JPS6348383Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6348383Y2 JPS6348383Y2 JP1984017521U JP1752184U JPS6348383Y2 JP S6348383 Y2 JPS6348383 Y2 JP S6348383Y2 JP 1984017521 U JP1984017521 U JP 1984017521U JP 1752184 U JP1752184 U JP 1752184U JP S6348383 Y2 JPS6348383 Y2 JP S6348383Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- slurry
- frequency
- predetermined location
- transfer system
- vibration
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000002002 slurry Substances 0.000 claims description 29
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 claims description 16
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 9
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 9
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 4
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 9
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 2
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 2
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
- B05B12/00—Arrangements for controlling delivery; Arrangements for controlling the spray area
- B05B12/08—Arrangements for controlling delivery; Arrangements for controlling the spray area responsive to condition of liquid or other fluent material to be discharged, of ambient medium or of target ; responsive to condition of spray devices or of supply means, e.g. pipes, pumps or their drive means
- B05B12/082—Arrangements for controlling delivery; Arrangements for controlling the spray area responsive to condition of liquid or other fluent material to be discharged, of ambient medium or of target ; responsive to condition of spray devices or of supply means, e.g. pipes, pumps or their drive means responsive to a condition of the discharged jet or spray, e.g. to jet shape, spray pattern or droplet size
Landscapes
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Ultrasonic Waves (AREA)
- Apparatuses For Generation Of Mechanical Vibrations (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
この考案は湿式ブラスト装置におけるスラリー
移送系中の異常検出装置に関するものである。
移送系中の異常検出装置に関するものである。
湿式ブラスト装置においては、特にスラリーの
濃度の濃い場合、或は研削粒自体の質量が大きい
場合には、偶発的な原因、例えば異物の混入等で
噴射ガンを含むスラリー移送系中のスラリー通路
中につまり或は淀みを生じ、噴射加工が正常に行
われないことがあり、スラリーポンプのモータに
過大な負荷がかゝる。一方、湿式ブラスト法が進
歩し、自動機械化されるのに従い、ブラストの加
工が均質的に行われる事が要求されて来ているの
で、上述の様なスラリーの供給に異常が生じない
よう監視する必要がある。然し、上述のような異
常を監視出来る装置は、大概、構成複雑で、高価
であつた。この考案は少くとも噴射ガンを含むス
ラリー移送系中につまり或は淀みを生じた時、そ
の事態を検知し、表示できる簡単な構成で、従つ
て廉価な、湿式ブラスト装置におけるスラリー移
送系中の異常検出装置を提供するのをその目的と
する。
濃度の濃い場合、或は研削粒自体の質量が大きい
場合には、偶発的な原因、例えば異物の混入等で
噴射ガンを含むスラリー移送系中のスラリー通路
中につまり或は淀みを生じ、噴射加工が正常に行
われないことがあり、スラリーポンプのモータに
過大な負荷がかゝる。一方、湿式ブラスト法が進
歩し、自動機械化されるのに従い、ブラストの加
工が均質的に行われる事が要求されて来ているの
で、上述の様なスラリーの供給に異常が生じない
よう監視する必要がある。然し、上述のような異
常を監視出来る装置は、大概、構成複雑で、高価
であつた。この考案は少くとも噴射ガンを含むス
ラリー移送系中につまり或は淀みを生じた時、そ
の事態を検知し、表示できる簡単な構成で、従つ
て廉価な、湿式ブラスト装置におけるスラリー移
送系中の異常検出装置を提供するのをその目的と
する。
第１図イに示す一実施例に基いて、この考案に
係る湿式ブラスト装置におけるスラリー移送系中
の異常検出装置の構成を説明すると、センサー１
を内蔵したアダプター２を噴射ガンＡを含むスラ
リー移送系中の所定箇所、この実施例ではノズル
ａに取付け、該所定箇所において振動センサー１
が検知する電気的振動周波数の内、該所定箇所
（この実施例ではノズルａ）をスラリーが流れる
際発する電気的振動周波数を遮断周波数とするフ
イルター４（この実施例においてはエリミネート
フイルター）を設け、前記振動センサー１の検知
値より該遮断周波数を除去した以外の電気的振動
周波数を通過させ、アナログスイツチ５に送り、
その値が「シキイ」値、換言すれば電気的振動の
振巾が一定値を超えると該異常表示装置６に出力
させるようにしたものである。なお、図中ｂは圧
搾空気供給管、ｃはスラリー供給ホース、３は増
巾器を夫々示す。
係る湿式ブラスト装置におけるスラリー移送系中
の異常検出装置の構成を説明すると、センサー１
を内蔵したアダプター２を噴射ガンＡを含むスラ
リー移送系中の所定箇所、この実施例ではノズル
ａに取付け、該所定箇所において振動センサー１
が検知する電気的振動周波数の内、該所定箇所
（この実施例ではノズルａ）をスラリーが流れる
際発する電気的振動周波数を遮断周波数とするフ
イルター４（この実施例においてはエリミネート
フイルター）を設け、前記振動センサー１の検知
値より該遮断周波数を除去した以外の電気的振動
周波数を通過させ、アナログスイツチ５に送り、
その値が「シキイ」値、換言すれば電気的振動の
振巾が一定値を超えると該異常表示装置６に出力
させるようにしたものである。なお、図中ｂは圧
搾空気供給管、ｃはスラリー供給ホース、３は増
巾器を夫々示す。
この実施例（（第１図イ））は叙上のような構成
を有し、ノズルａにおいて発生する音波の振動周
波数を、第２図に示すように、周波数スペクトル
で表して、を、ノズルａ内をスラリーが圧搾空
気で吹出され、第１図イに示すように、スラリー
の噴射が円錐角θ1をなして正常に行われている場
合の音波の周波数スペクトルとすれば、スラリイ
の供給なく、従つてスラリーの噴射がなく、圧搾
空気のみ吹出している場合（第２図において圧搾
空気のみ吹出している場合は圧縮空気はスラリイ
流が噴流の周囲にないので膨張し円錐角θ1は大き
くなりθ2となる）の音波の周波数スペクトルは高
い周波数に偏り、の如き形となり、又スラリー
のみがポンプ圧で吐出している場合の音波の周波
数スペクトルは低い周波数に偏り、の如き形と
なるとすると、この実施例におけるエリミネート
フイルター４は、、即ちノズルａ内をスラリー
が圧搾空気で正常に圧送され、円錐角θ1でスラリ
ーが吹出されている場合に発する音波の周波数を
遮断周波数帯としてあるので、スラリーが正常に
吹出されている場合は異常表示装置６の方に向つ
て出力しないため表示装置６は何等作動しない。
然し、ノズルａにおける周波数の音波帯が又は
に偏倚した時は、電気振動にかえられた振動は
エリミネートフイルター４で遮断されることなく
アナログスイツチ５に送られ「シキイ」値を超え
た時異常表示装置６に向つて出力されるので異常
装置が作動し、異常を知らせる。
を有し、ノズルａにおいて発生する音波の振動周
波数を、第２図に示すように、周波数スペクトル
で表して、を、ノズルａ内をスラリーが圧搾空
気で吹出され、第１図イに示すように、スラリー
の噴射が円錐角θ1をなして正常に行われている場
合の音波の周波数スペクトルとすれば、スラリイ
の供給なく、従つてスラリーの噴射がなく、圧搾
空気のみ吹出している場合（第２図において圧搾
空気のみ吹出している場合は圧縮空気はスラリイ
流が噴流の周囲にないので膨張し円錐角θ1は大き
くなりθ2となる）の音波の周波数スペクトルは高
い周波数に偏り、の如き形となり、又スラリー
のみがポンプ圧で吐出している場合の音波の周波
数スペクトルは低い周波数に偏り、の如き形と
なるとすると、この実施例におけるエリミネート
フイルター４は、、即ちノズルａ内をスラリー
が圧搾空気で正常に圧送され、円錐角θ1でスラリ
ーが吹出されている場合に発する音波の周波数を
遮断周波数帯としてあるので、スラリーが正常に
吹出されている場合は異常表示装置６の方に向つ
て出力しないため表示装置６は何等作動しない。
然し、ノズルａにおける周波数の音波帯が又は
に偏倚した時は、電気振動にかえられた振動は
エリミネートフイルター４で遮断されることなく
アナログスイツチ５に送られ「シキイ」値を超え
た時異常表示装置６に向つて出力されるので異常
装置が作動し、異常を知らせる。
次に第１図ロに示す他の実施例の構成を説明す
ると、第１図イに示す実施例においては１個のフ
イルター、即ち、エリミネートフイルターを使つ
たが、第２実施例では、二種類のフイルターを使
用する。即ち振動センサー１で受信する振動数の
内、低音域の振動数の周波数のみをローパスフイ
ルター４1でアナログスイツチ５1に送り、更にそ
の値か「シキイ」値以上の値であれば異状表示装
置６1に出力し、又高音域の振動数の周波数のみ
をハイパスフイルター４2でアナログスイツチ５2
に送り、更にその値が「シキシ」値以上の値であ
れば、異状表示装置６2に出力するようにし、前
者の場合は噴射空気が送られていない事を示し、
後者の場合は、スラリイがガンに送られてない事
を示すようにしたものである。
ると、第１図イに示す実施例においては１個のフ
イルター、即ち、エリミネートフイルターを使つ
たが、第２実施例では、二種類のフイルターを使
用する。即ち振動センサー１で受信する振動数の
内、低音域の振動数の周波数のみをローパスフイ
ルター４1でアナログスイツチ５1に送り、更にそ
の値か「シキイ」値以上の値であれば異状表示装
置６1に出力し、又高音域の振動数の周波数のみ
をハイパスフイルター４2でアナログスイツチ５2
に送り、更にその値が「シキシ」値以上の値であ
れば、異状表示装置６2に出力するようにし、前
者の場合は噴射空気が送られていない事を示し、
後者の場合は、スラリイがガンに送られてない事
を示すようにしたものである。
これらの実施例は何れも噴射ガンＡを含むスラ
リー移送系中の所定箇所としてノズルａを選んだ
が、噴射ガンＡの他の場所、或はスラリー供給ホ
ースｃ上でも差支えない。但しその場合の遮断周
波数帯はその所定箇所が発する音波の周波数とす
ることは勿論とする。
リー移送系中の所定箇所としてノズルａを選んだ
が、噴射ガンＡの他の場所、或はスラリー供給ホ
ースｃ上でも差支えない。但しその場合の遮断周
波数帯はその所定箇所が発する音波の周波数とす
ることは勿論とする。
この考案は叙上のような構成、作用を有するか
ら、湿式ブラスト装置におけるスラリー移送系中
のつまり、淀み等の異常を、湿式ブラスト加工施
行当初に容易に発見でき、均質なブラスト加工施
行態勢は短時間の内に整備でき、装置はフイルタ
ーを使用する簡潔な構成のため廉価に提供できる
効果がある。
ら、湿式ブラスト装置におけるスラリー移送系中
のつまり、淀み等の異常を、湿式ブラスト加工施
行当初に容易に発見でき、均質なブラスト加工施
行態勢は短時間の内に整備でき、装置はフイルタ
ーを使用する簡潔な構成のため廉価に提供できる
効果がある。
第１図イはこの考案に係る湿式ブラスト装置に
おけるスラリー移送系中の異常検出装置の一実施
例の噴射ガンの縦断面図とブロツク線図、第１図
ロはフイルターを２個使用した他の実施例のブロ
ツク線図、第２図は周波数スペクトル線図を夫々
示し、１は振動センサー、２はアダプター、４は
フイルター、６は異常表示装置を夫々示す。
おけるスラリー移送系中の異常検出装置の一実施
例の噴射ガンの縦断面図とブロツク線図、第１図
ロはフイルターを２個使用した他の実施例のブロ
ツク線図、第２図は周波数スペクトル線図を夫々
示し、１は振動センサー、２はアダプター、４は
フイルター、６は異常表示装置を夫々示す。
Claims (1)
- 振動センサー１を内蔵したアダプター２を噴射
ガンＡを含むスラリー移送系中の所定箇所に取付
け、別に、該所定箇所において振動センサー１が
検知する電気的振動用周波数の内、該所定箇所を
スラリーが流れる際発する電気的振動周波数を遮
断周波数とするフイルター４を設け、前記振動セ
ンサー１の検知値より該遮断周波数を除いた以外
の電気的周波数を通して異常表示装置６に出力さ
せることを特徴とする湿式ブラスト装置における
スラリー移送系中の異常検出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1984017521U JPS60131358U (ja) | 1984-02-13 | 1984-02-13 | 湿式ブラスト装置におけるスラリ−移送系中の異常検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1984017521U JPS60131358U (ja) | 1984-02-13 | 1984-02-13 | 湿式ブラスト装置におけるスラリ−移送系中の異常検出装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60131358U JPS60131358U (ja) | 1985-09-03 |
| JPS6348383Y2 true JPS6348383Y2 (ja) | 1988-12-13 |
Family
ID=30505303
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1984017521U Granted JPS60131358U (ja) | 1984-02-13 | 1984-02-13 | 湿式ブラスト装置におけるスラリ−移送系中の異常検出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60131358U (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2939475B2 (ja) * | 1994-09-12 | 1999-08-25 | 旭テクノグラス株式会社 | ホーニング装置 |
| PL3490719T3 (pl) * | 2016-07-28 | 2021-04-06 | Refractory Intellectual Property Gmbh & Co. Kg | System z zespołem dyszy rozpylającej i sposób natryskiwania masy nieorganicznej |
-
1984
- 1984-02-13 JP JP1984017521U patent/JPS60131358U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60131358U (ja) | 1985-09-03 |
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