JPS635895B2 - - Google Patents
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- JPS635895B2 JPS635895B2 JP5689879A JP5689879A JPS635895B2 JP S635895 B2 JPS635895 B2 JP S635895B2 JP 5689879 A JP5689879 A JP 5689879A JP 5689879 A JP5689879 A JP 5689879A JP S635895 B2 JPS635895 B2 JP S635895B2
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- JP
- Japan
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- pattern
- signal
- photomask
- patterns
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- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 36
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims description 31
- 238000003672 processing method Methods 0.000 claims description 7
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 claims description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 2
- 230000001960 triggered effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
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- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
- G03F1/82—Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
- G03F1/84—Inspecting
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は集積回路パターンが形成されたフオト
マスクの欠陥検査方法に関し、特に１つの原版パ
ターンを繰り返し焼きつけて複数の集積回路パタ
ーンを一枚の基板上に形成したフオトマスクにお
いて、２つの検査レンズ系によつて２つのパター
ンずつ比較検査することによりパターン欠陥の有
無を検査する場合に上記両検査レンズ系より得ら
れる光電信号からパターン欠陥の有無を判断する
信号処理方法に関するものである。
マスクの欠陥検査方法に関し、特に１つの原版パ
ターンを繰り返し焼きつけて複数の集積回路パタ
ーンを一枚の基板上に形成したフオトマスクにお
いて、２つの検査レンズ系によつて２つのパター
ンずつ比較検査することによりパターン欠陥の有
無を検査する場合に上記両検査レンズ系より得ら
れる光電信号からパターン欠陥の有無を判断する
信号処理方法に関するものである。
一般にフオトマスクの製造に当つては記憶手段
内に記憶格納した集積回路パターン情報に従つて
フオトマスク原版を作製し、この１つの原版を用
いて大寸法の基板上に複数の集積回路パターンを
焼きつけ、複数の等価フオトマスクを製造する方
法が採られる。そしてこのように製造されたフオ
トマスクの検査に当つては２つの検査レンズ系を
具備したパターン自動欠陥検査装置が用いられ、
その検査方式は上記両検査レンズ系の各々を各１
のパターンに焦点合わせし、これらパターンを通
過した光電信号を比較することにより比較結果が
完全に一致したときは無欠陥パターンであると判
断し、順次２つずつのパターンを両検査レンズ系
の走査移動に従つて検査するようにしている。然
しながら従来のパターン欠陥検査方法によると、
パターン自体に何等の欠陥が存在しないにもかか
わらず基板上における２つのパターンの配置ずれ
から２つのパターンの光電信号を比較したときに
あたかも欠陥が存在するが如き信号を生ずる事態
が発生する。即ち、現実のパターン欠陥と単なる
パターンの基板上における配置ずれとの間の差違
が検出できない不都合がある。
内に記憶格納した集積回路パターン情報に従つて
フオトマスク原版を作製し、この１つの原版を用
いて大寸法の基板上に複数の集積回路パターンを
焼きつけ、複数の等価フオトマスクを製造する方
法が採られる。そしてこのように製造されたフオ
トマスクの検査に当つては２つの検査レンズ系を
具備したパターン自動欠陥検査装置が用いられ、
その検査方式は上記両検査レンズ系の各々を各１
のパターンに焦点合わせし、これらパターンを通
過した光電信号を比較することにより比較結果が
完全に一致したときは無欠陥パターンであると判
断し、順次２つずつのパターンを両検査レンズ系
の走査移動に従つて検査するようにしている。然
しながら従来のパターン欠陥検査方法によると、
パターン自体に何等の欠陥が存在しないにもかか
わらず基板上における２つのパターンの配置ずれ
から２つのパターンの光電信号を比較したときに
あたかも欠陥が存在するが如き信号を生ずる事態
が発生する。即ち、現実のパターン欠陥と単なる
パターンの基板上における配置ずれとの間の差違
が検出できない不都合がある。
依つて本発明の目的は上述のような不都合を排
し、フオトマスク上に発生している現実のパター
ン欠陥の有無を検査できるようにしたフオトマス
クの欠陥検査における信号処理方法を提供するも
のである。本発明によれば、複数のパターンが繰
り返し形成されたフオトマスクのパターン形成面
に沿つて２つのパターン検査レンズ系を一体的に
走査移動させ、該両パターン検査レンズ系の各々
から得られる２つのパターンのパターン光電信号
を比較することにより上記複数パターンにおける
欠陥の有無を走査移動に従つて順次検査するフオ
トマスクパターン検査において、上記２つのパタ
ーン検査レンズ系から得られる２つのパターン光
電信号の差をとり、それぞれのパターン光電信号
の立ち上がり時点の差に基づく差信号の信号幅と
立ち下がり時点の差に基づく差信号の信号幅とを
比較し、それぞれの信号幅が等しいときには前記
２つのパターン検査レンズ系により走査された２
つのパターンは無欠陥として判断処理するように
したことを特徴とするフオトマスクの欠陥検査に
おける信号処理方法が提供されるのである。
し、フオトマスク上に発生している現実のパター
ン欠陥の有無を検査できるようにしたフオトマス
クの欠陥検査における信号処理方法を提供するも
のである。本発明によれば、複数のパターンが繰
り返し形成されたフオトマスクのパターン形成面
に沿つて２つのパターン検査レンズ系を一体的に
走査移動させ、該両パターン検査レンズ系の各々
から得られる２つのパターンのパターン光電信号
を比較することにより上記複数パターンにおける
欠陥の有無を走査移動に従つて順次検査するフオ
トマスクパターン検査において、上記２つのパタ
ーン検査レンズ系から得られる２つのパターン光
電信号の差をとり、それぞれのパターン光電信号
の立ち上がり時点の差に基づく差信号の信号幅と
立ち下がり時点の差に基づく差信号の信号幅とを
比較し、それぞれの信号幅が等しいときには前記
２つのパターン検査レンズ系により走査された２
つのパターンは無欠陥として判断処理するように
したことを特徴とするフオトマスクの欠陥検査に
おける信号処理方法が提供されるのである。
以下、本発明を添付図面に基き、詳細に説明す
る。
る。
第１図はフオトマスクの自動欠陥検査装置にお
ける検査部の一般的構成例を示す概略図である。
同第１図において、被検査対象であるフオトマス
ク１０は装置の保持台１２に載置されている。こ
のフオトマスク１０には検査光が照査光源１４よ
り照査され、２つの対物レンズ系１６，１８を介
してフオトマスク１０を透過した検査光が光電変
換器２０，２２に達するように形成されている。
２つの対物レンズ系１６，１８はそれぞれフオト
マスク１０上の各１のパターンに焦点合わせされ
ており、両対物レンズ系１６，１８が一体となつ
てフオトマスク１０の面に沿つて走査移動するこ
とにより、該フオトマスク１０上に形成されたパ
ターンの欠陥の有無を比較検査するものである。
なお、２４は両対物レンズ系１６，１８がフオト
マスク１０に沿つて一体的に走査移動する間にパ
ターンに自動的に焦点合わせを行う周知の自動焦
点機構であり、焦点ずれが発生するとモータＭを
介して両対物レンズ系１６，１８を駆動して自動
的に焦点を合わせるのである。そして上述した２
つの光電変換器２０，２２の出力２０ａ，２２ａ
を比較処理することによつてパターン欠陥の有無
を検査する。第２図はフオトマスク１０の平面略
示図であり、通常はガラス材料からなる基板上に
複数の同一パターン１０ａが形成されている。自
動検査装置ではパターン１０ａが形成された各チ
ツプについてパターン欠陥検査を行い、欠陥パタ
ーン１０ｂの有無を検査するのである。従来の自
動欠陥検査方法における信号処理においては、例
えば第２図の左上方隅の２つのパターン10aにつ
いて２つの対物レンズ系１６，１８を焦点合わせ
し、走査移動に従つて第２図の右下方隅の２つの
パターン１０ａの欠陥検査をおこなうときに、後
者のパターン１０ａには全く欠陥が存在しないに
もかかわらず基板に対するパターン配置において
前者のパターン１０ａと異つていることから光電
出力信号２０ａ，２２ａを処理したとき、あたか
もパターン欠陥が存在する検査結果が発生するの
である。本発明はかかる不都合を解消せんとする
ものである。
ける検査部の一般的構成例を示す概略図である。
同第１図において、被検査対象であるフオトマス
ク１０は装置の保持台１２に載置されている。こ
のフオトマスク１０には検査光が照査光源１４よ
り照査され、２つの対物レンズ系１６，１８を介
してフオトマスク１０を透過した検査光が光電変
換器２０，２２に達するように形成されている。
２つの対物レンズ系１６，１８はそれぞれフオト
マスク１０上の各１のパターンに焦点合わせされ
ており、両対物レンズ系１６，１８が一体となつ
てフオトマスク１０の面に沿つて走査移動するこ
とにより、該フオトマスク１０上に形成されたパ
ターンの欠陥の有無を比較検査するものである。
なお、２４は両対物レンズ系１６，１８がフオト
マスク１０に沿つて一体的に走査移動する間にパ
ターンに自動的に焦点合わせを行う周知の自動焦
点機構であり、焦点ずれが発生するとモータＭを
介して両対物レンズ系１６，１８を駆動して自動
的に焦点を合わせるのである。そして上述した２
つの光電変換器２０，２２の出力２０ａ，２２ａ
を比較処理することによつてパターン欠陥の有無
を検査する。第２図はフオトマスク１０の平面略
示図であり、通常はガラス材料からなる基板上に
複数の同一パターン１０ａが形成されている。自
動検査装置ではパターン１０ａが形成された各チ
ツプについてパターン欠陥検査を行い、欠陥パタ
ーン１０ｂの有無を検査するのである。従来の自
動欠陥検査方法における信号処理においては、例
えば第２図の左上方隅の２つのパターン10aにつ
いて２つの対物レンズ系１６，１８を焦点合わせ
し、走査移動に従つて第２図の右下方隅の２つの
パターン１０ａの欠陥検査をおこなうときに、後
者のパターン１０ａには全く欠陥が存在しないに
もかかわらず基板に対するパターン配置において
前者のパターン１０ａと異つていることから光電
出力信号２０ａ，２２ａを処理したとき、あたか
もパターン欠陥が存在する検査結果が発生するの
である。本発明はかかる不都合を解消せんとする
ものである。
さて、第３図は本発明による信号処理方法を実
施するシステムの１実施例を示すブロツク図であ
り、第４図は同システムにおける各部の出力信号
波形を示したグラフ図である。第３図において、
光電変換器２０，２２は上述した第１図の光電変
換器２０，２２と同一の要素であり、従つてパタ
ーンの欠陥検査中には光電変換されたパターンの
電気出力信号２０ａ，２２ａが発生する。いま、
フオトマスク１０上の検査中の２つのパターン１
０ａに配置ずれが生じていると第４図の１，２に
示す出力波形が生ずる。これら両電気出力信号２
０ａ，２２ａは例えば差動増幅器からなる信号差
検出器２６に入力され、両電気出力信号２０ａ，
２２ａの差が検出される。この信号差検出器２６
の出力波形は第４図の３で示される。信号差検出
器２６の出力信号は一方では単安定マルチバイブ
レータ回路２８ａ，２８ｂに入力され、他方では
反転回路３０を介して同じく単安定マルチバイブ
レータ回路３２ａ，３２ｂに入力される。このと
き単安定マルチバイブレータ回路２８ａと３２ａ
とはそれぞれ入力信号の立ち上りパルスによりト
リガーされてパルス信号を発生し、一方単安定マ
ルチバイブレータ回路２８ｂと３２ｂとはそれぞ
れ入力信号の立下りパルスによつてトリガーされ
てパルス信号を発生する。この結果として、単安
定マルチバイブレータ回路２８ａ，２８ｂの出力
端子の結合点における出力状態は第４図に４で示
す出力波形を有する２つのパルス信号を形成し、
また単安定マルチバイブレータ回路３２ａ，３２
ｂの出力端子の結合点における出力状態は第４図
に６で出力波形を有する２つのパルス信号を形成
する。なお、第４図に５で示す出力波形は反転回
路３０の出力波形を示したものである。さて、こ
れらの２組の２パルス信号はそれぞれフリツプフ
ロツプ回路３４，３６に入力される。このとき両
フリツプフロツプ回路３４，３６からはパターン
１０ａの配置ずれに対応した時間ずれを有する２
つの矩形波信号が発生する。第４図の８，９の両
波形はこれら２つの矩形波信号を示したものであ
る。なお、このとき別に設けた基準パルス発振器
３８からは高周波のパルス信号を発生させてお
く。そして上述したフリツプフロツプ回路３４の
矩形波信号と基準パルス発振器３８のパルス信号
とをアンド回路４０に入力し、一方上述したフリ
ツプフロツプ回路３６の矩形波信号と基準パルス
発振器３８のパルス信号とをアンド回路４２に入
力する。この結果、両アンド回路４０，４２から
はアンド論理に従つて第４図の１０，１１で示さ
れるパルス信号が発生する。よつてこれらのパル
ス信号のパルス数をカウンター回路４４，４６に
おいて計数する。その後両カウンター回路４４，
４６の計数結果を遅延回路が内蔵されたデイジタ
ルコンパレータ４８に入力する。このときデイジ
タルコンパレータ４８においては内蔵した遅延回
路において、時間ずれを有するカウンター回路の
計数結果を同期化し、次いで両計数結果の比較を
行うようにする。このようにして比較を行つた結
果として、両計数結果が完全に一致したときには
そもそも光電変換器２０，２２のそれぞれの出力
２０ａ，２２ａに生じていたずれは単に被検査対
象たる２つのパターンにおいて基板チツプ上で配
置ずれがあつたものに過ぎないものとして無欠陥
の判断処理を示す出力信号をデイジタルコンパレ
ータ４８から出力するものである。
施するシステムの１実施例を示すブロツク図であ
り、第４図は同システムにおける各部の出力信号
波形を示したグラフ図である。第３図において、
光電変換器２０，２２は上述した第１図の光電変
換器２０，２２と同一の要素であり、従つてパタ
ーンの欠陥検査中には光電変換されたパターンの
電気出力信号２０ａ，２２ａが発生する。いま、
フオトマスク１０上の検査中の２つのパターン１
０ａに配置ずれが生じていると第４図の１，２に
示す出力波形が生ずる。これら両電気出力信号２
０ａ，２２ａは例えば差動増幅器からなる信号差
検出器２６に入力され、両電気出力信号２０ａ，
２２ａの差が検出される。この信号差検出器２６
の出力波形は第４図の３で示される。信号差検出
器２６の出力信号は一方では単安定マルチバイブ
レータ回路２８ａ，２８ｂに入力され、他方では
反転回路３０を介して同じく単安定マルチバイブ
レータ回路３２ａ，３２ｂに入力される。このと
き単安定マルチバイブレータ回路２８ａと３２ａ
とはそれぞれ入力信号の立ち上りパルスによりト
リガーされてパルス信号を発生し、一方単安定マ
ルチバイブレータ回路２８ｂと３２ｂとはそれぞ
れ入力信号の立下りパルスによつてトリガーされ
てパルス信号を発生する。この結果として、単安
定マルチバイブレータ回路２８ａ，２８ｂの出力
端子の結合点における出力状態は第４図に４で示
す出力波形を有する２つのパルス信号を形成し、
また単安定マルチバイブレータ回路３２ａ，３２
ｂの出力端子の結合点における出力状態は第４図
に６で出力波形を有する２つのパルス信号を形成
する。なお、第４図に５で示す出力波形は反転回
路３０の出力波形を示したものである。さて、こ
れらの２組の２パルス信号はそれぞれフリツプフ
ロツプ回路３４，３６に入力される。このとき両
フリツプフロツプ回路３４，３６からはパターン
１０ａの配置ずれに対応した時間ずれを有する２
つの矩形波信号が発生する。第４図の８，９の両
波形はこれら２つの矩形波信号を示したものであ
る。なお、このとき別に設けた基準パルス発振器
３８からは高周波のパルス信号を発生させてお
く。そして上述したフリツプフロツプ回路３４の
矩形波信号と基準パルス発振器３８のパルス信号
とをアンド回路４０に入力し、一方上述したフリ
ツプフロツプ回路３６の矩形波信号と基準パルス
発振器３８のパルス信号とをアンド回路４２に入
力する。この結果、両アンド回路４０，４２から
はアンド論理に従つて第４図の１０，１１で示さ
れるパルス信号が発生する。よつてこれらのパル
ス信号のパルス数をカウンター回路４４，４６に
おいて計数する。その後両カウンター回路４４，
４６の計数結果を遅延回路が内蔵されたデイジタ
ルコンパレータ４８に入力する。このときデイジ
タルコンパレータ４８においては内蔵した遅延回
路において、時間ずれを有するカウンター回路の
計数結果を同期化し、次いで両計数結果の比較を
行うようにする。このようにして比較を行つた結
果として、両計数結果が完全に一致したときには
そもそも光電変換器２０，２２のそれぞれの出力
２０ａ，２２ａに生じていたずれは単に被検査対
象たる２つのパターンにおいて基板チツプ上で配
置ずれがあつたものに過ぎないものとして無欠陥
の判断処理を示す出力信号をデイジタルコンパレ
ータ４８から出力するものである。
他方、無欠陥のパターン１０ａと欠陥１０ｂを
有したパターン１０ａとが比較される場合には両
対物レンズ系１６，１８（第１図参照）で走査し
た際に光電変換器２０，２２から発生する出力波
形は当然に第４図の１で示すような単に時間ずれ
を有した波形にとどまらず、例えば欠陥パターン
１０ｂを走査した対物レンズ系１８の光電変換器
２２のみからその欠陥パターンに対応した出力が
生ずる。故にこのような出力は第３図に示す信号
処理システムを経過したとき必然的にデイジタル
コンパレータ４８ではパルス数の不一致が検出さ
れる。従つてこのようなときには欠陥パターン１
０ｂがフオトマスク１０の被検査チツプに発生し
ていることが検出されるのである。この場合に比
較されたフオトマスク１０のどの検査対象チツプ
に欠陥パターン１０ｂがあるかの判断は次々２つ
ずつのパターンについて繰り返される比較結果を
マイクロプロセツサのような適当な処理手段で更
に比較検討すれば容易に判断を行うことができ
る。
有したパターン１０ａとが比較される場合には両
対物レンズ系１６，１８（第１図参照）で走査し
た際に光電変換器２０，２２から発生する出力波
形は当然に第４図の１で示すような単に時間ずれ
を有した波形にとどまらず、例えば欠陥パターン
１０ｂを走査した対物レンズ系１８の光電変換器
２２のみからその欠陥パターンに対応した出力が
生ずる。故にこのような出力は第３図に示す信号
処理システムを経過したとき必然的にデイジタル
コンパレータ４８ではパルス数の不一致が検出さ
れる。従つてこのようなときには欠陥パターン１
０ｂがフオトマスク１０の被検査チツプに発生し
ていることが検出されるのである。この場合に比
較されたフオトマスク１０のどの検査対象チツプ
に欠陥パターン１０ｂがあるかの判断は次々２つ
ずつのパターンについて繰り返される比較結果を
マイクロプロセツサのような適当な処理手段で更
に比較検討すれば容易に判断を行うことができ
る。
以上、本発明を１実施例に基き説明したが、本
発明の信号処理方法を用いれば、従来欠陥パター
ンの無存在にも拘らず、欠陥パターンが有るが如
く判断処理され、従つて製造されたフオトマスク
の合格歩留りが低下しがちであつた不都合を解消
し、合格製品にも拘らず不合格として破棄されて
いたフオトマスクの無駄を救済できる効果を有す
るのである。
発明の信号処理方法を用いれば、従来欠陥パター
ンの無存在にも拘らず、欠陥パターンが有るが如
く判断処理され、従つて製造されたフオトマスク
の合格歩留りが低下しがちであつた不都合を解消
し、合格製品にも拘らず不合格として破棄されて
いたフオトマスクの無駄を救済できる効果を有す
るのである。
第１図はフオトマスクの自動欠陥検査装置にお
ける検査部の一般的構成を示す略示機構図、第２
図は被検査対象であるフオトマスクの平面略示
図、第３図は本発明に係るフオトマスクの欠陥検
査における信号処理方法を実施する実施例のブロ
ツク図、第４図は第３図のシステムの各部におけ
る出力波形を示すグラフ図、である。 尚、図中、１０…フオトマスク、１０ａ…パタ
ーン、１０ｂ…欠陥パターン、１６，１８…対物
レンズ系、２０，２２…光電変換器、２６…信号
差検出器、２８ａ，２８ｂ，３２ａ，３２ｂ…単
安定マルチバイブレータ回路、３０…反転回路、
３４，３６…フリツプフロツプ回路、３８…基準
パルス発振器、４０，４２…アンド回路、４４，
４６…カウンタ、４８…デイジタルコンパレー
タ。
ける検査部の一般的構成を示す略示機構図、第２
図は被検査対象であるフオトマスクの平面略示
図、第３図は本発明に係るフオトマスクの欠陥検
査における信号処理方法を実施する実施例のブロ
ツク図、第４図は第３図のシステムの各部におけ
る出力波形を示すグラフ図、である。 尚、図中、１０…フオトマスク、１０ａ…パタ
ーン、１０ｂ…欠陥パターン、１６，１８…対物
レンズ系、２０，２２…光電変換器、２６…信号
差検出器、２８ａ，２８ｂ，３２ａ，３２ｂ…単
安定マルチバイブレータ回路、３０…反転回路、
３４，３６…フリツプフロツプ回路、３８…基準
パルス発振器、４０，４２…アンド回路、４４，
４６…カウンタ、４８…デイジタルコンパレー
タ。
Claims (1)
- １ 複数のパターンが繰り返し形成されたフオト
マスクのパターン形成面に沿つて２つのパターン
検査レンズ系を一体的に走査移動させ、該両パタ
ーン検査レンズ系の各々から得られる２つのパタ
ーンのパターン光電信号を比較することにより上
記複数パターンにおける欠陥の有無を走査移動に
従つて順次検査するフオトマスクのパターン欠陥
検査において、上記２つのパターン検査レンズ系
から得られる２つのパターン光電信号の差をと
り、それぞれのパターン光電信号の立ち上がり時
点の差に基づく差信号の信号幅と立ち下がり時点
の差に基づく差信号の信号幅とを比較し、それぞ
れの信号幅が等しいときには前記２つのパターン
検査レンズ系により走査された２つのパターンは
無欠陥として判断処理するようにしたことを特徴
とするフオトマスクパターン検査における信号処
理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5689879A JPS55150222A (en) | 1979-05-11 | 1979-05-11 | Method of processing signal for photomask pattern inspection |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5689879A JPS55150222A (en) | 1979-05-11 | 1979-05-11 | Method of processing signal for photomask pattern inspection |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55150222A JPS55150222A (en) | 1980-11-22 |
| JPS635895B2 true JPS635895B2 (ja) | 1988-02-05 |
Family
ID=13040258
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5689879A Granted JPS55150222A (en) | 1979-05-11 | 1979-05-11 | Method of processing signal for photomask pattern inspection |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS55150222A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53117978A (en) * | 1977-03-25 | 1978-10-14 | Hitachi Ltd | Automatic mask appearance inspection apparatus |
-
1979
- 1979-05-11 JP JP5689879A patent/JPS55150222A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53117978A (en) * | 1977-03-25 | 1978-10-14 | Hitachi Ltd | Automatic mask appearance inspection apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS55150222A (en) | 1980-11-22 |
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