JPS6356982B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は、電子写真及び電子放射線写真、とく
に、電荷パターンを放射画像パターンに応じて絶
縁層―光導電層―導電層を含む一体になつたサン
ドウイツチ構造の絶縁層上に生成するための装置
と方法とに関する。 電荷パターン放射画像パターンに応じて絶縁層
―光導電層―導電層を含む一体になつたサンドウ
イツチ構造の絶縁層上に生成することを追求する
に当つて先行技術は、電荷源としてコロナ放電装
置を、また、ある場合には、２種類以上のコロナ
放電装置を使用してきた。放射画像パターンは、
コロナ放射装置の動作期間中使用される。このよ
うな先行技術の追究は、IEE Transactions on
Electron Devices，Vol.ED―19、No.４，
April1972に掲載の２つの論文に記述されている。
第１の論文はページ396に載つており、また第２
の論文はページ405に載つている。 電荷パターンを、絶縁層―光導電層―導電層構
造の絶縁層上に生成するための以上のような先行
技術の追究においては、高品質のグレイスケール
を得ようとすると、広い露光領域が与えられな
い。高品質の結果を得るには、きわめて均等で入
射放射に正比例する電荷密度を供給する能力を持
つ電荷源を必要とする。 コロナ放電装置は、幾何学的及び電線表面に不
規則性を持ちやすく、したがつて走査を行うこと
なくしてはそれ自体では広い面積の電荷を与える
ことはなく、さらに、コロナ放電装置の電荷放出
率は、環境条件による変動を受け、またコロナ設
計上の制約によつて限定される。 除去可能導体表面を絶縁層に密接して置くと共
に電圧を導電層とこの除去可能導体との間に付加
することによつて電荷を印加することは、出現す
るエアギヤツプの変化のために適用できない。 本発明は、電荷パターンを放射画像パターンに
応じて、絶縁層―光導電層―導電層をこの順序に
持つ一体となつたサンドウイツチ構造の絶縁層上
に生成し、先行の既知の装置において示された問
題を解決する装置と方法とを提供するものであ
る。本発明は、絶縁層と薄い液体層を介して均一
に接触して置かれる除去可能導体電極部材を提供
するもので、この液体層内においては、液体は零
より大きい双極子モーメント、絶縁層表面の電位
を除去可能導体電極部材の電位に実効的に維持す
るに充分な導電率、絶縁層の臨界表面張力に等し
いか又はこれより小さい表面張力を持ち、かつ、
絶縁層に残留している液体の部分が除去可能導体
電極の除去の際に光導電層の暗誘電緩和時定数よ
り短い時間期間中に蒸発し、直流電圧源が、選択
された直流電圧をこの導体層と除去可能導体電極
部材との間に印加するために配設され、また、放
射画像源が配設され上記光導電層がこの放射画像
に露出されるが、このとき上記構造は暗環境内に
あり、この場合除去可能導体電極部材は所定の位
置にあり、また、直流電圧が導電層と除去可能導
体電極部材との間に印加されることによつて電荷
画像が絶縁層上に形成される。 次いで、本方法は、除去可能導体電極部材を除
去することを必要とする。直流電圧レベルを、こ
の場合、そのままに維持することも又は変化する
こともできる；たとえば、除去可能導体電極部材
を除去する際に、この電極部材を導体層に直接接
続することができる。上記液体が絶縁層から蒸発
すると、導体層は全体にわたつて放射に曝され、
その後、この絶縁層における電荷画像が電気的読
出し又は液体若しくは乾性トナー方法を用いる現
像によつて可視的なものとなつて表わされる。 以下付図を参照しながら、本発明を充分理解で
きるように詳しく説明する。なお、これらの付図
において、同様の要素は同じ参照番号によつて指
示されている。 図には、本発明による装置が示されているが、
この装置は、放射画像を多重層受光構造１２に向
けて送るように配置されている放射画像源を含
み、また多重層受光構造は、光導電層１４、これ
をサンドウイツチ状に挾んでいる導体層１６と絶
縁層１８、並びに絶縁層１８に直かにではないが
薄い液体層２２を介してこの絶縁層に接触する均
一な領域内に配置されている除去可能導体電極部
材２２を含んでいる。この装置は、さらに、導体
層１６と除去可能導体電極部材２０との間に選択
された電圧レベルを供給するように接続された直
流電圧源２４を含んでいる。導電層１６又は電極
部材２０は、その表面を放射画像が通り抜けて送
られるように作られることができるが、このよう
に使用される場合には、この放射エネルギーに透
明でなければならない。第１図においては、本発
明による装置は、放射画像源１０をその放射が電
極部材２０を通つて送られるように配置したもの
として示されている。この場合、絶縁層１８もま
た、使用される放射エネルギーが光導電層１４に
達することができるように、このエネルギーに対
して実質的に透明でなければならない。 第１図に示されている装置は、放射画像源１０
によつて与えられる放射画像に従つて液体境界に
隣接する絶縁層１８の表面に電荷画像を作る本発
明の方法を実施するためのものである。第１図に
示された構成では、初期状態においては上記境界
内全体にわたつて存在している電荷はすべて実質
的に均一であり、このような構成を使う場合、本
発明の方法は、均等な高電界を電極部材２０と導
電層１６との間に、光導電層が感じる放射の無い
下で、与える段階を含む。この段階は、第１図に
示された構成において、直流電圧を直流電源２４
から供給することによつて達成される。印加され
る電圧の極性は、光導電層１４に使用される材料
によつて決まる。説明の便宜上、直流電源２４
は、電極部材２０に対して正極性の電圧を導電層
１６に供給するように接続されている。次いで生
じる電荷分布は、第１図で、線図的に、マイナと
プラスの記号で表示されているが、この場合、導
電層１６及び電極部材２０の近傍の電荷は、層１
４と１６の境界、並びに、層１８と２２の境界
に、それぞれ存在する。 本発明の次の段階では、放射画像源を操作して
光導電層１４を放射画像に露出させ、この間、電
圧源２０からの直流電圧を電極部材２０と導電層
１６との間に供給し続ける。本発明の放射画像受
像構造は、放射画像をその全領域にわたつて同時
に受けることができる。放射は光導電層１４によ
つて吸収され、これが原因となつて、放射を受け
た領域の導電率が増加して光導電層１４の外側表
面の電荷キヤリヤが印加電界の影響の下に光導電
層の上側表面に向つて動くことができるようにな
り、こうして、誘導電荷画像が絶縁層の上側表面
に生成される。光導電層１４の上記領域における
この導電率の増加は、導電層１６と電極部材２０
との間に作られたコンデンサの有効厚さを低減す
ることによつて観察することができる。液体層２
２に隣接する絶縁層１８の表面において均一な直
流電圧を維持するには、追加の電荷を、放射線エ
ネルギーが吸収される領域へ流す必要がある。直
流電圧レベル及び光導電層１４の与えられた領域
における放射に対する全露出量が、光導電層を通
つて移動する電荷量を決定するので、事実上、光
導電層１４によつて受られる放射線エネルギーの
時間積分が達成される。第２図は、放射画像の印
加と光導電層によつて吸収された放射画像による
電荷の最終的配置を示すものである。第２図にお
いて、放射を受けている領域は、矢印で示されて
いる。放射を受けていない光導電層１４の上側部
分におけるスプリアス正電荷は、現れている高電
界及び光導電層１４の暗電流にもとずいてこのよ
うな位置にドリフトするであろう電荷を示してい
る。 放射画像露出段階の直後又は電荷パターンが暗
電流によつて顕著な変化を受ける前に、除去可能
電極部材２０が絶縁層１８から、たとえば、引き
はがしによつて除去され、この間、除去可能電極
部材２０と導電層１６は、実効的に電気的に接続
されるか、又は放射画像露出段階期間中に使用さ
れた電位と同じか若しくは異なる電位に保持され
る。除去可能電極部材２０が除去される前に電極
部材２０と導電層１６の間に印加されている電位
の大き低減すると有利である。この電位内のこの
ような電荷は、これによつて生じる画像のスプリ
アス雑音を、層静電容量揺動から起こる電荷の変
動を低減することによつて顕著に低減する。スプ
リアス雑音の最も顕著な低減は、印加された電位
が放射画像露出段階期間中に使用された電位を印
加する前に生じていたレベルに復帰させられたと
きに、得られる。本発明の方法によつて提供され
る潜像を読出し又は現像するために選択された方
法は、また、電極部材２０の除去期間中に電極部
材２０と導電層１６との間に印加されるために選
択された電位を揺動させる因子でもあり得る。た
とえば、このような電位を適切に選択することに
よつて、読出し又は現像装置の動作期間中のいか
なるバイアス電圧をも最小化することができる。
第３図は、電極部材２０を除去する段階を描いて
いるが、この図において、直流電圧源２４は、零
電圧として示されており、電極部材２０と導電層
１６とは直接に接続されている。液体層２２は、
電極部材２０が除去されるに従つて引き裂かれ、
この結果、絶縁層１８の表面と電極部材２０の双
方に適当な電荷が残こるので、両者は同じ電位に
ある。したがつて、火花もスプリアス放電も生じ
ない。絶縁層１８の表面上に残留したごく薄い残
留液体層は蒸発し、その背後の絶縁層１８の表面
上に真電荷パターンを残す。この電荷パターン
は、放射誘導パターンを正確に表現するものであ
り、後者は液体蒸発後に絶縁層と光導電層との接
合部に動かないで残つており、かつ、画像放射の
正確な表現である電荷密度の変動を有する。この
とき存在する電荷分布は、第３図に示されてい
る。この図は、光導電層の暗消滅時間が、これま
でに述べてきた順序段階を実施するに要する時間
に比較してきわめて長いと仮定している。長い暗
消滅時間が仮定されているからには、光導電層１
４の暗消滅速度の影響は、この時点では、絶縁層
１８の上側表面と光導電層１４の下側表面の間に
僅かな電荷の差を生じるだけの結果を伴う。電荷
パターンが可視的に表示されるか又は何らかの方
法によつて読み出されるためには、充分な差が必
要とされる。第３図の電荷パターンによつて示さ
れるように、画像に応じた内部電界が光導電層の
両端間に現れている。光導電層の暗消滅速度に従
つて、単にある時間の間待つことによつて、底側
の導体層１６内にある電荷が光導電層１４と絶縁
層１８との境界における電荷と再結合して第４図
に示されるような電荷分布を出現させるが、この
とき、絶縁層１８の上側面と導電層１６との間の
電位に最大の差が生じ、したがつて、絶縁層の表
面上の電荷画像が液体若しくは乾性トナー現像方
式又はその他の現像装置によつて読み取り又は可
視表示されるようになる。もちろん、電荷画像を
絶縁層１８の表面に現像するに先立つて、電位差
が絶縁層１８の上側表面と導体層１６の間に、使
用されている現像装置によつて要求されるように
存在するようになるまで待つことだけは必要であ
る。さらに、光導電層１８の暗消滅時間がきわめ
て短いと、電極部材２０の除去に続いて液体が蒸
発してしまうまでの時間だけ充分な電位差が絶縁
層１８の上側表面と導体層１６との間に現れて、
絶縁層１８の表面上の電荷画像を上記液体のこの
絶縁層からの蒸発に続いて直ちに現像できるよう
にする。 電荷を導電層１６から光導電層１４の表面と絶
縁層１８の境界に移動させる処理は、この構造の
光導電層１４を絶縁層の表面上の液体が蒸発して
しまつた後にほぼ全面的な又は投射放射に曝すこ
とによつて速度を上げることができる。絶縁層１
８の表面における電荷は、このようにして、この
構造が放射を受けた直後に現像される。 液体層２２は、電極部材２０を取除いた後急速
な蒸発が容易に行われるように、また、その電気
抵抗を低くするために、薄いことが望ましい。こ
の液体層を適当な薄さにするには、この液体層を
まず絶縁層１８上に置き、次いで、電極部材２０
をこの液体層を覆つて置き、最後にスキーズを電
極部材２０の上側表面を横断して引きずればよ
い。 電極部材２０が除去された後、絶縁層１８の表
面上に残留している液体は光導電層１４の暗誘電
緩和時定数よりも短い時間内に蒸発しなければな
らない。蒸発に必要な時間は、残留液体の厚さ及
び動作状態におけるこの液体の平衡蒸気圧力に依
存する。液体層を印加する上述の方法、これは電
極部材２０を横断してスキーズを引きずることで
あるが、この方法を使用した場合の、液体層２２
の蒸発時間及び厚さが、数種類の液体について測
定された。厚さの値は、代表的には、0.3から
0.1μmであつた。この測定から１つの実験式が定
まつた。この式は適当な液体を選択するための指
標として使用することができる。発見されたこの
実験式は、次のようなものである。 蒸発時間（秒） ＝10×層２２の厚さ（μm）／動作状態における蒸
気圧（mmＨｇ） 他の因子は、本発明の装置と方法に使用するに
適した液体によつて満足される。本発明に使用可
能な液体は零より大きな双極子モーメントを持た
なければならない、また、双極子モーメントの大
きさは本発明の方法を実施する速度に影響するこ
とが判つている。1.0×10^-18esu又はこれより大
きい双極子モーメントを持つた液体は、約１秒又
はこれより短い電圧印加及び露出時間を用いたと
きに使用される。この液体は、また、絶縁層１８
の表面の電位を有効に電極部材２０の電位に維持
することのできる程度の導電率を持つていなけれ
ばならない。記載した例においては、10^-7（Ωcm）
^-1又はこれより大きい導電率を持つ液体が適当で
あつて、液体の導電率に関連して要求される機能
を与えることが判つた。さらにまた、液体相２２
として使用される液体は、表面を“濡らす”、す
なわち、表面の上に拡がることが必要である。こ
の液体―固体相互作用は、固体の表面エネルギー
と液の表面張力との間の関係はもとより固体表面
の粗さによつて制御される。滑かな表面に対して
は、低表面張力の液体が高表面エネルギーの固体
の上に拡がる傾向がある。拡がりの程度は、液滴
によつて固体表面に形成された接触角を測定する
ことから特性づけられる。接触角が小さいほど、
その液体はこの表面をよく濡らす。ダブリユー・
エー・ジスマン（W.A.Zisman）及びエイチ・ダ
ブリユー・フオツクス（H.W.Fox）は、濡らし
の過程を説明するのに“臨界表面張力γc”とい
う概念を使用した。γcの値は、固体表面上に一
連の充分に規定された液によつて形成された接触
角を測定し、次いで、接触角の余弦を個々の液体
の表面張力γ_Lに対してプロツトすることによつて
求められる。このプロツトが１に等しい接触角の
余弦と交さしたときのγ_Lの値が“臨界表面張力
γ_C″と定義される。したがつて、臨界表面張力
γ_C″は、固体表面を特性づけるパラメータであつ
て、また、その数値は、γ_Cに等しいか又はこれよ
り小さい表面張力γ_Lを持つ液体は固体表面に拡が
ると云うことを意味している。濡らしの過程を説
明するための“臨界表面張力γ_C″の使用に関する
さらに詳しい記述は、Journal of Colloid
Sience，Vol.5，page514（1950）に掲載のエイ
チ・ダブリユー・フオツクスとダブリユー・エ
ー・ジスマンによる論文中に及びJouvnal of
Paint Tchnology，Vol.44，No.564，page（1972）
に掲載のダブリユー・エー・ジスマンによる論文
中に見受けられる。ポリエステル（ポリエチレン
テレタラート）に対する臨界表面張力は、近似的
に44dyne／cmであると測定されている。したが
つて、ポリエステルが絶縁層１８に使用されれか
つポリエステルがいままでに論じた他の要件を満
足するならば、この場合、ポリエステルの臨界表
面張力より小さい表面張力を持つ多数の液体が、
液体層２２用の液として使用可能である。 適当な除去可能電極部材２０には、薄いたわみ
薄板材料、たとえば、ポリエステル薄板であつて
その一方の側をアルミニウム又はクロムなどの金
属で蒸着被膜を施されたものを用いることができ
る。金属被膜は、もちろん、液体層２２と接触し
て置かれる。ポリエステルの薄板によつて電極部
材２０は絶縁層１８の表面に順応することがで
き、かつ、ポリエステルのたわみ性はまた液体層
２２の形成と電極部材２０の除去を助ける。かな
り堅牢な材料をポリエステル薄板の代わりに使用
できるが、しかし、たわみ性であつて順応し易い
電極部材２０を提供する構造が好ましい。 除去可能電極部材が除去される際に使用される
ように選択された直流電圧の大きさのほかに、な
お露出段階中に使用された電圧と反対の極性を必
要とする事態のときには、直流電圧源２４は、こ
のような大きさと極性の直流電圧を電極部材２０
と導電層１６との間に、放射画像露出段階中に使
用される直流電圧の印加に先立つて、加えるよう
に、用いられる。 電極部材２０と導体層１６との間に加えられる
電圧は、電位がこれらの層に電気的破壊を起こさ
ない限り、かつ、露出中に光導電層の両端間に生
じる電界が確実に電荷を流すのであるならば、露
出前、露出中、及び露出後にどんな極性かつどん
な大きであつてもよいということは、熟練した技
術を以てすれば、明かである。 以上述べてきた本発明の装置と方法において
は、層１４は光導電層を使用して説明れている
が、本発明の装置と方法は、また、本質的に光導
電層と同様の機能を果す層１４用の材料の使用に
適用可能である、すなわち、層１４は放射画像に
応答して電荷パターンを液体層２２に隣接する絶
縁層１８の境界上に画像に応じて誘導させる材料
ならばどんなものでもあり得る。したがつて、た
とえば、層１４は、多量の放射を受ける領域にお
ける誘電率が増大するように、放射に応答して誘
電率に変化を示す材料でよい。層１４用のその他
の材料の例は、放射線の存在するところで光起電
力を示すものであつて、この場合、光起電力は電
極部材２０と導電層１６との間に印加された電界
を助長するか又は邪げ、したがつて、画像に応じ
た誘導電荷パターンを液体層２２との境界にある
絶縁層１８に発生させる。 これらの、またこの他の放射線応答層が、単独
で又は組合わされて、本発明の教示に従い熟練し
た技術によつて、成功裡に利用されるであろう。 本発明の装置と方法の目的を達成するために、
絶縁層１８は、電荷画像を絶縁層１８の表面に形
成し、かつ、この画像を読み出し又は現像するに
充分な時間期間にわたつて電荷の流れを維持しな
いような材料であるならばどんなものからでも形
成される。 本発明を説明するために、以下に、いろいろな
形態のものを数例掲げる。 例 １ 酸化鉛（Pbo）顔料のスラリ、スチレン、ブタ
ジレン共重合の接着剤、たとえば、グツドヤー会
社（Goodyear Company）から市販されている
プリオライト（Pliolite）Ｓ−７という接着剤、
及びトルエンを10：０の顔料対接着材の重量比で
用意する。スラリは、次いで25μmの厚さのポリ
エステル板上に被膜を施されて光導電層１４と絶
縁層１８とができる。乾燥すると、この被膜は、
約100μmの厚さとなる。この乾いた被膜は、次い
で、メタノール中の導電性カーボンブラツクとポ
リビニール・ブチラルのスラリでさらにその上に
被膜を施されて、導電性の接触部ができ上がる。
ポリビニール・ブチラルとしては、モンサント会
社（Monsant Company）からB76ブトバル
（Butvar）ポリビニール・ブチラルという名称の
下に市販されているものが用いられる。カーボン
ブラツク対ポリビニール・ブチラルの比は、重量
で１：１である。ポリエステルの表面を露出させ
ておいて、この層構造をアルミニウム板の上に載
持するが、この場合、カーボン被膜を導体層１６
としての役割をするアルミニウム板と接触させる
ようにする。 ポリエステルの表面を、次いで、イソプロピル
アルコールで濡らし、そして、25μmの厚さのポ
リエステル薄板をアルミニウムで蒸着被膜を施し
た構成の除去可能電極部材２０のアルミニウム表
面と接触させる。次いで、スキーズを除去可能電
極部材を横切つて引きずることによつて均一な接
触が保証されて、イソプロピルアルコールの薄い
均一な層２２が得られる。イソプロピルアルコー
ルは、20.4dyne／cmの表面張力を持つが、この値
はポリエステルの臨界表面張力（すなわち、
44dyne／cm）より小さい。 暗環境においては、直流1000Vの電圧がアルミ
ニウム板と除去可能電極部材ののアルミニウム被
膜との間に印加されるので、アルミニウム被膜は
負極性である。この電圧の印加と同時に、この装
置は、放射画像に曝される。Ｘ線を画像に使用す
るときには、57kv_pの電源、1/15秒、25maの露
出、放射源と装置の距離が100cmが使用される。
画像放射に露出後直ちに、印加電圧は零ボルトに
低減されるが、この低級はアルミニウム被膜をア
ルミニウム板に実効的に直接接続すると云う方法
で行われる。これと同時に、除去可能電極部材が
引きはがしによつて除去されるが、この場合の、
機械的並進運動は、約25cm／secで行われる。 除去可能電極部材が除去されてしまい、かつイ
ソプロピルアルコールが蒸発した後、室内光が点
灯され、また、画像関連電荷（表面電圧）パター
ンがモンロー（Monroe）静電電圧計を使つて走
査される。Ｘ線の露出を受た領域内の表面電荷は
アルミニウム板に対して325Vであり、一方、
0.63cmの厚さの鉛のバーで保護された領域内の表
面電圧は300Vを示す、したがつて、コントラス
トは25Vである。これに替えて、電荷パターンを
含んでいる装置を現像装置に通過させると、明確
に識別できる鋭バーの画像、その他使用に供され
るＸ線吸収物体の画像が得られる。 例 ２ 酸化鉛（Pbo）顔料のスラリ、スチレン・ブタ
ジレン共重合体の接着剤、たとえば、グツドヤー
会社から市販されているプリオライトＳ−７とい
う接着剤、及びトルエンを、7.5：１の顔料対接
着剤の重量比で用意する。このスラリは、次い
で、25μmの厚さのポリエステル板上に被膜を施
されて光導電層１４と絶縁層１８とができる。乾
燥すると、この被膜は、約70cmの厚さとなる。こ
の乾いた被膜は、次いで、真空蒸着によつて薄い
導電性銅薄膜でさらにその上に被膜を施されて、
導電性接触部ができ上がる。ポリエステルの表面
を露出させておいて、この層構造をアルミニウム
板の上に戴持するが、この場合、銅薄膜をアルミ
ニウム板と接触させるようにする。 除去可能電極部材が、次いで、クロムの薄膜を
25μmの厚さのポリエステル板上に蒸着被膜処理
することによつて作られる。クロムの被膜を施し
た電極部材の光透過性は、約20％である。イソプ
ロピルアルコールが露出したポリエステル板表面
を濡らすのに使用され、このポリエステル表面
は、電極部材のクロム表面に接触させられる。導
電性イソプロピルアルコールの液体層は、次い
で、スキーズを電極部材の上を通過させることに
よつて薄くされる。光源が画像生成集合体の上方
に戴持され、かつ、画像に応じた光パターンをシ
ヤツターが開いたときに電極部材上に向けて送る
ように配置される。 暗環境においては、導電層アルミニウム板に対
して、1000Vの電圧が電極部材のクロム被膜上に
印加される。この電圧が印加されている間、この
装置はシヤツターを光源に対して0.2秒間開くこ
とによつて画像放射に曝されて、約30.5cm（１フ
ート）カンデラ秒の露出を生じる。画像放射に露
出後直ちに、印加電圧は零ボルトに低減される
が、この低減はクロム被膜をアルミニウム板に接
続し、そして、電極部材が例１におけるように除
去される。イソプロピルアルコールの残りの薄膜
が蒸発した後に、室内灯が点灯される。画像関連
電荷パターンは、静電電圧計によつて走査され、
この電圧計は露出された領域と露出されない領域
との間で約100Vのコントラストを示す。これに
替えて、画像関連パターンが現像装置を利用して
可視的に表示される。 例 ３ 硫化カドミウム（Cds）の顔料のスラリ、スチ
レン・ブタジエン共重合体の接着剤及びトルエン
を、10：１の顔料対接着剤の重量比で用意する。
このスラリの薄い被膜を25μmの厚さのポリエス
テル板上に置き、そして、乾燥して、光導電層１
４と絶縁層１８を作る。乾燥したCds層は約
50μmの厚さである。この被膜は、次いで、メタ
ノール中の導電性カーボンブラツク及びポリビニ
ール・ブチラルのスラリでさらにその上に被膜を
施され、この上にアルミニウムの背板が置かれ
て、導電層１６ができ上がる。 ポリエステルの絶縁層１８の表面は、次いで、
イソプロピルアルコールで濡らされ、そして、
75μmの厚さのポリエステル上に透明な酸化スズ
（Sno₂）被膜を施した構成の除去可能電極部材の
Sno₂表面と接触させられる。次いで、スキーズ
を電極部材を横切つて引きずり、イソプロピルア
ルコールの薄い（約1μm）の均一な層ができ上が
る。光源が画像生成集合体の上方に戴持され、か
つ、画像に応じた光パターンをシヤツターが開い
たときに電極部材上に向けて送るように配置され
る。暗環境においては、アルミニウム板に対し
て、−1000Vの電圧が電極部材のSno₂に印加され
る。この電圧が印加されている間、この装置は光
画像に曝されて、6.1cm（0.2フート）カンデラ秒
の最大露出を生じる。１秒以内にこの電圧は零に
低減されるが、この低減は、Sno₂被膜をアルミ
ニウム板に直接接続し、かつ、除去可能電極部材
が例１におけるように除去されるという具合に行
われる。ポリエステルの絶縁層１８上に残つてい
るイソプロピルアルコールが蒸発してしまう間の
次の５秒以内に、室内光が点灯される。ポリエス
テル表面上の潜在電荷画像は、液体トナー現像集
合体を使用することによつて可視的に表示され
る。結果の画像は、0.3の光学濃度タブレツトで
構成される７段階を示し、透過における最大光学
密度は2.3である。 例 ４ 酸化鉛（Pbo）顔料のスラリ及び接着剤を、20
ｇの顔料、10ｇのイソプロピルアルコール、イソ
プロピルアルコール中35％（重量）アクリルレジ
ン（ロームアンドハス（Rhom and Hass）
“WR―97”）の3.8ｇ、及び0.13ｇの可塑剤（ロー
ムアンドハス“Paralex Ｇ−30”）を使つて用意
する。ボールミリングを行つて成分を分散させた
後に、このスラリは25μmの厚さのポリエステル
板上に被膜として施される。溶剤が蒸発した後、
重量比15：１の顔料と接着剤の40μm被膜が残る。
この被膜は、次いで、重量比１：１の導電性カー
ボンブラツクのスラリとポリビニールブチラル接
着剤でさらにその上に被膜を施される。乾燥した
後、この層構造はアルミニウム板上に戴持され、
このため、カーボン被膜がアルミニウムに接触
し、かつ、ポリエステル表面が露出する。 ポリエステル表面は、次いで、イソプロピルア
ルコールで濡らされ、そして、25μmの厚さのポ
リエステル板で構成の除去可能電極部材のアルミ
ニウム表面に接触させる。均一な接触と薄い液層
とがスキーズを電極部材の背後を横切つて引きず
ることによつて保証され、この結果、イソプロピ
ルアルコールの約0.5μmの薄い均一な境界が作ら
れる。 暗環境においては、1000Vの電圧が層構造の両
端間に印加され、これは負極リードを電極部材の
アルミニウム被膜に、また、正極性リードをアル
ミニウム板に接続することによつて行われる。こ
の電圧は２秒間保たれる。電圧印加後0.3秒に、
この装置は、0.1秒、25ma、80kv_p、放射源と装
置との距離100cmのＸ線露出に曝される。電圧印
加後1.5秒に、電極部材がポリエステル表面から
機械的引きはがしによつて除去されるが、この引
きはがしには、約0.3秒を要する。このように、
電極部材は除去されると共にこの間−1000Vの露
出電位に保たれる。約２秒後に、室内光が点灯さ
れる。 発生した電荷パターンは、モンロー静電電圧計
を使つて走査することによつて測定される。全Ｘ
線露出に曝された領域は、アルミニウム板に対し
て−460V、また、0.63cmの厚さの鉛バーによつ
てＸ線から保護された領域においては−410Vで、
50Vのコントラストが得られる。 除去可能電極部材は再び付け加えられ、投射露
出期間中電極間に零ボルトが印加される初期状態
が整えられ、放射に対する新しい露出が行われる
が、この時間は0.2秒である。 この段階は、0.4秒間、0.7秒間、1.0秒間と露出
を繰り返すが、この場合、すべての他に掲上した
条件は同一に保たれる。この結果、露出の増加に
応じる電位のコントラストが示される。この結果
を次表に示す。 露出段階は、再び繰り返され、0.4秒間の露出
を行い、そして、電極部材上の電圧を

【表】 圧

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 導電層、光導電層、絶縁層をこの順序に持つ
   多層構造を用意する段階と、上記絶縁層の近傍に
   他の層として除去可能導体電極部材を配置する段
   階と、上記光導電層を放射画像に露出しその間に
   直流電圧を上記導電層と上記除去可能導体電極部
   材との間に印加して上記絶縁層に電荷画像を生成
   する段階とを含む電荷画像生成方法であつて、 上記除去可能導体電極部材を上記絶縁層から薄
   い液体層を介在して配置し、上記液体層において
   液体は零より大きい双極子モーメントと、上記絶
   縁層表面の電位を上記除去可能導体電極部材の電
   位に実効的に維持するに充分な導電率と、上記絶
   縁層の臨界表面張力に等しいか又はこれより小さ
   い表面張力とを有しかつ上記除去可能導体電極の
   除去の際に上記絶縁層に残留している上記液体層
   の液体は上記光導電層の暗誘電緩和時定数より短
   い時間期間に蒸発することと、 上記除去可能導体電極部材を除去することとを
   含むことを特徴とする電荷画像生成方法。 ２ 上記除去可能導体電極部材の除去段階に続い
   て上記絶縁層上の液体が蒸発してしまつた後に上
   記光導電層を放射に曝す段階を含むことを特徴と
   する特許請求の範囲第１項記載の電荷画像生成方
   法。 ３ 上記除去可能導体電極部材の除去の段階の前
   に上記直流電圧の大きさを低減する段階を含むこ
   とを特徴とする特許請求の範囲第１項又は第２項
   記載の電荷画像生成方法。 ４ 上記除去可能導体電極部材を除去する段階の
   期間中、上記除去可能導体電極部材を上記導電層
   に電気的に直接接続すると共に上記直流電圧を除
   去することを含むことを特徴とする特許請求の範
   囲第１項又は第２項記載の電荷画像生成方法。 ５ 除去可能導体電極と、 導体層、光導電層、絶縁層をこの順序に従つて
   持つ多層構造と、 上記絶縁層と上記除去可能導体電極部材との間
   に均一な面接触を作る薄い液体層であつて、上記
   境界液体層の液体は零より大きい双極子モーメン
   トと、上記絶縁層表面の電位を上記除去可能導体
   電極部材の電位に実効的に維持するに充分な導電
   率と、上記絶縁層の臨界表面張力に等しいか又は
   これより小さい表面張力とを有し、かつ上記除去
   可能導体電極の除去の際に上記絶縁層に残留して
   いる上記液体層の液体は上記光導電層の暗誘電緩
   和時定数より短い時間期間に蒸発する上記薄い液
   体層と、 上記導電層と上記除去可能導体電極との間に選
   択された直流電圧を印加するために操作可能に接
   続された電圧電源と、 上記直流電圧源が上記導電層と上記除去可能導
   体電極部材との間に接続されているとき上記光導
   電層を放射画像に露出させて電荷画像を上記絶縁
   層上に生成するための放射線画像源と、を含むこ
   とを特徴とする電荷画像生成装置。