JPS6362462B2 - - Google Patents
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- JPS6362462B2 JPS6362462B2 JP14834382A JP14834382A JPS6362462B2 JP S6362462 B2 JPS6362462 B2 JP S6362462B2 JP 14834382 A JP14834382 A JP 14834382A JP 14834382 A JP14834382 A JP 14834382A JP S6362462 B2 JPS6362462 B2 JP S6362462B2
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-
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- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Description
本発明は、金属酸化物を被覆したガラス、特
に、高性能の、即ち、良好な赤外線(IR)反射
能を有する断熱ガラスに関する。 金属酸化物を被覆したガラスを製造する場合、
高温において分解して酸化物を生成する、溶液、
蒸気または粉体の形の金属化合物を高温のガラス
に被覆する。 IR反射能の良い、換言すれば、放射率の低い
ガラスには、電導度およびIR反射能を同時に改
善するため、好ましくは電子供給体(例えば、ハ
ロゲン、特に、フツ素)を添加した半導体物質
(Sn、In、Cd等)の酸化物を被覆する。 フランス国特許公報第2380997号には、フツ化
水素酸を添加した担体ガス流れ中に懸濁させた有
機スズ化合物粉体をガラスに噴射させることが開
示されている。 このガラスのIR反射能は、フツ素を添加せず
に処理したガラスよりも良いが、ガラス中に存在
して酸化物層内に拡散するナトリウムによる上記
酸化物層の汚染を排除しあるいは少くとも減少
し、被覆処理せるガラスをより高温に保持すれ
ば、IR反射能を更に改善できることが判つた。 大きな導電性を必要としない製品(例えば、帯
電防止ガラス)では、540℃以上の温度で被覆処
理を行う。金属化合物を被覆する際のガラス温度
を限定すれば、ナトリウムによる汚染を減少でき
るが、低温で被覆した酸化物層は、品質が劣り、
即ち、良好な導電性またはIR反射能を有してい
ない。 ナトリウムの拡散を防止するため、フランス国
特許第1293545号には、金属化合物の被覆前に、
SiCl4溶液中に浸漬してSiO2障壁層を被覆するこ
とが提案されているが、NaCl結晶が、ガラスと
SiO2層との間に生成し、散乱の増加によつてガ
ラスの透視性を損う薄いガラスを形成する。 本発明の目的は、ソーダ・ライム・シリカガラ
スから出るナトリウムによる酸化物被覆層の汚染
の問題を解決し、良好なIR反射能を有する良品
質の被覆層を得るのに不可欠な高温処理を可能に
することにある。 本発明は、ゾーダ・ライム・シリカガラスを処
理し、即ち、表面のナトリウムイオンをより大き
く、従つて、拡散し難いアルカリイオン(特に、
カリウムイオン)で置換し、次いで、分解して酸
化物を生成し得る金属化合物を、かく処理し且つ
上記金属化合物の性質によつて決まる高温に、即
ち、かくして形成される酸化物層の最適なIR反
射能を得るために550℃以上の(好ましくは、600
℃以上の)温度に加熱したガラス表面に噴射する
ことを提案する。 被覆前の処理は、450〜470℃の溶融塩溶(例え
ば、硝酸カリウム)中にガラスを浸漬する場合
は、24〜48hrの範囲の限られた時間内で行う必要
がある。かくして、ガラス表面の25〜40μmの僅
かな厚さについてナトリウムがカリウムで置換さ
れ、長時間処理において誘起されるような過剰ア
ルカリ化の恐れはない。更に、ガラス表面では、
カリウム濃度が最大となり、ナトリウム濃度は最
小となる。 フロート法で製造した厚さ4mmのソーダ・ライ
ム・シリカガラスの2種の試料、即ち、前処理し
てない試料と、460℃の溶融硝酸カリウム浴中に、
それぞれ、24時間、48時間、72時間216時間浸漬
して前処理した試料とについて、IR反射能、単
位面積当り電気抵抗、被覆層中のNa含量および
K含量(重量%)の比較測定を行なつた。被覆層
は、フランス国特許第2427141号に記載の如きノ
ズルを用いて、ガラス上にガラスの引出し方向に
直角に二フツ化ジブチルスズ(DBFT)粉体を
噴射して形成した。 ガラスは、粉体を受容するため、650℃の炉内
で3分15秒加熱して、620〜630℃とした。二フツ
化ジブチルスズ粉体は、高温のガラスと接触し
て、分解して酸化物を生成した。次いで、ガラス
を室温に冷却した。 積分装置による9μm(通常の赤外線の代表波
長)周辺のIR反射能の測定結果を第1表に示し
た。
に、高性能の、即ち、良好な赤外線(IR)反射
能を有する断熱ガラスに関する。 金属酸化物を被覆したガラスを製造する場合、
高温において分解して酸化物を生成する、溶液、
蒸気または粉体の形の金属化合物を高温のガラス
に被覆する。 IR反射能の良い、換言すれば、放射率の低い
ガラスには、電導度およびIR反射能を同時に改
善するため、好ましくは電子供給体(例えば、ハ
ロゲン、特に、フツ素)を添加した半導体物質
(Sn、In、Cd等)の酸化物を被覆する。 フランス国特許公報第2380997号には、フツ化
水素酸を添加した担体ガス流れ中に懸濁させた有
機スズ化合物粉体をガラスに噴射させることが開
示されている。 このガラスのIR反射能は、フツ素を添加せず
に処理したガラスよりも良いが、ガラス中に存在
して酸化物層内に拡散するナトリウムによる上記
酸化物層の汚染を排除しあるいは少くとも減少
し、被覆処理せるガラスをより高温に保持すれ
ば、IR反射能を更に改善できることが判つた。 大きな導電性を必要としない製品(例えば、帯
電防止ガラス)では、540℃以上の温度で被覆処
理を行う。金属化合物を被覆する際のガラス温度
を限定すれば、ナトリウムによる汚染を減少でき
るが、低温で被覆した酸化物層は、品質が劣り、
即ち、良好な導電性またはIR反射能を有してい
ない。 ナトリウムの拡散を防止するため、フランス国
特許第1293545号には、金属化合物の被覆前に、
SiCl4溶液中に浸漬してSiO2障壁層を被覆するこ
とが提案されているが、NaCl結晶が、ガラスと
SiO2層との間に生成し、散乱の増加によつてガ
ラスの透視性を損う薄いガラスを形成する。 本発明の目的は、ソーダ・ライム・シリカガラ
スから出るナトリウムによる酸化物被覆層の汚染
の問題を解決し、良好なIR反射能を有する良品
質の被覆層を得るのに不可欠な高温処理を可能に
することにある。 本発明は、ゾーダ・ライム・シリカガラスを処
理し、即ち、表面のナトリウムイオンをより大き
く、従つて、拡散し難いアルカリイオン(特に、
カリウムイオン)で置換し、次いで、分解して酸
化物を生成し得る金属化合物を、かく処理し且つ
上記金属化合物の性質によつて決まる高温に、即
ち、かくして形成される酸化物層の最適なIR反
射能を得るために550℃以上の(好ましくは、600
℃以上の)温度に加熱したガラス表面に噴射する
ことを提案する。 被覆前の処理は、450〜470℃の溶融塩溶(例え
ば、硝酸カリウム)中にガラスを浸漬する場合
は、24〜48hrの範囲の限られた時間内で行う必要
がある。かくして、ガラス表面の25〜40μmの僅
かな厚さについてナトリウムがカリウムで置換さ
れ、長時間処理において誘起されるような過剰ア
ルカリ化の恐れはない。更に、ガラス表面では、
カリウム濃度が最大となり、ナトリウム濃度は最
小となる。 フロート法で製造した厚さ4mmのソーダ・ライ
ム・シリカガラスの2種の試料、即ち、前処理し
てない試料と、460℃の溶融硝酸カリウム浴中に、
それぞれ、24時間、48時間、72時間216時間浸漬
して前処理した試料とについて、IR反射能、単
位面積当り電気抵抗、被覆層中のNa含量および
K含量(重量%)の比較測定を行なつた。被覆層
は、フランス国特許第2427141号に記載の如きノ
ズルを用いて、ガラス上にガラスの引出し方向に
直角に二フツ化ジブチルスズ(DBFT)粉体を
噴射して形成した。 ガラスは、粉体を受容するため、650℃の炉内
で3分15秒加熱して、620〜630℃とした。二フツ
化ジブチルスズ粉体は、高温のガラスと接触し
て、分解して酸化物を生成した。次いで、ガラス
を室温に冷却した。 積分装置による9μm(通常の赤外線の代表波
長)周辺のIR反射能の測定結果を第1表に示し
た。
【表】
SnO2層を被覆する前に、試料を460℃の溶融硝
酸カリウム中に24〜48時間浸漬して前処理した場
合は、IR反射能は向上し、72時間、216時間浸漬
した場合は、結果は悪くなり、前処理してない試
料よりも悪いと云うことが判る。 更に、2400nmにおけるIR反射能の測定を行な
つた。結果を第2表に示した。
酸カリウム中に24〜48時間浸漬して前処理した場
合は、IR反射能は向上し、72時間、216時間浸漬
した場合は、結果は悪くなり、前処理してない試
料よりも悪いと云うことが判る。 更に、2400nmにおけるIR反射能の測定を行な
つた。結果を第2表に示した。
【表】
先行例と同様、24時間または48時間前処理した
試料のIR反射能は、前処理してない試料または
より長時間(72時間、216時間)処理した試料の
反射能よりも良い。 第3表に示した電気抵抗(Ω/cm2)の測定結果
も同様の結論を与える。 更に、酸化スズ層の被覆前に、各試料について
ガラス中のカリウム侵入深さを測定した。結果を
第4表に示した。
試料のIR反射能は、前処理してない試料または
より長時間(72時間、216時間)処理した試料の
反射能よりも良い。 第3表に示した電気抵抗(Ω/cm2)の測定結果
も同様の結論を与える。 更に、酸化スズ層の被覆前に、各試料について
ガラス中のカリウム侵入深さを測定した。結果を
第4表に示した。
【表】
【表】
次いで、既述の如く、これらの試料に厚さ320
+10nmのSnO2を被覆し、被覆層中のNa量およ
びK量(重量%)を測定した。結果を第5表に示
した。
+10nmのSnO2を被覆し、被覆層中のNa量およ
びK量(重量%)を測定した。結果を第5表に示
した。
【表】
この結果から、短時間(24時間)の前処理は
SnO2層中のアルカリ量(Na+K)を減少し、長
時間の前処理は上記の量を増加すると云うことが
判る。 第1〜3表から明らかな如く、24時間または48
時間の前処理は、常に、最終製品の特性を改善
し、IR反射能は、48時間処理の試料が僅かに良
い。一方、第5表の結果から云えば、24時間処理
試料以外には改善が認められない。第5表を補足
するため、第6表に、フツ素を添加した二フツ化
ジブチルスズ粉体を使用した試料について厚さ
320+10μmのSnO2層中のフツ素量(重量%)を
示した。
SnO2層中のアルカリ量(Na+K)を減少し、長
時間の前処理は上記の量を増加すると云うことが
判る。 第1〜3表から明らかな如く、24時間または48
時間の前処理は、常に、最終製品の特性を改善
し、IR反射能は、48時間処理の試料が僅かに良
い。一方、第5表の結果から云えば、24時間処理
試料以外には改善が認められない。第5表を補足
するため、第6表に、フツ素を添加した二フツ化
ジブチルスズ粉体を使用した試料について厚さ
320+10μmのSnO2層中のフツ素量(重量%)を
示した。
【表】
第6表から明らかな如く、層中のフツ素量は、
前処理した場合の方が多く、48時間処理の場合に
最大である。従つて、(F−Na−K)のバランス
に依存する導電性は、48時間処理の場合に最も良
い。 従つて、すべての場合に、24〜48時間の前処理
が好ましく、ハロゲンを添加した被覆層の場合
は、30〜40μmの置換厚を与える48時間処理が有
利である。一方、短時間処理、即ち、25〜30μm
の置換厚を与える24時間処理は、添加を行わない
場合に(例えば、DBTO(ジブチルスズオキサイ
ド)を噴射する場合)好ましい。 導電性またはIR反射能の増加は数%のオーダ
であるが、反射能同一の条件において、被覆層の
厚さを減少でき、従つて、透過率を向上できる。
透過率は、被覆層の厚さに依存して正弦的に減少
するので、被覆層の厚さが約160nmおよび40nm
である場合には特に、厚さを僅かに減少すれば、
透過率が大きく増加する。 更に、この処理によつて、所与のIR反射能に
ついて、従来は不可能であつた着色を行うことが
できる。 硝酸カリウム浴に浸漬して前処理を行い被覆を
施したガラスは、強化ガラスの性質を示すことは
ない。 上述の例では、約460℃の硝酸カリウム溶融浴
に浸漬して前処理を行なつたが、もちろん、別の
Kイオン処理法も採用できる。例えば、各種のカ
リウム塩水溶液をガラス上に噴射することができ
る。この場合、処理温度が高温(550℃)である
ので、Kイオンの拡散速度が大きくなる。しかし
ながら、すべての場合、カリウム処理は、実際
上、ガラス表面のカリウム濃度を最大にするよう
に、40μm以下の深さ(好ましくは、25〜40μm)
について行えばよい。この場合、無添加の金属化
合物を被覆する場合は小さい処理深さ(25〜30μ
m)が適切であり、ハロゲンを添加した金属化合
物を被覆する場合は大きい処理深さ(30〜40μ
m)が適切である。 この前処理は、赤外線反射ガラスの製造に特に
有利であるが、別のタイプの被覆ガラスの製造に
も有利である。
前処理した場合の方が多く、48時間処理の場合に
最大である。従つて、(F−Na−K)のバランス
に依存する導電性は、48時間処理の場合に最も良
い。 従つて、すべての場合に、24〜48時間の前処理
が好ましく、ハロゲンを添加した被覆層の場合
は、30〜40μmの置換厚を与える48時間処理が有
利である。一方、短時間処理、即ち、25〜30μm
の置換厚を与える24時間処理は、添加を行わない
場合に(例えば、DBTO(ジブチルスズオキサイ
ド)を噴射する場合)好ましい。 導電性またはIR反射能の増加は数%のオーダ
であるが、反射能同一の条件において、被覆層の
厚さを減少でき、従つて、透過率を向上できる。
透過率は、被覆層の厚さに依存して正弦的に減少
するので、被覆層の厚さが約160nmおよび40nm
である場合には特に、厚さを僅かに減少すれば、
透過率が大きく増加する。 更に、この処理によつて、所与のIR反射能に
ついて、従来は不可能であつた着色を行うことが
できる。 硝酸カリウム浴に浸漬して前処理を行い被覆を
施したガラスは、強化ガラスの性質を示すことは
ない。 上述の例では、約460℃の硝酸カリウム溶融浴
に浸漬して前処理を行なつたが、もちろん、別の
Kイオン処理法も採用できる。例えば、各種のカ
リウム塩水溶液をガラス上に噴射することができ
る。この場合、処理温度が高温(550℃)である
ので、Kイオンの拡散速度が大きくなる。しかし
ながら、すべての場合、カリウム処理は、実際
上、ガラス表面のカリウム濃度を最大にするよう
に、40μm以下の深さ(好ましくは、25〜40μm)
について行えばよい。この場合、無添加の金属化
合物を被覆する場合は小さい処理深さ(25〜30μ
m)が適切であり、ハロゲンを添加した金属化合
物を被覆する場合は大きい処理深さ(30〜40μ
m)が適切である。 この前処理は、赤外線反射ガラスの製造に特に
有利であるが、別のタイプの被覆ガラスの製造に
も有利である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 高温のガラス上における金属化合物の分解に
よつて生成した金属酸化物層を被覆したガラスの
製造法において、ガラス表面のナトリウムをカリ
ウムで置換し、次いで、ガラスを550℃以上の温
度に再加熱した後、金属化合物を被覆することを
特徴とする方法。 2 ガラス表面の厚さ25〜40μmにわたつてナト
リウムをカリウムに置換することを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載の方法。 3 約460℃の温度の硝酸カリウム浴に24〜48時
間ガラスを浸漬することによつて、ナトリウムを
カリウムで置換することを特徴とする特許請求の
範囲第2項記載の方法。 4 550℃以上の温度においてカリウム塩水溶液
をガラス上に吹き付けることを特徴とする特許請
求の範囲第2項記載の方法。 5 ガラス上に噴射する金属化合物が、ジブチル
スズオキサイドであり、カリウム前処理は、ガラ
スの約25〜30μmの厚さについて行うことを特徴
とする特許請求の範囲第1乃至4項の1つに記載
の方法。 6 ガラス上に噴射する金属化合物が、二フツ化
ジブチルスズであり、カリウム前処理は、ガラス
の約30〜40μmの厚さについて行うことを特徴と
する特許請求の範囲第1乃至4項記載の1つに記
載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR8116850 | 1981-09-04 | ||
FR8116850A FR2512436B1 (fr) | 1981-09-04 | 1981-09-04 | Fabrication de vitrages reflechissant le rayonnement infra-rouge |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5841741A JPS5841741A (ja) | 1983-03-11 |
JPS6362462B2 true JPS6362462B2 (ja) | 1988-12-02 |
Family
ID=9261906
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14834382A Granted JPS5841741A (ja) | 1981-09-04 | 1982-08-26 | 赤外線反射ガラスの製造法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0074313B1 (ja) |
JP (1) | JPS5841741A (ja) |
BR (1) | BR8205149A (ja) |
DE (1) | DE3267308D1 (ja) |
ES (1) | ES515475A0 (ja) |
FR (1) | FR2512436B1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60129294A (ja) * | 1983-12-16 | 1985-07-10 | Hoya Corp | 光記録媒体用基板と光記録媒体 |
US5279851A (en) * | 1991-04-03 | 1994-01-18 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Method of manufacturing a conductive glass with high strength and wear resistance |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
LU56869A1 (ja) * | 1968-09-12 | 1970-03-13 | ||
US3875763A (en) * | 1973-03-12 | 1975-04-08 | Brockway Glass Co Inc | Method of strengthening glass containers |
FR2380997A1 (fr) * | 1977-02-16 | 1978-09-15 | Saint Gobain | Procede de fabrication de vitrages protegeant de la chaleur |
FR2391966A1 (fr) * | 1977-05-23 | 1978-12-22 | Saint Gobain | Article verrier antistatique trempe chimiquement |
-
1981
- 1981-09-04 FR FR8116850A patent/FR2512436B1/fr not_active Expired
-
1982
- 1982-08-26 JP JP14834382A patent/JPS5841741A/ja active Granted
- 1982-08-30 EP EP19820401599 patent/EP0074313B1/fr not_active Expired
- 1982-08-30 DE DE8282401599T patent/DE3267308D1/de not_active Expired
- 1982-09-02 BR BR8205149A patent/BR8205149A/pt unknown
- 1982-09-03 ES ES515475A patent/ES515475A0/es active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5841741A (ja) | 1983-03-11 |
EP0074313A1 (fr) | 1983-03-16 |
BR8205149A (pt) | 1983-08-09 |
ES8306357A1 (es) | 1983-06-01 |
DE3267308D1 (en) | 1985-12-12 |
ES515475A0 (es) | 1983-06-01 |
EP0074313B1 (fr) | 1985-11-06 |
FR2512436A1 (fr) | 1983-03-11 |
FR2512436B1 (fr) | 1986-04-04 |
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