JPS6352046A - アイソト−プ蛍光x線分析装置 - Google Patents

アイソト−プ蛍光x線分析装置

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JPS6352046A
JPS6352046A JP14889487A JP14889487A JPS6352046A JP S6352046 A JPS6352046 A JP S6352046A JP 14889487 A JP14889487 A JP 14889487A JP 14889487 A JP14889487 A JP 14889487A JP S6352046 A JPS6352046 A JP S6352046A
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JP
Japan
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conical
hole
isotope
pedestal
shutter
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP14889487A
Other languages
English (en)
Inventor
ヤセン・スタメノフ・スタメノフ
ペユ・フリストフ・ペエフ
サチョ・アタナソフ・セボフ
ペトコ・イワノフ・ペトコフ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
INSUCHI KUBETONA METARUAGIA
INSUCHI PO KUBETONA METARUAGIA
Original Assignee
INSUCHI KUBETONA METARUAGIA
INSUCHI PO KUBETONA METARUAGIA
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Filing date
Publication date
Application filed by INSUCHI KUBETONA METARUAGIA, INSUCHI PO KUBETONA METARUAGIA filed Critical INSUCHI KUBETONA METARUAGIA
Publication of JPS6352046A publication Critical patent/JPS6352046A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/22Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
    • G01N23/223Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material by irradiating the sample with X-rays or gamma-rays and by measuring X-ray fluorescence
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/07Investigating materials by wave or particle radiation secondary emission
    • G01N2223/076X-ray fluorescence

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的〕 (産業上の利用分野) この発明は、固体、粉末、液体試料についての化学元素
の多元素の分析に使用される物質組成を決定する蛍光X
線分析のための装置に関する。
(従来技術) 従来のアイソトープ蛍光X線分析の装置は、論文old
set  R: ”ADI)tied  3pectr
ometry ofX −rayradiation 
ll、 Moscow atomiZ(fat。
1977、p71. fig2.2に示されるように構
成されることが知られている。即ち、この装置は、保護
スクリーンを備える計測ヘッドの長軸に冶って配置され
る検出器を含み、それは検出器前部と検出器周面を囲む
保護シリンダーの間に 配置される。保護シリンダーは、中央に円錐貫通孔を有
しており、その表面内には、励起源が置かれた台座が形
成されている。円錐貫通孔の基部前面には、調査試料の
ための台座が配置され、この試料は本体を囲み、その内
面が保護シリンダーを包囲する試料ホルダーの中に形成
されていた。
(発明が解決しようとする問題点) 同一タイプの放射Ii源が試料に照射された場合におい
て、アイソトープ蛍光X線分析装置の知られている欠点
は、分析可能な化学元素の数が限られてしまうというこ
と、すなわちその機能的な能力が低いということである
。これにより、対応した励起源に対して特定される狭い
エネルギー筒器において、いくつかの元素が効率的に励
起されて固有X線が発生される。
この発明の目的とするところは、高精度の分析を可能に
し、所定元素を効果的に励起するための最適条件下にお
ける機能的な可能性を増加するアイソトープ蛍光X線分
析のための装置を提供することにある。
[発明の構成] (問題を解決するための手段) この目的は、以下の内容を含むアイソトープ蛍光X線分
析装置により達成される。アイソトープ蛍光X線分析装
置は、保護スクリーンを有する計測・\ラドの長軸に沿
って配置された検出器から構成され、この保護スクリー
ンは、検出器前部と検出器の周囲の表面を囲んでいる保
護シリンダの間に配置されている。保護シリンダーは、
中央に円錐貫通孔を有し、その表面内には中に励起源が
配置されろ台座が形成される。円錐貫通孔の前部には調
査試料のための台座が配置され、それは本体を囲み、そ
の内面が保護シリンダーを包囲する試料ホルダーの中に
形成される。この構成において、円錐貫通孔の中には少
なくとも一つの孔を備えている回転する円錐シャッター
が配置される。円錐貫通孔の下部の領域にあるスクリー
ンはその内側からシャッターを囲んでいる。励起源は異
なるいくつかのタイプのもので、円錐孔の異なった部分
に配置される。円錐シャッターの中の孔は、円錐の形成
する表面に沿って、励起源の個々の作用表面を含むよう
な大きさを有している。
円錐シャッターの中の穴の数が一つより多くすることが
でき、それによってことなったタイプの励起源のおのお
の一つに対し、そのレベルに対応した穴が設けられる。
励起源のいくつかは、同じタイプにすることができ、そ
のとき円錐シャッターの穴の数は、同じタイプの励起源
の数あればよい。
アイソトープX線蛍光分析のためのvR置の効果は、効
果的な励起と高絽度の分析を得るための最適の条件をも
とにこの方法により可能なすべての固体、粉末、液体試
料の化学元素分析の機能的な可能性を拡大することであ
る。
(実施例) この発明は、断面図によって示される同位体X線蛍光分
析の装置の一実施例によって説明される。
アイソトープX線蛍光分析の装置は、計測ヘッドの長軸
に沿って配置されるたとえば半導体からなる検出器1か
ら構成され、この計測ヘッドは検出器前面と検出器1の
周囲の表面を囲んでいる保護シリンダー3の間に配置し
た保護スクリーン2を含んでいる。保護シリンダー3は
中央に円錐形の貫通孔4を有し、その表面内には中に励
起源6が置かれた台座5が形成され、円錐形の1通孔内
の前面には、調査試料様の台座7が配置され、この台座
7は、本体9に移動可能に受容する試料ホルダー8内に
形成されている。円錐通し穴4の中には、孔を備えてい
る回転する円錐シャッター10が配置される。円錐貫通
孔の下方の領域内のスクリーン2は、シャッター10の
内側に受容されている。励起源6は、例えば鉄55、カ
ドミウム109、アメリシウム241等の種々の物質で
作られ、それぞれ円錐孔4の別々の部分に配置される。
円錐シャッター10の中の穴11は、円錐を形成する表
面に沿って、励起[11の個々の作用表面を囲むような
大きさを有している。
穴11の数が励起、I!6の数に等しくでき、種々の各
励起源毎にその強さに応じた穴11がある。
もしいくつかの励起源が同じタイプであるとすると、穴
11の数が同じタイプの励起源の数に等しくなる 検出器1、円錐孔4の表面及び台座7に置かれた試料よ
って規定される空間は、不活性ガス(たとえばヘリウム
ガス(図に記さず))で消勢されることができる 同位体X線蛍光分析のための装置は以下の方払でvJ作
する。
試料は、試料ホルダー8の台座7中に中央孔を有する通
路カップによって配置され台座7は、本体9と保護シリ
ンダー2に対して円錐シャッターとともに回転され、例
えば、本体9と保護シリンダー2に対しては、ステップ
エンジンや電子装置(図には示さない)によって穴11
の一つが励起源6の一つの上に到達するまで回転される
。電子V&置の信号に従って移動が中止され、選択した
放射B6によって励起した各化学元素の飴と各元素の固
右xm放射が検出器によって記録され、その結果は、た
とえば多重チャンネル分析器(図には示さない)を用い
て1度に関する情報かえられるまで電気的に処理される
結果となる。同様にして他の放射源の上に連続的にシャ
ッターの位置が移動し、関連する各元素の濃度を計測す
る結果となる。穴11が、いくつかの異なる励起源の並
行しておこなうように位置がきめられてもQい。シャッ
ター10のfilのポジションは、すべての放射源が閉
じられた状態になる。
提出した装置は、異なったタイプの故rjJ源を同時に
8合することができ、混合したものの連続的または同時
の処理は、同位体X線蛍光分析によって決定可能なすべ
ての各車元素分析の機能的な可能性を拡大する。励起源
6、試料、検出器の特別で最適の条件と特に精巧な円錐
シャッター10に基づいて効果的な励起と高精度の分析
が維持される。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明に係る同位体蛍光XI!分析装置の断
面図を示す。 1・・・検出器、2・・・保護スクリーン、3・・・保
護シリンダー、4・・・円鉗口通孔、5・・・台座、6
・・・励起源、7・・・台座、8・・・試料ホルダ、9
・・・本体、10・・・円錐シャッター、11・・・穴

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)この保護スクリーンは、検出器前部と検出器の周
    囲の表面を囲んでいる保護シリンダの間に配置され、保
    護スクリーンを有する計測ヘッドの長軸に沿って配置さ
    れた検出器から成り、保護シリンダーは、中央に貫通孔
    を有し、その表面内には中に励起源が配置され、台座が
    形成され、円錐貫通孔の上面の上部に調査試料のための
    台座が配置され、それは本体を囲み、その内面が保護シ
    リンダーを包囲する試料ホルダーの中に形成される構造
    を設けたアイソトープ蛍光X線分析のための装置に於い
    て、貫通孔4の円錐表面に沿って中に励起源6が置かれ
    ている少なくとも一つの台座5が設けられており、円錐
    孔4の中には、少なくとも1つの穴を有する回転する円
    錐シャッター10が設けられ、円錐孔4の下部の領域に
    ある保護スクリーン2はその内側から円錐シャッター1
    0を囲む構造を有していることを特徴とするアイソトー
    プ蛍光X線分析装置
  2. (2)励起源6は異なるタイプのもので、円錐孔の異な
    る位置に配置されることを特徴とする特許請求範囲第1
    項記載のアイソトープ蛍光X線分析装置
  3. (3)円錐シャッター10の孔11は、円錐の形成する
    表面に沿って、励起源の個々の作用表面応じた面積を有
    していることを特徴とする特許請求範囲第1項または第
    2項記載のアイソトープ蛍光X線分析装置
  4. (4)円錐シャッターの孔11の数が励起源6の数に等
    く、それによって異なつているタイプの励起源に対して
    対応するレベルの穴11が設けられることを特徴とする
    特許請求範囲第1項または第2項記載のアイソトープ蛍
    光X線分析装置
  5. (5)いくつかの励起源6が同じタイプであり、円錐シ
    ャッターの穴11の数は、同じタイプの励起源6の数に
    等しいことを特徴とする特許請求範囲第1項記載のアイ
    ソトープ蛍光X線分析装置
JP14889487A 1986-06-17 1987-06-15 アイソト−プ蛍光x線分析装置 Pending JPS6352046A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
BG7538286A BG44997A1 (ja) 1986-06-17 1986-06-17
BG75382 1986-06-17

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6352046A true JPS6352046A (ja) 1988-03-05

Family

ID=3917411

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP14889487A Pending JPS6352046A (ja) 1986-06-17 1987-06-15 アイソト−プ蛍光x線分析装置

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JP (1) JPS6352046A (ja)
AU (1) AU595615B2 (ja)
BG (1) BG44997A1 (ja)
DD (1) DD283532A7 (ja)
DE (1) DE3718764A1 (ja)
FI (1) FI871633A (ja)
FR (1) FR2600165B1 (ja)
GB (1) GB2192277B (ja)

Family Cites Families (5)

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Also Published As

Publication number Publication date
DD283532A7 (de) 1990-10-17
AU595615B2 (en) 1990-04-05
GB2192277B (en) 1990-01-31
GB8714194D0 (en) 1987-07-22
GB2192277A (en) 1988-01-06
FR2600165A1 (fr) 1987-12-18
FI871633A (fi) 1989-04-13
FR2600165B1 (fr) 1990-08-03
AU7415787A (en) 1987-12-24
DE3718764A1 (de) 1987-12-23
FI871633A0 (fi) 1987-04-14
BG44997A1 (ja) 1989-03-15

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