JPS6344009B2 - - Google Patents
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- JPS6344009B2 JPS6344009B2 JP55134820A JP13482080A JPS6344009B2 JP S6344009 B2 JPS6344009 B2 JP S6344009B2 JP 55134820 A JP55134820 A JP 55134820A JP 13482080 A JP13482080 A JP 13482080A JP S6344009 B2 JPS6344009 B2 JP S6344009B2
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B01J8/38—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles according to "fluidised-bed" technique with fluidised bed containing a rotatable device or being subject to rotation or to a circulatory movement, i.e. leaving a vessel and subsequently re-entering it
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- B01J8/386—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles according to "fluidised-bed" technique with fluidised bed containing a rotatable device or being subject to rotation or to a circulatory movement, i.e. leaving a vessel and subsequently re-entering it being subject to a circulatory movement only internally, i.e. the particles rotate within the vessel
-
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-
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- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は流動層装置を稼動させるに際し、流動
層を形成させる上昇ガス流に同伴して、流動して
いる粒子が該装置外へ飛散するのを抑制する方法
に関する。 流動層は固体粒子が上昇ガス流により流動化し
ている層でありこの流動層装置を用いた方法には
石油の灯油以上の高沸点留分を流動化している触
媒と接触させ、これを分解させることによつて高
オクタン価ガソリンを製造する方法（通称FCC
法）、石油の重質油を流動化している熱媒体固体
粒子と接触させオレフインを主体とするガスを取
り出す方法、湿つた固体粉粒状物を高温ガスで流
動化させ乾燥する方法、プロピレン、アンモニア
および空気を流動化したリンモリブデン酸の金属
塩やリンタングステン酸の金属塩からなる触媒と
接触させてアクリロニトリルを合成する方法、ａ
−オレフインを固体重合触媒を含んだ粒子を流動
化しそこで重合させる方法等多く有る。 いずれの方法でも流動化している固体の粒子が
上昇ガス流に同伴して該装置からの飛散が多い
と、ガスの後処理工程およびその装置、および固
体の粒子の供給工程およびその装置を複雑化、大
型化するなどの弊害が多い。 この弊害を解消するため鋭意検討した結果、上
方に空塔部が設けられている流動層装置内に流動
層を形成させる際空塔部内に、空塔断面積に対す
る水平投影面積の比が0.9以上である内挿物を設
置し、ガスに同伴する粒子を衝突させることによ
り、流動層装置から粒子が飛散するのを低減する
方法を見い出し本発明に到つた。 以下に本発明をａ−オレフインを流動層装置の
一種の流動層型反応器で重合する方法を一例とし
て説明する。 ａ−オレフインを流動層型反応器を用いて重合
することは既に提案されている。 すなわち、特公昭43−24679号公報、特公昭41
−597号公報で提案された如く、流動化ガス流速
が15cm／sec以下という比較的低い範囲で操作す
る場合、粒子層を均一に混合する目的で撹拌装置
を用いて重合粒子の塊化を防ぐ方法が提案されて
いる。 しかしながら、一般に粉体を撹拌機で均一に混
合することは困難であり、かかる反応器で均一な
混合を達成するためには多大の撹拌動力が必要と
なり、かつ撹拌翼の形状には多大の工夫が必要と
なる。 かかる問題を解決する方法として特公昭47−
13962号公報で提案された如く重合体粒子の最小
流動化速度Umfに対し流動化ガス流速が1.5倍〜
10倍と充分大きい場合には特に撹拌機を用いるこ
とがなくても安定な流動層を簡単に得ることがで
きる。ところが流動化ガス流速の増加および反応
系の高圧化に伴ない流動層濃厚相界面からガスに
同伴されて飛び出す粒子の飛散距離が増大する。 そのため、流動層希薄相（以下空塔部と称す
る）容積を濃厚相容積と同等かもしくは大きく設
計し反応器から外部への飛散粒子濃度を低減して
いた。しかしながらこの方法では、反応器容積当
りの生産性が低くなる欠点を有する。また他の製
造分野においては空塔部にサイクロンを設置した
り、内挿物を設置し飛散を防止する方法も用いら
れる。たとえば内挿物としての提案は特公昭51−
48151号公報に記載されている如くパイプ、ブレ
ード等が格子状に配置されこれらパイプ、プレー
ト等の内挿物の空塔断面積に対する水平投影面積
の比をのぞましくは0.7〜0.9にすることにより粒
子飛散距離低減には効果があるとされているが該
内挿物を設置するために要する空塔部容積が大き
く反応器容積当りの生産性の著しい向上には到ら
ない。 そこで本発明の目的は、該反応器外への粒子の
飛散を著しく減少させる方法を提供することによ
り、上記従来の欠点を解消し実質的に該反応器容
積当りの生産性を向上させたことにある。 以下に図面によりさらに詳細に説明する。第１
図は、円錐形状を有する羽口構造の内挿物につい
ての概略図（正面図及び平面図）であり、以下の
条件を備えている。 (1) 羽の最長端と該反応器内壁との間隔l1が
｛（DT−2l1）／DT｝2＞0.9である。 (2) 羽の数は特に限定するものではないが、隣り
合う羽は平面図に投影された時互いに重なり合
つている。 (3) 羽は空塔断面と作られる交線がその交線上の
各点と円錐の中心との距離が異なるように得ら
れる形態で配置される。 (4) 円錐の傾斜角θは粒子の安息角以上であり、
さらに30゜以上の傾斜角をもつことが望ましい。 (5) さらに該内挿物は固定物であつてもよいが、
撹拌装置に取り付けて回転させる方が好まし
い。 (6) 羽は平面体で充分であるが波形或いはアーチ
形に彎曲されている構造或いは管材を配列して
平面構造等に構成されてもよい。 (7) さらに該内挿物が逆円錐形状である上記(1)〜
(6)に記載の構造であつてもよい。 第２図は円盤と環状物とで構成される内挿物に
ついての概略図であり以下の条件を備えている。 (1) 環状物はその外径が反応器塔径DTに等しく
内径D1は（D1／DT）2＞0.5である。 (2) 円盤は環状物とその中心を同じにし、円盤の
径D2は（D1 2−D2 2）／DT 2＜0.1である。 (2) 環状物と円盤の間隔H1は（4D1・H1／DT 2）
が0.5〜１の範囲である。 (4) 円盤と環状物は第２図のように円盤が環状物
の上部にあつてもよいがその逆であつてもよ
い。 (5) 円盤と環状物は第２図のように各１個ずつの
組合せでもよいがたとえば第３図に示すように
環状物を２段と円盤の組合せでもよく、各々の
段間隔は(3)に準じまた円盤の径、環状物の内
径、外径は(1)、(2)に準じ、さらにはこれ以上の
多段構造でもよい。 (6) 円盤は、平面体で充分であるが、波形或いは
アーチ形に彎曲している構造或いは第４図に示
すように円錐形状でもよく、さらには固定体或
いは回転体であつてもよい。 (7) 環状物は平面体で充分であるが波形或いはア
ーチ形に彎曲している構造、或いは第５図に示
すように中心に向つて傾斜する構造であつても
よく、さらに固定体或いは回転体であつてもよ
い。 本発明の内挿物は第１図、第２図によつて説明
した構造に限定されるものではなく、その空塔断
面積に対する水平投影面積比が0.9以上である内
挿物であればよく、これら内挿物を流動層装置の
空塔部に設置することにより、実質的に内挿物よ
り上方に粒子が飛散しない効果が得られる。 以下、本発明を実施例及び比較例によりさらに
詳細に説明する。 実施例 １ 内径20cm、高さ150cmのガラス製流動層装置に
おいてガス分散盤から60cmの位置に第１図で示し
た構造をもつ内挿物を設置した。 該内挿物の構造は円錐の傾斜角が60゜で高さ約
16.5cmの羽数は16枚で空塔断面に投影された図に
おいて互いに羽は最大で５mm重なり合つており、
同じく空塔断面に投影された羽の半径方向への最
大長さは中心から9.5cmであり、該内挿物は回転
軸に取付られている。この流動層装置に平均粒子
径570μのほぼ球形であるポリプロピレン粒子を
６Kg充てんしたがこの時の粒子の静止層高は約40
cmであつた。 この後大気圧下のもとでガス分散盤下部から流
動化ガスとして用いる脱湿した空気を空塔速度が
40cm／secになるように供給し回転軸を241rpmの
速度で回転させ、粒子の飛散距離を目視により測
定したが、内挿物の頂点すなわち静止層高の表面
より36.5cm以上には粒子は飛散しなかつた。 なお、用いた粒子の最小流動化開始速度は10
cm／secであつた。 実施例 ２ 実施例１と同じ流動層装置を用い内挿物は分散
板から60cmの位置に第２回で示した環状物を設置
しこの環状物の上方５cmの位置に円盤を設置し
た。環状物の外径は20cm、内径14cmの平面構造で
あり、円盤の外径は16cmで同じく平面構造であ
り、いずれも固定体である。 実施例１と全く同じ粒子を用い、同じ条件件で
粒子飛散距離を測定したが最大飛散距離は円盤の
上方約７cmであつた。 比較例 １ 内挿物を設置しない実施例１と同じ流動層装置
を用いて実施例１と同一の粒子、同じ条件で粒子
飛散距離を測定した。 この時、定常的に粒子が飛散する高さは粒子の
静止層高の表面から約60cm、時折突沸的に飛散す
る高さは同じく約95cmであつた。 実施例 ３ 内径50cm、高さ300cmの撹拌機付き流動層型反
応器においてガス分散盤から高さ150cmの位置に
第１図で示した構造をもつ内挿物を設置した。該
内挿物の構造は円錐の傾斜角が60゜で高さが約41
cm、羽数は16枚で空塔断面に投影された図におい
て、互いに羽は最大で15mm重なり合つており、同
じく空塔断面に投影された羽の半径方向への最大
長さが中心から24cmであり、該内挿物は攪拌軸に
取付られている。 この流動層型反応器に平均粒径570μのほぼ球
形であるポリプロピレン粒子を100Kg充てんした
が、この時の粒子の静止層高は装置内のフアイバ
ースコープ観察により測定し約115cmであつた。 この後、エチレンにより圧力15Kg／cm2Ｇまで加
圧し、該反応器系に設けられた循環ガスコンプレ
ツサーを運転することによりガス分散盤下部から
循環ガスを供給し流動化させ攪拌軸を80rpmの速
度で回転させ粒子飛散距離を測定した。 測定法は、内径4.5cm高さ4.5cmで底を有するカ
ツプ状の粒子捕集器を10cm間隔に鎖を用いて連結
させたものを該反応器上部より吊下げ30分間所定
のガス流量で流動化させた後取り出し、各カツプ
の捕集状態から飛散距離を求めるものである。 この方法により、80〜140m3／hrの範囲でガス
流量を変えた時の静止層高からの粒子飛散距離を
求めたが内挿物より上方では粒子は捕集されなか
つた。なお、この圧力における最小流動化開始流
量は約40m3／hrであつた。 比較例 ２ 内挿物を設置しない実施例３と同じ流動層反応
器を用い、実施例３と同一の粒子同じ条件で粒子
飛散距離を測定した結果を以下に示す。 【表】
層を形成させる上昇ガス流に同伴して、流動して
いる粒子が該装置外へ飛散するのを抑制する方法
に関する。 流動層は固体粒子が上昇ガス流により流動化し
ている層でありこの流動層装置を用いた方法には
石油の灯油以上の高沸点留分を流動化している触
媒と接触させ、これを分解させることによつて高
オクタン価ガソリンを製造する方法（通称FCC
法）、石油の重質油を流動化している熱媒体固体
粒子と接触させオレフインを主体とするガスを取
り出す方法、湿つた固体粉粒状物を高温ガスで流
動化させ乾燥する方法、プロピレン、アンモニア
および空気を流動化したリンモリブデン酸の金属
塩やリンタングステン酸の金属塩からなる触媒と
接触させてアクリロニトリルを合成する方法、ａ
−オレフインを固体重合触媒を含んだ粒子を流動
化しそこで重合させる方法等多く有る。 いずれの方法でも流動化している固体の粒子が
上昇ガス流に同伴して該装置からの飛散が多い
と、ガスの後処理工程およびその装置、および固
体の粒子の供給工程およびその装置を複雑化、大
型化するなどの弊害が多い。 この弊害を解消するため鋭意検討した結果、上
方に空塔部が設けられている流動層装置内に流動
層を形成させる際空塔部内に、空塔断面積に対す
る水平投影面積の比が0.9以上である内挿物を設
置し、ガスに同伴する粒子を衝突させることによ
り、流動層装置から粒子が飛散するのを低減する
方法を見い出し本発明に到つた。 以下に本発明をａ−オレフインを流動層装置の
一種の流動層型反応器で重合する方法を一例とし
て説明する。 ａ−オレフインを流動層型反応器を用いて重合
することは既に提案されている。 すなわち、特公昭43−24679号公報、特公昭41
−597号公報で提案された如く、流動化ガス流速
が15cm／sec以下という比較的低い範囲で操作す
る場合、粒子層を均一に混合する目的で撹拌装置
を用いて重合粒子の塊化を防ぐ方法が提案されて
いる。 しかしながら、一般に粉体を撹拌機で均一に混
合することは困難であり、かかる反応器で均一な
混合を達成するためには多大の撹拌動力が必要と
なり、かつ撹拌翼の形状には多大の工夫が必要と
なる。 かかる問題を解決する方法として特公昭47−
13962号公報で提案された如く重合体粒子の最小
流動化速度Umfに対し流動化ガス流速が1.5倍〜
10倍と充分大きい場合には特に撹拌機を用いるこ
とがなくても安定な流動層を簡単に得ることがで
きる。ところが流動化ガス流速の増加および反応
系の高圧化に伴ない流動層濃厚相界面からガスに
同伴されて飛び出す粒子の飛散距離が増大する。 そのため、流動層希薄相（以下空塔部と称す
る）容積を濃厚相容積と同等かもしくは大きく設
計し反応器から外部への飛散粒子濃度を低減して
いた。しかしながらこの方法では、反応器容積当
りの生産性が低くなる欠点を有する。また他の製
造分野においては空塔部にサイクロンを設置した
り、内挿物を設置し飛散を防止する方法も用いら
れる。たとえば内挿物としての提案は特公昭51−
48151号公報に記載されている如くパイプ、ブレ
ード等が格子状に配置されこれらパイプ、プレー
ト等の内挿物の空塔断面積に対する水平投影面積
の比をのぞましくは0.7〜0.9にすることにより粒
子飛散距離低減には効果があるとされているが該
内挿物を設置するために要する空塔部容積が大き
く反応器容積当りの生産性の著しい向上には到ら
ない。 そこで本発明の目的は、該反応器外への粒子の
飛散を著しく減少させる方法を提供することによ
り、上記従来の欠点を解消し実質的に該反応器容
積当りの生産性を向上させたことにある。 以下に図面によりさらに詳細に説明する。第１
図は、円錐形状を有する羽口構造の内挿物につい
ての概略図（正面図及び平面図）であり、以下の
条件を備えている。 (1) 羽の最長端と該反応器内壁との間隔l1が
｛（DT−2l1）／DT｝2＞0.9である。 (2) 羽の数は特に限定するものではないが、隣り
合う羽は平面図に投影された時互いに重なり合
つている。 (3) 羽は空塔断面と作られる交線がその交線上の
各点と円錐の中心との距離が異なるように得ら
れる形態で配置される。 (4) 円錐の傾斜角θは粒子の安息角以上であり、
さらに30゜以上の傾斜角をもつことが望ましい。 (5) さらに該内挿物は固定物であつてもよいが、
撹拌装置に取り付けて回転させる方が好まし
い。 (6) 羽は平面体で充分であるが波形或いはアーチ
形に彎曲されている構造或いは管材を配列して
平面構造等に構成されてもよい。 (7) さらに該内挿物が逆円錐形状である上記(1)〜
(6)に記載の構造であつてもよい。 第２図は円盤と環状物とで構成される内挿物に
ついての概略図であり以下の条件を備えている。 (1) 環状物はその外径が反応器塔径DTに等しく
内径D1は（D1／DT）2＞0.5である。 (2) 円盤は環状物とその中心を同じにし、円盤の
径D2は（D1 2−D2 2）／DT 2＜0.1である。 (2) 環状物と円盤の間隔H1は（4D1・H1／DT 2）
が0.5〜１の範囲である。 (4) 円盤と環状物は第２図のように円盤が環状物
の上部にあつてもよいがその逆であつてもよ
い。 (5) 円盤と環状物は第２図のように各１個ずつの
組合せでもよいがたとえば第３図に示すように
環状物を２段と円盤の組合せでもよく、各々の
段間隔は(3)に準じまた円盤の径、環状物の内
径、外径は(1)、(2)に準じ、さらにはこれ以上の
多段構造でもよい。 (6) 円盤は、平面体で充分であるが、波形或いは
アーチ形に彎曲している構造或いは第４図に示
すように円錐形状でもよく、さらには固定体或
いは回転体であつてもよい。 (7) 環状物は平面体で充分であるが波形或いはア
ーチ形に彎曲している構造、或いは第５図に示
すように中心に向つて傾斜する構造であつても
よく、さらに固定体或いは回転体であつてもよ
い。 本発明の内挿物は第１図、第２図によつて説明
した構造に限定されるものではなく、その空塔断
面積に対する水平投影面積比が0.9以上である内
挿物であればよく、これら内挿物を流動層装置の
空塔部に設置することにより、実質的に内挿物よ
り上方に粒子が飛散しない効果が得られる。 以下、本発明を実施例及び比較例によりさらに
詳細に説明する。 実施例 １ 内径20cm、高さ150cmのガラス製流動層装置に
おいてガス分散盤から60cmの位置に第１図で示し
た構造をもつ内挿物を設置した。 該内挿物の構造は円錐の傾斜角が60゜で高さ約
16.5cmの羽数は16枚で空塔断面に投影された図に
おいて互いに羽は最大で５mm重なり合つており、
同じく空塔断面に投影された羽の半径方向への最
大長さは中心から9.5cmであり、該内挿物は回転
軸に取付られている。この流動層装置に平均粒子
径570μのほぼ球形であるポリプロピレン粒子を
６Kg充てんしたがこの時の粒子の静止層高は約40
cmであつた。 この後大気圧下のもとでガス分散盤下部から流
動化ガスとして用いる脱湿した空気を空塔速度が
40cm／secになるように供給し回転軸を241rpmの
速度で回転させ、粒子の飛散距離を目視により測
定したが、内挿物の頂点すなわち静止層高の表面
より36.5cm以上には粒子は飛散しなかつた。 なお、用いた粒子の最小流動化開始速度は10
cm／secであつた。 実施例 ２ 実施例１と同じ流動層装置を用い内挿物は分散
板から60cmの位置に第２回で示した環状物を設置
しこの環状物の上方５cmの位置に円盤を設置し
た。環状物の外径は20cm、内径14cmの平面構造で
あり、円盤の外径は16cmで同じく平面構造であ
り、いずれも固定体である。 実施例１と全く同じ粒子を用い、同じ条件件で
粒子飛散距離を測定したが最大飛散距離は円盤の
上方約７cmであつた。 比較例 １ 内挿物を設置しない実施例１と同じ流動層装置
を用いて実施例１と同一の粒子、同じ条件で粒子
飛散距離を測定した。 この時、定常的に粒子が飛散する高さは粒子の
静止層高の表面から約60cm、時折突沸的に飛散す
る高さは同じく約95cmであつた。 実施例 ３ 内径50cm、高さ300cmの撹拌機付き流動層型反
応器においてガス分散盤から高さ150cmの位置に
第１図で示した構造をもつ内挿物を設置した。該
内挿物の構造は円錐の傾斜角が60゜で高さが約41
cm、羽数は16枚で空塔断面に投影された図におい
て、互いに羽は最大で15mm重なり合つており、同
じく空塔断面に投影された羽の半径方向への最大
長さが中心から24cmであり、該内挿物は攪拌軸に
取付られている。 この流動層型反応器に平均粒径570μのほぼ球
形であるポリプロピレン粒子を100Kg充てんした
が、この時の粒子の静止層高は装置内のフアイバ
ースコープ観察により測定し約115cmであつた。 この後、エチレンにより圧力15Kg／cm2Ｇまで加
圧し、該反応器系に設けられた循環ガスコンプレ
ツサーを運転することによりガス分散盤下部から
循環ガスを供給し流動化させ攪拌軸を80rpmの速
度で回転させ粒子飛散距離を測定した。 測定法は、内径4.5cm高さ4.5cmで底を有するカ
ツプ状の粒子捕集器を10cm間隔に鎖を用いて連結
させたものを該反応器上部より吊下げ30分間所定
のガス流量で流動化させた後取り出し、各カツプ
の捕集状態から飛散距離を求めるものである。 この方法により、80〜140m3／hrの範囲でガス
流量を変えた時の静止層高からの粒子飛散距離を
求めたが内挿物より上方では粒子は捕集されなか
つた。なお、この圧力における最小流動化開始流
量は約40m3／hrであつた。 比較例 ２ 内挿物を設置しない実施例３と同じ流動層反応
器を用い、実施例３と同一の粒子同じ条件で粒子
飛散距離を測定した結果を以下に示す。 【表】
第１−ａ図は円錐形状を有する羽口構造の内挿
物の正面図を示し第１−ｂ図は同じく平面図を示
す。第２、第３図は円盤と環状物の組合せからな
る内挿物を示し、第４図は円盤体の１例、第５図
は環状物の１例を示す。 DT：流動層反応器内径、D1：環状物の内径、
D2：円盤の径、l1：羽口構造の内挿物の羽の最長
端と流動層反応器内壁との間隔、θ：羽口構造の
内挿物円錐の傾斜角、H1：環状物と円盤の間隔。
物の正面図を示し第１−ｂ図は同じく平面図を示
す。第２、第３図は円盤と環状物の組合せからな
る内挿物を示し、第４図は円盤体の１例、第５図
は環状物の１例を示す。 DT：流動層反応器内径、D1：環状物の内径、
D2：円盤の径、l1：羽口構造の内挿物の羽の最長
端と流動層反応器内壁との間隔、θ：羽口構造の
内挿物円錐の傾斜角、H1：環状物と円盤の間隔。
Claims (1)
- １ 上方に空塔部が設けられている流動層装置内
に流動層を形成させる際空塔部内に、空塔断面積
に対する水平投影面積の比が0.9以上であり、か
つ円錐形の羽口構造又は軸方向に中心軸を合せて
上下に配置される円錐形の羽口構造と環状物の組
合せ若しくは円盤と環状物の組合せ若しくは径の
異なる環状物の組合せからなる内挿物を設置し、
ガスに同伴する粒子を衝突させることを特徴とす
る流動層装置から粒子が飛散するのを低減する方
法。
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55134820A JPS5759632A (en) | 1980-09-26 | 1980-09-26 | Decreasing method for scattering of particle in fluidized bed layer |
| CA000386144A CA1166826A (en) | 1980-09-26 | 1981-09-17 | Fluidized bed apparatus |
| US06/304,871 US4382065A (en) | 1980-09-26 | 1981-09-23 | Fluidized bed apparatus and method of using |
| HU812773A HU185143B (en) | 1980-09-26 | 1981-09-25 | Fluidized-bed apparatus |
| GB8128996A GB2084044B (en) | 1980-09-26 | 1981-09-25 | Fluidized bed apparatus |
| DE8181304443T DE3167852D1 (en) | 1980-09-26 | 1981-09-25 | Fluidized bed apparatus and a method for reducing particle entrainment therein |
| EP81304443A EP0049130B1 (en) | 1980-09-26 | 1981-09-25 | Fluidized bed apparatus and a method for reducing particle entrainment therein |
| SG843/84A SG84384G (en) | 1980-09-26 | 1984-11-26 | Fluidized bed apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55134820A JPS5759632A (en) | 1980-09-26 | 1980-09-26 | Decreasing method for scattering of particle in fluidized bed layer |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5759632A JPS5759632A (en) | 1982-04-10 |
| JPS6344009B2 true JPS6344009B2 (ja) | 1988-09-02 |
Family
ID=15137236
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP55134820A Granted JPS5759632A (en) | 1980-09-26 | 1980-09-26 | Decreasing method for scattering of particle in fluidized bed layer |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4382065A (ja) |
| EP (1) | EP0049130B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5759632A (ja) |
| CA (1) | CA1166826A (ja) |
| DE (1) | DE3167852D1 (ja) |
| GB (1) | GB2084044B (ja) |
| HU (1) | HU185143B (ja) |
| SG (1) | SG84384G (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| DE3519309C1 (de) * | 1985-05-30 | 1986-12-18 | Alpine Ag, 8900 Augsburg | Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von Granulaten aus einem Feststoff in einem fluidisierten Gutbett |
| GB2177616B (en) * | 1985-07-09 | 1988-07-06 | Smidth & Co As F L | Gas suspension reactor |
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| FR2963893B1 (fr) | 2010-08-20 | 2015-01-23 | Total Raffinage Marketing | Procede de separation du gaz dans un melange fluidise gaz/solides |
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| US2741546A (en) * | 1952-07-02 | 1956-04-10 | Exxon Research Engineering Co | Floating control for fluidized solids system |
| US2850363A (en) * | 1953-01-22 | 1958-09-02 | Exxon Research Engineering Co | Quench system for fluid solid reactions |
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| US3903016A (en) * | 1973-05-04 | 1975-09-02 | Mobil Oil Corp | Method for regenerating catalyst in a fluidized bed with a restricted high turbulence region in the dispersed phase |
| SU714122A1 (ru) | 1976-02-16 | 1980-02-05 | Киевский Ордена Ленина Политехнический Институт Им.50-Летия Великой Октябрьской Социалистической Революции | Установка дл проведени тепло- и массообменных процессов в кип щем слое |
| US4161917A (en) * | 1976-03-26 | 1979-07-24 | Rolls-Royce Limited | Fluidized bed combustion apparatus |
| US4229194A (en) * | 1978-11-20 | 1980-10-21 | Atlantic Richfield Company | Vapor-solids separating device |
-
1980
- 1980-09-26 JP JP55134820A patent/JPS5759632A/ja active Granted
-
1981
- 1981-09-17 CA CA000386144A patent/CA1166826A/en not_active Expired
- 1981-09-23 US US06/304,871 patent/US4382065A/en not_active Expired - Lifetime
- 1981-09-25 HU HU812773A patent/HU185143B/hu not_active IP Right Cessation
- 1981-09-25 EP EP81304443A patent/EP0049130B1/en not_active Expired
- 1981-09-25 GB GB8128996A patent/GB2084044B/en not_active Expired
- 1981-09-25 DE DE8181304443T patent/DE3167852D1/de not_active Expired
-
1984
- 1984-11-26 SG SG843/84A patent/SG84384G/en unknown
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5148151A (ja) * | 1974-10-23 | 1976-04-24 | Hitachi Ltd | Rireekudokairo |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0049130A1 (en) | 1982-04-07 |
| HU185143B (en) | 1984-12-28 |
| CA1166826A (en) | 1984-05-08 |
| US4382065A (en) | 1983-05-03 |
| EP0049130B1 (en) | 1984-12-19 |
| JPS5759632A (en) | 1982-04-10 |
| SG84384G (en) | 1985-04-26 |
| DE3167852D1 (en) | 1985-01-31 |
| GB2084044A (en) | 1982-04-07 |
| GB2084044B (en) | 1984-10-17 |
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