JPS6341486B2 - - Google Patents

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JPS6341486B2
JPS6341486B2 JP14998182A JP14998182A JPS6341486B2 JP S6341486 B2 JPS6341486 B2 JP S6341486B2 JP 14998182 A JP14998182 A JP 14998182A JP 14998182 A JP14998182 A JP 14998182A JP S6341486 B2 JPS6341486 B2 JP S6341486B2
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JP
Japan
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light
grating
distance
detector
angle
Prior art date
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Expired
Application number
JP14998182A
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English (en)
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JPS5940107A (ja
Inventor
Hidekazu Sekizawa
Akito Iwamoto
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Shibaura Electric Co Ltd filed Critical Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority to JP14998182A priority Critical patent/JPS5940107A/ja
Priority to US06/523,768 priority patent/US4560280A/en
Priority to DE8383304868T priority patent/DE3378785D1/de
Priority to EP83304868A priority patent/EP0104762B1/en
Priority to DD83254396A priority patent/DD212581A5/de
Publication of JPS5940107A publication Critical patent/JPS5940107A/ja
Publication of JPS6341486B2 publication Critical patent/JPS6341486B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/14Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring distance or clearance between spaced objects or spaced apertures

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の属する技術分野〕 この発明は、2つの格子間、もしくは、格子の
指標が設けられた物体間の距離を測定する距離測
定装置に関する。
〔発明の技術的背景とその問題点〕
従来狭い間隙を測定する手段として、エアマイ
クロメータを用いる方法が知られている。すなわ
ちエアマイクロメータを測定すべき間隙に挿入
し、エアマイクロメータにエアを送つてそのエア
の背圧の大きさを測定することにより、間隙を測
定するものである。しかし、この装置では完全な
意味での非接触測定とはならない。すなわち、エ
アマイクロメータを挿入するとき、どうしても被
測定物に当りやすく、シヤドウマスクやフエース
プレート等に傷を付けやすい欠点があつた。さら
にこのような物を挿入することは、プロセスの自
動化を計る上で障害となる。またシヤドウマスク
等のように穴の開いた板においては、得られたデ
ータに補正を施さなければならない等の不都合が
あつた。
また投影格子と基準格子との干渉で生ずるモア
レ縞により距離を測定する装置(特開昭55−
33679号公報)もある。この装置では上記モアレ
縞の角度変化もしくはピツチ変化により測定して
いるため、検出器は撮像管等の2次元検出器が必
要となり、装置が複雑となる。またその信号の処
理方法も複雑となるため時間が掛る等の不都合が
あつた。
〔発明の目的〕
この発明は以上の欠点を除去し、特別な装置を
測定すべき間隙に挿入する必要がなく、さらに検
出器はポイント検出器で良く、また検出した信号
の処理も比較的容易で、高速かつ高精度な測定を
可能とする距離測定装置を提供することを目的と
する。
〔発明の概要〕
この発明は、第2の格子の上に第1の格子を具
備した被測定物において、適当なビーム径を有す
る光束を第1の格子パターンに照射する。この第
1の格子パターンを通過した光を、第2の格子パ
ターンに導びく。次にこの第2の格子パターンの
後方に置かれた光電変換素子で、この第2の格子
パターンを通過した光量を電気信号に変える。こ
のとき光学系を用いて、第1の格子パターンに入
射する光の角度のみを変化させる。すると第1の
格子パターンの影は、第2の格子パターン上を移
動することになる。したがつてこの2つの格子パ
ターンを通過した光量を光電変換した電気信号
は、これらの格子定数に依存した周期関数とな
る。
一方この第1の格子パターンの影が第2の格子
パターン上を移動する量は、入射する光の角度と
この2つの格子間の距離で決まる。そこでこの光
電信号の周期とそのときの入射する光の角度がわ
かれば、ただちに2つの格子間の距離を求めるこ
とができる。
〔発明の効果〕
この発明では2つの格子に入射する光の角度と
その透過光量の周期より求めているので、この2
つの格子間にはなんら装置を挿入する必要がな
く、完全に非接触で測定ができる。またモアレ縞
測定のように、縞の角度やピツチを測定する2次
元検出器を必要とせず、ポイント測定で良い。ま
たその信号の処理も容易である。さらに2つの格
子の透過光量のみで測定しているため、ピツチ合
せの必要がないなどの利点も有している。
〔発明の実施例〕
次に、この発明の一実施例を図面に従つて説明
する。この実施例は、第1図に示されるように、
被測定物であるカラーブラウン管の第1の格子で
あるシヤドウマスク11と第2の格子であるフエ
ースプレート12間の距離を測定する装置に関す
る。
一般的にシヤドウマスク11は、開口がピツチ
Pで多数設けられた鉄の板である。これに対し、
フエースプレート12の内面には、(1/3)Pのピ
ツチで格子パターン、光を透過しない格子パター
ンが描かれている。この格子パターンは、ブラツ
クストライプ13(東京芝浦電気株式会社発録商
標)パターンと呼ばれる。
さて、この実施例での距離測定装置は、第1図
に示されるように、レーザー光源14と、このレ
ーザー光源14からのレーザー光のビーム径を一
旦拡大させる第1のレンズ15と、この第1のレ
ンズ15からのレーザー光の光路を直進方向(こ
の方向の光が関与する系を検査光系と呼ぶ。)と、
垂直方向(この方向の光が関与する系を角度検出
光系と呼ぶ。)とに2分するハーフミラー16と、
このハーフミラー16から直進方向に進むレーザ
ー光を収束させる第2のレンズ17と、この第2
のレンズ17によつてレーザー光が収束する点と
第2のレンズ17との間に設けられその両面が反
射鏡であるガルバノミラー18と、第2のレンズ
17によつてレーザー光が収束される点がその前
焦点位置である第3のレンズ19と、この第3の
レンズ19からシヤドウマスク11及びフエース
プレート12を介して受光された光を電気信号に
変換する第1の検出器19と、この第1の検出器
19からの電気信号を増幅する第1の増幅器20
と、この第1の増幅器20からの信号をデイジタ
ル信号に変換するA―D変換器21と、ハーフミ
ラー16からの垂直方向に進むレーザー光を反射
する第1の反射鏡22と、この第1の反射鏡22
からのレーザー光を収束させる第4のレンズ23
と、この第4のレンズ23からのレーザー光を再
度反射し、第1の反射鏡22と対となりハーフミ
ラー16から垂直方向に進むレーザー光の光路を
180゜変える第2の反射鏡24と、この反射鏡24
からのレーザー光がガルバノミラー18の片面で
反射された後、収束する位置に設けられたガラス
スケール23と、このガラススケール23の後方
に設けられ受光光量に応じた電気信号を出力する
第2の検出器24と、この第2の検出器24から
の電気信号を増幅する第2の増幅器25と、この
第2の増幅器25からの信号を2値化する2値化
回路26と、A―D変換器21及び2値化回路2
6からの信号に対して、演算処理を施す信号処理
装置27と、この信号処理装置27で得られた結
果を表示する表示装置28とから成り、信号処理
装置27は、被測定物を搬送する移動装置29及
び駆動回路30を介してガルバノミラー18を制
御する。
このような距離測定装置において、ハーフミラ
ー16を直進するレーザー光は、前述のようにシ
ヤドウマスク11の影を、フエースプレート12
の内面につくる。シヤドウマスク11に反射する
レーザー光は、ガルバノミラー18により、その
入射方向が変化する。従つて、シヤドウマスク1
1の影は、フエースプレート12の内面を移動す
る。この移動する影が、ブラツクストライプ13
の上に位置する時に、フエースプレート12を透
過する光量が小さくなる。一方、ブラツクストラ
イプ13の開口に位置する時に、フエースプレー
ト12を透過する光量は大きくなる。
このような定性的な推論を裏付けるように、第
1の検出器19の出力波形は、第2図に示される
ように、周期Pの周期関数となる。
より定量的に説明を行う。今、第3図に示され
るように、ガルバノミラー18が振れ、シヤドウ
マスク11に入射する光束が、シヤドウマスク1
1の法線方向から角度θだけ傾いたとする。シヤ
ドウマスク11とブラツクストライプ13のパタ
ーンとの間の距離をqとすれば、第3図より、シ
ヤドウマスク11の影30は、影31の方向に移
動する。この移動量τは、 τ=q tanθ ……(1) となる。ここで、影の移動量が、シヤドウマスク
11の開口ピツチPだけあると、 P=q tanθ ……(2) という関係が成立する。ここで、Pの値は、ブラ
ウン管の品種により既知であるから、θの値さえ
求まれば、qはただちに求まる。
この実施例では、この角度θを求めるために、
ハーフミラー16等により角度検出光系を用いて
いる。ガルバノミラー18の片面により反射され
た光が、ガラススケール23上にスポツト光を結
ぶように、第1のレンズ15及び第4のレンズ2
3とは選択されている。
このようなガラススケール23上のスポツト光
は、ガルバノミラー18の振動によつて移動す
る。ガラススケール23は、ガラスに目盛に相当
するきざみを設けておく。このきざみに光束が照
射されると、光は散乱され、ガラススケール23
を透過しない。これに対し、光がきざみのない領
域に照射されると、光はガラススケール23を透
過し、第2の検出器24に達する。
従つて、第2の検出器24の出力は、スポツト
光がガラススケール23のきざみに位置する時
に、最小となり、きざみのない領域ではほぼ一定
値を有する。この実施例では、第2の検出器24
の出力を増幅した後、2値化回路26によつてパ
ルス信号にする。
さて、ガルバノミラー18の振れ角をθ、ガル
バノミラー18とガラススケール23との距離を
l、ガルバノミラー18が角度θだけ振れたとき
に2値化回路26からのパルス信号数をN、ガラ
ススケール23のきざみの間隔を△xとすると、 N△x=l tanθ ……(3) という関係が成り立つ。
更に、(2),(3)式より q=lP/△x・1/N ……(4) という関係も成り立つ。ここで、△x,l,Pは
すべて既知であるから、第2図に示される周期P
の間のパルス信号数Nを計数すれば、qが求ま
る。
このパルス信号数の計数は2値化回路26から
のパルス信号数を信号処理装置27で行う。
この信号処理装置27は、CPUから構成され、
光によるフエースプレート12内面の走査距離の
測定を行い、この走査距離がPになる迄の光の振
れ角θの測定を行う。そして、(4)式の演算を実行
する。
走査距離の測定は、第2図に示されるような第
1の検出器19からの信号Iの最大値の位置を求
めてもよい。隣り合う最大値の位置の差を求めれ
ば、Pの3分の1の値が得られる。従つて、1つ
の最大値が検出されたら2値化回路26からのパ
ルス信号の計数を開始する。そして、次の最大値
が検出されたらこのパルス信号の計数を中止す
る。こうして得られた数値P/3,N′を用いて
(4)式に示されるqの値が得られる。
しかし、ブラツクストライプ13の個々の幅は
製作上、不正確になりがちである。カラーブラウ
ン管の場合にはシヤドウマスク11の開口ピツチ
Pに相当する距離を測定した方がより精度が高
い。
すなわち、1つの最大値を検出したら、パルス
信号の計数を開始し、3つ目の最大値が検出され
たならパルス信号の計数を中止すれば良い。
又、第2図に示されるように、最大値を示すピ
ークは丸みを帯びているので、検出に際してはノ
イズの影響を受けやすい。そこで、信号の変化率
の大きい点で検出した方が好ましい。例えば、第
2図中の点線でされるように、最大値と最小値の
中間点を閾値とし、この閾値を通過する回数によ
りPを求めた方が正確である。
更に、正確に行うには、第2図に示される波形
の自己相関を求め、その周期より求めることが好
ましい。しかし、自己相関の計算は、一般的に長
い時間を要する。そこで、この自己相関を求める
には、全領域について行うのではなく、ブラウン
管の品種によりPのおよその値は既知であるの
で、このPの前後のずれ量についてのみ実行すれ
ば充分である。
このようにすることにより、高速で、かつ高精
度でqが求まる。このqの値は、表示装置28で
表示される。
ひとつの点の測定が終了したら、CPUは移動
装置29に指令を送る。移動装置29は、被測定
物であるブラウン管フエースプレート12の位置
を変換させ、被測定点を変える。
この実施例では、一被測定点において、ガルバ
ノミラー18の振動制御は、CPUの演算速度等
を考慮に入れ駆動回路30を介して信号処理装置
27により制御される。
〔発明の他の実施例〕
次に本発明の他の実施例について図面に従つて
説明する。基本的には第1図に示される実施例と
同様であるが、この実施例では被測定物を固定し
たままで、被測定物であるブラウン管フエースプ
レートの全面の測定を可能としたものである。す
なわちブラウン管フエースプレートの曲面の曲率
中心近くに、偏向用ガルバノミラー41を配置
し、さらにこの偏向用ガルバノミラー41をモー
タ42で回転させ、2次元走査を可能としたもの
である。43は偏向用ガルバノミラー41および
モータ42を信号処理装置27の信号で制御する
駆動回路である。次に光の検出はフレネルレンズ
等の集光器44により検出器19に光を集める。
このとき外光も集光される可能性があるため、干
渉フイルタ45を用いてレーザ光のみを受光して
いる。このようにしてレーザ光を偏光用ガルバノ
ミラー41で走査することにより、被測定物を固
定したままで全面の測定が可能となる。なお他の
動作は第1図の実施例と同様である。なおこの実
施例ではフエースプレート12の曲面の曲率中心
近くを回転中心として、光を走査しているため、
サンプルが多少傾いて置かれた場合でも正確な測
定が可能である。
次に第5図にもう一つの他の実施例を示す。こ
れはフエースプレート板12にブラツクストライ
プパターンが成形されていない場合の測定例であ
る。この場合にはブラツクストライプパターンと
同一のパターン50を検出器19aの前面に配置
する。次にシヤドウマスク11の影がフエースプ
レート12に投影されているものを、レンズ51
を用いてこのパターン50上に結像する。このよ
うにすることにより、第1図の実施例と全く同様
にqを測定することが可能となる。なおここでパ
ターン50はフエースプレート12に投影された
影のパターンと同一の方が周期Pの測定が容易と
なる。
以上述べた実施例では、ブラウン管のシヤドウ
マスクとフエースプレート間の距離を測定する例
を説明したが、これに限定されるものではない。
例えば、測定すべき2つの物体にそれぞれ格子を
配置し反射光又は透過光を用いれば、第1図の実
施例と同様に種々の物体間の距離を測定すること
が可能となる。
又、以上の実施例ではガラススケール23と第
2の検出器24を用いて、スポツト光の位置を求
めたが、CCDセンサのような一次元センサを用
いても良い。また半導体位置センサのようなアナ
ログ値で出力されるセンサを用いても良い。さら
にあまり正確さを必要としない場合には、ガルバ
ノミラー18に加える電気信号によりミラーの傾
きを求めれば良く、この場合にはハーフミラー1
6、第1の反射鏡22、第4のレンズ23、第2
の反射鏡24、ガラススケール23、第2の検出
器24、第2の増幅器25及び2値化回路26は
不要となる。
このように、この発明は、以上の実施例に何ら
限定されるものではなく、この発明の趣旨を逸脱
しない限りどのような変形もこの発明に含まれる
のは当然である。
【図面の簡単な説明】
第1図は、一実施例の構成を示す図、第2図及
び第3図は、この発明の原理を説明するための
図、第4図及び第5図は、他の実施例の構成を示
す図である。 11……シヤドウマスク、12……フエースプ
レート、13……ブラツクストライプ、14……
レーザー光源、19a……第1の検出器、27…
…信号処理装置。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 第2の格子の上に所定距離離れて第1の格子
    が備えられている被測定物の前記第1と第2の格
    子間の距離を測定する装置において、前記第1及
    び第2の格子に光を照射する光源と、前記第1の
    格子に照射させる前記光の入射角度を変化させる
    光学部と、前記第1の格子を介し前記第2の格子
    を透過した光の光量を電気信号に変換する光検出
    器と、この光検出器からの出力がN周期(但し、
    Nは整数)変化する間に前記光源からの光が前記
    第1の格子に入射する角度の変化を測定する入射
    角測定部と、この入射角測定部によつて得られた
    角度により前記第1の格子と第2の格子間の距離
    を算出する信号処理部とを備えたことを特徴とす
    る距離測定装置。 2 光学部は、ガルバノミラーで構成されている
    ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の距
    離測定装置。
JP14998182A 1982-08-31 1982-08-31 距離測定装置 Granted JPS5940107A (ja)

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JP14998182A JPS5940107A (ja) 1982-08-31 1982-08-31 距離測定装置
US06/523,768 US4560280A (en) 1982-08-31 1983-08-17 Apparatus for optically measuring the distance between two grating-like structures and the size of periodic pattern elements forming one of the grating-like structures
DE8383304868T DE3378785D1 (en) 1982-08-31 1983-08-23 Apparatus for optically measuring the distance between two grating-like structures and the size of periodic pattern elements forming one of the grating-like structures
EP83304868A EP0104762B1 (en) 1982-08-31 1983-08-23 Apparatus for optically measuring the distance between two grating-like structures and the size of periodic pattern elements forming one of the grating-like structures
DD83254396A DD212581A5 (de) 1982-08-31 1983-08-31 Vorrichtung zum messen des abstandes zwischen zwei gitterartigen strukturen sowie der groesse in zyklischer folge auftretender strukturelemente

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