JPS6364257A - 位置補正装置 - Google Patents

位置補正装置

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JPS6364257A
JPS6364257A JP20789086A JP20789086A JPS6364257A JP S6364257 A JPS6364257 A JP S6364257A JP 20789086 A JP20789086 A JP 20789086A JP 20789086 A JP20789086 A JP 20789086A JP S6364257 A JPS6364257 A JP S6364257A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
marker
laser
distance
sample stage
electron microscope
Prior art date
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Pending
Application number
JP20789086A
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English (en)
Inventor
Nobuo Tsumaki
妻木 伸夫
Satoyuki Sato
智行 佐藤
Eiichi Sato
栄一 佐藤
Ko Inoue
井上 滉
Kimio Murai
村井 公夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は位置補正装置に係り、特にレーザ光による異物
検出部と電子m微鏡による観察部を有する異物検査装置
に好適な位置補正装置に関する。
〔従来の技術〕
従来の異物検査装置は特開昭60−2188・15号公
報に記載のようにレーザ光でウェハ上を走査し、異物に
よるレーザの散乱光を検出することにより、異物の存在
と位置を測定する。異物の位置はレーザ光を走査する時
の走査方向の位置とウェハを乗せた試料台の位置から算
出され、特定の異物の位置が決定する。この位置座標を
もとに、拡大部に試料台を移動し、拡大部の視野内に異
物をとられる。従って試料台のレーザ光による検出部か
ら拡大部への移動情報は拡大部とレーザ光による検出部
間の距離で決定される。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上記従来技術においてレーザ光の中心位置は、光学系の
わずかな熱変形などにより必ずずれを生じる。また拡大
手段として電子顕微鏡を用いた場合、拡大率、絞り、加
速電圧などにより拡大部視野の中心座標が変位する。こ
のように拡大部とレーザ光による検出部間の距離は完全
に固定ではなく必ずずれが生じる。そのため拡大率を高
くして小さな異物をとらえようとすると視野が狭くなる
ので、上記のずれが生じた場合目標とする異物が視野内
からはずれてしまい観察不能となる欠点があった。
本発明の目的は、レーザ検出部と拡大部間の距離のずれ
を簡単に補正し、常に目標とする異物が拡大部視野的に
とらえられるようにする位置補正装置を提供することに
ある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明の上記の目的は、レーザ発振器と、レーザ光を試
料面上に集光するための光学系と、試料を観察するため
の画像拡大手段と、試料を設置し。
レーザ光の存在する位置と拡大手段との間を動くことの
できる試料台とを有する装Ftにおいて、試料台上に設
けた複数個のマーカと、光学系からのレーザ光により順
次検出されるマーカの位置と試料台を拡大手段の下に移
動したときに得られる拡大手段の中心との間の位置ずれ
量を検?Bする演算手段とを備えることにより達成され
る。
〔作用〕
拡大手段の最低倍率で確認しf()る最小の大きさを最
大とする複数個のマーカを試料台上に設置し、大きなマ
ーカから順次、レーザにより位置検出し、拡大手段の視
野内にとらえることにより、ビーム間距離を簡litに
7j’l定し、この値をもとに補正を加えることにより
、レーザビームの光学系の熱変形によるずれや、レーザ
チューブ交換時の光学系のずれになどによるビーム間距
離の補正を簡単にかつ短時間に行なうことができる。
〔実施例〕
以下本発明の実施例を図面を参照して説明する6第1図
は本発明の装置の一例を備えた検知装置の構成を示すも
ので、この図において、1は真空チャンバ、2は真空チ
ャンバ1−内に設置された試料台、3,4はそれぞれ試
料台2を直交2方向に線動させろ案内機構、5は試料台
2上に設けたウェハである。6はレーザ源、7はレーザ
源6から出射されるレーザビー11を走査方向に振らす
ガルバなどのスキャナ、8はレーザビームを直角2方向
に振り分けるハーフミラ、9はハーフミラ8からのレー
ザビームの光学スケール、10はウェハ5面のレーザス
ポットからの散乱反射光を受光するディテクタ、11は
ウェハ5に付着した微小異物を数千倍に拡大して分析す
る走査型電子顕微鏡、12はディテクタである。13は
試料台2上に設けたマーカで、このマーカ13は第2図
および第3図に示すようにマーカ取付本体13Aとこれ
に設けた2つのマーカ体13B、13Gとを備えている
第4図は本発明の装置の制御回路の一例を示すもので、
40.41はそれぞれA/D変換器、42はメモリ、4
3は演算部、44は試料台駆動コントローラである。
次に」二連した本発明の装置の一実施例の動作を説明す
る。
レーザg6を出たレーザ光はガルバスキャナ7によって
走査される。走査されたレーザ光はハーフミラ−8を介
して二つに分けられ、一方はレーザ光走査方向の位置検
出のため光学スケール9に入る。一方ハーフミラー8で
反)jしたレーザ光は試料台2上に設置したウェハ5上
に焦点を結ぶ。
次に本発明による位置補正の一例を説明する。
まず第5図に示すように試料台2を移動し、レーザ光が
大きい方のマーカ13Bを検出する範囲を走査する。こ
の時、レーザ光軸の予想される最大のずれをカバーでき
る最小範囲を走査する。マーカは他の物体、異物から出
る散乱光の影響を受けることなく検出されなければなら
ない。そこで第2図に示すごとく、マーカ発見のための
走査範囲をレーザ光の焦点面より低くする。このように
構成することにより、レーザ光の焦点面にある、マーカ
の先端が強い散乱光を発生し、他の面の汚れの影響は小
さく押えられる。マーカの位置は試料台2の位置情報(
例えば試料台2Lこ取付けられたスケールの読み)と光
学スケール9とによるレーザスポットの走査方向の位置
から決定される。ついでこの(17買情・末をもどに試
料台2を移動し、マーカを電子顕微鏡11の下に運ぶ。
具体的にはマーカの位置情報にレーザスポットと電子I
A微鏡開の距離(ビーム間距離)を加減することにより
、試料台の移動すべき位置の座標を算出し、この位置に
試料台を移動するように移動指令を出し、試料台を8a
させる。この時、ずれが生じていれば、電子顕微鏡11
の視野に対して第6図に示すごとく、中央ではなく端に
寄って観察される。次に試料台2を移動し、具体的には
マニュアルでマーカが視野中心となるようにする。この
時の試料台2の位置座標とレーザでマーカを発見した点
の位置座標との差から、レーザスポットと電子顕微鏡1
1との間の正しい距離(ビーム間距離)が算出できる1
次に再びレーザで小さい方のマーカ13Cを検出し、こ
の時は先に大きなマーカ13Bで測定したビーム間距離
を用いて試料台2を移動し。
マーカ13Cを電子顕微鏡の視野にとらえる。大きなマ
ーカ13Bの場合と全く同様の方法でビーム間距離を算
出する0以上のような操作によって簡単にビーム間距離
を測定し、レーザスポットのずれなどによるビーム間距
離の変化を補正することが可能となる。
前述した位置補正動作を第7図に示すフローチャートを
用いてさらに詳しく説明する。
まず、試料台2をマーカ13B探査開始点に移動する。
レーザスポットのずれ量は最大Q、2mm程度であるの
でマーカ13Bを必ず発見できる探査範囲は士Q、2m
mすなわち0.4mm角以上あれば充分である。この領
域をレーザスポットで走査すると、その中に必ずマーカ
13Bによる散乱光がとらえられる。この時の試料台の
X方向位置Xt* y方向位t4yt、レーザスポット
位置XL 。
およびマーカ13Bからの散乱光強度をA/D変換器4
0によりA/D変換しメモリ42に記憶する0本実施例
ではレーザスポットの探査方向は試料台2のxHi方向
と一致しているので、マー・力13Bの座標(Xml*
 ylll)は)(,1:xt+XLIy 111 =
 t tで与えられる。次にあらかじめ測定した電子顕
微鏡11の電子ビーム中心座標(xl。
yl)、レーザスポット中心(xz、yz)(レーザス
ポット位置測定用光学スケール原点)から求めた電子顕
微fiil、レーザ間のオフセット値Δx=x1−x2
.  Δy=y1−y2をXal+yslに加えて、マ
ーカ13Bと電子顕微鏡11下へ移動する移動目標座標
(Xs + ys )を演算部43が演算しくXs:X
m1+Δ”+ ’Is =ywa1+Δy)、試料台駆
動コントローラ44で試料台2を駆動し。
マーカ13Bの像を電子顕微鏡11の視野内にとらえる
。この時、電子顕Wj、[11の倍率は、レーザスポッ
トateのずれ量をカバーする広さの視野を有する倍率
であり、マーカ13Bの大きさはその倍率において認知
できる大きさが必要である。
最大0.2mmのずれの可能性があるとして考えた場合
、視野の広さは±Q、2mmをカバーするものとしてQ
 、 4 IIm角必要である。一般の電子顕微鏡11
ではこの時の倍率は200〜300倍程度である。また
この倍率において簡単に認知できる最少のマーカの大き
さは10μm程度である。従って本実施例ではマーカ1
3Bの大きさは10μm〜20μm程度とした。もしレ
ーザスポットにずれなどがなければマーカの像は上記操
作により電子顕微鏡11の中心に来るはずである。しか
し実際にはずれを生じマーカは電子顕微鏡11の中心か
らずれた位置に来る0次に電子顕微鏡1上の中心とマー
カ13Bの像のずれ量を測定する。測定は例えばライト
ペンによりマーカ像を指示したり。
あるいはクロヘアーカーソルにより指定したりすること
により行なうことができる。次にこのずれ量δX、δy
を元とオフセット値ΔX、Δyに加えて力iしい補正さ
れたオフセット値(ΔXN 。
ΔyN)ΔxN=ΔX+38.ΔyN=Δy+δアを演
算する。ずれ欲のエフ定は第4図に示すようにA/D9
換器41によりA/D変換され、メモリ42に記憶され
、演算部43で上記演算を行ないΔXN 、ΔyNを算
出し、元のイ直ΔX、Δyと置き換える。次に第2のマ
ーカ13Cを同様な手法で探査し、補正の精度を高めて
行く未実施例では第2のマーカ13Cの大きさは1〜3
μm%度とし、電子顕微鏡11の倍率は1.000倍程
度とするのが良い。以上のような操作をくり返して、所
要の補正精度を得ることができる。また、1回のマーカ
探査のみで得られる7、r4正精度(マーカの大きさ以
下の補正精度は得られない7)で充分な場合は、この限
りではない。
−  〔発明の効果〕 本発明によればレーザ検出部と拡大部のビーム間距離を
簡単にal’!定できるので、レーザスポットのずれな
どによるビーム間距離の変化の補正を簡単に行なうこと
ができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の装置の一実施例を備えた検知装置を一
部断面にて示す斜視図、第2図は本発明の装置を構成す
るマーカの一例を示す縦断面図、第3図はその平面図、
第4図は本発明の装置を構成する制御回路図、第5図は
本発明の装置の一実施例の動作を示す図、第6図は拡大
部視野にとらえられたマーカの像の一例を示す概念図、
第7図は本発明の装置による位置補正動作を説明するフ
ローチャート図である。 第 1 回 / 、、、i’2+ヤシ・X・ 7・・スキャナ 10・・ディテクタ /、5F3./3c・・マーカ不作、 第 2 図 第 5 の 第 5 凶 ζ 第 6 口 ゝ20

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、レーザ発振器と、レーザ光を試料面上に集光するた
    めの光学系と、試料を観察するための画像拡大手段と、
    試料を設置し、レーザ光の存在する位置と拡大手段との
    間を動くことのできる試料台とを有する装置において、
    試料台上に設けた複数個のマーカと、光学系からのレー
    ザ光により順次検出されるマーカの位置と試料台を拡大
    手段の下に移動したときに得られる拡大手段の中心との
    間の位置ずれ量を検出する演算手段とを備えたことを特
    徴とする位置補正装置。
JP20789086A 1986-09-05 1986-09-05 位置補正装置 Pending JPS6364257A (ja)

Priority Applications (1)

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JP20789086A JPS6364257A (ja) 1986-09-05 1986-09-05 位置補正装置

Applications Claiming Priority (1)

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JP20789086A JPS6364257A (ja) 1986-09-05 1986-09-05 位置補正装置

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JPS6364257A true JPS6364257A (ja) 1988-03-22

Family

ID=16547261

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JP20789086A Pending JPS6364257A (ja) 1986-09-05 1986-09-05 位置補正装置

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN116652419A (zh) * 2023-06-13 2023-08-29 大辽激光科技(宁波)有限公司 一种基于视觉图像的盲孔加工方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN116652419A (zh) * 2023-06-13 2023-08-29 大辽激光科技(宁波)有限公司 一种基于视觉图像的盲孔加工方法
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