JPS6357763A - タ−ゲツト及びその製造方法 - Google Patents
タ−ゲツト及びその製造方法Info
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- JPS6357763A JPS6357763A JP20077286A JP20077286A JPS6357763A JP S6357763 A JPS6357763 A JP S6357763A JP 20077286 A JP20077286 A JP 20077286A JP 20077286 A JP20077286 A JP 20077286A JP S6357763 A JPS6357763 A JP S6357763A
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Links
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
- C23C14/3414—Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野コ
本発明は真空蒸着やスパッタリング等に使用されるター
ゲット材とその製造方法に関するものである。
ゲット材とその製造方法に関するものである。
［従来の技術］
近年、磁気記録媒体の製造にスパッタリング法が広く用
いられている。また、各種薄膜の形成法として真空蒸着
法が多用されている。このようなスパッタリングや真空
蒸着を行うにはターゲットが用いられるのであるが、タ
ーゲット例えば合金ターゲットを製造するには、従来は
溶融鋳造された合金のインゴットを切断、研削等により
所定寸法に仕上げてターゲットとする方法や、溶解して
得た合金インゴットを粉砕し、この合金粉末をホットプ
レスにより成形する方法等が用いられている。
いられている。また、各種薄膜の形成法として真空蒸着
法が多用されている。このようなスパッタリングや真空
蒸着を行うにはターゲットが用いられるのであるが、タ
ーゲット例えば合金ターゲットを製造するには、従来は
溶融鋳造された合金のインゴットを切断、研削等により
所定寸法に仕上げてターゲットとする方法や、溶解して
得た合金インゴットを粉砕し、この合金粉末をホットプ
レスにより成形する方法等が用いられている。
しかして、このようにして製造されたターゲット材は、
従来、バッキングプレートと称される銅等からなる裏打
板上に装着されて使用に供されている。この装着を行う
には、ろう付けを採用するのが一般的であった。
従来、バッキングプレートと称される銅等からなる裏打
板上に装着されて使用に供されている。この装着を行う
には、ろう付けを採用するのが一般的であった。
［発明が解決しようとする問題点］
上記従来の如（、ターゲット材をパッキングプレートに
ろう付けした場合、このターゲットの使用中にターゲッ
ト材にクラックが入ると、ろう材が割れ目から染み出し
、形成される薄膜中に不純物として混入する恐れがある
。
ろう付けした場合、このターゲットの使用中にターゲッ
ト材にクラックが入ると、ろう材が割れ目から染み出し
、形成される薄膜中に不純物として混入する恐れがある
。
Ｃ問題点を解決するための手段コ
本発明は、ターゲット材をバッキングプレートに焼き付
けるようにしたものである。また本発明は、このような
ターゲットを製造する方法として、バッキングプレート
の上面の凹面にターゲット材の溶湯を流し込み、次いで
凝固させることによりバッキングプレート上に焼き付け
られたターゲット材を形成するようにしたものである。
けるようにしたものである。また本発明は、このような
ターゲットを製造する方法として、バッキングプレート
の上面の凹面にターゲット材の溶湯を流し込み、次いで
凝固させることによりバッキングプレート上に焼き付け
られたターゲット材を形成するようにしたものである。
［作用コ
本発明に従りて提供されるターゲットは、ターゲット材
とバッキングプレートがろう材を用いることなく直に焼
き付けられているものであるので、ターゲット材にクラ
ンクが入っても、ろう材か染み出してきて薄膜を汚染す
る恐れが全くない。
とバッキングプレートがろう材を用いることなく直に焼
き付けられているものであるので、ターゲット材にクラ
ンクが入っても、ろう材か染み出してきて薄膜を汚染す
る恐れが全くない。
［実施例コ
以下図面を参照して実施例について説明する。
第１図及び第２図は本発明の一実施例に係るターゲット
の製造方法を説明する断面図である。
の製造方法を説明する断面図である。
符号１は銅等からなるバッキングプレートであり、その
上面には枠部１ａが周設され、ターゲット装着用の凹面
Ａが形成されている。この凹面Ａにターゲット材の溶湯
例えば合金溶湯２を流し込み、凝固させる。そうすると
、この凝固に際し第２図に示す如く、バッキングプレー
ト１にターゲット材３が焼き付き、本発明のターゲット
材が得られる。なお、その後枠部１ａの上面を研削する
と共に、ターゲット材３の表面を研摩することにより平
坦な表面を有するターゲットが得られる。
上面には枠部１ａが周設され、ターゲット装着用の凹面
Ａが形成されている。この凹面Ａにターゲット材の溶湯
例えば合金溶湯２を流し込み、凝固させる。そうすると
、この凝固に際し第２図に示す如く、バッキングプレー
ト１にターゲット材３が焼き付き、本発明のターゲット
材が得られる。なお、その後枠部１ａの上面を研削する
と共に、ターゲット材３の表面を研摩することにより平
坦な表面を有するターゲットが得られる。
第３図は本発明の異なる実施例に係る製造方法を説明す
るものであり、銅等からなるバッキングプレート１の上
面に、枠材４をろう付は等により固着せしめておくこと
により凹面Ａを形成する。
るものであり、銅等からなるバッキングプレート１の上
面に、枠材４をろう付は等により固着せしめておくこと
により凹面Ａを形成する。
次いで、この凹面Ａにターゲット材の溶湯を流し込み、
凝固させることによりバッキングプレート１上にターゲ
ット材が焼き付いたターゲットが得られる。
凝固させることによりバッキングプレート１上にターゲ
ット材が焼き付いたターゲットが得られる。
なおこの第３図の実施例においては、枠材４としてター
ゲット材と同材質又は同系統材質のものを用いるのが好
ましい。即ち、ターゲット材と同質又は同系統材質の枠
材を用いた場合には、スパッタリングや真空蒸着の作業
工程中に枠材４から薄膜構成元素と同種の元素が発生す
るようになるので、極めて高純度の薄膜を形成すること
が可能となる。なお、同系統材質の枠材とは、ターゲッ
ト材と主要構成元素が共通する材質のものをいう。
ゲット材と同材質又は同系統材質のものを用いるのが好
ましい。即ち、ターゲット材と同質又は同系統材質の枠
材を用いた場合には、スパッタリングや真空蒸着の作業
工程中に枠材４から薄膜構成元素と同種の元素が発生す
るようになるので、極めて高純度の薄膜を形成すること
が可能となる。なお、同系統材質の枠材とは、ターゲッ
ト材と主要構成元素が共通する材質のものをいう。
この同系統材質の枠材としては、同系統材質であって、
かつ靭性の高い材質のものを用いるのが好適である。こ
のようにすれば、製造工程や使用工程中において枠材に
割れやひびが入ることがない。
かつ靭性の高い材質のものを用いるのが好適である。こ
のようにすれば、製造工程や使用工程中において枠材に
割れやひびが入ることがない。
本発明においては、上記の如き製造工程において、合金
等の溶湯２を急冷することにより、得られるターゲット
材３の金属組織を微細化することができる。また、合金
等の溶湯２を凹面Ａに流し込むに際し、バッキングプレ
ート１を予熱しておけば、注湯時のヒートショックが小
さくなり、バッキングプレートや得られるターゲット材
の凝固時の割れが確実に防止することができる。また、
本発明においてはバッキングプレート１に冷却速度の調
節手段を設けることにより凝固後の冷却速度を調節する
ようにしてもよい。このようにすれば、例えば凝固時の
冷却速度は太きくし、得られるターゲット材の金属組織
を微細化すると共に、その後の冷却速度を遅くすること
によりターゲット材３とバッキングプレート１との熱応
力を緩和して割れを確実に防止することも可能となる。
等の溶湯２を急冷することにより、得られるターゲット
材３の金属組織を微細化することができる。また、合金
等の溶湯２を凹面Ａに流し込むに際し、バッキングプレ
ート１を予熱しておけば、注湯時のヒートショックが小
さくなり、バッキングプレートや得られるターゲット材
の凝固時の割れが確実に防止することができる。また、
本発明においてはバッキングプレート１に冷却速度の調
節手段を設けることにより凝固後の冷却速度を調節する
ようにしてもよい。このようにすれば、例えば凝固時の
冷却速度は太きくし、得られるターゲット材の金属組織
を微細化すると共に、その後の冷却速度を遅くすること
によりターゲット材３とバッキングプレート１との熱応
力を緩和して割れを確実に防止することも可能となる。
本発明は、ターゲット材の材質のいかんをかかわらず各
種ターゲットの製造に好適に適用できる。
種ターゲットの製造に好適に適用できる。
［発明の効果］
以上の通り、本発明によればターゲット材がバッキング
プレートに直に焼き付けられており、仮に使用中にクラ
ンクが入ってもろう材等の不純物成分が形成される薄膜
に汚染をもたらす恐れが全くない。また、本発明によれ
ばターゲット材をバッキングプレートに接合する作業が
不要であり、ターゲットの製造を極めて容易に行うこと
ができる。
プレートに直に焼き付けられており、仮に使用中にクラ
ンクが入ってもろう材等の不純物成分が形成される薄膜
に汚染をもたらす恐れが全くない。また、本発明によれ
ばターゲット材をバッキングプレートに接合する作業が
不要であり、ターゲットの製造を極めて容易に行うこと
ができる。
第１図、第２図及び第３図は本発明の詳細な説明する断
面図である。 １・・・バッキングプレート、 ３・・・ターゲット材、 ４・・・枠材。 代理人 弁理士 重 野 剛 第１図 第２図 第３図 ３：ターゲット材
面図である。 １・・・バッキングプレート、 ３・・・ターゲット材、 ４・・・枠材。 代理人 弁理士 重 野 剛 第１図 第２図 第３図 ３：ターゲット材
Claims (3)
- （１）ターゲット材をバッキングプレートに焼き付けて
あることを特徴とするターゲット。 - （２）バッキングプレートの上面のターゲット装着部に
凹面を形成しておき、該凹面にターゲット材の溶湯を流
し込み、次いで凝固させることにより、該バッキングプ
レート上面に焼き付けられたターゲット材を形成する工
程を有するターゲットの製造方法。 - （３）前記ターゲット装着部を、ターゲット材と同材質
又は同系統材質の枠材で囲むことにより前記凹面を形成
することを特徴とする特許請求の範囲第２項に記載のタ
ーゲットの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20077286A JPS6357763A (ja) | 1986-08-27 | 1986-08-27 | タ−ゲツト及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20077286A JPS6357763A (ja) | 1986-08-27 | 1986-08-27 | タ−ゲツト及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6357763A true JPS6357763A (ja) | 1988-03-12 |
Family
ID=16429921
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20077286A Pending JPS6357763A (ja) | 1986-08-27 | 1986-08-27 | タ−ゲツト及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6357763A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01164757U (ja) * | 1988-05-06 | 1989-11-17 |
-
1986
- 1986-08-27 JP JP20077286A patent/JPS6357763A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01164757U (ja) * | 1988-05-06 | 1989-11-17 |
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