JPS6348283A - 光学活性な分子内アセタ−ル系化合物およびその製造法 - Google Patents
光学活性な分子内アセタ−ル系化合物およびその製造法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、一般式〔■〕
〔式中、Xは酸素原子または2個の水素原子を表わし、
*l9、*2および*8は不斉炭素原子を表わす。X′
が酸素原子を表わし、*1および*3力1(8)配置を
有するとき、*2は@または(S)配置を有し、Xが酸
素原子を表わし、*1および*3が(S)配置を有する
とき、*2は(2)または(S)配置を有する。Xが2
個の水素原子を表わし、*lが(8)配置を有するとき
、*2および*3は(S)配置を有する。Xが2個の水
素原子を表わし、*1が$)配置を有するとき、*2お
よび*8は(8)配置を有する。〕 で示される分子内アセタール系化合物およびその製造法
に関する。
*l9、*2および*8は不斉炭素原子を表わす。X′
が酸素原子を表わし、*1および*3力1(8)配置を
有するとき、*2は@または(S)配置を有し、Xが酸
素原子を表わし、*1および*3が(S)配置を有する
とき、*2は(2)または(S)配置を有する。Xが2
個の水素原子を表わし、*lが(8)配置を有するとき
、*2および*3は(S)配置を有する。Xが2個の水
素原子を表わし、*1が$)配置を有するとき、*2お
よび*8は(8)配置を有する。〕 で示される分子内アセタール系化合物およびその製造法
に関する。
一般式〔■〕で示される分子内アセタール系化合物は、
Sinnwell らによって雄のスウイ;トモスか
ら単離され、その平面構造が一般式〔■〕のごとく推定
された性フェロモンの一成分である(Tetrahed
ron Lett、、 26 、1707(1985’
))が、その絶対立体配置に関しては全属し、多くは南
半球に生息し、1年生または多年生の草や木の根、幹、
枝、茎等に寄食する重要害虫である。
Sinnwell らによって雄のスウイ;トモスか
ら単離され、その平面構造が一般式〔■〕のごとく推定
された性フェロモンの一成分である(Tetrahed
ron Lett、、 26 、1707(1985’
))が、その絶対立体配置に関しては全属し、多くは南
半球に生息し、1年生または多年生の草や木の根、幹、
枝、茎等に寄食する重要害虫である。
一般式〔■〕で示される分子内アセタール系化合物は、
上記のごとく雄のスウィフトモスの成虫の性フェロモン
の一厘であり、日没後に雌の成虫をひきつける作用を示
すことから、該性フヱロモンを使用することによ抄、害
虫であるスウイフトモスを効果的に防除することができ
る。
上記のごとく雄のスウィフトモスの成虫の性フェロモン
の一厘であり、日没後に雌の成虫をひきつける作用を示
すことから、該性フヱロモンを使用することによ抄、害
虫であるスウイフトモスを効果的に防除することができ
る。
本発明者らは、一般式〔■〕で示される分子内アセター
ル系化合物の光学活性体の合成法に関し鋭意検討した結
果、一般式CI〕で示される光学活性な分子内アセター
ル系化合物を新規に合成するとともに天然物の立体構造
を明らかにし、かつ安価で容易な製造法を見出し、本発
明を完成するに至った。
ル系化合物の光学活性体の合成法に関し鋭意検討した結
果、一般式CI〕で示される光学活性な分子内アセター
ル系化合物を新規に合成するとともに天然物の立体構造
を明らかにし、かつ安価で容易な製造法を見出し、本発
明を完成するに至った。
すなわち、本発明は一般式〔1)で示される光学活性な
分子内アセタール系化合物、一般式〔「〕 〔式中、*2および*龜は不斉炭素原子を表わす。〕 で示されるヘミアセタール系化合物と酸とを反応させる
ことによる一般式〔1′〕 C式中、*1 、*2および*3は不斉炭素原子を表わ
す。*1および*3が(ト)配置を有するとき、*2は
(8)または(S)配置を有し、*1および*3が(S
)配置を有するとき、*2は(2)または(S)配置を
有する。〕で示される分子内アセタール系化合物の製造
法および一般式CM〕 〔式中、*t 、*lおよび*3は不斉炭素原子を表わ
す。*1および*8が(R)配置を有するとき、*2は
(S)配置を有し、*1および*3が(S)配置を有す
るとき、*2は[有])配置を有する。〕 で示されるジチオカーボネート系化合物と水素化トリー
n−ブチルすずとを反応させることによる一般式〔■〕 〔式中、*t 、*gおよび*8は不斉炭素原子を表わ
す。*1が(9)配置を有するとき、*2および*8ば
(S)配置を有し、*1が(S)配置を有するとき、*
2および*1は(2)配置を有するう) で示される分子内アセタール系化合物の製造法である。
分子内アセタール系化合物、一般式〔「〕 〔式中、*2および*龜は不斉炭素原子を表わす。〕 で示されるヘミアセタール系化合物と酸とを反応させる
ことによる一般式〔1′〕 C式中、*1 、*2および*3は不斉炭素原子を表わ
す。*1および*3が(ト)配置を有するとき、*2は
(8)または(S)配置を有し、*1および*3が(S
)配置を有するとき、*2は(2)または(S)配置を
有する。〕で示される分子内アセタール系化合物の製造
法および一般式CM〕 〔式中、*t 、*lおよび*3は不斉炭素原子を表わ
す。*1および*8が(R)配置を有するとき、*2は
(S)配置を有し、*1および*3が(S)配置を有す
るとき、*2は[有])配置を有する。〕 で示されるジチオカーボネート系化合物と水素化トリー
n−ブチルすずとを反応させることによる一般式〔■〕 〔式中、*t 、*gおよび*8は不斉炭素原子を表わ
す。*1が(9)配置を有するとき、*2および*8ば
(S)配置を有し、*1が(S)配置を有するとき、*
2および*1は(2)配置を有するう) で示される分子内アセタール系化合物の製造法である。
以下、一般式〔I〕で示される光学活性な分子内アセタ
ール系化合物の製造法についてさらに詳細に説明する。
ール系化合物の製造法についてさらに詳細に説明する。
一般式CM〕で示されるヘミアセタール系化合物と酸と
を反応させるととによる一般式〔自で示される光学活性
な分子内アセタール系化合物の製造にかいて使用される
酸としては、たとえばフッ化水素酸、塩酸または硫酸等
の鉱酸、三フッ化はう素工チルエーテル等のルイス酸等
があげられ、使用される溶媒は、使用する酸の種類によ
り使い分ける必要があり、鉱酸を用いる場合は、水と、
アセトン、アセトニトリル、ジエチルエーテル、n−ペ
ンタン、n−ヘキサン、ベンゼン、トルエン等の有機溶
媒との混合物が用いられ、ルイス酸を用いる場合は、無
水系で、塩化メチレン、クロロホルム、ジエチルエーテ
ル等のW機溶Kが用いられる。
を反応させるととによる一般式〔自で示される光学活性
な分子内アセタール系化合物の製造にかいて使用される
酸としては、たとえばフッ化水素酸、塩酸または硫酸等
の鉱酸、三フッ化はう素工チルエーテル等のルイス酸等
があげられ、使用される溶媒は、使用する酸の種類によ
り使い分ける必要があり、鉱酸を用いる場合は、水と、
アセトン、アセトニトリル、ジエチルエーテル、n−ペ
ンタン、n−ヘキサン、ベンゼン、トルエン等の有機溶
媒との混合物が用いられ、ルイス酸を用いる場合は、無
水系で、塩化メチレン、クロロホルム、ジエチルエーテ
ル等のW機溶Kが用いられる。
酸として鉱酸を用いる場合は、一般式〔I〕において、
不斉炭素原子*意および*8が、(9)配置および(S
)配置の組み合わせをもったヘミアセタール系化合物の
場合にのみ適用することができ、一般式〔■〕において
、不斉炭素原子*2および*Bが共に(9)配置または
(S)配置ヲもつヘミアセタール系化合物の場合には、
目的とする一般式〔I′〕 で示される分子内アセタ
ール系化合物は得られない。
不斉炭素原子*意および*8が、(9)配置および(S
)配置の組み合わせをもったヘミアセタール系化合物の
場合にのみ適用することができ、一般式〔■〕において
、不斉炭素原子*2および*Bが共に(9)配置または
(S)配置ヲもつヘミアセタール系化合物の場合には、
目的とする一般式〔I′〕 で示される分子内アセタ
ール系化合物は得られない。
酸として鉱酸を用いる場合、一般式(’I〕で示される
ヘミアセタール系化合物と酸とのモル比は、通常1:0
.01〜1000であり、好ましくは1:1〜100で
ある。
ヘミアセタール系化合物と酸とのモル比は、通常1:0
.01〜1000であり、好ましくは1:1〜100で
ある。
反応温度は通常−20〜100°Cであり、好ましくは
0〜40℃であり、反応時間は0.5〜60時間である
。
0〜40℃であり、反応時間は0.5〜60時間である
。
酸としてル・イス酸を用いる場合、一般式〔川〕で示さ
れるヘミアセタール系化合物と酸とのモル比は通常1:
0.5〜2.0であり、好ましくは1:0.8〜1.2
である。
れるヘミアセタール系化合物と酸とのモル比は通常1:
0.5〜2.0であり、好ましくは1:0.8〜1.2
である。
反応温度は通常−100〜40°Cであり、好ましくは
−80〜−20°Cであり、反応時間は0.5〜50時
間である。
−80〜−20°Cであり、反応時間は0.5〜50時
間である。
一般式(”IIで示されるジチオカーボネート系化合物
と水素化トリーn−ブチルすずとを反応させることによ
る一般式CI”〕 で示される光学活性な分子内アセタ
ール系化合物の製造において、一般式〔厘〕で示される
ジチオカーボネート系化合物に対する水素化トリーn−
ブチルすずのモル比は、通常1:1〜10であり、好ま
しくは1:1.1〜2.0である。
と水素化トリーn−ブチルすずとを反応させることによ
る一般式CI”〕 で示される光学活性な分子内アセタ
ール系化合物の製造において、一般式〔厘〕で示される
ジチオカーボネート系化合物に対する水素化トリーn−
ブチルすずのモル比は、通常1:1〜10であり、好ま
しくは1:1.1〜2.0である。
使用される溶媒としては、たとえばベンゼン、トルエン
、キシレン尋があげられ、反応は無水系で、窒素まだは
アルゴン雰囲気下に行なうことが望ましく、反応温度は
通常25〜200°Cであり、好ましくは60〜150
℃である。反応時間は1〜50時間であり、また該反応
を促進させるために、過酸化ベンゾイル、a、α′−ア
ゾビスー1so−ブチロニトリル等を共存させてもよい
。
、キシレン尋があげられ、反応は無水系で、窒素まだは
アルゴン雰囲気下に行なうことが望ましく、反応温度は
通常25〜200°Cであり、好ましくは60〜150
℃である。反応時間は1〜50時間であり、また該反応
を促進させるために、過酸化ベンゾイル、a、α′−ア
ゾビスー1so−ブチロニトリル等を共存させてもよい
。
一方、一般式〔菖〕で示されるヘミアセタール系化合物
は新規化合物であり、たとえば以下の反応経路によシ製
造することができる。
は新規化合物であり、たとえば以下の反応経路によシ製
造することができる。
CHs
〔■〕
式(IV〕で示される3−ヒドロキシエステルは既知化
合物であり、たとえば(2)−8−ヒドロキシペンタン
酸メチルは、n−ペンタン酸を微生物によってβ酸化(
J、Ferment TechnoL。
合物であり、たとえば(2)−8−ヒドロキシペンタン
酸メチルは、n−ペンタン酸を微生物によってβ酸化(
J、Ferment TechnoL。
59、 257(1981)、) 、メチルエステル化
した後、得られた光学的に粗なエステルをE・Hung
erbuhler らの方法(He1v、Chim、
ACta*e64.1467(1981))に従って
精製することにより、光学純度100%の[有])一体
が得られ、一方(S)一体は、8−オキソペンタン酸
n−オクチルを森もの方法(Tetrahed−ron
、 41 、919 (1985) )によってパン
妨Oを用いた還元反応を行列い、エステル交換によって
得た光学的に粗な(S) −8−ヒドロキシペンタン酸
メチルを(碍一体七同様表方法を用いて精製すること
により、容易に光学純度100%の(S)一体を得るこ
とができる。
した後、得られた光学的に粗なエステルをE・Hung
erbuhler らの方法(He1v、Chim、
ACta*e64.1467(1981))に従って
精製することにより、光学純度100%の[有])一体
が得られ、一方(S)一体は、8−オキソペンタン酸
n−オクチルを森もの方法(Tetrahed−ron
、 41 、919 (1985) )によってパン
妨Oを用いた還元反応を行列い、エステル交換によって
得た光学的に粗な(S) −8−ヒドロキシペンタン酸
メチルを(碍一体七同様表方法を用いて精製すること
により、容易に光学純度100%の(S)一体を得るこ
とができる。
式〔V〕〜〔x〕で示される化合物はいずれもタン酸
メチルを出発物質として用いることによ如同様に製造す
ることができる。
メチルを出発物質として用いることによ如同様に製造す
ることができる。
式mで示されるシリルエーテル系化合物はCoreyら
の方法(J、Am、 Cham、 Soc、 94 。
の方法(J、Am、 Cham、 Soc、 94 。
619G(1972))を用いて合成し、式〔■〕で示
されるアルコール系化合物は、Broksらの方法(T
etrahedron Lett*e 2 B 、 4
991(198り)に準じて合成し、ま上式〔■〕で示
されるアルデヒド系化合物は、Hersco −vic
i らの方法(J 、Chem 、 Soe 、Ch
em 、 Commun@−561(1980))の変
法により合成した。
されるアルコール系化合物は、Broksらの方法(T
etrahedron Lett*e 2 B 、 4
991(198り)に準じて合成し、ま上式〔■〕で示
されるアルデヒド系化合物は、Hersco −vic
i らの方法(J 、Chem 、 Soe 、Ch
em 、 Commun@−561(1980))の変
法により合成した。
さらに、式(IXlおよびCX〕で示されるフラン系化
合物は、約1:1の混合物として、Ramanatha
nら(J、Org、Cheme、 27 、1216(
1962))の変法によって誘導され石2゜8−ジメチ
ル−5−リチオフランffi〕と式CvI〕で示される
アルデヒド系化合物とから合成され、それぞれのジアス
テレオマー異性体をカラムクロマトグラフィーを用いて
分離1−た。
合物は、約1:1の混合物として、Ramanatha
nら(J、Org、Cheme、 27 、1216(
1962))の変法によって誘導され石2゜8−ジメチ
ル−5−リチオフランffi〕と式CvI〕で示される
アルデヒド系化合物とから合成され、それぞれのジアス
テレオマー異性体をカラムクロマトグラフィーを用いて
分離1−た。
一般式C1’Jで示されるヘミアセタール系化合物は、
Lefebvre の方法(Tetrahedron
Lett嗜1188(1972))を用い、m−クロ
ロ過安息香酸で、式rJIJまたは〔x〕で示されるフ
ラン系化合物を酸化することによって容易に合成するこ
とができる。
Lefebvre の方法(Tetrahedron
Lett嗜1188(1972))を用い、m−クロ
ロ過安息香酸で、式rJIJまたは〔x〕で示されるフ
ラン系化合物を酸化することによって容易に合成するこ
とができる。
また、一般式〔]〕で示されるジチオカーボネート系化
合物は、新規化合物であり、たとえば以下の反応経路に
より製造することができる。
合物は、新規化合物であり、たとえば以下の反応経路に
より製造することができる。
〔上記式中、*1.*2および*8は不斉炭素原子を表
わす。*1および*8が(2)配置を有するとき、*2
は[F])配置を有し、*1および*3が(S)配置を
有するとき、*!は(2)配置を有する。〕 上記反応式中、一般式CXi〕で示されるアルコール系
化合物は新規化合物であυ、Gemalらの方法(J、
Am、Chem、 5ock、 108 、5454
(1981”))に従って、塩化セリウム(1)存在下
、水素化ホウ素ナトリウムで還元することによって合成
され、また、一般式〔厘〕で示されるジチオカーボネー
ト系化合物ハ、−般式C’A〕で示されるアルコール系
化合物をn−ブチルリチウムと二硫化炭素で処理すると
とによって得られるジチオカーボネートリチウム塩をヨ
ウ化メチルと反応させることによって容易に得ることが
できる。
わす。*1および*8が(2)配置を有するとき、*2
は[F])配置を有し、*1および*3が(S)配置を
有するとき、*!は(2)配置を有する。〕 上記反応式中、一般式CXi〕で示されるアルコール系
化合物は新規化合物であυ、Gemalらの方法(J、
Am、Chem、 5ock、 108 、5454
(1981”))に従って、塩化セリウム(1)存在下
、水素化ホウ素ナトリウムで還元することによって合成
され、また、一般式〔厘〕で示されるジチオカーボネー
ト系化合物ハ、−般式C’A〕で示されるアルコール系
化合物をn−ブチルリチウムと二硫化炭素で処理すると
とによって得られるジチオカーボネートリチウム塩をヨ
ウ化メチルと反応させることによって容易に得ることが
できる。
次に実施例および参考例をあげ、本発明をさらに詳細に
説明する。
説明する。
実施例1
(IR,83,5R)−1,8−ジメチル−8−エチル
−2・+9−ジオキサビシクロ〔8,8,1トノン−7
一二ンー6−オン、I′の製造 (2R、6R3、2’S )−2−(2’−t −ブチ
ルジメチルシリルオキシブチル)−5゜6−シメチルー
6−ヒドロキシー2H−ピラン−8(6H)−オン0.
265 fのアセトニトリル(18,d)溶液に、46
%6%フッ素水溶液2.5−を攪拌下1,0°C,2分
間で滴下・した後、さらに室温で1時間攪拌した。次に
飽和炭酸カリウム水溶液20−を0°C,5分間で滴下
した。有機層を分液し、水層はジエチルエーテル(50
m/X2)抽出し、合わせた有機層は飽和食塩水で洗浄
後、無水硫酸ナトリウみて乾燥後、減圧下に溶媒を留去
した。
−2・+9−ジオキサビシクロ〔8,8,1トノン−7
一二ンー6−オン、I′の製造 (2R、6R3、2’S )−2−(2’−t −ブチ
ルジメチルシリルオキシブチル)−5゜6−シメチルー
6−ヒドロキシー2H−ピラン−8(6H)−オン0.
265 fのアセトニトリル(18,d)溶液に、46
%6%フッ素水溶液2.5−を攪拌下1,0°C,2分
間で滴下・した後、さらに室温で1時間攪拌した。次に
飽和炭酸カリウム水溶液20−を0°C,5分間で滴下
した。有機層を分液し、水層はジエチルエーテル(50
m/X2)抽出し、合わせた有機層は飽和食塩水で洗浄
後、無水硫酸ナトリウみて乾燥後、減圧下に溶媒を留去
した。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、つ
いで酸化マグネシウム存在下に蒸留することによって目
的物である(IR,8S 、 5R)−1’ 0.12
6 f (80%)を無色透明液体として得た。
いで酸化マグネシウム存在下に蒸留することによって目
的物である(IR,8S 、 5R)−1’ 0.12
6 f (80%)を無色透明液体として得た。
CHCl s )2CD (c =0.028 、 C
2H50H)Δt+21.6 (214nm)、−8,
8(2,42nm)、+8.9(852nm):UV(
c=4.7X10 5M/L、99.5.?二C2H
50H)ε1.1xlO’(226nm) ニジmax
2990(s)。
2H50H)Δt+21.6 (214nm)、−8,
8(2,42nm)、+8.9(852nm):UV(
c=4.7X10 5M/L、99.5.?二C2H
50H)ε1.1xlO’(226nm) ニジmax
2990(s)。
2940(s)、、2QO(m)、 1690(s)
。
。
16.80(m) j、 1485(す、 1880(
s)、 1840(m)。
s)、 1840(m)。
1800(m)、”1280(s)、’ 1250(m
)、 1280(s)。
)、 1280(s)。
1200(w)、 1190(m)、、 1140(s
)、 111.5(s)。
)、 111.5(s)。
9、.65(s)’、’ 9’40(w)、、 920
(m)、’、”880’(s)、、’。
(m)、’、”880’(s)、、’。
840(m)crn−1;δ(400MHz、CDCL
a) 0.88(8H,t、J=7.6Hz)、 1
.46(IH,ddq、J=14.0. 6.7. 7
.6Hz)、 1.58(8H,s)。
a) 0.88(8H,t、J=7.6Hz)、 1
.46(IH,ddq、J=14.0. 6.7. 7
.6Hz)、 1.58(8H,s)。
1.57(IH,ddq、J=14.0,6.7,7.
6Hz)、1.59(IH,ddd、J=14.0,8
.5,1.8Hz)、1.87 (II(。
6Hz)、1.59(IH,ddd、J=14.0,8
.5,1.8Hz)、1.87 (II(。
ddd、J=14.0.115.6.2Hz)、1.9
5(8H,d。
5(8H,d。
J=1.6Hz)、8.64(IH,dddd、J=1
2.5,6.7゜6.7 、8.5Hz )、4.82
(IH,ddd、J=6.2,1.8゜1.6Hz)、
6.15(IH,dq、J=1.6.16Hz)、光学
活性なシフト試薬を用い九H−NMR法によって純度を
測定した。すなわち、C6D−飢(o、4−)中に(I
R,8S、5R)−1’ 5.OW ト) 17ス(
8−へブタフルオロブタノイル−d−カンファラド)ユ
ーロピウム(I)(以下Eu(hfc)aと略す。)1
2.1qを含む溶液の400 MHz 1H−NMR
スペクトルにおイテ、C−7位のオレフィン性プロトン
の化学シフトはδ10.84ppm(100%)であっ
た。
2.5,6.7゜6.7 、8.5Hz )、4.82
(IH,ddd、J=6.2,1.8゜1.6Hz)、
6.15(IH,dq、J=1.6.16Hz)、光学
活性なシフト試薬を用い九H−NMR法によって純度を
測定した。すなわち、C6D−飢(o、4−)中に(I
R,8S、5R)−1’ 5.OW ト) 17ス(
8−へブタフルオロブタノイル−d−カンファラド)ユ
ーロピウム(I)(以下Eu(hfc)aと略す。)1
2.1qを含む溶液の400 MHz 1H−NMR
スペクトルにおイテ、C−7位のオレフィン性プロトン
の化学シフトはδ10.84ppm(100%)であっ
た。
(IR,8S、5R)−1’ のかわりに(IS。
〜
8R,5S)−I’を用いて同様のNMRスペクトルを
測定するとその化学シフトは89.8199mであった
。またEu(hfc)8 の存在しない場合のそれは
δ5.96ppmであった。このものはガスクロマトグ
ラフィー(Yanac。
測定するとその化学シフトは89.8199mであった
。またEu(hfc)8 の存在しない場合のそれは
δ5.96ppmであった。このものはガスクロマトグ
ラフィー(Yanac。
G180 ; カラム、 PEG−20M、 50m
X O,25■;カラム温度180℃;キャリヤーガ
ス:窒素、流速50d/m1n)でその保持時間が22
.1分であり、純度は100%であった。
X O,25■;カラム温度180℃;キャリヤーガ
ス:窒素、流速50d/m1n)でその保持時間が22
.1分であり、純度は100%であった。
またマススペクトルはm / zの測定値が196゜1
l108(”)であり、CI IHI 6011 に
対する計算値196.1099とほとんど一致した。
l108(”)であり、CI IHI 6011 に
対する計算値196.1099とほとんど一致した。
’ ”C−NMR(100MHz )δ9.05. 1
9.85゜24.78. 29.01.82.11,6
9.27゜75.04.95.99. 126.84.
156.89゜197.81 1H−NMRおよび”C−NMRH天然物とl託んど完
全に一致した。
9.85゜24.78. 29.01.82.11,6
9.27゜75.04.95.99. 126.84.
156.89゜197.81 1H−NMRおよび”C−NMRH天然物とl託んど完
全に一致した。
実施例2
(Is、8R,5S)−1,8−ジメチル−8−エチル
−2,9−ジオキサビシクロ11=8.8.11ノン−
7−エン−6−オン、■の製造 実施例1と同様の方法を用いて、(2S。
−2,9−ジオキサビシクロ11=8.8.11ノン−
7−エン−6−オン、■の製造 実施例1と同様の方法を用いて、(2S。
(3R8、2’R)−2−(2’−t〜ブチルジメチル
シリルオキシブチル)−5,6−シメチルー6−ヒドロ
キシー2H−ピラン−8(6H)−オン0.70fから
(Is、8R,5S)1 0.821(77%)を無色
透明液体として得九。 b@p・ 85℃(バス弓度)
、 / 0.2.22 Tor r 、 # nD 1−4821: 〔
a 〕o、 、878 ’(c= 1.14 、 C
HCIg ); CD(c =0.023 、 C2H
aOH)Δt −22,4(21’4nm) 、 +8
.’2’(242nm) 、 −4,0(852nm)
: Ell(hfc)aを用いた’)(−NMR分
析より、C−7位のオレフィン性プロトンの化学シ゛フ
トは89.’81 p p’mであり、光学純度は10
0%であった。このものはガスクロマトグラフィーより
化学的純度は100%であり、UV 、 I R、’H
−NM’Rス”eクトzLld(IR,BS、5R)−
Iと一致した。
シリルオキシブチル)−5,6−シメチルー6−ヒドロ
キシー2H−ピラン−8(6H)−オン0.70fから
(Is、8R,5S)1 0.821(77%)を無色
透明液体として得九。 b@p・ 85℃(バス弓度)
、 / 0.2.22 Tor r 、 # nD 1−4821: 〔
a 〕o、 、878 ’(c= 1.14 、 C
HCIg ); CD(c =0.023 、 C2H
aOH)Δt −22,4(21’4nm) 、 +8
.’2’(242nm) 、 −4,0(852nm)
: Ell(hfc)aを用いた’)(−NMR分
析より、C−7位のオレフィン性プロトンの化学シ゛フ
トは89.’81 p p’mであり、光学純度は10
0%であった。このものはガスクロマトグラフィーより
化学的純度は100%であり、UV 、 I R、’H
−NM’Rス”eクトzLld(IR,BS、5R)−
Iと一致した。
実施例8 〜
(Is、BS、5S)−1,8−ジメチル−8−エチル
−2,9−ジオキサビシクロC8、,8、、11ノーン
−7−二と6−オン、↓の製造 (2S 、 6R8、2’S )−2−(2’−
t −ブチルジメチルシリルオキシ−ブチル)−5゜ン
ー8(6H)−オン0.1489の無水塩化メチレン(
20m)溶液中に、アルゴン曾―チル56 u4を滴下
した後、4時間攪拌□゛仁た。
−2,9−ジオキサビシクロC8、,8、、11ノーン
−7−二と6−オン、↓の製造 (2S 、 6R8、2’S )−2−(2’−
t −ブチルジメチルシリルオキシ−ブチル)−5゜ン
ー8(6H)−オン0.1489の無水塩化メチレン(
20m)溶液中に、アルゴン曾―チル56 u4を滴下
した後、4時間攪拌□゛仁た。
反応終了後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液室温にもど
した。有機層を分液し、飽和食塩間液体として得た。
した。有機層を分液し、飽和食塩間液体として得た。
rd〕D、−246°(c=0.10 、CHClg)
’: ymax(CHCIs goIn)2980(
s)、 2950(s)。
’: ymax(CHCIs goIn)2980(
s)、 2950(s)。
2870(m)、 1680(s)、 1600(
w)。
w)。
1480(w)、 1880(m)、 1190(
w)。
w)。
1115(s)、 995(w)、 965(w’
)!、 885(w)、860(w)、840(w)
備−1;δ(400MHg、CDC1B)0.88(8
H,t、J=7.0Hz)、 1.46(IH,ddJ
、 J=14.7,6.7.7.6Hz)、 1.4
9(8H,s)、 1.58(IH,ddq。
)!、 885(w)、860(w)、840(w)
備−1;δ(400MHg、CDC1B)0.88(8
H,t、J=7.0Hz)、 1.46(IH,ddJ
、 J=14.7,6.7.7.6Hz)、 1.4
9(8H,s)、 1.58(IH,ddq。
J=14.7.6.7.7.6Hz)、 1.59(
IH,ddd、J=14.0,8.8.5.0Hz)、
2.01(8H,d、J=1.8Hz)。
IH,ddd、J=14.0,8.8.5.0Hz)、
2.01(8H,d、J=1.8Hz)。
2.82(IH,dcld 、 J=14.0 、9.
5 、5.5Hz ) 、 4.07J=0.8.1.
8Hz)、 C−NMR(100MHz、CDC1g
)。
5 、5.5Hz ) 、 4.07J=0.8.1.
8Hz)、 C−NMR(100MHz、CDC1g
)。
δ9.67.19.44,28.95.28.47.8
0.57,70.91゜72.55.95.76.12
1.18,162.78,198.51 。
0.57,70.91゜72.55.95.76.12
1.18,162.78,198.51 。
このものはガスクロマトグラフィーより、化学的純度は
99.0%であり、ジアステレオマー異性体である(I
R,8S、5R)−1’。
99.0%であり、ジアステレオマー異性体である(I
R,8S、5R)−1’。
を1.0%含んでいた。また、このものは少量であるた
めに蒸留はしなかった。
めに蒸留はしなかった。
実施例4
(IR,8R,5R)−1,8−ジメチル−8−エチル
−2,9−ジオキサビシクロ〔8,8,1〕ノン−7−
エン−6−オン。
−2,9−ジオキサビシクロ〔8,8,1〕ノン−7−
エン−6−オン。
I′の製造
実施例8と同様の方法を用いて、(2R16RS、2’
5)−2−(2’−tブチルジメチルシリルオキシブチ
ル)−5,6−シメチルー6−ヒドロキシー2H−ビラ
ン−8(6H)−オン0.5401から目的とする(I
R,8R,5R)−1’ 0.058g(16%)を
無色透明液体として得た。分析用サンプルは酸化マグネ
シウム存在下に減圧蒸留することによって得た・b−p
・80〜100℃(バス温度)Ca3:”6+849’
(c=0.29 、 CHCla) ;CD(c=0
.025 、 C11H50H) 6g −18,8
(280nm) 。
5)−2−(2’−tブチルジメチルシリルオキシブチ
ル)−5,6−シメチルー6−ヒドロキシー2H−ビラ
ン−8(6H)−オン0.5401から目的とする(I
R,8R,5R)−1’ 0.058g(16%)を
無色透明液体として得た。分析用サンプルは酸化マグネ
シウム存在下に減圧蒸留することによって得た・b−p
・80〜100℃(バス温度)Ca3:”6+849’
(c=0.29 、 CHCla) ;CD(c=0
.025 、 C11H50H) 6g −18,8
(280nm) 。
+10.9(257nm)、 +2.1(852nm)
νmax2980(s)、 2950(s)、 29
00(s)、 1690(s)、1680(m)、1
440(m)、1880(s)、1860(w)、18
40(w)、1800(m)、1280(m)、126
5(m)、 1210(m)、 120G(s)、
1110(s)、 101080(,10105
0(,101085(,995(m)、970(m)。
νmax2980(s)、 2950(s)、 29
00(s)、 1690(s)、1680(m)、1
440(m)、1880(s)、1860(w)、18
40(w)、1800(m)、1280(m)、126
5(m)、 1210(m)、 120G(s)、
1110(s)、 101080(,10105
0(,101085(,995(m)、970(m)。
940(w)、 920(m)、 890(m)副−1
,このものはガスクロマトグラフィーより化学的純度は
99.4%であり、ジアステレオマー異性体は含まれて
いないった。’H−NMRスペクトルは(IS、BS、
5S)−1″と一散した。
,このものはガスクロマトグラフィーより化学的純度は
99.4%であり、ジアステレオマー異性体は含まれて
いないった。’H−NMRスペクトルは(IS、BS、
5S)−1″と一散した。
実施例5
(IR,8S、5S)−1,8−ジメチル−8−エチル
−2,9−ジオキサビシクロ造 水素化トリーn−ブチルすず(97%)0、680−の
無水トルエン(50m)溶液にアルゴン雰囲気下に、(
IR,8S、SR。
−2,9−ジオキサビシクロ造 水素化トリーn−ブチルすず(97%)0、680−の
無水トルエン(50m)溶液にアルゴン雰囲気下に、(
IR,8S、SR。
6R)−0−1,8−ジメチル−8−エチル−2,9−
ジオキサビシクロ〔8,8,11ノン−7−エン−6−
イル S−メチルジチ才力−ボネート(0,472g)
の無水トルエン(20d)溶液を、加熱還流上攪拌しな
がら2.5時間で滴下した。滴下終了後、さらに6時間
加熱還流した後減圧下に溶媒を留去した。残渣をローパ
ー0カラムクロマトグラフイーに付し、目的とする(I
R,8S、5S)1” 0.157F(58%)を無
色透明液体と〜 して得た。分析用サンプルは減圧蒸留によってさらに精
製した。 b−p−75”C(バス温度)/ 1.6
Torr ; ”’ 1.4619 ; C
a)D” +165pD (c=0.67 、CHCla): CD(c=0.0
44 。
ジオキサビシクロ〔8,8,11ノン−7−エン−6−
イル S−メチルジチ才力−ボネート(0,472g)
の無水トルエン(20d)溶液を、加熱還流上攪拌しな
がら2.5時間で滴下した。滴下終了後、さらに6時間
加熱還流した後減圧下に溶媒を留去した。残渣をローパ
ー0カラムクロマトグラフイーに付し、目的とする(I
R,8S、5S)1” 0.157F(58%)を無
色透明液体と〜 して得た。分析用サンプルは減圧蒸留によってさらに精
製した。 b−p−75”C(バス温度)/ 1.6
Torr ; ”’ 1.4619 ; C
a)D” +165pD (c=0.67 、CHCla): CD(c=0.0
44 。
C2H50H、Δt −4,2(202nm) ;ν
max8050(w)、 2980(s)、 295
0(s)、 2900(s)。
max8050(w)、 2980(s)、 295
0(s)、 2900(s)。
2850(m)、1460(m)、1485(s)、1
870(s)。
870(s)。
1860(w)、1850(m)、1885(w)、1
880(w)。
880(w)。
1815(m)、 1800(w)、 1270(
w)、 1225(s)。
w)、 1225(s)。
1200(m)、 1145(s)、 1185(s)
、 1110(@)。
、 1110(@)。
1100(s)、106rih)、u0506n)、1
01025(、101010(。
01025(、101010(。
995(m)、975(s)、965(m)、950(
m)、915(m)、900(m)、875(s)、8
65(s)、81G(w)。
m)、915(m)、900(m)、875(s)、8
65(s)、81G(w)。
790(m)、765(w)z−”;δ(400MHz
、CDC1B )0.89(8H,t、J=7.6 H
z)、 1.87(IH,ddd、J=18.0 。
、CDC1B )0.89(8H,t、J=7.6 H
z)、 1.87(IH,ddd、J=18.0 。
8.5 、1.2 Hz ) 、 1.88(IH,
ddq、J=11.8.6.7 。
ddq、J=11.8.6.7 。
7.6 Hz)、1.41(8H,s)、1.54(I
H,ddq、J=18.8,6.7.7.6Hz)、1
.64(8H,ddd、J=2.4゜1.8,1.7H
z)、 1.82(1’H,ddd、J=18.0,
12.5゜5.8Hz)、1.87(IH,dddq、
J−19,0,5,2,5,0゜1.7 Hz)、 2
.65(IH,dddq、 J=19.0 、6.7
、2.5 。
H,ddq、J=18.8,6.7.7.6Hz)、1
.64(8H,ddd、J=2.4゜1.8,1.7H
z)、 1.82(1’H,ddd、J=18.0,
12.5゜5.8Hz)、1.87(IH,dddq、
J−19,0,5,2,5,0゜1.7 Hz)、 2
.65(IH,dddq、 J=19.0 、6.7
、2.5 。
1.8 Hz ) 、 8.77(1)J、dddd、
J=12.5 、6.7 、6.7 。
J=12.5 、6.7 、6.7 。
8.5 Hz)、 4.81 (IH,dddd、J=
6.7 、5.8 、5.2 、1.2Hz )、 5
.76(IH,ddq、 J=5.0 、2.5 、2
.4 ’Hz)。
6.7 、5.8 、5.2 、1.2Hz )、 5
.76(IH,ddq、 J=5.0 、2.5 、2
.4 ’Hz)。
このものはガスクロマトグラフィーより化学的純度が1
00%であり、その H−NMRスペクトルは天然物と
一致した。
00%であり、その H−NMRスペクトルは天然物と
一致した。
実施例6
(IS、8R,5R)−1,8−ジメチル−8−エチル
−2,9−ジオキサビシクロ造 実施例5と同様の方法を用いて、(IS。
−2,9−ジオキサビシクロ造 実施例5と同様の方法を用いて、(IS。
8R,5S、6S)−0−1,8−ジメチル−8−エチ
ル−2,9−ジオキサビシクロ(”8,8.1〕ノン−
7−エン−6−イルS−メチルジチオカーボネート01
2BFから、目的とする( Is 、8R,5R) −
1”0.105f(52%)を無色透明液体として得た
。分析用サンプルは、酸化マグネシウム存在下(C減圧
蒸留するととによりさらに精製した。 b、p争75
°C(バス温度)/ 1.6〜1,7Torr ; n
Dl、4([6: Ca〕D−110・(c=0.6
6 、 CHCl5) : CD(c=0.044 、
C2H50H)Δε十、1.2(202n m ) このものがガスクロマ1〜グラフイ一分析から化学的純
度は100%であり、IRおよび’H−NMRスペクト
ルは(IR,BS、5S)−■″ と一致した。
ル−2,9−ジオキサビシクロ(”8,8.1〕ノン−
7−エン−6−イルS−メチルジチオカーボネート01
2BFから、目的とする( Is 、8R,5R) −
1”0.105f(52%)を無色透明液体として得た
。分析用サンプルは、酸化マグネシウム存在下(C減圧
蒸留するととによりさらに精製した。 b、p争75
°C(バス温度)/ 1.6〜1,7Torr ; n
Dl、4([6: Ca〕D−110・(c=0.6
6 、 CHCl5) : CD(c=0.044 、
C2H50H)Δε十、1.2(202n m ) このものがガスクロマ1〜グラフイ一分析から化学的純
度は100%であり、IRおよび’H−NMRスペクト
ルは(IR,BS、5S)−■″ と一致した。
参考例1
メチル (S) = 8− t−ブチルジメチルシリル
オキシペンタン酸、■の製造 〜 アルゴン雰囲気下に、t−ブチルジメチルシリルクロリ
ド8.289とイミダゾール8.o9fとの混合物中に
、光学純度100j?e、e、 のメチル (S)
−8−ヒドロキシペンクン酸2.4゜fの無水N、N−
ジメチルホルムアミド(8−)溶液を加え、室温で20
時間攪拌した。
オキシペンタン酸、■の製造 〜 アルゴン雰囲気下に、t−ブチルジメチルシリルクロリ
ド8.289とイミダゾール8.o9fとの混合物中に
、光学純度100j?e、e、 のメチル (S)
−8−ヒドロキシペンクン酸2.4゜fの無水N、N−
ジメチルホルムアミド(8−)溶液を加え、室温で20
時間攪拌した。
反応混合物を氷水中に注ぎ、ジエチルエーテル(4os
gx2)で抽出後、水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
後、減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーに付し、ついで蒸留することにより
、目的とする(S)−V 4.11F(98%)を無
色透明液体として得た。 b、p、 78〜74°Ci
/ 2.OTorr : nDl−4251; Ca
〕D+28−4゜(c=1.08 、 CHClg)
: νmax 175ffs)、 1255(s)。
gx2)で抽出後、水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
後、減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーに付し、ついで蒸留することにより
、目的とする(S)−V 4.11F(98%)を無
色透明液体として得た。 b、p、 78〜74°Ci
/ 2.OTorr : nDl−4251; Ca
〕D+28−4゜(c=1.08 、 CHClg)
: νmax 175ffs)、 1255(s)。
1080(s)、 1040(s)、 1020(s)
、 840(s)、 780(s)crn’ ; 60
MHz ”H−NMR(CDCIg )δ0.05(8
H,s) 、0.06(8H,s) 、0.7〜1.0
(8H,m)。
、 840(s)、 780(s)crn’ ; 60
MHz ”H−NMR(CDCIg )δ0.05(8
H,s) 、0.06(8H,s) 、0.7〜1.0
(8H,m)。
0.87(9H,s)、 1.45(2H,m)、
2.42(2H,d。
2.42(2H,d。
J=6Hz)、 8.62(8H,s)、 4.0
5(IH,m)。
5(IH,m)。
(元素分析値C,58,88%;’H:10.65%、
理論値C058,48%:T(,10,68%)参考例
2 メチル (8)−8−t−ブチルジメチルシリルオキシ
ペンタン酸、■の製造 参考例1と同様の方法を用いて、光学純度100re、
e、 のメチル (9)−8−ヒドロキシペンタン酸
2.00fから目的とする(R)−V8.28F(88
%)を得た。b、p、71〜72Ca〕D−25,1’
(c=1.09 、CHClg)−I Rオ!びNM
I?スペクトルは(S) −Vと一致した。
理論値C058,48%:T(,10,68%)参考例
2 メチル (8)−8−t−ブチルジメチルシリルオキシ
ペンタン酸、■の製造 参考例1と同様の方法を用いて、光学純度100re、
e、 のメチル (9)−8−ヒドロキシペンタン酸
2.00fから目的とする(R)−V8.28F(88
%)を得た。b、p、71〜72Ca〕D−25,1’
(c=1.09 、CHClg)−I Rオ!びNM
I?スペクトルは(S) −Vと一致した。
参考例3
(S)−8−t−ブチルジメチルシリルオキシペンタン
−1−オール、■の製造 無水テトラヒドロフラン1〇−中の水素化ホウ素リチウ
ム0.31Nのサスベンジ■ンに、メチル (S) −
8−t−ブチルジメチルシリルオキシペンタン酸 8.
50yの無水テトラヒドロフラン(10m/)溶液を撹
拌しながら5分間で滴下した後、2時間攪拌下に加熱還
流した。反応混合物を0°Cに冷却し、ジエチルエーテ
ル80−を加え、攪拌下に飽和塩化アンモニウム水溶液
1tntを0°C15分間で滴下した。さらに0℃で8
0分間攪拌後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下
に溶媒を留去した。残渣はシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーに付し、さらに蒸留することにより目的とする
(S)−Vl 2.55 F (82%)を無色透明
液体として得た・ b、p・76〜78・/(c=1.
18 、CHClg); νmax 8850(s)、
1260(s)、 1040(s)、 1010(s
)、 840(s)、 780(s)LM−’δ(60
MHz、CDC1g) 0.08(6H,s)、 0
.7〜1.0(8H,111) −0−88(9H*
s )−−1,8〜1−9 (4H* m) 。
−1−オール、■の製造 無水テトラヒドロフラン1〇−中の水素化ホウ素リチウ
ム0.31Nのサスベンジ■ンに、メチル (S) −
8−t−ブチルジメチルシリルオキシペンタン酸 8.
50yの無水テトラヒドロフラン(10m/)溶液を撹
拌しながら5分間で滴下した後、2時間攪拌下に加熱還
流した。反応混合物を0°Cに冷却し、ジエチルエーテ
ル80−を加え、攪拌下に飽和塩化アンモニウム水溶液
1tntを0°C15分間で滴下した。さらに0℃で8
0分間攪拌後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下
に溶媒を留去した。残渣はシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーに付し、さらに蒸留することにより目的とする
(S)−Vl 2.55 F (82%)を無色透明
液体として得た・ b、p・76〜78・/(c=1.
18 、CHClg); νmax 8850(s)、
1260(s)、 1040(s)、 1010(s
)、 840(s)、 780(s)LM−’δ(60
MHz、CDC1g) 0.08(6H,s)、 0
.7〜1.0(8H,111) −0−88(9H*
s )−−1,8〜1−9 (4H* m) 。
2.8 (IH、brs)、 8.6〜4.0 (8H
,m) 。
,m) 。
該化合物の光学純度は、Dale らの方法(J・A
m、Chem、Soc、、 95.512(1978)
に従い相当する(R)−α−メトキシ−α−トリフルオ
ロメチルフェニル安息香酸(以後、MTPAと略す。)
エステルとした後、そのHPLC分析より測定した。
m、Chem、Soc、、 95.512(1978)
に従い相当する(R)−α−メトキシ−α−トリフルオ
ロメチルフェニル安息香酸(以後、MTPAと略す。)
エステルとした後、そのHPLC分析より測定した。
すなわち、HPLC条件(溶媒n−ヘキサン−テトラヒ
ドロフラン(200: 1 )、流速1.0m//mi
n 、 UV検出波長254 n m )で、その保持
時間は14.2分(100%)であり、一方のジアステ
レオマー異性体である(9)−■の(R)−MTPA
エステルは18.5分であった。
ドロフラン(200: 1 )、流速1.0m//mi
n 、 UV検出波長254 n m )で、その保持
時間は14.2分(100%)であり、一方のジアステ
レオマー異性体である(9)−■の(R)−MTPA
エステルは18.5分であった。
参考例4
(2)−8−t−ブチルジメチルシリルオキシペンクン
−1−オール、■の製造 参考例8と同様の方法を用いて、メチル(2)−8−1
−ブチルジメチルシリルオキシペンクン酸8.28 f
iから目的とする(9)−■2.60g(90%)を得
た。b−p−75〜76”C/ 1.1Torr :
nDl、4852 ; Ca〕D−17,5゜(c
=1.08 、 CHClB)、 I RおよびNMR
スペクトルは(S)−Vlと一致し、このものの R−
MTPAエステルのHPLC分析から、その光学純度は
100%e、e、であった。
−1−オール、■の製造 参考例8と同様の方法を用いて、メチル(2)−8−1
−ブチルジメチルシリルオキシペンクン酸8.28 f
iから目的とする(9)−■2.60g(90%)を得
た。b−p−75〜76”C/ 1.1Torr :
nDl、4852 ; Ca〕D−17,5゜(c
=1.08 、 CHClB)、 I RおよびNMR
スペクトルは(S)−Vlと一致し、このものの R−
MTPAエステルのHPLC分析から、その光学純度は
100%e、e、であった。
参考例5
(S) −8−t−ブチルジメチルシリルオキシペンタ
ナール、■の製造 び無水塩化メチレン80−の混合物中にアルゴン雰囲気
下に、(S) −8−t−ブチルジメチルシリルオキシ
ペンタン−1−オール 2.581の無水塩化メチレン
(20m)溶液を滴下、攪拌した後、さらに8時間攪拌
した。反応終了後混合物をフロリジル100fを通じて
無機物を除き、減圧下に濃縮し、゛目的とする(S)−
■2.21N(87%)を得た。 シmax2720
(w)、1725(s)、 1040(s)、 102
0(s)cIn−’ガスクロマトグラフィー分析により
、該反応生成物中に未反応の(S) −Vlを5.8%
含んでいたが、特に精製することなく、次の工程でその
まま用いた。
ナール、■の製造 び無水塩化メチレン80−の混合物中にアルゴン雰囲気
下に、(S) −8−t−ブチルジメチルシリルオキシ
ペンタン−1−オール 2.581の無水塩化メチレン
(20m)溶液を滴下、攪拌した後、さらに8時間攪拌
した。反応終了後混合物をフロリジル100fを通じて
無機物を除き、減圧下に濃縮し、゛目的とする(S)−
■2.21N(87%)を得た。 シmax2720
(w)、1725(s)、 1040(s)、 102
0(s)cIn−’ガスクロマトグラフィー分析により
、該反応生成物中に未反応の(S) −Vlを5.8%
含んでいたが、特に精製することなく、次の工程でその
まま用いた。
参考例6
(R) −8−t−ブチルジメチルシリルオキシペンタ
ナール、■の製造 参考例5と同様の方法を用いて、(2)−8−t−ブチ
ルジメチルシリルオキシペンタン−1−オール2.18
1から目的とする[有])−Vl〜 2.21F(定量的)を得た。
ナール、■の製造 参考例5と同様の方法を用いて、(2)−8−t−ブチ
ルジメチルシリルオキシペンタン−1−オール2.18
1から目的とする[有])−Vl〜 2.21F(定量的)を得た。
GLC分析より、純度は98.1%であり、未反応の(
2)−■を1.9%含んでいたが、このまま次工程に用
いた。IRスペクトルは(S)−■と一致した。
2)−■を1.9%含んでいたが、このまま次工程に用
いた。IRスペクトルは(S)−■と一致した。
参考例7
(1’R、8’S) −5−(8’ −t−ブチルシリ
ルオキシ−1′−とドロキシペンチル)−2゜8−ジメ
チルフラン、■および(1’8 、8’5)−5−(8
’−t−ブチルジメチルシリルオキシ−1′−ヒドロキ
シペンチル)−2゜8−ジメチルフラン、Xの製造 2.8−ジメチルフラン(含量98.4%)0.471
Nの無水ジエチルエーテル(10m)溶液中にアルゴン
雰囲気下、4〜5°C110分間でt−ブチルリチウム
(2,8M/Ln−ペンタン溶液)1.99−を滴下攪
拌した後間温度で2時間攪拌することによって、2.8
−ジメチル−5−リチオフラン、糧のジエチルエーテル
溶液を調製した。次に、このものに、−77°C110
分間で(S) −8−t−ブチルジメチルシリルオキシ
ペンタナール0.4251の無水ジエチルエーテル(5
−)溶液を滴下攪拌した後、さらに−77°Cで1時間
、つhで室温で15時間攪拌した。反応混合物は、粉砕
した氷50g中に注ぎ、食塩で飽和し、10分間攪拌し
た後、ジエチルエーテルで抽出し、飽和食塩水で洗浄後
無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去し
、(1′R、3’S ’)−ffオ、l:ヒ(1’S
、 8’S )−xノ約1:1ジアステレオマ一混合物
を得た。ただし、HPLC分析は(条件:溶媒n−ヘキ
サン−テトラヒドロフラン(20:1)、流速0.8
ml/ min; U V検出波長;280nm)で保
持時間が1167分および14.6分であった。上記残
渣を、シリカゲルローバー■カラムクロマトグラフィー
に付し、目的とする(1’R,8’S) −ff0.1
81180%、ジアステレオマー純度99.1%)およ
び(1・S、8’5)io、195F(82%、ジアス
テレオマー純度98.0%)を得た。
ルオキシ−1′−とドロキシペンチル)−2゜8−ジメ
チルフラン、■および(1’8 、8’5)−5−(8
’−t−ブチルジメチルシリルオキシ−1′−ヒドロキ
シペンチル)−2゜8−ジメチルフラン、Xの製造 2.8−ジメチルフラン(含量98.4%)0.471
Nの無水ジエチルエーテル(10m)溶液中にアルゴン
雰囲気下、4〜5°C110分間でt−ブチルリチウム
(2,8M/Ln−ペンタン溶液)1.99−を滴下攪
拌した後間温度で2時間攪拌することによって、2.8
−ジメチル−5−リチオフラン、糧のジエチルエーテル
溶液を調製した。次に、このものに、−77°C110
分間で(S) −8−t−ブチルジメチルシリルオキシ
ペンタナール0.4251の無水ジエチルエーテル(5
−)溶液を滴下攪拌した後、さらに−77°Cで1時間
、つhで室温で15時間攪拌した。反応混合物は、粉砕
した氷50g中に注ぎ、食塩で飽和し、10分間攪拌し
た後、ジエチルエーテルで抽出し、飽和食塩水で洗浄後
無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去し
、(1′R、3’S ’)−ffオ、l:ヒ(1’S
、 8’S )−xノ約1:1ジアステレオマ一混合物
を得た。ただし、HPLC分析は(条件:溶媒n−ヘキ
サン−テトラヒドロフラン(20:1)、流速0.8
ml/ min; U V検出波長;280nm)で保
持時間が1167分および14.6分であった。上記残
渣を、シリカゲルローバー■カラムクロマトグラフィー
に付し、目的とする(1’R,8’S) −ff0.1
81180%、ジアステレオマー純度99.1%)およ
び(1・S、8’5)io、195F(82%、ジアス
テレオマー純度98.0%)を得た。
(1’R、8’S )−41のIRスペクトルはνma
x8450(m)、 1250(s)、 1220
(s)、 10401040(s)eであり、(1’
S 、 8’S )−iのIRスペクトルは、(1’R
、8’S ) −[とはとんど同様なものであったつ 参考例8 (1’3.8″R) −5−(8′−t−ブチルジメチ
ルシリルオキシ−1′−ヒドロキシペンチル)−2,8
−ジメチルフラン、■および(1・R、8’R)−5−
(8’−t−ブチルジメチルシリルオキシ−11−ヒド
ロキシペンチル)−2,8−ジメチルフラン、xの製造 参考例7と同様の方法を用いて、(R) −8−t−ブ
チルジメチルシリルオキシペンタナール2.16 fか
ら(1’8.8’R)−ff0.80g(26%、ジア
ステレオマー純度99.4%)オuヒ(1’R、8’R
)−I O,88f (27%、ジアステレオマー純度
98.2%)を得た。それぞれのIRスペクトルは(1
’R、8’S ’l −ルジメチルシリルオキシ)−5
,6−シメチルー6−ヒドロキシー2H−ピラン−8(
6H)−オン、■の製造 (1’R、8’S ) −5−(8’−t−ブチルジメ
チルシリルオキシ−1′−ヒドロキシペンチル)−2,
8−ジメチルフラン0.181 fの無水塩化メチレン
(20μt )溶液中に0℃でm−クロロ過安息香酸(
純度80%) 0.125fを加え、1時間攪拌した。
x8450(m)、 1250(s)、 1220
(s)、 10401040(s)eであり、(1’
S 、 8’S )−iのIRスペクトルは、(1’R
、8’S ) −[とはとんど同様なものであったつ 参考例8 (1’3.8″R) −5−(8′−t−ブチルジメチ
ルシリルオキシ−1′−ヒドロキシペンチル)−2,8
−ジメチルフラン、■および(1・R、8’R)−5−
(8’−t−ブチルジメチルシリルオキシ−11−ヒド
ロキシペンチル)−2,8−ジメチルフラン、xの製造 参考例7と同様の方法を用いて、(R) −8−t−ブ
チルジメチルシリルオキシペンタナール2.16 fか
ら(1’8.8’R)−ff0.80g(26%、ジア
ステレオマー純度99.4%)オuヒ(1’R、8’R
)−I O,88f (27%、ジアステレオマー純度
98.2%)を得た。それぞれのIRスペクトルは(1
’R、8’S ’l −ルジメチルシリルオキシ)−5
,6−シメチルー6−ヒドロキシー2H−ピラン−8(
6H)−オン、■の製造 (1’R、8’S ) −5−(8’−t−ブチルジメ
チルシリルオキシ−1′−ヒドロキシペンチル)−2,
8−ジメチルフラン0.181 fの無水塩化メチレン
(20μt )溶液中に0℃でm−クロロ過安息香酸(
純度80%) 0.125fを加え、1時間攪拌した。
反応混合物は冷却した 飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
2〇−中に注ぎ、0°Cで5分間攪拌した。有機層を分
液し、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、減圧下tc溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトクラフィーに付し、さらにn−ペンタンから
再結晶することにより、目的とする(2R,6R8,2
’5)−10,168g(88%)を白色結晶として得
た。 ”−p−69%71°C; vmax 1685
(a)、 1250(s)、 1120(s)。
2〇−中に注ぎ、0°Cで5分間攪拌した。有機層を分
液し、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、減圧下tc溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトクラフィーに付し、さらにn−ペンタンから
再結晶することにより、目的とする(2R,6R8,2
’5)−10,168g(88%)を白色結晶として得
た。 ”−p−69%71°C; vmax 1685
(a)、 1250(s)、 1120(s)。
1050(s)、 885(s)、 775(s)ay
+ ’ ; 60MHz’H−NMRδ(CDC1g
’) 0.10(6H,s)、 0.8〜1.0(8
H,m)、 0.90(9H,s)、1.5〜1.7(
2H,m)。
+ ’ ; 60MHz’H−NMRδ(CDC1g
’) 0.10(6H,s)、 0.8〜1.0(8
H,m)、 0.90(9H,s)、1.5〜1.7(
2H,m)。
1.62(8H,s)、 1.8〜2.1(2H,m
)、 2.08(8H。
)、 2.08(8H。
m)、 8.8〜8.6(IH,m)、 8.8〜4.
0(IH,m)。
0(IH,m)。
4.4〜4.7(IH,m)、5.85(IH,brs
)参考例10 (2S、6R3,2’R)−2−(2’−t−ブチルジ
メチルシリルオキシ−1″−ヒドロキシペンチル)−5
,6−シメチルー6−ヒドロキシー2H−ピラン−8(
6H)−オン、Iの製造 参考例9と同様の方法を用いJ、(1’S 、 8’R
)−5−(8’−t−ブチルジメチルシリルオキシ−1
′−ヒドロキシペンチル)−2,8−シメチルフラン0
.75f/から目的とする(2S、6R3,2’R)−
10,71g(90%)を得た。m、p、59〜71’
c1 I RおよびNMRスペクトルは(2R,6R3
,2’S)−■とほとんど一致した。
)参考例10 (2S、6R3,2’R)−2−(2’−t−ブチルジ
メチルシリルオキシ−1″−ヒドロキシペンチル)−5
,6−シメチルー6−ヒドロキシー2H−ピラン−8(
6H)−オン、Iの製造 参考例9と同様の方法を用いJ、(1’S 、 8’R
)−5−(8’−t−ブチルジメチルシリルオキシ−1
′−ヒドロキシペンチル)−2,8−シメチルフラン0
.75f/から目的とする(2S、6R3,2’R)−
10,71g(90%)を得た。m、p、59〜71’
c1 I RおよびNMRスペクトルは(2R,6R3
,2’S)−■とほとんど一致した。
参考例11
(2S 、 6R3、2’S ) −2−(2’−t
−ブチル−ジメチルシリルオキシ−11−ヒドロキシペ
ンチル)−5,6−シメチルー6−ヒドロキシー2H−
ピラン−8(6H)−オン、■の製造 参考例9と同様の方法を用いて、(1’S。
−ブチル−ジメチルシリルオキシ−11−ヒドロキシペ
ンチル)−5,6−シメチルー6−ヒドロキシー2H−
ピラン−8(6H)−オン、■の製造 参考例9と同様の方法を用いて、(1’S。
8’S )−5−(8′−t−ブチルジメチルシリルオ
キシ−1′−ヒドロキシペンチル)−2゜8−ジメチル
フラン0.1951から目的とする(2S、6R8,2
’5)−10,191F(98%)を得た。m、p、’
IT〜79°C;νmax 8800(m)、 1
685(s)、 1255(s)、 1180(s
)。
キシ−1′−ヒドロキシペンチル)−2゜8−ジメチル
フラン0.1951から目的とする(2S、6R8,2
’5)−10,191F(98%)を得た。m、p、’
IT〜79°C;νmax 8800(m)、 1
685(s)、 1255(s)、 1180(s
)。
110’5(s)、 101050(s)’ : 1H
−NMR(60MHz 。
−NMR(60MHz 。
CDCl8)δ0.0B(6H,s)、0.8〜1.1
(8H,m)。
(8H,m)。
0.88(9H,s)、1.2〜1.8(2H,m)、
1.59(8H。
1.59(8H。
s)、、1.9〜2.2(2H,m)、 2.00(
8H,m)、 8.8〜8.6(IH,m)、 8
.8〜4.0(IH,m)、 4.4〜4.7(IH
,m)、 5.80(LH,br s)参考例12 (2R、6R3、2’R)−2−(2’ −t −ブチ
ルジメチルシリルオキシブチル)−5゜6−シメチルー
6−ヒドロキシー2H−ビラン−8(6H)−オン、I
の製造 参考例9と同様の方法を用いて、(1’R。
8H,m)、 8.8〜8.6(IH,m)、 8
.8〜4.0(IH,m)、 4.4〜4.7(IH
,m)、 5.80(LH,br s)参考例12 (2R、6R3、2’R)−2−(2’ −t −ブチ
ルジメチルシリルオキシブチル)−5゜6−シメチルー
6−ヒドロキシー2H−ビラン−8(6H)−オン、I
の製造 参考例9と同様の方法を用いて、(1’R。
8’R)−5−(8’−t−ブチルジメチルシリルオキ
シ−1′−ヒドロキシペンチル)−2゜3−ジメチルフ
ラン0.987 fから目的とする(2R,6RS、2
’R)−IO,875F(86%)を得た。、 m、p
、77〜80℃、このもののIRおよびNMRスペクト
ルは(2S 、 6R3、2’S )−Iと一致した。
シ−1′−ヒドロキシペンチル)−2゜3−ジメチルフ
ラン0.987 fから目的とする(2R,6RS、2
’R)−IO,875F(86%)を得た。、 m、p
、77〜80℃、このもののIRおよびNMRスペクト
ルは(2S 、 6R3、2’S )−Iと一致した。
参考例18
(IR,8S、5R,6R)−1,8−ジメチル−8−
エチル−2,9−ジオキサビシクロCB、8.IJノン
−7−エン−6−オール、Xの製造 (IR,83,5R)−1,8−ジメチル−3−エチル
−2,9−ジオキサビシクロCB、8.1〕ノン−7−
エン−6−オン0.420P:Thよび塩化セリウム(
I)7水和物0.7979のメタノール(20ゴ)溶液
に、攪拌下に、室温で水素化ホウ素ナトリウム0.08
1Fを加え、10分間攪拌した。反応混合物を冷水20
−に注ぎ、希塩酸でpH7に調整した。ついでジエチル
エーテル(50ゴ×4)で抽出し、飽和食塩水で洗浄後
、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去
した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーに付し、目的とする(IR,BS、5R,6R)−
XIO,898F(94%)を得た。
エチル−2,9−ジオキサビシクロCB、8.IJノン
−7−エン−6−オール、Xの製造 (IR,83,5R)−1,8−ジメチル−3−エチル
−2,9−ジオキサビシクロCB、8.1〕ノン−7−
エン−6−オン0.420P:Thよび塩化セリウム(
I)7水和物0.7979のメタノール(20ゴ)溶液
に、攪拌下に、室温で水素化ホウ素ナトリウム0.08
1Fを加え、10分間攪拌した。反応混合物を冷水20
−に注ぎ、希塩酸でpH7に調整した。ついでジエチル
エーテル(50ゴ×4)で抽出し、飽和食塩水で洗浄後
、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去
した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーに付し、目的とする(IR,BS、5R,6R)−
XIO,898F(94%)を得た。
n881.4798 ; Ca〕D ””’(c=0.
81゜CHCIB) ; νmax 8450(s
)、 1840(s)、 1285(s)、 11
95(s)、 1150(s)、 1105(s)、
1060(s)。
81゜CHCIB) ; νmax 8450(s
)、 1840(s)、 1285(s)、 11
95(s)、 1150(s)、 1105(s)、
1060(s)。
1080(s)、 880(s)cfn’ δC4
0C40O’H−NMR、CDCIB)0.91(8H
,t 、 J=7.0Hz ) 、 1.1〜2.0(
5H,m)、 1.48(8H,s)、 In2(8H
,m)。
0C40O’H−NMR、CDCIB)0.91(8H
,t 、 J=7.0Hz ) 、 1.1〜2.0(
5H,m)、 1.48(8H,s)、 In2(8H
,m)。
8.5〜19(IH,m)、4.1〜4.8(IH,m
)、4.5〜4.7(IH,br m)、5−70(I
H,br m)参考例14 (IS、8R,5S、61)−1,8−ジメチル−3−
エチル−2,9−ジオキサビシクロ〔8,3,1〕ノン
−7−エン−6−オール、XIの製造 参考例18と同様の方法を用−て、(1s。
)、4.5〜4.7(IH,br m)、5−70(I
H,br m)参考例14 (IS、8R,5S、61)−1,8−ジメチル−3−
エチル−2,9−ジオキサビシクロ〔8,3,1〕ノン
−7−エン−6−オール、XIの製造 参考例18と同様の方法を用−て、(1s。
8R,5S)−1,8−ジメチル−8−エチル−2,9
−ジオキサビシクロCB 、 8 、11ノン−7−:
xシー6−オン0.810fから目的とする(Is、8
R,5S、6S)−XIO,808g(98%)を得た
。
−ジオキサビシクロCB 、 8 、11ノン−7−:
xシー6−オン0.810fから目的とする(Is、8
R,5S、6S)−XIO,808g(98%)を得た
。
nD 1.4792:〔α’1lD−45,8°(c=
1.20゜CHCIB)、、 ?ニー(DもののIR
およびNMRスペクトルは、(IR,BS、5R,6R
)−Mと一致した。
1.20゜CHCIB)、、 ?ニー(DもののIR
およびNMRスペクトルは、(IR,BS、5R,6R
)−Mと一致した。
参考例15
(IR,BS、5R,6R)−0−1,8−ジメチル−
8−エチル−2,9−ジオキサビシクロ(8,8,1〕
ノン−7−エン−6−イル S−メチルジチオカーボネ
ート、Iの製造 (IR,8S、5R,6R)−1,8−ジメチル−8−
エチル−2,9−ジオキサビシクロ(8,8,1’)ノ
ン−7−エン−6−オール0.8641の無水テトラヒ
ドロフラン(80m/)溶液に窒素雰囲気下、−77°
C15分間でn−ブチルリチウム(1,5M/C。
8−エチル−2,9−ジオキサビシクロ(8,8,1〕
ノン−7−エン−6−イル S−メチルジチオカーボネ
ート、Iの製造 (IR,8S、5R,6R)−1,8−ジメチル−8−
エチル−2,9−ジオキサビシクロ(8,8,1’)ノ
ン−7−エン−6−オール0.8641の無水テトラヒ
ドロフラン(80m/)溶液に窒素雰囲気下、−77°
C15分間でn−ブチルリチウム(1,5M/C。
n−ヘキサン溶液)112*を滴下、攪拌した後0℃で
1時間攪拌した。ついで、二硫化炭go、28(lの無
水テトラヒドロフラン(5−)溶液を0℃、5分間で滴
下、攪拌した後、さらに同温度で80分間攪拌した。
1時間攪拌した。ついで、二硫化炭go、28(lの無
水テトラヒドロフラン(5−)溶液を0℃、5分間で滴
下、攪拌した後、さらに同温度で80分間攪拌した。
このものにヨウ化メチル0.782Nの無水テトラヒド
ロフラン(5−)溶液を0℃、10分間で滴下、攪拌し
た後、さらに0℃で80分間、ついで室温で12時間攪
拌した。反応終了後、混合物を飽和塩化アンモニウム水
溶[(100m)に注ぎ、ジエチルエーテルで抽出し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に溶媒を留去し
た。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに付し、目的とする( IR,8S 、5R,6R)
−10,489N、(90%)を得た。
ロフラン(5−)溶液を0℃、10分間で滴下、攪拌し
た後、さらに0℃で80分間、ついで室温で12時間攪
拌した。反応終了後、混合物を飽和塩化アンモニウム水
溶[(100m)に注ぎ、ジエチルエーテルで抽出し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に溶媒を留去し
た。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに付し、目的とする( IR,8S 、5R,6R)
−10,489N、(90%)を得た。
nDl、5429 ; 〔a〕D−86,10(c
m0.72゜CHClg); ymax 1210(s
)、 1155(m)、 1145(m)、 1110
(m)、 1060(s)、 970(m)、 880
(m)cm−” : δ(100MHz H−N
MR,ODClg)0.98(8H,t、J=7.0H
z)、 1.8〜1.9(4H,m)。
m0.72゜CHClg); ymax 1210(s
)、 1155(m)、 1145(m)、 1110
(m)、 1060(s)、 970(m)、 880
(m)cm−” : δ(100MHz H−N
MR,ODClg)0.98(8H,t、J=7.0H
z)、 1.8〜1.9(4H,m)。
1.44(8H,s)、 1.71(8H,m)、
2.59(8H,s)。
2.59(8H,s)。
8.6〜4.0(IH,m)、 4.4〜4.6(I
H,m)、 5.78(LH,brL 6.2〜6.
4(LH,m)参考例16 (IS、8R,5S、6S)−0−1,8−ジメチル−
8−エチル2.9−ジオキサビシクロ(8,8,11ノ
ン−7−エン−6−イル S−メチルジチオカーボネー
ト。
H,m)、 5.78(LH,brL 6.2〜6.
4(LH,m)参考例16 (IS、8R,5S、6S)−0−1,8−ジメチル−
8−エチル2.9−ジオキサビシクロ(8,8,11ノ
ン−7−エン−6−イル S−メチルジチオカーボネー
ト。
厘の製造
参考例15と同様の方法を用いて、(IS。
8R,5S、6S)−1,8−ジメチル−8−エチル−
2,9−ジオキサビシクロ〔8゜8.1〕ノン−7−エ
ン−6−オール0.805fから、目的とする(IS、
8R,5S、6nDl、5428 : Ca携’ +8
8.5°(cm0.65゜CHClB)このもののIR
およびNMRスペクトルは(IR,8S、5R,6R)
−夏と一致した。
2,9−ジオキサビシクロ〔8゜8.1〕ノン−7−エ
ン−6−オール0.805fから、目的とする(IS、
8R,5S、6nDl、5428 : Ca携’ +8
8.5°(cm0.65゜CHClB)このもののIR
およびNMRスペクトルは(IR,8S、5R,6R)
−夏と一致した。
(49完)
Claims (5)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Xは酸素原子または2個の水素原 子を表わし、*1、*2および*3は不斉 炭素原子を表わす。Xが酸素原子を表わし、*1および
*3が(R)配置を有するとき、*2は(R)または(
S)配置を有し、Xが酸素原子を表わし、*1および*
3が(S)配置を有するとき、*2は(R)または(S
)配置を有する。Xが2個の水素原子を表わし、*1が
(R)配置を有するとき、*2および*3は(S)配置
を有する。Xが2個の水素原子を表わし、*1が(S)
配置を有するとき、*2および*3は(R)配置を有す
る。〕 で示される分子内アセタール系化合物。 - (2)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、*1、*2および*3は不斉炭素 原子を表わす。*1および*3が(R)配置を有すると
き、*2は(R)または(S)配置を有し、*1および
*3が(S)配置を有するとき、*2は(R)または(
S)配置を有する。〕 で示される特許請求の範囲第1項に記載の分子内アセタ
ール系化合物。 - (3)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、*1、*2および*3は不斉炭素 原子を表わす。*1が(R)配置を有するとき*2およ
び*3は(S)配置を有し、*1が(S)配置を有する
とき、*2および*3は(R)配置を有する。〕 で示される特許請求の範囲第1項に記載の分子内アセタ
ール系化合物。 - (4)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、*2および*3は不斉炭素原子を 表わす。〕 で示されるヘミアセタール系化合物と酸とを反応させる
ことを特徴とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、*1、*2および*3は不斉炭素 原子を表わす。*1および*3が(R)配置を有すると
き、*2は(R)または(S)配置を有し、*1および
*3が(S)配置を有するとき、*2は(R)または(
S)配置を有する。〕 で示される分子内アセタール系化合物の製造法。 - (5)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、*1、*2および*3は不斉炭素 原子を表わす。*1および*3が(R)配置を有すると
き、*2は(S)配置を有し、*1および*3が(S)
配置を有するとき、*2は(R)配置を有する。〕 で示されるジチオカーボネート系化合物と水素化トリ−
n−ブチルすずとを反応させることを特徴とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、*1、*2および*3は不斉炭素 原子を表わす。*1が(R)配置を有するとき、*2お
よび*3は(S)配置を有し、*1が(S)配置を有す
るとき、*2および*3は(R)配置を有する。〕 で示される分子内アセタール系化合物の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61191942A JPS6348283A (ja) | 1986-08-15 | 1986-08-15 | 光学活性な分子内アセタ−ル系化合物およびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61191942A JPS6348283A (ja) | 1986-08-15 | 1986-08-15 | 光学活性な分子内アセタ−ル系化合物およびその製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6348283A true JPS6348283A (ja) | 1988-02-29 |
Family
ID=16283018
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61191942A Pending JPS6348283A (ja) | 1986-08-15 | 1986-08-15 | 光学活性な分子内アセタ−ル系化合物およびその製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6348283A (ja) |
-
1986
- 1986-08-15 JP JP61191942A patent/JPS6348283A/ja active Pending
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