JPS6339769A - 研磨用パツドの製造方法 - Google Patents

研磨用パツドの製造方法

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JPS6339769A
JPS6339769A JP18495486A JP18495486A JPS6339769A JP S6339769 A JPS6339769 A JP S6339769A JP 18495486 A JP18495486 A JP 18495486A JP 18495486 A JP18495486 A JP 18495486A JP S6339769 A JPS6339769 A JP S6339769A
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JP
Japan
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sheet
cylindrical body
column member
cutting blade
polishing
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JP18495486A
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Inventor
Ryoichi Hirokawa
廣川 良一
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KOKONOE DENKI KK
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明によって製造される研】用パッドはンンズ、プリ
ズムなどの光学部品の仕上げの研磨に利用される。
V/ズ、プリズムなどの光学部品の研磨。
特に仕上げの研磨に用いられる研1り用パッドは、一般
にポリウVり/系合成冑脂の原料に研磨剤と少量の発泡
剤とを加えて作られ1品質の安定性が求められることか
ら立方形の金型で注型法により成形したものを所定厚さ
に一枚ずつ切出し℃製造し℃いる。発泡剤は研磨により
生じた微粉を研磨用パッドの表面から逃すためのくぼみ
または透孔を作る。
近年、部層窄が多品種化しまた大形機械が使用されるよ
うになっており、前者に対応するため知多寸法の金型が
多数個必要とされきわめて不経済である。また大寸法の
金型は限度があるので大形器1機の場合には複数枚の研
【、−3用バツドを貼合わせて使用しているが。
貼合わせ作業に手数を要するばかりか、貼合わせ個所に
へ^ぎ目や段差ができるので研磨精度が低下するのを避
けられず、更に貼合わせ個所が剥離することがある。
そこで本発明は、少数個の金型でしかも貼合わせる必要
なく多品種の或いは大形の研磨機に使用することができ
る研磨パッドを製造する手段を提供することを目的とし
て発明されたものである。
本発明は1合成;rrl脂を主原料とする円柱体を成形
し、この円柱体をその中心軸線上で回転させながら前記
中心軸線方向へ延びる切削刃を所定深さ喰込ませて円柱
体中心方向へ移動させ、前記切削刃により前記円柱体か
ら一定厚さのシートを帯状に切出す構成としたことによ
り″′C前記問題点を解決するための手段とした。
作用 光学部品の研磨用パッドは一般に研磨剤混入のポリウレ
タン系合成樹脂の発泡成形品から作られるので2本発明
においても常法に従って原料を詞合し2円筒形の金型に
注型して充分に発泡、硬化させた後に離型、熟成して円
柱体を成形する。この円柱体をその中心軸線上で回転さ
せながら中心軸線方向へ延びる切削刃を所定深さ喰込ま
せシートを帯状に切出すのである。その際に9円柱体を
一定速度で回転させると、切出しに伴って直径が次第に
小さくなるので切削刃を少しずつ円柱体中心へ向って移
動させ常に喰込んでいるようにするうまた9円柱体の局
面の速度は直径の減少に伴って次第に小さくなるので切
削刃の移動速度を順次小さくすることによってシートは
一定厚さとなる。或いは、切削刃を一定速度で移動させ
円柱体の回転速度を次第に大きくすることによってシー
トは一定厚さとなる。
このようにして切出された長尺のシートを研磨機に応じ
た寸法に切断して研磨に供するのである。
本発明疋よると9円柱体から帯状の7−トを切出すので
、シートの偏りf3ち円柱体の長さが異なる少数個の金
型を準備しておくだけで長尺にして幅が異なるシートが
得られ、これより任意寸法の研しs用パッドを切断でき
るので多品種化して多様な寸法が要求される研磨用パッ
ドを容易に提供でき、且つ大形の場合も貼合わせること
なく簡単に製造されしかも研磨精度の低下などの不部会
を招くことのない一文もので提供できるのである。また
2円柱体の回転速度ま1こは切削刃の移動速度を変える
ことによって長尺にして均一厚さのンートが連続的に得
られるのであって、このため各チ・■寸法の骨動用バッ
ドが経済的に製造されるものである。
実  施  例 本発明の実施例を図面に基いて説明すると。
ボリウVタン系合成樹脂の!つ科に研磨剤と発泡剤とを
混入した液状原料1を宅またはガラス繊維強化合成樹脂
で作った有底円筒形の金型2に注型する。その際に、金
型2の中心には芯軸3を貫通させておく(第1図)。図
面では液状原料1を容器4から金型2に注型しているが
、実際には自動計量混合吐出装置を用いて混合直後の液
状原料lを短時間で注型する。注型後そのまま金型2の
中で充分に発泡硬化させた後に離型し、熟成して中心に
芯軸3がM通した円柱体5を成形する。
次に、一定速度自動切削機を用いて前記のようにして成
形された円柱体5を回転させるとともに切削刃6の移動
速度を変えて一定厚さのシート7を帯状に切出す。
聞ち、芯軸3を支承して駆動することにより円柱体5を
その中心軸線N−N上で一定速度で回転させ、この円柱
体5の長さと等しいかまたはこれよりも長い切削刃6を
中心軸線N−N方向に配設して円柱体5に所定深さ喰込
ませ、その全長に亘ってシート7を切出すのであって1
円柱体5をR方向へ回転させながら切削刃6の刃先縁を
円柱体5の中心即ちC方向へ少しずつ移動させる。その
際に2円柱体50直径の減少に伴って切削刃6の移動速
度を順次小さくしてシート7を一定厚さとする(第3.
4図ン。
シート7は使用目的に応じて0.5〜5. ORの厚さ
に切出され、また円柱体5の有効径およびシート7の厚
さにもよるが一般に10〜100m程度の長さの一枚の
帯状に切出される。ここで、シート7の切出し速度は合
成樹脂が軟質のときは20/mln以下程度好ましくは
17〜lO覧。とじ、硬質のときは10λ0以下程度好
ましくは8〜” 4inとする。囲ち、高速度で切出す
と円柱体5の肉が弾性力で逃げるので凹凸を生じ均一厚
さに切出せないと同時にシート70表面が粗になって研
磨精度を低下させ。
反対に極度に低速度で切出すと生産能率を低下させるの
で前記範囲の速度で切出すのが好ましい。
【図面の簡単な説明】
第1図は円柱体の製造状況を説明する斜視図、第2図は
円柱体の斜視図、第3図は切出し状況を説明する斜視図
、第4図は第3図の拡大断面図である。 2・・・・・・金型、3・・・・・・芯軸、5・・・・
・・円柱体。 6・・・・・・切削刃、7・・・・・・シート。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)合成樹脂を主原料とする円柱体を成形し、この円
    柱体をその中心軸線上で回転させな がら前記中心軸線方向へ延びる切削刃を所 定深さ喰込ませて円柱体中心方向へ移動さ せ、前記切削刃により前記円柱体から一定 厚さのシートを帯状に切出すことを特徴と する研磨用パッドの製造方法。
  2. (2)円柱体が研磨剤を混入したポリウレタン系合成樹
    脂の発泡成形品である特許請求の範 囲(1)の製造方法。
  3. (3)円柱体を一定回転速度で回転させ切削刃の移動速
    度を変えることによつて一定厚さの シートを切出す特許請求の範囲(1)の製造方法。
  4. (4)切削刃を一定速度で移動させ円柱体の回転速度を
    変えることによつて一定厚さのシー トを切出す特許請求の範囲(1)の製造方法。
JP18495486A 1986-08-06 1986-08-06 研磨用パツドの製造方法 Expired - Lifetime JPH0722901B2 (ja)

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6210257B1 (en) * 1998-05-29 2001-04-03 Micron Technology, Inc. Web-format polishing pads and methods for manufacturing and using web-format polishing pads in mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates
US6435413B1 (en) 1995-04-26 2002-08-20 Fujitsu Limited Optical reader controlling operation between multi-scanning and single-scanning modes
US6811086B1 (en) 1995-07-20 2004-11-02 Fujitsu Limited Stand for pivotably mounting an optical reading device
JP2007027781A (ja) * 1995-03-28 2007-02-01 Applied Materials Inc ポリッシングパッド
US7775852B2 (en) 1995-03-28 2010-08-17 Applied Materials, Inc. Apparatus and method for in-situ endpoint detection for chemical mechanical polishing operations
JP2022108264A (ja) * 2021-01-12 2022-07-25 金聯春 環境に優しい軟質研磨ディスク及びその加工技術

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007027781A (ja) * 1995-03-28 2007-02-01 Applied Materials Inc ポリッシングパッド
US8506356B2 (en) 1995-03-28 2013-08-13 Applied Materials, Inc. Apparatus and method for in-situ endpoint detection for chemical mechanical polishing operations
US7775852B2 (en) 1995-03-28 2010-08-17 Applied Materials, Inc. Apparatus and method for in-situ endpoint detection for chemical mechanical polishing operations
US6435413B1 (en) 1995-04-26 2002-08-20 Fujitsu Limited Optical reader controlling operation between multi-scanning and single-scanning modes
US7222794B2 (en) 1995-07-20 2007-05-29 Fujitsu Limiteed Optical reader applicable to plurality of uses
US6811086B1 (en) 1995-07-20 2004-11-02 Fujitsu Limited Stand for pivotably mounting an optical reading device
US6860426B2 (en) 1995-07-20 2005-03-01 Fujitsu Limited Optical reader applicable to plurality of uses
US6899274B2 (en) 1995-07-20 2005-05-31 Fujitsu Limited Optical reader applicable to plurality of uses
US7048188B2 (en) 1995-07-20 2006-05-23 Fujitsu Limited Optical reader applicable to plurality of uses
US6893337B2 (en) 1998-05-29 2005-05-17 Micron Technology, Inc. Web-format polishing pads and methods for manufacturing and using web-format polishing pads in mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates
US7156727B2 (en) 1998-05-29 2007-01-02 Micron Technology, Inc. Web-format polishing pads and methods for manufacturing and using web-format polishing pads in mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates
US6634932B2 (en) 1998-05-29 2003-10-21 Micron Technology, Inc. Web-format polishing pads and methods for manufacturing and using web-format polishing pads in mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates
US6210257B1 (en) * 1998-05-29 2001-04-03 Micron Technology, Inc. Web-format polishing pads and methods for manufacturing and using web-format polishing pads in mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates
US6537136B1 (en) 1998-05-29 2003-03-25 Micron Technology, Inc. Web-format polishing pads and methods for manufacturing and using web-format polishing pads in mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates
US6398630B1 (en) 1998-05-29 2002-06-04 Micron Technology, Inc. Planarizing machine containing web-format polishing pad and web-format polishing pads
JP2022108264A (ja) * 2021-01-12 2022-07-25 金聯春 環境に優しい軟質研磨ディスク及びその加工技術

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