剤、好ましく
は双極性有機溶剤、またはこれらと水との混合溶液に従
来の金属フタロシアニンと比べて著しく可溶性であり、
溶剤に溶解して結晶化させることが可能である。
、酸性(若しくは塩基性)を示し、塩基(若しくは酸)
と造塩する傾向にあり、かつ各種の有機溶剤、好ましく
は双極性有機溶剤、またはこれらと水との混合溶液に従
来の金属フタロシアニンと比べて著しく可溶性であり、
溶剤に溶解して結晶化させることが可能である。
結晶化は、所望の金属フタロシアニン誘導体を適当な溶
剤に溶解して調製した溶液中に一対の電極を挿入し、直
流電気分解を行なうことにより電極上に金属フタロシア
ニン誘導体の結晶を析出させる方法によって容易に行う
ことができる。
剤に溶解して調製した溶液中に一対の電極を挿入し、直
流電気分解を行なうことにより電極上に金属フタロシア
ニン誘導体の結晶を析出させる方法によって容易に行う
ことができる。
この結晶化に用いる金属フタロシアニン誘導体の溶剤と
しては、アセトン、メチルエチルケトン、メチル−n−
プロピルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケ
トン、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、酢酸メ
チル、酢酸エチル、酢酸ブチル、シクロヘキサン、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、メタノール、エタノール
、イソプロピルアルコール、ブタノール、メチルセロソ
ルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート、ホル
ムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド、あるいはこれらと水の混合物、あるいはこれらとペ
ンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタ
ン、ミネラルスピリット、石油エーテル、ガソリン、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン、クロロホルム、四m 化
炭素、クロルベンゼン、パークロルエチレン、トリクロ
ルエチレン等との混合物などを挙げることができる。
しては、アセトン、メチルエチルケトン、メチル−n−
プロピルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケ
トン、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、酢酸メ
チル、酢酸エチル、酢酸ブチル、シクロヘキサン、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、メタノール、エタノール
、イソプロピルアルコール、ブタノール、メチルセロソ
ルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート、ホル
ムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド、あるいはこれらと水の混合物、あるいはこれらとペ
ンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタ
ン、ミネラルスピリット、石油エーテル、ガソリン、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン、クロロホルム、四m 化
炭素、クロルベンゼン、パークロルエチレン、トリクロ
ルエチレン等との混合物などを挙げることができる。
これらのなかから適宜選択した溶剤に所望の金属フタロ
シアニン誘導体を、好ましくは約10″4M〜飽和儂度
で溶解して調製した溶液に一対の電極を挿入し、これら
電極間に直流電圧あるいは電流を印加し、電気分解を行
なうことによって電極上に金属フタロシアニン誘導体の
結晶を得ることができる。
シアニン誘導体を、好ましくは約10″4M〜飽和儂度
で溶解して調製した溶液に一対の電極を挿入し、これら
電極間に直流電圧あるいは電流を印加し、電気分解を行
なうことによって電極上に金属フタロシアニン誘導体の
結晶を得ることができる。
なお、電解用の溶液には、更に必要に応じてKCI 、
NaBr、 K1. LiClO4、Li8F4.テ
トラ−n−ブチルアンモニウムバークロレート、テトラ
−n−ブチルアンモニウムパーフルオロポレート、÷ト
ラメチルアンモニウムクロリド、P4ルエンスルホン酸
ソーダ、Na2SO4の電解質を例えば約10“3〜約
10’M程度加えても良い。
NaBr、 K1. LiClO4、Li8F4.テ
トラ−n−ブチルアンモニウムバークロレート、テトラ
−n−ブチルアンモニウムパーフルオロポレート、÷ト
ラメチルアンモニウムクロリド、P4ルエンスルホン酸
ソーダ、Na2SO4の電解質を例えば約10“3〜約
10’M程度加えても良い。
また、電解に用いる電極としては、金、白金、ニッケル
、銅などの金属、あるいはこれら金属をプラスチックや
ガラス等の絶縁性基材に蒸着させたもの、更には、酸化
錫、酸化インジウム、酸化錫インジウム等の導電性金属
酸化物層を被覆した絶縁性基板等の公知の電極材ならば
いずれも使用できる。また、電気分解の条件は、使用す
る金属フタロシアニン誘導体の種類、電極の材質と形状
及び大きさ、電解液及び電解質の種類とその濃度等によ
って種々異なるが、0.7〜20V程度の定電位、ある
いは5gA程度以上の定電流を用いるのが好適である。
、銅などの金属、あるいはこれら金属をプラスチックや
ガラス等の絶縁性基材に蒸着させたもの、更には、酸化
錫、酸化インジウム、酸化錫インジウム等の導電性金属
酸化物層を被覆した絶縁性基板等の公知の電極材ならば
いずれも使用できる。また、電気分解の条件は、使用す
る金属フタロシアニン誘導体の種類、電極の材質と形状
及び大きさ、電解液及び電解質の種類とその濃度等によ
って種々異なるが、0.7〜20V程度の定電位、ある
いは5gA程度以上の定電流を用いるのが好適である。
ちなみに、金属フタロシアニン誘導体が酸性である場合
には、陽極の表面に結晶が析出し、また塩基性である場
合には、陰極に結晶が析出する。
には、陽極の表面に結晶が析出し、また塩基性である場
合には、陰極に結晶が析出する。
なお、上記電気分解において、電解液中に従来公知の各
種のドーピング剤、上述したような各種電解質、ヨウ素
、酸化ヒ素、硫酸、トリフルオロ硫酸等の各種添加物を
適宜添加して、形成される結晶体の電気的性質を調整す
ることができる。
種のドーピング剤、上述したような各種電解質、ヨウ素
、酸化ヒ素、硫酸、トリフルオロ硫酸等の各種添加物を
適宜添加して、形成される結晶体の電気的性質を調整す
ることができる。
このようにして得られた金属フタロシアニン誘導体結晶
を用いて本発明の負性抵抗素子を得ることができる。
を用いて本発明の負性抵抗素子を得ることができる。
本発明の負性抵抗素子の基本的構成を第1図に示す。
本発明の負性抵抗素子は、基本的に金属フタロシアニン
結晶を含む層1を挟持する一対の電極2とから構成され
る。
結晶を含む層1を挟持する一対の電極2とから構成され
る。
電極2は、例えばAg、カーボン若しくはグラファイト
等からなるペーストを層1に塗布する、あるいはA1.
Au、 Ni、 Cu、 Pb、 ITO等の電極形
成用材料から通常の方法で形成することができる。
等からなるペーストを層1に塗布する、あるいはA1.
Au、 Ni、 Cu、 Pb、 ITO等の電極形
成用材料から通常の方法で形成することができる。
金属フタロシアニン結晶を含む層lとしては、主に以下
のような4つのタイプのものを用いることができるが、
これに限定されるものではなく、所望に応じて種々の態
様を取り得る。
のような4つのタイプのものを用いることができるが、
これに限定されるものではなく、所望に応じて種々の態
様を取り得る。
a、電解生成物単結晶をそのまま用いる。
b9例えば単結晶あるいは微細結晶を粉砕するなどして
形成した粉体状の電解生成物結晶を加圧下に成形したも
のを用いる。
形成した粉体状の電解生成物結晶を加圧下に成形したも
のを用いる。
C0上記電気分解反応の際に電極上に無数の結晶が析出
した状態の層を電極ごとそのまま用いる。
した状態の層を電極ごとそのまま用いる。
d、上記電気分解反応によって酸物した結晶をポリマー
中に分散して層としたものを用いる。
中に分散して層としたものを用いる。
なお、d、の構成の層を形成する際に用いることのでき
るポリマーとしては、ナフィオン(商品名、デュポン社
製)、フレミオン、カチオン性若しくはアニオン性ポリ
マー、アクリルアミド等を挙げることができ、必要に応
じて溶剤に溶解して調製したこれらポリマーの溶液中に
、必要量の粉体状の結晶を分散させて、電極や適当な基
板上に塗布し、乾燥したり、冷却するなどして用いるこ
とができる。
るポリマーとしては、ナフィオン(商品名、デュポン社
製)、フレミオン、カチオン性若しくはアニオン性ポリ
マー、アクリルアミド等を挙げることができ、必要に応
じて溶剤に溶解して調製したこれらポリマーの溶液中に
、必要量の粉体状の結晶を分散させて、電極や適当な基
板上に塗布し、乾燥したり、冷却するなどして用いるこ
とができる。
このような構成の素子に一対の電極を介して、直流ある
いは交流電源を用いて、例えば0〜30Vの電圧?掃引
すると、用いた金属フタロシアニンの種類に応じて個々
に異なるが1通常、0.5〜10S/Vの速度で、約l
/10程度の電流降下が得られる。
いは交流電源を用いて、例えば0〜30Vの電圧?掃引
すると、用いた金属フタロシアニンの種類に応じて個々
に異なるが1通常、0.5〜10S/Vの速度で、約l
/10程度の電流降下が得られる。
本発明の負性抵抗素子は、従来のダイオード等と異なり
、負性抵抗特性を示す材料に簡易な装置で容易に形成可
能である金属フタロシアニン誘導体結晶を用い、しかも
素子自体も簡単な操作で形成可能な構成を有しており、
本発明によって製造が極めて容易で、かつ再現性に優れ
た負性抵抗素子を提供することが可能となった。
、負性抵抗特性を示す材料に簡易な装置で容易に形成可
能である金属フタロシアニン誘導体結晶を用い、しかも
素子自体も簡単な操作で形成可能な構成を有しており、
本発明によって製造が極めて容易で、かつ再現性に優れ
た負性抵抗素子を提供することが可能となった。
以下、実施例に従って本発明を更に詳細に説明する。
実施例1
2室型Hセルを用い、ジシアノコバルトフタロシアニン
ナトリウムを、乾燥後蒸留したジメチルホルムアミドに
2.5X 10’ Mの濃度となるように溶解して調製
した溶液に、15時間、5Ij、Aの定電流電気分解を
行ない、陽極上に3XIO′4cmX 5X10’ C
0IX O,5cIllの単結晶を得た。
ナトリウムを、乾燥後蒸留したジメチルホルムアミドに
2.5X 10’ Mの濃度となるように溶解して調製
した溶液に、15時間、5Ij、Aの定電流電気分解を
行ない、陽極上に3XIO′4cmX 5X10’ C
0IX O,5cIllの単結晶を得た。
次にこの単結晶をテフロン上にのせ、その両端にAgペ
ーストを塗布して、本発明の負性抵抗素子を得た。
ーストを塗布して、本発明の負性抵抗素子を得た。
一対のAgペースト電極間に直流電圧を5 S/Vの速
度で掃引したところ、82図に示すようなV−1特性が
得られ、負性抵抗特性を有していることが確認された。
度で掃引したところ、82図に示すようなV−1特性が
得られ、負性抵抗特性を有していることが確認された。
実施例2
1室型セルを用い、ジシアノコバルトフタロシアニンナ
トリウムを、乾燥後蒸留したジメチルホルムアミドに飽
和させた溶液に、4時間、4vの定電圧電気分解を行な
い、陽極上に無数の微細結晶を得た。
トリウムを、乾燥後蒸留したジメチルホルムアミドに飽
和させた溶液に、4時間、4vの定電圧電気分解を行な
い、陽極上に無数の微細結晶を得た。
この微細結晶を乾燥した後、めのう乳鉢で粉体状に粉砕
し、これを300kg/am2の圧力で厚さlll11
のペレット状に成形した。
し、これを300kg/am2の圧力で厚さlll11
のペレット状に成形した。
次にこの成形物を2枚のAg板で挟持して本発明の負性
抵抗素子を得た。
抵抗素子を得た。
コノ素子に、10 KHz、 OSL/Vテ、VIAS
I 1〜20vt−’c’掃引シタトコロ、VIAS
18 VテZカ0.5 カら3.5にΩに急激に変化し
、負性抵抗特性を有していることが確認された。
I 1〜20vt−’c’掃引シタトコロ、VIAS
18 VテZカ0.5 カら3.5にΩに急激に変化し
、負性抵抗特性を有していることが確認された。
実施例3
フッソ系イオン交換ポリマー(商品名:ナフイオン、デ
ュポン社製)を10重量%の水を含むエタノールに5重
量%になるように溶解して調製した溶液に、実施例2で
得られた粉体状の結晶を10重量%となるように混合し
、ボールミルで24時間攪拌した後、これをITO上に
乾燥膜厚が0.1mmとなるように塗布し乾燥させた。
ュポン社製)を10重量%の水を含むエタノールに5重
量%になるように溶解して調製した溶液に、実施例2で
得られた粉体状の結晶を10重量%となるように混合し
、ボールミルで24時間攪拌した後、これをITO上に
乾燥膜厚が0.1mmとなるように塗布し乾燥させた。
更に、対極としカーボンペーストを結晶分散ポリマー層
上に塗布して、本発明の負性抵抗素子を得た。
上に塗布して、本発明の負性抵抗素子を得た。
得られた素子の両電極間に、直流電圧を掃引したところ
、7vで負性抵抗特性が確認された。
、7vで負性抵抗特性が確認された。
第1図は本発明の負性抵抗素子の構成を説明するための
模式的断面図、第2図は本発明の負性抵抗素子に直流電
圧を掃引した場合に得られたV−1特性のグラフである
。 1:金属フタロシアニン結晶含有層 2:電極
模式的断面図、第2図は本発明の負性抵抗素子に直流電
圧を掃引した場合に得られたV−1特性のグラフである
。 1:金属フタロシアニン結晶含有層 2:電極
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)下記一般式( I )で表わされる金属フタロシアニ
ン誘導体を含む電解液から電解生成させた結晶を含む層
を電極間に配してなることを特徴とする負性抵抗素子。 MPc(L)_n・・・・・・・・・( I )(上記式
において、Mは金属原子、Lは含窒素有機化合物基から
なる配位子、Pcはフタロシアニン環であり、nは1ま
たは2を表わす。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61149487A JPS636872A (ja) | 1986-06-27 | 1986-06-27 | 負性抵抗素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61149487A JPS636872A (ja) | 1986-06-27 | 1986-06-27 | 負性抵抗素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS636872A true JPS636872A (ja) | 1988-01-12 |
Family
ID=15476226
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61149487A Pending JPS636872A (ja) | 1986-06-27 | 1986-06-27 | 負性抵抗素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS636872A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01256183A (ja) * | 1988-04-06 | 1989-10-12 | Agency Of Ind Science & Technol | スイッチング素子 |
US6722651B2 (en) * | 2000-10-04 | 2004-04-20 | Kyocera Mita Corporation | Sheet member discharge mechanism |
US7234644B2 (en) | 2000-01-25 | 2007-06-26 | Renesas Technology Corp. | IC card |
JP2009206522A (ja) * | 2002-01-31 | 2009-09-10 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 有機エレクトロルミネッセンス素子 |
JP4878552B2 (ja) * | 2004-04-20 | 2012-02-15 | 独立行政法人理化学研究所 | 素子、これを用いた薄膜トランジスタおよびセンサ、ならびに素子の製造方法 |
-
1986
- 1986-06-27 JP JP61149487A patent/JPS636872A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01256183A (ja) * | 1988-04-06 | 1989-10-12 | Agency Of Ind Science & Technol | スイッチング素子 |
US7234644B2 (en) | 2000-01-25 | 2007-06-26 | Renesas Technology Corp. | IC card |
US7303138B2 (en) | 2000-01-25 | 2007-12-04 | Renesas Technology Corp. | Integrated circuit card having staggered sequences of connector terminals |
US7552876B2 (en) | 2000-01-25 | 2009-06-30 | Renesas Technology Corp. | IC card |
US6722651B2 (en) * | 2000-10-04 | 2004-04-20 | Kyocera Mita Corporation | Sheet member discharge mechanism |
JP2009206522A (ja) * | 2002-01-31 | 2009-09-10 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 有機エレクトロルミネッセンス素子 |
JP4878552B2 (ja) * | 2004-04-20 | 2012-02-15 | 独立行政法人理化学研究所 | 素子、これを用いた薄膜トランジスタおよびセンサ、ならびに素子の製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Wu et al. | Influence of nonfused cores on the photovoltaic performance of linear triphenylamine-based hole-transporting materials for perovskite solar cells | |
Xie et al. | Enhanced performance of perovskite CH3NH3PbI3 solar cell by using CH3NH3I as additive in sequential deposition | |
Ogomi et al. | CH3NH3Sn x Pb (1–x) I3 Perovskite solar cells covering up to 1060 nm | |
EP0968507B1 (de) | Photovoltaische zelle | |
KR101906017B1 (ko) | 혼합 할라이드 페로브스카이트 화합물, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 태양전지 | |
US20090133746A1 (en) | Solid-State Electrolyte Composition Containing Liquid Crystal Materials and Dye-Sensitized Solar Cells Using the Same | |
Prabakaran et al. | PEO/PVdF–HFP electrolytes for natural dye sensitized solar cell applications: Effect of modified nano-TiO 2 on electrochemical and photovoltaic performance | |
Ganesan et al. | Influence of 2, 6 (N-pyrazolyl) isonicotinic acid on the photovoltaic properties of a dye-sensitized solar cell fabricated using poly (vinylidene fluoride) blended with poly (ethylene oxide) polymer electrolyte | |
WO2001080346A1 (fr) | Couche semi-conductrice, cellule solaire l'utilisant, procedes de production et applications correspondantes | |
Ripolles et al. | New Tin (II) Fluoride derivative as a precursor for enhancing the efficiency of inverted planar Tin/Lead perovskite solar cells | |
Zhang et al. | Chalcogenoarene semiconductors: new ideas from old materials | |
JP2009269987A (ja) | 新規化合物、光電変換素子及び太陽電池 | |
Huang et al. | Microemulsion-controlled synthesis of CoSe2/CoSeO3 composite crystals for electrocatalysis in dye-sensitized solar cells | |
Ganesan et al. | Influence of synthesized pyridine and tetra ethylene glycol derivatives in poly (vinylidene fluoride)/poly (ethylene oxide) with Ti coated back contact dye-sensitized solar cells | |
JPS636872A (ja) | 負性抵抗素子 | |
JP7098166B2 (ja) | 有機無機ハイブリッド材料ならびにこれを用いたペロブスカイト型太陽電池 | |
JP2005116367A (ja) | 低温型有機溶融塩、光電変換素子及び光電池 | |
Ganesan et al. | Low-cost tetra ethylene glycol derivatives in polymer blend electrolytes for dye-sensitized solar cells with high photovoltaic conversion efficiencies | |
TW201030102A (en) | Novel organic dye incorporating a trialkoxysilyl and preparation thereof | |
Dao et al. | A study on solution-processable tetrabenzomonoazaporphyrin hole transport material for pervoskite solar cells | |
TW201113291A (en) | Novel ruthenium complex and photoelectric component using the same | |
JP2005209887A (ja) | ナフタレンカルボン酸誘導体を用いた有機薄膜トランジスタ | |
JP2008226582A (ja) | 光電変換素子及び太陽電池 | |
JP6230051B2 (ja) | 配位高分子薄膜およびそれを備えた薄膜太陽電池の製造方法 | |
JPH07106613A (ja) | 有機n型半導体およびこれを用いた有機太陽電池 |